JPH05282881A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH05282881A
JPH05282881A JP7729192A JP7729192A JPH05282881A JP H05282881 A JPH05282881 A JP H05282881A JP 7729192 A JP7729192 A JP 7729192A JP 7729192 A JP7729192 A JP 7729192A JP H05282881 A JPH05282881 A JP H05282881A
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JP
Japan
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side input
cell side
input section
transistor
potential
Prior art date
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Application number
JP7729192A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadahiro Kato
藤 忠 浩 加
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Toshiba Corp
Japan Semiconductor Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Iwate Toshiba Electronics Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05282881A publication Critical patent/JPH05282881A/en
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Abstract

PURPOSE:To read accurate memory content by absorbing a potential variation due to disturbance by sufficient writing amount or erasing amount. CONSTITUTION:A variable potential setter VE1 is connected as pulling-up means of a point B. The setter VE1 has transistors Tr6D, Tr11, and the relationship of driving capacities of the Tr6D, the Tr11 is set so as to satisfy Pb1<Pb2. Pull-up driving capacity of a dummy side is formed so as to be varied in two ways. One is the same driving capacity Pb1 as prior art, and the other is slightly stronger driving capacity Pb2 than that of the prior art. A normal mode, a write/verify mode can be switched by using the Tr6D, the Tr11 and a control signal CE.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置、特に不
揮発性メモリの読出し方式に関するもので、特にEPR
OM(Electrical Programmable Read Only Memory)など
に使用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a read system of a non-volatile memory, and more particularly to an EPR.
It is used for OM (Electrical Programmable Read Only Memory) and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マイクロコンピュータの周辺記憶
装置として、また内蔵の記憶装置としてEPROMやE
EPROM(Electricaly Erasable and Programmable R
ead Only Memory)の開発が盛んに行われている。この背
景にはプログラムの制御の容易性からくる開発効率の向
上や電源遮断時のデータ保持などを有しており、今後、
益々開発が行われると予想される。これらEPROMな
どの不揮発性メモリへのプログラミングは、主にPRO
MライタやCPUコントロールによるオン・ボード(On
Board)の方式が用いられて、フローティングゲートに電
子を注入することで書込みが行われ、書込んだデータが
確かに書込まれたか書込んだ直後に今書込んだセルを読
出し回路を通じて読出すことによって確認する(この読
出しをベリファイと呼ぶ)。
2. Description of the Related Art In recent years, EPROM and E have been used as a peripheral storage device of a microcomputer and also as a built-in storage device.
EPROM (Electricaly Erasable and Programmable R
Ead Only Memory) is being actively developed. Behind this are improvements in development efficiency due to the ease of program control and data retention at power off.
Further development is expected. Programming to non-volatile memories such as EPROM is mainly done by PRO.
On-board by M writer and CPU control (On
(Board) method is used to write data by injecting electrons into the floating gate, and the written data is surely written or the cell just written is read through the read circuit immediately after writing. This is confirmed (this reading is called verify).

【0003】EPROMの動作原理については公知なの
で特に詳細な説明は割愛するが、書込み時のタイミング
チャート、読出し回路の動作について多少説明する。
Since the operation principle of the EPROM is well known, a detailed description thereof will be omitted. However, the timing chart at the time of writing and the operation of the read circuit will be described to some extent.

【0004】図5に典型的なタイミングチャートを示
す。高電位端子VPPを高電位レベルに設定することによ
って書込み/ベリファイモードに設定する。また、アド
レスを与えてセルを選択し、書込みデータを供給する。
このとき、データ端子は通常I/O(双方向端子)とな
っており、信号OEを“H”(論理「1」)にしてI/
Oを入力としておく。データが定まった後、PGMを
“L”(論理「0」)として書込み実施し、終了後、O
Eを“L”とし、データI/O端子が出力となり、デー
タが出力され、書込んだデータと一致すれば、書込み終
了となる。
FIG. 5 shows a typical timing chart. The write / verify mode is set by setting the high potential terminal VPP to the high potential level. Further, an address is given to select a cell, and write data is supplied.
At this time, the data terminal is normally an I / O (bidirectional terminal), and the signal OE is set to "H" (logic "1") to I / O.
Input O as input. After data is determined, PGM is written as "L" (logic "0"), and after completion, O
When E is set to "L", the data I / O terminal becomes an output, the data is output, and if the data matches the written data, the writing is completed.

【0005】読出し回路には通常センスアンプが用いら
れる。それは高速性を要求されるためであり、低速の場
合でも微小信号のセンス回路が必要である。
A sense amplifier is usually used for the read circuit. This is because high speed is required, and a sense circuit for minute signals is required even at low speed.

【0006】図6に差動型のセンスアンプ一般的な回路
例を示す。
FIG. 6 shows a typical circuit example of a differential type sense amplifier.

【0007】この図において、Tr61 は本体セルを構成
するフローティングゲート保有トランジスタ、Tr62 は
ダミーセルを構成するフローティングゲート保有トラン
ジスタ、SAはダミーセルの状態を基準とし本体セルの
状態に応じて動作する差動型センスアンプである。この
センスアンプSAはトランジスタTr63 〜Tr67 からな
り、トランジスタTr63 ,Tr64 は入力差動対を形成
し、トランジスタTr65,Tr66 はアクティブロードを
形成し、トランジスタTr67 は定電流源回路を形成して
いる。
In the figure, Tr61 is a floating gate holding transistor which constitutes a body cell, Tr62 is a floating gate holding transistor which constitutes a dummy cell, and SA is a differential type which operates according to the state of the body cell with reference to the state of the dummy cell. It is a sense amplifier. The sense amplifier SA includes transistors Tr63 to Tr67, the transistors Tr63 and Tr64 form an input differential pair, the transistors Tr65 and Tr66 form an active load, and the transistor Tr67 forms a constant current source circuit.

【0008】本体セル・トランジスタTr61 はデコーダ
・トランジスタTr68 と列選択トランジスタTr69 との
ソース・ドレインを直列に介してトランジスタTr64 の
ゲートに接続されている。ダミーセル・トランジスタT
r62 はデコーダ・トランジスタTr68 に対応するトラン
ジスタTr6A と列選択トランジスタTr69 に対応するト
ランジスタTr6B とのソース・ドレインを直列に介して
トランジスタTr63 のゲートに接続されている。
The body cell transistor Tr61 is connected to the gate of the transistor Tr64 through the source and drain of the decoder transistor Tr68 and the column selection transistor Tr69 in series. Dummy cell transistor T
The r62 is connected to the gate of the transistor Tr63 through the source and drain of a transistor Tr6A corresponding to the decoder transistor Tr68 and a transistor Tr6B corresponding to the column selection transistor Tr69 in series.

【0009】トランジスタTr69 のドレインとトランジ
スタTr64 のゲートとの接続点にはプル・アップ・トラ
ンジスタTr6C が接続され、トランジスタTr63 のゲー
トとトランジスタTr6B のドレインとの接続点にはプル
・アップ・トランジスタTr6D が接続されている。
A pull-up transistor Tr6C is connected to the connection point of the drain of the transistor Tr69 and the gate of the transistor Tr64, and a pull-up transistor Tr6D is connected to the connection point of the gate of the transistor Tr63 and the drain of the transistor Tr6B. It is connected.

【0010】ここで、ダミーセル・トランジスタTr62
は本体セル・トランジスタTr61 とまったく同一のセル
ではあるが書込みは行わない。したがって、常にオン状
態にある。
Here, the dummy cell transistor Tr62
Is the same cell as the main body cell transistor Tr61, but writing is not performed. Therefore, it is always on.

【0011】ダミーセル・トランジスタTr62 のドレイ
ンに接続されたトランジスタTr6Aはダミーセル側の回
路がトランジスタTr68 選択時の状態と同じ状態にする
ためのものである。
The transistor Tr6A connected to the drain of the dummy cell transistor Tr62 is for making the circuit on the dummy cell side the same state as when the transistor Tr68 is selected.

【0012】プル・アップトランジスタTr6C (駆動能
力Pa ),Tr6D (駆動能力Pb )は本体側とダミー側
でプル・アップ駆動能力Pa ,Pb に差をつけ、ダミー
側を少しだけ強くなるように設定する。このときのB点
の電位Vb が読出し時の基準電位となる。
The pull-up transistors Tr6C (driving capability Pa) and Tr6D (driving capability Pb) are set so that the pull-up driving capabilities Pa and Pb are different between the main body side and the dummy side so that the dummy side is slightly stronger. To do. The potential Vb at the point B at this time becomes the reference potential at the time of reading.

【0013】そして、まず、本体セル・トランジスタT
r61 に論理“1”のデータが書込まれていない状態のと
きには、本体セル・トランジスタTr61 とダミーセル・
トランジスタTr62 の両方がオン状態となるが、上記駆
動能力Pa ,Pb の関係(Pa <Pb )から電位Va ,
Vb の関係はVa <Vb となり、出力Qは“L”とな
る。
First, the body cell transistor T
When the data of logic "1" is not written in r61, the main cell transistor Tr61 and dummy cell
Both of the transistors Tr62 are turned on, but the potential Va, from the relationship (Pa <Pb) between the driving capabilities Pa and Pb.
The relationship of Vb is Va <Vb, and the output Q is "L".

【0014】一方、本体セル・トランジスタTr61 に論
理“1”のデータが書込まれた状態であれば、その出力
電位Va は、本体セル・トランジスタTr61 がオフ状態
でトランジスタTr6C によりプル・アップされた電位V
a2、ダミー側の基準電位Vb2はダミーセル・トランジス
タTr62 がオン状態となっているため、電流が引かれ、
Va >Vb となり、出力Qは“H”となる。
On the other hand, when the data of logic "1" is written in the body cell transistor Tr61, the output potential Va thereof is pulled up by the transistor Tr6C while the body cell transistor Tr61 is off. Potential V
a2, the reference potential Vb2 on the dummy side is a current drawn because the dummy cell transistor Tr62 is in the ON state,
Va> Vb, and the output Q becomes "H".

【0015】ここで、不揮発性メモリに論理“1”のデ
ータを書込む場合、上記ベリファイ動作を行いながら書
込むが、書込み直後、読出した際、A点、B点の電位関
係が上記よりVaw<Vbwであれば書込まれておらず、V
aw>Vbwであれば書込まれたこととなる。しかしなが
ら、書込まれたと判断された状態Vaw>Vbwであっても
書込み量が不十分でVaw>>Vbwでなければ次回読出した
際、何等かの外乱でVaw<Vbwとなり、書込み時とデー
タが異なってしまう。同様に消去の場合も消去直後、読
出した際、何等かの外乱でVaw<Vbwとなり、書込み時
とデータが異なってしまう。同様に、消去の場合も消去
直後読出した際、A点、B点の電位関係が上記よりVae
<Vbeであっても消去量が不十分でVae<<Vbeでなけれ
ば次回読出した際、何等かの外乱でVae>Vbeとなり、
消去されていないと判断されてしまう。
Here, when the data of logic "1" is written in the non-volatile memory, the data is written while performing the verify operation. If Vbw is not written, V
If aw> Vbw, it is written. However, even if it is judged that the data has been written, even if Vaw> Vbw, the write amount is insufficient and if Vaw >> Vbw is not satisfied, Vaw <Vbw will be caused by some disturbance when the data is read next time, and the data at the time of writing will be It will be different. Similarly, in the case of erasing, when read immediately after erasing, Vaw <Vbw due to some disturbance, and the data is different from that at the time of writing. Similarly, in the case of erasing, the potential relationship between points A and B is Vae from the above when read immediately after erasing.
Even if <Vbe, the erase amount is insufficient and if Vae << Vbe is not satisfied, Vae> Vbe will occur due to some disturbance when the next reading is performed.
It is determined that it has not been erased.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】このように従来のEP
ROMにあっては、外乱の影響で記憶内容の読出し動作
において正確さが損なわれる場合があった。
As described above, the conventional EP is used.
In the ROM, accuracy may be impaired in the read operation of the stored contents due to the influence of disturbance.

【0017】本発明は以上のような問題点に鑑みてなさ
れたもので、読出し動作の際に外乱が発生した場合でも
記憶内容を正確に読出すことのできるEPROMを構成
する半導体記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a semiconductor memory device which constitutes an EPROM capable of accurately reading the stored contents even when a disturbance occurs during the reading operation. To do.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、本体セルの記憶内容をその本体セル側入力部とダミ
ーセル側入力部との電位差として検出するセンスアンプ
と、上記本体セル側入力部及びダミーセル側入力部に設
けられ、上記本体セルへの書込み・消去の少なくとも一
方のモードとこの本体セルからの読出しモードとで上記
本体セル側入力部及びダミーセル側入力部間の電位差設
定駆動能力を可変とした可変電位差設定回路とを備えて
いる。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises a sense amplifier for detecting the stored contents of a body cell as a potential difference between the body cell side input section and the dummy cell side input section, and the body cell side input section. And the dummy cell side input section, and the potential difference setting drive capability between the main body cell side input section and the dummy cell side input section depending on at least one mode of writing / erasing to the main body cell and a read mode from this main body cell. And a variable potential difference setting circuit that is variable.

【0019】可変電位差設定回路は、本体セル側入力部
及びダミーセル側入力部のうち一方に接続された固定電
位設定回路と、上記本体セル側入力部及びダミーセル側
入力部のうち他方に接続された可変電位設定回路とから
形成される構成とすることができる。
The variable potential difference setting circuit is connected to one of the main body cell side input section and the dummy cell side input section, and is connected to the other of the main body cell side input section and the dummy cell side input section. It may be configured by a variable potential setting circuit.

【0020】また、可変電位差設定回路は、本体セル側
入力部に接続された第1の可変電位設定回路と、ダミー
セル側入力部にに接続された第2の可変電位設定回路と
から形成される構成とすることができる。
The variable potential difference setting circuit is composed of a first variable potential setting circuit connected to the main body cell side input section and a second variable potential setting circuit connected to the dummy cell side input section. It can be configured.

【0021】可変電位設定回路は、読出しモードのとき
よりも書込みモードのときの方がダミーセル側入力部の
電位設定駆動能力に対する本体セル側入力部の電位設定
駆動能力差がより大きくなるように機能するように構成
することができる。
The variable potential setting circuit functions so that the difference in the potential setting drive capability of the main cell side input part with respect to the potential setting drive capability of the dummy cell side input part is larger in the write mode than in the read mode. Can be configured to.

【0022】また、可変電位設定回路は、読出しモード
のときよりも消去モードのときの方がダミーセル側入力
部の電位設定駆動能力に対する本体セル側入力部の電位
設定駆動能力差がより小さくなるように動作するように
構成することができる。
In the variable potential setting circuit, the difference between the potential setting drive capability of the main cell side input part and the potential setting drive capability of the dummy cell side input part is smaller in the erase mode than in the read mode. Can be configured to work.

【0023】[0023]

【作用】本発明によれば、本体セルへの書込み・消去の
少なくとも一方のモードとこの本体セルからの読出しモ
ードとで上記本体セル側入力部及びダミーセル側入力部
間の電位差設定駆動能力を可変としたため、読出しモー
ドと書込み・消去モードとでセンスアンプの本体セル
側、ダミーセル側入力部間の相対的な電位設定駆動能力
差を変化させることにより、十分な書込み量ないしは消
去量を実現することができ、これにより外乱による電位
変動を吸収し、正確な記憶内容の読出しが可能となる。
According to the present invention, the potential difference setting drive capability between the body cell side input section and the dummy cell side input section can be varied depending on at least one of the writing / erasing mode to the body cell and the reading mode from the body cell. Therefore, it is necessary to realize a sufficient write amount or erase amount by changing the relative potential setting drive capability difference between the main cell side of the sense amplifier and the dummy cell side input section in the read mode and the write / erase mode. This makes it possible to absorb potential fluctuations due to disturbances and read the stored contents accurately.

【0024】[0024]

【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
つつ説明する。なお、本発明の各実施例の回路は、図6
に示すものと同じ構成要素を有しているため、その同一
構成要素については図6と同一符号を付してその説明は
省略し、異なる部分についてのみ説明することとする。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The circuit of each embodiment of the present invention is shown in FIG.
Since it has the same constituent elements as those shown in FIG. 6, the same constituent elements are designated by the same reference numerals as those in FIG. 6, and the description thereof will be omitted, and only different portions will be described.

【0025】図1は本発明の第1実施例に係る半導体記
憶装置の回路構成を示すものである。
FIG. 1 shows a circuit configuration of a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【0026】図1において、ここではB点のプル・アッ
プ手段として本発明の特徴部分を構成する可変電位設定
回路VE1 が接続されている。この可変電位設定回路V
E1は、図6に示すトランジスタTr6D (駆動能力Pb
1)と、駆動能力の異なるトランジスタTr11 (駆動能
力Pb2)とから構成されている。両トランジスタTr6
D,Tr11 の駆動能力の関係はPb1よりもPb2が若干強
くなるように、つまりPb1<Pb2となるように設定され
ている。これにより、ダミー側のプル・アップ駆動能力
が二通りに可変できるように構成されている。
In FIG. 1, here, a variable potential setting circuit VE1 constituting a characteristic part of the present invention is connected as a pull-up means at a point B. This variable potential setting circuit V
E1 is a transistor Tr6D (driving capability Pb shown in FIG.
1) and a transistor Tr11 (driving ability Pb2) having different driving ability. Both transistors Tr6
The relationship between the driving abilities of D and Tr11 is set so that Pb2 is slightly stronger than Pb1, that is, Pb1 <Pb2. Thereby, the pull-up drive capability on the dummy side can be changed in two ways.

【0027】この二通りの駆動能力は、一つは従来例と
同じ駆動能力Pb1、もう一つは従来例の駆動能力よりも
若干強い駆動能力Pb2である。ダミー側プル・アップト
ランジスタTr6D ,Tr11 、また本体セル側のプル・ア
ップトランジスタTr6C は図5のタイミングチャートで
説明したコントロール信号CEを用いて通常モード、書
込み/ベリファイモードで切替えられるよう設定され
る。
Of these two driving abilities, one is the same driving ability Pb1 as in the conventional example, and the other is the driving ability Pb2 which is slightly stronger than the driving ability in the conventional example. The pull-up transistors Tr6D and Tr11 on the dummy side and the pull-up transistor Tr6C on the body cell side are set to be switched between the normal mode and the write / verify mode by using the control signal CE described in the timing chart of FIG.

【0028】まず、通常モードではTr6D がオン状態、
トランジスタTr11 がオフ状態となり、図6に示すもの
と同一の動作をする。一方、書込み/ベリファイモード
では、トランジスタTr6D がオフ状態、トランジスタT
r11 がオン状態となる。
First, in the normal mode, Tr6D is in the ON state,
The transistor Tr11 is turned off and the same operation as that shown in FIG. 6 is performed. On the other hand, in the write / verify mode, the transistor Tr6D is in the off state and the transistor T6D is in the off state.
r11 turns on.

【0029】この回路を用いてEPROMへの書込み/
ベリファイを行った場合、A点、B点の電位Va ,Vb
電位関係がVa >Vb なる関係で出力Q点が“H”にな
って書込み終了となる。
Writing to EPROM using this circuit
When verification is performed, potentials Va and Vb at points A and B
Since the potential relationship is Va> Vb, the output Q point becomes "H" and the writing is completed.

【0030】その後、通常モードで読出す際は、コント
ロール信号CEによって基準電位はトランジスタTr6C
によって設定されているので、電位Va ,Vbpb1の関係
はVa >Vbpb1であるが、書込みを行う際、駆動能力関
係がPa <Pb1<Pb2なるトランジスタTr11 を用いて
書込みを実施しているため、電位Va ,Vb の関係はV
a >Vbpb2>Vbpb1となり、従来例で実施した場合のV
a >Vb より少なくともVbpb2−Vbpb1だけA点の電位
がB点よりも高く十分な書込みが行われる。よって、読
出し時において外乱を受けても、その書込み電位の高い
分だけ外乱の影響を受けることなく正確に記憶内容を読
出すことができることとなる。
After that, when reading in the normal mode, the reference potential is set to the transistor Tr6C by the control signal CE.
The potentials Va and Vbpb1 have a relation Va> Vbpb1. However, since the transistor Tr11 having the driving capability relation Pa <Pb1 <Pb2 is used for writing, the potential is higher than the potential Va> Vbpb1. The relationship between Va and Vb is V
a>Vbpb2> Vbpb1 and V in the case of the conventional example
The potential at the point A is higher than that at the point B by at least Vbpb2-Vbpb1 than a> Vb, and sufficient writing is performed. Therefore, even if a disturbance occurs during reading, the stored contents can be accurately read without being affected by the disturbance due to the high write potential.

【0031】また、このプル・アップトランジスタの追
加によるパターン面積の増加を招くこともなくメリット
のみが期待できる。
Further, only the merit can be expected without increasing the pattern area due to the addition of the pull-up transistor.

【0032】図2は本発明の第2実施例に係る半導体記
憶装置の回路構成を示すものである。
FIG. 2 shows the circuit configuration of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【0033】この図において、VE2 は本実施例の可変
電位設定回路であり、この回路VE2 は、図6に示すト
ランジスタTr6D (駆動能力Pb1)と、その駆動能力が
トランジスタTr6D と異なるトランジスタTr21 (駆動
能力Pb3)とから構成されている。駆動能力Pb1,Pb3
の関係はPb3<Pb1とされている。
In this figure, VE2 is the variable potential setting circuit of this embodiment, and this circuit VE2 has the transistor Tr6D (driving capability Pb1) shown in FIG. 6 and the transistor Tr21 (driving capability) different from that of the transistor Tr6D. It is composed of the ability Pb3). Drive capacity Pb1, Pb3
The relationship is Pb3 <Pb1.

【0034】EEPROMにおいて、A点、B点の電位
関係は消去/ベリファイモードではVa <Vbpb3、通常
モードではVa <Vbpb1となるようにトランジスタTr6
D ,Tr21 をオン・オフ制御する。
In the EEPROM, the transistor Tr6 has a potential relationship between points A and B such that Va <Vbpb3 in the erase / verify mode and Va <Vbpb1 in the normal mode.
ON / OFF control of D and Tr21.

【0035】これにより、消去する際、駆動能力関係が
Pa <Pb3<Pb1なるPb3を用いて消去しているため、
Va とVbpb1との電位関係はVa <Vbpb3<Vbpb1とな
り、従来例で実施した場合のVa <Vbpb1よりも少なく
ともVbpb1−Vbpb3だけA点の電位がB点よりも低く十
分な消去が行われる。
As a result, when erasing, the erasing is performed using Pb3 having a drive capability relationship of Pa <Pb3 <Pb1.
The potential relationship between Va and Vbpb1 is Va <Vbpb3 <Vbpb1, and the potential at the point A is lower than that at the point B by at least Vbpb1-Vbpb3 compared with Va <Vbpb1 in the case of the conventional example, and sufficient erasing is performed.

【0036】図3は本発明の第3実施例に係る半導体記
憶装置の回路構成を示すものである。
FIG. 3 shows the circuit configuration of a semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

【0037】この図において、VE3 は本実施例の可変
電位設定回路であり、この回路VE3は上記第1、第2実
施例の回路VE1 ,VE2 を組合わせたものに相当し、
トランジスタTr6D ,Tr11 ,Tr21 を有している。
In the figure, VE3 is a variable potential setting circuit of this embodiment, and this circuit VE3 corresponds to a combination of the circuits VE1 and VE2 of the first and second embodiments.
It has transistors Tr6D, Tr11, Tr21.

【0038】よって、これらトランジスタTr6D ,Tr1
1 ,Tr21 の駆動能力の関係は、Pa <Pb3<Pb1<P
b2となるため、書込み、消去共に十分に行われることと
なる。
Therefore, these transistors Tr6D and Tr1
The relationship between the driving capacities of 1 and Tr21 is Pa <Pb3 <Pb1 <P
Since it becomes b2, both writing and erasing will be sufficiently performed.

【0039】図4は本発明の第4実施例に係る半導体記
憶装置の回路構成を示すものである。
FIG. 4 shows a circuit configuration of a semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

【0040】本実施例の特徴は、ダミー側、本体セル側
共に駆動能力が可変可能に構成した点にあり、VE41は
本体側に設けられた可変電位設定回路、VE42はダミー
側に設けられた可変電位設定回路である。
The feature of the present embodiment is that the driving ability is variable on both the dummy side and the body cell side. VE41 is a variable potential setting circuit provided on the body side, and VE42 is provided on the dummy side. It is a variable potential setting circuit.

【0041】これらの可変電位設定回路VE41,VE42
は、読出しモードのときよりも書込みモードのときの方
がダミーセル側入力部の電位設定駆動能力に対する本体
セル側入力部の電位設定駆動能力差がより大きくなるよ
うに動作するとともに、読出しモードのときよりも消去
モードのときの方がダミーセル側入力部の電位設定駆動
能力に対する本体セル側入力部の電位設定駆動能力差が
より小さくなるように動作するように構成される。
These variable potential setting circuits VE41, VE42
Operates so that the potential setting drive capability difference of the main body cell side input part with respect to the potential setting drive capability of the dummy cell side input part becomes larger in the read mode than in the read mode. It is configured so that the difference in the potential setting drive capability of the main body cell side input unit with respect to the potential setting drive capability of the dummy cell side input unit becomes smaller in the erase mode than in the erase mode.

【0042】よって、読出しモードを基準として考える
と、書込みモードのときには、可変電位設定回路VE41
はプル・アップ駆動能力を下げ、可変電位設定回路VE
42はプル・アップ駆動能力を上げる。
Therefore, considering the read mode as a reference, in the write mode, the variable potential setting circuit VE41 is used.
Reduces the pull-up drive capacity, and the variable potential setting circuit VE
42 increases pull-up drive capability.

【0043】また、同じく読出しモードを基準として考
えると、消去モードのときには、可変電位設定回路VE
41はプル・アップ駆動能力を上げ、可変電位設定回路V
E42はプル・アップ駆動能力を下げるように動作する。
Similarly, considering the read mode as a reference, in the erase mode, the variable potential setting circuit VE is used.
41 is a variable potential setting circuit V with increased pull-up drive capability
E42 operates to reduce pull-up drive capability.

【0044】なお、上記実施例はいずれも差動型センス
アンプの例を示しているが本発明はそれ以外のセンスア
ンプにも適用できる。
Although each of the above embodiments shows an example of a differential type sense amplifier, the present invention can be applied to other sense amplifiers.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、本
体セルへの書込み・消去の少なくとも一方のモードとこ
の本体セルからの読出しモードとで上記本体セル側入力
部及びダミーセル側入力部間の電位差設定駆動能力を可
変としたため、読出しモードと書込み・消去モードとで
センスアンプの本体セル側、ダミーセル側入力部間の相
対的な電位設定駆動能力差を変化させることにより、十
分な書込み量ないしは消去量を実現することができ、こ
れにより外乱による電位変動を吸収し、正確な記憶内容
の読出しが可能となる。
As described above, according to the present invention, between the main cell side input section and the dummy cell side input section depending on at least one of the writing / erasing mode to the main body cell and the read mode from the main body cell. Since the potential difference setting drive capacity of is changed, a sufficient write capacity can be achieved by changing the relative potential setting drive capacity difference between the main cell side of the sense amplifier and the dummy cell side input section in the read mode and the write / erase mode. Or, it is possible to realize the erase amount, thereby absorbing the potential fluctuation due to the disturbance and reading the stored contents accurately.

【0046】EPROM等の不揮発性メモリはプログラ
ム開発の容易性や電源遮断時のデータ保持等などの市場
ニーズで益々開発が盛んになることが予想されるが、従
来例ではEPROMセルに十分な書込みがされていない
がための誤動作、経年変化によるデータ変化が発生す
る。しかしながら、本発明を用いることにより、従来例
に対し駆動能力の異なったプル・アップトランジスタの
みの追加でこれら追加したプル・アップトランジスタを
書込みモード、通常モード、消去モードで使い分けるこ
とにより、従来例に比較し、十分な書込み、消去が可能
となり、十分な書込みがされていないがための誤動作、
経年変化によるデータ変化が防止できる。
Nonvolatile memories such as EPROMs are expected to become more and more developed due to market needs such as ease of program development and data retention when power is cut off. In the conventional example, sufficient writing to EPROM cells is possible. Malfunction due to not being performed, and data change due to secular change occur. However, by using the present invention, by adding only pull-up transistors having different drive capabilities to the conventional example, these added pull-up transistors are selectively used in the write mode, the normal mode, and the erase mode. In comparison, sufficient writing and erasing are possible, and malfunction due to insufficient writing,
Data changes due to aging can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係るEPROMの回路
図。
FIG. 1 is a circuit diagram of an EPROM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例に係るEPROMの回路
図。
FIG. 2 is a circuit diagram of an EPROM according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施例に係るEPROMの回路
図。
FIG. 3 is a circuit diagram of an EPROM according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施例に係るEPROMの回路
図。
FIG. 4 is a circuit diagram of an EPROM according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】EPROMの基本動作を図解するタイムチャー
ト。
FIG. 5 is a time chart illustrating the basic operation of EPROM.

【図6】従来のEPROMの回路図。FIG. 6 is a circuit diagram of a conventional EPROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SA センスアンプ A 本体セル側入力部 B ダミーセル側入力部 Q 読出し出力 VE1 〜VE42 可変電位設定回路 Tr6C 本体セル側プル・アップ・トランジスタ Tr6D ,Tr11 ,Tr21 ダミーセル側プル・アップ・
トランジスタ Pa 本体セル側プル・アップ・トランジスタTr6C の
駆動能力 Pb1 ダミーセル側プル・アップ・トランジスタTr6D
の駆動能力 Pb2 ダミーセル側プル・アップ・トランジスタTr11
の駆動能力 Pb3 ダミーセル側プル・アップ・トランジスタTr21
の駆動能力
SA sense amplifier A body cell side input section B dummy cell side input section Q read output VE1 to VE42 variable potential setting circuit Tr6C body cell side pull-up transistor Tr6D, Tr11, Tr21 dummy cell side pull-up
Transistor Pa Main cell side pull-up transistor Tr6C drive capacity Pb1 Dummy cell side pull-up transistor Tr6D
Drive capacity Pb2 Dummy cell side pull-up transistor Tr11
Drive capacity Pb3 Dummy cell side pull-up transistor Tr21
Drive capacity of

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】本体セルの記憶内容をその本体セル側入力
部とダミーセル側入力部との電位差として検出するセン
スアンプと、 前記本体セル側入力部及びダミーセル側入力部に設けら
れ、前記本体セルへの書込み・消去の少なくとも一方の
モードと該本体セルからの読出しモードとで前記本体セ
ル側入力部及びダミーセル側入力部間の電位差設定駆動
能力を可変とした可変電位差設定回路とを備えている半
導体記憶装置。
1. A sense amplifier for detecting the stored content of a main body cell as a potential difference between the main body cell side input section and the dummy cell side input section, and the main body cell provided on the main body cell side input section and the dummy cell side input section. And a variable potential difference setting circuit in which the potential difference setting drive capability between the main body cell side input section and the dummy cell side input section is variable in at least one mode of writing / erasing to / from the main body cell and a read mode from the main body cell. Semiconductor memory device.
【請求項2】可変電位差設定回路は、 本体セル側入力部及びダミーセル側入力部のうち一方に
接続された固定電位設定回路と、 前記本体セル側入力部及びダミーセル側入力部のうち他
方に接続された可変電位設定回路とから形成されること
を特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. A variable potential difference setting circuit is connected to one of a body cell side input section and a dummy cell side input section, and a fixed potential setting circuit connected to the other of the body cell side input section and a dummy cell side input section. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is formed of a variable potential setting circuit.
【請求項3】可変電位差設定回路は、 本体セル側入力部に接続された第1の可変電位設定回路
と、 ダミーセル側入力部にに接続された第2の可変電位設定
回路とから形成されることを特徴とする請求項1記載の
半導体記憶装置。
3. The variable potential difference setting circuit is formed of a first variable potential setting circuit connected to the main body cell side input section and a second variable potential setting circuit connected to the dummy cell side input section. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein
【請求項4】可変電位設定回路は、 読出しモードのときよりも書込みモードのときの方がダ
ミーセル側入力部の電位設定駆動能力に対する本体セル
側入力部の電位設定駆動能力差がより大きくなるように
機能することを特徴とする請求項2及び請求項3のうち
いずれか1項記載の半導体記憶装置。
4. The variable potential setting circuit is configured such that the difference in potential setting drive capability of the main cell side input unit with respect to the potential setting drive capability of the dummy cell side input unit is greater in the write mode than in the read mode. 4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device functions as described above.
【請求項5】可変電位設定回路は、 読出しモードのときよりも消去モードのときの方がダミ
ーセル側入力部の電位設定駆動能力に対する本体セル側
入力部の電位設定駆動能力差がより小さくなるように動
作することを特徴とする請求項2及び請求項3のうちい
ずれか1項記載の半導体記憶装置。
5. The variable potential setting circuit is configured such that the difference in potential setting drive capability of the main cell side input unit with respect to the potential setting drive capability of the dummy cell side input unit is smaller in the erase mode than in the read mode. 4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device operates in accordance with any one of claims 2 and 3.
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