JPH0527199B2 - - Google Patents

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JPH0527199B2
JPH0527199B2 JP7214085A JP7214085A JPH0527199B2 JP H0527199 B2 JPH0527199 B2 JP H0527199B2 JP 7214085 A JP7214085 A JP 7214085A JP 7214085 A JP7214085 A JP 7214085A JP H0527199 B2 JPH0527199 B2 JP H0527199B2
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Japan
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memory cell
memory
row
written
test
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JP7214085A
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Hajime Masuda
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気的に情報を書込むことの出来る
読み出し専用メモリ回路、すなわちプログラマブ
ル・リード・オンリー・メモリに関し、特に試験
用メモリ・セルに関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a read-only memory circuit in which information can be electrically written, that is, a programmable read-only memory, and particularly relates to a test memory cell. It is something.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

最近のプログラマブル・リード・オンリー・メ
モリ(以下、P−ROMという。)、特にバイポー
ラーP−ROMは、ユーザーが1個毎に自由に記
憶させる内容を書込める融通性のゆえに、極めて
広汎な各種情報処理、制御用途に多用されてい
る。かかるP−ROMのメモリ・セルとしては、
第2図に示されるようにベースオープンのトラン
ジスタQ1のエミツタを列線Bに、コレクタを行
線Wに接続し、第3図に示される等価回路のよう
にダイオードD1,D2を逆方向に直列接続した接
合破壊型のメモリ・セルがある。この接合破壊型
のメモリ・セルは、書込まれる前の非導通状態を
等価回路で示されたダイオードD2を短絡するこ
とにより導通させて、第4図に示す如く書込まれ
るものである。
Recent programmable read-only memories (hereinafter referred to as P-ROMs), especially bipolar P-ROMs, are highly flexible due to their flexibility in allowing the user to freely write the contents stored in each memory. It is widely used for information processing and control purposes. The memory cells of such P-ROM are:
As shown in Figure 2, the emitter of transistor Q 1 with an open base is connected to the column line B, and the collector is connected to the row line W, and the diodes D 1 and D 2 are reversed as shown in the equivalent circuit shown in Figure 3. There are junction breakdown type memory cells connected in series in the direction. This junction breakdown type memory cell is written in as shown in FIG. 4 by making the non-conductive state before writing conductive by shorting diode D2 shown in the equivalent circuit.

しかしながらこのようなメモリ・セルへの論理
情報を書込むP−ROMにおいては、メーカーは
非導通状態つまり未書込み状態にて出荷し、ユー
ザーに渡つて初めて書込みが行なわれることか
ら、書込み歩留りの問題がある。
However, in P-ROMs for writing logic information into memory cells, the manufacturer ships them in a non-conductive state, that is, in an unwritten state, and the writing is performed only after reaching the user, so there is a problem with the writing yield. There is.

従来の接合破壊型メモリセルは、第5図に示す
ように、各メモリセルM11,M12,M21,M22に、
行列W1,W2を介して行選択回路WD1,WD2
接続されている。行選択回路WDは行線を高レベ
ル又低レベルにして行線を選択し、書込み時は書
込み電流を吸収する回路である。第5図におい
て、メモリ・セルM11,M21,M22は書込まれた
状態を示している。第5図において、まだ書込ま
れていないメモリ・セルM12に対して書込みを実
施する場合に、行線W2に接続されている行選択
回路WD2を選択しオンさせ、メモリ・セルM12
エミツタ側の列線B1より書込み電流(例えば
200mA)を印加すると、メモリ・セルM12を通じ
選択されている行選択回路WD2に書込み電流が
流れ込み、第3図に示すダイオードD2を破壊す
る。
In the conventional junction destruction type memory cell, as shown in FIG. 5, each memory cell M 11 , M 12 , M 21 , M 22 has
Row selection circuits WD 1 and WD 2 are connected via matrices W 1 and W 2 . The row selection circuit WD is a circuit that selects a row line by setting the row line to a high or low level, and absorbs a write current during writing. In FIG. 5, memory cells M 11 , M 21 and M 22 are shown in a written state. In FIG. 5, when writing to memory cell M12 that has not been written yet, row selection circuit WD2 connected to row line W2 is selected and turned on, and memory cell M12 is selected and turned on. Write current ( e.g.
200 mA), a write current flows into the selected row select circuit WD 2 through the memory cell M 12 and destroys the diode D 2 shown in FIG.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、このメモリ・セルM12の書込み
時、列線B1から書込もうとするメモリ・セルM12
を通じ選択されている行選択回路D2の電流通路
の他に、列線B1から書込まれているメモリ・セ
ルM11,M21,M22を通じ選択されている行選択
回路WD2への電流通路があることは明らかであ
る。この電流通路のメモリセルM21の逆方向の耐
圧(書込もうとするメモリ・セルに印加する電圧
とは異なる極性の電圧を印加したときの耐電圧)
が低く、本来書込もうとするメモリ・セルM12
通じた電流通路にて流れるべきである書込み電流
が、すでに書込まれているメモリ・セルM11
M21,M22を通じた電流通路にて流れた場合には
書込み不良となり、この書込み不良はユーザーに
よる書込みにて発生することから書込み歩留りを
低下させるという問題が生じる。
However, when writing this memory cell M12 , the memory cell M12 to be written from column line B1
In addition to the current path of the selected row selection circuit D 2 through the column line B 1 to the selected row selection circuit WD 2 through the written memory cells M 11 , M 21 , M 22 . It is clear that there is a current path. Reverse withstand voltage of memory cell M21 in this current path (withstand voltage when a voltage with a polarity different from the voltage applied to the memory cell to be written is applied)
is low, and the write current that should originally flow through the current path through the memory cell M 12 to be written to is already written to the memory cell M 11 ,
If the current flows through the current path through M 21 and M 22 , it will result in a writing failure, and since this writing failure occurs during writing by the user, a problem arises in that the writing yield is reduced.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のプログラマブル・リード・オンリー・
メモリはメモリ・セルをベース・オープン・トラ
ンジスタで構成し、このベース・オープン・トラ
ンジスタのエミツタを列線、コレクタを行線に接
続したN行×M列(N,Mは正の整数)のマトリ
クス状に配置されたメモリ・セル・アレイを含む
プログラマブル・リード・オンリー・メモリにお
いて、前記N行の行線およびM列の列線の少なく
とも一方に対し設けられ前記メモリ・セルと同一
構成の試験用メモリ・セルが、書込み済みの状態
でかつこの試験用メモリ・セルのベース・オープ
ン・トランジスタのエミツタが行線にコレクタが
列線に接続されている構成を有している。
Programmable read-only of the present invention
The memory is a matrix of N rows and M columns (N and M are positive integers) in which memory cells are composed of base-open transistors, and the emitters of these base-open transistors are connected to column lines and the collectors are connected to row lines. In a programmable read-only memory including a memory cell array arranged in the form of a memory cell array, a test device provided for at least one of the N rows of row lines and M columns of column lines and having the same configuration as the memory cells. The memory cell is in a written state and has a configuration in which the emitter of the base-open transistor of this test memory cell is connected to the row line and the collector is connected to the column line.

〔作用〕[Effect]

本発明は、第5図を用いて説明した如く、列線
B1から書込まれているメモリ・セルM11,M21
M22を通じて電流通路が生じるか否かを試験すれ
ばよく、その為には、メモリ・セルM12の書込み
時、第3図に示す如くダイオードD2を破壊する
瞬間の列線B1の最大電圧をV1、すでに書込まれ
ているメモリ・セルM11,M22の順方向電圧を
V2、選択されオンしている行選択回路WD2のオ
ンレベルV3とすると、メモリ・セルM21の逆方向
の耐圧が(V1−2V2−V3)以上であること、す
なわち、実質的には第5図におけるメモリ・セル
M21の逆方向の耐圧が(V1−2V2−V3)以上ある
ことを試験すればよいことに着目し、上記のよう
に、正規のメモリ・セル・マトリクスの他に、す
べて書込み済状態のメモリ・セルを、正規の接続
(つまりエミツタが列線、コレクタが行線)とは
逆であるエミツタを行線、コレクタを列線に接続
した試験用メモリ・セルとして行方向および、あ
るいは列方向に設けたものである。
The present invention, as explained using FIG.
Memory cells M 11 , M 21 , written from B 1
It is only necessary to test whether a current path occurs through M22 , and for this purpose, when writing the memory cell M12 , the maximum voltage of the column line B1 at the instant of destroying the diode D2 as shown in FIG. Let V 1 be the voltage, and let the forward voltage of the already written memory cells M 11 and M 22 be
V 2 and the on level V 3 of the row select circuit WD 2 that is selected and turned on, the reverse breakdown voltage of the memory cell M 21 is (V 1 −2V 2 −V 3 ) or more, that is, Substantially the memory cell in FIG.
Focusing on the fact that it is sufficient to test that the reverse breakdown voltage of M21 is at least (V 1 −2V 2 −V 3 ), as mentioned above, in addition to the regular memory cell matrix, all The memory cell in the state is connected in the row direction and/or as a test memory cell with the emitter connected to the row line and the collector connected to the column line, which is the opposite of the normal connection (i.e. emitter to column line and collector to the row line). They are arranged in the column direction.

P−ROMは、正規のセルに対してデータを直
接書き込んで試験することができないし、また一
般的に、回路中に組み込まれた回路素子の逆方向
の耐圧(通常動作時の電圧とは異なる極性の電圧
が印加されたときの耐電圧)を確認することは極
めて困難である。
P-ROM cannot be tested by directly writing data into regular cells, and generally the reverse withstand voltage (different from the voltage during normal operation) of the circuit elements incorporated in the circuit is It is extremely difficult to confirm the withstand voltage (when a polar voltage is applied).

しかし、同一構成の複数のセルを、同一条件、
同一方法で同時に形成した場合、これらセルの諸
特性は一般の範囲内に納まる。
However, when multiple cells with the same configuration are used under the same conditions,
When formed simultaneously using the same method, the properties of these cells fall within typical ranges.

そこで本発明においては、正規のセルと同一構
成、同一条件、同一方法で同時に形成された試験
用セルの逆方向の耐圧を試験することにより、正
規のセルの逆方向の耐圧を間接的に試験し保証す
るようにしたものである。
Therefore, in the present invention, the reverse withstand voltage of a regular cell is indirectly tested by testing the reverse withstand voltage of a test cell that is formed simultaneously with the same configuration, the same conditions, and the same method as the regular cell. It is designed to guarantee that

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例の要部を示す回路
図である。第1図においては、いまだ書込まれて
いなくユーザーに渡つて初めて書込まれる正規の
未書込状態であるメモリ・セルM33,M34,M43
M44が、行線W3,W4を介して行選択回路WD3
WD4に接続され、さらに本発明によるすべて書
込み済状態の試験用メモリ・セルM35,M45を行
方向に、M53,M54を列方向に、正規のメモリ・
セルの接続、つまりエミツタを列線、コレクタを
行線とは逆である、エミツタを行線、コレクタを
列線に接続し、試験用メモリ・セルM53,M54
行線W3,W4を介して行選択回路WD3,WD4
接続され、試験用メモリセルM35,M45は行線W5
を介して行選択回路WD5に接続されていること
を示している。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, memory cells M 33 , M 34 , M 43 , which are in a normal unwritten state that have not yet been written to and are written to for the first time by the user.
M44 connects the row selection circuit WD3 ,
Test memory cells M 35 and M 45 connected to WD 4 and all written according to the present invention in the row direction and M 53 and M 54 in the column direction are connected to regular memory cells.
The connection of the cells, that is, the emitters are connected to the column lines and the collectors are connected to the row lines.The emitters are connected to the row lines, and the collectors are connected to the column lines. 4 to the row selection circuits WD 3 and WD 4 , and the test memory cells M 35 and M 45 are connected to the row line W 5
It shows that it is connected to the row selection circuit WD5 through.

本実施例にいては、行線W5に接続されている
行選択回路WD5をオンさせ、列線B3又はB4より
試験用メモリ・セルM35又はM45の逆方向耐圧が
前記(V1−2V2−V3)以上あるか否かをテスト
し、さらに行線W3に接続されている行選択回路
WD3をオンさせ、列線B5より試験用メモリ・セ
ルM53の逆方向耐圧及び行線W4に接続されてい
る行選択回路WD4をオンさせ列線B5より試験用
メモリ・セルM54の逆方向耐圧が前記V1−2V2
V3以上あるか否かをテストし、メモリ・セル
M33,M34,M43,M44の逆方向耐圧を間接的に
試験することが出来る。
In this embodiment, the row selection circuit WD 5 connected to the row line W 5 is turned on, and the reverse breakdown voltage of the test memory cell M 35 or M 45 is determined by the column line B 3 or B 4 as described above ( V 1 −2V 2 −V 3 ) or more, and then the row selection circuit connected to the row line W 3
Turn on WD 3 , turn on the reverse breakdown voltage of test memory cell M 53 from column line B 5 and turn on the row selection circuit WD 4 connected to row line W 4 , and select memory cell for test from column line B 5 . The reverse breakdown voltage of M54 is V 1 −2V 2
Test whether there are V 3 or more, memory cells
The reverse withstand voltage of M 33 , M 34 , M 43 , and M 44 can be indirectly tested.

なお、上記実施例においては、試験用メモリ・
セルを行、列双方に設けた場合を取り上げたが、
場合により、これは行あるいは列の一方にのみ設
けても、それなりの効果が得ることが出来る。
In addition, in the above embodiment, the test memory
We discussed the case where cells are provided in both rows and columns, but
Depending on the case, even if this is provided only in one of the rows or columns, a certain effect can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、エミツ
タを列、コレクタを行線に接続したベース・オー
プン・トランジスタをメモリ・セルとして用い、
M行×N列(M,Nは正整数)のマトリツクス状
に配置されたアレイを有するプログラマブル・リ
ード・オンリー・メモリにいて、正規のメモリ・
セルのエミツタを列線、コレクタ行線とは逆であ
るエミツタを行線、コレクタを列線に接続し、か
つすべて書込まれた状態のトランジスタを試験用
メモリ・セルとして行方向および、あるいは列方
向に設け、この試験用メモリ・セルの逆方向耐圧
を試験することにより、所望のメモリ・セルを書
込もうとした時、所望のメモリ・セルと同一列線
にすでに書込まれているメモリ・セルから、この
書込まれているメモリ・セルと同一行線にあるす
でに書込まれているメモリ・セルの逆方向から、
さらにこの書込まれているメモリ・セルと同一列
線と所望のメモリ・セルの行線間にすでに書込ま
れているメモリ・セルを通じて書込電流が流れ
て、所望のメモリ・セルが書込まれず書込み不良
が生じるか否かの問題を、メーカーがユーザーに
渡る前の出荷段階にて間接的に試験することが可
能となり、書込み歩留の高いP−ROMを提供す
ることが出来、その効果は大である。
As explained above, according to the present invention, base open transistors with emitters connected to columns and collectors connected to row lines are used as memory cells,
A programmable read-only memory has an array arranged in a matrix of M rows and N columns (M and N are positive integers), and is a regular memory.
The emitter of the cell is connected to the column line, and the collector is connected to the row line, and the collector is connected to the column line.The emitter of the cell is connected to the row line, and the collector is connected to the column line, and the fully written transistor is used as a test memory cell and connected in the row direction and/or column. By testing the reverse breakdown voltage of this test memory cell, when writing to a desired memory cell, it is possible to detect memory that has already been written to the same column line as the desired memory cell.・From the cell, from the opposite direction of the already written memory cell on the same row line as this memory cell being written to,
Furthermore, a write current flows through the memory cell that has already been written between the same column line as the memory cell being written and the row line of the desired memory cell, and the desired memory cell is written. This makes it possible for manufacturers to indirectly test the issue of whether or not write errors occur at the shipping stage before handing over to users, making it possible to provide P-ROMs with a high write yield, is large.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の要部を示す回路
図、第2図はメモリ・セルの構成を示す回路図、
第3図はその等価回路図、第4図はメモリ・セル
の書込みが行なわれた後の等価回路図、第5図は
一従来例の要部を示す回路図である。 B3〜B5……列線、W3〜W5……行線、M33
M34,M43,M44…メモリ・セル、M35,M45
M53,M54…試験用メモリ・セル、W3〜W5……
行選択回路。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the main part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell,
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram thereof, FIG. 4 is an equivalent circuit diagram after memory cell writing is performed, and FIG. 5 is a circuit diagram showing the main part of a conventional example. B3 to B5 ...column lines, W3 to W5 ...row lines, M33 ,
M 34 , M 43 , M 44 ...Memory cell, M 35 , M 45 ,
M53 , M54 ...Test memory cells, W3 to W5 ...
Row selection circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 メモリ・セルをベース・オープン・トランジ
スタで構成し、このベース・オープン・トランジ
スタのエミツタを列線、コレクタを行線に接続し
たN行×M列(N,Mは正の整数)のマトリクス
状に配置されたメモリ・セル・アレイを含むプロ
グラマブル・リード・オンリー・メモリにおい
て、前記N行の行線およびM列の列線の少なくと
も一方に対し設けられ前記メモリ・セルと同一構
成の試験用メモリ・セルが、書込み済みの状態で
かつこの試験用メモリ・セルのベース・オープ
ン・トランジスタのエミツタが行線にコレクタが
列線に接続されていることを特徴とするプログラ
マブル・リード・オンリー・メモリ。
1. Memory cells are configured with base-open transistors, and the emitters of these base-open transistors are connected to column lines, and the collectors are connected to row lines, forming a matrix of N rows and M columns (N and M are positive integers). In a programmable read-only memory including a memory cell array arranged in a memory cell array, a test memory provided for at least one of the N rows of row lines and the M columns of column lines and having the same configuration as the memory cells. - A programmable read-only memory characterized in that the cell is in a written state and the emitter of the base-open transistor of this test memory cell is connected to the row line and the collector is connected to the column line.
JP60072140A 1985-04-05 1985-04-05 Programmable read-only memory Granted JPS61230700A (en)

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JPS61230700A JPS61230700A (en) 1986-10-14
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JPS61230700A (en) 1986-10-14

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