JPH05266229A - コード化された基準マーク - Google Patents
コード化された基準マークInfo
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- JPH05266229A JPH05266229A JP4327035A JP32703592A JPH05266229A JP H05266229 A JPH05266229 A JP H05266229A JP 4327035 A JP4327035 A JP 4327035A JP 32703592 A JP32703592 A JP 32703592A JP H05266229 A JPH05266229 A JP H05266229A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/366—Particular pulse shapes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、捜索中に基準マークと遭遇する可
能性を増加し、位置設定の分解能を改良する位置の基準
マークを提供することを目的とする。 【構成】 表面40上に配置された光検出可能な基準マー
ク43はバーカーコドのような多重ビット2進コードにし
たがって符号化されたパターンから構成されている。光
センサ45が予め定められたビットの1つに関してある位
置に配置されるとき、光センサの応答特性を最大にな
り、この特性をプロセッサ46で検出して変換装置47で表
面40を移動させて基準位置に設定する。
能性を増加し、位置設定の分解能を改良する位置の基準
マークを提供することを目的とする。 【構成】 表面40上に配置された光検出可能な基準マー
ク43はバーカーコドのような多重ビット2進コードにし
たがって符号化されたパターンから構成されている。光
センサ45が予め定められたビットの1つに関してある位
置に配置されるとき、光センサの応答特性を最大にな
り、この特性をプロセッサ46で検出して変換装置47で表
面40を移動させて基準位置に設定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基準マークまたはマー
カおよび、予め定められた多重ビット2進コード化パタ
ーンを利用する基準マークを光学的に検出する方法に関
する。
カおよび、予め定められた多重ビット2進コード化パタ
ーンを利用する基準マークを光学的に検出する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】通常の基準マークは表面上に設けられ、
特に基準マーク検出器に関する表面の位置を設定するた
めに使用されることが可能なドット、交差点、小さい
円、箱等である。小さい寸法の通常の基準マークの使用
中に生じる問題は検出器によって基準マークの位置を決
定することが困難であることである。別の問題は一般に
基準マークの位置に関する不正確性が基準マークを捜索
する前に最小にされることを必要とすることである。十
分な捕捉範囲および遮断の可能性は基準マーク検出シス
テムの正確な動作に必要な2つの臨界的特性である。捕
捉範囲は信号が相関検出器を使用するシステムを動作す
るのに十分であるように受信される距離に限定される。
相関検出器は信号と基準信号を1点ずつ比較する装置で
ある。検出器はこの信号と基準信号の類似性の尺度を示
す信号を出力する。基準マーク検出の場合において、相
関プロセスは典型的に自己相関である。ここに用いられ
ている用語「自己相関」は信号とこの位相シフトされた
信号の相似の尺度として限定される。
特に基準マーク検出器に関する表面の位置を設定するた
めに使用されることが可能なドット、交差点、小さい
円、箱等である。小さい寸法の通常の基準マークの使用
中に生じる問題は検出器によって基準マークの位置を決
定することが困難であることである。別の問題は一般に
基準マークの位置に関する不正確性が基準マークを捜索
する前に最小にされることを必要とすることである。十
分な捕捉範囲および遮断の可能性は基準マーク検出シス
テムの正確な動作に必要な2つの臨界的特性である。捕
捉範囲は信号が相関検出器を使用するシステムを動作す
るのに十分であるように受信される距離に限定される。
相関検出器は信号と基準信号を1点ずつ比較する装置で
ある。検出器はこの信号と基準信号の類似性の尺度を示
す信号を出力する。基準マーク検出の場合において、相
関プロセスは典型的に自己相関である。ここに用いられ
ている用語「自己相関」は信号とこの位相シフトされた
信号の相似の尺度として限定される。
【0003】捕捉範囲を拡張し、捜索中に基準マークと
遭遇する可能性を増加する試みにおいて、交差した線は
基準マークとして使用されている。しかしながら、交差
した線は捕捉範囲を拡張するが、基準マークが基準マー
ク検出器に関して配置される表面の位置を設定する分解
能を増加することはできない。
遭遇する可能性を増加する試みにおいて、交差した線は
基準マークとして使用されている。しかしながら、交差
した線は捕捉範囲を拡張するが、基準マークが基準マー
ク検出器に関して配置される表面の位置を設定する分解
能を増加することはできない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、通常
基準マークまたは記録マーカには使用されていない、捜
索中に基準マークと遭遇する可能性を増加し、表面の位
置を設定する分解能を改良する予め定められた多重ビッ
トコードパターンを利用する基準マークを提供すること
である。基準マークは基準マーク検出器に関して表面上
に配置される。本発明はまたコードパターンの長さに等
しい捕捉範囲を有する基準マークを提供する。したがっ
て、捕捉範囲はコード中のビット数を増加することによ
って増加される。
基準マークまたは記録マーカには使用されていない、捜
索中に基準マークと遭遇する可能性を増加し、表面の位
置を設定する分解能を改良する予め定められた多重ビッ
トコードパターンを利用する基準マークを提供すること
である。基準マークは基準マーク検出器に関して表面上
に配置される。本発明はまたコードパターンの長さに等
しい捕捉範囲を有する基準マークを提供する。したがっ
て、捕捉範囲はコード中のビット数を増加することによ
って増加される。
【0005】
【課題を解決するための手段】通常の基準マークでは使
用されていない検出のレベルおよび空間的分解能を与え
るために予め定められた多重ビット2進コード化パター
ンを利用する光学的に検出可能な基準マークによって、
上記および他の問題は克服され、本発明の目的が実現さ
れる。基準マークは基準マークを形成するために利用さ
れる予め定められた多重ビット2進コードの長さに等し
く、コードの長さが増加すると増加する捕捉範囲を有す
る。最適な特性を得るために、基準マークは良好な非周
期相関特性を示す2進コードを利用する。予め定められ
た多重ビット2進コード化パターンによる基準マークの
光学的符号化は光学的に符号化されたビットパターンに
応じる光走査装置が高い正確性およびビットパターン中
の単一ビットの空間的割合である空間的分解能により基
準点の位置を決定することを可能にする。
用されていない検出のレベルおよび空間的分解能を与え
るために予め定められた多重ビット2進コード化パター
ンを利用する光学的に検出可能な基準マークによって、
上記および他の問題は克服され、本発明の目的が実現さ
れる。基準マークは基準マークを形成するために利用さ
れる予め定められた多重ビット2進コードの長さに等し
く、コードの長さが増加すると増加する捕捉範囲を有す
る。最適な特性を得るために、基準マークは良好な非周
期相関特性を示す2進コードを利用する。予め定められ
た多重ビット2進コード化パターンによる基準マークの
光学的符号化は光学的に符号化されたビットパターンに
応じる光走査装置が高い正確性およびビットパターン中
の単一ビットの空間的割合である空間的分解能により基
準点の位置を決定することを可能にする。
【0006】
【実施例】本発明の基準マークは予め定められた多重ビ
ット2進コードを利用する。コードシーケンスが光検出
システムに利用されるとき、コードが偽の同期の最小の
可能性を示すことは重要である。同期のための利用され
るコードシーケンスは典型的に非周期性である。
ット2進コードを利用する。コードシーケンスが光検出
システムに利用されるとき、コードが偽の同期の最小の
可能性を示すことは重要である。同期のための利用され
るコードシーケンスは典型的に非周期性である。
【0007】コードシーケンスの自己相関関数はこのコ
ードシーケンスの相関特性を限定し、特別のコードシー
ケンスが同期の目的に適しているか否かを決定すること
が必要な情報を与える。本発明の基準マークはバーカー
(Barker)コードによって構成された予め定めら
れた多重ビット2進コードを利用する。バーカーコード
は優秀な非周期相関特性を示す、すなわち自己相関関数
サイドローブは1の大きさを超過しない。バーカーコー
ドは最小ピークのサイドローブの大きさを有するので、
低い偽の同期の可能性を示す。奇数ビット長の他の適切
なコードは現存するが、6084ビット以下の偶数ビッ
ト長は現存しない。
ードシーケンスの相関特性を限定し、特別のコードシー
ケンスが同期の目的に適しているか否かを決定すること
が必要な情報を与える。本発明の基準マークはバーカー
(Barker)コードによって構成された予め定めら
れた多重ビット2進コードを利用する。バーカーコード
は優秀な非周期相関特性を示す、すなわち自己相関関数
サイドローブは1の大きさを超過しない。バーカーコー
ドは最小ピークのサイドローブの大きさを有するので、
低い偽の同期の可能性を示す。奇数ビット長の他の適切
なコードは現存するが、6084ビット以下の偶数ビッ
ト長は現存しない。
【0008】一般に、nビットのバーカーコードの自己
相関関数において、主ローブの大きさはサイドローブの
大きさのn倍である。したがって、相関が生じるとき、
7ビットバーカーコードはサイドローブの応答特性の7
倍である最大主ローブの大きさを示す。
相関関数において、主ローブの大きさはサイドローブの
大きさのn倍である。したがって、相関が生じるとき、
7ビットバーカーコードはサイドローブの応答特性の7
倍である最大主ローブの大きさを示す。
【0009】図1において、2次元アレイからなる基準
マーカ1 が示されている。アレイの各行および列はシー
ケンス(+++−−+−)またはその補数(−−−++
−+)によって示されている7ビットバーカーコードを
含む。ここで、(+)は図の暗領域を示し、(−)は白
色領域を示す。2進表示もまた使用されることができ
る。故に、シーケンス(+++−−+−)は(1110
010)と示され、その補数(−−−++−+)は(0
001101)と示される。自己相関関数4,5 は基準マ
ークの中心がX座標軸6 およびY座標軸7 の交差点と整
列されるとき最大の大きさまたは振幅を有する主ローブ
2,3 を示す。X座標軸6 およびY座標軸7が対応する主
ローブの応答特性3 および2 の中心とずれて移動すると
き、主ローブ応答特性または振幅は減少する。したがっ
て、主ローブ応答特性または振幅は基準マークの中心ビ
ットからのずれに関係する。図1に示された基準マーク
はバーカーコードシーケンスにしたがって配置された光
学的に符号化された領域の2次元アレイによって実現さ
れる。
マーカ1 が示されている。アレイの各行および列はシー
ケンス(+++−−+−)またはその補数(−−−++
−+)によって示されている7ビットバーカーコードを
含む。ここで、(+)は図の暗領域を示し、(−)は白
色領域を示す。2進表示もまた使用されることができ
る。故に、シーケンス(+++−−+−)は(1110
010)と示され、その補数(−−−++−+)は(0
001101)と示される。自己相関関数4,5 は基準マ
ークの中心がX座標軸6 およびY座標軸7 の交差点と整
列されるとき最大の大きさまたは振幅を有する主ローブ
2,3 を示す。X座標軸6 およびY座標軸7が対応する主
ローブの応答特性3 および2 の中心とずれて移動すると
き、主ローブ応答特性または振幅は減少する。したがっ
て、主ローブ応答特性または振幅は基準マークの中心ビ
ットからのずれに関係する。図1に示された基準マーク
はバーカーコードシーケンスにしたがって配置された光
学的に符号化された領域の2次元アレイによって実現さ
れる。
【0010】本発明の1実施例において、光学的に符号
化された領域は光反射領域および光吸収領域から構成さ
れている。それ故、各暗領域は光吸収領域から構成さ
れ、各白色領域は光反射領域から構成されている。基準
マークが光放射に露光されているとき、光検出器(図1
において図示せず)は特定の領域が光放射を反射するか
或いは吸収するかを決定する。したがって、光検出器出
力は光反射領域および光吸収領域によって示されたバー
カーコードを再構成する。
化された領域は光反射領域および光吸収領域から構成さ
れている。それ故、各暗領域は光吸収領域から構成さ
れ、各白色領域は光反射領域から構成されている。基準
マークが光放射に露光されているとき、光検出器(図1
において図示せず)は特定の領域が光放射を反射するか
或いは吸収するかを決定する。したがって、光検出器出
力は光反射領域および光吸収領域によって示されたバー
カーコードを再構成する。
【0011】そのような光学的に符号化された基準マー
クは図5に示された閉ループ電気−光学システムに使用
される。表面40の上に配置された光学的に符号化された
基準マーク43は光放射源41によって照射される。基準マ
ーク43の光学的に符号化された領域は光放射42a を反射
或いは吸収する。反射された光放射42a はレンズ44を通
過し、光検出器45によって検出される。光検出器45と基
準マーク支持表面40の間で相対運動を行うことによっ
て、光検出器45の出力は基準マーク43の光学的に符号化
された領域によって示されたバーカーコードシーケンス
または部分を再構成する。再構成されたコードシーケン
スは一方がX座標軸に沿って検出されたコードに応答
し、他方がY座標軸に沿って検出されたコードに応答す
る2つの自己相関関数を実行するプロセッサ46に結合さ
れる。光検出器45がXおよびY座標軸の交差点でありX
およびYの両座標軸のバーカーコードの中心ビットであ
る基準マークの中心と一致されるとき、両方の軸に関連
して相関が生じる。相関は光検出器が基本コード(11
10010)またはその補数(0001101)のいず
れかの中心と一致するかに関係ない。相関が生じると
き、XおよびYの両座標軸に沿って検出された各バーカ
ーコードの相関はそれぞれ最大振幅を有する主ローブ応
答特性を示す。
クは図5に示された閉ループ電気−光学システムに使用
される。表面40の上に配置された光学的に符号化された
基準マーク43は光放射源41によって照射される。基準マ
ーク43の光学的に符号化された領域は光放射42a を反射
或いは吸収する。反射された光放射42a はレンズ44を通
過し、光検出器45によって検出される。光検出器45と基
準マーク支持表面40の間で相対運動を行うことによっ
て、光検出器45の出力は基準マーク43の光学的に符号化
された領域によって示されたバーカーコードシーケンス
または部分を再構成する。再構成されたコードシーケン
スは一方がX座標軸に沿って検出されたコードに応答
し、他方がY座標軸に沿って検出されたコードに応答す
る2つの自己相関関数を実行するプロセッサ46に結合さ
れる。光検出器45がXおよびY座標軸の交差点でありX
およびYの両座標軸のバーカーコードの中心ビットであ
る基準マークの中心と一致されるとき、両方の軸に関連
して相関が生じる。相関は光検出器が基本コード(11
10010)またはその補数(0001101)のいず
れかの中心と一致するかに関係ない。相関が生じると
き、XおよびYの両座標軸に沿って検出された各バーカ
ーコードの相関はそれぞれ最大振幅を有する主ローブ応
答特性を示す。
【0012】相関が両方の軸或いは一方の軸によって生
じないならば、プロセッサ46は補正信号を変換器47に送
る。補正信号は両座標軸に関して相関を得るために表面
40の整列に関する情報を含む。変換器47は相関がXおよ
びYの両座標軸に関して生じるように表面40を整列する
ために座標軸補正信号をXおよびY座標軸に関する表面
40の運動に変換する。これに関して、変換器47は良く知
られているX−Y位置設定段として構成されることがで
きる。
じないならば、プロセッサ46は補正信号を変換器47に送
る。補正信号は両座標軸に関して相関を得るために表面
40の整列に関する情報を含む。変換器47は相関がXおよ
びYの両座標軸に関して生じるように表面40を整列する
ために座標軸補正信号をXおよびY座標軸に関する表面
40の運動に変換する。これに関して、変換器47は良く知
られているX−Y位置設定段として構成されることがで
きる。
【0013】本発明の別の実施例が図6に示されてい
る。透明および不透明領域からなる基準マーク63は表面
62上に配置されている。光源60は光放射を基準マーク63
に放射する。基準マーク63の透明領域を通過する光放射
はレンズ64を通過して光検出器65によって検出される。
光検出器65と基準マーク支持表面62の間の相対運動を行
うことによって、光検出器65の出力は基準マーク63の光
学的に符号化された領域によって示されるバーカーコー
ドシーケンスまたは部分を再構成する。再構成されたコ
ードシーケンスは一方がX座標軸に沿って検出されたコ
ードに応答し他方がY座標軸に沿って検出されたコード
に応答する2つの相関を実行するプロセッサ66に送られ
る。光検出器65がXおよびY座標軸の交差点でありXお
よびYの両座標軸のバーカーコードの中心ビットである
基準マークの中心と一致するとき両方の軸に関して相関
が生じる。相関は光検出器が基本コード(111001
0)またはその補数(0001101)のいずれかの中
心と一致するかに関係がない。相関が生じるとき、Xお
よびY両座標軸に沿って検出されたバーカーコードはそ
れぞれ最大振幅を有する主ローブ応答特性を示す。
る。透明および不透明領域からなる基準マーク63は表面
62上に配置されている。光源60は光放射を基準マーク63
に放射する。基準マーク63の透明領域を通過する光放射
はレンズ64を通過して光検出器65によって検出される。
光検出器65と基準マーク支持表面62の間の相対運動を行
うことによって、光検出器65の出力は基準マーク63の光
学的に符号化された領域によって示されるバーカーコー
ドシーケンスまたは部分を再構成する。再構成されたコ
ードシーケンスは一方がX座標軸に沿って検出されたコ
ードに応答し他方がY座標軸に沿って検出されたコード
に応答する2つの相関を実行するプロセッサ66に送られ
る。光検出器65がXおよびY座標軸の交差点でありXお
よびYの両座標軸のバーカーコードの中心ビットである
基準マークの中心と一致するとき両方の軸に関して相関
が生じる。相関は光検出器が基本コード(111001
0)またはその補数(0001101)のいずれかの中
心と一致するかに関係がない。相関が生じるとき、Xお
よびY両座標軸に沿って検出されたバーカーコードはそ
れぞれ最大振幅を有する主ローブ応答特性を示す。
【0014】前述の図5および図6に示されたシステム
のような閉ループ制御システムにおいて、主ローブ応答
特性の勾配はエラー感知制御特性として使用される。エ
ラー感知制御特性は1ビットの記録エラー当り2n振幅
ユニットを与える。その制御特性を使用し予め定められ
たレベルにサーボ制御する制御システムは1/n(SN
R)程度のエラーレベルに対する中心ビット内の位置制
御を行う。ここでnはコード中のビット数であり、SN
Rは制御システムの合計接続点における信号対雑音比で
ある。
のような閉ループ制御システムにおいて、主ローブ応答
特性の勾配はエラー感知制御特性として使用される。エ
ラー感知制御特性は1ビットの記録エラー当り2n振幅
ユニットを与える。その制御特性を使用し予め定められ
たレベルにサーボ制御する制御システムは1/n(SN
R)程度のエラーレベルに対する中心ビット内の位置制
御を行う。ここでnはコード中のビット数であり、SN
Rは制御システムの合計接続点における信号対雑音比で
ある。
【0015】図3において、対応する自己相関関数20を
有する基準位相基準マークおよび対応する自己相関関数
21を有する直角位相基準マークを使用する本発明の別の
実施例の自己相関関数22が示されている。この形態は自
己相関関数22によって示される制御特性を生成し、ゼロ
振幅を中心とし急勾配を有する主ローブ応答特性23から
構成されている。検出されたコードの自己相関を示す出
力を有する相関検出器は基準位相基準マークおよび直角
位相基準マークと関連する。直角位相基準マークと関連
する相関検出器の出力は基準位相基準マークと関連する
相関検出器の出力から減算される。最適整列エラー信号
を得るために、基準位相基準マークの中心ビットおよび
直角位相基準マークの中心ビットは1/2ビットの予め
定められた距離だけ互いにずれる。生じた自己相関関数
22が図3に示されている。
有する基準位相基準マークおよび対応する自己相関関数
21を有する直角位相基準マークを使用する本発明の別の
実施例の自己相関関数22が示されている。この形態は自
己相関関数22によって示される制御特性を生成し、ゼロ
振幅を中心とし急勾配を有する主ローブ応答特性23から
構成されている。検出されたコードの自己相関を示す出
力を有する相関検出器は基準位相基準マークおよび直角
位相基準マークと関連する。直角位相基準マークと関連
する相関検出器の出力は基準位相基準マークと関連する
相関検出器の出力から減算される。最適整列エラー信号
を得るために、基準位相基準マークの中心ビットおよび
直角位相基準マークの中心ビットは1/2ビットの予め
定められた距離だけ互いにずれる。生じた自己相関関数
22が図3に示されている。
【0016】図2は1対の1次元ゼロ位相基準マーク
(水平マーク10および垂直マーク13)および1対の1次
元直角位相基準マーク(水平マーク14および垂直マーク
11)からなる形態を示す。直角位相相関検出器の出力を
基準位相基準マーク相関検出器の出力から減算すると、
図3に示された制御特性が生じる。水平基準位相基準マ
ークの中心ビットおよび水平直角位相基準マークの中心
ビットは予め定めれた距離d1だけ互いにずれる。同様
に、垂直基準位相基準マークの中心ビットおよび垂直直
角位相基準マークの中心ビットは1/2ビット(“直角
位相”は1/2ビットを意味する)に等しい予め定めれ
た距離d2だけ互いにずれる。すなわち、それは時間位
相中の90度の空間近似である。この制御特性は基本自
己相関関数の2倍の勾配および基本自己相関関数の2倍
である主ローブ振幅を有する。
(水平マーク10および垂直マーク13)および1対の1次
元直角位相基準マーク(水平マーク14および垂直マーク
11)からなる形態を示す。直角位相相関検出器の出力を
基準位相基準マーク相関検出器の出力から減算すると、
図3に示された制御特性が生じる。水平基準位相基準マ
ークの中心ビットおよび水平直角位相基準マークの中心
ビットは予め定めれた距離d1だけ互いにずれる。同様
に、垂直基準位相基準マークの中心ビットおよび垂直直
角位相基準マークの中心ビットは1/2ビット(“直角
位相”は1/2ビットを意味する)に等しい予め定めれ
た距離d2だけ互いにずれる。すなわち、それは時間位
相中の90度の空間近似である。この制御特性は基本自
己相関関数の2倍の勾配および基本自己相関関数の2倍
である主ローブ振幅を有する。
【0017】しかしながら、各サイドローブの勾配およ
び振幅は主ローブの1/nだけであるが、この制御特性
は各サイドローブにおける偽の固定または同期の可能性
を示す。偽の固定または不正確な同期を阻止するため
に、光学的に識別可能な“データ有効”パッチ12はゼロ
点(ゼロ振幅)を中心とし、主ローブ固定または正確な
同期に適応するために使用される。
び振幅は主ローブの1/nだけであるが、この制御特性
は各サイドローブにおける偽の固定または同期の可能性
を示す。偽の固定または不正確な同期を阻止するため
に、光学的に識別可能な“データ有効”パッチ12はゼロ
点(ゼロ振幅)を中心とし、主ローブ固定または正確な
同期に適応するために使用される。
【0018】本発明の別の実施例が図4に示されてい
る。接近して配置された2つの1次元基準マーク32,33
はそれらから任意の距離d3を隔てられている第3の1
次元基準マーク30と組合わされて設けられている。これ
らの3つの基準マークは位置固定のために組合わされ
る。この形態において、基準マーク32,33 は第1の座標
軸34と整列され、基準マーク30,33 は第2の座標軸35と
整列される。第1および第2の座標軸34,35 は典型的に
互いに直交され、基準マーク33の予め定められたビット
に関してある位置において互いに交差する。基準マーク
30はカイネマチックな機械的取付けに近似するように基
準マーク32,33 によって形成された第1の座標軸34を中
心として回転させられる。基準マークのそのような装置
は例えば半導体製造過程中にシリコンウエハの方向付け
を制御するために使用されることができる。
る。接近して配置された2つの1次元基準マーク32,33
はそれらから任意の距離d3を隔てられている第3の1
次元基準マーク30と組合わされて設けられている。これ
らの3つの基準マークは位置固定のために組合わされ
る。この形態において、基準マーク32,33 は第1の座標
軸34と整列され、基準マーク30,33 は第2の座標軸35と
整列される。第1および第2の座標軸34,35 は典型的に
互いに直交され、基準マーク33の予め定められたビット
に関してある位置において互いに交差する。基準マーク
30はカイネマチックな機械的取付けに近似するように基
準マーク32,33 によって形成された第1の座標軸34を中
心として回転させられる。基準マークのそのような装置
は例えば半導体製造過程中にシリコンウエハの方向付け
を制御するために使用されることができる。
【0019】以上、本発明のコード化された基準マーク
の幾つかの実施例を説明した。表面上に配置される1次
元基準マーク内の予め定められた2進コード化されたパ
ターンを光学的に認識する第1の方法を以下説明する。
この方法は次のステップを含む。
の幾つかの実施例を説明した。表面上に配置される1次
元基準マーク内の予め定められた2進コード化されたパ
ターンを光学的に認識する第1の方法を以下説明する。
この方法は次のステップを含む。
【0020】1.1次元アレイに配置された複数の光学
的に識別可能な領域から構成される多重ビット基準マー
クを表面に設ける。
的に識別可能な領域から構成される多重ビット基準マー
クを表面に設ける。
【0021】2.光放射源によって基準マークを照射す
る。
る。
【0022】3.照射に応じて基準マークによって発生
された光信号を検出する。
された光信号を検出する。
【0023】4.多重ビット符号化を示す複数の第1お
よび第2の状態を有する検出信号を生成する。
よび第2の状態を有する検出信号を生成する。
【0024】5.検出信号に対して相関過程を実行す
る。
る。
【0025】6.相関によってコードシーケンスの検出
されたレプリカと記憶された基準シーケンスを比較す
る。
されたレプリカと記憶された基準シーケンスを比較す
る。
【0026】7.記憶された基準シーケンスとコードシ
ーケンスの検出されたレプリカの相関はゼロを生成しな
いならば、補正信号を生成する。
ーケンスの検出されたレプリカの相関はゼロを生成しな
いならば、補正信号を生成する。
【0027】8.補正信号を基準マークを含む表面の座
標軸に沿った物理的運動に変換する。
標軸に沿った物理的運動に変換する。
【0028】9.基準マークが検出器に関して予め定め
られた位置に配置されるように自己相関関数が補正信号
によってゼロを示すまでステップ1乃至8を繰返す。
られた位置に配置されるように自己相関関数が補正信号
によってゼロを示すまでステップ1乃至8を繰返す。
【0029】表面に配置された予め定められた2次元多
重ビット2進コードパターンを光学的に認識する第2の
方法を以下説明する。この方法は次のステップを含む。
重ビット2進コードパターンを光学的に認識する第2の
方法を以下説明する。この方法は次のステップを含む。
【0030】1.2次元アレイに配置された複数の光学
的に識別可能な領域から構成された多重ビット符号化さ
れた基準マークを表面に設ける。
的に識別可能な領域から構成された多重ビット符号化さ
れた基準マークを表面に設ける。
【0031】2.光放射源によって基準マークを照射す
る。
る。
【0032】3.照射に応じて基準マークによって発生
された光信号を第1の座標軸に沿って検出する。
された光信号を第1の座標軸に沿って検出する。
【0033】4.多重ビット符号化を示す複数の第1お
よび第2の状態を有する第1の検出信号を生成する。
よび第2の状態を有する第1の検出信号を生成する。
【0034】5.照射に応じて基準マークによって発生
された光信号を第2の座標軸に沿って検出する。
された光信号を第2の座標軸に沿って検出する。
【0035】6.多重ビット符号化を示す複数の第1お
よび第2の状態を有する第2の検出信号を生成する。
よび第2の状態を有する第2の検出信号を生成する。
【0036】7.第1の基準信号と第1の検出信号によ
って相関過程を実行する。
って相関過程を実行する。
【0037】8.第2の基準信号と第2の検出信号によ
って相関過程を実行する。
って相関過程を実行する。
【0038】9.第1の基準信号と第1の検出信号の相
関がゼロを生成しないならば第1の補正信号を生成す
る。
関がゼロを生成しないならば第1の補正信号を生成す
る。
【0039】10.第2の基準信号と第2の検出信号の
相関がゼロを生成しないならば第2の補正信号を生成す
る。
相関がゼロを生成しないならば第2の補正信号を生成す
る。
【0040】11.第1および第2の補正信号を基準マ
ークを含む表面の第1および第2の座標軸に沿った物理
的運動に変換する。
ークを含む表面の第1および第2の座標軸に沿った物理
的運動に変換する。
【0041】12.基準マークが検出器に関して予め定
められた位置に配置されることを示すまでステップ1乃
至8を繰返す。
められた位置に配置されることを示すまでステップ1乃
至8を繰返す。
【0042】上記2つの方法は基準マークを示す透明お
よび不透明領域または光反射および光吸収領域を使用し
て実行されることができる。
よび不透明領域または光反射および光吸収領域を使用し
て実行されることができる。
【0043】本発明は例えば特徴の重心が写真板、フィ
ルム、またはシリコンウエハ、或いは半導体製造に使用
される他の材料上に位置されることによって改良され
る。一般に、本発明の技術は本体または表面を正確に配
置することが望ましい多くの異なる適用に対して用いら
れることができる。
ルム、またはシリコンウエハ、或いは半導体製造に使用
される他の材料上に位置されることによって改良され
る。一般に、本発明の技術は本体または表面を正確に配
置することが望ましい多くの異なる適用に対して用いら
れることができる。
【0044】バーカー符号化された基準マークに関して
説明したが、本発明の技術はそれに制限されるものでは
ないことを認識すべきである。例えば、本発明はまた最
大長2進シフトレジスタシーケンスのような他の型式の
コードまたは各コードのセグメント(1ビットに類似す
る)はバーカーコード自身である。バーカーコードを利
用することができる。表1は本発明によって使用される
のに適した複数の最大長2進コードの特性を示す。
説明したが、本発明の技術はそれに制限されるものでは
ないことを認識すべきである。例えば、本発明はまた最
大長2進シフトレジスタシーケンスのような他の型式の
コードまたは各コードのセグメント(1ビットに類似す
る)はバーカーコード自身である。バーカーコードを利
用することができる。表1は本発明によって使用される
のに適した複数の最大長2進コードの特性を示す。
【0045】 表1 程度(状態の数) 多項式8進法 最低ピーク 最低RMS および長さ サイドローブ サイドローブ 振幅 振幅 1(1) 003* 0 0 2(3) 007* −1 0.707 3(7) 013* −1 0.707 4(15) 023* −3 1.39 5(31) 045* −4 1.89 1.74 1.96 6(63) 103* −6 2.62 2.81 2.38 7(127) 203* −9 4.03 211* −9 3.90 235 −9 4.09 247 −9 4.23 253 −10 4.17 277 −10 4.15 313 −9 4.04 357 −9 4.18 8(255) 435 −13 5.97 453 −14 5.98 455 −14 6.10 515 −14 6.08 537 −14 6.02 543 −14 6.02 607 −14 6.02 717 −14 5.92 9(511) (24コード) −19(1743多項式) 8.0 10(1023) (30コード) −29(3023多項式) 11(2047) (88コード) 12(4095) (72コード) 13(8191) (315コード) バーカーコードからのもっと長いコードを実現する1つ
の方法は別のバーカーコードによって1つのバーカーコ
ードの各セグメント内のコードを位相することであるこ
とは知られている。これはバーカー2乗または結合バー
カーコード化として知られている。そのようなコードの
特性は2つの方法によって長さ4のバーカーコードと長
さ13のバーカーコードを結合することによって定めら
れる。13ビットワードの各ビットが4ビットにコード
化されるとき、波形のゼロドップラ自己相関関数は±1
および±3セグメントの距離のずれに位置された振幅1
3の4つのサイドピークおよび振幅4の12ピークを与
える。4ビットワードの各ビットは13ビットにコード
化されるとき、1より大きい振幅の同じ数のサイドピー
クが現れるが、振幅13のサイドピークの位置は±13
および±39セグメントのずれで生じる。両方の場合に
おいて、自己相関関数の主ローブ振幅は52である。
の方法は別のバーカーコードによって1つのバーカーコ
ードの各セグメント内のコードを位相することであるこ
とは知られている。これはバーカー2乗または結合バー
カーコード化として知られている。そのようなコードの
特性は2つの方法によって長さ4のバーカーコードと長
さ13のバーカーコードを結合することによって定めら
れる。13ビットワードの各ビットが4ビットにコード
化されるとき、波形のゼロドップラ自己相関関数は±1
および±3セグメントの距離のずれに位置された振幅1
3の4つのサイドピークおよび振幅4の12ピークを与
える。4ビットワードの各ビットは13ビットにコード
化されるとき、1より大きい振幅の同じ数のサイドピー
クが現れるが、振幅13のサイドピークの位置は±13
および±39セグメントのずれで生じる。両方の場合に
おいて、自己相関関数の主ローブ振幅は52である。
【0046】したがって、上述の教えに基づいて、当業
者は上記開示された本発明の実施例に対して多くの変形
を工夫することができる。本発明はこれらの開示された
実施例にのみ制限されるものではなく、添付特許請求の
範囲によってのみ限定される。
者は上記開示された本発明の実施例に対して多くの変形
を工夫することができる。本発明はこれらの開示された
実施例にのみ制限されるものではなく、添付特許請求の
範囲によってのみ限定される。
【図1】最大主ローブ応答特性および振幅を超過しない
サイドローブを示す自己相関関数を有する2次元の7ビ
ットバーカーコードから形成された基準マークの概略
図。
サイドローブを示す自己相関関数を有する2次元の7ビ
ットバーカーコードから形成された基準マークの概略
図。
【図2】7ビットバーカーコードの基準マーク直角位相
対の概略図。
対の概略図。
【図3】7ビットバーカーコードの直角位相対の自己相
関関数の説明図。
関関数の説明図。
【図4】2次元位置固定のために組合わされた1次元バ
ーカーコード基準マークの概略図。
ーカーコード基準マークの概略図。
【図5】基準マーク内の光反射および光吸収領域を検出
する光基準マーク検出システムのブロック図。
する光基準マーク検出システムのブロック図。
【図6】基準マーク内の透明および不透明な領域を検出
する光基準マーク検出システムのブロック図。
する光基準マーク検出システムのブロック図。
1 …基準マーク、2,3 …主ローブ、4,5 …自己相関関
数、6,7 …座標軸、40…表面、43…基準マーク、45…光
検出器。
数、6,7 …座標軸、40…表面、43…基準マーク、45…光
検出器。
Claims (10)
- 【請求項1】 光センサが予め定められたビットの1つ
に関してある位置に配置されるとき、光センサの応答特
性を最大にするように選択された多重ビット2進コード
にしたがって符号化されたパターンから構成されている
ことを特徴とする表面上に配置された光検出可能な基準
マーク。 - 【請求項2】 表面と光センサの間の相対運動を行う手
段をさらに備えている請求項1記載の光検出可能な基準
マーク。 - 【請求項3】 多重ビット2進コードにしたがって符号
化されたパターンは複数の光学的に識別可能な領域から
構成されている請求項1記載の光検出可能な基準マー
ク。 - 【請求項4】 多重ビット2進コードにしたがって符号
化されたパターンは1次元アレイに配置され、多重ビッ
ト2進コードの1ビットをそれぞれ示す複数の光学的に
符号化された領域から構成されている請求項1記載の光
検出可能な基準マーク。 - 【請求項5】 多重ビット2進コードにしたがって符号
化されたパターンは光学的に符号化された領域の2次元
アレイから構成されている請求項1記載の光検出可能な
基準マーク。 - 【請求項6】 予め定められた多重ビット2進コードお
よびその補数のパターンに応答して、予め定められた2
進コードパターンの予め定められたビットを中心とする
とき最大振幅を有する信号を出力する光検出器手段を備
えていることを特徴とする複数の光学的に識別可能なビ
ットとして表面上に設けられた予め定められた多重ビッ
ト2進コードパターンの光学的認識装置。 - 【請求項7】 予め定められた多重ビット2進コードお
よびその補数のパターンに応答して、予め定められたビ
ットに関してある位置に配置されるとき最大振幅を有す
る信号を出力する第1および第2の光検出器手段を備え
ていることを特徴とする2次元アレイに配置された複数
の光学的に識別可能なビットとして表面上に設けられた
予め定められた多重ビット2進コードパターンの光学的
認識装置。 - 【請求項8】 表面と第1および第2の光検出器手段の
間の相対運動を行う手段をさらに備えている請求項7記
載の光学的認識装置。 - 【請求項9】 複数の光学的に認識可能なビットは複数
の光学的に不透明な領域および光学的に透明な領域から
構成されている請求項7記載の光学的認識装置。 - 【請求項10】 複数の光学的に識別可能なビットは複
数の光反射領域および光吸収領域から構成されている請
求項7記載の光学的認識装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US80486591A | 1991-12-06 | 1991-12-06 | |
US804865 | 1991-12-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05266229A true JPH05266229A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=25190048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4327035A Pending JPH05266229A (ja) | 1991-12-06 | 1992-12-07 | コード化された基準マーク |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0545737A1 (ja) |
JP (1) | JPH05266229A (ja) |
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US8368495B2 (en) | 2008-04-04 | 2013-02-05 | Correlated Magnetics Research LLC | System and method for defining magnetic structures |
US7800471B2 (en) | 2008-04-04 | 2010-09-21 | Cedar Ridge Research, Llc | Field emission system and method |
US7982568B2 (en) | 2009-09-22 | 2011-07-19 | Cedar Ridge Research, Llc. | Multilevel correlated magnetic system and method for using same |
US8648681B2 (en) | 2009-06-02 | 2014-02-11 | Correlated Magnetics Research, Llc. | Magnetic structure production |
US8279032B1 (en) | 2011-03-24 | 2012-10-02 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System for detachment of correlated magnetic structures |
US8717131B2 (en) | 2008-04-04 | 2014-05-06 | Correlated Magnetics Research | Panel system for covering a glass or plastic surface |
US8760250B2 (en) | 2009-06-02 | 2014-06-24 | Correlated Magnetics Rsearch, LLC. | System and method for energy generation |
US8816805B2 (en) | 2008-04-04 | 2014-08-26 | Correlated Magnetics Research, Llc. | Magnetic structure production |
US8115581B2 (en) | 2008-04-04 | 2012-02-14 | Correlated Magnetics Research, Llc | Techniques for producing an electrical pulse |
US8179219B2 (en) | 2008-04-04 | 2012-05-15 | Correlated Magnetics Research, Llc | Field emission system and method |
US9371923B2 (en) | 2008-04-04 | 2016-06-21 | Correlated Magnetics Research, Llc | Magnetic valve assembly |
US8174347B2 (en) | 2010-07-12 | 2012-05-08 | Correlated Magnetics Research, Llc | Multilevel correlated magnetic system and method for using the same |
US8760251B2 (en) | 2010-09-27 | 2014-06-24 | Correlated Magnetics Research, Llc | System and method for producing stacked field emission structures |
US9202616B2 (en) | 2009-06-02 | 2015-12-01 | Correlated Magnetics Research, Llc | Intelligent magnetic system |
EP2274706A1 (en) * | 2008-04-04 | 2011-01-19 | Cedar Ridge Research, Llc | Techniques for producing an electrical pulse |
US9105380B2 (en) | 2008-04-04 | 2015-08-11 | Correlated Magnetics Research, Llc. | Magnetic attachment system |
US7843295B2 (en) | 2008-04-04 | 2010-11-30 | Cedar Ridge Research Llc | Magnetically attachable and detachable panel system |
US8779879B2 (en) | 2008-04-04 | 2014-07-15 | Correlated Magnetics Research LLC | System and method for positioning a multi-pole magnetic structure |
US8576036B2 (en) | 2010-12-10 | 2013-11-05 | Correlated Magnetics Research, Llc | System and method for affecting flux of multi-pole magnetic structures |
US8937521B2 (en) | 2012-12-10 | 2015-01-20 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System for concentrating magnetic flux of a multi-pole magnetic structure |
US8917154B2 (en) | 2012-12-10 | 2014-12-23 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System for concentrating magnetic flux |
US9257219B2 (en) | 2012-08-06 | 2016-02-09 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System and method for magnetization |
US8704626B2 (en) | 2010-05-10 | 2014-04-22 | Correlated Magnetics Research, Llc | System and method for moving an object |
US9275783B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-03-01 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System and method for demagnetization of a magnetic structure region |
US9404776B2 (en) | 2009-06-02 | 2016-08-02 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System and method for tailoring polarity transitions of magnetic structures |
US9711268B2 (en) | 2009-09-22 | 2017-07-18 | Correlated Magnetics Research, Llc | System and method for tailoring magnetic forces |
US8638016B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-01-28 | Correlated Magnetics Research, Llc | Electromagnetic structure having a core element that extends magnetic coupling around opposing surfaces of a circular magnetic structure |
US8279031B2 (en) | 2011-01-20 | 2012-10-02 | Correlated Magnetics Research, Llc | Multi-level magnetic system for isolation of vibration |
US8702437B2 (en) | 2011-03-24 | 2014-04-22 | Correlated Magnetics Research, Llc | Electrical adapter system |
WO2012142306A2 (en) | 2011-04-12 | 2012-10-18 | Sarai Mohammad | Magnetic configurations |
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US9219403B2 (en) | 2011-09-06 | 2015-12-22 | Correlated Magnetics Research, Llc | Magnetic shear force transfer device |
US8848973B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-09-30 | Correlated Magnetics Research LLC | System and method for authenticating an optical pattern |
EP2820659A4 (en) | 2012-02-28 | 2016-04-13 | Correlated Magnetics Res Llc | SYSTEM FOR DETACHING MAGNETIC STRUCTURE OF FERROMAGNETIC MATERIAL |
US9245677B2 (en) | 2012-08-06 | 2016-01-26 | Correlated Magnetics Research, Llc. | System for concentrating and controlling magnetic flux of a multi-pole magnetic structure |
US9298281B2 (en) | 2012-12-27 | 2016-03-29 | Correlated Magnetics Research, Llc. | Magnetic vector sensor positioning and communications system |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2590681B1 (fr) * | 1985-11-27 | 1988-06-24 | Alcatel Espace | Systeme de localisation d'un objet muni d'au moins une mire passive. |
-
1992
- 1992-12-07 EP EP92311117A patent/EP0545737A1/en not_active Withdrawn
- 1992-12-07 JP JP4327035A patent/JPH05266229A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0545737A1 (en) | 1993-06-09 |
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