JPH05265002A - Liquid crystal optical modulating element - Google Patents

Liquid crystal optical modulating element

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JPH05265002A
JPH05265002A JP9230392A JP9230392A JPH05265002A JP H05265002 A JPH05265002 A JP H05265002A JP 9230392 A JP9230392 A JP 9230392A JP 9230392 A JP9230392 A JP 9230392A JP H05265002 A JPH05265002 A JP H05265002A
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JP
Japan
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liquid crystal
electrode
modulation element
crystal optical
optical modulation
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Application number
JP9230392A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryoji Fujiwara
良治 藤原
Shuzo Kaneko
修三 金子
Tomoko Maruyama
朋子 丸山
Tomoko Murakami
智子 村上
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH05265002A publication Critical patent/JPH05265002A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain stable bistability and to eliminate unstability without depending on the spacing structure of oriented films by decreasing hysteresis phenomena, fading phenomena and unstability phenomena and simultaneously preventing the disturbance in liquid crystal orientability, thereby attaining uniform orientation. CONSTITUTION:This element has a ferroelectric liquid crystal 24, counter substrates 23b for clamping this liquid crystal and a voltage impressing means having electrodes 5, 8 for impressing a voltage to the ferroelectric liquid crystal 24. The oriented films 9 formed by diagonal vapor deposition are formed via buffer layers 21a, 21b on these electrode surfaces. The oriented films 9 and the buffer layers 21a, 21b respectively have the spacings and pinholes to enable the charge transfer between the ferroelectric liquid crystal 24 and the electrodes 5, 8. The element has the substrates, a pair of the electrode substrates which face each other and have the electrodes provided on the substrates and the oriented films provided on the electrodes on the respective opposite surfaces and the liquid crystal sealed therebetween. Pinholes for taking conduction between the liquid crystal part and the electrodes are provided by >=1 per one picture element in the oriented film parts.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶光学素子に関し、特
に、自発分極を有し、少なくとも2つの光学的安定状態
を示す強誘電性液晶を用いて諧調表示を行うようにした
液晶光学素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal optical element, and more particularly to a liquid crystal optical element which is capable of performing gray scale display by using a ferroelectric liquid crystal having spontaneous polarization and exhibiting at least two optically stable states. It is a thing.

【0002】[0002]

【従来の技術】自発分極を有する液晶として強誘電性液
晶(FLC)は、その高速応答性やメモリ性等の利点が
注目され、表示素子、ライトバルブ等の目的のために積
極的に開発されている。上記利点を生かした装置とし
て、光シャッタアレイ、単純マトリクス駆動による高精
細表示装置、光導電体を組み合わせた高密度記録のライ
トバルブ等が実用化されている。
2. Description of the Related Art Ferroelectric liquid crystal (FLC) as a liquid crystal having spontaneous polarization has been noticed for its advantages such as high-speed response and memory property, and has been actively developed for the purpose of display elements, light valves and the like. ing. Optical shutter arrays, high-definition display devices driven by a simple matrix, and high-density recording light valves in combination with photoconductors have been put into practical use as devices utilizing the above advantages.

【0003】そして従来、この種の素子は単純マトリク
ス駆動による白黒表示が一般的である。しかし、薄膜ト
ランジスタ(TFT)等を用いたアクティブマトリクス
駆動による動画像表示にも適用が期待され、この特性は
例えばU.S.P.4840462号やProceed
ing of the SID,vol30/2,19
89“ Ferro−electric Liquid
Crystal Video Display”等に
示されている。この種の液晶光学素子の駆動方は例えば
U.S.P.4840462号に示されるように、リセ
ットとライト(書込み)信号を水平周期に時間分割して
挿入するという方法をとっている。また、例えば上記駆
動方により諧調表示を行う素子は、図21に示すよう
に、ガラス等の基板23上に電極層22を形成し、しか
る後、強誘電性液晶24を配向させるための配向層20
を設けてこれをラビングし、強誘電性液晶24を注入す
る行程を経て作られている。
In the past, this type of element has generally been used for monochrome display by simple matrix drive. However, it is expected to be applied to a moving image display by active matrix driving using a thin film transistor (TFT), and this characteristic is described in U.S.P. S. P. No. 4840462 or Proceed
ing of the SID, vol30 / 2, 19
89 "Ferro-electric Liquid
"Crystal Video Display" and the like. For driving a liquid crystal optical element of this type, as shown in, for example, US Pat. No. 4,840,462, reset and write (write) signals are time-divided into horizontal periods. In addition, for example, in an element that displays a gray scale by the above driving method, an electrode layer 22 is formed on a substrate 23 such as glass as shown in FIG. Layer 20 for orienting the liquid crystal 24
Is provided, and this is rubbed, and the ferroelectric liquid crystal 24 is injected.

【0004】また、諧調表示を目的としたアクティブマ
トリクス駆動については、さらに、特開平2−1892
号公報にも開示されている。このアクティブマトリクス
駆動法は、1つの画素に対して1つのスイッチング素子
により、リセット信号と書込み信号をフェーズをずらし
てそれぞれ印加し、この書込み信号により画素電極に注
入される電荷量Qと強誘電性液晶の有する自発分極Ps
の反転による電荷キャンセル量△S・Ps (△Sは反転
面積)とのバランスにより、ドメイン諧調(面積諧調)
を実現しようとするものである。
Further, regarding the active matrix driving for the purpose of gradation display, further, it is further described in JP-A-2-1892.
It is also disclosed in the official gazette. In this active matrix driving method, a reset signal and a write signal are applied to one pixel with a phase shift, and the charge amount Q and the ferroelectricity injected into the pixel electrode by the write signal are applied. Spontaneous polarization Ps of liquid crystal
Domain gradation (area gradation) by the balance with the amount of charge cancellation ΔS · Ps (ΔS is the inversion area) due to the inversion of
Is to realize.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ア
クティブマトリクス駆動法は、双安定な強誘電性液晶を
用いた諧調表示には非常に有効な手段であるが、同時に
幾つかの欠点を有する場合がある。
However, the above-mentioned active matrix driving method is a very effective means for gradation display using a bistable ferroelectric liquid crystal, but at the same time, it has some drawbacks. is there.

【0006】その1つに、電圧・透過率特性におけるヒ
ステリシス現象がある。以下、その現象を説明する。
One of them is a hysteresis phenomenon in the voltage / transmittance characteristic. The phenomenon will be described below.

【0007】図10は、一般的に用いられる強誘電性液
晶素子の構成を示す断面図である。同図において、15
aおよび15bは相対向する電極基板であり、それぞ
れ、基板14、その対向面上に形成された透明電極層1
3、絶縁層12、および配向層10を有する。11は電
極基板15aおよび15bそれぞれの配向層10間に配
置された強誘電性液晶層である。図11は、このような
強誘電性液晶素子を用いてアクティブマトリクス駆動で
諧調表示を行うときの等価回路図である。図中、Tはア
クティブマトリクス駆動を行うためのスイッチング素子
として用いる多数の薄膜トランジスタ(TFT)を示し
ている。LCは、各薄膜トランジスタTのドレイン電極
(画素電極)3と対向電極4とによって挟持された強誘
電性液晶からなる多数の画素である。2は各ドレイン電
極3に液晶の駆動波形を形成する電圧信号を供給するた
めの信号配線であり、この信号の各ドレイン電極3への
供給は、薄膜トランジスタTによってオン・オフ制御さ
れる。4はこの薄膜トランジスタTをオン・オフさせる
ゲート信号を供給するための走査信号配線である。
FIG. 10 is a sectional view showing the structure of a generally used ferroelectric liquid crystal element. In the figure, 15
Reference numerals a and 15b denote electrode substrates facing each other, and the substrate 14 and the transparent electrode layer 1 formed on the facing surface, respectively.
3, the insulating layer 12, and the alignment layer 10. Reference numeral 11 is a ferroelectric liquid crystal layer arranged between the alignment layers 10 of the electrode substrates 15a and 15b. FIG. 11 is an equivalent circuit diagram when gray scale display is performed by active matrix driving using such a ferroelectric liquid crystal element. In the figure, T indicates a large number of thin film transistors (TFTs) used as switching elements for performing active matrix driving. LC is a large number of pixels made of a ferroelectric liquid crystal sandwiched by a drain electrode (pixel electrode) 3 of each thin film transistor T and a counter electrode 4. Reference numeral 2 is a signal wiring for supplying a voltage signal that forms a drive waveform of liquid crystal to each drain electrode 3, and the supply of this signal to each drain electrode 3 is on / off controlled by the thin film transistor T. Reference numeral 4 is a scanning signal wiring for supplying a gate signal for turning on / off the thin film transistor T.

【0008】この構成において、各画素LCに対し、図
12(a)に示すような駆動波形であって、一周期を1
6.7ms(60Hz)としたリセットパルス117
と、各諧調に応じた書込みパルス119とを有するもの
を印加すると、図12(b)に示すような透過率Tの変
化を生じる。このとき曲線部分121における透過率が
書込みパルス119にほぼ対応する透過率である。ま
た、図12(a)の如き駆動波形の書込みパルス119
のパルス高(書込み電圧V)の変化に対する前記曲線部
分121における透過率Tの変化をプロットしたものが
上述した電圧・透過率特性である。その一例を図13に
示す。この図から明らかなように、電圧昇圧時の特性曲
線123と降圧時の特性曲線125との間で透過率Tの
異なる、いわゆるヒステリシス現象が認められる。
In this structure, each pixel LC has a drive waveform as shown in FIG.
Reset pulse 117 with 6.7 ms (60 Hz)
And a write pulse 119 corresponding to each gradation is applied, the transmittance T changes as shown in FIG. At this time, the transmittance in the curved portion 121 is a transmittance substantially corresponding to the write pulse 119. Further, a write pulse 119 having a drive waveform as shown in FIG.
The voltage / transmittance characteristic described above is obtained by plotting the change in the transmittance T in the curved portion 121 with respect to the change in the pulse height (writing voltage V). An example thereof is shown in FIG. As is clear from this figure, a so-called hysteresis phenomenon in which the transmittance T is different between the characteristic curve 123 at the time of voltage boosting and the characteristic curve 125 at the time of voltage reduction is recognized.

【0009】図14は、このヒステリシス現象を定性的
に説明するための図である。図14(b)は図13の曲
線123に相当している。すなわち、黒ドメイン127
を減少させる場合を示しており、駆動の面からみると、
リセット後、白を書き込む必要がある。一方、図14
(a)は黒ドメイン127を増加させる場合を示してお
り駆動面からみるとリッセト後、白を書き込む必要がな
い。すなわち、書込みパルスについてみた場合、黒ドメ
インを減少させる場合は、増加させる場合に比較して、
より大きな電圧を必要とすることになる。このように、
図12(a)のような駆動波形による駆動法を用い、電
荷制御方式により諧調表示を行う場合、必然的に電圧・
透過率特性にヒステリシス現象が生じる。
FIG. 14 is a diagram for qualitatively explaining this hysteresis phenomenon. FIG. 14B corresponds to the curve 123 in FIG. That is, the black domain 127
Shows the case of decreasing
It is necessary to write white after reset. On the other hand, FIG.
(A) shows a case where the black domain 127 is increased, and it is not necessary to write white after resetting when viewed from the driving surface. That is, regarding the write pulse, in the case of decreasing the black domain, as compared with the case of increasing it,
It will require a larger voltage. in this way,
When gray scale display is performed by the charge control method using the driving method based on the driving waveform as shown in FIG.
A hysteresis phenomenon occurs in the transmittance characteristic.

【0010】さらに、上記のようなアクティブマトリク
ス駆動を行い、FLCに対し長時間にわたる直流電圧
(DC)成分を連続的に印加すると、液晶の応答が阻害
され、透過率が次第に減少するフェーディング現象が生
じる。図15は、図12(a)の如き駆動波形を繰り返
して印加した場合、時間tとともに透過率Tがどのよう
に変化するかを示すグラフである。これによれば、繰り
返してパルスを印加すると、時間tの経過とともに透過
率Tが次第に減少する、フェーディング現象を生じるこ
とが明確にわかる。これは、上記DC成分により液晶の
内部イオンの偏在が誘起され、これが電界を形成するた
めと考えらる。
Further, when the active matrix drive as described above is performed and a direct current (DC) component is continuously applied to the FLC for a long time, the response of the liquid crystal is obstructed, and the fading phenomenon that the transmittance gradually decreases. Occurs. FIG. 15 is a graph showing how the transmittance T changes with time t when the driving waveform as shown in FIG. 12A is repeatedly applied. According to this, it is clearly understood that when the pulse is repeatedly applied, the fading phenomenon occurs in which the transmittance T gradually decreases with the passage of time t. It is considered that this is because the DC component induces uneven distribution of internal ions in the liquid crystal, which forms an electric field.

【0011】図16は、このフェーディング現象を説明
するための図である。図12(a)に示す波形の場合、
幾何的にはプラスのDC成分が、液晶にとっては過剰に
印加される。図16は、このDC成分がどのように液晶
に作用するかを示している。すなわち、プラスのDC成
分の印加により、絶縁層部129と液晶11との間に電
荷の蓄積が起こり、そして、この電荷蓄積成分による液
晶分圧がマイナス方向であるため、次第に白書込みがさ
れ難くなる。これに対し、補助パルスによりDC成分を
キャンセルする提案が、本発明者らによりなされてい
る。
FIG. 16 is a diagram for explaining this fading phenomenon. In the case of the waveform shown in FIG.
The geometrically positive DC component is applied excessively to the liquid crystal. FIG. 16 shows how this DC component acts on the liquid crystal. That is, the application of the positive DC component causes the accumulation of electric charge between the insulating layer portion 129 and the liquid crystal 11, and the partial pressure of the liquid crystal due to the electric charge accumulation component is in the negative direction. Become. On the other hand, the present inventors have proposed to cancel the DC component by the auxiliary pulse.

【0012】さらに、フェーディング現象の他の原因と
して、液晶に電圧が印加されると液晶の持つ自発分極P
sにより電荷蓄積が生じ、これにより、自発分極に対し
て偏在する内部イオンが電界を形成することが考えられ
る。これに対しては、リセット区間内に上記自発分極に
対して誘起された内部電界を緩和するような時定数(C
R)を有するFLC材料を用いた素子構成により、自発
分極による作用を次フレームに及ぼすことなく中間調を
安定に形成するという提案がなされている。しかしなが
らFLCのドメイン諧調を行う場合、電極・配向層・F
LC間での電荷の移動が行われると同時に、FLC界面
でのチャージ移動の影響によりドメインが徐々に広がっ
たりして、その緩和時間分程度透過率が一定とらない、
いわゆる不安定性なる現象を生じ、これが特に高諧調を
実現する際に悪影響をおよぼすという問題がある。
Further, as another cause of the fading phenomenon, the spontaneous polarization P of the liquid crystal when a voltage is applied to the liquid crystal.
It is conceivable that charge accumulation occurs due to s, and as a result, internal ions unevenly distributed with respect to spontaneous polarization form an electric field. On the other hand, the time constant (C) for relaxing the internal electric field induced by the spontaneous polarization in the reset section is set.
It has been proposed that the element structure using the FLC material having R) stably forms a halftone without affecting the next frame by the action of spontaneous polarization. However, when performing FLC domain gradation, electrodes, alignment layers, F
At the same time that charge is transferred between LCs, the domain gradually expands due to the effect of charge transfer at the FLC interface, and the transmittance is not constant for the relaxation time.
There is a problem that a phenomenon called so-called instability occurs, which has an adverse effect particularly when realizing a high gradation.

【0013】そして上述のようなヒステリシス現象、フ
ェーディング現象、および不安定性現象は、アクティブ
マトリクス方式で諧調表示を行う場合、画素表示電圧が
一義的に決定できないため、大きな障害となっている。
そこで本発明者らは、電極上に直接配向膜を設け、かつ
その配向膜に隙間構造を有する斜方蒸着膜を用いること
により、アクティブマトリクス駆動において、上記ヒス
テリシス現象、フェーディング現象、および不安定性現
象のない諧調表示を可能にするという提案を行ってい
る。
The above-mentioned hysteresis phenomenon, fading phenomenon, and instability phenomenon are major obstacles when the gradation display is performed by the active matrix method, because the pixel display voltage cannot be uniquely determined.
Therefore, the present inventors provide an alignment film directly on an electrode and use an orthorhombic vapor deposition film having a gap structure in the alignment film, whereby the above hysteresis phenomenon, fading phenomenon, and instability occur in active matrix driving. We are proposing to enable gradation display without phenomena.

【0014】この提案によれば、良好な配向を得ている
が、電極部分のSiOカラムは地下の形状を反映するた
め、地下がITO等の透明電極のように凹凸があると、
SiOカラムの配列に乱れが生じ、配向が局所的に乱れ
る場合もある。さらにこのような凹凸があると、強誘電
性液晶の双安定性が失われるという問題も生ずる。
According to this proposal, a good orientation is obtained, but since the SiO column of the electrode part reflects the shape of the underground, if the underground has irregularities like a transparent electrode such as ITO,
In some cases, the alignment of the SiO columns is disturbed and the orientation is locally disturbed. Further, such unevenness causes a problem that the bistability of the ferroelectric liquid crystal is lost.

【0015】本発明の目的は、このようなヒステリシス
現象、フェーディング現象、および不安定性現象を低減
した液晶素子において、液晶配向性の乱れを防止して均
一なユニフォーム配向とし、かつ安定な双安定性が得ら
れるようにすることにある。また、他の目的は、液晶光
学素子において、前記配向膜の隙間構造によらない他の
手段によって前記不安定性を解消することにある。
It is an object of the present invention to prevent a liquid crystal alignment disorder in a liquid crystal device in which such a hysteresis phenomenon, a fading phenomenon and an instability phenomenon are reduced, and to obtain a uniform uniform alignment, and a stable bistability. The goal is to get the sex. Another object is to eliminate the instability in the liquid crystal optical element by other means that does not depend on the gap structure of the alignment film.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
第1の発明では、強誘電性液晶と、これを挟持する対向
基板と、この対向基板の対向面上に設けられ、強誘電性
液晶に電圧を印加するための電極を有する電圧印加手段
とを備えた液晶光学素子において、この電極面上にはバ
ッファ層を介して斜方蒸着配向膜を形成するとともに、
この配向膜およびバッファ層が前記強誘電性液晶と電極
間の電荷移動を可能にする隙間およびピンホールをそれ
ぞれ有するようにしている。
To achieve the above object, in the first invention, a ferroelectric liquid crystal, a counter substrate sandwiching the ferroelectric liquid crystal, and a ferroelectric liquid crystal provided on the counter surface of the counter substrate are provided. In a liquid crystal optical element provided with a voltage applying means having an electrode for applying a voltage to, while forming an oblique vapor deposition alignment film on the electrode surface via a buffer layer,
The alignment film and the buffer layer have a gap and a pinhole, respectively, which allow the charge transfer between the ferroelectric liquid crystal and the electrode.

【0017】ここで、前記電圧印加手段は、例えば、少
なくとも、前記強誘電性液晶に画素単位で電圧を印加す
るための画素電極、この画素電極に電圧信号を供給する
ための信号配線、この信号配線と画素電極間の接続をオ
ン・オフ制御するためのアクティブスイッチング素子、
およびこのアクティブスイッチング素子に対し、これを
オン・オフ制御する信号を供給するための走査配線を備
え、前記強誘電性液晶のリセットおよび書込みをともに
アクティブマトリクス駆動により行うものである。
Here, the voltage applying means is, for example, at least a pixel electrode for applying a voltage to the ferroelectric liquid crystal in pixel units, a signal wiring for supplying a voltage signal to this pixel electrode, and this signal. An active switching element for controlling on / off of the connection between the wiring and the pixel electrode,
Further, the active switching element is provided with a scanning wiring for supplying a signal for on / off controlling the active switching element, and both resetting and writing of the ferroelectric liquid crystal are performed by active matrix driving.

【0018】前記バッファ層としては無機化合物、例え
ばTiO2-SiOX 、またはTa25 を主成分とする
薄膜が好ましく、その膜厚は、0.005〜0.2μm
が好ましく、0.01〜0.05μmがより好ましい。
The buffer layer is preferably a thin film containing an inorganic compound such as TiO 2 --SiO x or Ta 2 O 5 as a main component, and the thickness thereof is 0.005 to 0.2 μm.
Is preferable, and 0.01-0.05 μm is more preferable.

【0019】また、前記斜方蒸着配向膜の材質は無機酸
化物、例えば、SiO、ZrO2 、またはTiO2 を主
成分とするものが好ましく、そのカラム長は、0.01
〜0.6μm、カラム角度は0〜60°であるのが好ま
しい。
The material of the obliquely vapor-deposited alignment film is preferably an inorganic oxide such as SiO, ZrO 2 or TiO 2 as a main component, and the column length thereof is 0.01.
˜0.6 μm, and the column angle is preferably 0 to 60 °.

【0020】前記配向膜の隙間構造によらない第2の発
明においては、基板と、この基板上に設けた電極と、こ
の電極上に設けた配向膜とをそれぞれ対向面上に有する
一対の対向する電極基板、およびその間に封入された液
晶を備えた液晶光学素子において、配向膜部分に、液晶
部分と電極間の導通を取るためのピンホールを1画素に
つき1つ以上具備するようにしている。配向膜として
は、ポリイミド、ポリピロール、ポリビニルアルコール
等の有機膜を用いることができる。
In the second invention which does not depend on the gap structure of the alignment film, a pair of opposed substrates each having a substrate, an electrode provided on the substrate, and an alignment film provided on the electrode on opposite surfaces, respectively. In the liquid crystal optical element including the electrode substrate and the liquid crystal sealed between the electrode substrates, the alignment film portion is provided with one or more pinholes for establishing conduction between the liquid crystal portion and the electrodes per pixel. .. As the alignment film, an organic film such as polyimide, polypyrrole, or polyvinyl alcohol can be used.

【0021】第1および第2両発明において用いられる
液晶としては、強誘電性を示し、加えられる電界に応じ
て第1の光学的安定状態例えば明状態を形成する状態
と、第2の光学的安定状態例えば暗状態とを形成する状
態を有するもの、即ち電界に対する少なくとも2つの安
定状態を有するカイラルスメクティック液晶が最も好ま
しく、そのうちカイラルスメクティックC相(SmC
* )、H相(SmH* )、I相(SmI* )、F相(S
mF* )、やG相(SmG* )、の液晶が適している。
もちろん、同様な性質を有する他の液晶も用いることが
できる。
The liquid crystal used in both the first and second inventions exhibits ferroelectricity and forms a first optically stable state, for example, a bright state in response to an applied electric field, and a second optical state. A chiral smectic liquid crystal having a state forming a stable state, for example, a dark state, that is, having at least two stable states with respect to an electric field, is most preferable, and among them, a chiral smectic C phase (SmC).
* ), H phase (SmH * ), I phase (SmI * ), F phase (S
Liquid crystals of mF * ) or G phase (SmG * ) are suitable.
Of course, other liquid crystals having similar properties can also be used.

【0022】より具体的には、デシロキシベンジリデン
−P’−アミノ−2−メチルブチルシンナメイト(DO
BAMBC)、ヘキシルオキシベンジリデン−P’−ア
ミノ−2−クロロプロピルシンナメイト(HOBACP
C)および4−ο−(2−メチル)−ブチルレゾルシリ
デン−4’−オクチルアニリン(MBRA8)等の強誘
電性液晶化合物があげられる。
More specifically, desiloxybenzylidene-P'-amino-2-methylbutyl cinnamate (DO
BAMBC), hexyloxybenzylidene-P'-amino-2-chloropropylcinnamate (HOBACP)
Ferroelectric liquid crystal compounds such as C) and 4-o- (2-methyl) -butylresorcylidene-4'-octylaniline (MBRA8).

【0023】これらの材料を用いて素子を構成する場
合、液晶化合物がSmC* 、SmH*、SmI* 、Sm
* 、あるいはSmG* となるような温度状態に保持す
るために、必要に応じて素子をヒータが埋め込まれた銅
ブロック等により支持し、液晶駆動時に熱的制御を行う
ようにしてもよい。
When a device is formed using these materials, the liquid crystal compounds are SmC * , SmH * , SmI * , Sm.
If necessary, in order to maintain the temperature state of F * or SmG * , the element may be supported by a copper block or the like in which a heater is embedded, and thermal control may be performed when the liquid crystal is driven.

【0024】[0024]

【作用】図17は本発明に係る液晶素子を概念的に例示
する模試図である。図中、23aおよび23bはITO
等の透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、
その間に液晶分子層21が基板23a,23bのガラス
面に垂直になるように配向したSmC* 相の液晶が封入
されている。16は液晶分子を表しており、この液晶分
子16はそれに直交した方向に双極子モーメント(P
⊥)17を有している。
FIG. 17 is a schematic diagram conceptually illustrating the liquid crystal element according to the present invention. In the figure, 23a and 23b are ITO
Is a substrate (glass plate) coated with transparent electrodes such as
In the meantime, liquid crystal of SmC * phase, which is oriented so that the liquid crystal molecular layer 21 is perpendicular to the glass surfaces of the substrates 23a and 23b, is enclosed. Reference numeral 16 represents a liquid crystal molecule, and this liquid crystal molecule 16 has a dipole moment (P
⊥) 17.

【0025】このような構成において、基板23a,2
3b上の電極間に一定閾値以上の電圧を印加すると、液
晶分子16の螺旋構造がほどけ、双極子モーメント17
はすべて電界方向に向くように、液晶分子16の配向方
向を変えることができる。液晶分子16は長細い形状を
有しており、その長軸方向と短軸方向とで屈折率異方性
を示す。従って、例えば対向基板23a,23bの外側
に、互いにクロスニコルの位置関係となるように偏光子
を配置することにより、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは、容易に理解さ
れる。更に、液晶セルの厚さを充分に薄くし、例えば1
μmにした場合には、図18に示すように、一定の閾値
以上の極性の異なる電界EまたはE′を付与すると、双
極子モーメント17は電界EまたはE′の電界ベクトル
に対応して上向き(実線17)または下向き(破線1
7′)に向きを変え、それに応じて液晶分子は第1の安
定状態(実線16;明状態)、あるいは第2の安定状態
(破線16′;暗状態)のいずれか一方に配向する。
In such a structure, the substrates 23a, 2
When a voltage of a certain threshold value or more is applied between the electrodes on 3b, the helical structure of the liquid crystal molecules 16 is unraveled, and the dipole moment 17
The orientation direction of the liquid crystal molecules 16 can be changed so that all are oriented in the electric field direction. The liquid crystal molecule 16 has an elongated shape, and exhibits refractive index anisotropy in the major axis direction and the minor axis direction thereof. Therefore, it is easy to understand that by arranging the polarizers on the outer sides of the counter substrates 23a and 23b so as to have a crossed Nicols positional relationship, a liquid crystal optical modulation element whose optical characteristics change depending on the polarity of voltage application is easily understood. To be done. Further, the thickness of the liquid crystal cell is made sufficiently thin, for example, 1
In the case of μm, as shown in FIG. 18, when an electric field E or E ′ having a polarity different from a certain threshold value is applied, the dipole moment 17 is directed upward (corresponding to the electric field vector of the electric field E or E ′). Solid line 17) or downward (dashed line 1)
7 '), and the liquid crystal molecules are oriented to either the first stable state (solid line 16; bright state) or the second stable state (broken line 16'; dark state) accordingly.

【0026】このような強誘電性液晶を有するものを光
学変調素子として用いることの利点は2つある。第1に
応答速度が極めて速いこと、第2に液晶分子の配向が双
安定性を有することである。第2の利点を例えば図18
によって説明すれば、電界Eを印加すると液晶分子は第
1の安定状態(実線16)に配向するが、この状態は電
界を切ってもこの第1の安定状態が維持される。また、
逆向きの電界E′を印加すると液晶分子は第2の安定状
態(破線16′)に配向してその向きを変えるが、電界
を切ってもやはりこの状態を保ち、それぞれの安定状態
でメモリ機能を有する。このような応答速度の速さと、
双安定性を有効に実現するには、素子を構成する液晶セ
ルはできるだけ薄いほうが好ましく、一般的には0.5
〜20μm、望ましくは1〜5μmの厚さが適してい
る。
There are two advantages of using an optical modulator having such a ferroelectric liquid crystal. Firstly, the response speed is extremely fast, and secondly, the alignment of the liquid crystal molecules has bistability. The second advantage is shown in FIG.
The liquid crystal molecules are aligned in the first stable state (solid line 16) when the electric field E is applied, but this state is maintained even when the electric field is cut off. Also,
When an electric field E'in the opposite direction is applied, the liquid crystal molecules are oriented in the second stable state (broken line 16 ') and change their orientation. However, even if the electric field is cut off, this state is maintained and the memory function is maintained in each stable state. Have. With such a fast response speed,
In order to effectively realize the bistability, it is preferable that the liquid crystal cell forming the device is as thin as possible, generally 0.5
A thickness of -20 μm, preferably 1-5 μm is suitable.

【0027】この種の強誘電性液晶を用いかつマトリク
ス電極構造を有する液晶・電気光学装置は、例えば米国
特許4,367,924号や4,840,462号明細
書で提案されている。このような構造の場合において、
外部から電圧を印加して駆動するとき、液晶と電極間の
膜厚方向のチャージのやりとりがスムーズに行われる
と、前記外部電圧DC成分と自発分極によるイオン偏在
が素早く緩和される。しかしながら、従来の配向膜材料
は一般的には抵抗が高く絶縁効果が大きい。
A liquid crystal / electro-optical device using this type of ferroelectric liquid crystal and having a matrix electrode structure has been proposed, for example, in US Pat. Nos. 4,367,924 and 4,840,462. In the case of such a structure,
When driving is performed by applying a voltage from the outside, if the exchange of charges in the film thickness direction between the liquid crystal and the electrodes is smoothly performed, the uneven distribution of ions due to the DC component of the external voltage and spontaneous polarization can be quickly alleviated. However, conventional alignment film materials generally have high resistance and a large insulating effect.

【0028】これに対し本発明では、配向膜およびバッ
ファ層が、強誘電性液晶と電極間の電荷移動を可能にす
る隙間およびピンホールをそれぞれ有するようにし、あ
るいは液晶・電極間の導通をとめるためのピンホールを
画素内に1カ所あるいはそれ以上設けるようにしている
ため、前記外部電圧DC成分と自発分極によるイオン偏
在の影響が改善され、したがって所望の中間調が安定し
て表示されるようになる。
On the other hand, in the present invention, the alignment film and the buffer layer each have a gap and a pinhole for allowing the charge transfer between the ferroelectric liquid crystal and the electrode, or the conduction between the liquid crystal and the electrode is stopped. Since one or more pinholes are provided in the pixel for improving the influence of the uneven distribution of ions due to the DC component of the external voltage and the spontaneous polarization, a desired halftone can be stably displayed. become.

【0029】また、バッファ層により、地下の電極形状
の影響が減少され、斜方蒸着配向膜のSiOカラム等の
配列に乱れが生じることもなく、したがって、配向の乱
れも防止され、強誘電性液晶の双安定性が保持される。
In addition, the buffer layer reduces the influence of the shape of the underground electrode, and does not disturb the arrangement of the SiO column or the like of the obliquely vapor-deposited alignment film. Therefore, the disorder of the alignment is prevented and the ferroelectricity is improved. The bistability of the liquid crystal is retained.

【0030】[0030]

【実施例】実施例1 図2は本発明の第1の実施例に係る光学変調素子の基本
的な構成を示す断面図である。同図において、23aと
23bは基板、22aと22bはそれぞれ基板23aと
23b上に形成されたITO膜からなる透明電極、21
aと21bはそれぞれ透明電極22aと22b上に形成
されたバッファ層、20aと20bはそれぞれバッファ
層21aと21b上に形成されたSiOからなる斜方蒸
着配向膜であり、これらにより電極基板25aおよび2
5bが構成される。24は配向膜20a,20b間に配
置された強誘電性液晶である。透明電極22a,22b
は、画素電極およびこれに対する対向電極を含む。配向
膜20a,20bおよびバッファ層21a,21bに
は、強誘電性液晶24と電極22a,22bとの間の電
荷移動を可能にする隙間およびピンホールをそれぞれ有
する。
EXAMPLE 1 FIG. 2 is a sectional view showing the basic structure of an optical modulation element according to a first example of the present invention. In the figure, 23a and 23b are substrates, 22a and 22b are transparent electrodes made of an ITO film formed on the substrates 23a and 23b, respectively.
a and 21b are buffer layers formed on the transparent electrodes 22a and 22b, respectively, and 20a and 20b are oblique vapor deposition alignment films made of SiO and formed on the buffer layers 21a and 21b, respectively. Two
5b is constructed. Reference numeral 24 is a ferroelectric liquid crystal disposed between the alignment films 20a and 20b. Transparent electrodes 22a, 22b
Includes a pixel electrode and a counter electrode for the pixel electrode. The alignment films 20a and 20b and the buffer layers 21a and 21b have gaps and pinholes, respectively, which allow charge transfer between the ferroelectric liquid crystal 24 and the electrodes 22a and 22b.

【0031】基板23a,23bは1.1mm厚の両面
研磨処理を施したHOYA製NA40無アルカリガラス
であり、ITO膜22a,22bはO2 中の反応性イオ
ンプレーティング法により700Åの厚さで形成したも
のである。バッファ層21a,21bはTiO2 −Si
2 を含有した有機溶液(商品名:MOF)をスピナー
塗布した後、300℃で燒結することにより、800Å
の厚さで形成したものである。
The substrates 23a and 23b are HOYA NA40 non-alkali glass with a double-sided polishing process having a thickness of 1.1 mm, and the ITO films 22a and 22b have a thickness of 700 Å by the reactive ion plating method in O 2. It was formed. The buffer layers 21a and 21b are made of TiO 2 --Si.
After applying an organic solution containing O 2 (trade name: MOF) by a spinner and sintering at 300 ° C., 800Å
It is formed with a thickness of.

【0032】斜方蒸着配向膜20a,20bは図3に示
す蒸着装置を用いて作製したものである。図3におい
て、30は真空チャンバ、31は斜方蒸着配向膜20
a,20bが形成される基板、32はSiOの蒸発源で
あるチムニーるつぼ、33はこの蒸発源の電源、34は
スリット、35は基板31を送るローラ、36はロータ
リーポンプ、37はメカニカルブースターポンプ、38
はクライオポンプ、39は切替えバルブである。
The oblique vapor deposition alignment films 20a and 20b are produced by using the vapor deposition apparatus shown in FIG. In FIG. 3, 30 is a vacuum chamber, 31 is an oblique vapor deposition alignment film 20.
a substrate on which a and 20b are formed, 32 a chimney crucible as an evaporation source of SiO, 33 a power source of this evaporation source, 34 a slit, 35 a roller for sending the substrate 31, 36 a rotary pump, 37 a mechanical booster pump , 38
Is a cryopump and 39 is a switching valve.

【0033】この蒸着装置において、るつぼ32から放
出されるSiO粒子はスリット34を経て基板31に達
する。一方、ローラ35は角速度ωで回転し、これによ
り基板31も一定速度vで移動する。また、基板31に
対しては、図中に示す如く、スリット34により基板3
1面に対しθの角度成分を有するSiO粒子のみが到達
できる。表1はこの装置における蒸着条件を示す。
In this vapor deposition apparatus, the SiO particles emitted from the crucible 32 reach the substrate 31 through the slit 34. On the other hand, the roller 35 rotates at an angular velocity ω, which causes the substrate 31 to move at a constant velocity v. Further, as shown in FIG.
Only SiO particles having an angle component of θ with respect to one surface can reach. Table 1 shows vapor deposition conditions in this apparatus.

【0034】[0034]

【表1】 このようにして形成されるSiO斜方蒸着配向膜20
a,20b上にギャップ剤として1.5μmΦのシリカ
ビーズをスピナー塗布し乾燥した後、シール剤を印刷
し、電極基板25aと25bとを接着してセルを構成
し、その中に強誘電性液晶を真空注入することにより素
子が構成される。
[Table 1] The SiO oblique vapor deposition alignment film 20 thus formed
After applying silica beads of 1.5 μmΦ as a gap agent onto a and 20b by a spinner and drying, a sealing agent is printed and the electrode substrates 25a and 25b are adhered to form a cell, in which a ferroelectric liquid crystal is formed. Is vacuum-injected to form the device.

【0035】図1はこの光学変調素子の拡大断面図であ
る。図2と対応する部分は同じ番号で示してある。図1
において、6はTFT、8はITOからなる画素電極、
5は対向電極、9はSiO斜方蒸着配向膜を形成するS
iOカラムである。TFT6は画素電極8に接続してお
り、ゲート信号によりスイッチングして、書込み信号V
Wまたはリセット信号VRを画素電極8に導いている。
対向電極5側も配向膜は上記と同様に構成され、対向電
極5はアース電位に保たれている。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of this optical modulator. Portions corresponding to those in FIG. 2 are indicated by the same numbers. Figure 1
In, 6 is a TFT, 8 is a pixel electrode made of ITO,
5 is a counter electrode, 9 is S for forming an SiO oblique vapor deposition alignment film
iO column. The TFT 6 is connected to the pixel electrode 8 and is switched by the gate signal to write the write signal V
The W or reset signal VR is led to the pixel electrode 8.
The orientation film on the side of the counter electrode 5 is also configured in the same manner as above, and the counter electrode 5 is kept at the ground potential.

【0036】図4は、このように構成された素子を図1
2(a)の如き一定のリセットおよび書込み信号で連続
的にアクティブ駆動させた時の、書込み電圧・透過率
(V−T)特性を示すグラフである。従来のラビング配
向膜を有する素子のV−T特性42と比較すると本実施
例の素子におけるV−T特性41においては明らかにヒ
ステリシスが減少している。
FIG. 4 shows a device constructed in this manner as shown in FIG.
3 is a graph showing write voltage / transmittance (VT) characteristics when continuously driven by a constant reset and write signal as in 2 (a). Compared with the VT characteristic 42 of the element having the conventional rubbing alignment film, the VT characteristic 41 of the element of the present example clearly has a reduced hysteresis.

【0037】図5は、黒リセット放置時間t1 の変化に
対する全白書込み応答時間t2 の変化の様子を示すグラ
フである。図中、曲線51は実施例の光学変調素子の場
合を示し、破線曲線52は従来のラビング配向膜を用い
た光学変調素子の場合を示す。これによれば、明らかに
上述した不安定性が解消されていることがわかる。
FIG. 5 is a graph showing changes in the all-white writing response time t 2 with respect to changes in the black reset leaving time t 1 . In the figure, a curve 51 shows the case of the optical modulation element of the embodiment, and a broken line curve 52 shows the case of the optical modulation element using the conventional rubbing alignment film. According to this, it is clear that the above-mentioned instability is resolved.

【0038】図6は、時間経過に伴う相対透過率変化を
示すグラフであり、61は本実施例の場合、62は従来
例の場合を示す。
FIG. 6 is a graph showing the change in relative transmittance with the passage of time, where 61 is the case of this embodiment and 62 is the case of the conventional example.

【0039】図7は、一定時間t『黒』放置した後、
『白』中間調書込みをした場合の透過率Tの変化を示す
グラフである。図中、曲線71は本実施例の素子の場合
を示し、破線曲線72は従来の場合を示す。従来のラビ
ング配向膜の場合と比較すると本実施例の場合はフェー
ディング現象がほとんど見られないことがわかる。
FIG. 7 shows that after left for a certain time t "black",
6 is a graph showing a change in transmittance T when "white" halftone writing is performed. In the figure, a curved line 71 indicates the case of the device of this example, and a broken line curved line 72 indicates the conventional case. In comparison with the case of the conventional rubbing alignment film, it can be seen that the fading phenomenon is hardly seen in the case of this example.

【0040】このように、強誘電性液晶の諧調表示を行
う際に生じる問題点が解消される理由は次のように説明
される。即ち、図1に模試的に示したように、SiO斜
方蒸着により成膜したSiOのカラム9は隙間構造を有
しているため、バッファ層21a,21bが部分的に露
出しており、かつ地下のバッファ層21a,21bが非
常に薄くてその中に適度にピンホールが存在するため、
電極5(22a),8(22b)と液晶層24との間で
導通がとれている。このため強誘電性液晶24に印加さ
れる書込み電圧VWとリセット電圧VR間の、図12で
示したようなDCアンバランスにより生じるイオン(こ
の場合マイナスイオン)の電極8上への蓄積が生じたと
しても、この界面での電子の授受により、上記イオンが
中和されると考えられる。この中和現象は画素電極8に
対向するアース電極5においても同様に生じていると考
えられる。従って前述した従来例の如きイオンの配向膜
面上への蓄積により発生する抗電界が形成されないた
め、上記問題が解消されるものと考えられる。
The reason why the problem that occurs when the gradation display of the ferroelectric liquid crystal is performed is solved is explained as follows. That is, as schematically shown in FIG. 1, since the SiO column 9 formed by SiO oblique deposition has a gap structure, the buffer layers 21a and 21b are partially exposed, and Since the underground buffer layers 21a and 21b are very thin and there are appropriate pinholes in them,
The electrodes 5 (22a) and 8 (22b) are electrically connected to the liquid crystal layer 24. For this reason, ions (in this case, negative ions) caused by the DC imbalance as shown in FIG. 12 between the write voltage VW and the reset voltage VR applied to the ferroelectric liquid crystal 24 are accumulated on the electrode 8. Also, it is considered that the above-mentioned ions are neutralized by the transfer of electrons at this interface. It is considered that this neutralization phenomenon similarly occurs in the ground electrode 5 facing the pixel electrode 8. Therefore, it is considered that the above-mentioned problem is solved because the coercive electric field generated by the accumulation of ions on the surface of the alignment film as in the above-mentioned conventional example is not formed.

【0041】本実施例の光学変調素子の配向状態を偏光
顕微鏡により観察したところ、均一なユニフォーム配向
となっていた。更に、等方相まで昇温し再配向処理を行
ったところ、SmC* 相の温度域で完全な双安定状態を
示した。また、チルト角θaを測定したところθa =1
4〜14.5°であり、注入した強誘電性液晶24のコ
ーン角ΘはΘ〜15°程度であることから考え、ほぼ強
誘電性液晶24のコーン角Θに近いところまでセルのチ
ルト角θa が開いていることがわかった。
When the alignment state of the optical modulation element of this example was observed with a polarization microscope, it was found to be uniform uniform alignment. Further, when the temperature was raised to the isotropic phase and the re-orientation treatment was performed, a perfect bistable state was exhibited in the temperature range of the SmC * phase. When the tilt angle θ a was measured, θ a = 1
It is 4 to 14.5 °, and the cone angle Θ of the injected ferroelectric liquid crystal 24 is about Θ to 15 °. Considering that the cone angle Θ of the ferroelectric liquid crystal 24 is almost the same as the tilt angle of the cell. It was found that θ a was open.

【0042】さらに、基板23a,23bを80μm厚
の薄膜ガラスで構成して同様の素子を作製し、X線回路
折法によりその層構造を測定した。図8は、そのX線回
折パターンを示すグラフである。同図において、回折ピ
ークが1つのみ見られることから、液晶24の層構造は
図9に示すような斜めブックシェルフ構造となっている
ことがわかる。
Further, the substrates 23a and 23b were made of thin film glass having a thickness of 80 μm to prepare a similar device, and the layer structure thereof was measured by the X-ray circuit folding method. FIG. 8 is a graph showing the X-ray diffraction pattern. In the figure, since only one diffraction peak is seen, it can be seen that the layer structure of the liquid crystal 24 is an oblique bookshelf structure as shown in FIG.

【0043】実施例2 バッファ層21a,21bとしてTa25 を電子ビー
ム蒸着法を用いて800Åの厚さで形成し、その上に実
施例1と同様の斜方蒸着配向膜を、ベース圧が〜10-7
torr.、蒸着速度を5Å/sec、図3におけるθ
が85°という条件下で成膜した。そして、他は実施例
1と同様にして素子を作成し、その配向状態、V−T特
性のヒステリシス、不安定性、およびフェーディング現
象を測定した。その結果、配向は均一なユニフォーム配
向であり、かつ双安定あった。また、ヒステリシス、不
安定性、およびフェーディング現象が大幅に減少してい
ることを確認した。
Example 2 As the buffer layers 21a and 21b, Ta 2 O 5 was formed to a thickness of 800 Å by using the electron beam evaporation method, and an oblique vapor deposition alignment film similar to that of Example 1 was formed thereon with a base pressure. Is -10 -7
torr. , Deposition rate 5Å / sec, θ in Fig. 3
Was formed at a temperature of 85 °. An element was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above, and the orientation state, hysteresis of VT characteristics, instability, and fading phenomenon were measured. As a result, the orientation was a uniform uniform orientation and was bistable. It was also confirmed that hysteresis, instability, and fading phenomenon were significantly reduced.

【0044】実施例3 バッファ層21a,21bを実施例1と同様とし、斜方
蒸着配向膜20a,20b(9)を、実施例1と同様の
装置でSiOのかわりにZrO2 を用いて成膜した。こ
の成膜は、ベース圧が〜10-7torr.、蒸着速度が
5Å/sec、図3のθが85°の条件下で行い、斜方
蒸着膜20a,20bのカラム長は400Åであった。
そして他は実施例1と同様にして素子を作成し、その配
向状態、V−T特性のヒステリシス、不安定性、および
フェーディング現象を測定した。その結果、配向は均一
なユニフォーム配向でかつ双安定あった。また、ヒステ
リシス、不安定性、およびフェーディング現象が大幅に
減少していることを確認した。
Example 3 The buffer layers 21a and 21b are the same as in Example 1, and the oblique vapor deposition alignment films 20a and 20b (9) are formed in the same apparatus as in Example 1 using ZrO 2 instead of SiO. Filmed This film has a base pressure of -10 -7 torr. The vapor deposition rate was 5Å / sec and θ in FIG. 3 was 85 °, and the column length of the oblique vapor deposition films 20a and 20b was 400Å.
An element was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above, and the orientation state, hysteresis of VT characteristics, instability, and fading phenomenon were measured. As a result, the orientation was uniform and uniform and bistable. It was also confirmed that hysteresis, instability, and fading phenomenon were significantly reduced.

【0045】実施例4 バッファ層21a,21bを実施例1と同様とし、斜方
蒸着配向膜20a,20bを、実施例1と同様の装置で
SiOのかわりにTiO2 を用いて成膜した。この成膜
は、ベース圧が〜10-7torr.、蒸着速度が5Å/
sec、図3のθが85°の条件下で行い、斜方蒸着膜
20a,20bのカラム長は400Åであった。そし
て、他は実施例1と同様にして素子を作成し、その配向
状態、V−T特性のヒステリシス、不安定性、およびフ
ェーディング現象を測定した。その結果、配向は均一な
ユニフォーム配向でかつ双安定あった。またヒステリシ
ス、不安定性、およびフェーディング現象が大幅に減少
していることを確認した。
Example 4 The buffer layers 21a and 21b were the same as in Example 1, and the oblique vapor deposition alignment films 20a and 20b were formed in the same apparatus as in Example 1 using TiO 2 instead of SiO 2 . This film has a base pressure of -10 -7 torr. , Deposition rate is 5Å /
sec, θ in FIG. 3 was 85 °, and the column length of the obliquely evaporated films 20a and 20b was 400Å. An element was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above, and the orientation state, hysteresis of VT characteristics, instability, and fading phenomenon were measured. As a result, the orientation was uniform and uniform and bistable. It was also confirmed that hysteresis, instability, and fading phenomenon were significantly reduced.

【0046】実施例5 バッファ層21a,21bを、Ta25 を電子ビーム
蒸着法を用いて800Åの厚さで形成し、その上に斜方
蒸着配向膜20a,20bをSiOのかわりにZrO2
を用い、ベース圧が〜10-7torr.、蒸着速度が5
Å/sec、図3のθが85°の条件下で成膜した。そ
して、他は実施例1と同様にして素子を作成し、その配
向状態、V−T特性のヒステリシス、不安定性、および
フェーディング現象を測定した。その結果、配向は均一
なユニフォーム配向でありかつ双安定あった。また、ヒ
ステリシス、不安定性、およびフェーディング現象が大
幅に減少していることを確認した。
Example 5 The buffer layers 21a and 21b were formed by forming Ta 2 O 5 to a thickness of 800 Å by using electron beam evaporation, and the oblique vapor deposition alignment films 20a and 20b were formed on the buffer layers 21a and 21b instead of ZrO. 2
With a base pressure of -10 -7 torr. , Deposition rate is 5
The film was formed under the condition of Å / sec and θ of 85 ° in FIG. An element was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above, and the orientation state, hysteresis of VT characteristics, instability, and fading phenomenon were measured. As a result, the orientation was a uniform uniform orientation and bistable. It was also confirmed that hysteresis, instability, and fading phenomenon were significantly reduced.

【0047】実施例6 図19は本発明の第6の実施例を示す。同図は液晶素子
の1画素の電極界面の断面を示す。この素子は次のよう
にして作製される。まず、ガラス基板23上にITO等
の透明電極22を反応性スパッタ等により1000〜1
500Å程度の膜厚で膜形成し、その上にポリイミドを
スピナー塗布した後、150℃でベークし、500〜1
000Åの膜を形成する。次に、このポリイミド膜上に
シリコン含有レジスト例えばSNR(商品名:東洋曹達
社製)を、スピナー塗布およびベーク処理によって約3
00〜500Åの厚さに膜形成する。次に、このレジス
トに電子ビーム描写を行い径0.1〜2μmのスペース
パターンを形成する。このとき、材料によっては基板を
例えば100〜350℃に加熱してもよい。また、電子
ビームの代わりにレーザ等を用いてもよい。
Embodiment 6 FIG. 19 shows a sixth embodiment of the present invention. This figure shows a cross section of the electrode interface of one pixel of the liquid crystal element. This device is manufactured as follows. First, the transparent electrode 22 made of ITO or the like is formed on the glass substrate 23 by reactive sputtering or the like for 1000 to 1
After forming a film with a film thickness of about 500Å, spinner coating the polyimide on it, bake at 150 ℃, 500 ~ 1
Form a film of 000Å. Next, a silicon-containing resist, such as SNR (trade name: manufactured by Toyo Soda Co., Ltd.), is applied to the polyimide film by spinner coating and baking treatment to obtain about 3
A film is formed to a thickness of 00 to 500Å. Next, an electron beam is drawn on this resist to form a space pattern having a diameter of 0.1 to 2 μm. At this time, the substrate may be heated to, for example, 100 to 350 ° C. depending on the material. A laser or the like may be used instead of the electron beam.

【0048】次に、このレジストをマスクにしてポリイ
ミドをエッチングする。エッチングは例えば、O2 ガス
を用い、パワー130W、圧力1〜5Paといった条件
でRIE装置で行う。この後、マスクをエッチング除去
する。これにより、前記スペースパターンに対応するピ
ンホール26を有する配向膜20が形成される。このエ
ッチングは、フッ素系ガス例えばCF4 +H2 を用いて
RIE装置によって行う。あるいはフッ酸に浸積して除
去しても良い。
Next, the polyimide is etched using this resist as a mask. For example, the etching is performed with an RIE device under the conditions of a power of 130 W and a pressure of 1 to 5 Pa using O 2 gas. After that, the mask is removed by etching. As a result, the alignment film 20 having the pinholes 26 corresponding to the space pattern is formed. This etching is performed by a RIE device using a fluorine-based gas such as CF 4 + H 2 . Alternatively, it may be removed by immersing it in hydrofluoric acid.

【0049】次に、このようにして形成した2枚の電極
基板に対し、ポリイミド表面にラビング処理を施し、こ
れら基板を、ラビング面を内側にして向かい合わせて1
〜5μm程度のギャップを有するセルを形成し、液晶を
真空注入する。
Next, the two electrode substrates thus formed are subjected to a rubbing treatment on the polyimide surface, and these substrates are placed facing each other with the rubbing surface inside.
A cell having a gap of about 5 μm is formed, and liquid crystal is injected under vacuum.

【0050】このようにして形成された、画素内にピン
ホール箇所を有する液晶素子を、外部から電圧を印加し
て駆動しようとする場合、液晶・電極間において、配向
膜20の膜厚方向のチャージの授受が極めてスムーズに
行なわれる。これによって、前記外部電圧DC成分と自
発分極に起因するイオン偏在を素早く緩和することがで
きる。また、この構成によれば、液晶を配向させるため
のラビング処理等は従来通りに行なうことができ、ピン
ホールの大きさも0.1〜2μm程度とすれば配向状態
への影響は極めて少ない。
When the liquid crystal element having pinholes in the pixel formed in this way is to be driven by applying a voltage from the outside, the alignment film 20 in the film thickness direction is arranged between the liquid crystal and the electrodes. Transfer of charges is extremely smooth. As a result, it is possible to quickly alleviate the uneven distribution of ions due to the external voltage DC component and spontaneous polarization. Further, according to this structure, the rubbing treatment for aligning the liquid crystal can be performed as usual, and if the size of the pinhole is about 0.1 to 2 μm, the influence on the alignment state is extremely small.

【0051】さらにまた、特にテレビレート等の高周波
数で諧調を表示する際には、液晶および配向膜ともに抵
抗値を下げ時定数を小さくする等の手段も実用的である
が、その場合は材料の抵抗値を下げることにより液晶・
配向膜界面でのチャージのやり取りはスムーズになるも
のの、これがドメイン広がりの傾向も増大させる。これ
に対し、前記ピンホール構成によれば、膜厚方向にはチ
ャージ緩和が素早く行なわれるのに対し、ドメイン広が
りへの影響なしに所望の中間調を安定して表示すること
ができる。
Further, especially when displaying a gradation at a high frequency such as a television rate, it is also practical to reduce the resistance of both the liquid crystal and the alignment film to reduce the time constant. By lowering the resistance value of
Although the exchange of charges at the alignment film interface is smooth, this also increases the tendency of domain expansion. On the other hand, according to the pinhole structure, while the charge is rapidly relaxed in the film thickness direction, a desired halftone can be stably displayed without affecting the domain spread.

【0052】実施例7 図20は本発明の第7の実施例を示す。同図は液晶素子
の1画素の電極界面の断面を示す。この素子は次のよう
にして作成される。まず、ガラス基板23上にITO等
の透明電極22を1000〜1500Å程度の厚さで反
応性スパッタ等により形成し、その上にポリイミドをス
ピナー塗布した後、約150℃でベークし、300〜5
00Åの絶縁膜28を形成する。次に、このポリイミド
膜上にシリコン含有レジスト例えばSNR(商品名:東
洋曹達社製)を、スピナー塗布およびベーク処理するこ
とによって約300〜500Åの厚さに膜形成する。
Embodiment 7 FIG. 20 shows a seventh embodiment of the present invention. This figure shows a cross section of the electrode interface of one pixel of the liquid crystal element. This device is manufactured as follows. First, a transparent electrode 22 made of ITO or the like is formed on the glass substrate 23 with a thickness of about 1000 to 1500 Å by reactive sputtering or the like, and a polyimide is spinner-coated on the transparent electrode 22 and then baked at about 150 ° C. for 300 to 5
An insulating film 28 of 00Å is formed. Next, a silicon-containing resist, for example, SNR (trade name: manufactured by Toyo Soda Co., Ltd.) is spinner-coated and baked on the polyimide film to form a film having a thickness of about 300 to 500 Å.

【0053】次にこのレジストに電子ビーム描写を行い
径0.1〜3μmのスペースパターンを形成する。この
とき、材料によっては基板を例えば100〜350℃に
加熱してもよい。また、電子ビームの代わりにレーザ等
を用いてもよい。あるいは、該ポリイミド上にSiO2
をスパッタ等で300〜500Åの厚さに膜形成し、更
に、SiO2 上にPMMA(ポリメチルメタクリレー
ト)のパターニングを通常のフォトリソ工程によって行
なうことにより、所望のスペースパターンを形成して用
いても良い。
Next, an electron beam is drawn on this resist to form a space pattern having a diameter of 0.1 to 3 μm. At this time, the substrate may be heated to, for example, 100 to 350 ° C. depending on the material. A laser or the like may be used instead of the electron beam. Alternatively, SiO 2 is formed on the polyimide.
Is formed into a film with a thickness of 300 to 500 Å by sputtering, and PMMA (polymethylmethacrylate) is patterned on SiO 2 by an ordinary photolithography process to form a desired space pattern. good.

【0054】次に、このようにして形成したレジストを
マスクにして、ポリイミドをO2 ガスによってRIE装
置でエッチングする。この後、マスクをエッチングによ
り除去する。これにより、ピンホール26を有する絶縁
膜28が形成される。このエッチングはフッ素系ガス例
えばCF4 +H2 を用いてRIE装置によって行う。あ
るいはフッ酸に浸積して除去しても良い。その後、FL
Cを配向させるために例えばSiO斜方蒸着法により、
カラム29を形成する。上記ピンホールパターンはこの
カラム系より充分大きい。
Next, using the resist thus formed as a mask, the polyimide is etched by O 2 gas in an RIE apparatus. After that, the mask is removed by etching. As a result, the insulating film 28 having the pinhole 26 is formed. This etching is performed by a RIE device using a fluorine-based gas such as CF 4 + H 2 . Alternatively, it may be removed by immersing it in hydrofluoric acid. Then FL
In order to orient C, for example, by the SiO oblique deposition method,
The column 29 is formed. The pinhole pattern is much larger than this column system.

【0055】最後に、このように形成した2枚の電極基
板を、カラム面を内側にして向かい合わせ、1〜5μm
程度のギャップを有するセルを形成し液晶を真空注入す
ることにより素子が完成する。
Finally, the two electrode substrates thus formed are faced to each other with the column surface facing inward, and 1 to 5 μm.
The device is completed by forming a cell having a certain gap and vacuum-injecting liquid crystal.

【0056】以上のような工程を経て形成された、画素
内にピンホール箇所を有する液晶素子を、外部から電圧
を印加して駆動しようとする場合、外部電圧のDC成分
と自発分極に起因するイオン偏在を素早く緩和すること
ができる。
When a liquid crystal element having a pinhole portion in a pixel formed through the above steps is to be driven by applying a voltage from the outside, it is caused by the DC component of the external voltage and spontaneous polarization. The uneven distribution of ions can be quickly alleviated.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、バ
ッファ層を介して斜方蒸着配向膜を形成し、この配向膜
およびバッファ層は前記強誘電性液晶と電極間の電荷移
動を可能にする隙間およびピンホールをそれぞれ有する
ようにしたため、あるいは配向膜部分に、液晶部分と電
極間の導通を取るためのピンホールを1画素につき1つ
以上具備するようにしたため、均一なユニフォーム配向
のかつ完全な双安定状態の配向が得られ、外部電圧DC
成分とFLC分子自身が有する自発分極に起因するイオ
ン偏在を素早く緩和することができ、特に、強誘電性液
晶を用いたアクティブマトリクス駆動による諧調表示を
行なう場合に特有の電圧・透過率特性のヒステリシス現
象、不安定性およびフェーディング現象を解消させ、所
望の中間調を安定して得ることができる。
As described above, according to the present invention, the oblique vapor deposition alignment film is formed through the buffer layer, and the alignment film and the buffer layer enable the charge transfer between the ferroelectric liquid crystal and the electrode. Since each pixel has one or more pinholes for establishing conduction between the liquid crystal part and the electrode in the alignment film portion, it has uniform uniform alignment. And a perfect bistable state orientation is obtained, and the external voltage DC
It is possible to quickly alleviate the uneven distribution of ions due to the spontaneous polarization of the component and the FLC molecule itself, and especially the hysteresis of the voltage / transmittance characteristic peculiar to gray scale display by active matrix driving using a ferroelectric liquid crystal. It is possible to eliminate the phenomenon, instability and fading phenomenon and stably obtain a desired halftone.

【0058】また、配向膜部分に、液晶部分と電極間の
導通を取るためのピンホールを1画素につき1つ以上具
備するようにしたため、外部電圧DC成分とFLC分子
自身が有する自発分極に起因するイオン偏在を素早く緩
和することができ、特に高諧調表示を行なう際に液晶の
反応を疎外することなく、所望の中間調を安定して得る
ことができる。
Further, since the alignment film portion is provided with one or more pinholes for establishing conduction between the liquid crystal portion and the electrode per pixel, it is caused by the external voltage DC component and the spontaneous polarization of the FLC molecule itself. It is possible to quickly alleviate the uneven distribution of ions, and it is possible to stably obtain a desired halftone without alienating the reaction of the liquid crystal particularly when performing high gradation display.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1実施例に係る光学変調素子の拡
大断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of an optical modulator according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第1の実施例に係る光学変調素子の
基本的な構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the basic configuration of the optical modulation element according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 図1の素子の配向膜を作製する装置の構成図
である。
3 is a configuration diagram of an apparatus for producing an alignment film of the element of FIG.

【図4】 図1の光学変調素子と従来の素子との書込み
電圧・透過率特性を比較して示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a comparison of write voltage / transmittance characteristics between the optical modulation element of FIG. 1 and a conventional element.

【図5】 黒リセット放置時間t1 の変化に対する全白
書込み応答時間t2の変化の様子を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing how the all-white writing response time t 2 changes with respect to the black reset leaving time t 1 .

【図6】 時間経過に伴う相対透過率変化を、第1実施
例の場合、および従来例の場合について示す示すグラフ
である。
FIG. 6 is a graph showing changes in relative transmittance with time, in the case of the first embodiment and the case of the conventional example.

【図7】 一定時間t『黒』放置した後、『白』中間調
書込みをした場合の透過率Tの変化を、第1実施例の場
合および従来例の場合について示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing changes in the transmittance T in the case of performing “white” halftone writing after being left for a certain time t “black”, in the case of the first embodiment and the case of the conventional example.

【図8】 図1の光学変調素子のX線回折パターンのグ
ラフである。
8 is a graph of an X-ray diffraction pattern of the optical modulator of FIG.

【図9】 図1の光学変調素子の層構造を示す模試的断
面図である。
9 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the optical modulator of FIG.

【図10】 従来例に係る液晶素子の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a liquid crystal element according to a conventional example.

【図11】 従来例に係る強誘電性液晶素子を用いてア
クティブマトリクス駆動で諧調表示を行うときの等価回
路図である。
FIG. 11 is an equivalent circuit diagram when gray scale display is performed by active matrix driving using a ferroelectric liquid crystal element according to a conventional example.

【図12】 液晶素子における駆動波形とそれによる透
過率変化を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a drive waveform in a liquid crystal element and a change in transmittance due to the drive waveform.

【図13】 図10の液晶素子における電圧・透過率特
性曲線のグラフである。
13 is a graph of a voltage / transmittance characteristic curve in the liquid crystal element of FIG.

【図14】 ヒステリシス現象を定性的に説明するため
の説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram for qualitatively explaining a hysteresis phenomenon.

【図15】 図10の素子における駆動波形を連続印加
した場合の透過率変化を示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing changes in transmittance when the drive waveform is continuously applied to the device of FIG.

【図16】 フェーディング現象を説明するための模試
図である。
FIG. 16 is a schematic diagram for explaining a fading phenomenon.

【図17】 本発明に係る液晶素子を概念的に例示する
模試図である。
FIG. 17 is a schematic diagram conceptually illustrating a liquid crystal element according to the present invention.

【図18】 図17の素子における電界による配向の変
化を示す模試図である。
18 is a schematic diagram showing a change in orientation due to an electric field in the device of FIG.

【図19】 本発明の第6の実施例に係る液晶素子の電
極界面の断面図である。
FIG. 19 is a sectional view of an electrode interface of a liquid crystal device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図20】 本発明の第7の実施例に係る液晶素子の電
極界面の断面図である。
FIG. 20 is a sectional view of an electrode interface of a liquid crystal device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図21】 他の従来例に係る液晶素子の構成を示す断
面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal element according to another conventional example.

【符号の説明】 9:SiOカラム、23,23a,23b:基板、2
2,22a,22b:電極、20,20a,20b:配
向膜、26:ピンホール、28:絶縁膜、24:FLC
[Explanation of reference numerals] 9: SiO column, 23, 23a, 23b: substrate, 2
2, 22a, 22b: electrodes, 20, 20a, 20b: alignment film, 26: pinhole, 28: insulating film, 24: FLC

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 智子 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Tomoko Murakami 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc.

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 強誘電性液晶と、これを挟持する対向基
板と、この対向基板の対向面上に設けられ、強誘電性液
晶に電圧を印加するための電極を有する電圧印加手段と
を備えた液晶光学変調素子において、この電極面上には
バッファ層を介して斜方蒸着配向膜が形成されていると
ともに、この配向膜およびバッファ層は前記強誘電性液
晶と電極間の電荷移動を可能にする隙間およびピンホー
ルをそれぞれ有することを特徴とする液晶光学変調素
子。
1. A ferroelectric liquid crystal, an opposing substrate sandwiching the ferroelectric liquid crystal, and a voltage applying unit having an electrode for applying a voltage to the ferroelectric liquid crystal, the electrode being provided on an opposing surface of the opposing substrate. In the liquid crystal optical modulation element, an oblique vapor deposition alignment film is formed on the electrode surface via a buffer layer, and the alignment film and the buffer layer enable charge transfer between the ferroelectric liquid crystal and the electrode. A liquid crystal optical modulation element having a gap and a pinhole, respectively.
【請求項2】 前記電圧印加手段は少なくとも、前記強
誘電性液晶に画素単位で電圧を印加するための画素電
極、この画素電極に電圧信号を供給するための信号配
線、この信号配線と画素電極間の接続をオン・オフ制御
するためのアクティブスイッチング素子、およびこのア
クティブスイッチング素子に対し、これをオン・オフ制
御する信号を供給するための走査配線を備え、前記強誘
電性液晶のリセットおよび書込みがともにアクティブマ
トリクス駆動により行われることを特徴とする請求項1
記載の液晶光変調学素子。
2. The voltage applying means includes at least a pixel electrode for applying a voltage to the ferroelectric liquid crystal in a pixel unit, a signal wire for supplying a voltage signal to the pixel electrode, the signal wire and the pixel electrode. An active switching element for controlling ON / OFF of a connection between the active switching element and a scan wiring for supplying a signal for controlling the ON / OFF of the active switching element, and resetting and writing of the ferroelectric liquid crystal Both are performed by active matrix driving.
The liquid crystal light modulation element described.
【請求項3】 前記バッファ層は無機化合物を主成分と
する薄膜であることを特徴とする請求項1記載の液晶光
学変調素子。
3. The liquid crystal optical modulation element according to claim 1, wherein the buffer layer is a thin film containing an inorganic compound as a main component.
【請求項4】 前記無機化合物を主成分とする薄膜は、
TiO2-SiOX であり、その膜厚は0.005〜0.
2μmであることを特徴とする請求項3記載の液晶光学
変調素子。
4. The thin film containing the inorganic compound as a main component,
TiO 2 —SiO x , and its film thickness is 0.005 to 0.
The liquid crystal optical modulation element according to claim 3, which has a thickness of 2 μm.
【請求項5】 前記膜厚は0.01〜0.05μmであ
ることを特徴とする請求項4記載の液晶光学変調素子。
5. The liquid crystal optical modulation element according to claim 4, wherein the film thickness is 0.01 to 0.05 μm.
【請求項6】 前記無機化合物を主成分とする薄膜はT
25 であり、その膜厚は0.005〜0.2μmで
あることを特徴とする請求項3記載の液晶光学変調素
子。
6. The thin film containing the inorganic compound as a main component is T
a 2 O 5, and the liquid crystal optical modulation element according to claim 3, wherein a film thickness which is a 0.005~0.2Myuemu.
【請求項7】 前記膜厚は0.01〜0.05μmであ
ることを特徴とする請求項6記載の液晶光学変調素子。
7. The liquid crystal optical modulation element according to claim 6, wherein the film thickness is 0.01 to 0.05 μm.
【請求項8】 前記斜方蒸着配向膜の材質は無機酸化物
であることを特徴とする請求項1記載の液晶光学変調素
子。
8. The liquid crystal optical modulation element according to claim 1, wherein the material of the oblique vapor deposition alignment film is an inorganic oxide.
【請求項9】 前記無機酸化物の主成分はSiOである
ことを特徴とする請求項8記載の液晶光学変調素子。
9. The liquid crystal optical modulation element according to claim 8, wherein the main component of the inorganic oxide is SiO.
【請求項10】 前記斜方蒸着膜のカラム長が0.01
〜0.6μmであることを特徴とする請求項9記載の液
晶光学変調素子。
10. The column length of the oblique deposition film is 0.01.
The liquid crystal optical modulation element according to claim 9, wherein the liquid crystal optical modulation element has a thickness of ˜0.6 μm.
【請求項11】 前記斜方蒸着膜のカラム角度は0〜6
0°であることを特徴とする請求項9記載の液晶光学変
調素子。
11. The column angle of the oblique deposition film is 0-6.
The liquid crystal optical modulator according to claim 9, wherein the liquid crystal optical modulator is 0 °.
【請求項12】 前記無機酸化物の材質がZrO2 であ
ることを特徴とする請求項8記載の液晶光学変調素子。
12. The liquid crystal optical modulation element according to claim 8, wherein the material of the inorganic oxide is ZrO 2 .
【請求項13】 前記無機酸化物の材質がTiO2 であ
ることを特徴とする請求項8記載の液晶光学変調素子。
13. The liquid crystal optical modulation element according to claim 8, wherein the material of the inorganic oxide is TiO 2 .
【請求項14】 基板と、該基板上に設けた電極と、該
電極上に設けた配向膜とをそれぞれ対向面上に有する一
対の対向する電極基板、およびその間に封入された液晶
を備えた液晶光学変調素子において、該配向膜部分に、
該液晶部分と電極間の導通を取るためのピンホールを1
画素につき1つ以上具備することを特徴とする液晶光学
変調素子。
14. A pair of opposing electrode substrates each having a substrate, an electrode provided on the substrate, and an alignment film provided on the electrode on opposing surfaces, and a liquid crystal sealed between them. In the liquid crystal optical modulation element, in the alignment film portion,
1 pinhole for electrical connection between the liquid crystal part and the electrode
A liquid crystal optical modulation element comprising one or more pixels.
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