JPH05254153A - Impact dot head - Google Patents

Impact dot head

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Publication number
JPH05254153A
JPH05254153A JP5815792A JP5815792A JPH05254153A JP H05254153 A JPH05254153 A JP H05254153A JP 5815792 A JP5815792 A JP 5815792A JP 5815792 A JP5815792 A JP 5815792A JP H05254153 A JPH05254153 A JP H05254153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
impact dot
dot head
core
electroless nickel
cost
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5815792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norio Horaguchi
範夫 洞口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP5815792A priority Critical patent/JPH05254153A/en
Publication of JPH05254153A publication Critical patent/JPH05254153A/en
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Abstract

PURPOSE:To ensure that cost is reduced, while the capability to print data at a specified printing speed is ensured, in an impact dot head. CONSTITUTION:A core 1 is formed using high silicon steel (the content of silicon is 3 to 6wt.%) to provide a 20mum max-thick, 1m-long non-electroless nickel plated layer. Consequently, it is possible to obtain an impact dot head at high printing speed with a low frame cost.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、インパクトドットマト
リックスプリンタの印字ヘッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a print head for an impact dot matrix printer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術としては、例えば特開昭63
−95954号公報に記載されている如きものが知られ
ている。そこで開示されている内容は図3に示すよう
に、コア101を有するフレーム全体またはコア面に無
電解ニッケルメッキ層101mを厚さ20〜40μm形
成することでアーマチュア103とコア101間に非磁
性の層を形成している。これによって、印字終了後、レ
バー104が待機位置に戻るまでの復帰動作中に残留磁
束によって復帰力が減少する影響が低減され、1回の印
字サイクルにかかる時間が短くなり、インパクトドット
ヘッドの印字速度を向上させていた。
2. Description of the Related Art As a conventional technique, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-63
The one described in JP-A-95954 is known. As shown in FIG. 3, the content disclosed therein is to form a non-magnetic non-magnetic layer between the armature 103 and the core 101 by forming an electroless nickel plating layer 101m having a thickness of 20 to 40 μm on the entire frame having the core 101 or the core surface. Forming layers. As a result, after the printing is completed, the influence that the return force is reduced by the residual magnetic flux during the return operation until the lever 104 returns to the standby position is reduced, the time required for one print cycle is shortened, and the impact dot head prints. It was improving the speed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のインパ
クトドットヘッドのように無電解ニッケルメッキ層10
1mを20〜40μm形成することはメッキ加工による
コストアップが問題になっていた。
However, as in the conventional impact dot head, the electroless nickel plating layer 10 is used.
Forming 1 m of 20 to 40 μm poses a problem of cost increase due to plating.

【0004】そこで、本発明はこの問題点を解決するた
めになされたもので、フレームコストが安くしかも印字
速度が速い、インパクトドットヘッドを得ることを目的
とする。
Therefore, the present invention has been made to solve this problem, and an object thereof is to obtain an impact dot head having a low frame cost and a high printing speed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明のインパクトドットヘッドは、コイルを巻回した
コアと、このコアに対向して配置されたアーマチュアを
備え、コイルにより励起される磁気吸引力によってアー
マチュアを駆動させるインパクトドットヘッドにおい
て、コアを高ケイ素鋼(ケイ素含有量3〜6重量%)に
て形成し、このコアに20μm以下の無電解ニッケルメ
ッキを施したことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an impact dot head of the present invention comprises a core around which a coil is wound and an armature arranged so as to face the core. In an impact dot head in which an armature is driven by a suction force, a core is formed of high silicon steel (silicon content is 3 to 6% by weight), and the core is subjected to electroless nickel plating of 20 μm or less. .

【0006】[0006]

【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0007】図1は本発明の実施例を適用したインパク
トドットヘッドの三面図である。ノーズ13の先端に
は、複数の印字ワイヤー6を往復運動可能に直線上に位
置決めするための穴を持つワイヤーガイド14を設けて
ある。ノーズ13の後方には印字ワイヤー6を駆動する
ための駆動部があり、この駆動部外周には、内部で発生
する熱を大気中に発散する放熱器15が備えてある。ま
た、印字ワイヤー6を駆動するための印字信号はプリン
ト基板16上に半田付けされたコネクター17から図示
してないケーブルを通して入力される。
FIG. 1 is a three-view drawing of an impact dot head to which an embodiment of the present invention is applied. The tip of the nose 13 is provided with a wire guide 14 having a hole for linearly positioning the plurality of printing wires 6 so that they can reciprocate. A drive unit for driving the print wire 6 is provided behind the nose 13, and a radiator 15 for radiating the heat generated inside to the atmosphere is provided on the outer periphery of the drive unit. A print signal for driving the print wire 6 is input from a connector 17 soldered on the printed board 16 through a cable (not shown).

【0008】図2は図1におけるA−A断面図である。
5%ケイ素綱よりなるフレーム18には複数個のコア1
があり、1μm以下の無電解ニッケルメッキ層1mを施
してある。各コア1には磁気吸引力を励起するコイル2
が巻回されている。コア1に対し、磁性材よりなるアー
マチュア3が対向し、アーマチュア3を含むレバー4は
支点軸5を中心として回転可能に支持され、待機状態で
は復帰バネ7によってレバーホルダー8に圧接されてい
る。レバー4の先端部にはロー付けにより印字ワイヤー
6が固着されている。
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG.
A frame 18 made of 5% silicon steel has a plurality of cores 1
There is an electroless nickel plating layer of 1 μm or less. Each core 1 has a coil 2 that excites magnetic attraction.
Is wound. An armature 3 made of a magnetic material faces the core 1, a lever 4 including the armature 3 is rotatably supported about a fulcrum shaft 5, and is pressed against a lever holder 8 by a return spring 7 in a standby state. The printing wire 6 is fixed to the tip of the lever 4 by brazing.

【0009】次に、図2により印字動作説明を行う。Next, the printing operation will be described with reference to FIG.

【0010】コイル2に印字信号が入力されると、磁気
吸引力がアーマチュア3とコア1の間に発生する。この
磁気吸引力により支点軸5を中心にレバー4は復帰バネ
7をたわめながら回転運動を始め、印字ワイヤー6がイ
ンクリボン19と印字紙20を通してプラテン21に衝
突しドットを形成する。次にレバー4は印字ワイヤー6
がプラテン21と衝突した時に受ける反発力とたわめら
れた復帰バネ7の復帰力により待機位置へ戻り、復帰行
程を終了し印字の1サイクルが完了する。
When a print signal is input to the coil 2, a magnetic attraction force is generated between the armature 3 and the core 1. Due to this magnetic attraction force, the lever 4 starts rotating while bending the return spring 7 about the fulcrum shaft 5, and the printing wire 6 collides with the platen 21 through the ink ribbon 19 and the printing paper 20 to form dots. Next, the lever 4 is the printing wire 6
Is returned to the standby position by the repulsive force received when the platen 21 collides with the platen 21 and the restoring force of the returning spring 7 that is bent, the returning process is completed, and one printing cycle is completed.

【0011】上記印字行程において励磁された磁束は、
コイル2への印字信号が切れた後もコア1とアーマチュ
ア3内に残り(残留磁束)、緩やかに減少していく。発
生する残留磁束の量は磁性材料特有のもので 純鉄>低
ケイ素鋼>高ケイ素鋼 の順に小さくなる。本実施例の
ようにケイ素含有量の多いケイ素鋼を使うことで無電解
ニッケルメッキと同様に印字速度を上げる効果を得るこ
とができる。
The magnetic flux excited in the above printing process is
Even after the print signal to the coil 2 is cut off, it remains in the core 1 and the armature 3 (residual magnetic flux) and gradually decreases. The amount of residual magnetic flux generated is unique to magnetic materials and decreases in the order of pure iron> low silicon steel> high silicon steel. By using silicon steel having a high silicon content as in this embodiment, it is possible to obtain the same effect of increasing the printing speed as in electroless nickel plating.

【0012】表1にケイ素鋼のケイ素含有量が1〜6重
量%のとき、1%ケイ素鋼に20μmの無電解ニッケル
メッキを施したコア1と同等の印字速度を得るために必
要な無電解ニッケルメッキの厚さを実験により求めたも
のを示す。
In Table 1, when the silicon content of the silicon steel is 1 to 6% by weight, the electrolessness necessary for obtaining the same printing speed as that of the core 1 in which 1% silicon steel is plated with 20 μm of electroless nickel. The nickel plating thickness obtained by experiment is shown.

【0013】[0013]

【表1】 [Table 1]

【0014】この表からもわかるように、ケイ素含有量
が高くなるほど無電解ニッケルメッキを薄くでき、3%
ケイ素鋼の無電解ニッケルメッキの厚さは、1%ケイ素
鋼のメッキ厚の半分の20μmですみ、ケイ素含有量が
3重量%以上の時メッキ加工の大幅なコストダウンが実
現できる。
As can be seen from this table, the higher the silicon content is, the thinner the electroless nickel plating can be made to be 3%.
The thickness of electroless nickel plating of silicon steel is 20 μm, which is half of the plating thickness of 1% silicon steel, and when the silicon content is 3% by weight or more, a significant cost reduction of plating can be realized.

【0015】一方、ケイ素含有量が6重量%以上になる
と硬度が高くなり過ぎるため成形性が悪くなってしま
う。このため、ケイ素含有量が6重量%を越えるとコア
1を含むフレーム18の成形コストが上がってしまう。
On the other hand, when the silicon content is 6% by weight or more, the hardness becomes too high and the moldability deteriorates. Therefore, if the silicon content exceeds 6% by weight, the molding cost of the frame 18 including the core 1 increases.

【0016】図4にフレーム18のメッキ加工費、材料
費+メッキ以外の加工費、総コストとケイ素鋼のケイ素
含有量の関係を示した。この図からわかるように、ケイ
素含有量3〜6重量%のケイ素鋼を使用することでフレ
ーム18の大幅なコストダウンが実現できる。
FIG. 4 shows the relationship between the plating processing cost of the frame 18, the material cost + the processing cost other than plating, the total cost, and the silicon content of silicon steel. As can be seen from this figure, by using silicon steel having a silicon content of 3 to 6% by weight, a significant cost reduction of the frame 18 can be realized.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、高ケ
イ素鋼(ケイ素含有量3〜6重量%)よりなるコアに2
0μm以下の無電解ニッケルメッキ層を施すことで、フ
レームのメッキ加工にかかるコストを削減でき、フレー
ムコストが安くしかも印字速度が速いインパクトドット
ヘッドを得ることができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, a core made of high silicon steel (silicon content 3 to 6% by weight) is used.
By providing the electroless nickel plating layer having a thickness of 0 μm or less, it is possible to reduce the cost required for plating the frame, and it is possible to obtain an impact dot head having a low frame cost and a high printing speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のインパクトドットヘッドの三面図。FIG. 1 is a trihedral view of an impact dot head according to the present invention.

【図2】 本発明のインパクトドットヘッドの概略断面
図。
FIG. 2 is a schematic sectional view of an impact dot head of the present invention.

【図3】 従来技術を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a conventional technique.

【図4】 ケイ素含有量とコストの関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between silicon content and cost.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コア 1m 無電解ニッケルメッキ層 2 コイル 3 アーマチュア 4 レバー 6 印字ワイヤー 7 復帰バネ 8 レバーホルダー 13 ノーズ 14 ワイヤーガイド 18 フレーム 19 インクリボン 20 印字紙 21 プラテン 101 コア 101m 無電解ニッケルメッキ 102 コイル 103 アーマチュア 104 レバー 105 支点軸 106 印字ワイヤー 107 復帰バネ 1 Core 1m Electroless Nickel Plating Layer 2 Coil 3 Armature 4 Lever 6 Printing Wire 7 Return Spring 8 Lever Holder 13 Nose 14 Wire Guide 18 Frame 19 Ink Ribbon 20 Printing Paper 21 Platen 101 Core 101m Electroless Nickel Plating 102 Coil 103 Armature 104 Lever 105 Support shaft 106 Print wire 107 Return spring

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コイルを巻回したコアと、該コアに対向
して配置されたアーマチュアを備え、前記コイルにより
励起される磁気吸引力によって前記アーマチュアを駆動
させるインパクトドットヘッドにおいて、前記コアを高
ケイ素鋼(ケイ素含有量3〜6重量%)にて形成し、2
0μm以下の無電解ニッケルメッキを施したことを特徴
とするインパクトドットヘッド。
1. An impact dot head comprising a core around which a coil is wound and an armature arranged so as to face the core, the armature being driven by a magnetic attraction force excited by the coil. Formed from silicon steel (silicon content 3-6% by weight), 2
An impact dot head characterized by being subjected to electroless nickel plating of 0 μm or less.
JP5815792A 1992-03-16 1992-03-16 Impact dot head Pending JPH05254153A (en)

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JP5815792A JPH05254153A (en) 1992-03-16 1992-03-16 Impact dot head

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