JPH05234135A - Substrate for optical recording medium - Google Patents

Substrate for optical recording medium

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Publication number
JPH05234135A
JPH05234135A JP4030919A JP3091992A JPH05234135A JP H05234135 A JPH05234135 A JP H05234135A JP 4030919 A JP4030919 A JP 4030919A JP 3091992 A JP3091992 A JP 3091992A JP H05234135 A JPH05234135 A JP H05234135A
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JP
Japan
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substrate
layer
recording medium
optical recording
dielectric
Prior art date
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Application number
JP4030919A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Taki
和也 滝
Hideo Maruyama
英雄 丸山
Riki Matsuda
理樹 松田
Yumiko Ohashi
弓子 大橋
Takuya Hamaguchi
琢哉 浜口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05234135A publication Critical patent/JPH05234135A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide the substrate for an optical recording medium which produces less noises, has high productivity and does not increase crosstalks in spite of forming tracks to a narrower pitch. CONSTITUTION:This substrate is constituted of a transparent dielectric base material 12 consisting of glass, etc., guide layers 14 consisting of a metallic thin film of Ta, etc., and a dielectric layer 16 consisting of a glass thin film, etc. Since injection molding is not used, the productivity is not degraded even if the track pitch is narrowed. Further, the guide layers are formable to a uniform thickness and therefore the noises generated in the substrate are decreased. Since both sides of the laser beam to be cast are shielded by the guide layers, the crostalks do not increase even if the track pitch is diminished.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光により情報の記録、
再生あるいは消去を行う光記録媒体の基板として用いら
れる光記録媒体用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to the recording of information by light,
The present invention relates to an optical recording medium substrate used as an optical recording medium substrate for reproducing or erasing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光記録媒体に用いられている基板
100は、透明なポリカーボネート、アクリル等の樹脂
から成り、その表面に図13のようにトラッキング用の
案内溝102が設けられている。トラッキングはこの案
内溝102を利用し、よく知られているプッシュプル法
によって行われる。案内溝102の深さはトラッキング
に必要なプッシュプル信号が十分な強度で得られるよう
に70nm程度に選ばれている。このような基板100は射
出成形によって製造される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate 100 used for an optical recording medium is made of transparent resin such as polycarbonate and acrylic resin, and a guide groove 102 for tracking is provided on its surface as shown in FIG. Tracking is performed by the well-known push-pull method using the guide groove 102. The depth of the guide groove 102 is selected to be about 70 nm so that the push-pull signal necessary for tracking can be obtained with sufficient intensity. Such a substrate 100 is manufactured by injection molding.

【0003】この基板100の上に、例えば、SiN等の
干渉層104、TbFeCo等の光磁気記録材料から成る記録
層106、SiN等の保護層108を順次積層することに
より光記録媒体が作製される。
On this substrate 100, for example, an interference layer 104 such as SiN, a recording layer 106 made of a magneto-optical recording material such as TbFeCo, and a protective layer 108 such as SiN are sequentially laminated to manufacture an optical recording medium. It

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな基板ではトラックピッチを狭くすると、射出成形時
に成形不良が生じ易くなり、生産性が低下するという問
題があった。また、案内溝の側壁や溝底部の表面荒れや
溝深さの分布によりノイズが発生するため、このような
基板を用いて作製した光記録媒体はC/Nが低下するとい
う問題があった。さらに、トラックピッチを狭くした場
合、クロストークが増大するという問題も生じていた。
However, in such a substrate, if the track pitch is narrowed, there is a problem that molding defects are likely to occur during injection molding and productivity is lowered. Further, since noise is generated due to the surface roughness of the side wall of the guide groove and the groove bottom and the distribution of the groove depth, the optical recording medium manufactured using such a substrate has a problem that the C / N is lowered. Furthermore, when the track pitch is narrowed, there is a problem that crosstalk increases.

【0005】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、その目的とするところは、光記
録媒体用基板を誘電体基材上に積層された、一部が所定
のパターンで除去されている案内層と、誘電体層とから
構成することにより、ノイズの発生が少なく、生産性が
高く、さらに、狭トラックピッチ化してもクロストーク
が増大しない光記録媒体用基板を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to partially laminate a substrate for an optical recording medium on a dielectric base material and to provide a predetermined portion. A substrate for an optical recording medium, which is less prone to noise and has high productivity, and which does not increase crosstalk even when the track pitch is narrowed, by comprising a guide layer that is removed by a pattern and a dielectric layer. To provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の光記録媒体用基板は、誘電体基材上に積層さ
れた、一部が所定のパターンで除去されている案内層
と、誘電体層とから構成されている。このとき、誘電体
基材と、前記誘電体層の屈折率が等しいか、ほぼ等しく
してもよい。また、誘電体層の誘電体基材と反対側の面
を平坦あるいはその凹凸を70nm以下にしてもよい。
In order to achieve this object, an optical recording medium substrate of the present invention comprises a guide layer laminated on a dielectric substrate and partially removed in a predetermined pattern. , A dielectric layer. At this time, the dielectric material and the dielectric layer may have the same or substantially the same refractive index. Further, the surface of the dielectric layer on the side opposite to the dielectric substrate may be flat or the irregularity thereof may be 70 nm or less.

【0007】[0007]

【作用】上記の構成を有する本発明の光記録媒体用基板
では、案内層および誘電体層はスパッタ法等の薄膜形成
手段およびフォトリソグラフィーにより形成でき、射出
成形を用いないため、トラックピッチを狭くしても生産
性は低下しない。さらに、案内層の膜厚も均一に作製で
きるため、基板の発生するノイズも小さくなる。また、
誘電体基材と、誘電体層の屈折率を等しく、あるいは、
ほぼ等しくすることにより、誘電体基材と誘電体層との
間で不用な反射が生じなくなる。また、誘電体層の誘電
体基材と反対側の面が平坦あるいはその凹凸を70nm以下
にすることにより、光記録媒体用基板の上に設けられる
記録層の凹凸が小さくなり、凹凸部から生じる劣化も減
少することから信頼性が向上する。また、照射されるレ
ーザ光の両側が案内層によって遮蔽されるため、トラッ
クピッチを小さくしてもクロストークは増大しない。
In the optical recording medium substrate of the present invention having the above structure, the guide layer and the dielectric layer can be formed by thin film forming means such as a sputtering method and photolithography, and since injection molding is not used, the track pitch is narrowed. However, productivity does not decrease. Further, since the film thickness of the guide layer can be made uniform, the noise generated by the substrate is reduced. Also,
Dielectric base material and dielectric layer have the same refractive index, or
By making them substantially equal, unnecessary reflection does not occur between the dielectric base material and the dielectric layer. Further, by making the surface of the dielectric layer opposite to the dielectric substrate flat or making the unevenness 70 nm or less, the unevenness of the recording layer provided on the optical recording medium substrate becomes small, and the unevenness is generated. Reliability is improved because deterioration is also reduced. Further, since both sides of the irradiated laser light are shielded by the guide layers, crosstalk does not increase even if the track pitch is reduced.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】本発明を好適に適用した光記録媒体用基板
10は、図1に示すようにガラス等の透明な誘電体基材
12と、その上に積層された、Ta等の金属薄膜から成る
案内層14およびガラス薄膜等から成る誘電体層16と
から構成される。案内層14は、その一部が図2のよう
に除去されている。すなわち、所定の幅wRで所定の長さ
だけ連続的に除去されて記録領域20が形成されている
部分がデータ部22となる。また、プリフォーマット信
号等を発生するように所定のパターンで案内層14が除
去されてピット24が形成されている部分がインデック
ス部26となる。なお、案内層14の膜厚は、例えば従
来の基板の案内溝の深さである70nmよりも小さな値、す
なわち20nm程度に選ばれる。
An optical recording medium substrate 10 to which the present invention is preferably applied comprises a transparent dielectric substrate 12 such as glass and a metal thin film such as Ta laminated thereon, as shown in FIG. It is composed of a guide layer 14 and a dielectric layer 16 made of a glass thin film or the like. A part of the guide layer 14 is removed as shown in FIG. That is, a portion where the recording area 20 is formed by continuously removing a predetermined length with a predetermined width w R becomes the data portion 22. Further, the portion where the guide layer 14 is removed and the pits 24 are formed in a predetermined pattern so as to generate a pre-formatted signal or the like becomes the index portion 26. The thickness of the guide layer 14 is selected to be smaller than 70 nm which is the depth of the guide groove of the conventional substrate, that is, about 20 nm.

【0010】このような光記録媒体用基板10は図3に
示す方法によって製造される。すなわち、同図(a)の
ように、誘電体基材12の上に、スパッタ法、真空蒸着
法等のよく知られている薄膜形成手段により、例えばTa
薄膜32を形成する。その上に、スピンコーティングに
よりフォトレジスト34を塗布する。そして、誘電体基
材12を回転させながらArレーザ35等を照射し露光を
行う。このとき、Arレーザ35をプリフォーマット信号
に従って変調することにより、インデックス部26が露
光され、連続的に照射することによりデータ部22が露
光される。記録領域20の幅およびピット24の大きさ
は露光するときのArレーザ35のパワにより制御でき
る。
Such an optical recording medium substrate 10 is manufactured by the method shown in FIG. That is, as shown in FIG. 3A, Ta, for example, is formed on the dielectric substrate 12 by a well-known thin film forming means such as a sputtering method or a vacuum deposition method.
The thin film 32 is formed. A photoresist 34 is applied thereon by spin coating. Then, while the dielectric substrate 12 is rotated, the Ar laser 35 or the like is irradiated to perform exposure. At this time, the index portion 26 is exposed by modulating the Ar laser 35 according to the preformat signal, and the data portion 22 is exposed by continuously irradiating. The width of the recording area 20 and the size of the pit 24 can be controlled by the power of the Ar laser 35 at the time of exposure.

【0011】露光後、現像すると、同図(b)のよう
に、フォトレジスト34のArレーザ35が照射された部
分が除去される。そこで、酸、アルカリ等の溶液による
エッチングや、プラズマエッチング、イオンエッチング
等によるドライエッチング等により、フォトレジスト3
4が除去された部分の金属薄膜32をエッチングし、エ
ッチング終了後、溶剤等で残留しているフォトレジスト
34を除去することにより同図(c)のように、案内層
14が形成される。最後に、同図(d)のように、ガラ
ス等の誘電体層16をスパッタ法等のよく知られた薄膜
形成手段で作製することにより、光記録媒体用基板が完
成する。このとき、例えば、スパッタ法で誘電体層16
を形成する場合、誘電体基材12と同一材料のガラスを
ターゲットとしてスパッタを行えばよい。
After exposure and development, the portion of the photoresist 34 irradiated with the Ar laser 35 is removed as shown in FIG. Therefore, the photoresist 3 is removed by etching with a solution of acid, alkali or the like, dry etching such as plasma etching, ion etching or the like.
The metal thin film 32 in the portion where 4 is removed is etched, and after the etching is completed, the remaining photoresist 34 is removed by a solvent or the like, whereby the guide layer 14 is formed as shown in FIG. Finally, as shown in FIG. 3D, the dielectric layer 16 made of glass or the like is formed by a well-known thin film forming means such as a sputtering method, thereby completing the optical recording medium substrate. At this time, for example, the dielectric layer 16 is formed by a sputtering method.
In the case of forming, the sputtering may be performed by using a glass of the same material as the dielectric base material 12 as a target.

【0012】このように、案内層14および誘電体層1
6の形成に、射出成型を用いないため、トラックピッチ
を狭くしても成型不良による生産性の低下は生じない。
また、案内層14および誘電体層16は均一な膜厚で製
造でき、さらに誘電体基材12の表面は十分滑らかであ
ることから、この上に形成された案内層14および誘電
体層16の表面も十分滑らかであるため、ノイズの発生
は少ない。また、案内層14の膜厚は従来の基板の案内
溝の深さよりも小さいため、案内層14の除去部分20
の側壁からのノイズの発生も減少する。これにより、本
実施例の光記録媒体用基板10の発生するノイズは、従
来の案内溝付き基板よりも小さくなる。
Thus, the guide layer 14 and the dielectric layer 1
Since injection molding is not used for forming No. 6, even if the track pitch is narrowed, productivity does not decrease due to defective molding.
Further, since the guide layer 14 and the dielectric layer 16 can be manufactured with a uniform film thickness, and the surface of the dielectric substrate 12 is sufficiently smooth, the guide layer 14 and the dielectric layer 16 formed on the guide layer 14 and the dielectric layer 16 have a sufficiently smooth surface. The surface is also smooth enough that there is little noise. Further, since the film thickness of the guide layer 14 is smaller than the depth of the guide groove of the conventional substrate, the removed portion 20 of the guide layer 14 is removed.
The generation of noise from the sidewalls of is also reduced. As a result, the noise generated by the optical recording medium substrate 10 of this embodiment is smaller than that of the conventional substrate with guide grooves.

【0013】本実施例の光記録媒体用基板10の上に例
えば図4のように、SiN等から成る干渉層40、TbFeCo
等から成る記録層42、SiN等から成る保護層44を、
スパッタ法等の薄膜形成手段により形成し、積層するこ
とにより、光磁気ディスク46を製造することができ
る。
As shown in FIG. 4, for example, an interference layer 40 made of SiN or the like and a TbFeCo layer are formed on the optical recording medium substrate 10 of this embodiment.
A recording layer 42 made of, for example, a protective layer 44 made of SiN,
The magneto-optical disk 46 can be manufactured by forming and stacking by a thin film forming means such as a sputtering method.

【0014】誘電体基材12側から照射されたレーザ光
は、案内層14を除去することによって形成された記録
領域20を通して、記録層42に照射されて記録再生が
行われる。ここで、図2のように、トラックピッチを
wP、記録面上でのレーザスポット28のビーム径をwL
したとき、 wP+(wP-wR) = 2wP-wR > wL (1) という関係を満たしていれば、トラックピッチをレーザ
スポット径よりも小さくしても、隣の記録領域にレーザ
光28が照射されることがないため、クロストークは増
大しない。
The laser light emitted from the side of the dielectric substrate 12 is applied to the recording layer 42 through the recording area 20 formed by removing the guide layer 14 to perform recording / reproduction. Here, as shown in FIG.
If w P and the beam diameter of the laser spot 28 on the recording surface are w L , then if the relation w P + (w P -w R ) = 2w P -w R > w L (1) is satisfied, Even if the track pitch is made smaller than the laser spot diameter, the adjacent recording area is not irradiated with the laser beam 28, so that the crosstalk does not increase.

【0015】また、誘電体基材12側から照射されたレ
ーザ光は、案内層14および、記録層42で反射され、
回折が生じる。ここで、誘電体層16および干渉層40
の膜厚をそれぞれd1、d2、屈折率をそれぞれn1、n2とす
ると、記録層42で反射され、誘電体層16および干渉
層40を往復した光は、案内層14で反射された光より
も φ = (4π/λ)[n1d1+n2d2] (2) だけ位相が遅れる。プッシュプル法によるトラッキング
に必要なプッシュプル信号強度が最大となるのは、位相
差が φ = π/2 + mπ (3) のときである。ただし、mは整数である。また、干渉層
40における干渉により、カー効果エンハンスメントが
最大となるのは、干渉層膜厚d2が d2 = λ/(4n2) (4) のときである。ただし、誘電体層16と誘電体基材12
の屈折率は等しいため、誘電体層16と誘電体基材12
との境界においては光は反射しない。また、干渉層40
の屈折率は誘電体基材12よりも高くなるように選ばれ
ているため、多重干渉は干渉層40において生じる。
The laser light emitted from the dielectric substrate 12 side is reflected by the guide layer 14 and the recording layer 42,
Diffraction occurs. Here, the dielectric layer 16 and the interference layer 40
When the film thicknesses are d 1 and d 2 , respectively, and the refractive indices are n 1 and n 2 , respectively, the light reflected by the recording layer 42 and the light traveling back and forth through the dielectric layer 16 and the interference layer 40 is reflected by the guide layer 14. The phase is delayed by φ = (4π / λ) [n 1 d 1 + n 2 d 2 ] (2) from the light. The push-pull signal strength required for tracking by the push-pull method becomes maximum when the phase difference is φ = π / 2 + mπ (3). However, m is an integer. Further, the Kerr effect enhancement becomes maximum due to the interference in the interference layer 40 when the interference layer film thickness d 2 is d 2 = λ / (4n 2 ) (4). However, the dielectric layer 16 and the dielectric substrate 12
Have the same refractive index, the dielectric layer 16 and the dielectric substrate 12 are
No light is reflected at the boundary with. In addition, the interference layer 40
The multiple interference occurs in the interference layer 40 because the refractive index of is selected to be higher than that of the dielectric substrate 12.

【0016】従って、(2)、(3)、(4)式から、
プッシュプル信号およびカーエンハンスメントが最大と
なる誘電体層16の膜厚はm=1とすると d1 = λ/(8n1) (5) となる。すなわち、干渉層40および誘電体層16の膜
厚を(4)、(5)式のように選ぶことにより、プッシ
ュプル信号強度が最大となり、安定したトラッキングが
実現できると同時に、カー効果エンハンスメントも最大
となるため、高いC/Nが得られる。
Therefore, from equations (2), (3) and (4),
When the thickness of the dielectric layer 16 that maximizes the push-pull signal and the car enhancement is m = 1, d 1 = λ / (8n 1 ) (5). That is, by selecting the film thicknesses of the interference layer 40 and the dielectric layer 16 according to the equations (4) and (5), the push-pull signal strength is maximized, stable tracking can be realized, and at the same time, the Kerr effect enhancement is also achieved. Since it is the maximum, high C / N can be obtained.

【0017】以上、本発明の一実施例を図1から図4に
基づいて詳細に説明したが、本発明は他の様態で実施す
ることができる。
Although one embodiment of the present invention has been described in detail above with reference to FIGS. 1 to 4, the present invention can be implemented in other modes.

【0018】すなわち、各層の材料については特に限定
されず、誘電体基材12の材料としてガラスの代わり
に、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルファ
スポリオレフィン樹脂等を用いてもよい。このとき、誘
電体層16の材料も、誘電体基材12と同一材料である
必要はなく、また、その屈折率も誘電体基材12と全く
等しい必要はなく、ほぼ等しくしても、誘電体層16と
誘電体基材12の境界における反射を十分小さくでき
る。例えば、誘電体層16として、屈折率が1.46のSiO2
と2.2以上のTiO2を混合した材料を用い、その混合比を
変化させることにより、誘電体層16の屈折率を1.46か
ら2.2程度まで、広い範囲に渡り制御することが可能と
なり、誘電体基材12の屈折率とほぼ等しくすることが
できる。
That is, the material of each layer is not particularly limited, and acrylic resin, polycarbonate resin, amorphous polyolefin resin or the like may be used as the material of the dielectric base material 12 instead of glass. At this time, the material of the dielectric layer 16 does not have to be the same as that of the dielectric base material 12, and the refractive index thereof does not have to be exactly the same as that of the dielectric base material 12. The reflection at the boundary between the body layer 16 and the dielectric substrate 12 can be made sufficiently small. For example, as the dielectric layer 16, SiO 2 having a refractive index of 1.46 is used.
It is possible to control the refractive index of the dielectric layer 16 over a wide range from 1.46 to about 2.2 by using a material in which TiO 2 of 2.2 or more and 2.2 or more are mixed, and changing the mixing ratio. It can be made substantially equal to the refractive index of the material 12.

【0019】また、誘電体層16の屈折率は基板12と
等しい必要はなく、その屈折率、材料共に特に限定され
ない。例えば、誘電体層16として誘電体基材12より
も屈折率が大きなSiN、AlN、SiAlON等の材料を用いても
よい。このとき、図4に示した干渉層40の効果も誘電
体層16において生じさせることができる。
The refractive index of the dielectric layer 16 does not have to be the same as that of the substrate 12, and its refractive index and material are not particularly limited. For example, as the dielectric layer 16, a material such as SiN, AlN, or SiAlON having a refractive index larger than that of the dielectric base material 12 may be used. At this time, the effect of the interference layer 40 shown in FIG. 4 can also be produced in the dielectric layer 16.

【0020】また、図5のように、誘電体層50として
スピンコーティングで作製したSiO2等を用いてもよい。
この場合、誘電体層50の表面は平坦となるため、その
上に形成される記録層42も平坦となる。これにより、
従来、記録層42の段差部分で生じていた膜の劣化が生
じず、信頼性が向上する。
Further, as shown in FIG. 5, SiO 2 or the like produced by spin coating may be used as the dielectric layer 50.
In this case, since the surface of the dielectric layer 50 is flat, the recording layer 42 formed thereon is also flat. This allows
The deterioration of the film that has conventionally occurred at the stepped portion of the recording layer 42 does not occur, and the reliability is improved.

【0021】また、案内層14の材料についても金属で
ある必要はなく、特に限定されない。また、案内層14
に吸収の大きな材料を用いてもよい。これにより、案内
層14における反射が減少し、これに伴いノイズも減少
するため、C/Nが改善される。 また、案内層14の膜
厚についても特に限定されない。例えば、案内層14、
が薄い場合は、記録層42に生じる凹凸も小さくなるた
め、記録層42の段差部分における劣化の抑制効果が大
きくなる。すなわち、案内層14の膜厚が、従来の溝付
きディスクにおける案内溝の深さである70nmよりも小さ
ければ、劣化の抑制効果が大きくなる。
The material of the guide layer 14 need not be metal and is not particularly limited. In addition, the guide layer 14
Alternatively, a material having a large absorption may be used. As a result, the reflection on the guide layer 14 is reduced, and the noise is reduced accordingly, so that the C / N is improved. Further, the film thickness of the guide layer 14 is not particularly limited. For example, the guide layer 14,
When the thickness is small, the unevenness generated in the recording layer 42 is also small, so that the effect of suppressing the deterioration in the step portion of the recording layer 42 is increased. That is, if the film thickness of the guide layer 14 is smaller than 70 nm which is the depth of the guide groove in the conventional grooved disk, the effect of suppressing the deterioration becomes large.

【0022】また、誘電体層16の膜厚についても、上
記の実施例ではλ/(8n1)としていたが特に限定されな
い。例えば、誘電体層16の膜厚をλ/(6n1)とすること
によりプッシュプル信号およびプリフォーマット信号が
それぞれ十分な強度で得られるため、望ましい。
The film thickness of the dielectric layer 16 is also λ / (8n 1 ) in the above embodiment, but is not particularly limited. For example, by setting the film thickness of the dielectric layer 16 to λ / (6n 1 ), the push-pull signal and the preformat signal can be obtained with sufficient strength, which is desirable.

【0023】また、上記実施例では、記録媒体として、
光磁気ディスクを製造する場合について述べたが、本発
明の光記録媒体用基板10を用いた記録媒体の構成、種
類については特に限定しない。すなわち、記録層42と
してTbFeCo以外の希土類遷移金属合金、PtCoやPdCoの多
層膜、希土類鉄ガーネット等の酸化物磁性体およびこれ
らを組み合わせた光磁気材料だけでなく、Te、Bi等の穴
開け型や、GeSbTe、TeOx等の相変化形材料、色素等の有
機材料等を用いることができる。例えば、図6のよう
に、光記録媒体用基板10の上に、酸化物磁性体、ある
いは有機色素等の記録層62を設け、その上に反射層6
4を設けてもよい。
In the above embodiment, the recording medium is
Although the case of manufacturing a magneto-optical disk has been described, the structure and type of the recording medium using the optical recording medium substrate 10 of the present invention are not particularly limited. That is, as the recording layer 42, not only a rare earth transition metal alloy other than TbFeCo, a multilayer film of PtCo or PdCo, an oxide magnetic material such as rare earth iron garnet and a magneto-optical material combining them, but also a perforated type such as Te or Bi is used. Alternatively, a phase change material such as GeSbTe or TeO x , an organic material such as a pigment, or the like can be used. For example, as shown in FIG. 6, a recording layer 62 such as an oxide magnetic material or an organic dye is provided on the optical recording medium substrate 10, and the reflective layer 6 is provided thereon.
4 may be provided.

【0024】また、案内層14の除去パターンについて
も特に限定されず、例えば、図7のように、プリフォー
マット信号を発生するピット24の幅より、記録領域2
0の幅を広くしてもよい。これにより、データ部22の
記録領域20に記録された信号を高C/Nで再生できると
同時に、インデックス部26のピット24における回折
による光量変化も大きくなり、望ましい。
Also, the removal pattern of the guide layer 14 is not particularly limited, and for example, as shown in FIG. 7, the recording area 2 is defined by the width of the pits 24 for generating the preformat signal.
The width of 0 may be widened. As a result, the signal recorded in the recording area 20 of the data section 22 can be reproduced at a high C / N, and at the same time, the change in the amount of light due to diffraction in the pits 24 of the index section 26 increases, which is desirable.

【0025】また、図8のようにある一定領域の案内層
14をすべて除去し、ミラー部70を形成してもよい。
このミラー部70においてプッシュプル信号が0となる
ように、トラッキングサーボ回路を調整することによ
り、トラッキングオフセットを減少させることができ
る。また、逆に、案内層14が除去されていない部分を
形成し、これをミラー部として用いてもよい。
Alternatively, the mirror portion 70 may be formed by removing all of the guide layer 14 in a certain area as shown in FIG.
The tracking offset can be reduced by adjusting the tracking servo circuit so that the push-pull signal becomes 0 in the mirror unit 70. On the contrary, a portion where the guide layer 14 is not removed may be formed and used as the mirror portion.

【0026】また、案内層14の除去の幅およびトラッ
クピッチについても特に限定されない。例えば、外周ほ
どトラックピッチおよび、除去幅を狭くしてもよい。こ
れにより、さらに光記録媒体の密度を向上させることが
できる。
Further, the width of removing the guide layer 14 and the track pitch are not particularly limited. For example, the track pitch and the removal width may be narrowed toward the outer circumference. Thereby, the density of the optical recording medium can be further improved.

【0027】また、光記録媒体用基板の一部に、図9の
ように記録領域20が設けられているユーザ記録エリア
74の他に、記録領域20が設けられておらず、所定の
情報に基づいて案内層14が除去されピット76が形成
されているROMエリア78を設けてもよい。これによ
り、プログラム、基本データ等変更の必要がない情報を
あらかじめROMエリア78に記録しておくこともでき
る。このとき、ユーザ記録エリア74とROMエリア78
の配置については特に限定されない。例えば、図10
(a)のように、同心円状に配置してもよい。このと
き、光記録媒体用基板の内周側、あるいは外周側、ある
いは複数の領域に分割して形成してもよい。また、同図
(b)のように、放射状に配置してもよい。なお、ROM
エリア78の誘電体層16の上には図11のように、Al
等から成る反射層80が形成されていてもよい。また、
ユーザ記録エリア74の誘電体層16の上には例えば、
干渉層40、記録層42、保護層44が形成されてい
る。このとき、干渉層40、記録層42、保護層44
は、ユーザ記録エリア74のみに設けられていてもよい
し、ROMエリア78の反射層80の上にも設けられてい
てもよい。
Further, in addition to the user recording area 74 where the recording area 20 is provided as shown in FIG. 9 on a part of the optical recording medium substrate, the recording area 20 is not provided and predetermined information is recorded. Based on this, the ROM area 78 in which the guide layer 14 is removed and the pits 76 are formed may be provided. As a result, information that does not need to be changed, such as programs and basic data, can be recorded in the ROM area 78 in advance. At this time, the user recording area 74 and the ROM area 78
There is no particular limitation on the arrangement. For example, in FIG.
You may arrange | position in a concentric form like (a). At this time, the optical recording medium substrate may be formed on the inner peripheral side, the outer peripheral side, or divided into a plurality of regions. Further, as shown in FIG. 7B, they may be arranged radially. ROM
On the dielectric layer 16 in the area 78, as shown in FIG.
The reflective layer 80 made of, for example, may be formed. Also,
On the dielectric layer 16 in the user recording area 74, for example,
The interference layer 40, the recording layer 42, and the protective layer 44 are formed. At this time, the interference layer 40, the recording layer 42, the protective layer 44
May be provided only in the user recording area 74, or may be provided on the reflective layer 80 in the ROM area 78.

【0028】また、案内層14を連続的に除去し、記録
領域を20を連続的に形成してもよい。このとき、フォ
ーマット情報は記録層に記録すればよい。
Alternatively, the guide layer 14 may be continuously removed to form the recording area 20 continuously. At this time, the format information may be recorded in the recording layer.

【0029】また、図12のように、案内層14を渦巻
状あるいは同心円状等の案内帯82と、案内帯82の間
に配置され、プリフォーマット信号を発生する反射材8
4とが形成されるように除去してもよい。このとき、反
射材84が設けられている部分がインデックス部26と
なり、設けられていない部分がデータ部22となる。さ
らに、案内帯82は連続して形成されている必要はな
く、形成されていない部分86が存在してもよい。すな
わち、案内帯82および反射材84が形成されていない
部分88が先に説明したミラー部となる。
Further, as shown in FIG. 12, the guide layer 14 is arranged between the spiral or concentric guide band 82 and the guide band 82, and the reflector 8 for generating the pre-format signal.
4 may be removed so as to form. At this time, the portion provided with the reflective material 84 becomes the index portion 26, and the portion not provided becomes the data portion 22. Furthermore, the guide band 82 does not have to be formed continuously, and there may be a part 86 that is not formed. That is, the portion 88 where the guide band 82 and the reflecting material 84 are not formed becomes the mirror portion described above.

【0030】また、図3(a)の実施例において、フォ
トレジスト34の露光は、Arレーザで行ったが、所定の
パターンを有するマスクを通して、紫外線等を照射す
る、いわゆるマスク露光により行ってもよい。このマス
ク露光を用いることにより、レーザで露光する場合と比
べて、生産性が大幅に向上する。
In the embodiment of FIG. 3 (a), the photoresist 34 was exposed by Ar laser, but it may be exposed by ultraviolet rays or the like through a mask having a predetermined pattern, that is, by so-called mask exposure. Good. By using this mask exposure, the productivity is significantly improved as compared with the case of exposing with a laser.

【0031】また、本発明の光記録媒体用基板の形状は
ディスク状である必要はなく、カード状等であってもよ
く、特に限定されない。この場合、案内層の除去パター
ンを直線状としてもよい。
The shape of the optical recording medium substrate of the present invention does not have to be disk-shaped, and may be card-shaped or the like, and is not particularly limited. In this case, the removal pattern of the guide layer may be linear.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の光記録媒体用基板では、案内層および誘電体層は
スパッタ法等の薄膜形成手段およびフォトリソグラフィ
ーにより形成でき、射出成形を用いないため、トラック
ピッチを狭くしても生産性は低下しない。さらに、従来
の基板の案内溝の深さよりも案内層の膜厚の方が小さ
く、案内層の膜厚も均一に作製できるため、基板の発生
するノイズも小さくなる。また、誘電体基材と、誘電体
層の屈折率が等しいか、ほぼ等しくすることにより、誘
電体基材と誘電体層との間で不用な反射が生じなくな
る。また、誘電体層の誘電体基材と反対側の面が平坦あ
るいはその凹凸を70nm以下にすることにより、光記録媒
体用基板の上に設けられる記録層の凹凸が小さくなり、
凹凸部から生じる劣化も減少することから信頼性が向上
する。
As is apparent from the above description, in the optical recording medium substrate of the present invention, the guide layer and the dielectric layer can be formed by a thin film forming means such as a sputtering method and photolithography, and injection molding is used. Therefore, the productivity does not decrease even if the track pitch is narrowed. Further, since the film thickness of the guide layer is smaller than the depth of the guide groove of the conventional substrate, and the film thickness of the guide layer can be made uniform, the noise generated by the substrate is reduced. Further, by making the refractive indexes of the dielectric base material and the dielectric layer equal or substantially equal to each other, unnecessary reflection does not occur between the dielectric base material and the dielectric layer. Further, the surface of the dielectric layer opposite to the dielectric substrate is flat or the unevenness thereof is 70 nm or less, whereby the unevenness of the recording layer provided on the optical recording medium substrate is reduced,
Since the deterioration caused by the uneven portion is also reduced, the reliability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光記録媒体用基板の一実施例を示す要
部断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of essential parts showing an embodiment of a substrate for an optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体用基板を誘電体基材側から
みた平面図である。
FIG. 2 is a plan view of the optical recording medium substrate of the present invention as viewed from the dielectric substrate side.

【図3】(a)〜(d)は本発明の光記録媒体用基板の
製造方法を示す説明図である。
3 (a) to 3 (d) are explanatory views showing a method for manufacturing an optical recording medium substrate of the present invention.

【図4】本発明の光記録媒体用基板を用いた光記録媒体
の一実施例を示す要部断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of an essential part showing an embodiment of an optical recording medium using the substrate for optical recording medium of the present invention.

【図5】本発明の光記録媒体用基板を用いた光記録媒体
の他の実施例を示す要部断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of essential parts showing another embodiment of an optical recording medium using the substrate for optical recording medium of the present invention.

【図6】本発明の光記録媒体用基板を用いた光記録媒体
の他の実施例を示す要部断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of essential parts showing another embodiment of an optical recording medium using the optical recording medium substrate of the present invention.

【図7】本発明の光記録媒体用基板における案内層の除
去パターンの他の実施例を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of the guide layer removal pattern in the optical recording medium substrate of the present invention.

【図8】本発明の光記録媒体用基板における案内層の除
去パターンの他の実施例を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing another embodiment of the guide layer removal pattern in the optical recording medium substrate of the present invention.

【図9】本発明の光記録媒体用基板における案内層の除
去パターンの他の実施例を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing another embodiment of the guide layer removal pattern in the optical recording medium substrate of the present invention.

【図10】(a)および(b)は本発明の光記録媒体用
基板の他の実施例を示す平面図である。
10A and 10B are plan views showing another embodiment of the substrate for an optical recording medium of the present invention.

【図11】本発明の光記録媒体用基板の他の実施例を示
す要部断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of essential parts showing another embodiment of the substrate for an optical recording medium of the present invention.

【図12】本発明の光記録媒体用基板の他の実施例を示
す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing another embodiment of the optical recording medium substrate of the present invention.

【図13】従来の基板を示す要部断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of an essential part showing a conventional substrate.

【図14】従来の基板を用いた光記録媒体を示す要部断
面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view of an essential part showing an optical recording medium using a conventional substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 光記録媒体用基板 12 誘電体基材 14 案内層 16 誘電体層 10 Optical Recording Medium Substrate 12 Dielectric Base Material 14 Guide Layer 16 Dielectric Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 弓子 名古屋市瑞穂区苗代町15番1号ブラザー工 業株式会社内 (72)発明者 浜口 琢哉 名古屋市瑞穂区苗代町15番1号ブラザー工 業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yumiko Ohashi 15-1 Naesehiro-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi Brother Industrial Co., Ltd. Within the corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体基材上に積層された、一部が所定
のパターンで除去されている案内層と、誘電体層とから
成ることを特徴とする光記録媒体用基板。
1. A substrate for an optical recording medium, which comprises a dielectric layer and a guide layer laminated on a dielectric base material, a part of which is removed in a predetermined pattern.
【請求項2】 請求項1に記載の光記録媒体用基板にお
いて、前記誘電体基材と、前記誘電体層の屈折率が等し
いか、ほぼ等しいことを特徴とする光記録媒体用基板。
2. The substrate for an optical recording medium according to claim 1, wherein the dielectric base material and the dielectric layer have the same or substantially the same refractive index.
【請求項3】 請求項1に記載の光記録媒体用基板にお
いて、前記誘電体層の前記誘電体基材と反対側の面が平
坦あるいはその凹凸が70nm以下であることを特徴とする
光記録媒体用基板。
3. The optical recording medium substrate according to claim 1, wherein the surface of the dielectric layer opposite to the dielectric substrate is flat or has irregularities of 70 nm or less. Substrate for medium.
JP4030919A 1992-02-18 1992-02-18 Substrate for optical recording medium Pending JPH05234135A (en)

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