JPH05230158A - Photo-setting resin composition - Google Patents

Photo-setting resin composition

Info

Publication number
JPH05230158A
JPH05230158A JP7249092A JP7249092A JPH05230158A JP H05230158 A JPH05230158 A JP H05230158A JP 7249092 A JP7249092 A JP 7249092A JP 7249092 A JP7249092 A JP 7249092A JP H05230158 A JPH05230158 A JP H05230158A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
parts
meth
acrylate
photopolymerizable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7249092A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3158619B2 (en
Inventor
Toshio Awaji
敏夫 淡路
Takao Omi
隆夫 臣
Hiromichi Tanaka
宏道 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP7249092A priority Critical patent/JP3158619B2/en
Publication of JPH05230158A publication Critical patent/JPH05230158A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3158619B2 publication Critical patent/JP3158619B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition, containing a specific photopolymerizable resin prepared from a novolak type epoxy resin and capable of providing a cured product having excellent surface hardness and heat resistance and moderate flexibility even' if the amount of a photopolymerization initiator is small or the light irradiation time is short. CONSTITUTION:The objective composition is obtained by initially reacting a novolak type epoxy resin of the formula [(n)>=2; R<1> is H or CH3; R<2> is H, CH3 or halogen] with an unsaturated monobasic acid [preferably (meth)acrylic acid] and a polybasic acid (preferably a >=8C dibasic acid such as 1,18- octadecanedicarboxylic acid), then converting the resultant reactional product through an ester bond into a polymer, further reacting the obtained reactional product with a polyfunctional (meth)acrylate having NCO group and >=2 photopolymerizable double bonds together, providing a photopolymerizable resin and blending the photopolymerizable resin with a photopolymerization initiator. The polyfunctional (meth)acrylate is obtained by reacting, e.g. isophorone diisocyanate with pentaerythritol triacrylate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、優れた表面硬度および
耐熱性かつ適度な可撓性を有する硬化膜を形成すること
ができ、水溶性にすることも可能な高感光度な光重合性
樹脂組成物に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention is capable of forming a cured film having excellent surface hardness, heat resistance, and appropriate flexibility, and is highly water-soluble and capable of being photopolymerized. The present invention relates to a resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性ポリマーは、初期はエッチング用
レジスト、印刷製版用感光材料等として用いられてきた
が、近年では、配線基板の微細加工や塗料、インキおよ
び接着剤等の分野で使用されるようになってきた。紫外
線(以下単に光と言う)によって硬化する樹脂組成物
は、加熱または乾燥時間の短縮による省エネルギーと有
機溶剤の使用量削減による無公害化が達成できる等多く
のメリットを有しているため、種々の用途に対応した研
究開発が盛んに行なわれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Photosensitive polymers were initially used as resists for etching, photosensitive materials for printing plate making, etc., but in recent years, they have been used in the fields of fine processing of wiring boards and paints, inks and adhesives. It started to come. A resin composition that is cured by ultraviolet rays (hereinafter simply referred to as "light") has many advantages such as energy saving by shortening heating or drying time and pollution-free by reducing the amount of organic solvent used. The research and development corresponding to the use of is actively carried out.

【0003】光重合性樹脂に最も強く要求される性能
は、硬化物の表面硬度および感光度の増大である。光重
合反応に必要不可欠な光重合開始剤は有毒であり、樹脂
の黄変を引き起こし、貯蔵安定性を悪化させ、さらに高
価であるという問題を有しているため、光重合開始剤の
使用量を少しでも減らすことができるように感光度を増
大させることは、光重合性樹脂において非常に重要なこ
とである。
The most strongly required performance of the photopolymerizable resin is an increase in the surface hardness and photosensitivity of the cured product. The photopolymerization initiator, which is indispensable for the photopolymerization reaction, is toxic, causes yellowing of the resin, deteriorates storage stability, and is expensive. It is very important in the photopolymerizable resin to increase the photosensitivity so as to reduce the amount of light.

【0004】従来光重合性樹脂として用いられているエ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートおよびポリ
エステルアクリレート等の感光度を増大させる手段とし
ては、樹脂に低分子量の多官能(メタ)アクリレートを
配合したり、あるいは樹脂に多官能(メタ)アクリレー
トを反応させることによって樹脂組成物中の光重合性二
重結合(ビニル基等)を増加させる方法がある。しかし
単純に光重合性二重結合を増やすだけでは、光硬化後の
物性が堅固だが脆弱になるというようにバランスの悪い
ものとなってしまう。このため、まず光硬化性樹脂の分
子量を上げ、次に分子量に応じたできるだけ多くの光重
合性二重結合を導入するという分子設計が必要となる。
As a means for increasing the photosensitivity of epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, etc., which have been conventionally used as photopolymerizable resins, a low molecular weight polyfunctional (meth) acrylate is blended with the resin or the resin is used. There is a method of increasing the number of photopolymerizable double bonds (vinyl group etc.) in the resin composition by reacting with polyfunctional (meth) acrylate. However, simply increasing the number of photopolymerizable double bonds results in unbalanced properties such that the physical properties after photocuring are solid but weak. For this reason, it is necessary to first increase the molecular weight of the photocurable resin and then to introduce as many photopolymerizable double bonds as possible according to the molecular weight.

【0005】上記分子設計を実際に行なう場合、ポリエ
ステルアクリレートやウレタンアクリレートの分子量を
増大させることは比較的容易であるが、1分子中に導入
できる光重合性二重結合の量が少なく、またエポキシア
クリレートの場合はエポキシ基の反応を利用して光重合
性二重結合を導入することができるが、最も多官能であ
るノボラック型エポキシ樹脂を用いても1分子中に導入
できる光重合性二重結合は10個前後であり、短い照射
時間で高性能な硬化物を得ることができるような分子設
計は困難であった。
When the above-mentioned molecular design is actually carried out, it is relatively easy to increase the molecular weight of polyester acrylate or urethane acrylate, but the amount of photopolymerizable double bond that can be introduced into one molecule is small, and the epoxy resin is not In the case of acrylate, the photopolymerizable double bond can be introduced by utilizing the reaction of the epoxy group, but the photopolymerizable double bond can be introduced in one molecule even with the most polyfunctional novolac type epoxy resin. The number of bonds was about 10, and it was difficult to design a molecule so that a high-performance cured product could be obtained in a short irradiation time.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記の事
情を考慮して、ノボラック型エポキシ樹脂を出発原料と
し、充分な分子量と光重合性二重結合を有する光重合性
樹脂を製造することによって、短い照射時間でも優れた
表面硬度と耐熱性および適度な可撓性を有する硬化物を
得ることができる高感光度な光硬化性樹脂組成物につい
ての研究をすでに開示した(出願中)。本発明では上記
の光硬化性樹脂組成物のより高性能化と、付加価値とし
て該光重合性樹脂を水溶性にすることの2点を目的とす
るものである。
In consideration of the above circumstances, the present inventors use a novolac type epoxy resin as a starting material to produce a photopolymerizable resin having a sufficient molecular weight and a photopolymerizable double bond. As a result, a study on a photo-curable resin composition with high photosensitivity that can obtain a cured product having excellent surface hardness, heat resistance and appropriate flexibility even with a short irradiation time has already been disclosed (pending application). .. The present invention has two objectives of improving the performance of the photocurable resin composition and making the photopolymerizable resin water-soluble as an added value.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、光硬化性樹脂
組成物が、式
The present invention provides a photocurable resin composition of the formula

【0008】[0008]

【化2】 [Chemical 2]

【0009】(ただしn≧2,R1 =HあるいはC
3,R2 =H,CH3,あるいはハロゲン)で示される
ノボラック型エポキシ樹脂を不飽和一塩基酸および多塩
基酸と反応させ、エステル結合を介して多量体化された
反応物(I)に、1分子中にイソシアネート基と2個以
上の光重合性二重結合を有する多官能(メタ)アクリレ
ートを反応させて得られる光重合性樹脂および光重合開
始剤を含有することを要旨とする。
(However, n ≧ 2, R 1 = H or C
H 3 , R 2 = H, CH 3 , or halogen), a novolak type epoxy resin is reacted with an unsaturated monobasic acid and a polybasic acid, and the reaction product (I) is polymerized through an ester bond. In addition, the gist is to contain a photopolymerizable resin and a photopolymerization initiator obtained by reacting a polyfunctional (meth) acrylate having an isocyanate group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule. ..

【0010】[0010]

【作用】本発明の概要は、まずノボラック型エポキシ樹
脂(a)と不飽和一塩基酸(b)および多塩基酸(c)
との反応によって、分子量の増大した光重合性を有する
反応物(I)が生成する。この反応物(I)中に存在し
ているヒドロキシル基に、1分子中にイソシアネート基
と2個以上の光重合性二重結合を有する多官能(メタ)
アクリレート(d)を反応させ、光重合性二重結合がさ
らに数多く導入された反応物(II)を得るものである。
またさらに、この反応物(II)を水溶性にするために、
酸無水物(e)と反応物(II)中のヒドロキシル基を反
応させてカルボキシル基を導入する。この反応生成物を
反応物(III)とする。
The outline of the present invention is as follows. First, a novolac type epoxy resin (a), an unsaturated monobasic acid (b) and a polybasic acid (c).
By the reaction with, a reaction product (I) having a photopolymerizability with an increased molecular weight is produced. Polyfunctional (meth) having an isocyanate group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule in the hydroxyl group present in this reaction product (I)
The acrylate (d) is reacted to obtain a reaction product (II) in which a large number of photopolymerizable double bonds are introduced.
Furthermore, in order to make this reaction product (II) water-soluble,
The acid anhydride (e) is reacted with the hydroxyl group in the reaction product (II) to introduce a carboxyl group. This reaction product is referred to as a reaction product (III).

【0011】ここで、多官能(メタ)アクリレート
(d)による光重合性二重結合導入反応および酸無水物
(e)によるカルボキシル基導入反応の順序は、これら
の反応がすべてヒドロキシル基に対するものであるか
ら、必ずしも上記の順序である必要はない。以下本発明
を詳細に説明する。
Here, the order of the photopolymerizable double bond introduction reaction by the polyfunctional (meth) acrylate (d) and the carboxyl group introduction reaction by the acid anhydride (e) is that these reactions are all for hydroxyl groups. Therefore, the order does not necessarily have to be the above. The present invention will be described in detail below.

【0012】本発明において使用されるノボラック型エ
ポキシ樹脂(a)は、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等があり、
これらは常法によりそれぞれのノボラック樹脂にエピク
ロルヒドリン類を反応させて得られるものである。一般
的には、下記構造式を示すことができる。
The novolac type epoxy resin (a) used in the present invention includes phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and the like.
These are obtained by reacting each novolak resin with epichlorohydrin by a conventional method. Generally, the following structural formula can be shown.

【0013】[0013]

【化3】 [Chemical 3]

【0014】(ただしn≧2,R1 =HあるいはC
3,R2 =H,CH3,あるいはハロゲン)この時のn
は2以上であり、より好ましくは2≦n<10である。
反応物(I)の原料であるノボラック型エポキシ樹脂
(a)において、nの値が10以上のものは製造上の理
由で入手が困難であるため、n<10とした。またnが
2より小さい場合は、多塩基酸(c)との反応で多量体
化する際に未反応物が残りやすく、さらに分子量の増大
効果も認められないため、光硬化性樹脂組成物とした時
の硬化性や物性が劣るものとなる。
(However, n ≧ 2, R 1 = H or C
H 3 , R 2 = H, CH 3 , or halogen) n at this time
Is 2 or more, and more preferably 2 ≦ n <10.
In the novolac type epoxy resin (a), which is the raw material of the reaction product (I), it is difficult to obtain a value of n of 10 or more for manufacturing reasons, and thus n <10. When n is less than 2, unreacted substances are likely to remain when polymerized by the reaction with the polybasic acid (c), and the effect of increasing the molecular weight is not recognized. When it is done, the curability and the physical properties become poor.

【0015】前記ノボラック型エポキシ樹脂(a)と反
応させる不飽和一塩基酸(b)とは、分子中に光重合性
の不飽和結合とカルボキシル基を有する化合物であり、
例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸等が
挙げられるが、特に(メタ)アクリル酸が好ましく使用
される。
The unsaturated monobasic acid (b) reacted with the novolac type epoxy resin (a) is a compound having a photopolymerizable unsaturated bond and a carboxyl group in the molecule,
Examples thereof include (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and the like, and (meth) acrylic acid is particularly preferably used.

【0016】また多塩基酸(c)は、1分子中にカルボ
キシル基を2個以上有するものであり、中でも多量体化
の際にゲル化を起こしにくい二塩基酸が好ましく使用で
きる。例えばコハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼ
ライン酸、フマル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が
挙げられるが、光硬化物の硬度と強靭性をよりバランス
良く付与するという点からは、多塩基酸(c)として、
酸基に含まれる以外の炭素原子の合計が18個以上の長
鎖二塩基酸を用いることが特に好ましい。
The polybasic acid (c) has two or more carboxyl groups in one molecule, and among them, a dibasic acid that hardly causes gelation during multimerization can be preferably used. Examples include succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, fumaric acid, isophthalic acid, and terephthalic acid, but from the viewpoint of imparting a better balance of hardness and toughness to the photocured product, a polybasic acid ( c),
It is particularly preferable to use a long-chain dibasic acid having a total of 18 or more carbon atoms other than those contained in the acid group.

【0017】この長鎖二塩基酸の具体的な例として、1,
18−オクタデカンジカルボン酸、1,16−(6−エチルヘ
キサデカン)-ジカルボン酸、1,18-(7,12−オクタデカ
ジエン)-ジカルボン酸、リノール酸等から得られるダイ
マー酸、水添ダイマー酸、さらには両末端カルボキシル
基含有液状ポリブタジエン、両末端カルボキシル基含有
液状ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、両末端カ
ルボキシル基含有液状ポリアクリル酸ブチル等が挙げら
れる。
As a concrete example of this long-chain dibasic acid, 1,
Dimer acid obtained from 18-octadecane dicarboxylic acid, 1,16- (6-ethylhexadecane) -dicarboxylic acid, 1,18- (7,12-octadecadiene) -dicarboxylic acid, linoleic acid, hydrogenated dimer acid Further, liquid polybutadiene containing carboxyl groups at both ends, liquid butadiene-acrylonitrile copolymer containing carboxyl groups at both ends, liquid polybutyl acrylate containing carboxyl groups at both ends, and the like can be mentioned.

【0018】ノボラック型エポキシ樹脂(a)と不飽和
一塩基酸(b)および多塩基酸(c)の反応は、ノボラ
ック型エポキシ樹脂(a)中のエポキシ基1化学当量に
対し、不飽和一塩基酸(b)および多塩基酸(c)中の
カルボキシ基の和が0.9〜1.1化学当量で、しかも
多塩基酸(c)の使用量が、ノボラック型エポキシ樹脂
(a)1モルに対して0.2〜0.8モル、より好まし
くは0.3〜0.7モルになるような割合で反応させ
る。
The reaction of the novolac type epoxy resin (a) with the unsaturated monobasic acid (b) and the polybasic acid (c) is carried out by the reaction of the unsaturated monobasic acid (a) with one equivalent of the epoxy group in the novolac type epoxy resin (a). The sum of the carboxy groups in the basic acid (b) and the polybasic acid (c) is 0.9 to 1.1 chemical equivalents, and the amount of the polybasic acid (c) used is the novolac type epoxy resin (a) 1 The reaction is carried out at a ratio of 0.2 to 0.8 mol, more preferably 0.3 to 0.7 mol, based on mol.

【0019】不飽和一塩基酸および多塩基酸によるエポ
キシ基の開環反応および多量体化反応は、これらを上記
の比率で混合し、後述の溶剤または希釈性モノマーの存
在あるいは非存在下で、ハイドロキノンや酸素等の重合
禁止剤および三級アミンやクロム化合物等のエステル化
触媒の共存下、80〜130℃で行なわれ、エポキシ基
の開環によるヒドロキシル基と、不飽和一塩基酸による
光重合性二重結合を有し、多塩基酸を介したエステル結
合によって高分子量化された反応物(I)が生成する。
In the ring-opening reaction and the multimerization reaction of the epoxy group with the unsaturated monobasic acid and polybasic acid, these are mixed in the above-mentioned ratios, and in the presence or absence of a solvent or a diluting monomer described below, It is carried out at 80 to 130 ° C in the coexistence of a polymerization inhibitor such as hydroquinone or oxygen and an esterification catalyst such as a tertiary amine or a chromium compound, and photopolymerization by a hydroxyl group due to ring opening of an epoxy group and an unsaturated monobasic acid. A reactive product (I) having a polymerizable double bond and having a high molecular weight by an ester bond via a polybasic acid is produced.

【0020】反応物(I)は充分な分子量と、不飽和一
塩基酸によって導入された二重結合を有してはいるが、
さらに高感光度化のために、多官能(メタ)アクリレー
ト(d)を用いて光重合性二重結合を導入する。ここで
用いられる、1分子中にイソシアネート基と光重合性二
重結合を有する多官能(メタ)アクリレート(d)と
は、例えば1分子中に反応性の異なるイソシアネート基
を2個有しているジイソシアネート(f)と、1分子中
に1個のヒドロキシル基と2個以上の光重合性の二重結
合を有する多官能(メタ)アクリレート(g)を反応さ
せることによって得ることができる。
Reactant (I) has sufficient molecular weight and a double bond introduced by an unsaturated monobasic acid,
In order to further increase the photosensitivity, a polyfunctional (meth) acrylate (d) is used to introduce a photopolymerizable double bond. The polyfunctional (meth) acrylate (d) having an isocyanate group and a photopolymerizable double bond in one molecule used herein has, for example, two isocyanate groups having different reactivity in one molecule. It can be obtained by reacting diisocyanate (f) with a polyfunctional (meth) acrylate (g) having one hydroxyl group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule.

【0021】ジイソシアネート(f)としては、2,4
−トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート、水添2,4−トルエンジイソシアネート等が挙げ
られる。また、多官能(メタ)アクリレート(g)とし
ては、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリス(ヒ
ドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリ
レート、トリメチルプロパンジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙
げられる。
As diisocyanate (f), 2,4
-Toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated 2,4-toluene diisocyanate and the like can be mentioned. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate (g) include glycerin di (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylpropane di (meth) acrylate,
Examples thereof include pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.

【0022】両者の反応比は、ジイソシアネート(f)
1モルに対し、多官能(メタ)アクリレート(g)0.
9〜1.2モルが適しており、両者を溶剤または希釈性
モノマーの存在下あるいは非存在下、ハイドロキノンや
酸素等の重合禁止剤および三級アミンや錫化合物等のウ
レタン化触媒の共存下で室温〜130℃の温度範囲のよ
うな条件で反応させることにより1分子中に1個のイソ
シアネート基と2個以上の光重合性二重結合を有する多
官能(メタ)アクリレート(d)が得られる。
The reaction ratio of the two is such that the diisocyanate (f)
Polyfunctional (meth) acrylate (g) 0.
9 to 1.2 mol is suitable, both in the presence or absence of a solvent or a diluting monomer, in the coexistence of a polymerization inhibitor such as hydroquinone or oxygen and a urethanization catalyst such as a tertiary amine or a tin compound. A polyfunctional (meth) acrylate (d) having one isocyanate group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule can be obtained by reacting in a temperature range of room temperature to 130 ° C. ..

【0023】多官能(メタ)アクリレート(d)と反応
物(I)との反応は、多官能(メタ)アクリレート
(d)中のイソシアネート基と反応物(I)中に存在し
ているヒドロキシル基との間で行なわれるウレタン結合
を利用して、さらに多くの光重合性二重結合を導入する
ものである。両者の反応比は、反応物(I)1モルに対
し、多官能(メタ)アクリレート(d)0.1〜10.
0モルが適しており、前記ジイソシアネート(f)と多
官能(メタ)アクリレート(g)の反応と同様の条件で
反応させることができ、この反応によって反応物(II)
が生成する。
The reaction between the polyfunctional (meth) acrylate (d) and the reaction product (I) is carried out by reacting the isocyanate group in the polyfunctional (meth) acrylate (d) with the hydroxyl group present in the reaction product (I). By utilizing the urethane bond formed between the and, more photopolymerizable double bonds are introduced. The reaction ratio of the both is such that the polyfunctional (meth) acrylate (d) is 0.1 to 10.
0 mol is suitable, and the diisocyanate (f) can be reacted under the same conditions as the reaction of the polyfunctional (meth) acrylate (g), and by this reaction, the reaction product (II)
Is generated.

【0024】この反応物(II)は、光重合性二重結合と
充分な分子量を有しており、適度な可撓性を持った光硬
化物を与えるものであるが、本発明においてはさらに付
加価値として水溶性を付与するため、酸無水物(e)を
反応させて分子中にカルボキシル基を導入した反応物
(III)を生成するものである。
The reaction product (II) has a photopolymerizable double bond and a sufficient molecular weight to give a photocured product having appropriate flexibility. In order to impart water solubility as an added value, the acid anhydride (e) is reacted to produce a reaction product (III) having a carboxyl group introduced into the molecule.

【0025】酸無水物(e)としては、無水フタル酸、
無水コハク酸、無水マレイン酸、無水テトラヒドロフタ
ル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドメチレン−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ
無水フタル酸等の二塩基酸無水物や、無水トリメリット
酸等の三塩基酸無水物、あるいはビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ブ
タンテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族あ
るいは芳香族四カルボン酸二無水物等の四塩基酸二無水
物等が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用す
ることができる。
As the acid anhydride (e), phthalic anhydride,
Dibasic acid anhydrides such as succinic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylene-tetrahydrophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, trimellitic anhydride, etc. Tribasic acid anhydride, or biphenyl tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, butane tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride,
Examples thereof include tetrabasic acid dianhydrides such as aliphatic or aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides such as benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, and one or more of these can be used.

【0026】酸無水物(e)の使用量は、反応物(II)
中のヒドロキシル基1化学当量あたり、0.1〜0.9
化学当量が適しており、反応条件は溶剤または希釈性モ
ノマーの存在下あるいは非存在下に、ハイドロキノンや
酸素等の重合禁止剤また必要により三級アミン等の開環
反応触媒の共存下、80〜130℃の条件で反応させる
ことができる。
The amount of the acid anhydride (e) used is the amount of the reaction product (II)
0.1 to 0.9 per 1 chemical equivalent of hydroxyl group in
The chemical equivalent is suitable, and the reaction condition is 80 to 80% in the presence or absence of a solvent or a diluting monomer, in the presence of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and oxygen, and optionally a ring-opening reaction catalyst such as a tertiary amine. The reaction can be performed under the condition of 130 ° C.

【0027】上記酸無水物(e)はヒドロキシル基との
反応で開環反応を起こすので、反応物(II)中に存在し
ているヒドロキシル基と酸無水物の開環基の内の一つと
の間にエステル結合が形成され、同時に分子中にカルボ
キシル基が導入された反応物(III)が生成する。この酸
無水物によるカルボキシル基導入反応は、多官能(メ
タ)アクリレートによって光重合性二重結合を導入する
前に行なってもよい。
Since the acid anhydride (e) causes a ring-opening reaction by reacting with a hydroxyl group, one of the hydroxyl group existing in the reactant (II) and the ring-opening group of the acid anhydride is present. An ester bond is formed during the reaction, and at the same time, a reaction product (III) in which a carboxyl group is introduced into the molecule is produced. The carboxyl group-introducing reaction with the acid anhydride may be performed before introducing the photopolymerizable double bond with the polyfunctional (meth) acrylate.

【0028】このようにして得られた光重合性樹脂は、
カルボキシル基を有しているため、アルカリでカルボキ
シル基の一部もしくは全部を中和して塩として使用する
ことにより水溶性を付与できる。
The photopolymerizable resin thus obtained is
Since it has a carboxyl group, water solubility can be imparted by neutralizing part or all of the carboxyl group with an alkali and using it as a salt.

【0029】ここで使用できるアルカリとしては、例え
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物;水酸化カルシ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属化合物;ア
ンモニア;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノプロピルアミン、ジメチルプロピル
アミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポ
リエチレンイミン等の水溶性有機アミン類が挙げられ、
これらの1種または2種以上を使用することができる。
Examples of the alkali that can be used here include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide,
Alkali metal compounds such as potassium hydroxide; Alkaline earth metal compounds such as calcium hydroxide and calcium carbonate; Ammonia; Monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monopropylamine, dimethylpropylamine, monoethanol Amine, diethanolamine,
Examples include water-soluble organic amines such as triethanolamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, dimethylaminoethyl methacrylate, and polyethyleneimine.
These 1 type (s) or 2 or more types can be used.

【0030】これらアルカリの使用量は光重合性樹脂中
のカルボキシル基1化学当量に対し0.2〜1.1化学
当量が好ましい。また、パターンや画像形成材料として
用いる場合には、非露光部分の光硬化性樹脂組成物をこ
れらアルカリの水溶液で容易に溶解除去することが可能
となる。
The amount of these alkalis used is preferably 0.2 to 1.1 chemical equivalents to 1 chemical equivalent of the carboxyl group in the photopolymerizable resin. Further, when it is used as a pattern or an image forming material, it becomes possible to easily dissolve and remove the photocurable resin composition in the unexposed portion with an aqueous solution of these alkalis.

【0031】本発明による光重合性樹脂は、従来のノボ
ラック骨格を有する光重合性樹脂に比べ、分子量が大幅
に大きくなっているとともに、1分子中の光重合をする
ことのできる二重結合が著しく増大しているため、わず
かな光重合反応で容易に樹脂の硬化が起こるような高感
光度な光硬化性樹脂組成物を与えることができる。ま
た、3次元化反応の確率がより高くなることから耐熱性
に優れ、分子量が増大しているため硬化物の脆さも解消
され適度な可撓性を有するものである。
The photopolymerizable resin according to the present invention has a molecular weight significantly larger than that of a conventional photopolymerizable resin having a novolak skeleton and a double bond capable of photopolymerization in one molecule. Since the amount is remarkably increased, it is possible to provide a photocurable resin composition having a high photosensitivity such that the resin is easily cured by a slight photopolymerization reaction. Further, since the probability of the three-dimensional reaction becomes higher, the heat resistance is excellent, and since the molecular weight is increased, the brittleness of the cured product is eliminated and the resin has appropriate flexibility.

【0032】上記光重合性樹脂に光重合開始剤を添加す
ることによって本発明の光硬化性樹脂組成物を得ること
ができる。
The photocurable resin composition of the present invention can be obtained by adding a photopolymerization initiator to the above photopolymerizable resin.

【0033】光重合開始剤としては公知のものを使用で
き、具体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインとそのア
ルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロア
セトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチルアント
ラキノン、2−アミルアントラキノン、2−t−ブチル
アントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアント
ラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4
−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサ
ントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチル
ケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;
ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2−メチル−1
−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノー
プロパン−1−オンや2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1;
アシルホスフィンオキサイド類およびキサントン類等が
挙げられる。
Known photopolymerization initiators can be used, and specifically, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and other benzoins and their alkyl ethers; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl. Acetophenones such as acetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4
-Thioxanthones such as diisopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal;
Benzophenones such as benzophenone; 2-methyl-1
-[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one or 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1;
Examples thereof include acylphosphine oxides and xanthones.

【0034】これらの光重合開始剤は1種または2種以
上の混合物として使用され、光硬化性樹脂組成物中に
0.5〜15重量%含まれていることが好ましい。光重
合開始剤の量が0.5重量%より少ない場合には、光照
射時間を増やさなければならなかったり、光照射を行な
っても重合が起こりにくかったりするため、適切な表面
硬度が得られなくなる。また、光重合開始剤の量が15
重量%を超える場合には、メリットがないだけでなく、
本発明の目的であるところの開始剤量削減に反するので
好ましくない。
These photopolymerization initiators are used as one kind or as a mixture of two or more kinds, and are preferably contained in the photocurable resin composition in an amount of 0.5 to 15% by weight. When the amount of the photopolymerization initiator is less than 0.5% by weight, it is necessary to increase the light irradiation time or it is difficult to cause the polymerization even if the light irradiation is performed, so that an appropriate surface hardness can be obtained. Disappear. Further, the amount of the photopolymerization initiator is 15
When it exceeds the weight%, not only is there no merit,
It is not preferable because it is against the reduction of the amount of the initiator which is the object of the present invention.

【0035】本発明による光硬化性樹脂組成物は、前記
の光重合性樹脂および光重合開始剤の他に、必要により
希釈性モノマーあるいは溶媒を加えることもできる。
In the photocurable resin composition according to the present invention, a diluting monomer or solvent may be added, if necessary, in addition to the above-mentioned photopolymerizable resin and photopolymerization initiator.

【0036】希釈性モノマーあるいは溶媒は、5〜60
重量%程度の添加が好ましい。希釈性モノマーとして
は、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、β−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、(2−オキソ−
1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチル(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト等が挙げられる。
The diluting monomer or solvent is 5 to 60.
Addition of about wt% is preferable. Examples of the diluting monomer include diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, β-hydroxyethyl (meth) acrylate, and (2-oxo-).
1,3-dioxolan-4-yl) -methyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Acrylate etc. are mentioned.

【0037】溶媒としてはトルエン、キシレン等の炭化
水素類;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ
類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトー
ル類;酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール等のエステル
類;メチルエチルケトン等のケトン類;ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類等が挙げられ、
これらの希釈性モノマーあるいは溶媒は、単独または混
合物として添加することも可能である。
As the solvent, hydrocarbons such as toluene and xylene; cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve; carbitols such as carbitol and butyl carbitol; esters such as cellosolve acetate and carbitol acetate; ketones such as methyl ethyl ketone. Kinds; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and the like,
These diluting monomers or solvents can be added alone or as a mixture.

【0038】本発明による光硬化性樹脂組成物中には、
さらに必要に応じてタルク、クレー等の充填材、着色用
顔料、消泡剤、カップリング剤、レベリング剤等や、エ
ポキシ樹脂およびエポキシ硬化剤等を添加することもで
きる。
In the photocurable resin composition according to the present invention,
Further, if necessary, a filler such as talc or clay, a coloring pigment, a defoaming agent, a coupling agent, a leveling agent, etc., an epoxy resin, an epoxy curing agent, etc. can be added.

【0039】本発明による光硬化性樹脂組成物は、イン
キ、塗料、ワニス、接着剤、各種レジスト、印刷製版、
画像形成材料等に利用することができる。
The photocurable resin composition according to the present invention comprises an ink, a paint, a varnish, an adhesive, various resists, a printing plate,
It can be used as an image forming material.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明を実施例により、具体的に説明
する。なお実施例中の部および%は重量基準である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Parts and% in the examples are based on weight.

【0041】合成例1 イソホロンジイソシアネート444部に、反応温度を5
0℃に保持しながら、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混
合物(重量比で1:1)1192部、ジブチル錫ジラウ
レート6.5部およびベンゾキノン0.4部の混合物を
1時間で滴下し、その後50℃で3時間、さらに100
℃で2時間反応させ、1分子中にイソシアネート基と2
個以上の光重合性二重結合を有する多官能(メタ)アク
リレートを64%含む、ペンタエリスリトールテトラア
クリレートとの混合物(d−1)を得た。
Synthesis Example 1 To 444 parts of isophorone diisocyanate was added a reaction temperature of 5
While maintaining at 0 ° C., a mixture of 1192 parts of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (1: 1 by weight ratio), 6.5 parts of dibutyltin dilaurate and 0.4 parts of benzoquinone was added dropwise over 1 hour. , Then at 50 ° C for 3 hours, then 100
After reacting for 2 hours at ℃, 2
A mixture (d-1) with pentaerythritol tetraacrylate containing 64% of polyfunctional (meth) acrylate having one or more photopolymerizable double bonds was obtained.

【0042】実施例1 フェノールノボラック型エポキシ樹脂EPPN−201
(日本化薬製、エポキシ当量187、n=5)340部
に、アクリル酸109部、アジピン酸22部、トルエン
80部、エチルカルビトールアセテート120部、トリ
エチルアミン1.7部およびハイドロキノン0.3部を
加え、110℃で12時間反応させ酸価3.4になった
ことを確認後、50℃まで冷却し、合成例1で得られた
(d−1)298部を50℃で1時間かけて滴下し、そ
の後50℃で2時間、さらに100℃で2時間反応さ
せ、赤外吸収スペクトルによりイソシアネート基が完全
に消失したことを確認し、反応物(II)を68%含む、ト
ルエン、エチルカルビトールアセテートおよびペンタエ
リスリトールテトラアクリレートとの混合物(II−1)
を得た。
Example 1 Phenolic novolac type epoxy resin EPPN-201
(Nippon Kayaku, epoxy equivalent 187, n = 5) 340 parts, acrylic acid 109 parts, adipic acid 22 parts, toluene 80 parts, ethyl carbitol acetate 120 parts, triethylamine 1.7 parts and hydroquinone 0.3 parts. Was added, the mixture was reacted at 110 ° C. for 12 hours, and after confirming that the acid value was 3.4, the mixture was cooled to 50 ° C., and 298 parts of (d-1) obtained in Synthesis Example 1 was taken at 50 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was reacted at 50 ° C. for 2 hours and further at 100 ° C. for 2 hours, and it was confirmed by infrared absorption spectrum that the isocyanate group had completely disappeared. Toluene and ethyl containing 68% of the reaction product (II) were used. Mixture with carbitol acetate and pentaerythritol tetraacrylate (II-1)
Got

【0043】実施例2 フェノールノボラック型エポキシ樹脂EPPN−201
(日本化薬製、エポキシ当量187、n=5)340部
に、アクリル酸104部、1,18−オクタデカンジカ
ルボン酸SL−20(岡村製油製、酸価332)63
部、ブチルセロソルブアセテート217部、トリエチル
アミン1.8部およびハイドロキノン0.3部を加え、
110℃で12時間反応させ酸価2.8になったことを
確認後、50℃まで冷却し、合成例1で得られた(d−
1)298部を50℃で1時間かけて滴下し、その後5
0℃で2時間、さらに100℃で2時間反応させ、赤外
吸収スペクトルによりイソシアネート基が完全に消失し
たことを確認し、反応物(II)を68%を含むブチルセ
ロソルブアセテートとペンタエリスリトールテトラアク
リレートとの混合物(II−2)を得た。
Example 2 Phenolic novolac type epoxy resin EPPN-201
(Nippon Kayaku, epoxy equivalent 187, n = 5) 340 parts, acrylic acid 104 parts, 1,18-octadecanedicarboxylic acid SL-20 (Okamura Oil, acid value 332) 63
Parts, 217 parts butyl cellosolve acetate, 1.8 parts triethylamine and 0.3 parts hydroquinone,
After confirming that the acid value was 2.8 by reacting at 110 ° C. for 12 hours, it was cooled to 50 ° C. and obtained in Synthesis Example 1 (d−
1) 298 parts was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour, and then 5
After reacting at 0 ° C. for 2 hours and further at 100 ° C. for 2 hours, it was confirmed by infrared absorption spectrum that the isocyanate group had completely disappeared, and butyl cellosolve acetate containing 68% of the reaction product (II) and pentaerythritol tetraacrylate were added. To obtain a mixture (II-2).

【0044】実施例3 実施例2で得られた混合物(II−2)400部に、無水
フタル酸63部、ブチルセロソルブアセテート30部を
加え、100℃で5時間反応させ、酸価71の反応物
(III )を68%含むブチルセロソルブアセテートとペ
ンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物(II
I −1)を得た。
Example 3 To 400 parts of the mixture (II-2) obtained in Example 2, 63 parts of phthalic anhydride and 30 parts of butyl cellosolve acetate were added and reacted at 100 ° C. for 5 hours to give a reaction product having an acid value of 71. A mixture of butyl cellosolve acetate containing 68% (III) and pentaerythritol tetraacrylate (II
I-1) was obtained.

【0045】実施例4 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂EOCN−104
S(日本化薬製、エポキシ当量220、n=7〜8)3
22部に、アクリル酸94部、ダイマー酸バーサタイム
228(ヘンケル白水製、酸価194)58部、エチル
カルビトールアセテート104部、トルエン104部、
トリフェニルホスフィン2部およびメチルハイドロキノ
ン0.2部を加え、110℃で14時間反応させ、反応
物の酸価が3.7になったことを確認後、50℃まで冷
却し、合成例1で得られた(d−1)186部を50℃
で1時間かけて滴下し、その後50℃で2時間、さらに
100℃で2時間反応させ、赤外吸収スペクトルにより
イソシアネート基が完全に消失したことを確認し、反応
物(II)を68%含むエチルカルビトールアセテート、
トルエンおよびペンタエリスリトールテトラアクリレー
トとの混合物(II−3)を得た。
Example 4 Cresol novolac type epoxy resin EOCN-104
S (Nippon Kayaku, epoxy equivalent 220, n = 7 to 8) 3
In 22 parts, 94 parts of acrylic acid, 58 parts of dimer acid Versatime 228 (made by Henkel Hakusui, acid value 194), 104 parts of ethyl carbitol acetate, 104 parts of toluene,
Triphenylphosphine (2 parts) and methylhydroquinone (0.2 parts) were added, and the mixture was reacted at 110 ° C. for 14 hours. After confirming that the acid value of the reaction product reached 3.7, the mixture was cooled to 50 ° C. 186 parts of the obtained (d-1) was added at 50 ° C.
The mixture was added dropwise over 1 hour at 50 ° C. for 2 hours and then at 100 ° C. for 2 hours, and it was confirmed by infrared absorption spectrum that the isocyanate group had completely disappeared, and 68% of the reaction product (II) was contained. Ethyl carbitol acetate,
A mixture (II-3) with toluene and pentaerythritol tetraacrylate was obtained.

【0046】実施例5 実施例4で得られた混合物(II−3)400部に無水テ
トラヒドロフタル酸、78部、エチルカルビトールアセ
テート37部を加え、100℃で6時間反応させ、酸価
82の反応物 (III)を68%含むエチルカルビトールア
セテート、トルエン、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートとの混合物(III −2)を得た。
Example 5 To 400 parts of the mixture (II-3) obtained in Example 4, tetrahydrophthalic anhydride (78 parts) and ethylcarbitol acetate (37 parts) were added, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours to give an acid value of 82. A mixture (III-2) containing ethyl carbitol acetate containing 68% of the reaction product (III), toluene, and pentaerythritol tetraacrylate was obtained.

【0047】実施例6 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂ECN1280
(チバガイギー製、エポキシ当量227、n=4.1)
319部にアクリル酸75部、水添ダイマー酸バーサダ
イム52(白水ヘンケル製、酸価195)104部、ト
ルエン107部、エチルカルビトールアセテート107
部、ジメチルベンジルアミン1.8部およびハイドロキ
ノン0.4部を加え、110℃で12時間反応させ、反
応物の酸価が4.0になったことを確認後、50℃まで
冷却し、合成例1で得られた(d−1)230部を50
℃で1時間かけて滴下し、その後50℃で2時間、さら
に100℃で2時間反応させ、赤外吸収スペクトルによ
りイソシアネート基が完全に消失したことを確認し、反
応物(II)を69%含むトルエン、エチルカルビトール
およびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合
物(II−4)を得た。
Example 6 Cresol novolac type epoxy resin ECN1280
(Ciba Geigy, epoxy equivalent 227, n = 4.1)
Acrylic acid 75 parts to 319 parts, hydrogenated dimer acid Versadim 52 (manufactured by Hakusui Henkel, acid value 195) 104 parts, toluene 107 parts, ethyl carbitol acetate 107
Part, dimethylbenzylamine (1.8 parts) and hydroquinone (0.4 parts) were added, and the mixture was reacted at 110 ° C. for 12 hours. After confirming that the acid value of the reaction product reached 4.0, the mixture was cooled to 50 ° C. and synthesized. 50 parts of 230 parts of (d-1) obtained in Example 1
The mixture was added dropwise at 1 ° C over 1 hour, then reacted at 50 ° C for 2 hours and further at 100 ° C for 2 hours, and it was confirmed by infrared absorption spectrum that the isocyanate group had completely disappeared, and the reaction product (II) was 69%. A mixture (II-4) of toluene, ethyl carbitol and pentaerythritol tetraacrylate was obtained.

【0048】実施例7 実施例6で得られた混合物(II−4)400部に無水マ
レイン酸41部、エチルカルビトールアセテート19部
を加え100℃で5時間反応させ、酸価75の反応物
(III )を68%含むトルエン、エチルカルビトールア
セテートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレー
トの混合物(III −3)を得た。
Example 7 To 400 parts of the mixture (II-4) obtained in Example 6, 41 parts of maleic anhydride and 19 parts of ethyl carbitol acetate were added and reacted at 100 ° C. for 5 hours to give a reaction product having an acid value of 75. A mixture (III-3) of toluene, ethylcarbitol acetate and pentaerythritol tetraacrylate containing 68% of (III) was obtained.

【0049】比較例1 実施例6で用いたクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
227部にアクリル酸72部、トルエン86部、ジメチ
ルベンジルアミン1.1部およびメチルハイドロキノン
0.2部を加え、110℃で12時間反応させた。酸価
は3.5であった。反応物にさらにペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート42部を加え、比較反応物(I)
を70%含むトルエンおよびペンタエリスリトールテト
ラアクリレートとの混合物(E−1)を得た。
Comparative Example 1 72 parts of acrylic acid, 86 parts of toluene, 1.1 parts of dimethylbenzylamine and 0.2 parts of methylhydroquinone were added to 227 parts of the cresol novolac type epoxy resin used in Example 6 and the mixture was heated at 110 ° C. for 12 hours. Reacted for hours. The acid value was 3.5. 42 parts of pentaerythritol tetraacrylate was further added to the reaction product to prepare a comparative reaction product (I).
To obtain a mixture (E-1) containing 70% of toluene and pentaerythritol tetraacrylate.

【0050】比較例2 実施例6で用いたクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
454部にアクリル酸144部、エチルカルビトールア
セテート128部、トルエン128部、ジメチルベンジ
ルアミン2.0部およびハイドロキノン0.4部を加
え、110℃で12時間反応させ、反応物の酸価が3.
8になったことを確認後50℃まで冷却し、合成例で得
られた(d−1)164部を50℃で1時間かけて滴下
し、その後50℃で2時間、さらに100℃で2時間反
応させ、赤外吸収スペクトルによりイソシアネート基が
完全に消失したことを確認し、比較反応物(II)を68
%含むトルエン、エチルカルビトールアセテートおよび
ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(E
−2)を得た。
Comparative Example 2 To 454 parts of the cresol novolac type epoxy resin used in Example 6, 144 parts of acrylic acid, 128 parts of ethyl carbitol acetate, 128 parts of toluene, 2.0 parts of dimethylbenzylamine and 0.4 part of hydroquinone were added. In addition, the reaction was carried out at 110 ° C. for 12 hours, and the acid value of the reaction product was 3.
After confirming that it was 8, the mixture was cooled to 50 ° C., 164 parts of (d-1) obtained in the synthesis example was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour, then 50 ° C. for 2 hours, and further 100 ° C. for 2 hours. After reacting for a period of time, it was confirmed by infrared absorption spectrum that the isocyanate group had completely disappeared.
% Of toluene, ethyl carbitol acetate and pentaerythritol tetraacrylate (E
-2) was obtained.

【0051】比較例3 比較例2で得られた混合物(E−2)400部に無水テ
トラヒドロフタル酸72部およびエチルカルビトールア
セテート31部を加え、100℃で6時間反応させ、酸
価77の比較反応物(III )を68%含む、トルエン、
エチルカルビトールアセテート、およびペンタエリスリ
トールテトラアクリレートとの比較混合物(E−3)を
得た。
Comparative Example 3 To 400 parts of the mixture (E-2) obtained in Comparative Example 2 was added 72 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 31 parts of ethylcarbitol acetate, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours to give an acid value of 77. Toluene containing 68% of the comparative reactant (III),
A comparative mixture (E-3) with ethyl carbitol acetate and pentaerythritol tetraacrylate was obtained.

【0052】比較例4 実施例6で用いたクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
454部にアクリル酸113部、アジピン酸31部、ト
ルエン85部、エチルカルビトールアセテート85部、
ジメチルベンジルアミン2部およびハイドロキノン0.
4部を加え、110℃で12時間反応させ酸価3.7に
なったことを確認後、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート85部を加え、比較反応物(IV) を70%含
む、トルエン、エチルカルビトールアセテート、および
ペンタエリスリトールテトラアクリレートの比較混合物
(E−4)を得た。
Comparative Example 4 454 parts of the cresol novolac type epoxy resin used in Example 6 was added with 113 parts of acrylic acid, 31 parts of adipic acid, 85 parts of toluene, 85 parts of ethyl carbitol acetate,
Dimethylbenzylamine 2 parts and hydroquinone 0.
After adding 4 parts and reacting at 110 ° C. for 12 hours to confirm that the acid value was 3.7, 85 parts of pentaerythritol tetraacrylate was added and toluene and ethylcarbitol containing 70% of the comparative reaction product (IV). A comparative mixture (E-4) of acetate and pentaerythritol tetraacrylate was obtained.

【0053】比較例5 比較例4で得た比較混合物(E−4)400部に、無水
テトラヒドロフタル酸85部およびエチルカルビトール
アセテート36部を加え、100℃で6時間反応させ、
酸価86の比較反応物(V)を70%含むトルエン、エ
チルカルビトールアセテート、およびペンタエリスリト
ールテトラアクリレートの比較混合物(E−5)を得
た。表1に各混合物の配合割合をまとめて示した。
Comparative Example 5 To 400 parts of the comparative mixture (E-4) obtained in Comparative Example 4, 85 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 36 parts of ethyl carbitol acetate were added, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours,
A comparative mixture (E-5) of toluene, ethyl carbitol acetate, and pentaerythritol tetraacrylate containing 70% of the comparative reaction product (V) having an acid value of 86 was obtained. Table 1 collectively shows the blending ratio of each mixture.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】評価方法 実施例1〜7および比較例1〜5で得られた各光重合性
樹脂100部に、光重合開始剤として2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノンを3部配合し、ガラス
板上に50μmの厚さに塗布(約50mm×50mm)
後、80℃で30分間循環式エアーオーブン中にて予備
乾燥を行なった。室温まで冷却した後、アイグラフィッ
クス社製メタルハライドーランプMO3-L21 (ランプ出力
80w/cm)を用いて照射距離300mmで所定時間
紫外線照射を行ない、得られた硬化膜について、硬化
度、クラックの状態、ガラス転移点を調べた。
Evaluation Method To 100 parts of each photopolymerizable resin obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5, 3 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was added as a photopolymerization initiator, Coating on a glass plate to a thickness of 50 μm (approx. 50 mm x 50 mm)
Then, preliminary drying was performed at 80 ° C. for 30 minutes in a circulating air oven. After cooling to room temperature, UV irradiation was performed for a predetermined period of time with an irradiation distance of 300 mm using a metal halide lamp MO3-L21 (lamp output 80 w / cm) manufactured by Eye Graphics Co., Ltd. The state and the glass transition point were examined.

【0056】硬化度:鉛筆硬度計による。(JISK5
400に準ずる。) クラックの状態:目視 ガラス転移点:ガラス板から硬化膜を剥離し、レオメト
リックス社の粘弾性アナライザーRSAIIを用い、圧縮
モード、周波数1Hzで測定を行った。結果はまとめて
表2に示した。
Curing degree: According to a pencil hardness meter. (JISK5
According to 400. ) State of crack: Visual observation Glass transition point: The cured film was peeled from the glass plate, and measurement was performed using a viscoelasticity analyzer RSAII manufactured by Rheometrics Co., Ltd. in a compression mode at a frequency of 1 Hz. The results are summarized in Table 2.

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明による光硬化性樹脂組成物は、従
来のノボラック骨格を有する光重合性樹脂に比べ、分子
量の増大と二重結合量の増加というポリマー分子設計に
より、わずかな光重合反応で容易に樹脂の硬化が起こ
り、また三次元化の確率がより高くなることから、少な
い光開始剤量あるいは少ない光照射量または照射時間で
あっても、優れた表面硬度および耐熱性を有し、さらに
適度な可撓性を有する光硬化物を提供することができ
る。また、樹脂中にカルボキシル基を導入したため水溶
性を付与することができ、幅広い用途展開が可能となっ
た。
EFFECTS OF THE INVENTION The photocurable resin composition according to the present invention has a slight photopolymerization reaction due to the polymer molecular design of increasing the molecular weight and the amount of double bonds, as compared with the conventional photopolymerizing resin having a novolak skeleton. Since the resin can be easily cured with 3D and the probability of three-dimensionalization becomes higher, it has excellent surface hardness and heat resistance even with a small amount of photoinitiator or a small amount of light irradiation or irradiation time. Further, it is possible to provide a photo-cured product having appropriate flexibility. In addition, since the carboxyl group is introduced into the resin, water solubility can be imparted, and a wide range of applications can be developed.

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 503 Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location G03F 7/038 503

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式 【化1】 (ただしn≧2,R1=HあるいはCH3 ,R2 =H,
CH3,あるいはハロゲン)で示されるノボラック型エポ
キシ樹脂を不飽和一塩基酸および多塩基酸と反応させ、
エステル結合を介して多量体化された反応物に、1分子
中にイソシアネート基と2個以上の光重合性二重結合を
有する多官能(メタ)アクリレートを反応させて得られ
る光重合性樹脂および光重合開始剤を含有することを特
徴とする光硬化性樹脂組成物。
1. The formula: (However, n ≧ 2, R 1 = H or CH 3 , R 2 = H,
CH 3 or a halogen) novolac type epoxy resin is reacted with unsaturated monobasic acid and polybasic acid,
A photopolymerizable resin obtained by reacting a reaction product polymerized through an ester bond with a polyfunctional (meth) acrylate having an isocyanate group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule, and A photocurable resin composition comprising a photopolymerization initiator.
【請求項2】 請求項1記載の多量体化された反応物
に、1分子中にイソシアネート基と2個以上の光重合性
二重結合を有する多官能(メタ)アクリレートと酸無水
物を反応させて得られる光重合性樹脂および光重合開始
剤を含有する光硬化性樹脂組成物。
2. A polyfunctional (meth) acrylate having an isocyanate group and two or more photopolymerizable double bonds in one molecule is reacted with the polymerized reaction product according to claim 1 and an acid anhydride. A photocurable resin composition containing a photopolymerizable resin and a photopolymerization initiator obtained by the above.
【請求項3】 請求項1記載の多塩基酸が、酸基に含ま
れる以外の炭素原子の合計が18個以上の長鎖二塩基酸
である請求項1または2に記載の光硬化性樹脂組成物。
3. The photocurable resin according to claim 1, wherein the polybasic acid according to claim 1 is a long-chain dibasic acid having a total of 18 or more carbon atoms other than those contained in the acid group. Composition.
JP7249092A 1992-02-20 1992-02-20 Photocurable resin composition Expired - Fee Related JP3158619B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7249092A JP3158619B2 (en) 1992-02-20 1992-02-20 Photocurable resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7249092A JP3158619B2 (en) 1992-02-20 1992-02-20 Photocurable resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05230158A true JPH05230158A (en) 1993-09-07
JP3158619B2 JP3158619B2 (en) 2001-04-23

Family

ID=13490821

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7249092A Expired - Fee Related JP3158619B2 (en) 1992-02-20 1992-02-20 Photocurable resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3158619B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0844071A (en) * 1994-07-20 1996-02-16 W R Grace & Co Image-forming method using photosensitive epoxy resin composition
JP2017002129A (en) * 2015-06-05 2017-01-05 Dic株式会社 (meth)acrylate resin and resist member

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0844071A (en) * 1994-07-20 1996-02-16 W R Grace & Co Image-forming method using photosensitive epoxy resin composition
JP2017002129A (en) * 2015-06-05 2017-01-05 Dic株式会社 (meth)acrylate resin and resist member

Also Published As

Publication number Publication date
JP3158619B2 (en) 2001-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101561054B1 (en) Resin composition for resists
KR100935148B1 (en) Photosensitive resin composition
WO2010117056A1 (en) Photocurable resin and photocurable resin composition
JP6275620B2 (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP2015021997A (en) Photosensitive resin and resin composition for solder resist
US7666955B2 (en) Methods for producing branched-polyether resin composition and acid pendant branched-polyether resin composition
JP4655928B2 (en) Photosensitive resin composition
JP2007177180A (en) Epoxy resin varnish, photosensitive resin composition and its cured product
JP5177503B2 (en) Photosensitive resin composition and novel acid group-containing vinyl ester resin
JP4033455B2 (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP3158619B2 (en) Photocurable resin composition
JP3288140B2 (en) Ink composition for solder resist
JP5024580B2 (en) Method for producing branched polyether resin composition and method for producing acid pendant resin composition
JP2002284842A (en) Epoxy acrylate compound, curable resin composition containing the same and its cured product
JPH05155957A (en) Photocurable resin composition
JP4043884B2 (en) Method for producing aqueous photopolymerizable resin composition and aqueous photopolymerizable resin composition
JPS5930866A (en) Active energy beam-curable coating composition
JP2002173518A (en) Method for manufacturing actinic ray-curable resin and actinic ray-curable resin composition
JPH02238013A (en) Resin composition and printing ink composition curable with actinic energy ray
JPS58191773A (en) Ink composition curable with active energy ray
JPH05155956A (en) Photocurable resin composition
JPWO2005044777A1 (en) Tetra(meth)acrylate compound, curable composition containing the same, and cured products thereof
JP5084461B2 (en) Photopolymerizable unsaturated compound
JP4719369B2 (en) Polynuclear epoxy acrylate compound, curable resin composition containing the same, and cured product thereof
JPH05155955A (en) Photocurable resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010116

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080216

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090216

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090216

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees