JPH05230140A - High molecular compound having phenolic hydroxyl group and its production - Google Patents

High molecular compound having phenolic hydroxyl group and its production

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JPH05230140A
JPH05230140A JP3203392A JP3203392A JPH05230140A JP H05230140 A JPH05230140 A JP H05230140A JP 3203392 A JP3203392 A JP 3203392A JP 3203392 A JP3203392 A JP 3203392A JP H05230140 A JPH05230140 A JP H05230140A
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JP
Japan
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hydroxybenzenesulfonyl
chloro
general formula
copolymer
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP3203392A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Fukushige
裕一 福重
Masato Satomura
正人 里村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject compound useful as a material for forming patterns on substrates for the production of printed circuit boards, etc., by (co)polymerizing a 1-(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)-6-methacryloyloxyalkane, etc. CONSTITUTION:A 1-(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)-6-methacryloyloxyalkane alone or a mixture of the monomer with (meth)acrylic acid, methyl (meth) acrylate, etc., are (co)polymerized in the presence of dimethyl 2,2-azobis(2- methylpropionate) as a polymerization initiator in a solvent such as isopropyl acetate at a temperature of 80 deg.C with stirring under bubbling nitrogen gas to obtain the objective high-molecular compound having repeating units of formula I (X is H, halogen, alkyl, aryl, etc.; Y is SO2, O, CO, etc.; Z is O, NH; R1 is divalent group; R2 is H, alkyl) or formula II (P is the residual group of the copolymer component; l, m, n are the ratio of the copolymer; l+m+n=100; lnot equal to 0).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,基板上にパタ−ンを形
成する材料として有用なフェノ−ル性水酸基を有する高
分子化合物、及びその製造法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, which is useful as a material for forming a pattern on a substrate, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性樹脂組成物を用いる画像形成は印
刷配線板,印刷板,IC回路,カラ−プル−フ作成等広
い分野で用いられており,その用途,形態に応じて種々
も方法があるが,いずれの場合においても基板上に感光
性樹脂層を設ける工程,パタ−ン露光する工程,現像す
る工程を含むものが一般的である。これらの工程の内,
現像工程において用いられる現像液として代表的なもの
は,有機溶剤系,アルカリ性水溶液または水系に大別さ
れ,近年,作業環境,大気および水質汚濁等の観点から
アルカリ性水溶液または水で現像可能な感光性樹脂組成
物への移行が進行している。アルカリ水溶液で現像可能
な感光性組成物に関する代表的な文献としては次のもの
がある。特公昭35−14065号(結合剤は側鎖酸含
有重合体である),特公昭46−32714号(結合剤
は例えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体で
ある),特公昭54−34327号(結合剤は例えばメ
タクリル酸メチル/メタクリル酸−2−エチルヘキシル
/メタクリル酸の三元共重合体である),特公昭55−
38961号(結合剤は例えばスチレン/マレイン酸モ
ノn−ブチルエステル共重合体である),特公昭56−
33413号(結合剤は例えばメタクリル酸メチル/ア
クリル酸エチル/メタクリル酸の三元共重合体であ
る),特公昭55−38961号(結合剤は例えばスチ
レン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタク
リル酸の四元共重合体である),特開昭52−9981
0号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メタクリ
ル酸共重合体である),特公昭58−12577号(結
合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル酸−2−エ
チルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体である),
特公昭55−6210号(結合剤は例えばメタクリル酸
メチル/アクリル酸エチル/アクリル酸の三元共重合体
とイソプロパノ−ルで一部分エステル化したスチレン/
マレイン酸無水物共重合体の2種である),及び特開昭
58−1142号(結合剤は例えばメタクリル酸メチル
/メタクリル酸/アクリル酸2−エチルヘキシル三元共
重合体又はメタクリル酸メチル/メタクリル酸/アクリ
ル酸2−エチルヘキシル/メタクリル酸n−ブチル四元
共重合体である。これらのアルカリ可溶性基はカルボン
酸である。一方,フェノ−ル性水酸基をアルカリ可溶性
基とするものとしては,ポリビニルフェノ−ル及びその
誘導体,フェノ−ルノボラック型樹脂,クレゾ−ルノボ
ラック樹脂,ハロゲン化フェノ−ルノボラック樹脂など
が知られている。また,フェノ−ル性水酸基を有する高
分子化合物としては,特開昭63−115783号,同
63−141785号等に示されている電子供与性無色
染料と電子受容性化合物との発色を利用した記録材料に
おける高分子型電子受容性化合物も知られている。
2. Description of the Related Art Image formation using a photosensitive resin composition is used in a wide variety of fields such as printed wiring boards, printing boards, IC circuits and color proofs. However, in any case, it is general to include a step of providing a photosensitive resin layer on the substrate, a step of pattern exposure, and a step of developing. Of these processes,
Typical developers used in the developing process are roughly classified into organic solvent type, alkaline aqueous solution or water type, and in recent years, from the viewpoint of working environment, air and water pollution, it is possible to develop with an alkaline aqueous solution or water The transition to resin compositions is progressing. The following are typical references relating to a photosensitive composition that can be developed with an aqueous alkaline solution. JP-B-35-14065 (binder is a polymer containing a side chain acid), JP-B-46-32714 (binder is, for example, methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer), JP-B-54-34327. (The binder is, for example, a terpolymer of methyl methacrylate / -2-ethylhexyl methacrylate / methacrylic acid), Japanese Patent Publication No. 55-
38961 (the binder is, for example, a styrene / maleic acid mono-n-butyl ester copolymer), JP-B-56-
No. 33413 (the binder is, for example, a terpolymer of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid), JP-B-55-38961 (the binder is, for example, styrene / methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid). Quaternary copolymer), JP-A-52-9981
No. 0 (the binder is, for example, benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer), JP-B-58-12577 (the binder is, for example, a terpolymer of acrylonitrile / -2-ethylhexyl methacrylate / methacrylic acid). ),
JP-B-55-6210 (The binder is, for example, a terpolymer of methyl methacrylate / ethyl acrylate / acrylic acid and styrene partially esterified with isopropanol /
There are two types of maleic anhydride copolymers), and JP-A-58-1142 (the binder is, for example, methyl methacrylate / methacrylic acid / 2-ethylhexyl acrylate terpolymer or methyl methacrylate / methacrylic acid). Acid / 2-ethylhexyl acrylate / n-butyl methacrylate quaternary copolymer, these alkali-soluble groups are carboxylic acids, while those having a phenolic hydroxyl group as an alkali-soluble group are polyvinyl. Known are phenol and its derivatives, phenol novolac type resins, cresol novolac resins, halogenated phenol novolac resins, etc. Further, as a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, JP-A-63-63 is known. Electron-donating colorless dyes and electron-accepting properties shown in Nos. -115783 and 63-141785. Polymer type electron-accepting compound in recording materials using coloring with the compound are also known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は,アル
カリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物として有用な
高分子化合物、及びその製造法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polymer compound useful as a photosensitive resin composition which can be developed with an alkaline aqueous solution, and a method for producing the same.

【0004】[0004]

【課題を解決する手段】本発明は,下記一般式(I)で
示される繰り返し単位を有する高分子化合物, 一般式(I)
The present invention provides a polymer compound having a repeating unit represented by the following general formula (I), a general formula (I)

【0005】[0005]

【化3】 [Chemical 3]

【0006】〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,ア
ルキル基,アルコキシ基,もしくはアリ−ル基を,Yは
−SO2 −,−NHCO−,−O−,もしくは−CO−
を,Zは−O−,もしくは−NH−を表す。R1 は2価
の基を,R2 は水素原子,もしくはアルキル基を表
す。〕
[In the formula, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group, and Y represents -SO 2- , -NHCO-, -O-, or -CO-.
And Z represents -O- or -NH-. R 1 represents a divalent group and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. ]

【0007】及び,一般式(I)で示される高分子化合
物が下記一般式(II)で示されるカルボン酸を含有す
る共重合体であること及び,その製造法から構成され
る。 一般式(II)
Further, the polymer compound represented by the general formula (I) is a copolymer containing a carboxylic acid represented by the following general formula (II), and a process for producing the same. General formula (II)

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】〔式中,X,Y,Z,R1 ,R2 は一般式
(I)に示したものと同様。Pはその他の共重合可能な
成分から誘導される残基。l,m,nは共重合比率を表
し,l+m+n=100で,l≠0である。〕
[In the formula, X, Y, Z, R 1 and R 2 are the same as those shown in the general formula (I). P is a residue derived from another copolymerizable component. l, m, and n represent copolymerization ratios, and l + m + n = 100, and l ≠ 0. ]

【0010】一般式(I)でXは水素原子,ハロゲン原
子(特に塩素原子が好ましい),アルキル基が好まし
い。Yの中で,−NHCO−はベンゼン環に−N側から
の結合が好ましい。R1 は炭素原子数2〜20のアルキ
レン基が好ましく,アルコキシ基,アリ−ルオキシ基,
ハロゲン基,アリ−ル基等の置換基または,酸素原子,
硫黄原子,あるいはフェニレン基を含有していても良
い。また一般式(II)でPは一般式(I),及びカル
ボン酸含有の残基と同じでないその他の共重合可能な成
分から誘導される残基である。
In the general formula (I), X is preferably a hydrogen atom, a halogen atom (particularly a chlorine atom is preferred) or an alkyl group. In Y, -NHCO- is preferably a bond from the -N side to the benzene ring. R 1 is preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an aryloxy group,
Substituent such as halogen group and aryl group, or oxygen atom,
It may contain a sulfur atom or a phenylene group. Further, P in the general formula (II) is a residue derived from the general formula (I) and other copolymerizable components which are not the same as the carboxylic acid-containing residue.

【0011】本発明の高分子化合物の合成は,手法とし
てラジカル重合,イオン重合,重合様式として溶液重
合,乳化重合,懸濁重合,無溶媒重合など様々な手段に
より行える。例えば,ラジカル重合は,ラジカル開始剤
により開始することができる。過硫酸塩−還元剤,油性
ないし水性のアゾ化合物,パ−オキサイド,金属系触媒
などを用いることができる。重合反応に際しては,不活
性ガス雰囲気下で行うことが好ましく,加熱する場合に
は120℃以下,特に90℃以下が好ましい。又,溶媒
を用いる場合には,水,エステル,エ−テル,ハライ
ド,ケトン,アミド,アルコ−ル等の極性溶媒,ハイド
ロカ−ボン,アロマティックス等の非極性溶媒を単独又
は併用して用いることができる。前述した如き重合反応
における乳化方法,脱気方法,反応温度制御,金属触媒
の取扱い方法,重合反応終了後の後処理方法,又得られ
た高分子化合物の精製法等については,通常の重合反応
を参考にして操作すると好都合である。例えば,一般的
な操作方法については,Sorensen,高分子合成
実験法(東京化学同人)に詳しい。本発明の高分子化合
物は単独でも共重合でも良い。共重合反応はその分野で
よく知られた手法であり,例えばPolymer Ha
ndbook,JohnWileyなどに詳しい。共重
合は粒径,溶解性,分散性,粘着性,Tgなどの特性を
制御するために用いられる有用であり,例えば以下の様
なものが利用できる。
The polymer compound of the present invention can be synthesized by various means such as radical polymerization, ionic polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and solventless polymerization. For example, radical polymerization can be initiated by a radical initiator. A persulfate-reducing agent, an oily or aqueous azo compound, a peroxide, a metal-based catalyst and the like can be used. The polymerization reaction is preferably carried out in an inert gas atmosphere, and when heated, it is preferably 120 ° C. or lower, particularly 90 ° C. or lower. When a solvent is used, a polar solvent such as water, ester, ether, halide, ketone, amide and alcohol, and a nonpolar solvent such as hydrocarbon and aromatics are used alone or in combination. be able to. Regarding the emulsification method, degassing method, reaction temperature control, metal catalyst handling method, post-treatment method after completion of the polymerization reaction, and purification method of the obtained polymer compound, etc. It is convenient to operate by referring to. For example, for general operating methods, see Sorensen, Polymer Synthesis Experimental Method (Tokyo Kagaku Dojin). The polymer compound of the present invention may be a homopolymer or a copolymer. The copolymerization reaction is a well-known method in the art, and for example, Polymer Ha
Details on ndbook, John Wiley, etc. Copolymerization is useful for controlling properties such as particle size, solubility, dispersibility, tackiness, and Tg. For example, the following can be used.

【0012】アクリル酸,メタアクリル酸等のカルボン
酸,アクリルアミド,メタクリルアミド,アクリルアニ
リド,ダイアセトンアクリルアミド,アクリルアミドプ
ロパンスルホン酸ソ−ダ,1,6−ビスアクリルアミノ
ヘキサンなどのアミド,(メタ)アクリル酸エステル例
えばメタクリル酸メチルエステル,(メタ)アクリル酸
ブチルエステル,(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキ
シルエステル,(メタ)アクリル酸シクロヘキシルエス
テル,(メタ)アクリル酸オクタデシルエステル,(メ
タ)アクリル酸ベンジルエステル,(メタ)アクリル酸
セルソルブエステル,フェノキスエチル(メタ)アクリ
レ−ト,アリル(メタ)アクリレ−ト,シンナモイロキ
シエチル(メタ)アクリレ−ト,ヂエチレングリコ−ル
(メタ)アクリレ−ト,トリエチレングリコ−ルエチル
エ−テル(メタ)アクリレ−ト,フェノキシプロピル
(メタ)アクリレ−ト,フェニル(メタ)アクリレ−
ト,スチレン,ビニルトルエン,ジビニルベンゼン,ビ
ニルベンゼンスルホン酸ブチル,ビニルフェノ−ル,ビ
ニル安息香酸,ビニルピルジン,ビニルメチルピリジ
ン,ビニルメチル−N−メチルピリジニュ−ムブロミド
などのビニルアロマティクス,あるいはアクリロニトリ
ル,ビニルアセテ−ト,ビニルカルバゾ−ル,クロロメ
チルビニ−ルエ−テル,フタル酸ジアリルエステル,ビ
ニルジオキソラン,無水マレイン酸,エピクロルヒドリ
ンなどがある。本発明においては,アクリル酸,メタク
リル酸などのカルボン酸との共重合が好ましく,さらに
前記したその他の共重合モノマ−を加えた3元,4元の
共重合も好ましい。さらに一般式(I)を複数種含有し
ていても良い。この際,カルボン酸部は全重量部に対し
5重量部〜60重量部,特には10重量部〜50重量部
が好ましい。5重量部未満では光感度や画像の強度が低
く,60重量部を超えると粘着性が問題となり好ましく
ない。また,アクリル酸,メタクリル酸などのカルボン
酸を含まない共重合の場合には本発明におけるフェノ−
ル部は全重量部に対し30重量部〜100重量部が好ま
しく,特には40重量部〜100重量部が好ましい。ま
た,これらの共重合体の分子量は5千〜100万が好ま
しく,より好ましくは5千〜80万である。本発明に関
わる高分子化合物としては以下のものが挙げられる。
Carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, acrylanilide, diacetone acrylamide, acrylamide propane sulfonic acid soda, amides such as 1,6-bisacrylaminohexane, and (meth) acryl. Acid esters, for example, methacrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid butyl ester, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl ester, (meth) acrylic acid cyclohexyl ester, (meth) acrylic acid octadecyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester , (Meth) acrylic acid cellosolve ester, phenoxethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, cinnamoyloxyethyl (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate , Tri ethylene glycol - Ruechirue - ether (meth) acrylate - DOO, phenoxypropyl (meth) acrylate - DOO, phenyl (meth) acrylate -
, Vinyl styrene, vinyltoluene, divinylbenzene, vinylbenzenesulfonate, vinylphenol, vinylbenzoic acid, vinylpyrudine, vinylmethylpyridine, vinylmethyl-N-methylpyridinium bromide and other vinyl aromatics, or acrylonitrile, vinylacetate. , Vinylcarbazol, chloromethylvinylether, diallyl phthalate, vinyldioxolane, maleic anhydride, epichlorohydrin and the like. In the present invention, copolymerization with a carboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid is preferable, and terpolymer or quaternary copolymer containing the above-mentioned other copolymerization monomers is also preferable. Furthermore, you may contain multiple types of general formula (I). In this case, the carboxylic acid part is preferably 5 parts by weight to 60 parts by weight, and particularly preferably 10 parts by weight to 50 parts by weight with respect to the total parts by weight. If it is less than 5 parts by weight, the photosensitivity and the image strength are low, and if it exceeds 60 parts by weight, the tackiness becomes a problem, which is not preferable. Further, in the case of copolymerization containing no carboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid, the phenol in the present invention can be used.
30 parts by weight to 100 parts by weight, and particularly 40 parts by weight to 100 parts by weight are preferable. The molecular weight of these copolymers is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 800,000. The polymer compounds relating to the present invention include the following.

【0013】1)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベ
ンゼンスルホニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサ
ン単独重合体, 2)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/アクリル
酸共重合体, 3)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/アクリル
酸/メチルメタクリレ−ト共重合体, 4)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/メチルメ
タクリレ−ト共重合体, 5)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/アクリル
酸/アクリル酸エチル共重合体, 6)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−8−メタクリロイルオキシオクタン単独重合
体, 7)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−8−メタクリロイルオキシオクタン/メタクリ
ル酸共重合体, 8)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−8−メタクリロイルオキシオクタン/アクリル
酸共重合体, 9)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−8−メタクリロイルオキシオクタン/2−エチ
ルヘキシルメタクリレ−ト共重合体, 10)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−8−アクリロイルオキシオクタン/メタクリ
ル酸/フェノキシエチルメタクリレ−ト共重合体, 11)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−3−メタクリロイルオキシプロパン単独重合
体, 12)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−3−メタクリロイルオキシプロパン/メタク
リル酸/メチルメタクリレ−ト共重合体, 13)1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−6
−メタクリロイルオキシヘキサン単独重合体, 14)1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−6
−メタクリロイルオキシヘキサン/ブトキシエチルアク
リレ−ト/アクリル酸共重合体, 15)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/1−
(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−
8−メタクリロイルオキシオクタン/メタクリル酸共重
合体, 16)4−(6−メタクリロルオキシヘキシル)オキシ
フェノ−ル単独重合体, 17)4−(6−メタクリロイルオキシヘキシル)オキ
シフェノ−ル/アクリル酸/ブチルメタクリレ−ト共重
合体, 18)4−(3−アクリロイルオキシプロピル)オキシ
フェノ−ル単独重合体, 19)4−(3−アクリロイルオキシプロピル)オキシ
フェノ−ル/2−エチルヘキシルアクリレ−ト共重合
体, 20)4−(3−メタクリロイルオキシプロピル)オキ
シフェノ−ル単独重合体, 21)4−(3−メタクリロイルオキシプロピル)オキ
シフェノ−ル/アクリル酸共重合体, 22)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン/4−
(3−メタクリロイルオキシプロピル)オキシフェノ−
ル/アクリル酸共重合体, 23)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−6−メタクリルアミドヘキサン/アクリル酸
/メチルメタクリレ−ト共重合体, 24)1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスル
ホニル)−6−アクリルアミドヘキサン/メチルメタク
リレ−ト共重合体, などを挙げることができる。
1) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane homopolymer, 2) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / Acrylic acid copolymer, 3) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / acrylic acid / methyl methacrylate copolymer, 4) 1- (3-chloro-4 -Hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / methyl methacrylate copolymer, 5) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / acrylic acid / ethyl acrylate copolymer Polymer, 6) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfon ) -8-methacryloyloxyoctane homopolymer, 7) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane / methacrylic acid copolymer, 8) 1- (3-chloro-4 -Hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane / acrylic acid copolymer, 9) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer , 10) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-acryloyloxyoctane / methacrylic acid / phenoxyethyl methacrylate copolymer, 11) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) ) -3-methacryloyloxypropane homopolymer, 1 2) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -3-methacryloyloxypropane / methacrylic acid / methyl methacrylate copolymer, 13) 1- (4-hydroxybenzenesulfonyl) -6
-Methacryloyloxyhexane homopolymer, 14) 1- (4-hydroxybenzenesulfonyl) -6
-Methacryloyloxyhexane / butoxyethyl acrylate / acrylic acid copolymer, 15) 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / 1-
(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)-
8-methacryloyloxyoctane / methacrylic acid copolymer, 16) 4- (6-methacryloyloxyhexyl) oxyphenol homopolymer, 17) 4- (6-methacryloyloxyhexyl) oxyphenol / acrylic acid / butyl Methacrylate copolymer, 18) 4- (3-acryloyloxypropyl) oxyphenol homopolymer, 19) 4- (3-acryloyloxypropyl) oxyphenol / 2-ethylhexyl acrylate copolymer Combined, 20) 4- (3-methacryloyloxypropyl) oxyphenol homopolymer, 21) 4- (3-methacryloyloxypropyl) oxyphenol / acrylic acid copolymer, 22) 1- (3-chloro- 4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / 4 −
(3-methacryloyloxypropyl) oxypheno-
23 / 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacrylamide hexane / acrylic acid / methyl methacrylate copolymer, 24) 1- (3-chloro -4-Hydroxybenzenesulfonyl) -6-acrylamide hexane / methyl methacrylate copolymer, and the like.

【0014】[0014]

【実施例】以下に実施例を示すが,本発明はこれに限定
されるものではない。実施例において特に指定のない限
り,重量%を表す。 実施例1 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン100gを1
Lの三ッ口フラスコに入れ酢酸イソプロピルエステル3
00mlを加えた。この三ツ口フラスコを外設定80℃
の油浴中に入れ,窒素バブリング下撹拌し,開始剤とし
てジメチル2,2−アゾビス(2−メチルプロピオネ−
ト)1gを10mlの酢酸イソプロピルエステルに溶解
した液を入れ1時間撹拌し,更にジメチル2,2−アゾ
ビス(2−メチルプロピオネ−ト)1gを10mlの酢
酸イソプロピルエステルに溶解した液を加え1時間撹拌
したのち,外設定100℃として2時間撹拌を続け,1
−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)
−6−メタクリロイルオキシヘキサンの単独重合体を得
た。このポリマ−の分子量は(Pst(ポリスチレン)
換算にて)MW=53,000であった。
EXAMPLES Examples will be shown below, but the present invention is not limited thereto. In the examples, unless otherwise specified, weight% is indicated. Example 1 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane 100 g
Place in a three-necked L flask and add isopropyl acetate 3
00 ml was added. This three-necked flask is set outside 80 ℃
In an oil bath and stirred under nitrogen bubbling, and dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropione-
G) 1 g of a solution of 10 g of acetic acid isopropyl ester was added and stirred for 1 hour, and a solution of 1 g of dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropionate) dissolved in 10 ml of acetic acid isopropyl ester was added and stirred for 1 hour. After that, set the temperature to 100 ° C and continue stirring for 2 hours.
-(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)
A homopolymer of -6-methacryloyloxyhexane was obtained. The molecular weight of this polymer is (Pst (polystyrene)
MW = 53,000 (in terms of conversion).

【0015】実施例2 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン30gを30
0mlの三ッ口フラスコに入れ酢酸イソプロピルエステ
ル90mlを加えた。この三ッ口フラスコを外設定80
℃の油浴中に入れ,窒素バブリング下撹拌し,開始剤と
して2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニト
リル)0.3gを2mlの酢酸イソプロピルエステルに
溶解した液を入れ1時間撹拌し,更に2,2’−アゾビ
ス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.3gを2m
lの酢酸イソプロピルエステルに溶解した液を加え1時
間撹拌したのち,外設定100℃として2時間撹拌を続
け,1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサンの単独重合
体を得た。このポリマ−の分子量は(Pst換算にて)
MW=23,000であった。
Example 2 30 g of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane
The mixture was placed in a 0 ml three-necked flask and 90 ml of isopropyl acetate was added. This three-necked flask is set outside 80
The mixture was placed in an oil bath at ℃ and stirred under nitrogen bubbling, and a solution prepared by dissolving 0.3 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 2 ml of isopropyl acetate was added as an initiator and stirred for 1 hour. 2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile)
After adding 1 liter of a solution of acetic acid isopropyl ester and stirring for 1 hour, the external temperature was set to 100 ° C. and stirring was continued for 2 hours to obtain 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane alone. Got united. The molecular weight of this polymer (in Pst conversion)
MW = 23,000.

【0016】実施例3 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン27gとメチ
ルメタクリレ−ト3gを500mlの三ッ口フラスコに
入れ酢酸イソプロピルエステル90mlを加えた。この
三ツ口フラスコを外設定80℃の油浴中に入れ,窒素バ
ブリング下撹拌し,開始剤として2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.3gを2ml
の酢酸イソプロピルエステルに溶解した液を入れ1時間
撹拌し,更に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバ
レロニトリル)0.3gを2mlの酢酸イソプロピルエ
ステルに溶解した液を加え1時間撹拌したのち,外設定
100℃として2時間撹拌を続け,1−(3−クロロ−
4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−6−メタクリロ
イルオキシヘキサン/メチルメタクリレ−ト共重合体を
得た。このポリマ−の分子量は(Pst換算にて)MW
=125,000であった。
Example 3 27 g of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane and 3 g of methyl methacrylate were placed in a 500 ml three-necked flask and 90 ml of isopropyl acetate was added. This three-necked flask was placed in an oil bath set at an external temperature of 80 ° C., stirred under nitrogen bubbling, and 2 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 0.3 g was used as an initiator.
The solution dissolved in acetic acid isopropyl ester of was added and stirred for 1 hour, and a solution of 0.3 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) dissolved in 2 ml of acetic acid isopropyl ester was added and stirred for 1 hour. After that, the temperature was set to 100 ° C outside and stirring was continued for 2 hours.
4-Hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / methyl methacrylate copolymer was obtained. The molecular weight of this polymer is MW (in Pst conversion).
= 125,000.

【0017】実施例4 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン60gとアク
リル酸20gとメチルメタクリレ−ト20gを500m
lの三ッ口フラスコに入れテトラヒドロフラン1Lを加
えた。この三ツ口フラスコを外設定80℃の油浴中に入
れ,窒素バブリング下撹拌し,開始剤としてジメチル
2,2−アゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)1gを
10mlのテトラヒドロフランに溶解した液を入れ1時
間撹拌し,更に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル
バレロニトリル)1gを10mlのテトラヒドロフラン
に溶解した液を加え1時間撹拌したのち,外設定100
℃として2時間撹拌を続け,1−(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシベンゼンスルホニル)−6−メタクリロイルオ
キシヘキサン/メタクリル酸/メチルメタクリレ−ト共
重合体を得た。このポリマ−の分子量は(Pst換算に
て)MW=75,600であった。
Example 4 60 g of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane, 20 g of acrylic acid and 20 g of methyl methacrylate were added to 500 m.
1 L of tetrahydrofuran was added to a 3-necked flask. This three-necked flask was placed in an oil bath with an external setting of 80 ° C., stirred under nitrogen bubbling, and a solution prepared by dissolving 1 g of dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropionate) as an initiator in 10 ml of tetrahydrofuran was placed for 1 hour. After stirring and further adding a solution of 1 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran and stirring for 1 hour, the external setting 100
Stirring was continued at 2 ° C for 2 hours to obtain 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / methacrylic acid / methyl methacrylate copolymer. The molecular weight of this polymer was MW = 75,600 (in terms of Pst).

【0018】実施例5 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−8−メタクリロイルオキシオクタン60gとアク
リル酸20gとブチルアクリレ−ト20gを500ml
の三ッ口フラスコに入れテトラヒドロフラン1Lを加え
た。この三ツ口フラスコを外設定80℃の油浴中に入
れ,窒素バブリング下撹拌し,開始剤としてジメチル
2,2−アゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)1gを
10mlのテトラヒドロフランに溶解した液を入れ1時
間撹拌し,更に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル
バレロニトリル)1gを10mlのテトラヒドロフラン
に溶解した液を加え1時間撹拌したのち,外設定100
℃として2時間撹拌を続け,1−(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシベンゼンスルホニル)−8−メタクリロイルオ
キシオクタン/アクリル酸/ブチルアクリレ−ト共重合
体を得た。このポリマ−の分子量は(Pst換算にて)
MW=112,000であった。
Example 5 500 ml of 60 g of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane, 20 g of acrylic acid and 20 g of butyl acrylate.
1 L of tetrahydrofuran was added to the three-necked flask. This three-necked flask was placed in an oil bath with an external setting of 80 ° C., stirred under nitrogen bubbling, and a solution prepared by dissolving 1 g of dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropionate) as an initiator in 10 ml of tetrahydrofuran was placed for 1 hour. After stirring and further adding a solution of 1 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran and stirring for 1 hour, the external setting 100
Stirring was continued for 2 hours at ℃ to obtain 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane / acrylic acid / butyl acrylate copolymer. The molecular weight of this polymer (in Pst conversion)
The MW was 112,000.

【0019】実施例6 1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニ
ル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン30gと1−
(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−
8−メタクリロイルオキシオクタン20gとアクリル酸
20gを500mlの三ッ口フラスコに入れテトラヒド
ロフラン1Lを加えた。この三ツ口フラスコを外設定8
0℃の油浴中に入れ,窒素バブリング下撹拌し,開始剤
としてジメチル2,2−アゾビス(2−メチルプロピオ
ネ−ト)1gを10mlのテトラヒドロフランに溶解し
た液を入れ1時間撹拌し,更に2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1gを10mlの
テトラヒドロフランに溶解した液を加え1時間撹拌した
のち,外設定100℃として2時間撹拌を続け,1−
(3−クロロ−4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−
6−メタクリロイルオキシヘキサン/1−(3−クロロ
−4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−8−メタクリ
ロイルオキシオクタン/アクリル酸共重合体を得た。こ
のポリマ−の分子量は(Pst換算にて)MW=15
4,000であった。
Example 6 30 g of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane and 1-
(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)-
20 g of 8-methacryloyloxyoctane and 20 g of acrylic acid were placed in a 500 ml three-necked flask, and 1 L of tetrahydrofuran was added. This three-necked flask is set outside 8
The mixture was placed in an oil bath at 0 ° C. and stirred under nitrogen bubbling. A solution of 1 g of dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropionate) as an initiator in 10 ml of tetrahydrofuran was added and the mixture was stirred for 1 hour. A solution prepared by dissolving 1 g of 2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 10 ml of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred for 1 hour.
(3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl)-
6-methacryloyloxyhexane / 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -8-methacryloyloxyoctane / acrylic acid copolymer was obtained. The molecular weight of this polymer is MW = 15 (in terms of Pst).
It was 4,000.

【0020】実施例7 実施例4で得た1−(3−クロロ−4−ヒドロキシベン
ゼンスルホニル)−6−メタクリロイルオキシヘキサン
/メタクリル酸/メチルメタクリレ−ト共重合体の40
重量%溶液(溶媒はプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルと残留溶媒テトラヒドロフラン)1965部、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート314部、ベ
ンジルジメチルケタール30部、メガフアツクF−17
7P7.56部、ハイドロキノンモノメチルエーテル1
部の混合物を5種類調製し、100μmのポリエチレン
テレフタレート上にバーコーターを用いて塗布、乾燥
後、フオトマスクと重ね合わせ、2Kwの超高圧水銀灯
で、50cmの距離から露光した。その後、0.1%N
aOH水溶液で30℃、1分30秒間現像したところ、
フオトマスクに忠実な画像が得られた。
Example 7 40 of 1- (3-chloro-4-hydroxybenzenesulfonyl) -6-methacryloyloxyhexane / methacrylic acid / methyl methacrylate copolymer obtained in Example 4
1% by weight solution (solvent is propylene glycol monomethyl ether and residual solvent tetrahydrofuran) 1965 parts, dipentaerythritol hexaacrylate 314 parts, benzyl dimethyl ketal 30 parts, Megafask F-17
7P 7.56 parts, hydroquinone monomethyl ether 1
5 kinds of the above mixture were prepared, coated on 100 μm polyethylene terephthalate using a bar coater, dried, and then superposed on a photomask and exposed with a 2 Kw ultra-high pressure mercury lamp from a distance of 50 cm. After that, 0.1% N
When developed with an aOH aqueous solution at 30 ° C. for 1 minute and 30 seconds,
An image faithful to the photo mask was obtained.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明になるフエノール性水酸基を有す
る高分子化合物は、アルカリ水溶液で現像することがで
きる画像形成材料の素材として有用なものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The polymer compound having a phenolic hydroxyl group according to the present invention is useful as a raw material for an image forming material which can be developed with an aqueous alkaline solution.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // G03F 7/038 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location // G03F 7/038

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で示される繰り返し単
位を有することを特徴とするフェノ−ル性水酸基を有す
る高分子化合物。 一般式(I) 【化1】 〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,ア
ルコキシ基,もしくはアリ−ル基を,Yは−SO2 −,
−NHCO−,−O−,もしくは−CO−を,Zは−O
−,もしくは−NH−を表す。R1 は2価の基を,R2
は水素原子,もしくはアルキル基を表す。〕
1. A polymer compound having a phenolic hydroxyl group, which has a repeating unit represented by the following general formula (I). General formula (I): [In the formula, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an aryl group, and Y represents -SO 2- ,
-NHCO-, -O-, or -CO-, and Z is -O.
Represents-, or -NH-. R 1 is a divalent group, R 2
Represents a hydrogen atom or an alkyl group. ]
【請求項2】 請求項2において、該一般式(I)で示
される高分子化合物が下記一般式(II)で示されるカ
ルボン酸を含有する共重合体であることを特徴とするフ
ェノ−ル性水酸基を有する高分子化合物。 一般式(II) 【化2】 〔式中,X,Y,Z,R1 ,R2 は一般式(I)に示し
たものと同様。Pはその他の共重合可能な成分から誘導
される残基。l,m,nは共重合比率を表し,l+m+
n=100で,l≠0である。〕
2. The phenol according to claim 2, wherein the polymer compound represented by the general formula (I) is a copolymer containing a carboxylic acid represented by the following general formula (II). Polymer compound having a reactive hydroxyl group. General formula (II): [In the formula, X, Y, Z, R 1 and R 2 are the same as those in the general formula (I). P is a residue derived from another copolymerizable component. l, m, n are copolymerization ratios, and l + m +
When n = 100, l ≠ 0. ]
【請求項3】 請求項2の一般式(II)で示されるフ
ェノ−ル性水酸基を有する高分子化合物の製造法。
3. A method for producing a polymer compound having a phenolic hydroxyl group represented by the general formula (II) according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05281716A (en) * 1992-03-31 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive and thermosensitive recording material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05281716A (en) * 1992-03-31 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive and thermosensitive recording material

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