JPH05230061A - New beta-lactam compound and its production - Google Patents

New beta-lactam compound and its production

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JPH05230061A
JPH05230061A JP3225177A JP22517791A JPH05230061A JP H05230061 A JPH05230061 A JP H05230061A JP 3225177 A JP3225177 A JP 3225177A JP 22517791 A JP22517791 A JP 22517791A JP H05230061 A JPH05230061 A JP H05230061A
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洵 砂川
Akira Sasaki
章 佐々木
Hiroshi Yamaga
博 山賀
Nagatoshi Shinagawa
永敏 品川
Masatomo Fukazawa
万左友 深沢
Yoshihiro Sumita
能弘 住田
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new beta-lactam compound having excellent antimicrobial activity against imipenem-resistant Pseudomonas aeruginosa. CONSTITUTION:The objective compound of formula I {(j) is 0 or 1; R<1> is H, OH-protecting group or formula II to IV (Y is single bond, alkylene CO, etc.; R<5> and R<6> are H or OH-protecting group; Z is H, halogen NO2, CN, etc.); R<2> is H or carboxyl-protecting group; M is S or CH2; A is formula V to VII [(k), (l), (m) and (n) are 0-3; R<3> is H, alkyl, etc.; R<4> is formula II to IV; R<7> is H or alkyl; R<8> is H, protecting group of amino group, lower alkyl group, etc.; R<5> is R<7> or NH2-protecting group), etc., when R<1> is H or OH-protecting group formula VII to X, etc., when R<1> is formula II to IV]} and its salt, e.g. (4R,5S,6 S,8R,2'R,4'S)-3-[(1-(3,4-dihydroxybenzoyl)methyl-2- dimethylaminocarbonylpyrrolidin)-4-ylthio]-4-methyl-6-(1hydroxyethyl)-1- azabicyclo[3.2.0]hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規なβ−ラクタム化合
物及びその製造法に関する。さらに詳細にはカテコール
誘導体などを導入したペネムあるいはカルバペネム誘導
体及びその製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel β-lactam compound and a method for producing the same. More specifically, it relates to a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、広範囲のグラム陽性菌及びグラム
陰性菌に対して優れた抗菌スペクトルを持つβ−ラクタ
ム化合物の1つとしてペネム骨格あるいはカルバペネム
骨格を有するものが報告されている。
2. Description of the Related Art Heretofore, one having a penem skeleton or a carbapenem skeleton has been reported as one of β-lactam compounds having an excellent antibacterial spectrum against a wide range of Gram-positive and Gram-negative bacteria.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、現在この分野
で上市されているイミペネムには、その耐性菌が出現
し、それが臨床の場から分離されたことが報告されてい
る。従って、それらの耐性菌、特に耐性緑膿菌に有効な
β−ラクタム化合物の開発が期待される。
However, it has been reported that a resistant bacterium has appeared in imipenem, which is currently marketed in this field, and that it has been isolated from the clinical field. Therefore, the development of β-lactam compounds effective against those resistant bacteria, particularly resistant Pseudomonas aeruginosa, is expected.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、カテコール
誘導体などを導入したペネムあるいはカルバペネム誘導
体が、イミペネム耐性緑膿菌に対し優れた抗菌活性を有
することを見出し、本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, as a result of intensive investigations by the present inventors, a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced is superior to imipenem-resistant Pseudomonas aeruginosa. Further, they have found that they have antibacterial activity and completed the present invention.

【0005】すなわち、本発明は一般式〔I〕That is, the present invention has the general formula [I]

【化64】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、 〔1〕R1 が水素原子または水酸基の保護基を示す場
合、Aは次の一般式(a)〜(g)のいずれかで表され
る基を示す。 一般式(a)
[Chemical 64] [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A represents a group represented by any of the following general formulas (a) to (g). General formula (a)

【化65】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1)
[Chemical 65] (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1)

【化66】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2)
[Chemical 66] (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2)

【化67】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3)
[Chemical 67] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3)

【化68】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b)
[Chemical 68] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b)

【化69】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c)
[Chemical 69] (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c)

【化70】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d)
[Chemical 70] (In the formula, k, l, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d)

【化71】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e)
[Chemical 71] (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an acid residue or intramolecular COO when R 2 has a negative charge.) General formula (e)

【化72】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合にはAは例えば、次の一般式(h)
〜(p)のいずれかで表されるような有機基を示す。 一般式(h)
[Chemical 72] (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents, for example, the following general formula (h)
To (p) represent an organic group. General formula (h)

【化73】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i)
[Chemical formula 73] (In the formula, k, l, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i)

【化74】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j)
[Chemical 74] (In the formula, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j)

【化75】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k)
[Chemical 75] (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k)

【化76】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l)[Chemical 76] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l)

【化77】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m)[Chemical 77] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m)

【化78】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kおよびR10は低級アルキル基または置換低級
アルキル基を示す。) 一般式(o)
[Chemical 78] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k and R 10 represent a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o)

【化79】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p)
[Chemical 79] (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p)

【化80】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩に関す
るものである。前記一般式〔I〕で表される化合物のう
ち好適なものとしてはR2 が水素原子、またはAに陽電
荷が含まれる場合の陰電荷を示す化合物及びその塩を挙
げることができる。それらのうち更に好適なものとして
はR1 が水素原子でAが一般式(a)〜(e)で表され
る化合物及びその塩、あるいはR1 が一般式(1)〜
(3)である化合物及びその塩を挙げることができる。
これらのうち特に好適なものとしてはAの中にピロリジ
ン環が含まれる化合物及びその塩を挙げることができ
る。
[Chemical 80] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
The present invention relates to a novel β-lactam compound and a salt thereof. Among the compounds represented by the general formula [I], preferred are compounds having a negative charge when R 2 is a hydrogen atom or A has a positive charge, and salts thereof. More preferred among them are compounds in which R 1 is a hydrogen atom and A is represented by the general formulas (a) to (e) and salts thereof, or R 1 is the general formula (1) to
The compound which is (3) and its salt can be mentioned.
Of these, particularly preferred are compounds having a pyrrolidine ring in A and salts thereof.

【0006】さらに、本発明は前記一般式〔I〕で表さ
れる新規なβ−ラクタム化合物及びその塩の製造法に関
する。すなわち、 (A法)j=1でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔II〕
Further, the present invention relates to a process for producing the novel β-lactam compound represented by the above general formula [I] and salts thereof. That is, (method A), when j = 1 and A is (a) to (c), the general formula [II]

【化81】 〔式中、Mは前記と同じ意味を、R1aは水素原子または
水酸基の保護基を、R2aはカルボキシル基の保護基を、
およびLは水酸基の反応性エステル基または置換もしく
は,無置換の低級アルキルスルフィニル基を示す。〕で
表される化合物を、一般式〔III−a〕 Aa −SH 〔III−a〕 〔式中、Aa は前記一般式(a)〜(c)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔I−a〕
[Chemical 81] [In the formula, M has the same meaning as described above, R 1a represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R 2a represents a carboxyl-protecting group,
And L represent a reactive ester group of a hydroxyl group or a substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group. A compound represented by], in the general formula [III-a] A a -SH [III-a] [wherein, the group A a represented by any one of formulas (a) ~ (c) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [Ia]

【化82】 〔式中、R1a、R2a、Aa およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するか、前記一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−b−
1〕、 Q1 −SH 〔III−b−1〕 〔式中、Q1 は前記一般式(h)で表される基を示
す。〕で表される化合物とを反応させて一般式〔IV−
a〕
[Chemical formula 82] [In the formula, R 1a , R 2a , A a and M have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [III-b-
1], Q 1 -SH [III-b-1] [In the formula, Q 1 represents a group represented by the above general formula (h). ] The compound of the general formula [IV-
a]

【化83】 〔式中、R1a、R2a、Q1 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造し、次いでR8 がアミ
ノ基の保護基である場合には、その除去反応を行った
後、一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 は前記と同じ意味を示し、Xc は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させて、前記一般式
〔I−a〕で表される化合物を製造する。また、 (B法)j=1でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 83] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 1 and M have the same meanings as described above. ] To produce a compound represented by, then if R 8 is a protecting group of the amino group, after the removal reaction of the general formula (V) R 4 -X c [V] [wherein, R 4 has the same meaning as described above, and X c represents an acid residue. ] The compound represented by the said general formula [Ia] is manufactured by making it react with the compound represented by this. (Method B) When j = 1 and A is from (d) to (e), the general formula [II]

【化84】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−b−2〕 Q2 −SH 〔III−b−2〕 〔式中、Q2 は次の一般式(d’)または(e’)で表
される基を示す。 一般式(d’)
[Chemical 84] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. Table a compound represented by the general formula [III-b-2] Q 2 -SH [III-b-2) (wherein, Q 2 is the following general formula (d ') or (e') in] Is shown as a group. General formula (d ')

【化85】 (式中、k、l、m、n、p、R7 およびR8 は前記と
同じ意味を示す。) 一般式(e’)
[Chemical 85] (In the formula, k, l, m, n, p, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (e ′)

【化86】 (式中、k、l、m、n、R7 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。)〕で表されるメルカプタン化合物と反応
させて、一般式〔IV−b〕
[Chemical formula 86] (In the formula, k, l, m, n, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.)], And reacted with a mercaptan compound represented by the general formula [IV-b].

【化87】 〔式中、R1a、R2a、Q2 およびXは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、qおよびR4 は前記と同じ意味を、Xb は酸残
基を示す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I
−b〕
[Chemical 87] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 2 and X have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein the same meaning as q and R 4 above, the X b is acid residue Show. ] The compound represented by the general formula [I
-B]

【化88】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
b は前記一般式(d)または(e)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (C法)j=1でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔VII〕
[Chemical 88] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A b represents a group represented by the general formula (d) or (e). ] The compound represented by these is manufactured. Further, (C method) When j = 1 and A is (f) to (g), the general formula [VII]

【化89】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−c〕
[Chemical 89] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [Ic]

【化90】 〔式中、R1 、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (D法)j=0でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔VIII〕
[Chemical 90] [In the formula, R 1 , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). ] The compound represented by these is manufactured. Moreover, (D method) When j = 0 and A is (a) to (c), the general formula [VIII]

【化91】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級アル
コキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔I−d〕
[Chemical Formula 91] [In the formula, R 1a , M, A a and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [Id] is heated.

【化92】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (E法)j=0でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔IX〕
[Chemical Formula 92] [In the formula, R 1a , M, A a , and R 2a have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (E method) j = 0 and A is (d) to (e), the general formula [IX]

【化93】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aおよびR11は前記と同じ
意味を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔X〕
[Chemical formula 93] [In the formula, R 1a , M, Q 2 , R 2a and R 11 have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [X] is heated.

【化94】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、q、R4 およびXb は前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I−e〕
[Chemical 94] [In the formula, R 1a , M, Q 2 and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein, q, R 4 and X b are as defined above. ] The compound represented by the general formula [Ie]

【化95】 〔式中、R1a、M、Ab 、R2Cは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (F法)j=0でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔XI〕
[Chemical 95] [In the formula, R 1a , M, Ab and R 2C have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (F method) j = 0 and A is (f) to (g), the general formula [XI]

【化96】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−f〕
[Chemical 96] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [If]

【化97】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (G法)j=1でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 97] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). ] The compound represented by these is manufactured. When (G method) j = 1 and A is (h) to (n), the general formula [II]

【化98】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−c〕 Ad −SH 〔III−c〕 〔式中、Ad は前記一般式(h)〜(n)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔XII〕
[Chemical 98] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. A compound represented by], in the general formula [III-c] A d -SH [III-c] [wherein, the group A d represented by any one of formulas (h) ~ (n) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [XII]

【化99】 〔式中、R1a、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造し、次いでR1aが水酸基
の保護基である場合にはその除去反応を行って、一般式
〔XIII〕
[Chemical 99] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] The compound represented by the formula [XIII] is then produced by removing the compound represented by the formula [XIII] when R 1a is a hydroxyl-protecting group.

【化100】 〔式中、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bは前記一般式(1)〜(3)で表される基
を示し、Xd は酸残基を示す。〕で表される化合物と反
応させて一般式〔I−g〕
[Chemical 100] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] In addition, let it be a compound represented by these, General formula [XIV] R <1b > -Xd [XIV] [In formula, R <1b> shows group represented by said General formula (1)-(3), Xd is Indicates an acid residue. ] The compound represented by the general formula [I-g]

【化101】 〔式中、M、Ad 、R2a、R1bは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (H法)j=1でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−g’〕
[Chemical 101] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (H method) j = 1 and A is from (o) to (p), the general formula [Ig ′]

【化102】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)あるいは(m)で表される基を
示す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−h〕
[Chemical 102] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-h], the reaction for removing the protective group for the amino group in the formula ( 1 ) is carried out and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化103】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、 (I法)j=0でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔XVI〕
[Chemical 103] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] The compound represented by these is manufactured. When (I method) j = 0 and A is (h) to (n), the general formula [XVI]

【化104】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示し、R11は低級アルキル基、アリ─ル基または低級ア
ルコキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般
式〔XVII〕
[Chemical 104] [In the formula, R 1a , M, Ad and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [XVII] is heated.

【化105】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いでR1aが水酸基の
保護基である場合にはその除去反応を行った後、一般式
〔XVIII〕
[Chemical 105] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] Then, when R 1a is a hydroxyl-protecting group, the removal reaction is carried out, and then the compound of the general formula [XVIII]

【化106】 〔式中、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bおよびXd は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−i〕
[Chemical formula 106] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] in more general formula [XIV] R 1b -X d [XIV] [wherein, the R 1b and X d represents the same meaning as above. ] The compound represented by the general formula [Ii]

【化107】 〔式中、M、Ad 、R2aおよびR1bは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、 (J法)j=0でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−i’〕
[Chemical formula 107] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. Further, (J method) When j = 0 and A is from (o) to (p), the general formula [Ii ′]

【化108】 〔式中、R1b、MおよびR2cは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)または(m)で表される基を示
す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−j〕
[Chemical 108] [Wherein R 1b , M and R 2c have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-j], the reaction for removing the protective group for the amino group in step ( 1 ) is carried out, and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化109】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、R1 、R
5 、R6 、R8 あるいはR9 が水素原子でR2 が水素原
子または陰電荷であるβ−ラクタム化合物を所望する場
合には、次いで一般式〔I−a〕〜〔I−j〕で表され
る化合物に水酸基の保護基の除去反応、カルボキシル基
の保護基の除去反応およびアミノ基の保護基の除去反応
を必要に応じて適宜組み合わせて行うか、または、これ
らの保護基を同時に除去することを特徴とする上記一般
式〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物または、その薬
理学上許容される塩の製造法に関する。
[Chemical 109] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] The compound represented by these is manufactured. In addition, R 1 , R
When a β-lactam compound in which 5 , R 6 , R 8 or R 9 is a hydrogen atom and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is desired, the following formulas [Ia] to [Ij] are used. The reaction of removing the protective group for the hydroxyl group, the removing reaction for the protective group for the carboxyl group and the removing reaction for the protective group for the amino group may be appropriately combined with the represented compound, or these protective groups may be removed simultaneously. And a method for producing a β-lactam compound represented by the above general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof.

【0007】前記一般式〔I〕、〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−c〕、〔I−d〕、〔I−e〕、〔I−
f〕、〔I−g〕、〔I−g’〕、〔I−h〕、〔I−
i〕、〔I−i’〕、〔I−j〕、〔II〕、〔III
−a〕、〔III−b−1〕、〔III−b−2〕、
〔III−c〕、〔IV−a〕、〔IV−b〕、
〔V〕、〔VI〕、〔VII〕、〔VIII〕、〔I
X〕、〔X〕、〔XI〕、〔XII〕、〔XIII〕、
〔XIV〕、〔XV〕、〔XVI〕、〔XVII〕、お
よび〔XVIII〕中、R1 、R5 、R6 、及びR1a
における水酸基の保護基またはR8 及びR9 におけるア
ミノ基の保護基としては、好適には例えばtert−ブチル
オキシカルボニルのような炭素数1〜5の低級アルコキ
シカルボニル基、例えば、2−ヨウ化エチルオキシカル
ボニル、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニ
ルのような炭素数1〜5のハロゲノアルコキシカルボニ
ル基、例えばアリルオキシカルボニルのような置換また
は無置換の炭素数3〜7の低級アルケニルオキシカルボ
ニル基、例えばベンジルオキシカルボニル、p−メトキ
シベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ようなアラルキルオキシカルボニル基、例えばトリメチ
ルシリル、tert−ブチルジメチルシリルのようなトリア
ルキルシリル基が挙げられる。またR5 及びR6 におけ
る水酸基の保護基としては、前記以外に好適なものとし
て例えばメチルあるいはtert−ブチルのような直鎖状も
しくは分枝鎖状で炭素数1〜5の低級アルキル基、例え
ばメトキシメチル、エトキシメチル、イソブトキシメチ
ルのような炭素数2〜5の低級アルコキシメチル基、例
えばベンジル、p−メトキシベンジル、o−ニトロベン
ジル、p−ニトロベンジルのようなアラルキル基、たと
えばアリル、2−メチルアリル、3−メチルアリルのよ
うな炭素数3〜7の低級アルケニル基も挙げることがで
きる。
The above general formulas [I], [Ia] and [I-
b], [I-c], [I-d], [I-e], [I-
f], [I-g], [I-g '], [I-h], [I-
i], [I-i '], [I-j], [II], [III]
-A], [III-b-1], [III-b-2],
[III-c], [IV-a], [IV-b],
[V], [VI], [VII], [VIII], [I
X], [X], [XI], [XII], [XIII],
R 1 , R 5 , R 6 and R 1a in [XIV], [XV], [XVI], [XVII] and [XVIII].
The protective group for the hydroxyl group in or the protective group for the amino group in R 8 and R 9 is preferably a lower alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms such as tert-butyloxycarbonyl, for example, 2-ethyl iodide. C1-C5 halogenoalkoxycarbonyl groups such as oxycarbonyl and 2,2,2-trichloroethyloxycarbonyl, for example, substituted or unsubstituted C3-C7 lower alkenyloxycarbonyl groups such as allyloxycarbonyl. , Aralkyloxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, o-nitrobenzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, and trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl and tert-butyldimethylsilyl. List It is. Further, as the hydroxyl-protecting group for R 5 and R 6 , other than the above, preferable examples include a linear or branched lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as methyl or tert-butyl, for example, C2-C5 lower alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl and isobutoxymethyl, for example aralkyl groups such as benzyl, p-methoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-nitrobenzyl, such as allyl, 2 Other examples include lower alkenyl groups having 3 to 7 carbon atoms such as -methylallyl and 3-methylallyl.

【0008】また、R2 及びR2aにおけるカルボキシル
基の保護基としては通常用いられる各種の保護基が可能
であるが、好適には例えばメチル、エチル、イソプロピ
ル、tert−ブチルのような直鎖状もしくは分枝鎖状で炭
素数1〜5の低級アルキル基、例えば2−ヨウ化エチ
ル、2,2,2−トリクロロエチルのような炭素数1〜
5のハロゲノ低級アルキル基、例えばメトキシメチル、
エトキシメチル、イソブトキシメチルのような炭素数1
〜5の低級アルコキシメチル基、例えばアセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチルのような炭素数1〜5の低
級脂肪族アシルオキシメチル基、例えば1−エトキシカ
ルボニルオキシエチルのような1−(C1 〜C5 )低級
アルコキシカルボニルオキシエチル基、例えばベンジ
ル、p−メトキシベンジル、o−ニトロベンジル、p−
ニトロベンジルのようなアラルキル基、例えばアリル、
2−メチルアリル、3−メチルアリルのような炭素数3
〜7の低級アルケニル基、ベンズヒドリル基、またはフ
タリジル基が挙げられる。
Further, as the protecting group for the carboxyl group in R 2 and R 2a, various kinds of commonly used protecting groups can be used, but preferably, for example, a linear group such as methyl, ethyl, isopropyl and tert-butyl. Or a branched chain lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as 2-ethyl iodide or 2,2,2-trichloroethyl having 1 to 5 carbon atoms.
A halogeno lower alkyl group of 5, for example, methoxymethyl,
1 carbon atom such as ethoxymethyl and isobutoxymethyl
~ 5 lower alkoxymethyl groups such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, etc. lower aliphatic acyloxymethyl groups having 1-5 carbon atoms such as 1-ethoxycarbonyloxyethyl such 1- (C 1 ~C 5) lower alkoxycarbonyloxy ethyl group such as a benzyl, p- methoxybenzyl, o- nitrobenzyl, p-
Aralkyl groups such as nitrobenzyl, eg allyl,
3 carbon atoms such as 2-methylallyl and 3-methylallyl
~ 7 lower alkenyl groups, benzhydryl groups, or phthalidyl groups.

【0009】また、Mにおけるメチレン基の低級アルキ
ル置換基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチルまたはn−ペンチルのよ
うな炭素数1〜5のものが挙げられる。
Examples of the lower alkyl substituent of the methylene group in M include those having 1 to 5 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or n-pentyl.

【0010】また、R0 、R3 、R7 、R8 、R10
よびR11における低級アルキル基としては例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
またはn−ペンチルのような炭素数1〜5のものが挙げ
られる。また、R11における低級アルコキシ基としては
例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシまたはn−ペントキシのような炭
素数1〜5のものが挙げられる。また、アリール基とし
ては、例えばフェニル、o−トリル、p−トリルのよう
なものが挙げられる。
The lower alkyl group for R 0 , R 3 , R 7 , R 8 , R 10 and R 11 is, for example, carbon such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or n-pentyl. The thing of several 1-5 is mentioned. Examples of the lower alkoxy group for R 11 include those having 1 to 5 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy or n-pentoxy. Examples of the aryl group include phenyl, o-tolyl and p-tolyl.

【0011】また、R3 、R7 およびR8 における置換
低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル 、
1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチルのような
炭素数1〜5のヒドロキシ低級アルキル基、例えばメト
キシメチル、1−メトキシエチル、2−エトキシエチル
のような炭素数1〜5の低級アルコキシアルキル基、例
えばアミノメチル、N−メチルアミノメチル、N,N−
ジメチルアミノメチル、N−メチルアミノエチルのよう
な炭素数1〜5の無置換ないし、モノもしくはジ低級ア
ルキルアミノアルキル基、例えばカルバモイルメチル、
メチルアミノカルボニルメチル、ジメチルアミノカルボ
ニルメチル、2−(ジメチルアミノカルボニル)エチル
のような炭素数1〜5の無置換ないし、モノもしくはジ
低級アルキルアミノカルボニルアルキル基等を挙げるこ
とができる。R10における置換低級アルキル基として
は、例えばアミノメチル、アセチルアミノメチル、カル
ボキシルメチル、アセチルメチル、プロピオニルメチ
ル、カルバモイルメチル、N−メチルアミノカルボニル
メチル、N,N−ジメチルアミノカルボニルメチル、2
−(イミノメチルアミノ)メチル、2−アミノエチル、
2−アセチルアミノエチル、2−シアノエチル、2−メ
トキシエチル、2−エトキシエチル、2−カルボキシル
エチル、2−ヒドロキシエチル、2−カルバモイルエチ
ル、2−N−メチルアミノカルボニルエチル、2−N,
N−ジメチルアミノカルボニルエチル、3−カルボキシ
ルプロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペ
ンチル等の炭素数2〜7のものが挙げられる。
The substituted lower alkyl group for R 3 , R 7 and R 8 is, for example, hydroxymethyl,
C1-C5 hydroxy lower alkyl groups such as 1-hydroxyethyl and 2-hydroxyethyl, for example, C1-C5 lower alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl, 1-methoxyethyl and 2-ethoxyethyl, For example, aminomethyl, N-methylaminomethyl, N, N-
C1-C5 unsubstituted or mono- or di-lower alkylaminoalkyl groups such as dimethylaminomethyl and N-methylaminoethyl, such as carbamoylmethyl,
Examples include unsubstituted or mono- or di-lower alkylaminocarbonylalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as methylaminocarbonylmethyl, dimethylaminocarbonylmethyl and 2- (dimethylaminocarbonyl) ethyl. Examples of the substituted lower alkyl group for R 10 include aminomethyl, acetylaminomethyl, carboxylmethyl, acetylmethyl, propionylmethyl, carbamoylmethyl, N-methylaminocarbonylmethyl, N, N-dimethylaminocarbonylmethyl, 2
-(Iminomethylamino) methyl, 2-aminoethyl,
2-acetylaminoethyl, 2-cyanoethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-carboxyethyl, 2-hydroxyethyl, 2-carbamoylethyl, 2-N-methylaminocarbonylethyl, 2-N,
Examples thereof include those having 2 to 7 carbon atoms such as N-dimethylaminocarbonylethyl, 3-carboxypropyl, 4-hydroxybutyl, 5-hydroxypentyl and the like.

【0012】R3 における低級アルコキシカルボニル基
としては例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、n−プロピルオキシカルボニル、tert−ブチル
オキシカルボニルのような炭素数2〜5のものが挙げら
れる。さらにモノ及びジ低級アルキルアミノカルボニル
基としては、例えばメチルアミノカルボニル、ジメチル
アミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、メチルエ
チルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニルのよ
うな炭素数2〜5のものが挙げられる。また、R3 にお
ける環状アミノカルボニル基としては下に示すような3
〜6員環のものが挙げられる。
Examples of the lower alkoxycarbonyl group for R 3 include those having 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propyloxycarbonyl and tert-butyloxycarbonyl. Furthermore, examples of the mono- and di-lower alkylaminocarbonyl groups include those having 2 to 5 carbon atoms such as methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, methylethylaminocarbonyl and diethylaminocarbonyl. Further, as the cyclic aminocarbonyl group for R 3 , the following 3
To 6-membered ring.

【化110】 [Chemical 110]

【0013】Zにおけるハロゲン原子としては、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子が挙げら
れる。また、低級アルコキシカルボニル基としては例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロ
ピルオキシカルボニル、tert−ブチルオキシカルボ
ニルのような炭素数2〜5のものが挙げられる。さらに
モノ及びジ低級アルキルアミノカルボニル基としては、
例えばメチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル、メチルエチルアミノカ
ルボニル、ジエチルアミノカルボニルのような炭素数2
〜5のものが挙げられる。
Examples of the halogen atom in Z include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Further, examples of the lower alkoxycarbonyl group include those having 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propyloxycarbonyl and tert-butyloxycarbonyl. Further, as the mono- and di-lower alkylaminocarbonyl group,
2 carbon atoms such as methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, methylethylaminocarbonyl, diethylaminocarbonyl
~ 5 are mentioned.

【0014】また、Lで表される水酸基の反応性エステ
ルとしては、例えばベンゼンスルホン酸エステル、p−
トルエンスルホン酸エステル、p−ニトロベンゼンスル
ホン酸エステル、p−ブロモベンゼンスルホン酸エステ
ル等の置換もしくは無置換アリールスルホン酸エステ
ル、例えばメタンスルホン酸エステル、エタンスルホン
酸エステル等の炭素数1〜5の低級アルカンスルホン酸
エステル、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル等の炭素数1〜5のハロゲノ低級アルカンスルホン
酸エステル、例えばジフェニルリン酸エステル等のジア
リールリン酸エステル、例えばハロゲン化水素とのエス
テルである塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物等のハロゲ
ン化物等を挙げることができる。この中で好適なものと
しては、p−トルエンスルホン酸エステル、メタンスル
ホン酸エステル、ジフェニルリン酸エステルを挙げるこ
とができる。また、置換もしくは無置換の低級アルキル
スルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、
n−ブチルスルフィニル、2−(アセチルアミノ)エチ
ルスルフィニル等の炭素数1〜5のものが挙げられる。
The reactive ester of the hydroxyl group represented by L is, for example, benzenesulfonic acid ester, p-
Substituted or unsubstituted aryl sulfonic acid ester such as toluene sulfonic acid ester, p-nitrobenzene sulfonic acid ester and p-bromobenzene sulfonic acid ester, for example, lower alkane having 1 to 5 carbon atoms such as methane sulfonic acid ester and ethane sulfonic acid ester. Sulfonic acid esters, for example, C1-5 halogeno lower alkane sulfonic acid esters such as trifluoromethane sulfonic acid esters, diaryl phosphoric acid esters such as diphenyl phosphoric acid esters, chlorinated compounds such as esters with hydrogen halides, Examples thereof include halides such as bromide and iodide. Among these, preferred examples include p-toluenesulfonic acid ester, methanesulfonic acid ester, and diphenylphosphoric acid ester. Examples of the substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group include, for example, methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl,
Examples thereof include those having 1 to 5 carbon atoms such as n-butylsulfinyl and 2- (acetylamino) ethylsulfinyl.

【0015】また、Xa 、Xb 、Xc 、Xd 及びXe
おける酸残基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ま
たはヨウ素のようなハロゲン等の無機酸残基、例えばベ
ンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキ
シ、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシ等のような有機酸残基等が挙げられる。
The acid residue in X a , X b , X c , X d and X e is, for example, an inorganic acid residue such as chlorine, bromine, fluorine or halogen such as iodine, eg benzenesulfonyloxy. , P-toluenesulfonyloxy, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, etc., and the like.

【0016】さらに、Yの末端がカルボニル基の場合、
c 及びXd としてはエトキシカルボニルオキシ、イソ
プロピルオキシカルボニルオキシ等のような炭素数2〜
6の低級アルコキシカルボニルオキシ基も挙げることが
できる。
Further, when the terminal of Y is a carbonyl group,
X c and X d have 2 to 2 carbon atoms such as ethoxycarbonyloxy and isopropyloxycarbonyloxy.
The lower alkoxycarbonyloxy group of 6 can also be mentioned.

【0017】また、Yにおける低級アルキレン基として
はメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンのような
炭素数1〜4のものが挙げられ、低級アルケニレン基と
してはビニレン、プロペニレン、ブチニレンのような炭
素数2〜4のものが挙げられる。さらに、カルボニル
基、酸素原子または−NR0 −基を1種以上含有する低
級アルキレン基としては例えば下に示すようなものが挙
げられる。 −CO−CH2 −,−CO−CH2 CH2 −,−CH2
−CO−,−CH2 −CO−CH2 −,−CH2 −CO
NMe−,−CH2 −CO−NH−,−CH2 −CON
H−CH2 −,−CH2 CH2 −CO−NH−,−CH
2 CH2 −CO−NMe−,−CH2 CH2 CO−NM
e−CH2 −,−COO−CH2 −,−CH2 −COO
−,−CH2 −COO−CH2 CH2 − また、カルボニル基、酸素原子または−NR0 −基を1
種以上含有する低級アルケニレン基としては例えば下に
示すようなものが挙げられる。 −CO−CH=CH−,−CH2 −CO−CH=CH
−,−CH2 −CO−NH−CH=CH−CH2 −,−
CH2 −CO−NMe−CH=CH−CH2 −,−CO
O−CH2 −CH=CH−,−CH2 −COO−CH=
CH−
Further, the lower alkylene group in Y includes those having 1 to 4 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene and butylene, and the lower alkenylene group includes those having 2 to 2 carbon atoms such as vinylene, propenylene and butynylene. 4 are mentioned. Furthermore, examples of the lower alkylene group containing at least one kind of carbonyl group, oxygen atom or —NR 0 — group include those shown below. -CO-CH 2 -, - CO -CH 2 CH 2 -, - CH 2
-CO -, - CH 2 -CO- CH 2 -, - CH 2 -CO
NMe -, - CH 2 -CO- NH -, - CH 2 -CON
H-CH 2 -, - CH 2 CH 2 -CO-NH -, - CH
2 CH 2 -CO-NMe -, - CH 2 CH 2 CO-NM
e-CH 2 -, - COO -CH 2 -, - CH 2 -COO
—, —CH 2 —COO—CH 2 CH 2 — In addition, a carbonyl group, an oxygen atom or a —NR 0 — group is 1
Examples of the lower alkenylene group containing one or more species include those shown below. -CO-CH = CH -, - CH 2 -CO-CH = CH
-, - CH 2 -CO-NH -CH = CH-CH 2 -, -
CH 2 -CO-NMe-CH = CH-CH 2 -, - CO
O-CH 2 -CH = CH - , - CH 2 -COO-CH =
CH-

【0018】Aにおける一般式(a)〜(p)以外のそ
の他の有機基としては、例えばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチルのような炭素数3〜8の環状ア
ルキル基、炭素数1〜3の低級アルキレン基を介した前
記のような炭素数3〜8の環状アルキル基、例えば2−
ピロリル、4−イミダゾリル、2−チアゾリルのような
総原子数5〜11からなり、そのうち1〜5が窒素原
子、酸素原子及び硫黄原子から選択されるヘテロ原子で
ある一もしくは二環式ヘテロ環基、炭素数1〜3の低級
アルキレン基を介した前記のような一もしくは二環式ヘ
テロ環基等を挙げることができる。
Examples of other organic groups other than the general formulas (a) to (p) in A include cyclic alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl, cyclobutyl and cyclopentyl, and lower alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms. A cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as described above via an alkylene group, for example, 2-
A mono- or bicyclic heterocyclic group consisting of a total of 5 to 11 atoms such as pyrrolyl, 4-imidazolyl and 2-thiazolyl, of which 1 to 5 are heteroatoms selected from nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom. Examples thereof include mono- or bicyclic heterocyclic groups as described above through a lower alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

【0019】また、前記一般式〔I〕の塩は常用の無毒
性塩である。そのような塩としては、例えばナトリウ
ム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウ
ムのような無機塩基塩、例えばトリエチルアンモニウ
ム、ピリジニウム、ジイソプロピルアンモニウムのよう
な有機塩基塩、例えば塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸付
加塩、例えばギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸等の有機酸付加塩等が挙げられる。
The salt of the above general formula [I] is a conventional non-toxic salt. Examples of such salts include inorganic base salts such as sodium, potassium, calcium, magnesium and ammonium, organic base salts such as triethylammonium, pyridinium and diisopropylammonium, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid. Examples thereof include addition salts such as organic acid addition salts of formic acid, acetic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid and the like.

【0020】以下に本発明化合物の製造方法について詳
細に述べる。 (A法)一般式〔I−a〕で示される化合物は、一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−a〕で表
されるメルカプタン化合物とをそれぞれ不活性溶媒中、
塩基の存在下に反応させる(工程A)ことにより製造す
ることができる。
The method for producing the compound of the present invention is described in detail below. (Method A) The compound represented by the general formula [Ia] is obtained by reacting the compound represented by the general formula [II] and the mercaptan compound represented by the general formula [III-a] in an inert solvent,
It can be produced by reacting in the presence of a base (step A).

【化111】 これらの反応に用いられる不活性溶媒のうち好適なもの
としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラ
ミドを挙げることができる。
[Chemical 111] Among the inert solvents used in these reactions, dioxane, tetrahydrofuran, dimethylsulfoxide, acetonitrile, and hexamethylphosphoramide are preferable.

【0021】塩基としては例えば炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、t−ブ
トキシカリウムのような無機塩基、例えばピリジン、ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕−7−ウンデセン(DBU)のような有機塩基等が
挙げられる。特に好適なものとして、ジイソプロピルエ
チルアミンまたはDBUを挙げることができる。
Examples of the base include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride and potassium t-butoxy, such as pyridine, dimethylaminopyridine, triethylamine, diisopropylethylamine and 1,8-diazabicyclo [5. .4.
0] -7-undecene (DBU) and the like. Particularly preferred are diisopropylethylamine or DBU.

【0022】塩基は反応が十分進行するだけの量が必要
であり、一般式〔III−a〕で示されるメルカプタン
化合物に対して通常1〜3当量を用いて行うことができ
る。一般式〔III−a〕で示されるメルカプタン化合
物は反応が十分進行するだけの量が必要であり、大過剰
量を用いることができるが、一般式〔II〕で示される
化合物に対して通常1〜2当量を用いて行うことができ
る。反応温度は−78〜+60℃の範囲で行われるが、
−40〜+40℃の範囲が好適である。なお、反応終了
後は通常の有機化学的手法によって成績体を取出すこと
ができる。
The base is required in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out usually in an amount of 1 to 3 equivalents relative to the mercaptan compound represented by the general formula [III-a]. The mercaptan compound represented by the general formula [III-a] is required in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and a large excess amount can be used, but it is usually 1 relative to the compound represented by the general formula [II]. ~ 2 equivalents can be used. The reaction temperature is −78 to + 60 ° C.,
The range of -40 to + 40 ° C is preferable. After the completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0023】また、一般式〔I−a〕で表される化合物
は、次のようにしても製造することができる。
The compound represented by the general formula [Ia] can also be produced in the following manner.

【化112】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−b−1〕で表されるメルカプタン化合物とから前記
工程Aによって一般式〔IV−a〕で示される化合物を
製造する。次いで、一般式〔IV−a〕で表される化合
物から公知の方法に従ってR8 におけるアミノ基の保護
基の除去反応を行う。この保護基の除去方法(工程B)
は酸、塩基、還元剤等で処理するそれ自体公知の方法で
あり、例えばT.W. Greene : Protective Groups in
Organic Synthesis, J. Wiley & Sons Inc., 1981.を参
照することができる。酸としては好適にはトリフルオロ
酢酸、ギ酸、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム等また
はその混合したものを挙げることができる。塩基として
は好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、硫化ナトリウムあるいは硫化カリウム等の
アルカリ金属硫化物、あるいはフッ化テトラブチルアン
モニウムを挙げることができる。還元による方法として
は好適には亜鉛及び酢酸、水素及びパラジウム−炭素あ
るいは白金等による水素化分解等が挙げられる。また、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを使う手
法も用いることができる。
[Chemical 112] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
I-b-1] and a mercaptan compound represented by the formula [IV-a] are produced by the above step A. Then, a reaction for removing the amino-protecting group in R 8 is carried out from the compound represented by the general formula [IV-a] according to a known method. Method for removing this protecting group (step B)
Is a method known per se of treating with an acid, a base, a reducing agent, etc., for example, TW Greene: Protective Groups in
Reference can be made to Organic Synthesis, J. Wiley & Sons Inc., 1981. Preferable examples of the acid include trifluoroacetic acid, formic acid, boron trifluoride, aluminum chloride and the like or a mixture thereof. Preferable examples of the base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal sulfides such as sodium sulfide and potassium sulfide, and tetrabutylammonium fluoride. Preferable examples of the reduction method include zinc and acetic acid, hydrogen and hydrogenolysis with palladium-carbon or platinum. Also,
A technique using tetrakistriphenylphosphine palladium can also be used.

【0024】使用される溶媒としては保護基の除去反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定はないが、
水、メタノールやエタノール等のアルコール類、テトラ
ヒドロフランやジオキサン等のエーテル類、酢酸等の脂
肪酸類、またはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ
ロホルムあるいはクロロベンゼン等のハロゲノ炭化水素
類、およびそれら混合溶媒を用いることができる。反応
温度としては適宜冷却または加熱することにより反応を
抑制または促進することが可能であり、好適温度として
は−30〜+40℃が挙げられる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction for removing the protecting group.
Water, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, fatty acids such as acetic acid, halogenohydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and chlorobenzene, and mixed solvents thereof can be used. With respect to the reaction temperature, the reaction can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating, and the preferable temperature is −30 to + 40 ° C.

【0025】このようにして保護基の除去反応を行った
後、一般式〔V〕で表される化合物と必要に応じて塩基
の存在下、不活性溶媒中で反応させる(工程C)ことに
より前記一般式〔I−a〕で表される化合物を製造する
ことができる。この反応に用いられる不活性溶媒として
は、水、アセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、
テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド、またはジクロロメ
タン、ジクロロエタンあるいはクロロホルム等のハロゲ
ノ炭化水素類のような反応に悪影響を及ぼさない溶媒ま
たはその混合物を挙げることができる。
After the reaction for removing the protecting group is carried out in this manner, the compound represented by the general formula [V] is reacted in the presence of a base, if necessary, in an inert solvent (step C). The compound represented by the above general formula [Ia] can be produced. As the inert solvent used in this reaction, water, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone,
Examples thereof include ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, dimethylformamide, and halogenohydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform, which do not adversely influence the reaction, or a mixture thereof.

【0026】この際、必要に応じて炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウムのよ
うな無機塩基、またはピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
DBUのような有機塩基を共存させることができる。反
応温度は特に限定されないが、通常は−40〜+60℃
の範囲が好適である。反応終了後は通常の有機化学的手
法により成績体を取り出すことができる。
At this time, if necessary, an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide or sodium hydride, or pyridine, dimethylaminopyridine, triethylamine, diisopropylethylamine,
An organic base such as DBU can coexist. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -40 to + 60 ° C.
Is preferred. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0027】(B法)一般式〔I−b〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method B) The compound represented by the general formula [Ib] can be produced as follows.

【化113】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−b−2〕で表されるメルカプタン化合物とから前記
工程Aによって一般式〔IV−b〕で示される化合物を
製造する。次いで、一般式〔IV−b〕で表される化合
物と一般式〔VI〕で表される化合物を不活性溶媒中反
応させる(工程D)ことにより一般式〔I−b〕で表さ
れる化合物を製造することができる。この反応に用いら
れる不活性溶媒としては、水、アセトンやメチルエチル
ケトン等のケトン類、テトラヒドロフランやジオキサン
等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、またはジクロロメタン、ジクロロエタンあるいはク
ロロホルム等のハロゲノ炭化水素類のような反応に悪影
響を及ぼさない溶媒またはその混合物を挙げることがで
きる。反応温度は特に限定されないが、通常は−40〜
+60℃の範囲が好適である。反応終了後は通常の有機
化学的手法により成績体を取り出すことができる。
[Chemical 113] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
The compound represented by the general formula [IV-b] is produced by the step A from the mercaptan compound represented by Ib-2]. Then, the compound represented by the general formula [IV-b] is reacted with the compound represented by the general formula [VI] in an inert solvent (step D) to give the compound represented by the general formula [Ib]. Can be manufactured. Examples of the inert solvent used in this reaction include water, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, dimethylformamide, or halogeno hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane or chloroform. Examples thereof include solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the above. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -40 to
A range of + 60 ° C is preferred. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0028】(C法)一般式〔I−c〕で表される化合
物は、一般式〔VII〕で表される化合物と一般式
〔V〕で表される化合物とから前記工程Cによって製造
することができる。
(Method C) The compound represented by the general formula [Ic] is produced by the above step C from the compound represented by the general formula [VII] and the compound represented by the general formula [V]. be able to.

【化114】 [Chemical 114]

【0029】(D法)一般式〔I−d〕で表される化合
物は、一般式〔VIII〕で表される化合物を不活性溶
媒中で加熱すること(工程E)により製造することがで
きる。
(Method D) The compound represented by the general formula [Id] can be produced by heating the compound represented by the general formula [VIII] in an inert solvent (step E). ..

【化115】 不活性溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類が好適であるが、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、シクロヘキサン、クロロ
ホルム等の各種の溶媒を用いることも可能である。反応
温度としては適宜冷却または加熱することにより、反応
を抑制または促進することが可能であり、好適反応温度
としては20〜200℃であるということができる。こ
の工程自体は公知の手法であり、例えばThe Journal of
Antibiotics, vol.36, p.938-941,1983、 The Journal
of Antibiotics, vol.41,p.780-787, 1988あるいはJo
urnal of Medicinal Chemistry, vol.30, p.871-880, 1
987 に記載の方法に準じて行うことができる。
[Chemical 115] Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene are suitable as the inert solvent, but ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, various solvents such as cyclohexane and chloroform can also be used. The reaction temperature can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating, and it can be said that the preferable reaction temperature is 20 to 200 ° C. This step itself is a known method, for example, The Journal of
Antibiotics, vol.36, p.938-941,1983, The Journal
of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988 or Jo
urnal of Medicinal Chemistry, vol.30, p.871-880, 1
It can be carried out according to the method described in 987.

【0030】(E法)一般式〔I−e〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method E) The compound represented by the general formula [Ie] can be produced as follows.

【化116】 すなわち、一般式〔IX〕で表される化合物を前記工程
Eに付することにより、一般式〔X〕で表される化合物
を製造し、次いで一般式〔VI〕で表される化合物と前
記工程Dに付することにより製造することができる。 (F法)一般式〔I−f〕で表される化合物は、一般式
〔XI〕で表される化合物と一般式〔V〕で表される化
合物とから前記工程Cによって製造することができる。
[Chemical formula 116] That is, the compound represented by the general formula [IX] is subjected to the step E to produce the compound represented by the general formula [X], and then the compound represented by the general formula [VI] and the step It can be manufactured by attaching D. (Method F) The compound represented by the general formula [If] can be produced by the step C from the compound represented by the general formula [XI] and the compound represented by the general formula [V]. ..

【化117】 [Chemical 117]

【0031】(G法)一般式〔I−g〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method G) The compound represented by the general formula [Ig] can be produced as follows.

【化118】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−c〕で表されるメルカプタン化合物とから前記工程
Aによって一般式〔XII〕で示される化合物を製造す
る。次いで、R1aが水酸基の保護基である場合には、一
般式〔XII〕で表される化合物から前記工程Bによっ
て保護基の除去反応を行った後、得られる一般式〔XI
II〕で表される化合物を一般式〔XIV〕で表される
化合物と前記工程Cに付することにより一般式〔I−
g〕で表される化合物を製造することができる。
[Chemical 118] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
The compound represented by the general formula [XII] is produced by the step A from the mercaptan compound represented by Ic]. Next, when R 1a is a hydroxyl-protecting group, the compound represented by the general formula [XII] is subjected to the reaction of removing the protective group in the above step B, and then the resulting compound of the general formula [XI
II] by subjecting the compound represented by the general formula [XIV] to the compound represented by the general formula [I-
The compound represented by g] can be manufactured.

【0032】(H法)一般式〔I−h〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method H) The compound represented by the general formula [Ih] can be produced as follows.

【化119】 すなわち、一般式〔I−g’〕で表される化合物と一般
式〔XV〕で表される化合物を前記工程Dに付する。あ
るいは、一般式〔I−g’〕で表される化合物のR9
おけるアミノ基の保護基の除去反応を前記工程Bによっ
て行った後、ホルムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アル
キルエステルと反応する(工程F)それ自体公知の方法
(例えば、欧州特許出願公開第0289801号に記載の方
法)に付する。
[Chemical 119] That is, the compound represented by the general formula [Ig ′] and the compound represented by the general formula [XV] are subjected to the step D. Alternatively, after the reaction for removing the amino-group-protecting group at R 9 of the compound represented by the general formula [Ig ′] is carried out by the above step B, a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid is added. The reaction (step F) is carried out by a method known per se (for example, the method described in European Patent Application Publication No. 0289801).

【0033】(I法)一般式〔I−i〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method I) The compound represented by the general formula [Ii] can be produced as follows.

【化120】 すなわち、一般式〔XVI〕で示される化合物を前記工
程Eに付することにより、一般式〔XVII〕で表され
る化合物を製造し、次いでR1aが水酸基の保護基である
場合には、一般式〔XVII〕で表される化合物から前
記工程Bによって保護基の除去反応を行って一般式〔X
VIII〕とした後、一般式〔XIV〕で表される化合
物と前記工程Cに付することにより一般式〔I−i〕で
表される化合物を製造することができる。
[Chemical 120] That is, a compound represented by the general formula [XVII] is produced by subjecting the compound represented by the general formula [XVI] to the step E, and then when R 1a is a hydroxyl-protecting group, The compound of the formula [XVII] is subjected to the reaction of removing the protecting group in the above step B to give a compound of the general formula [X
VIII], the compound represented by the general formula [XIV] and the above step C can be applied to produce the compound represented by the general formula [Ii].

【0034】(J法)一般式〔I−j〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method J) The compound represented by the general formula [I-j] can be produced as follows.

【化121】 すなわち、一般式〔I−i’〕で表される化合物と一般
式〔XV〕で表される化合物を前記工程Dに付する。あ
るいは、一般式〔I−i’〕で表される化合物のR9
おけるアミノ基の保護基の除去反応を前記工程Bによっ
て行った後、前記工程Fに付する。
[Chemical 121] That is, the compound represented by the general formula [Ii ′] and the compound represented by the general formula [XV] are subjected to the step D. Alternatively, the reaction of removing the amino-protecting group in R 9 of the compound represented by the general formula [Ii ′] is carried out in the step B, and then the step F is carried out.

【0035】なお、得られる一般式〔I−a〕〜〔I−
j〕で表される化合物を、必要に応じて、R2aにおける
カルボキシル基の保護基の除去反応、R8 あるいはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応、及びR1a
5 、もしくはR6 における水酸基の保護基の除去反応
を適宜組合わせた反応に付することにより、R8
9 、R1 、R5 、またはR6 のうち1つ以上が水素原
子であり、さらにR2 が水素原子または陰電荷である一
般式〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物を製造するこ
とができる。反応終了後は通常の有機化学的手法により
成績体を取出すことができるが、例えばCHP−20P
等の吸着樹脂等を用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、目的化合物の溶出する部分を分取し、凍結乾燥する
ことにより反応成績体を得ることができる。
The obtained general formulas [Ia] to [I-
j], if necessary, the reaction of removing the protective group for the carboxyl group in R 2a , R 8 or R 9
Removal of the amino-protecting group in R, and R 1a ,
By subjecting R 5 or R 6 to a reaction in which the removal reaction of the hydroxyl-protecting group is appropriately combined, R 8 ,
A β-lactam compound represented by the general formula [I] in which at least one of R 9 , R 1 , R 5 , or R 6 is a hydrogen atom, and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is produced. be able to. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemistry method, for example, CHP-20P.
The reaction product can be obtained by subjecting it to column chromatography using an adsorption resin or the like, collecting the portion from which the target compound is eluted, and freeze-drying.

【0036】なお、本発明の原料化合物である一般式
〔II〕で表される化合物は公知であり、例えばTetrah
edron Letters, vol.23, p.897-900, 1982、Heterocycl
es,vol.21, p.29-40, 1984 あるいは欧州特許出願公開
第0046363号公報に記載されている。また、一般式〔V
II〕あるいは一般式〔XI〕で表される化合物も公知
であり、例えばChemical & Pharmaceutical Bulletin,
vol.29, p.3158-3172,1981、The Journal of Antibioti
cs, vol.36, p.938-941, 1983あるいはTheJournal of
Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988 に記載されて
いる。さらに、一般式〔VIII〕、〔IX〕あるいは
〔XVI〕で表される化合物も公知であり、例えばThe
Journal of Antibiotics, vol.36, p.938-941, 1983 、
TheJournal of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 19
88あるいはJournal ofMedicinal Chemistry, vol.30,
p.871-880, 1987に記載の方法に準じて製造することが
できる。
The compound represented by the general formula [II], which is the starting material compound of the present invention, is publicly known, for example, Tetrah.
edron Letters, vol.23, p.897-900, 1982, Heterocycl
es, vol.21, p.29-40, 1984 or European Patent Application Publication No. 0046363. In addition, the general formula [V
II] or the compound represented by the general formula [XI] is also known, for example, Chemical & Pharmaceutical Bulletin,
vol.29, p.3158-3172,1981, The Journal of Antibioti
cs, vol.36, p.938-941, 1983 or The Journal of
Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988. Further, compounds represented by the general formula [VIII], [IX] or [XVI] are also known, for example, The
Journal of Antibiotics, vol.36, p.938-941, 1983,
TheJournal of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 19
88 or Journal of Medicinal Chemistry, vol.30,
It can be produced according to the method described in p.871-880, 1987.

【0037】一方、一般式〔III−a〕、〔III−
b−1〕、〔III−b−2〕あるいは〔III−c〕
で表されるメルカプタン化合物は公知の各種の方法、例
えば特開昭60−58987号公報、特願平2−349
52号公報あるいは特願平2−212102号公報に記
載の方法によって製造することができる。
On the other hand, general formulas [III-a] and [III-
b-1], [III-b-2] or [III-c]
The mercaptan compound represented by the following formula is known in various methods, for example, JP-A-60-58987, Japanese Patent Application No. 2-349.
It can be produced by the method described in Japanese Patent Publication No. 52 or Japanese Patent Application No. 2-212102.

【0038】前記一般式〔I〕で示される化合物には、
ペネム骨格の5位、6位及び8位またはカルバペネム骨
格の4位、5位、6位及び8位の不斉炭素に基づく光学
異性体及び立体異性体が存在し、これらの異性体が便宜
上すべて単一の式で示されているが、これによって本発
明の範囲は限定されるものではなく、本発明は各不斉炭
素原子に基づく、すべての異性体及び異性体混合物を含
むものである。しかしながら、5位と6位の立体配位に
ついては、好適には、Mが硫黄原子あるいはメチレン基
の場合、5位の炭素原子がR配位を有する(5R,6
S)配位あるいは(5R,6R)配位の化合物を、Mが
低級アルキル基で置換されたメチレン基でj=0の場
合、5位の炭素原子がR配位を有する(5R,6S)配
位あるいは(5R,6R)配位の化合物を、Mが低級ア
ルキル基で置換されたメチレン基でj=1の場合、5位
の炭素原子がS配位を有する(5S,6S)配位あるい
は(5S,6R)配位の化合物を挙げることができる。
8位については、好適なものとしてR配位を有する化合
物を選択することができる。
The compound represented by the general formula [I] includes
There are optical isomers and stereoisomers based on the asymmetric carbons at the 5-position, 6-position and 8-position of the penem skeleton or 4-position, 5-position, 6-position and 8-position of the carbapenem skeleton, and all of these isomers are convenient for convenience. Although shown as a single formula, this is not intended to limit the scope of the invention, which is intended to include all isomers and isomer mixtures based on each asymmetric carbon atom. However, regarding the 5- and 6-position configurations, preferably, when M is a sulfur atom or a methylene group, the 5-position carbon atom has the R configuration (5R, 6).
S) -coordinated or (5R, 6R) -coordinated compound, when M is a methylene group substituted with a lower alkyl group and j = 0, the carbon atom at 5-position has R-coordinated (5R, 6S) Coordination or (5R, 6R) coordination compounds, when M is a methylene group substituted with a lower alkyl group and j = 1, the carbon atom at the 5 position has S coordination (5S, 6S) coordination Alternatively, compounds having (5S, 6R) coordination can be mentioned.
For the 8-position, a compound having an R-coordinate can be selected as a suitable one.

【0039】更に好適なものとしては、式〔I−k〕More preferred is the formula [Ik]

【化122】 および式〔I−l〕[Chemical formula 122] And the formula [I-1]

【化123】 で示す化合物を挙げることができる。最も好適な配位を
有する化合物としては、前記一般式〔I−k〕で示す化
合物を挙げることができる。
[Chemical 123] The compound shown by can be mentioned. Examples of the compound having the most suitable coordination include the compounds represented by the above general formula [Ik].

【0040】このような配位を有する異性体を製造する
場合には、原料化合物〔II〕、〔VII〕、〔VII
I〕、〔IX〕、〔XI〕あるいは〔XVI〕で表され
る化合物において対応する異性体を使用して行う。
When producing isomers having such a coordination, the starting compounds [II], [VII] and [VII]
I], [IX], [XI] or [XVI] is carried out using the corresponding isomer.

【0041】また一般式〔I〕で表される化合物のうち
好適なものとしては前記一般式〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−d〕、〔I−e〕、〔I−g〕あるいは
〔I−i〕で表される化合物群を挙げることができる。
特に好適なものとしては前記一般式〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−d〕あるいは〔I−e〕で表される化合物
群を挙げることができる。
Among the compounds represented by the general formula [I], preferred ones are those represented by the general formulas [Ia] and [I-
b], [Id], [Ie], [Ig] or [Ii] can be mentioned.
Particularly preferred are the above-mentioned general formulas [Ia] and [I-
b], [Id] or [Ie] can be mentioned.

【0042】なお、前記一般式〔I〕で示される化合物
がヒドロキシピリドン部分を有する場合(一般式(2)
あるいは(3)で表される基が含まれる場合)には、1
位置換基の種類に対応して下記の式(i)あるいは(i
i)で示される互変異性体の存在が可能であって、本発
明はこれらの全てを包含するものである(ただし、化合
物の命名及び構造式の記載はピリドン型で行うものとす
る)。 (i) 1位置換基が水素原子の場合(一般式(2)
で表される基が含まれる場合)
When the compound represented by the general formula [I] has a hydroxypyridone moiety (general formula (2)
Alternatively, when the group represented by (3) is included), 1
The following formula (i) or (i
It is possible for tautomers represented by i) to exist, and the present invention includes all of them (however, the naming of compounds and the description of structural formulas are to be made in the pyridone form). (I) When the 1-position substituent is a hydrogen atom (general formula (2)
When the group represented by is included)

【化124】 (ii) 1位置換基が水酸基の場合(一般式(3)で
表される基が含まれる場合)
[Chemical formula 124] (Ii) When the 1-position substituent is a hydroxyl group (when the group represented by the general formula (3) is included)

【化125】 [Chemical 125]

【0043】前記一般式〔I〕で示される本発明化合物
は、カテコール誘導体などを導入したペネムあるいはカ
ルバペネム誘導体であり、これらの化合物は優れた抗菌
活性を表し、医薬として有用な化合物であるか、あるい
はそれらの活性を表す化合物の重要中間体である。本発
明によって得られる前記一般式〔I〕を有する化合物の
具体例としては、例えば以下の表1−(1)および表1
−(2)に示した化合物を挙げることができる。
The compound of the present invention represented by the above general formula [I] is a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced, and these compounds exhibit excellent antibacterial activity and are useful as pharmaceuticals. Alternatively, it is a key intermediate for compounds exhibiting their activity. Specific examples of the compound having the general formula [I] obtained by the present invention include, for example, Table 1- (1) and Table 1 below.
The compound shown in-(2) can be mentioned.

【表1】 [Table 1]

【0044】表1−(1)および表1−(2)に例示し
た化合物においては、前述したように立体異性体が存在
し、例示化合物はすべての異性体を含むものである。
The compounds exemplified in Table 1- (1) and Table 1- (2) have stereoisomers as described above, and the exemplified compounds include all isomers.

【0045】本発明による前記一般式〔I〕で表される
新規β−ラクタム化合物は、スタフィロコッカス・オウ
レウス、ストレプトコッカス・パイロジエンス、エシエ
リキア・コリ、シュードモナス・エルギノーザ等のグラ
ム陽性菌並びにグラム陰性菌に優れた抗菌力を示す抗菌
剤として有用である。イミペネムをはじめカルバペネム
系化合物は生体内、特に腎に局在するDHP−Iに不安
定であることが知られているが、本発明化合物は各々の
化合物によってその程度は異なるが、DHP−Iに対し
てより安定になっていることがその特徴として挙げるこ
とができ、本発明化合物のあるものはDHP−Iに対し
て極めて安定である。また、各々の化合物によってその
程度は異なるが生体内半減期(T1/2 )がイミペネム等
に比して長い傾向にあるということもその特徴として挙
げることができる。また本発明化合物は、イミペネム耐
性緑膿菌に対して優れた抗菌力を示すことをその特徴と
して挙げることができる。
The novel β-lactam compound represented by the above general formula [I] according to the present invention is suitable for Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria such as Staphylococcus aureus, Streptococcus pyloriens, Escherichia coli and Pseudomonas aeruginosa. It is useful as an antibacterial agent showing excellent antibacterial activity. It is known that carbapenem compounds such as imipenem are unstable to DHP-I localized in the living body, especially in the kidney. However, the compound of the present invention is different in DHP-I although the degree varies depending on each compound. On the other hand, it can be mentioned as a characteristic that it is more stable, and some of the compounds of the present invention are extremely stable against DHP-I. In addition, it can be mentioned as a characteristic that the in vivo half-life (T 1/2 ) tends to be longer than that of imipenem or the like, although the degree varies depending on each compound. Further, the compound of the present invention can be mentioned as a feature that it exhibits excellent antibacterial activity against imipenem-resistant Pseudomonas aeruginosa.

【0046】本発明化合物を細菌感染症を治療する抗菌
剤として用いるための投与形態としては、例えば錠剤、
カプセル剤、散剤、シロップ剤等による経口投与あるい
は静脈内注射、筋肉内注射、直腸投与などによる非経口
投与があげられる。
Dosage forms for using the compound of the present invention as an antibacterial agent for treating bacterial infection include, for example, tablets,
Examples thereof include oral administration by capsules, powders, syrups and the like, or parenteral administration by intravenous injection, intramuscular injection, rectal administration and the like.

【0047】前記の適当な投与剤型は許容される通常の
担体、賦型剤、結合剤、安定剤などに活性化合物を配合
することにより製造することができる。注射剤型で用い
る場合には許容される緩衝剤、溶解補助剤、等張剤など
を添加することもできる。
The above suitable dosage forms can be prepared by incorporating the active compound into an acceptable conventional carrier, excipient, binder, stabilizer and the like. When used in an injection form, an acceptable buffer, solubilizing agent, isotonic agent, etc. may be added.

【0048】投与量は症状、年齢、体重、投与形態、投
与回数等によって異なるが、通常は成人に対し、一日10
0 〜3000mgを一回または数回に分けて投与する。必要に
応じて減量あるいは増量することができる。
The dose varies depending on the symptoms, age, body weight, dosage form, number of administrations, etc.
Administer 0 to 3000 mg once or in several divided doses. The dose can be reduced or increased as needed.

【0049】[0049]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はもちろんこれらによって何ら限定
されるものではない。なお以下の実施例で用いている略
号の意味は次の通りである。 AOC:アリルオキシカルボニル基 BOC:t−ブチルオキシカルボニル基 Me:メチル基 Ph:フェニル基 PNB:p−ニトロベンジル基 PNZ:p−ニトロベンジルオキシカルボニル基 TBDMS:tert−ブチルジメチルシリル基 TMS:トリメチルシリル基
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The abbreviations used in the following examples have the following meanings. AOC: allyloxycarbonyl group BOC: t-butyloxycarbonyl group Me: methyl group Ph: phenyl group PNB: p-nitrobenzyl group PNZ: p-nitrobenzyloxycarbonyl group TBDMS: tert-butyldimethylsilyl group TMS: trimethylsilyl group

【0050】実施例1Example 1

【化126】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(1.52g)を乾燥アセトニトリル(10ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下に(2S,4S)−1−
アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニ
ル−4−メルカプトピロリジン(877mg)の乾燥アセ
トニトリル(2ml)溶液を加え、次いでジイソプロピル
エチルアミン(0.49ml)を加え、そのまま1時間攪
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、2.5%リン酸
一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製することで(4R,5S,6S,8R,
2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−
アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(1.0g)を得た。
[Chemical formula 126] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.52 g) in dry acetonitrile (10 ml)
Dissolve in, and under ice cooling in a nitrogen stream (2S, 4S) -1-
A solution of allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (877 mg) in dry acetonitrile (2 ml) was added, and then diisopropylethylamine (0.49 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R,
2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-
Allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.0 g) was obtained.

【0051】IRmax cm-1(neat) : 3307(br), 1770, 1
702, 1655(sh), 1650, 1522, 1412,1347, 1140 ;
IR max cm -1 (neat): 3307 (br), 1770, 1
702, 1655 (sh), 1650, 1522, 1412,1347, 1140;

【0052】NMRδppm(CDCl3) : 1.28(3H,m), 1.37
(3H,m), 2.68(1H,m), 2.97, 2.98,3.06, 3.11(合わせ
て3H, それぞれs), 3.27(1H,m),3.47(2H,m), 3.64 (1H,
m),4.12(1H,m), 4.26(2H,m), 4.74(1H,m), 5.1 〜5.6(4
H,m), 5.90(1H,m), 7.65(2H,d,J=8.8Hz), 8.23(2H,d,J=
8.8Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, m), 1.37
(3H, m), 2.68 (1H, m), 2.97, 2.98,3.06, 3.11 (3H in total, each s), 3.27 (1H, m), 3.47 (2H, m), 3.64 (1H,
m), 4.12 (1H, m), 4.26 (2H, m), 4.74 (1H, m), 5.1 ~ 5.6 (4
H, m), 5.90 (1H, m), 7.65 (2H, d, J = 8.8Hz), 8.23 (2H, d, J =
8.8Hz).

【0053】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−アリルオ
キシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリ
ジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(1.
65g)を乾燥テトラヒドロフラン(30ml)に溶か
し、窒素気流中、ジメドン( 1.66g)を加え、氷冷
下にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(3
42mg)を加えて10分間攪拌した。除媒した残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製すること
で(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−
ニトロベンジル−3−〔(2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(0.94g)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [ 3.2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.
65 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (30 ml), dimedone (1.66 g) was added in a nitrogen stream, and tetrakistriphenylphosphine palladium (3
42 mg) was added and the mixture was stirred for 10 minutes. By removing the desolvated residue by silica gel column chromatography, (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-
Nitrobenzyl-3-[(2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (0.94 g) was obtained.

【0054】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1763, 1
698, 1638, 1518, 1381, 1342, 1203,1137 ;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1763, 1
698, 1638, 1518, 1381, 1342, 1203, 1137;

【0055】NMRδppm(CDCl3) : 1.28(3H,d, J=7.3H
z), 1.36(3H,d,J=6.3Hz), 1.59(1H, m), 2.59(1H,m),
3.00(3H,s), 3.02(3H,s), 3.10(1H,dd,J=11.6Hz, 4.6H
z),3.27(2H,m), 3.39(1H,m), 3.75(1H,m), 3.94(1H,t,J
=7.9Hz), 4.25(2H,m), 5.23(1H,d,J=13.8Hz), 5.50(1H,
d,J=13.8Hz), 7.67(2H,d,J=8.6Hz), 8.24(2H,d,J=8.6H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.36 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.59 (1H, m), 2.59 (1H, m),
3.00 (3H, s), 3.02 (3H, s), 3.10 (1H, dd, J = 11.6Hz, 4.6H
z), 3.27 (2H, m), 3.39 (1H, m), 3.75 (1H, m), 3.94 (1H, t, J
= 7.9Hz), 4.25 (2H, m), 5.23 (1H, d, J = 13.8Hz), 5.50 (1H,
d, J = 13.8Hz), 7.67 (2H, d, J = 8.6Hz), 8.24 (2H, d, J = 8.6H)
z).

【0056】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(2−ジメチル
アミノカルボニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−
メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−
カルボキシレート(137mg)をアセトン(3ml)及び
塩化メチレン(2ml)に溶かし、1−ブロモアセチル−
3,4−ジ−(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(200mg)を加え、室温で1日攪拌した。0.02M
リン酸緩衝液(pH=7.0)洗し、硫酸マグネシウム
乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製することで(4R,5S,6S,8R,
2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−
(3,4−ジ−p−ニトロベンジルオキシベンゾイル)
メチル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−
4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−7−オン−2−カルボキシレート(129mg)を
得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-
Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-
Carboxylate (137 mg) was dissolved in acetone (3 ml) and methylene chloride (2 ml) and 1-bromoacetyl-
3,4-Di- (p-nitrobenzyloxy) benzene (200 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. 0.02M
By washing with a phosphate buffer (pH = 7.0), drying with magnesium sulfate, removing the solvent, and purifying the residue by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R,
2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-
(3,4-di-p-nitrobenzyloxybenzoyl)
Methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine)-
4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-
En-7-one-2-carboxylate (129 mg) was obtained.

【0057】IRmax cm-1(neat) : 3400(br), 1763, 1
694, 1672, 1640, 1602, 1505, 1417,1344, 1271, 120
7, 1177, 1133 ;
IR max cm -1 (neat): 3400 (br), 1763, 1
694, 1672, 1640, 1602, 1505, 1417, 1344, 1271, 120
7, 1177, 1133;

【0058】NMRδppm(CDCl3) : 1.20(3H,d, J=7.3H
z), 1.35(3H,d,J=5.9Hz), 1.87(1H, m), 2.74(1H,m),
2.95(3H,s), 3.03(3H,s), 3.20(3H,m), 3.37(1H,m), 3.
75(1H,d,J=16.2Hz), 3.81(1H,m), 3.99(1H,t,J=7.9Hz),
4.23(1H,t,J=6.3Hz), 4.32(1H,d,J=16.2Hz), 5.17(1H,
d,J=13.9Hz), 5.32(2H,s), 5.37(2H,s), 5.44(1H,d,J=1
3.9Hz), 6.93(1H,d,J=8.6Hz), 7.56 〜7.77(7H,m), 7.9
6(1H,d,J=2.0Hz),8.13〜8.33(6H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.35 (3H, d, J = 5.9Hz), 1.87 (1H, m), 2.74 (1H, m),
2.95 (3H, s), 3.03 (3H, s), 3.20 (3H, m), 3.37 (1H, m), 3.
75 (1H, d, J = 16.2Hz), 3.81 (1H, m), 3.99 (1H, t, J = 7.9Hz),
4.23 (1H, t, J = 6.3Hz), 4.32 (1H, d, J = 16.2Hz), 5.17 (1H,
d, J = 13.9Hz), 5.32 (2H, s), 5.37 (2H, s), 5.44 (1H, d, J = 1
3.9Hz), 6.93 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.56 ~ 7.77 (7H, m), 7.9
6 (1H, d, J = 2.0Hz), 8.13 ~ 8.33 (6H, m).

【0059】d)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−(3,4
−ジ−p−ニトロベンジルオキシベンゾイル)メチル−
2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−4−イル
チオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7
−オン−2−カルボキシレート(120mg)をテトラヒ
ドロフラン(6ml)、0.1Mリン酸緩衝液(pH=
7.0,6ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(12
0mg)を加え、室温下、常圧で2時間水素添加を行っ
た。触媒を濾別、濾液を塩化メチレンで3回洗浄し、水
層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブランフィル
ターにて濾過、濾液をCHP−20Pポリマーによるカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、2〜4%テトラヒ
ドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥する
ことで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−〔(1−(3,4−ジヒド
ロキシベンゾイル)メチル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
D) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1- (3,4
-Di-p-nitrobenzyloxybenzoyl) methyl-
2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl)-
1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7
-On-2-carboxylate (120 mg) was added to tetrahydrofuran (6 ml), 0.1M phosphate buffer (pH =
It was dissolved in 7.0, 6 ml) and 10% palladium on carbon (12
0 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 2 hours. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, then filtered through a membrane filter, and the filtrate was purified by column chromatography using CHP-20P polymer. Fractions eluted with a 2 to 4% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3-[(1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0060】UVmax nm (H2O) : 220, 263, 297 ;UV max nm (H 2 O): 220, 263, 297;

【0061】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1754, 16
20, 1594, 1388, 1289 ;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1754, 16
20, 1594, 1388, 1289;

【0062】NMRδppm(D 2 O) : 1.19(3H,d,J=6.9H
z), 1.30(3H,d,J=6.3Hz), 1.72(3H,m), 2.80(1H,m), 2.
90(3H,s), 3.01(3H,s), 3.24(3H,m), 3.40(2H,m), 3.87
(1H,m), 3.95〜4.30(5H,m), 6.91(1H,d,J=8.3Hz), 7.45
(1H,s), 7.52(1H,d,J=8.3Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.19 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.72 (3H, m), 2.80 (1H, m), 2.
90 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.24 (3H, m), 3.40 (2H, m), 3.87
(1H, m), 3.95 ~ 4.30 (5H, m), 6.91 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.45
(1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.3Hz).

【0063】実施例2Example 2

【化127】 a)(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p
−ニトロベンジル−3−〔(1−アリルオキシカルボニ
ル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−4−
イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(574mg)を乾
燥塩化メチレン(18ml)に溶かし、窒素気流中、ジメ
ドン(560mg)を加え、室温でテトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウム(116mg)を加えて20分間
攪拌した。反応液を0℃に冷却後、乾燥塩化メチレン
(0.5ml)に溶かしたジイソプロピルエチルアミン
(115mg)を加え、次いで3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)シンナモイルクロリド(約1mmo
l)の乾燥塩化メチレン(3ml)溶液を滴下した。反応
液を食塩水洗し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで
乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー により精製することで(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−
〔{1−(3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)シンナモイル)−2−ジメチルアミノカルボニルピ
ロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート
(446mg)を得た。
[Chemical 127] a) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p
-Nitrobenzyl-3-[(1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine) -4-
Ilthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (574 mg) was dried over methylene chloride (18 ml). Dimethone (560 mg) was added in a nitrogen stream, tetrakistriphenylphosphine palladium (116 mg) was added at room temperature, and the mixture was stirred for 20 minutes. After cooling the reaction solution to 0 ° C., diisopropylethylamine (115 mg) dissolved in dry methylene chloride (0.5 ml) was added, and then 3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl chloride (about 1 mmo).
A solution of l) in dry methylene chloride (3 ml) was added dropwise. The reaction solution was washed with brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, the solvent was removed, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-
[{1- (3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-
Hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0]
Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (446 mg) was obtained.

【0064】IRmax cm-1(neat) : 3400(br), 1770, 1
707, 1655(sh), 1642, 1602, 1593,1513, 1347, 1302,
1253, 1132;
IR max cm -1 (neat): 3400 (br), 1770, 1
707, 1655 (sh), 1642, 1602, 1593,1513, 1347, 1302,
1253, 1132;

【0065】NMRδppm(CDCl3) : 0.19(6H,s), 0.21
(6H,s), 0.98(18H,s), 1.27(3H,d,J= 6.9Hz), 1.37(3H,
d,J=6.3Hz), 2.63(1H,m), 3.00(3H,s), 3.21(3H,s), 3.
25〜3.55(3H,m), 3.60〜3.85(2H,m), 4.20〜4.40(3H,
m), 4.98(1H,t,J=8.4Hz), 5.20〜5.60(2H,m), 6.46(1H,
d,J=16Hz), 6.81(1H,d,J=8.3Hz), 6.94(1H,d,J=2.0Hz),
7.05(1H,dd,J=2.0Hz および8.3Hz), 7.56(1H,d,J=16H
z), 7.66(2H,d,J=8.9Hz),8.24(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.19 (6H, s), 0.21
(6H, s), 0.98 (18H, s), 1.27 (3H, d, J = 6.9Hz), 1.37 (3H,
d, J = 6.3Hz), 2.63 (1H, m), 3.00 (3H, s), 3.21 (3H, s), 3.
25 ~ 3.55 (3H, m), 3.60 ~ 3.85 (2H, m), 4.20 ~ 4.40 (3H,
m), 4.98 (1H, t, J = 8.4Hz), 5.20 ~ 5.60 (2H, m), 6.46 (1H,
d, J = 16Hz), 6.81 (1H, d, J = 8.3Hz), 6.94 (1H, d, J = 2.0Hz),
7.05 (1H, dd, J = 2.0Hz and 8.3Hz), 7.56 (1H, d, J = 16H
z), 7.66 (2H, d, J = 8.9Hz), 8.24 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0066】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−(3,4
−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)シンナモイ
ル)−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4
−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(446mg)をテ
トラヒドロフラン(6.8ml)に溶かし、室温で酢酸
(187mg)を加え、次いで1M−フッ化テトラブチル
アンモニウムテトラヒドロフラン溶液(1ml)を滴下し
た。1時間攪拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム(262mg)の水溶液を加えて中和
し、有機層を食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製することで(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(3,4
−ジヒドロキシシンナモイル)−2−ジメチルアミノカ
ルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(220mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1- (3,4
-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4
-Ilthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (446 mg) was added to tetrahydrofuran (6.8 ml). ), Acetic acid (187 mg) was added at room temperature, and then a 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (1 ml) was added dropwise. After stirring for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate,
An aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (262 mg) was added for neutralization, the organic layer was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (3,4
-Dihydroxycinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-
6- (1-Hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (220 mg) was obtained.

【0067】IRmax cm-1(KBr) : 3430(br), 1768, 17
10, 1642, 1600, 1521, 1440, 1350,1286;
IR max cm -1 (KBr): 3430 (br), 1768, 17
10, 1642, 1600, 1521, 1440, 1350,1286;

【0068】NMRδppm(CDCl3 -CD 3 OD(9:1)) : 1.2
5(3H,d,J=7.3Hz), 1.33(3H,d,J=6.3Hz), 2.66(1H,m),
3.00(3H,s), 3.38(3H,m), 3.70(2H,m), 4.0〜4.4(3H,
m),4.95(1H,t,J=8.6Hz), 5.2 〜5.6(2H,m), 6.49(1H,d,
J=15Hz), 6.80(1H,d,J=8.3Hz), 6.92(1H,d,J=7.3Hz),
7.04(1H,s), 7.49(1H,d,J=15Hz), 7.67(2H,d,J=8.9Hz),
8.24(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 -CD 3 OD (9: 1)): 1.2
5 (3H, d, J = 7.3Hz), 1.33 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.66 (1H, m),
3.00 (3H, s), 3.38 (3H, m), 3.70 (2H, m), 4.0 ~ 4.4 (3H,
m), 4.95 (1H, t, J = 8.6Hz), 5.2 ~ 5.6 (2H, m), 6.49 (1H, d,
J = 15Hz), 6.80 (1H, d, J = 8.3Hz), 6.92 (1H, d, J = 7.3Hz),
7.04 (1H, s), 7.49 (1H, d, J = 15Hz), 7.67 (2H, d, J = 8.9Hz),
8.24 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0069】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(3,4
−ジヒドロキシシンナモイル)−2−ジメチルアミノカ
ルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(258mg)をテトラヒドロフラン(1
3.0ml)、0.1M−リン酸緩衝液(pH7.0,1
3.0ml)、に溶かし10%パラジウム炭素(250m
g)を加え、室温下常圧で1時間水素添加した。触媒を
濾別し、濾液を塩化メチレンで3回洗浄、水層中の有機
溶媒を減圧下留去し、メンブランフィルターで濾過、濾
液をCHP−20Pポリマーによるカラムクロマトグラ
フィーに付し、2%テトラヒドロフラン水溶液による溶
出分画を凍結乾燥することにより白色アモルファスとし
て(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−3−
〔{1−(3,4−ジヒドロキシシンナモイル)−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イルチ
オ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (3,4
-Dihydroxycinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-
6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (258 mg) was added to tetrahydrofuran (1
3.0 ml), 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0, 1)
3.0 ml), dissolved in 10% palladium on carbon (250 m
g) was added and hydrogenated at room temperature and atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, filtered through a membrane filter, and the filtrate was subjected to column chromatography with CHP-20P polymer and 2% tetrahydrofuran. The fraction eluted with the aqueous solution was freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-
[{1- (3,4-dihydroxycinnamoyl) -2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylic acid was obtained.

【0070】UVmax nm (H2O) : 218(sh), 245(sh),
297;
UV max nm (H 2 O): 218 (sh), 245 (sh),
297;

【0071】IRmax cm-1(KBr) : 3420, 1739, 1634,
1585, 1390, 1289;
IR max cm -1 (KBr): 3420, 1739, 1634,
1585, 1390, 1289;

【0072】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=6.9H
z), 1.29(3H,d,J=6.6Hz), 1.83(1H,m), 2.85(1H,m), 2.
97(3H,s), 3.19(3H,s), 6.70(1H,d,J=15.5Hz), 6.94(1
H,d,J=8.3Hz), 7.14(1H,dd,J=8.3Hzおよび2.0Hz), 7.22
(1H,d,J=2.0Hz), 7.44(1H,d,J=15.5Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.29 (3H, d, J = 6.6Hz), 1.83 (1H, m), 2.85 (1H, m), 2.
97 (3H, s), 3.19 (3H, s), 6.70 (1H, d, J = 15.5Hz), 6.94 (1
H, d, J = 8.3Hz), 7.14 (1H, dd, J = 8.3Hz and 2.0Hz), 7.22
(1H, d, J = 2.0Hz), 7.44 (1H, d, J = 15.5Hz).

【0073】実施例3Example 3

【化128】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(772mg)と(2S,4S)−1−{(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ)ベン
ゾイル}−2−ジメチルアミノカルボニル−4−メルカ
プトピロリジン(547mg)とを乾燥アセトニトリル
(6ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にジイソプロピ
ルエチルアミン(168mg)を加え、そのまま50分間
攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、2.5%リン
酸一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム
と炭酸ナトリウムで乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製することで(4R,
5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベン
ジル−3−〔{1−(2−ヒドロキシ−3−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)ベンゾイル)−2−ジメチル
アミノカルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−
メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−
カルボキシレート(794mg)を得た。
[Chemical 128] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (772 mg) and (2S, 4S) -1-{(2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} -2- Dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (547 mg) was dissolved in dry acetonitrile (6 ml), diisopropylethylamine (168 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream, and the mixture was stirred for 50 minutes as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, washed with brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, removed of the solvent, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R,
5S, 6S, 8R, 2 ′S, 4 ′S) -p-Nitrobenzyl-3-[{1- (2-hydroxy-3- (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine } -4-ylthio] -4-
Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-
The carboxylate (794 mg) was obtained.

【0074】IRmax cm-1(neat) : 3375(br), 1758, 1
697, 1627, 1512, 1338, 1250;
IR max cm -1 (neat): 3375 (br), 1758, 1
697, 1627, 1512, 1338, 1250;

【0075】NMRδppm(CDCl3) : 0.20(6H,s), 1.00
(9H,s), 1.25(3H,d,J=6.3Hz), 1.34(3H,d,J=6.3Hz), 2.
71(1H,m), 3.01(3H,s), 3.19(3H,s), 3.5 〜4.35(5H,
m),5.0 〜5.6(3H,m), 6.75(1H,t,J=7.9Hz), 6.94(1H,d,
J=7.9Hz), 7.00(1H,d,J=5.9Hz), 7.65(2H,d,J=8.9Hz),
8.23(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.20 (6H, s), 1.00
(9H, s), 1.25 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.34 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.
71 (1H, m), 3.01 (3H, s), 3.19 (3H, s), 3.5 ~ 4.35 (5H,
m), 5.0 to 5.6 (3H, m), 6.75 (1H, t, J = 7.9Hz), 6.94 (1H, d,
J = 7.9Hz), 7.00 (1H, d, J = 5.9Hz), 7.65 (2H, d, J = 8.9Hz),
8.23 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0076】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(2−ヒ
ドロキシ−3−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)ベ
ンゾイル)−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(741
mg)をテトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、氷冷下
で酢酸(173mg)を加え、次いで1M−フッ化テトラ
ブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液(0.96
ml)を滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応液を酢
酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム(242mg)の
水溶液を加えて中和し、有機層を食塩水洗し、硫酸マグ
ネシウム乾燥、除媒することにより(4R,5S,6
S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3
−〔{1−(2,3−ジヒドロキシベンゾイル)−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イルチ
オ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレートを得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (2-hydroxy-3- (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl -6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (741
mg) was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml), acetic acid (173 mg) was added under ice cooling, and then a 1 M tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (0.96) was added.
ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (242 mg), and the organic layer was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated (4R , 5S, 6
S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3
-[{1- (2,3-dihydroxybenzoyl) -2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylate was obtained.

【0077】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1762, 1
700(br), 1634, 1518, 1344 ;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1762, 1
700 (br), 1634, 1518, 1344;

【0078】NMRδppm(CDCl3) : 1.23(3H,d,J=7.3H
z), 1.34(3H,d,J=7.3Hz), 2.76(1H,m), 3.00(3H,s), 3.
17(3H,s), 3.5 〜4.3(5H,m), 5.1〜5.6(3H,m), 6.80(1
H,t,J=7.9Hz), 6.92(1H,d,J=6.3Hz), 7.01(1H,d,J=7.9H
z), 7.65(2H,d,J=8.9Hz),8.23(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.23 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.34 (3H, d, J = 7.3Hz), 2.76 (1H, m), 3.00 (3H, s), 3.
17 (3H, s), 3.5 ~ 4.3 (5H, m), 5.1 ~ 5.6 (3H, m), 6.80 (1
H, t, J = 7.9Hz), 6.92 (1H, d, J = 6.3Hz), 7.01 (1H, d, J = 7.9H
z), 7.65 (2H, d, J = 8.9Hz), 8.23 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0079】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(2,3
−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(300mg)をテトラヒドロフラン(15ml)、
0.1Mリン酸緩衝液(15ml)に溶かし、10%パラ
ジウム炭素(300mg)を加え、室温下、常圧で1時間
水素添加を行った。触媒を濾別し、濾液を塩化メチレン
で3回洗浄、水層中の有機溶媒を減圧下留去し、メンブ
ランフィルターで濾過した。濾液をCHP−20Pポリ
マーによるカラムクロマトグラフィーに付し、2〜4%
テトラヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結
乾燥することで白色アモルファスとして(4R,5S,
6S,8R,2’S,4’S)−3−〔{1−(2,3
−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (2,3
-Dihydroxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (300 mg) in tetrahydrofuran (15 ml),
It was dissolved in 0.1 M phosphate buffer (15 ml), 10% palladium carbon (300 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed with methylene chloride three times, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and the mixture was filtered with a membrane filter. The filtrate was subjected to column chromatography with CHP-20P polymer, 2-4%
Fractions eluted with an aqueous tetrahydrofuran solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S,
6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-[{1- (2,3
-Dihydroxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0080】UVmax nm (H2O) : 297;UV max nm (H 2 O): 297;

【0081】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1752, 16
34, 1398, 1265;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1752, 16
34, 1398, 1265;

【0082】NMRδppm(D 2 O) : 1.18(3H,d,J=7.3H
z), 1.31(3H,d,J=6.3Hz), 1.88(1H,m), 2.86(1H,m), 3.
01(3H,s), 3.22(3H,s), 6.66(1H,dd,J=7.6Hzおよび1.3H
z),6.86(1H,t,J=7.6Hz), 7.00(1H,dd,J=7.6Hzおよび1.3
Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.18 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.31 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.88 (1H, m), 2.86 (1H, m), 3.
01 (3H, s), 3.22 (3H, s), 6.66 (1H, dd, J = 7.6Hz and 1.3H
z), 6.86 (1H, t, J = 7.6Hz), 7.00 (1H, dd, J = 7.6Hz and 1.3
Hz).

【0083】実施例4Example 4

【化129】 a)(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p
−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン−4−イルチオ)−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(8.35
g)とジメチルアミノピリジン(392mg)を乾燥塩化
メチレン(40ml)に溶かし、ジイソプロピルエチルア
ミン(2.48g)の乾燥塩化メチレン(7ml)溶液を
加え、窒素気流中、氷冷下に3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)ベンゾイルクロリド(10.5mm
ol)の乾燥塩化メチレン(32ml)溶液を滴下し、氷冷
で1時間さらに室温で一夜反応した。食塩水洗し、硫酸
マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製することで(4R,5S,
6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−
3−(1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン−4−イルチオ)
−4−メチル−6−〔1−{3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)ベンゾイル}オキシエチル〕−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレート(3.34g)を得た。
[Chemical formula 129] a) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p
-Nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] ] Hept-
2-en-7-one-2-carboxylate (8.35
g) and dimethylaminopyridine (392 mg) were dissolved in dry methylene chloride (40 ml), and a solution of diisopropylethylamine (2.48 g) in dry methylene chloride (7 ml) was added. (T-Butyldimethylsilyloxy) benzoyl chloride (10.5mm
ol) in dry methylene chloride (32 ml) was added dropwise, and the mixture was reacted with ice for 1 hour and further at room temperature overnight. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, removed of the solvent, and the residue is purified by silica gel column chromatography (4R, 5S,
6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-
3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio)
-4-Methyl-6- [1- {3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} oxyethyl] -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylate (3.34 g) was obtained.

【0084】IRmax cm-1(neat) : 1777, 1708, 1653,
1599, 1515, 1415, 1404, 1346,1298, 1252, 1207, 11
74, 1135, 1111;
IR max cm -1 (neat): 1777, 1708, 1653,
1599, 1515, 1415, 1404, 1346, 1298, 1252, 1207, 11
74, 1135, 1111;

【0085】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.20(3H,s), 0.21
(3H,s), 0.22(6H,s), 0.98(18H,s),1.27(3H,m), 1.52(3
H,m), 1.94(1H,m), 2.72(1H,m), 2.93〜3.10(6H,m), 3.
3 〜3.8(3H,m), 4.0〜4.2(1H,m), 4.32(1H,m), 4.72(1
H,m), 5.03 〜5.51(5H,m),6.84(1H,d,J=7.9Hz), 7.4 〜
7.7(6H,m), 8.18 〜8.23(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 0.20 (3H, s), 0.21
(3H, s), 0.22 (6H, s), 0.98 (18H, s), 1.27 (3H, m), 1.52 (3
H, m), 1.94 (1H, m), 2.72 (1H, m), 2.93 to 3.10 (6H, m), 3.
3 ~ 3.8 (3H, m), 4.0 ~ 4.2 (1H, m), 4.32 (1H, m), 4.72 (1
H, m), 5.03 ~ 5.51 (5H, m), 6.84 (1H, d, J = 7.9Hz), 7.4 ~
7.7 (6H, m), 8.18 ~ 8.23 (4H, m).

【0086】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−{3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)ベンゾイル}オキシエチル〕−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(1.0g)をテトラヒドロフラン(12
ml)に溶かし、氷冷下で酢酸(339mg)を加え、次い
で1M−フッ化テトラブチルアンモニウムテトラヒドロ
フラン溶液(1.9ml)を滴下した。室温で1時間攪拌
した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリ
ウム(475mg)の水溶液を加えて中和し、有機層を水
洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製することで(4
R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロ
ベンジル−3−(1−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン−4−
イルチオ)−4−メチル−6−〔1−(3,4−ジヒド
ロキシベンゾイル)オキシエチル〕−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(316mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- {3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.0 g ) To tetrahydrofuran (12
ml), acetic acid (339 mg) was added under ice-cooling, and then 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (1.9 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (475 mg), the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. By purifying by chromatography (4
R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-Nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine-4-
Ilthio) -4-methyl-6- [1- (3,4-dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (316 mg) Got

【0087】IRmax cm-1(neat) : 3300(br), 1764, 1
700, 1640, 1633, 1601, 1514, 1434,1400, 1342, 128
7, 1206, 1177, 1107;
IR max cm -1 (neat): 3300 (br), 1764, 1
700, 1640, 1633, 1601, 1514, 1434, 1400, 1342, 128
7, 1206, 1177, 1107;

【0088】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.28(3H,m), 1.49
(3H,m), 2.72(1H,m), 2.94 〜3.17(6H,m), 3.4 〜3.6
(2H,m), 4.12(1H,m), 4.33(1H,m), 4.79(1H,m), 4.89
〜5.50(5H,m), 6.80〜6.88(1H,m), 7.10(1H,d,J=8.2H
z), 7.37〜7.65(5H,m), 8.1 〜8.2(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, m), 1.49
(3H, m), 2.72 (1H, m), 2.94 ~ 3.17 (6H, m), 3.4 ~ 3.6
(2H, m), 4.12 (1H, m), 4.33 (1H, m), 4.79 (1H, m), 4.89
~ 5.50 (5H, m), 6.80 ~ 6.88 (1H, m), 7.10 (1H, d, J = 8.2H
z), 7.37 ~ 7.65 (5H, m), 8.1 ~ 8.2 (4H, m).

【0089】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−(3,4−ジヒドロキシベンゾイル)オキシエチ
ル〕−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(33mg)をテト
ラヒドロフラン(1.5ml)、0.1Mリン酸緩衝液
(pH7.0、1.5ml)に溶かし、10%パラジウム
炭素(41mg)を加え、室温下、常圧で1時間水素添加
を行った。触媒を濾別し、濾液を塩化メチレンで3回洗
浄、水層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブラン
フィルターで濾過した。濾液をCHP−20Pポリマー
によるカラムクロマト精製に付し、2〜16%テトラヒ
ドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥する
ことで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−(2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−(3,4−ジヒドロキシベンゾイル)オキシエチ
ル〕−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (33 mg) was added to tetrahydrofuran (1.5 ml), 0 It was dissolved in 1M phosphate buffer (pH 7.0, 1.5 ml), 10% palladium carbon (41 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and then filtered with a membrane filter. The filtrate was subjected to column chromatographic purification with CHP-20P polymer, and the elution fractions with a 2 to 16% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and lyophilized to give white amorphous (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3- (2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0090】UVmax nm (H 2 O) : 262, 294;UV max nm (H 2 O): 262, 294;

【0091】IRmax cm-1(KBr) : 3440(br), 1758, 16
02, 1394, 1282, 1223;
IR max cm -1 (KBr): 3440 (br), 1758, 16
02, 1394, 1282, 1223;

【0092】NMRδppm (D2 O) : 1.25(3H,m), 1.47
(3H,d,J=4.3Hz), 2.99(3H,s), 3.08(3H,s), 5.50(1H,
m), 6.91(1H,m), 7.55(2H,m).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.25 (3H, m), 1.47
(3H, d, J = 4.3Hz), 2.99 (3H, s), 3.08 (3H, s), 5.50 (1H,
m), 6.91 (1H, m), 7.55 (2H, m).

【0093】実施例5Example 5

【化130】 a)(4R,5R,6S,8R)−アリル−3−ジフェ
ニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−(1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(154mg)とジイソプロピルエチルアミン(4
7mg)の乾燥アセトニトリル(3ml) 溶液に、窒素気流
中、氷冷下に(2S,4S)−1−(4,5−ジアリル
オキシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカ
ルボニル−4−メルカプトピロリジン(102mg)の乾
燥アセトニトリル(3ml) 溶液を加え、そのまま一夜反
応した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗、食塩水洗
し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで乾燥、除媒
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製することで(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(88mg)を得た。
[Chemical 130] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -allyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6- (1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (154 mg) and diisopropylethylamine (4
7 mg) in a solution of dry acetonitrile (3 ml) in a nitrogen stream under ice-cooling (2S, 4S) -1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercapto. A solution of pyrrolidine (102 mg) in dry acetonitrile (3 ml) was added, and the mixture was reacted overnight as it was. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed with water, brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S). ,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (88 mg) was obtained.

【0094】IRmax cm-1(neat) : 1768, 1700, 1644,
1507, 1320, 1250, 1207, 1140;
IR max cm -1 (neat): 1768, 1700, 1644,
1507, 1320, 1250, 1207, 1140;

【0095】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.13(9H,s), 1.21
(3H,d,J=7.3Hz), 1.26(3H,d,J=6.3Hz), 1.93(1H,m), 2.
64(1H,m), 2.8〜3.4(4H,m), 2.92(3H,s), 3.06(3H,s),
3.50〜4.05(4H,m), 4.05(1H,dd,J=2.6Hzおよび9.2Hz),
4.19(1H,m), 4.50〜4.85(6H,m), 5.20〜5.55(6H,m), 5.
85〜6.20(3H,m), 7.10(1H,s), 8.04(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.13 (9H, s), 1.21
(3H, d, J = 7.3Hz), 1.26 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.93 (1H, m), 2.
64 (1H, m), 2.8 ~ 3.4 (4H, m), 2.92 (3H, s), 3.06 (3H, s),
3.50 ~ 4.05 (4H, m), 4.05 (1H, dd, J = 2.6Hz and 9.2Hz),
4.19 (1H, m), 4.50 ~ 4.85 (6H, m), 5.20 ~ 5.55 (6H, m), 5.
85 ~ 6.20 (3H, m), 7.10 (1H, s), 8.04 (1H, s).

【0096】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(88mg)をテトラヒドロフラン
(1.6ml) に溶かし、氷冷下で酢酸(31mg)を加
え、次いで1M−フッ化テトラブチルアンモニウムテト
ラヒドロフラン溶液(0.13ml) を滴下した。1時間
攪拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナ
トリウム(55mg)の水溶液を加えて中和し、有機層を
水洗および食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒す
ることにより(4R,5S,6S,8R,2’S,4’
S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオキシ
−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(73mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (88 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (1.6 ml), acetic acid (31 mg) was added under ice-cooling, and then 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (0.13 ml) was added dropwise. After stirring for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (55 mg), and the organic layer was washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated (4R , 5S, 6S, 8R, 2'S, 4 '
S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (73 mg) was obtained.

【0097】IRmax cm-1(neat) : 3350(br), 1760, 1
690, 1633, 1504, 1315;
IR max cm -1 (neat): 3350 (br), 1760, 1
690, 1633, 1504, 1315;

【0098】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.20(3H,d,J=7.3H
z), 1.35(3H,d,J=6.3Hz), 1.89(1H,m), 2.93(3H,s), 3.
06(3H,s), 3.21(1H,dd,J=2.6Hzおよび7.3Hz), 3.55〜3.
90(2H,m), 3.90〜4.30(2H,m), 4.50〜4.90(6H,m), 5.15
〜5.55(6H,m), 5.85〜6.20(3H,m), 7.14(1H,s), 8.04(1
H,s).
NMR δppm (CDCl 3 ): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.35 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.89 (1H, m), 2.93 (3H, s), 3.
06 (3H, s), 3.21 (1H, dd, J = 2.6Hz and 7.3Hz), 3.55 ~ 3.
90 (2H, m), 3.90 ~ 4.30 (2H, m), 4.50 ~ 4.90 (6H, m), 5.15
~ 5.55 (6H, m), 5.85 ~ 6.20 (3H, m), 7.14 (1H, s), 8.04 (1
H, s).

【0099】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(85mg)をモノクロロベンゼン(2ml) に溶か
し、窒素気流中、氷冷下にアニリン(0.124ml)お
よびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(4
7mg)を加えて45分間攪拌した。反応液に0.02M
リン酸緩衝液(pH=7.0)を加えて分液し、水層を
塩化メチレンで洗浄し、水層中の有機溶媒を減圧下留去
した後、水層中の有機溶媒を減圧化留去し、CHP−2
0Pポリマーによるカラムクロマトグラフィーに付し、
2〜8%テトラヒドロフラン水溶液による溶出分画を凍
結乾燥することにより白色アモルファスとして(4R,
5S,6S,8R,2’S,4’S)−3−〔{1−
(5−ヒドロキシ−4−ピリドン−2−イル)メチル−
2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イル
チオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7
−オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (85 mg) was dissolved in monochlorobenzene (2 ml), and aniline (0.124 ml) and tetrakistriphenylphosphine palladium under nitrogen cooling in a nitrogen stream. (4
7 mg) was added and stirred for 45 minutes. 0.02M in the reaction solution
Phosphate buffer (pH = 7.0) was added for liquid separation, the aqueous layer was washed with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and then the organic solvent in the aqueous layer was reduced in pressure. Distilled off, CHP-2
Subjected to column chromatography with 0P polymer,
The fraction eluted with a 2 to 8% tetrahydrofuran aqueous solution was lyophilized to give a white amorphous substance (4R,
5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-[{1-
(5-hydroxy-4-pyridon-2-yl) methyl-
2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl)-
1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7
-On-2-carboxylic acid was obtained.

【0100】UVmax nm (H2 O) : 277, 302(sh);UV max nm (H 2 O): 277, 302 (sh);

【0101】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1756, 16
35, 1558, 1506, 1394, 1260;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1756, 16
35, 1558, 1506, 1394, 1260;

【0102】NMRδppm (D2O) : 1.20(3H,d,J=7.3H
z), 1.29(3H,d,J=6.3Hz), 1.77(1H,m),2.85(3H,s), 3.0
7(3H,s), 2.85 〜3.50(6H,m), 3.92(2H,s), 4.16(2H,
m), 4.23(1H,m), 6.62(1H,s), 7.71(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.29 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.77 (1H, m), 2.85 (3H, s), 3.0
7 (3H, s), 2.85 ~ 3.50 (6H, m), 3.92 (2H, s), 4.16 (2H,
m), 4.23 (1H, m), 6.62 (1H, s), 7.71 (1H, s).

【0103】実施例6Example 6

【化131】 a)(4R,5R,6S,8R)−アリル−3−ジフェ
ニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−(1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(114mg)とジイソプロピルエチルアミン(3
5mg)の乾燥アセトニトリル(1ml)溶液に、窒素気流
中、氷冷下に(2S,4S)−1−(4,5−ジアリル
オキシ−3−クロロフェニル)メチル−2−ジメチルア
ミノカルボニル−4−メルカプトピロリジン(93mg)
の乾燥アセトニトリル(1ml)溶液を加え、1時間反応
した。1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ
−7−エン(DBU)(0.039ml)を加え、さらに
1時間反応した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗
し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで乾燥、除媒し
た。残渣を酢酸エチル(10ml)に再び溶かし、氷冷下
1N塩酸(0.5ml)を加え、5分間激しく攪拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水
洗、食塩水洗し、乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製することで(4R,5
S,6S,8R,2’S,4’S)−アリル−3−
〔{1−(4,5−ジアリルオキシ−3−クロロフェニ
ル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。
[Chemical 131] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -allyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6- (1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (114 mg) and diisopropylethylamine (3
5 mg) in dry acetonitrile (1 ml) in a nitrogen stream under ice-cooling (2S, 4S) -1- (4,5-diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercapto. Pyrrolidine (93mg)
A dry acetonitrile (1 ml) solution of was added and reacted for 1 hour. 1,8-Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) (0.039 ml) was added, and the reaction was further continued for 1 hour. Then, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water and washed with magnesium sulfate. It was dried with sodium carbonate and the solvent was removed. The residue was redissolved in ethyl acetate (10 ml), 1N hydrochloric acid (0.5 ml) was added under ice cooling, and the mixture was vigorously stirred for 5 minutes.
The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with sodium hydrogen carbonate water, brine, dried and desolvated, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5
S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -allyl-3-
[{1- (4,5-Diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3. 2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0104】IRmax cm-1(neat) : 3350, 1758, 1688,
1627, 1475, 1412, 1312, 1265,1198, 1125;
IR max cm -1 (neat): 3350, 1758, 1688,
1627, 1475, 1412, 1312, 1265, 1198, 1125;

【0105】NMRδppm (CDCl 3 ): 1.22(3H,d,J=7.3
Hz), 1.34(3H,d,J=6.3Hz), 1.97(1H,m), 2.66(1H,m),
2.81(1H,dd,J=9.9Hzおよび7.3Hz), 2.90(3H,s), 3.02(3
H,s),3.13(1H,dd,J=9.6Hzおよび4.6Hz), 3.20(1H,dd,J=
7.3Hzおよび2.4Hz), 3.36(1H,m), 3.41(1H,d,J=13.2H
z), 3.59(1H,m), 3.70(1H,m), 3.83(1H,d,J=13.2Hz),4.
17(2H,m), 4.56(4H,m), 4.67(1H,m), 4.80(1H,m), 5.20
〜5.40(6H,m), 5.90〜6.24(3H,m), 6.88(2H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.22 (3H, d, J = 7.3
Hz), 1.34 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.97 (1H, m), 2.66 (1H, m),
2.81 (1H, dd, J = 9.9Hz and 7.3Hz), 2.90 (3H, s), 3.02 (3
H, s), 3.13 (1H, dd, J = 9.6Hz and 4.6Hz), 3.20 (1H, dd, J =
7.3Hz and 2.4Hz), 3.36 (1H, m), 3.41 (1H, d, J = 13.2H
z), 3.59 (1H, m), 3.70 (1H, m), 3.83 (1H, d, J = 13.2Hz), 4.
17 (2H, m), 4.56 (4H, m), 4.67 (1H, m), 4.80 (1H, m), 5.20
~ 5.40 (6H, m), 5.90 ~ 6.24 (3H, m), 6.88 (2H, m).

【0106】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−3−クロロフェニル)メチル−2−ジメチルアミ
ノカルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチ
ル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(90mg)をモノクロロベンゼン(2ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下にアニリン(0.181
ml)およびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム(47mg)を加えて50分間攪拌した。反応液に0.
1Mリン酸緩衝液(pH=7.0)を加えて分液し、水
層を塩化メチレンで2回洗浄し、水層中の有機溶媒を減
圧下留去し、CHP−20Pポリマーによるカラムクロ
マトグラフィーに付し、2〜4%テトラヒドロフラン水
溶液による溶出分画を凍結乾燥することにより白色アモ
ルファスとして(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−3−〔{1−(4,5−ジヒドロキシ−3−
クロロフェニル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxy Ethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (90 mg) was added to monochlorobenzene (2 ml).
Aniline (0.181
ml) and tetrakistriphenylphosphine palladium (47 mg) were added and stirred for 50 minutes. 0.
1M phosphate buffer (pH = 7.0) was added for liquid separation, the aqueous layer was washed twice with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and column chromatography was performed using CHP-20P polymer. Then, the fraction eluted with a 2-4% aqueous tetrahydrofuran solution was freeze-dried to give a white amorphous product (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -3-[{1- (4,5-dihydroxy-3-
(Chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0107】UVmax nm (H2 O) : 297;UV max nm (H 2 O): 297;

【0108】IRmax cm-1(KBr) : 3380(br), 1754, 15
93, 1392, 1291;
IR max cm -1 (KBr): 3380 (br), 1754, 15
93, 1392, 1291;

【0109】NMRδppm (D2 O) : 1.19(3H,d,J=7.3H
z), 1.31(3H,d,J=6.6Hz), 1.71(1H,m),2.76(3H,s), 2.8
5(1H,m), 2.95(3H,s), 3.37(4H,m), 3.75(1H,d,J=12.5H
z),3.90(1H,m), 4.00(1H,d,J=12.5Hz), 4.22(3H,m), 6.
79(1H,s), 6.91(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.19 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.31 (3H, d, J = 6.6Hz), 1.71 (1H, m), 2.76 (3H, s), 2.8
5 (1H, m), 2.95 (3H, s), 3.37 (4H, m), 3.75 (1H, d, J = 12.5H
z), 3.90 (1H, m), 4.00 (1H, d, J = 12.5Hz), 4.22 (3H, m), 6.
79 (1H, s), 6.91 (1H, s).

【0110】前記実施例1〜6と同様の方法によって以
下の表2、表3、表4、表5−i及び表5−iiに示す
実施例7〜実施例60の化合物を得た。
The compounds of Examples 7 to 60 shown in the following Table 2, Table 3, Table 4, Table 5-i and Table 5-ii were obtained by the same method as in Examples 1 to 6 above.

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【表5】 [Table 5]

【0111】実施例61Example 61

【化132】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(356mg)を乾燥アセトニトリル(2.3ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下に(2S,4S)−1−
p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(4,5−
ジアリルオキシピリジン−2−カルボニル)アミノメチ
ル−4−メルカプトピロリジン(270mg)の乾燥アセ
トニトリル(2.3ml)溶液を加え、次いでジイソプロ
ピルエチルアミン(77mg)を加え、そのまま2時間攪
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗、食塩水洗
し、硫酸マグネシウム−炭酸ナトリウム乾燥、除媒し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
することで(4R,5S,6S,8R,2’S,4’
S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−2−(4,5−ジアリルオキシ
ピリジン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジン−
4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−7−オン−2−カルボキシレート(302mg)を
得た。
[Chemical 132] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (356 mg) in dry acetonitrile (2.3 ml)
Dissolve in, and under ice cooling in a nitrogen stream (2S, 4S) -1-
p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-
A solution of diallyloxypyridine-2-carbonyl) aminomethyl-4-mercaptopyrrolidine (270 mg) in dry acetonitrile (2.3 ml) was added, then diisopropylethylamine (77 mg) was added, and the mixture was stirred for 2 hours as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water, brine, dried over magnesium sulfate-sodium carbonate, and the solvent was removed.
The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4 '
S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-diallyloxypyridine-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidine-
4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-
En-7-one-2-carboxylate (302 mg) was obtained.

【0112】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1762, 1
698, 1680(sh), 1670(sh), 1516,1502(sh), 1341, 131
6, 1272, 1202;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1762, 1
698, 1680 (sh), 1670 (sh), 1516,1502 (sh), 1341, 131
6, 1272, 1202;

【0113】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.27(3H,d,J=6.9H
z), 1.37(3H,d,J=6.3Hz), 2.56(1H,m), 3.2 〜4.4(10H,
m), 4.72(4H,m), 5.1 〜5.6(8H,m), 5.95 〜6.20(2H,
m),7.45〜7.80(5H,m), 7.95〜8.45(5H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.27 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.37 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.56 (1H, m), 3.2 ~ 4.4 (10H,
m), 4.72 (4H, m), 5.1 ~ 5.6 (8H, m), 5.95 ~ 6.20 (2H,
m), 7.45 ~ 7.80 (5H, m), 7.95 ~ 8.45 (5H, m).

【0114】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−(4,5−ジアリルオ
キシピリジン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジ
ン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(249m
g)を乾燥塩化メチレン(5.6ml)に溶かし、窒素気
流中、ジメドン(157mg)を加え、氷冷下にテトラキ
ストリフェニルホスフィンパラジウム(32mg)を加え
た。室温まで昇温し、40分間攪拌した後除媒して残渣
を薄層クロマトグラフィーにより精製することで(4
R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロ
ベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−2−(5−ヒドロキシ−4−ピリドン−2−カル
ボニルアミノメチル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4
−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(156mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-diallyloxypyridin-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl- 6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-
2-en-7-one-2-carboxylate (249m
g) was dissolved in dry methylene chloride (5.6 ml), dimedone (157 mg) was added in a nitrogen stream, and tetrakistriphenylphosphine palladium (32 mg) was added under ice cooling. The temperature was raised to room temperature, the mixture was stirred for 40 minutes, the solvent was removed, and the residue was purified by thin layer chromatography (4
R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (5-hydroxy-4-pyridone-2-carbonylaminomethyl) ) Pyrrolidin-4-ylthio] -4
-Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (156 mg) was obtained.

【0115】IRmax cm-1(neat) : 3320(br), 1762, 1
695, 1518, 1342;
IR max cm -1 (neat): 3320 (br), 1762, 1
695, 1518, 1342;

【0116】NMRδppm(CDCl3 -CD 3 OD(9:1)) : 1.2
3(3H,d,J=7.3Hz), 1.33(3H,d,J=5.9Hz), 1.85(1H,m),
2.63(1H,m), 5.1〜5.6(4H,m), 7.4〜7.8(5H,m), 8.05
〜8.35(5H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 -CD 3 OD (9: 1)): 1.2
3 (3H, d, J = 7.3Hz), 1.33 (3H, d, J = 5.9Hz), 1.85 (1H, m),
2.63 (1H, m), 5.1 ~ 5.6 (4H, m), 7.4 ~ 7.8 (5H, m), 8.05
~ 8.35 (5H, m).

【0117】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−(5−ヒドロキシ−4
−ピリドン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジン
−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシ
エチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−7−オン−2−カルボキシレート(114mg)
をテトラヒドロフラン(6ml)、0.1Mリン酸緩衝液
(pH=7.0,6ml)に溶かし、10%パラジウム炭
素(120mg)を加え、室温下、常圧で1.5時間水素
添加を行った。触媒を濾別、濾液を塩化メチレンで洗浄
し、水層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブラン
フィルターにて濾過、濾液をCHP−20Pポリマーに
よるカラムクロマトグラフィーにて精製し、2%テトラ
ヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥す
ることで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,
8R,2’S,4’S)−3−〔2−(5−ヒドロキシ
−4−ピリドン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリ
ジン−4−イルチオ〕−4−メチル−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (5-hydroxy-4)
-Pyridone-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2
-En-7-one-2-carboxylate (114 mg)
Was dissolved in tetrahydrofuran (6 ml) and 0.1 M phosphate buffer (pH = 7.0, 6 ml), 10% palladium carbon (120 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1.5 hours. .. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, then filtered through a membrane filter, and the filtrate was purified by column chromatography with CHP-20P polymer to yield 2%. Fractions eluted with an aqueous tetrahydrofuran solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S,
8R, 2 ′S, 4 ′S) -3- [2- (5-hydroxy-4-pyridone-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-1-azabicyclo [3.2. 0] hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0118】UVmax nm (H2O) : 295;UV max nm (H 2 O): 295;

【0119】IRmax cm-1(KBr) : 3358(br), 1752, 16
54, 1560. 1389;
IR max cm -1 (KBr): 3358 (br), 1752, 16
54, 1560. 1389;

【0120】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=6.6H
z), 1.30(3H,d,J=6.3Hz), 1.78(1H,m), 2.76(1H,m), 3.
25〜4.35(10H,m), 7.12(1H,s), 7.76(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 6.6H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.78 (1H, m), 2.76 (1H, m), 3.
25 ~ 4.35 (10H, m), 7.12 (1H, s), 7.76 (1H, s).

【0121】前記実施例61と同様の方法によって、以
下の表6に示す実施例62〜66の化合物を得た。
By the same method as in Example 61, the compounds of Examples 62 to 66 shown in Table 6 below were obtained.

【表6】 [Table 6]

【0122】実施例67Example 67

【化133】 (4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニ
トロベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−(4−メチルピペラジン−1−イルカル
ボニル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(147mg)と1−ブロモアセチル−3,4−ジ
(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン(200mg)を
アセトン(3.0ml)に溶かし、室温下、10日間反応
した。溶媒を減圧下留去し、残渣をテトラヒドロフラン
(10.0ml)、0.1M−リン酸緩衝液(pH=7.
0,10.0ml)に溶かし、10%パラジウム炭素を加
え、室温下、常圧で1.5時間水素添加を行った。実施
例1と同様な後処理を行った後、CHP−20Pポリマ
ーによるカラムクロマトグラフィーにて精製し、8%テ
トラヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾
燥することで白色アモルファスとして(4R,5S,6
S,8R,2’S,4’S)−3−〔2−(4−(3,
4−ジヒドロキシフェニルカルボニルメチル)−4−メ
チル−ピペラジニウム−1−イルカルボニル)ピロリジ
ン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。 UVmax nm (H2O) : 301;
[Chemical 133] (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4-methylpiperazin-1-ylcarbonyl) pyrrolidine- 4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (147 mg) and 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (200 mg) in acetone (3.0 ml) And was reacted at room temperature for 10 days. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was tetrahydrofuran (10.0 ml) and 0.1M-phosphate buffer solution (pH = 7.
0.1% ml), 10% palladium-carbon was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1.5 hours. After performing the same post-treatment as in Example 1, the product was purified by column chromatography with a CHP-20P polymer, and the elution fractions with an 8% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6
S, 8R, 2'S, 4'S) -3- [2- (4- (3,
4-dihydroxyphenylcarbonylmethyl) -4-methyl-piperazinium-1-ylcarbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept −
2-En-7-one-2-carboxylate was obtained. UV max nm (H 2 O): 301;

【0123】IRmax cm-1(KBr) : 3402(br), 1758, 16
64, 1594. 1489, 1453, 1388, 1255,1208, 1090;
IR max cm -1 (KBr): 3402 (br), 1758, 16
64, 1594. 1489, 1453, 1388, 1255, 1208, 1090;

【0124】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=7.3H
z), 1.30(3H,d,J=6.9Hz), 3.46(3H,S), 6.64(1H,d,J=8.
3Hz), 7.24(2H,m).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.9Hz), 3.46 (3H, S), 6.64 (1H, d, J = 8.
3Hz), 7.24 (2H, m).

【0125】実施例68Example 68

【化134】 (4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニ
トロベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−((2−(4−ピリジル)エチル)メチ
ルアミノカルボニル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4
−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(248mg)と1−ブロモアセチル
−3,4−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(228mg)を乾燥塩化メチレン(4ml)と乾燥ジメチ
ルホルムアミド(2ml)の混合溶媒に溶かし、室温下、
10日間反応した。実施例5と同様にして水素添加、後
処理および精製することにより(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−〔2−((2−(1−
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボニルメチル)ピ
リジニウム−4−イル)エチル)メチルアミノカルボニ
ル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レートを得た。
[Chemical 134] (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-((2- (4-pyridyl) ethyl) methylamino Carbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4
-Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (248 mg) and 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (228 mg) were dissolved in a mixed solvent of dry methylene chloride (4 ml) and dry dimethylformamide (2 ml) at room temperature. ,
Reacted for 10 days. Hydrogenation, post-treatment and purification (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3- [2-((2- (1-
(3,4-Dihydroxyphenylcarbonylmethyl) pyridinium-4-yl) ethyl) methylaminocarbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0126】UVmax nm (H 2 O) : 286;UV max nm (H 2 O): 286;

【0127】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 2364, 17
52, 1654. 1560, 1508, 1280;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 2364, 17
52, 1654. 1560, 1508, 1280;

【0128】NMRδppm(D 2 O) : 0.95(3H,d,J=6.9H
z), 1.28(3H,d,J=6.6Hz), 3.04(3H,S), 6.89(1H,d,J=7.
9Hz), 7.2 〜7.5(2H,m), 8.09(2H,br.s), 8.70(2H, br.
s).
NMR δppm (D 2 O): 0.95 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.28 (3H, d, J = 6.6Hz), 3.04 (3H, S), 6.89 (1H, d, J = 7.
9Hz), 7.2 ~ 7.5 (2H, m), 8.09 (2H, br.s), 8.70 (2H, br.
s).

【0129】参考例1Reference Example 1

【化135】 a)60%水素化ナトリウム(8.0g)を乾燥テトラ
ヒドロフラン(50ml)に懸濁した。窒素気流中、氷冷
し、乾燥テトラヒドロフラン(25ml)に溶かしたカテ
コール(5.5g)と乾燥ヘキサメチルホスホラミド
(60ml)を加えた。40℃で10分間加熱攪拌後、再
度氷冷し、p−ニトロベンジルブロミド(9.5g)の
乾燥テトラヒドロフラン(30ml)溶液を加えて10分
間攪拌した。反応液をベンゼンで希釈し、2.5%リン
酸一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム
乾燥、除媒し、残渣を酢酸エチルで結晶化、濾取し、
1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(3.8g)を得た。
[Chemical 135] a) 60% sodium hydride (8.0 g) was suspended in dry tetrahydrofuran (50 ml). After cooling with ice in a nitrogen stream, catechol (5.5 g) dissolved in dry tetrahydrofuran (25 ml) and dry hexamethylphosphoramide (60 ml) were added. After heating and stirring at 40 ° C. for 10 minutes, the mixture was ice-cooled again, a solution of p-nitrobenzyl bromide (9.5 g) in dry tetrahydrofuran (30 ml) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. The reaction solution was diluted with benzene, washed with 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, washed with saline solution, dried over magnesium sulfate and removed of solvent. The residue was crystallized with ethyl acetate and collected by filtration.
1,2-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (3.8 g) was obtained.

【0130】IRmax cm-1(KBr) : 1608, 1511, 1453,
1343, 1259, 1218, 1128, 1047;
IR max cm -1 (KBr): 1608, 1511, 1453,
1343, 1259, 1218, 1128, 1047;

【0131】NMRδppm(CDCl3 ): 5.26(4H,s), 6.94
(4H,s), 7.62(4H,d,J=8.9Hz), 8.24(4H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 5.26 (4H, s), 6.94
(4H, s), 7.62 (4H, d, J = 8.9Hz), 8.24 (4H, d, J = 8.9Hz).

【0132】b)窒素置換したフラスコに無水塩化アル
ミニウム(1.27g)を入れ、乾燥塩化メチレン(1
0ml)を加え、−10℃に冷却した。塩化アセチル(6
40μl)を加えて10分間攪拌し、次いで1,2−ジ
(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン(2.78g)
の乾燥塩化メチレン(35ml)溶液を5分間かけて滴下
した。同温度で10分間攪拌した後、反応液を塩化メチ
レンで希釈し、0.1Mリン酸緩衝液(pH=7.0)
洗、炭酸水素ナトリウム水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒し、残渣をベンゼンで結晶化、濾取し、1−ア
セチル−3,4−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベン
ゼン(2.81g)を得た。
B) Anhydrous aluminum chloride (1.27 g) was placed in a flask purged with nitrogen, and dried methylene chloride (1
0 ml) was added and the mixture was cooled to -10 ° C. Acetyl chloride (6
40 μl) and stirred for 10 minutes, then 1,2-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (2.78 g)
Of dry methylene chloride (35 ml) was added dropwise over 5 minutes. After stirring for 10 minutes at the same temperature, the reaction solution was diluted with methylene chloride, and 0.1M phosphate buffer solution (pH = 7.0)
Washing, washing with sodium hydrogen carbonate water, drying over magnesium sulfate, removal of the solvent, crystallization of the residue with benzene, and filtration to obtain 1-acetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (2.81 g). Obtained.

【0133】IRmax cm-1(KBr) : 1673, 1607, 1586,
1516, 1430, 1352, 1276, 1218,1151, 1040;
IR max cm -1 (KBr): 1673, 1607, 1586,
1516, 1430, 1352, 1276, 1218, 1151, 1040;

【0134】NMRδppm(CDCl3 ): 2.54(3H,s), 5.31
(2H,s), 5.34(2H,s), 6.92(1H,d,J=8.2Hz), 7.62(6H,
m), 8.27(4H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.54 (3H, s), 5.31
(2H, s), 5.34 (2H, s), 6.92 (1H, d, J = 8.2Hz), 7.62 (6H,
m), 8.27 (4H, m).

【0135】c)1−アセチル−3,4−ジ(p−ニト
ロベンジルオキシ)ベンゼン(5.0g)に乾燥テトラ
ヒドロフラン(350ml)を加え、60℃に加熱攪拌し
て溶解させ、無水塩化アルミニウム(150mg)を加え
た。ここに、乾燥テトラヒドロフラン(10ml)に溶か
した臭素(605μl)を5分間かけて加え、さらに同
温度で10分間攪拌した後、冷却した。反応液に0.0
1Mリン酸緩衝液(pH7.0,200ml)を加え、氷
冷下1時間攪拌した後結晶を濾取し、水、エタノール、
酢酸エチルで結晶を順次洗い、減圧下で乾燥させること
により1−ブロモアセチル−3,4−ジ(p−ニトロベ
ンジルオキシ)ベンゼン(3.8g)を得た。
C) To 1-acetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (5.0 g) was added dry tetrahydrofuran (350 ml), and the mixture was heated with stirring at 60 ° C. to dissolve it, and anhydrous aluminum chloride ( 150 mg) was added. Bromine (605 μl) dissolved in dry tetrahydrofuran (10 ml) was added thereto over 5 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 10 minutes and then cooled. 0.0 in the reaction solution
1M phosphate buffer (pH 7.0, 200 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour under ice cooling, and the crystals were collected by filtration, water, ethanol,
The crystals were washed successively with ethyl acetate and dried under reduced pressure to give 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (3.8 g).

【0136】IRmax cm-1(KBr) : 1667, 1607, 1517,
1437, 1348, 1278, 1224, 1150,1108, 1037;
IR max cm -1 (KBr): 1667, 1607, 1517,
1437, 1348, 1278, 1224, 1150, 1108, 1037;

【0137】NMRδppm(CDCl3 ): 4.36(2H,s), 5.31
(2H,s), 5.35(2H,s), 6.95(1H,d,J=8.9Hz), 7.64(6H,
m), 8.27(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 4.36 (2H, s), 5.31
(2H, s), 5.35 (2H, s), 6.95 (1H, d, J = 8.9Hz), 7.64 (6H,
m), 8.27 (4H, m).

【0138】参考例2Reference Example 2

【化136】 カフェイン酸(3.60g)、tert−ブチルジメチ
ルシリルクロリド(10.85g)およびイミダゾール
(6.12g)を乾燥ジメチルホルムアミド(20ml)
に溶かし、室温で一夜反応した。反応液をトルエンで希
釈し、水洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒
した。残渣をメタノール(60ml)およびテトラヒドロ
フラン(60ml)に溶かし、氷冷下炭酸水素ナトリウム
(1.35g)の水(20ml)溶液を加え、室温で1時
間攪拌した。希塩酸を用いて反応液を酸性とした後、酢
酸エチルで抽出、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、
除媒した。残渣をメタノールで結晶化、濾取して3,4
−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)けい皮酸
(7.37g)を得た。
[Chemical 136] Caffeic acid (3.60 g), tert-butyldimethylsilyl chloride (10.85 g) and imidazole (6.12 g) were dried over dimethylformamide (20 ml).
, And reacted overnight at room temperature. The reaction solution was diluted with toluene, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated. The residue was dissolved in methanol (60 ml) and tetrahydrofuran (60 ml), a solution of sodium hydrogen carbonate (1.35 g) in water (20 ml) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hr. The reaction solution was acidified with diluted hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, washed with brine, dried over magnesium sulfate,
Removed the medium. The residue was crystallized with methanol and collected by filtration 3,4
-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamic acid (7.37 g) was obtained.

【0139】IRmax cm-1(KBr) : 3320(br), 1690(s
h), 1680, 1630, 1504, 1282, 1250;
IR max cm -1 (KBr): 3320 (br), 1690 (s
h), 1680, 1630, 1504, 1282, 1250;

【0140】NMRδppm(CDCl3 ): 0.22(6H,s), 0,23
(6H,s), 0.99(9H,s), 1.00(9H,s),6.25(1H,d,J=16Hz),
6.83(1H,d,J=8.6Hz), 7.03(2H,s), 7.66(1H,d,J=16Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.22 (6H, s), 0.23
(6H, s), 0.99 (9H, s), 1.00 (9H, s), 6.25 (1H, d, J = 16Hz),
6.83 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.03 (2H, s), 7.66 (1H, d, J = 16Hz).

【0141】次の表7に示すtert−ブチルジメチル
シリルエーテルは、それぞれに対応するカテコール誘導
体を用いて参考例2と同様の方法により得た。
The tert-butyldimethylsilyl ethers shown in Table 7 below were obtained in the same manner as in Reference Example 2 using the corresponding catechol derivatives.

【表7】 [Table 7]

【0142】参考例6Reference Example 6

【化137】 2,3−ジヒドロキシ安息香酸(4.62g)を用い
て、参考例2と同様の方法により2−ヒドロキシ−3−
t−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸を得た。
[Chemical 137] 2,3-Dihydroxybenzoic acid (4.62 g) was used, and 2-hydroxy-3- was prepared in the same manner as in Reference Example 2.
t-Butyldimethylsilyloxybenzoic acid was obtained.

【0143】IRmax cm-1(neat) : 1645, 1459, 1442,
1390, 1300, 1267, 1255, 1228,1176, 1158;
IR max cm -1 (neat): 1645, 1459, 1442,
1390, 1300, 1267, 1255, 1228, 1176, 1158;

【0144】NMRδppm(CDCl3) : 0.22(6H,s), 1.03
(9H,s), 6.80(1H,m), 7.11(1H,dd,J= 1.6Hz および7.9H
z), 7.55(1H,dd,J=1.6Hzおよび8.1 Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.22 (6H, s), 1.03
(9H, s), 6.80 (1H, m), 7.11 (1H, dd, J = 1.6Hz and 7.9H
z), 7.55 (1H, dd, J = 1.6Hz and 8.1Hz).

【0145】参考例7Reference Example 7

【化138】 a)(2S,4S)−1−アリルオキシカルボニル−2
−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロ
リジン(2.53g)を乾燥塩化メチレン(70ml)に
溶かし、ジメドン(3.92g)を加え、窒素気流中、
氷冷下にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(809mg)を加えた。30分間攪拌した後、2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸
(1.88g)および1−エチル−3−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(1.34
g)を加え、5℃で一日反応した。反応液を酢酸エチル
で希釈し、希塩酸洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより、(2S,4S)−1−(2
−ヒドロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベ
ンゾイル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベン
ゾイルチオピロリジンを得た。
[Chemical 138] a) (2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2
-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (2.53 g) was dissolved in dry methylene chloride (70 ml), dimedone (3.92 g) was added, and the mixture was stirred in a nitrogen stream.
Tetrakistriphenylphosphine palladium (809 mg) was added under ice cooling. After stirring for 30 minutes, 2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoic acid (1.88 g) and 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (1.34).
g) was added and reacted at 5 ° C for one day. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with dilute hydrochloric acid, brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. By purifying the residue by silica gel column chromatography, (2S, 4S) -1- (2
-Hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine was obtained.

【0146】IRmax cm-1(neat) : 3150(br), 1660, 1
650(sh), 1630(sh), 1574, 1444,1412, 1255, 1205;
IR max cm -1 (neat): 3150 (br), 1660, 1
650 (sh), 1630 (sh), 1574, 1444,1412, 1255, 1205;

【0147】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.21(6H,s), 1.01
(9H,s), 2.06(1H,m), 2.83(1H,m),3.03(3H,s), 3.21(3
H,s), 3.79(1H,m), 4.13(2H,m), 5.20(1H,t,J=8.3Hz),
6.72(1H,t,J=7.9Hz), 6.91(1H,m), 7.03(1H,d,J=7.6H
z), 7.4 〜7.55(2H,m), 7.55〜7.70(1H,m), 7.90(2H,d
d,J=1.5Hzおよび8.5Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.21 (6H, s), 1.01
(9H, s), 2.06 (1H, m), 2.83 (1H, m), 3.03 (3H, s), 3.21 (3
H, s), 3.79 (1H, m), 4.13 (2H, m), 5.20 (1H, t, J = 8.3Hz),
6.72 (1H, t, J = 7.9Hz), 6.91 (1H, m), 7.03 (1H, d, J = 7.6H
z), 7.4 ~ 7.55 (2H, m), 7.55 ~ 7.70 (1H, m), 7.90 (2H, d
d, J = 1.5Hz and 8.5Hz).

【0148】b)(2S,4S)−1−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベンゾイル)
−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオ
ピロリジン(682mg)をメタノール(3ml)に溶か
し、窒素気流中、氷冷下に30%メチルアミンメタノー
ル溶液(399mg)を加えた。30分間攪拌した後30
%メチルアミンメタノール溶液(399mg)を追加し、
さらに30分間攪拌した。リン酸一カリウム(1.05
g)の水溶液を加え、塩化メチレンで抽出し、有機層を
2.5%リン酸一カリウム水溶液洗し、硫酸マグネシウ
ム乾燥、除媒して(2S,4S)−1−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベンゾイル)
−2−ジメチルアミノカルボニル−4−メルカプトピロ
リジンを得た。これを精製することなく次の反応に用い
た。
B) (2S, 4S) -1- (2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoyl)
2-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (682 mg) was dissolved in methanol (3 ml), and a 30% methylamine methanol solution (399 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream. After stirring for 30 minutes, 30
% Methylamine methanol solution (399 mg) was added,
It was stirred for another 30 minutes. Monopotassium phosphate (1.05
g) was added and the mixture was extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, dried over magnesium sulfate and desolvated to give (2S, 4S) -1- (2-hydroxy-3). -T-butyldimethylsilyloxybenzoyl)
2-Dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine was obtained. This was used in the next reaction without purification.

【0149】参考例8Reference Example 8

【化139】 a)1,2−ジヒドロキシ−4−ニトロベンゼン(2.
0g)、イミダゾール(4.4g)を乾燥ジメチルホル
ムアミド(10ml)に溶かし、室温下t−ブチルジメチ
ルシリルクロリド(4.9g)を加え、同温度で一日攪
拌した後、さらに60℃で3時間加熱攪拌した。放冷
後、反応液をベンゼンで希釈、0.1Mリン酸緩衝液
(pH7.0)、飽和食塩水で洗浄、乾燥、除媒し、得
られた結晶をメタノールで洗い減圧下乾燥することで1
−ニトロ−3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)ベンゼン(4.5g)を得た。
[Chemical 139] a) 1,2-dihydroxy-4-nitrobenzene (2.
0 g) and imidazole (4.4 g) were dissolved in dry dimethylformamide (10 ml), t-butyldimethylsilyl chloride (4.9 g) was added at room temperature, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 day, then at 60 ° C. for 3 hours. Heated and stirred. After cooling, the reaction solution was diluted with benzene, washed with 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0) and saturated saline, dried and desolvated, and the obtained crystals were washed with methanol and dried under reduced pressure. 1
-Nitro-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (4.5 g) was obtained.

【0150】IRmax cm-1(KBr) : 1583, 1515, 1338,
1301, 1268, 1236, 1088;
IR max cm -1 (KBr): 1583, 1515, 1338,
1301, 1268, 1236, 1088;

【0151】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.15(6H,s), 0,18
(6H,s), 0.96(9H,s), 0.98(9H,s),6.16(1H,d,J=2.0Hz),
6.21(1H,dd,J=8.3Hzおよび2.0Hz), 6.62(1H,d,J=8.3H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.15 (6H, s), 0,18
(6H, s), 0.96 (9H, s), 0.98 (9H, s), 6.16 (1H, d, J = 2.0Hz),
6.21 (1H, dd, J = 8.3Hz and 2.0Hz), 6.62 (1H, d, J = 8.3H
z).

【0152】b)1−ニトロ−3,4−ジ(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)ベンゼン(2.36g)を酢酸
エチル(5ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(23
6mg)を加え、室温下、常圧で1時間水素添加を行っ
た。触媒を濾別し、濾上物を酢酸エチルで洗い、濾・洗
液を除媒することにより1−アミノ−3,4−ジ(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)ベンゼンを得た。
B) 1-Nitro-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (2.36 g) was dissolved in ethyl acetate (5 ml) and 10% palladium on carbon (23
6 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filter cake was washed with ethyl acetate, and the filtration / washing liquid was removed to remove 1-amino-3,4-di (t-
Butyldimethylsilyloxy) benzene was obtained.

【0153】IRmax cm-1(neat) : 3450, 3360, 1614,
1581, 1508, 1468, 1461, 1441.1322, 1267, 1250, 12
23, 1180, 1122;
IR max cm -1 (neat): 3450, 3360, 1614,
1581, 1508, 1468, 1461, 1441.1322, 1267, 1250, 12
23, 1180, 1122;

【0154】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.15(6H,s), 0.19
(6H,s), 0.97(9H,s), 0.98(9H,s),6.17(1H,dd,J=8.5Hz
および2.7Hz), 6.23(1H,d,J=2.7Hz), 6.63(1H,d,J=8.5H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.15 (6H, s), 0.19
(6H, s), 0.97 (9H, s), 0.98 (9H, s), 6.17 (1H, dd, J = 8.5Hz
And 2.7Hz), 6.23 (1H, d, J = 2.7Hz), 6.63 (1H, d, J = 8.5H
z).

【0155】c)1−アミノ−3,4−ジ(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)ベンゼン(354mg)を乾燥テ
トラヒドロフラン(1.5ml)に溶かし、窒素気流中、
氷冷下に1.55M−n−ブチルリチウムヘキサン溶液
(0.71ml)を加えた。15分間攪拌した後同温度で
ブロモ酢酸ブロミド(0.087ml)を加え、さらに3
0分間攪拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム(42m
g)の水溶液および酢酸エチルを加え抽出し、食塩水
洗、硫酸マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、1−
ブロモアセチルアミノ−3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)ベンゼンを得た。
C) 1-Amino-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (354 mg) was dissolved in dry tetrahydrofuran (1.5 ml), and the solution was stirred under a nitrogen stream.
1.55 M n-butyllithium hexane solution (0.71 ml) was added under ice cooling. After stirring for 15 minutes, bromoacetic acid bromide (0.087 ml) was added at the same temperature, and further 3
Stir for 0 minutes. Sodium hydrogen carbonate (42m
g)) aqueous solution and ethyl acetate were added for extraction, washing with brine, drying with magnesium sulfate, removal of the solvent, and purification of the residue by silica gel column chromatography.
Bromoacetylamino-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene was obtained.

【0156】IRmax cm-1(neat) : 3280, 1655, 1607,
1507, 1420, 1405, 1294, 1250,1225, 1206, 1120;
IR max cm -1 (neat): 3280, 1655, 1607,
1507, 1420, 1405, 1294, 1250, 1225, 1206, 1120;

【0157】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.23
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.99(9H,s),4.00(2H,s), 6.78(1
H,d,J=8.6Hz), 6.83(1H,dd,J=2.3Hzおよび8.6Hz), 7.25
(1H,d,J=2.3Hz), 7.95(1H,br.s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.23
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.99 (9H, s), 4.00 (2H, s), 6.78 (1
H, d, J = 8.6Hz), 6.83 (1H, dd, J = 2.3Hz and 8.6Hz), 7.25
(1H, d, J = 2.3Hz), 7.95 (1H, br.s).

【0158】参考例9Reference Example 9

【化140】 a)(2S,4S)−1−t−ブトキシカルボニル−2
−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロ
リジン(7.56g)に氷冷下アニソール(4.32
g)のトリフルオロ酢酸(36ml)溶液を滴下後、室温
に昇温して5.5時間攪拌した。反応液を減圧下に除媒
し、残渣にジエチルエーテルを加えて結晶化後濾取し
た。減圧下に乾燥して、(2S,4S)−2−ジメチル
アミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロリジントリ
フルオロ酢酸塩(5.82g)を得た。
[Chemical 140] a) (2S, 4S) -1-t-butoxycarbonyl-2
-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (7.56 g) was added to anisole (4.32 g) under ice cooling.
A solution of g) in trifluoroacetic acid (36 ml) was added dropwise, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 5.5 hours. The solvent of the reaction solution was removed under reduced pressure, diethyl ether was added to the residue, and the mixture was crystallized and collected by filtration. It was dried under reduced pressure to obtain (2S, 4S) -2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine trifluoroacetic acid salt (5.82 g).

【0159】IRmax cm-1 (KBr) : 3060(br), 1668, 1
450, 1424, 1199, 1179, 1132;
IR max cm -1 (KBr): 3060 (br), 1668, 1
450, 1424, 1199, 1179, 1132;

【0160】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.95 〜2.15(1H,
m), 3.06(3H,s), 3.07(3H,s), 3.35〜3.55(1H,m), 3.95
〜4.15(1H,m), 4.38(1H,m), 5.04(1H,t,J=8.4Hz), 7.47
(2H,m), 7.62(1H,m), 7.90(2H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.95 to 2.15 (1H,
m), 3.06 (3H, s), 3.07 (3H, s), 3.35 ~ 3.55 (1H, m), 3.95
~ 4.15 (1H, m), 4.38 (1H, m), 5.04 (1H, t, J = 8.4Hz), 7.47
(2H, m), 7.62 (1H, m), 7.90 (2H, m).

【0161】b)(2S,4S)−2−ジメチルアミノ
カルボニル−4−ベンゾイルチオピロリジントリフルオ
ロ酢酸塩(78mg)と4,5−ジアリルオキシ−2−ク
ロロメチルピリジン(180mg)を乾燥塩化メチレン
(2ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にトリエチルア
ミン(61mg)を加えた。室温に昇温して4日間反応後
水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥、除媒し、残渣をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製することで(2
S,4S)−1−(4,5−ジアリルオキシ−2−ピリ
ジル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベ
ンゾイルチオピロリジン(212mg)を得た。
B) (2S, 4S) -2-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine trifluoroacetate (78 mg) and 4,5-diallyloxy-2-chloromethylpyridine (180 mg) were dried over methylene chloride (180 mg). 2 ml) and triethylamine (61 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream. After heating to room temperature and reacting for 4 days, washing with water, drying with sodium sulfate, removal of the solvent, and purification of the residue by silica gel thin layer chromatography (2
S, 4S) -1- (4,5-Diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (212 mg) was obtained.

【0162】IRmax cm-1(neat) : 1655, 1588, 1580,
1510, 1445, 1395, 1322, 1242,1207, 1172;
IR max cm -1 (neat): 1655, 1588, 1580,
1510, 1445, 1395, 1322, 1242, 1207, 1172;

【0163】NMRδppm(CDCl3 ) : 2.04(1H,m), 2.7
〜3.3(3H,m), 2.93(3H,s), 3.01(3H, s), 3.5 〜3.9(3
H,m), 4.22(1H,m), 4.5〜4.8(4H,m), 5.2〜5.5(4H, m),
5.95,〜6.15(2H,m), 7.20(1H,s), 7.35〜7.65(3H,m),
7.91(2H,m), 8.04(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.04 (1H, m), 2.7
~ 3.3 (3H, m), 2.93 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.5 ~ 3.9 (3
H, m), 4.22 (1H, m), 4.5 ~ 4.8 (4H, m), 5.2 ~ 5.5 (4H, m),
5.95, ~ 6.15 (2H, m), 7.20 (1H, s), 7.35 ~ 7.65 (3H, m),
7.91 (2H, m), 8.04 (1H, s).

【0164】対応するアルキル化剤を用い、参考例9と
同様の方法によって表8及び表9に示す化合物を得た。
The compounds shown in Tables 8 and 9 were obtained in the same manner as in Reference Example 9 using the corresponding alkylating agent.

【表8】 [Table 8]

【表9】 [Table 9]

【0165】参考例23Reference Example 23

【化141】 a)(2S,4R)−1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ヒドロ
キシピロリジン(500mg)を酢酸エチル(30ml)に
溶かし、10%パラジウム炭素(500mg)を加え、室
温下常圧で30分間水素添加した。触媒を濾別し、濾液
を減圧下濃縮し、残渣をベンゼンで結晶化後濾取するこ
とにより、(2S,4R)−2−ジメチルアミノカルボ
ニル−4−ヒドロキシピロリジン(195mg)を得た。
[Chemical 141] a) (2S, 4R) -1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (500 mg) is dissolved in ethyl acetate (30 ml), 10% palladium carbon (500 mg) is added, and the mixture is allowed to stand at room temperature. Hydrogenation was carried out under normal pressure for 30 minutes. The catalyst was filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was crystallized from benzene and collected by filtration to obtain (2S, 4R) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (195 mg).

【0166】IRmax cm-1 (KBr) : 3279, 1636, 1387,
1102;
IR max cm -1 (KBr): 3279, 1636, 1387,
1102;

【0167】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.84(1H,m), 2.14
(1H,m), 2.89(1H,d,J=12.9Hz), 2.98(3H,s), 3.04(3H,
s), 3.31(1H,dd,J=4.6Hzおよび11.6Hz), 4.15(1H,t,J=
8.1Hz),4.45(1H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.84 (1H, m), 2.14
(1H, m), 2.89 (1H, d, J = 12.9Hz), 2.98 (3H, s), 3.04 (3H,
s), 3.31 (1H, dd, J = 4.6Hz and 11.6Hz), 4.15 (1H, t, J =
8.1Hz), 4.45 (1H, m).

【0168】b)(2S,4R)−2−ジメチルアミノ
カルボニル−4−ヒドロキシピロリジン(100mg)と
3,4−ジアリルオキシベンズアルデヒド(137mg)
をメタノール(0.5ml)に溶かし、室温で30分間攪
拌した。次いで、氷冷下、水素化シアノホウ素ナトリウ
ム(13mg)のメタノール(0.5ml)溶液を加え、氷
冷で1時間、室温でさらに1時間攪拌した。反応液をベ
ンゼンで希釈し、2.5%リン酸−カリウム水溶液で抽
出した。水層を1N水酸化ナトリウムでpHを10に調
整した後、塩化メチレンで抽出し、乾燥後除媒すること
で(2S,4R)−1−(3,4−ジアリルオキシベン
ジル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ヒドロキ
シピロリジン(86mg)を得た。
B) (2S, 4R) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (100 mg) and 3,4-diallyloxybenzaldehyde (137 mg)
Was dissolved in methanol (0.5 ml) and stirred at room temperature for 30 minutes. Then, under ice-cooling, a solution of sodium cyanoborohydride (13 mg) in methanol (0.5 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour under ice-cooling and further for 1 hour at room temperature. The reaction solution was diluted with benzene and extracted with 2.5% aqueous solution of potassium phosphate-potassium. The aqueous layer was adjusted to pH 10 with 1N sodium hydroxide, extracted with methylene chloride, dried, and then subjected to removal of (2S, 4R) -1- (3,4-diallyloxybenzyl) -2-dimethyl. Aminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (86 mg) was obtained.

【0169】NMRδppm(CDCl3): 2.61(1H,dd,J=3.2Hz
および10.1Hz), 2.83(3H,s), 2.90(3H,s), 3.46(1H,dd,
J=5.4Hzおよび10.1Hz), 3.55 〜4.00(3H,m), 4.45〜4.7
5(5H,m), 5.2 〜5.5(4H,m), 6.0〜6.2(2H,m), 6.82(2H,
s), 6.95(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.61 (1H, dd, J = 3.2Hz
And 10.1Hz), 2.83 (3H, s), 2.90 (3H, s), 3.46 (1H, dd,
J = 5.4Hz and 10.1Hz), 3.55 to 4.00 (3H, m), 4.45 to 4.7
5 (5H, m), 5.2 ~ 5.5 (4H, m), 6.0 ~ 6.2 (2H, m), 6.82 (2H,
s), 6.95 (1H, s).

【0170】b)(2S,4R)−1−(3,4−ジア
リルオキシベンジル)−2−ジメチルアミノカルボニル
−4−ヒドロキシピロリジン(226mg)とトリフェニ
ルホスフィン(247mg)を乾燥テトラヒドロフラン
(0.5ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にアゾジカ
ルボン酸ジエチル(164mg)の乾燥テトラヒドロフラ
ン(0.2ml)溶液を滴下し、0.5時間攪拌した。チ
オ酢酸(72mg)の乾燥テトラヒドロフラン(0.2m
l)溶液を滴下後、室温に昇温して1時間攪拌した。反
応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム(79
mg)の水溶液を加えて、抽出した。有機層を合わせて食
塩水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、除媒した。残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製することによ
り、(2S,4S)−1−(3,4−ジアリルオキシベ
ンジル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−アセチ
ルチオピロリジン(108mg)を得た。
B) (2S, 4R) -1- (3,4-Diallyloxybenzyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (226 mg) and triphenylphosphine (247 mg) in dry tetrahydrofuran (0.5 ml). ), A solution of diethyl azodicarboxylate (164 mg) in dry tetrahydrofuran (0.2 ml) was added dropwise under a nitrogen stream under ice cooling, and the mixture was stirred for 0.5 hours. Thioacetic acid (72 mg) in dry tetrahydrofuran (0.2 m
l) After dropping the solution, the temperature was raised to room temperature and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, and sodium hydrogen carbonate (79
(mg) aqueous solution was added and extracted. The organic layers were combined, washed with brine, dried over sodium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel thin layer chromatography to obtain (2S, 4S) -1- (3,4-diallyloxybenzyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-acetylthiopyrrolidine (108 mg).

【0171】IRmax cm-1(neat) : 1684, 1641, 1508,
1422, 1259, 1221, 1134, 1120(sh);
IR max cm -1 (neat): 1684, 1641, 1508,
1422, 1259, 1221, 1134, 1120 (sh);

【0172】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.60 〜1.94(2H,
m), 2.28(3H,s), 2.66(1H,m), 2.91(3H,s), 2.92(3H,
s), 2.98(1H,m), 3.47(1H,d,J=13.1Hz), 3.59(1H,m),
3.84(1H,d,J=13.1Hz), 3.99(1H,m), 4.57 〜4.63(4H,
m), 5.24〜5.30(2H,m), 5.36〜5.47(2H,m), 6.00〜6.17
(2H,m), 6.75〜6.99(3H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.60 to 1.94 (2H,
m), 2.28 (3H, s), 2.66 (1H, m), 2.91 (3H, s), 2.92 (3H,
s), 2.98 (1H, m), 3.47 (1H, d, J = 13.1Hz), 3.59 (1H, m),
3.84 (1H, d, J = 13.1Hz), 3.99 (1H, m), 4.57 ~ 4.63 (4H,
m), 5.24 ~ 5.30 (2H, m), 5.36 ~ 5.47 (2H, m), 6.00 ~ 6.17
(2H, m), 6.75 ~ 6.99 (3H, m).

【0173】3−ヒドロキシピロリジンを用い、参考例
23と同様の方法によって表10に示す化合物を得た。
The compounds shown in Table 10 were obtained in the same manner as in Reference Example 23 using 3-hydroxypyrrolidine.

【表10】 [Table 10]

【0174】参考例9あるいは参考例23と同様の方法
によって表11に示す化合物を得た。
The compounds shown in Table 11 were obtained in the same manner as in Reference Example 9 or Reference Example 23.

【表11】 [Table 11]

【0175】参考例29Reference Example 29

【化142】 a)3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フ
ェニルプロピオン酸(2.054g)を乾燥テトラヒド
ロフラン(20ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にト
リエチルアミン(607mg)およびクロロギ酸エチル
(651mg)を加え、1時間攪拌した。3−ヒドロキシ
ピロリジン(436mg)の乾燥テトラヒドロフラン(5
ml)溶液を加えてさらに1時間攪拌した。反応液を酢酸
エチルで希釈し、食塩水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥、除媒した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより1−〔3,4−ジ(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)フェニルプロピオニル〕−3
−ヒドロキシピロリジン(1.93g)を得た。
[Chemical 142] a) 3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionic acid (2.054 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (20 ml), and triethylamine (607 mg) and ethyl chloroformate (651 mg) were cooled with ice in a nitrogen stream. ) Was added and stirred for 1 hour. 3-hydroxypyrrolidine (436 mg) in dry tetrahydrofuran (5
ml) solution was added and the mixture was further stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography to give 1- [3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionyl] -3.
-Hydroxypyrrolidine (1.93g) was obtained.

【0176】IRmax cm-1(neat) : 3390(br), 1620, 1
508, 1459, 1421, 1294, 1252, 1226,1158, 1122;
IR max cm -1 (neat): 3390 (br), 1620, 1
508, 1459, 1421, 1294, 1252, 1226,1158, 1122;

【0177】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.18
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.95(2H,m), 2.52(2
H,m), 2.85(2H,t,J=7.4Hz), 3.2 〜3.7(4H,m), 4.47(1
H,m),6.64(1H,d,J=7.9Hz), 6.68(1H,s), 6.73(1H,d,J=
7.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.18
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.95 (2H, m), 2.52 (2
H, m), 2.85 (2H, t, J = 7.4Hz), 3.2 to 3.7 (4H, m), 4.47 (1
H, m), 6.64 (1H, d, J = 7.9Hz), 6.68 (1H, s), 6.73 (1H, d, J =
7.9Hz).

【0178】b)水素化リチウムアルミニウム(394
mg)を乾燥テトラヒドロフラン(25ml)に懸濁し、窒
素気流中、室温で1−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)フェニルプロピオニル〕−3−ヒドロ
キシピロリジン(1.66g)の乾燥テトラヒドロフラ
ン(25ml)溶液を滴下した。1時間加熱還流後室温に
戻して水(3.36ml)を加えて過剰の還元剤を分解
し、硫酸ナトリウム(1.0g)を加えて15分間攪拌
した。不溶物を濾別し、濾液を除媒し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、1
−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フ
ェニルプロピル〕−3−ヒドロキシピロリジン(736
mg)を得た。
B) Lithium aluminum hydride (394
mg) in dry tetrahydrofuran (25 ml), and at room temperature in a nitrogen stream, 1- [3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionyl] -3-hydroxypyrrolidine (1.66 g) in dry tetrahydrofuran. (25 ml) solution was added dropwise. After heating under reflux for 1 hour, the temperature was returned to room temperature, water (3.36 ml) was added to decompose excess reducing agent, sodium sulfate (1.0 g) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes. The insoluble matter was filtered off, the filtrate was removed, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 1
-[3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-hydroxypyrrolidine (736
mg) was obtained.

【0179】IRmax cm-1(neat) : 3350(br), 1509, 1
471, 1460, 1420, 1290, 1250, 1222,1157, 1127;
IR max cm -1 (neat): 3350 (br), 1509, 1
471, 1460, 1420, 1290, 1250, 1222, 1157, 1127;

【0180】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.19
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.7 〜1.9(4H,m), 2.
12 〜2.35(2H,m), 2.45〜2.56(4H,m), 2.74(1H,m), 2.9
3(1H,m), 4.33(1H,m), 6.60(1H,dd,J=2.0Hzおよび7.9H
z), 6.64(1H,d,J=2.0Hz),6.73(1H,d,J=7.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.19
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.7〜1.9 (4H, m), 2.
12 ~ 2.35 (2H, m), 2.45 ~ 2.56 (4H, m), 2.74 (1H, m), 2.9
3 (1H, m), 4.33 (1H, m), 6.60 (1H, dd, J = 2.0Hz and 7.9H
z), 6.64 (1H, d, J = 2.0Hz), 6.73 (1H, d, J = 7.9Hz).

【0181】c)1−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)フェニルプロピル〕−3−ヒドロキシ
ピロリジン(844mg)を乾燥塩化メチレン(17ml)
に溶かし、窒素気流中氷冷下、トリエチルアミン(27
5mg)とメタンスルホン酸クロリド(249mg)を加
え、1時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水
洗および食塩水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥、除媒し
た。残渣にチオ酢酸カリウム(620mg)を加え乾燥ジ
メチルホルムアミド(14ml)中、60℃で2時間攪拌
した。酢酸エチルで希釈し、水洗および食塩水洗し、硫
酸ナトリウムで乾燥除媒した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、1−〔3,
4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニルプ
ロピル〕−3−アセチルチオピロリジン(455mg)を
得た。
C) 1- [3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-hydroxypyrrolidine (844 mg) was dried over methylene chloride (17 ml).
Dissolved in triethylamine (27
5 mg) and methanesulfonic acid chloride (249 mg) were added, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water and brine, dried over sodium sulfate, and desolvated. Potassium thioacetate (620 mg) was added to the residue, and the mixture was stirred in dry dimethylformamide (14 ml) at 60 ° C for 2 hours. The mixture was diluted with ethyl acetate, washed with water and brine, dried over sodium sulfate, and removed. By purifying the residue by silica gel column chromatography, 1- [3,
4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-acetylthiopyrrolidine (455 mg) was obtained.

【0182】IRmax cm-1(neat) : 1688, 1508, 1460,
1420, 1291, 1252, 1221;
IR max cm -1 (neat): 1688, 1508, 1460,
1420, 1291, 1252, 1221;

【0183】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.18
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.6 〜1.81(3H,m),
2.30(3H,s), 2.3 〜2.6(6H,m), 2.64(1H,m), 2.921H,
m),3.92(1H,m), 6.57〜6.64(2H,m), 6.72(1H,d,J=7.9H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.18
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.6〜1.81 (3H, m),
2.30 (3H, s), 2.3 ~ 2.6 (6H, m), 2.64 (1H, m), 2.921H,
m), 3.92 (1H, m), 6.57 ~ 6.64 (2H, m), 6.72 (1H, d, J = 7.9H
z).

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年11月5日[Submission date] November 5, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Name of item to be corrected] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【書類名】 明細書[Document name] Statement

【発明の名称】 新規なβ−ラクタム化合物及
びその製造法
Title: Novel β-lactam compound and process for producing the same

【特許請求の範囲】[Claims]

【化1】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、〔1〕R1 が水素原子または水
酸基の保護基を示す場合、Aは次の一般式(a)〜
(g)のいずれかで表される基を示す。 一般式(a)
[Chemical 1] [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A is represented by the following general formula (a) to
The group represented by any of (g) is shown. General formula (a)

【化2】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1)
[Chemical 2] (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1)

【化3】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2)
[Chemical 3] (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2)

【化4】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3)
[Chemical 4] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3)

【化5】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b)
[Chemical 5] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b)

【化6】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c)
[Chemical 6] (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c)

【化7】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d)
[Chemical 7] (In the formula, k, l, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d)

【化8】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e)
[Chemical 8] (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an acid residue or intramolecular COO when R 2 has a negative charge.) General formula (e)

【化9】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合には、Aは次の一般式(h)〜
(p)のいずれかで表される基あるいはその他の有機基
を示す。 一般式(h)
[Chemical 9] (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents the following general formula (h) to
The group represented by any of (p) or other organic groups are shown. General formula (h)

【化10】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i)
[Chemical 10] (In the formula, k, l, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i)

【化11】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j)
[Chemical 11] (In the formula, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j)

【化12】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k)
[Chemical 12] (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k)

【化13】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l)[Chemical 13] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l)

【化14】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m)[Chemical 14] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m)

【化15】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kは前記と同じ意味を、R10は低級アルキル基
または置換低級アルキル基を示す。) 一般式(o)
[Chemical 15] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k has the same meaning as described above, and R 10 represents a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o)

【化16】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p)
[Chemical 16] (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p)

【化17】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩。
[Chemical 17] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
A novel β-lactam compound represented by and a salt thereof.

【化18】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、 〔1〕R1 が水素原子または水酸基の保護基を示す場
合、Aは次の一般式(a)〜(g)のいずれかで表され
る基を示す。 一般式(a)
[Chemical 18] [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A represents a group represented by any of the following general formulas (a) to (g). General formula (a)

【化19】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1)
[Chemical 19] (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1)

【化20】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2)
[Chemical 20] (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2)

【化21】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3)
[Chemical 21] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3)

【化22】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b)
[Chemical formula 22] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b)

【化23】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c)
[Chemical formula 23] (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c)

【化24】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d)
[Chemical formula 24] (In the formula, k, l, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d)

【化25】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e)
[Chemical 25] (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an acid residue or intramolecular COO when R 2 has a negative charge.) General formula (e)

【化26】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合には、Aは次の一般式(h)〜
(p)のいずれかで表される基あるいはその他の有機基
を示す。 一般式(h)
[Chemical formula 26] (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents the following general formula (h) to
The group represented by any of (p) or other organic groups are shown. General formula (h)

【化27】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i)
[Chemical 27] (In the formula, k, l, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i)

【化28】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j)
[Chemical 28] (In the formula, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j)

【化29】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k)
[Chemical 29] (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k)

【化30】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l)[Chemical 30] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l)

【化31】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m)[Chemical 31] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m)

【化32】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kは前記と同じ意味を、R10は低級アルキル基
または置換低級アルキル基を示す。) 一般式(o)
[Chemical 32] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k has the same meaning as described above, and R 10 represents a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o)

【化33】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p)
[Chemical 33] (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p)

【化34】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩を製造
するにあたり、 (A法)j=1でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 34] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
In producing a novel β-lactam compound represented by and a salt thereof, (Method A), when j = 1 and A is (a) to (c), the compound represented by the general formula [II]

【化35】 〔式中、Mは前記と同じ意味を、R1aは水素原子または
水酸基の保護基を、R2aはカルボキシル基の保護基を、
およびLは水酸基の反応性エステル基または置換もしく
は無置換の低級アルキルスルフィニル基を示す。〕で表
される化合物を、一般式〔III−a〕 Aa −SH 〔III−a〕 〔式中、Aa は前記一般式(a)〜(c)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔I−a〕
[Chemical 35] [In the formula, M has the same meaning as described above, R 1a represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R 2a represents a carboxyl-protecting group,
And L represent a reactive ester group of a hydroxyl group or a substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group. A compound represented by], in the general formula [III-a] A a -SH [III-a] [wherein, the group A a represented by any one of formulas (a) ~ (c) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [Ia]

【化36】 〔式中、R1a、R2a、Aa およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するか、前記一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−b−
1〕、 Q1 −SH 〔III−b−1〕 〔式中、Q1 は前記一般式(h)で表される基を示
す。〕で表される化合物とを反応させて一般式〔IV−
a〕
[Chemical 36] [In the formula, R 1a , R 2a , A a and M have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [III-b-
1], Q 1 -SH [III-b-1] [In the formula, Q 1 represents a group represented by the above general formula (h). ] The compound of the general formula [IV-
a]

【化37】 〔式中、R1a、R2a、Q1 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造し、次いでR8 がアミ
ノ基の保護基である場合には、その除去反応を行った
後、一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 は前記と同じ意味を示し、Xc は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させて、前記一般式
〔I−a〕で表される化合物を製造するかまたは、 (B法)j=1でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 37] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 1 and M have the same meanings as described above. ] To produce a compound represented by, then if R 8 is a protecting group of the amino group, after the removal reaction of the general formula (V) R 4 -X c [V] [wherein, R 4 has the same meaning as described above, and X c represents an acid residue. ] To produce a compound represented by the general formula [Ia], or (Method B) j = 1 and A is (d) to (e) Is represented by the general formula [II]

【化38】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−b−2〕 Q2 −SH 〔III−b−2〕 〔式中、Q2 は次の一般式(d’)または(e’)で表
される基を示す。 一般式(d’)
[Chemical 38] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. Table a compound represented by the general formula [III-b-2] Q 2 -SH [III-b-2) (wherein, Q 2 is the following general formula (d ') or (e') in] Is shown as a group. General formula (d ')

【化39】 (式中、k、l、m、n、p、R7 およびR8 は前記と
同じ意味を示す。) 一般式(e’)
[Chemical Formula 39] (In the formula, k, l, m, n, p, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (e ′)

【化40】 (式中、k、l、m、n、R7 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。)〕で表されるメルカプタン化合物と反応
させて、一般式〔IV−b〕
[Chemical 40] (In the formula, k, l, m, n, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.)], And reacted with a mercaptan compound represented by the general formula [IV-b].

【化41】 〔式中、R1a、R2a、Q2 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、qおよびR4 は前記と同じ意味を、Xb は酸残
基を示す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I
−b〕
[Chemical 41] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 2 and M have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein the same meaning as q and R 4 above, the X b is acid residue Show. ] The compound represented by the general formula [I
-B]

【化42】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
b は前記一般式(d)または(e)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (C法)j=1でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔VII〕
[Chemical 42] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A b represents a group represented by the general formula (d) or (e). ] When the compound represented by the following formula is produced or (Method C) j = 1 and A is (f) to (g), a compound of the general formula [VII]

【化43】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−c〕
[Chemical 43] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [Ic]

【化44】 〔式中、R1 、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (D法)j=0でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔VIII〕
[Chemical 44] [In the formula, R 1 , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). Or (A) is (a) to (c) in the case where j = 0 and (A) is (d), the compound represented by the general formula [VIII]

【化45】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級アル
コキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔I−d〕
[Chemical 45] [In the formula, R 1a , M, A a and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [Id] is heated.

【化46】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (E法)j=0でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔IX〕
[Chemical 46] [In the formula, R 1a , M, A a , and R 2a have the same meanings as described above. Or (A method) j = 0 and A is (d) to (e), the compound represented by the general formula [IX]

【化47】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aおよびR11は前記と同じ
意味を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔X〕
[Chemical 47] [In the formula, R 1a , M, Q 2 , R 2a and R 11 have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [X] is heated.

【化48】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、q、R4 およびXb は前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I−e〕
[Chemical 48] [In the formula, R 1a , M, Q 2 and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein, q, R 4 and X b are as defined above. ] The compound represented by the general formula [Ie]

【化49】 〔式中、R1a、M、Ab 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (F法)j=0でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔XI〕
[Chemical 49] [In the formula, R 1a , M, Ab and R 2a have the same meanings as described above. Or a (F method) in which j = 0 and A is (f) to (g), a compound represented by the general formula [XI]

【化50】 〔式中、k、R1a、R2a、MおよびYa は前記と同じ意
味を示す。〕で表される化合物と一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−f〕
[Chemical 50] [In the formula, k, R 1a , R 2a , M and Y a have the same meanings as described above. ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [If]

【化51】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (G法)j=1でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 51] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). Or a (G method) j = 1 and A is (h) to (n), a compound represented by the general formula [II]

【化52】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−c〕 Ad −SH 〔III−c〕 〔式中、Ad は前記一般式(h)〜(n)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔XII〕
[Chemical 52] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. A compound represented by], in the general formula [III-c] A d -SH [III-c] [wherein, the group A d represented by any one of formulas (h) ~ (n) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [XII]

【化53】 〔式中、R1a、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造し、次いでR1aが水酸基
の保護基である場合にはその除去反応を行って、一般式
〔XIII〕
[Chemical 53] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] The compound represented by the formula [XIII] is then produced by removing the compound represented by the formula [XIII] when R 1a is a hydroxyl-protecting group.

【化54】 〔式中、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bは前記一般式(1)〜(3)で表される基
を示し、Xd は酸残基を示す。〕で表される化合物と反
応させて一般式〔I−g〕
[Chemical 54] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] In addition, let it be a compound represented by these, General formula [XIV] R <1b > -Xd [XIV] [In formula, R <1b> shows group represented by said General formula (1)-(3), Xd is Indicates an acid residue. ] The compound represented by the general formula [I-g]

【化55】 〔式中、M、Ad 、R2a、R1bは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (H法)j=1でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−g’〕
[Chemical 55] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. Or a (H method) in which j = 1 and A is from (o) to (p), a compound represented by the general formula [Ig ′]

【化56】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)あるいは(m)で表される基を
示す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−h〕
[Chemical 56] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-h], the reaction for removing the protective group for the amino group in the formula ( 1 ) is carried out and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化57】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (I法)j=0でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔XVI〕
[Chemical 57] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). Or a compound represented by the formula [XVI] when (Method I) j = 0 and A is (h) to (n)

【化58】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級ア
ルコキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般
式〔XVII〕
[Chemical 58] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [XVII] is heated.

【化59】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いでR1aが水酸基の
保護基である場合にはその除去反応を行った後、一般式
〔XVIII〕
[Chemical 59] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] Then, when R 1a is a hydroxyl-protecting group, the removal reaction is carried out, and then the compound of the general formula [XVIII]

【化60】 〔式中、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bおよびXd は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−i〕
[Chemical 60] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] in more general formula [XIV] R 1b -X d [XIV] [wherein, the R 1b and X d represents the same meaning as above. ] The compound represented by the general formula [Ii]

【化61】 〔式中、M、Ad 、R2aおよびR1bは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (J法)j=0でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−i’〕
[Chemical formula 61] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. Or when (Method J) j = 0 and A is (o) to (p), a compound represented by the general formula [Ii ′]

【化62】 〔式中、R1b、MおよびR2cは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)または(m)で表される基を示
す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−j〕
[Chemical formula 62] [Wherein R 1b , M and R 2c have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-j], the reaction for removing the protective group for the amino group in step ( 1 ) is carried out, and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化63】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造し、R1 、R5
6 、R8 あるいはR9 が水素原子でR2 が水素原子ま
たは陰電荷であるβ−ラクタム化合物を所望する場合に
は、次いで一般式〔I−a〕〜〔I−j〕で表される化
合物に水酸基の保護基の除去反応、カルボキシル基の保
護基の除去反応およびアミノ基の保護基の除去反応を必
要に応じて適宜組み合わせて行うか、または、これらの
保護基を同時に除去することを特徴とする上記一般式
〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物または、その薬理
学上許容される塩の製造法。
[Chemical 63] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] To produce a compound represented by, R 1, R 5,
When a β-lactam compound in which R 6 , R 8 or R 9 is a hydrogen atom and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is desired, it is then represented by the general formulas [Ia] to [Ij]. Or a combination of the reaction for removing the protective group for the hydroxyl group, the reaction for removing the protective group for the carboxyl group, and the reaction for removing the protective group for the amino group, or the simultaneous removal of these protective groups. A process for producing a β-lactam compound represented by the above general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof, characterized by:

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規なβ−ラクタム化合
物及びその製造法に関する。さらに詳細にはカテコール
誘導体などを導入したペネムあるいはカルバペネム誘導
体及びその製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel β-lactam compound and a method for producing the same. More specifically, it relates to a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、広範囲のグラム陽性菌及びグラム
陰性菌に対して優れた抗菌スペクトルを持つβ−ラクタ
ム化合物の1つとしてペネム骨格あるいはカルバペネム
骨格を有するものが報告されている。
2. Description of the Related Art Heretofore, one having a penem skeleton or a carbapenem skeleton has been reported as one of β-lactam compounds having an excellent antibacterial spectrum against a wide range of Gram-positive and Gram-negative bacteria.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、現在この分野
で上市されているイミペネムには、その耐性菌が出現
し、それが臨床の場から分離されたことが報告されてい
る。従って、それらの耐性菌、特に耐性緑膿菌に有効な
β−ラクタム化合物の開発が期待される。
However, it has been reported that a resistant bacterium has appeared in imipenem, which is currently marketed in this field, and that it has been isolated from the clinical field. Therefore, the development of β-lactam compounds effective against those resistant bacteria, particularly resistant Pseudomonas aeruginosa, is expected.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、カテコール
誘導体などを導入したペネムあるいはカルバペネム誘導
体が、イミペネム耐性緑膿菌に対し優れた抗菌活性を有
することを見出し、本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, as a result of intensive investigations by the present inventors, a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced is superior to imipenem-resistant Pseudomonas aeruginosa. Further, they have found that they have antibacterial activity and completed the present invention.

【0005】すなわち、本発明は一般式〔I〕That is, the present invention has the general formula [I]

【化64】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、 〔1〕R1 が水素原子または水酸基の保護基を示す場
合、Aは次の一般式(a)〜(g)のいずれかで表され
る基を示す。 一般式(a)
[Chemical 64] [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A represents a group represented by any of the following general formulas (a) to (g). General formula (a)

【化65】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1)
[Chemical 65] (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1)

【化66】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2)
[Chemical 66] (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2)

【化67】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3)
[Chemical 67] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3)

【化68】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b)
[Chemical 68] (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b)

【化69】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c)
[Chemical 69] (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c)

【化70】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d)
[Chemical 70] (In the formula, k, l, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d)

【化71】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e)
[Chemical 71] (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an acid residue or intramolecular COO when R 2 has a negative charge.) General formula (e)

【化72】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合にはAは例えば、次の一般式(h)
〜(p)のいずれかで表されるような有機基を示す。 一般式(h)
[Chemical 72] (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents, for example, the following general formula (h)
To (p) represent an organic group. General formula (h)

【化73】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i)
[Chemical formula 73] (In the formula, k, l, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i)

【化74】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j)
[Chemical 74] (In the formula, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j)

【化75】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k)
[Chemical 75] (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k)

【化76】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l)[Chemical 76] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l)

【化77】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m)[Chemical 77] (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m)

【化78】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kおよびR10は低級アルキル基または置換低級
アルキル基を示す。) 一般式(o)
[Chemical 78] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k and R 10 represent a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o)

【化79】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p)
[Chemical 79] (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p)

【化80】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩に関す
るものである。前記一般式〔I〕で表される化合物のう
ち好適なものとしてはR2 が水素原子、またはAに陽電
荷が含まれる場合の陰電荷を示す化合物及びその塩を挙
げることができる。それらのうち更に好適なものとして
はR1 が水素原子でAが一般式(a)〜(e)で表され
る化合物及びその塩、あるいはR1 が一般式(1)〜
(3)である化合物及びその塩を挙げることができる。
これらのうち特に好適なものとしてはAの中にピロリジ
ン環が含まれる化合物及びその塩を挙げることができ
る。
[Chemical 80] (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
The present invention relates to a novel β-lactam compound and a salt thereof. Among the compounds represented by the general formula [I], preferred are compounds having a negative charge when R 2 is a hydrogen atom or A has a positive charge, and salts thereof. More preferred among them are compounds in which R 1 is a hydrogen atom and A is represented by the general formulas (a) to (e) and salts thereof, or R 1 is the general formula (1) to
The compound which is (3) and its salt can be mentioned.
Of these, particularly preferred are compounds having a pyrrolidine ring in A and salts thereof.

【0006】さらに、本発明は前記一般式〔I〕で表さ
れる新規なβ−ラクタム化合物及びその塩の製造法に関
する。すなわち、 (A法)j=1でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔II〕
Further, the present invention relates to a process for producing the novel β-lactam compound represented by the above general formula [I] and salts thereof. That is, (method A), when j = 1 and A is (a) to (c), the general formula [II]

【化81】 〔式中、Mは前記と同じ意味を、R1aは水素原子または
水酸基の保護基を、R2aはカルボキシル基の保護基を、
およびLは水酸基の反応性エステル基または置換もしく
は,無置換の低級アルキルスルフィニル基を示す。〕で
表される化合物を、一般式〔III−a〕 Aa −SH 〔III−a〕 〔式中、Aa は前記一般式(a)〜(c)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔I−a〕
[Chemical 81] [In the formula, M has the same meaning as described above, R 1a represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R 2a represents a carboxyl-protecting group,
And L represent a reactive ester group of a hydroxyl group or a substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group. A compound represented by], in the general formula [III-a] A a -SH [III-a] [wherein, the group A a represented by any one of formulas (a) ~ (c) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [Ia]

【化82】 〔式中、R1a、R2a、Aa およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するか、前記一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−b−
1〕、 Q1 −SH 〔III−b−1〕 〔式中、Q1 は前記一般式(h)で表される基を示
す。〕で表される化合物とを反応させて一般式〔IV−
a〕
[Chemical formula 82] [In the formula, R 1a , R 2a , A a and M have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [III-b-
1], Q 1 -SH [III-b-1] [In the formula, Q 1 represents a group represented by the above general formula (h). ] The compound of the general formula [IV-
a]

【化83】 〔式中、R1a、R2a、Q1 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造し、次いでR8 がアミ
ノ基の保護基である場合には、その除去反応を行った
後、一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 は前記と同じ意味を示し、Xc は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させて、前記一般式
〔I−a〕で表される化合物を製造する。また、 (B法)j=1でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 83] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 1 and M have the same meanings as described above. ] To produce a compound represented by, then if R 8 is a protecting group of the amino group, after the removal reaction of the general formula (V) R 4 -X c [V] [wherein, R 4 has the same meaning as described above, and X c represents an acid residue. ] The compound represented by the said general formula [Ia] is manufactured by making it react with the compound represented by this. (Method B) When j = 1 and A is from (d) to (e), the general formula [II]

【化84】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−b−2〕 Q2 −SH 〔III−b−2〕 〔式中、Q2 は次の一般式(d’)または(e’)で表
される基を示す。 一般式(d’)
[Chemical 84] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. Table a compound represented by the general formula [III-b-2] Q 2 -SH [III-b-2) (wherein, Q 2 is the following general formula (d ') or (e') in] Is shown as a group. General formula (d ')

【化85】 (式中、k、l、m、n、p、R7 およびR8 は前記と
同じ意味を示す。) 一般式(e’)
[Chemical 85] (In the formula, k, l, m, n, p, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (e ′)

【化86】 (式中、k、l、m、n、R7 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。)〕で表されるメルカプタン化合物と反応
させて、一般式〔IV−b〕
[Chemical formula 86] (In the formula, k, l, m, n, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.)], And reacted with a mercaptan compound represented by the general formula [IV-b].

【化87】 〔式中、R1a、R2a、Q2 およびXは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、qおよびR4 は前記と同じ意味を、Xb は酸残
基を示す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I
−b〕
[Chemical 87] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 2 and X have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein the same meaning as q and R 4 above, the X b is acid residue Show. ] The compound represented by the general formula [I
-B]

【化88】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
b は前記一般式(d)または(e)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (C法)j=1でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔VII〕
[Chemical 88] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A b represents a group represented by the general formula (d) or (e). ] The compound represented by these is manufactured. Further, (C method) When j = 1 and A is (f) to (g), the general formula [VII]

【化89】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−c〕
[Chemical 89] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [Ic]

【化90】 〔式中、R1 、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (D法)j=0でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔VIII〕
[Chemical 90] [In the formula, R 1 , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). ] The compound represented by these is manufactured. Moreover, (D method) When j = 0 and A is (a) to (c), the general formula [VIII]

【化91】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級アル
コキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔I−d〕
[Chemical Formula 91] [In the formula, R 1a , M, A a and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [Id] is heated.

【化92】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (E法)j=0でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔IX〕
[Chemical Formula 92] [In the formula, R 1a , M, A a , and R 2a have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (E method) j = 0 and A is (d) to (e), the general formula [IX]

【化93】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aおよびR11は前記と同じ
意味を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔X〕
[Chemical formula 93] [In the formula, R 1a , M, Q 2 , R 2a and R 11 have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [X] is heated.

【化94】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、q、R4 およびXb は前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I−e〕
[Chemical 94] [In the formula, R 1a , M, Q 2 and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein, q, R 4 and X b are as defined above. ] The compound represented by the general formula [Ie]

【化95】 〔式中、R1a、M、Ab 、R2Cは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (F法)j=0でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔XI〕
[Chemical 95] [In the formula, R 1a , M, Ab and R 2C have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (F method) j = 0 and A is (f) to (g), the general formula [XI]

【化96】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−f〕
[Chemical 96] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [If]

【化97】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (G法)j=1でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔II〕
[Chemical 97] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). ] The compound represented by these is manufactured. When (G method) j = 1 and A is (h) to (n), the general formula [II]

【化98】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−c〕 Ad −SH 〔III−c〕 〔式中、Ad は前記一般式(h)〜(n)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔XII〕
[Chemical 98] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. A compound represented by], in the general formula [III-c] A d -SH [III-c] [wherein, the group A d represented by any one of formulas (h) ~ (n) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [XII]

【化99】 〔式中、R1a、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造し、次いでR1aが水酸基
の保護基である場合にはその除去反応を行って、一般式
〔XIII〕
[Chemical 99] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] The compound represented by the formula [XIII] is then produced by removing the compound represented by the formula [XIII] when R 1a is a hydroxyl-protecting group.

【化100】 〔式中、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bは前記一般式(1)〜(3)で表される基
を示し、Xd は酸残基を示す。〕で表される化合物と反
応させて一般式〔I−g〕
[Chemical 100] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] In addition, let it be a compound represented by these, General formula [XIV] R <1b > -Xd [XIV] [In formula, R <1b> shows group represented by said General formula (1)-(3), Xd is Indicates an acid residue. ] The compound represented by the general formula [I-g]

【化101】 〔式中、M、Ad 、R2a、R1bは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造する。また、 (H法)j=1でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−g’〕
[Chemical 101] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. When (H method) j = 1 and A is from (o) to (p), the general formula [Ig ′]

【化102】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)あるいは(m)で表される基を
示す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−h〕
[Chemical 102] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-h], the reaction for removing the protective group for the amino group in the formula ( 1 ) is carried out and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化103】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、 (I法)j=0でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔XVI〕
[Chemical 103] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] The compound represented by these is manufactured. When (I method) j = 0 and A is (h) to (n), the general formula [XVI]

【化104】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示し、R11は低級アルキル基、アリ─ル基または低級ア
ルコキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般
式〔XVII〕
[Chemical 104] [In the formula, R 1a , M, Ad and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by general formula [XVII] is heated.

【化105】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いでR1aが水酸基の
保護基である場合にはその除去反応を行った後、一般式
〔XVIII〕
[Chemical 105] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] Then, when R 1a is a hydroxyl-protecting group, the removal reaction is carried out, and then the compound of the general formula [XVIII]

【化106】 〔式中、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bおよびXd は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−i〕
[Chemical formula 106] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] in more general formula [XIV] R 1b -X d [XIV] [wherein, the R 1b and X d represents the same meaning as above. ] The compound represented by the general formula [Ii]

【化107】 〔式中、M、Ad 、R2aおよびR1bは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、 (J法)j=0でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−i’〕
[Chemical formula 107] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. ] The compound represented by these is manufactured. Further, (J method) When j = 0 and A is from (o) to (p), the general formula [Ii ′]

【化108】 〔式中、R1b、MおよびR2cは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)または(m)で表される基を示
す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−j〕
[Chemical 108] [Wherein R 1b , M and R 2c have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
In the general formula [I-j], the reaction for removing the protective group for the amino group in step ( 1 ) is carried out, and then the reaction is carried out with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid.

【化109】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造する。また、R1 、R
5 、R6 、R8 あるいはR9 が水素原子でR2 が水素原
子または陰電荷であるβ−ラクタム化合物を所望する場
合には、次いで一般式〔I−a〕〜〔I−j〕で表され
る化合物に水酸基の保護基の除去反応、カルボキシル基
の保護基の除去反応およびアミノ基の保護基の除去反応
を必要に応じて適宜組み合わせて行うか、または、これ
らの保護基を同時に除去することを特徴とする上記一般
式〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物または、その薬
理学上許容される塩の製造法に関する。
[Chemical 109] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] The compound represented by these is manufactured. In addition, R 1 , R
When a β-lactam compound in which 5 , R 6 , R 8 or R 9 is a hydrogen atom and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is desired, the following formulas [Ia] to [Ij] are used. The reaction of removing the protective group for the hydroxyl group, the removing reaction for the protective group for the carboxyl group and the removing reaction for the protective group for the amino group may be appropriately combined with the represented compound, or these protective groups may be removed simultaneously. And a method for producing a β-lactam compound represented by the above general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof.

【0007】前記一般式〔I〕、〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−c〕、〔I−d〕、〔I−e〕、〔I−
f〕、〔I−g〕、〔I−g’〕、〔I−h〕、〔I−
i〕、〔I−i’〕、〔I−j〕、〔II〕、〔III
−a〕、〔III−b−1〕、〔III−b−2〕、
〔III−c〕、〔IV−a〕、〔IV−b〕、
〔V〕、〔VI〕、〔VII〕、〔VIII〕、〔I
X〕、〔X〕、〔XI〕、〔XII〕、〔XIII〕、
〔XIV〕、〔XV〕、〔XVI〕、〔XVII〕、お
よび〔XVIII〕中、R1 、R5 、R6 、及びR1a
における水酸基の保護基またはR8 及びR9 におけるア
ミノ基の保護基としては、好適には例えばtert−ブチル
オキシカルボニルのような炭素数1〜5の低級アルコキ
シカルボニル基、例えば、2−ヨウ化エチルオキシカル
ボニル、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニ
ルのような炭素数1〜5のハロゲノアルコキシカルボニ
ル基、例えばアリルオキシカルボニルのような置換また
は無置換の炭素数3〜7の低級アルケニルオキシカルボ
ニル基、例えばベンジルオキシカルボニル、p−メトキ
シベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ようなアラルキルオキシカルボニル基、例えばトリメチ
ルシリル、tert−ブチルジメチルシリルのようなトリア
ルキルシリル基が挙げられる。またR5 及びR6 におけ
る水酸基の保護基としては、前記以外に好適なものとし
て例えばメチルあるいはtert−ブチルのような直鎖状も
しくは分枝鎖状で炭素数1〜5の低級アルキル基、例え
ばメトキシメチル、エトキシメチル、イソブトキシメチ
ルのような炭素数2〜5の低級アルコキシメチル基、例
えばベンジル、p−メトキシベンジル、o−ニトロベン
ジル、p−ニトロベンジルのようなアラルキル基、たと
えばアリル、2−メチルアリル、3−メチルアリルのよ
うな炭素数3〜7の低級アルケニル基も挙げることがで
きる。
The above general formulas [I], [Ia] and [I-
b], [I-c], [I-d], [I-e], [I-
f], [I-g], [I-g '], [I-h], [I-
i], [I-i '], [I-j], [II], [III]
-A], [III-b-1], [III-b-2],
[III-c], [IV-a], [IV-b],
[V], [VI], [VII], [VIII], [I
X], [X], [XI], [XII], [XIII],
R 1 , R 5 , R 6 and R 1a in [XIV], [XV], [XVI], [XVII] and [XVIII].
The protective group for the hydroxyl group in or the protective group for the amino group in R 8 and R 9 is preferably a lower alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms such as tert-butyloxycarbonyl, for example, 2-ethyl iodide. C1-C5 halogenoalkoxycarbonyl groups such as oxycarbonyl and 2,2,2-trichloroethyloxycarbonyl, for example, substituted or unsubstituted C3-C7 lower alkenyloxycarbonyl groups such as allyloxycarbonyl. , Aralkyloxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, o-nitrobenzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, and trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl and tert-butyldimethylsilyl. List It is. Further, as the hydroxyl-protecting group for R 5 and R 6 , other than the above, preferable examples include a linear or branched lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as methyl or tert-butyl, for example, C2-C5 lower alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl and isobutoxymethyl, for example aralkyl groups such as benzyl, p-methoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-nitrobenzyl, such as allyl, 2 Other examples include lower alkenyl groups having 3 to 7 carbon atoms such as -methylallyl and 3-methylallyl.

【0008】また、R2 及びR2aにおけるカルボキシル
基の保護基としては通常用いられる各種の保護基が可能
であるが、好適には例えばメチル、エチル、イソプロピ
ル、tert−ブチルのような直鎖状もしくは分枝鎖状で炭
素数1〜5の低級アルキル基、例えば2−ヨウ化エチ
ル、2,2,2−トリクロロエチルのような炭素数1〜
5のハロゲノ低級アルキル基、例えばメトキシメチル、
エトキシメチル、イソブトキシメチルのような炭素数1
〜5の低級アルコキシメチル基、例えばアセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチルのような炭素数1〜5の低
級脂肪族アシルオキシメチル基、例えば1−エトキシカ
ルボニルオキシエチルのような1−(C1 〜C5 )低級
アルコキシカルボニルオキシエチル基、例えばベンジ
ル、p−メトキシベンジル、o−ニトロベンジル、p−
ニトロベンジルのようなアラルキル基、例えばアリル、
2−メチルアリル、3−メチルアリルのような炭素数3
〜7の低級アルケニル基、ベンズヒドリル基、またはフ
タリジル基が挙げられる。
Further, as the protecting group for the carboxyl group in R 2 and R 2a, various kinds of commonly used protecting groups can be used, but preferably, for example, a linear group such as methyl, ethyl, isopropyl and tert-butyl. Or a branched chain lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as 2-ethyl iodide or 2,2,2-trichloroethyl having 1 to 5 carbon atoms.
A halogeno lower alkyl group of 5, for example, methoxymethyl,
1 carbon atom such as ethoxymethyl and isobutoxymethyl
~ 5 lower alkoxymethyl groups such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, etc. lower aliphatic acyloxymethyl groups having 1-5 carbon atoms such as 1-ethoxycarbonyloxyethyl such 1- (C 1 ~C 5) lower alkoxycarbonyloxy ethyl group such as a benzyl, p- methoxybenzyl, o- nitrobenzyl, p-
Aralkyl groups such as nitrobenzyl, eg allyl,
3 carbon atoms such as 2-methylallyl and 3-methylallyl
~ 7 lower alkenyl groups, benzhydryl groups, or phthalidyl groups.

【0009】また、Mにおけるメチレン基の低級アルキ
ル置換基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチルまたはn−ペンチルのよ
うな炭素数1〜5のものが挙げられる。
Examples of the lower alkyl substituent of the methylene group in M include those having 1 to 5 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or n-pentyl.

【0010】また、R0 、R3 、R7 、R8 、R10
よびR11における低級アルキル基としては例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
またはn−ペンチルのような炭素数1〜5のものが挙げ
られる。また、R11における低級アルコキシ基としては
例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシまたはn−ペントキシのような炭
素数1〜5のものが挙げられる。また、アリール基とし
ては、例えばフェニル、o−トリル、p−トリルのよう
なものが挙げられる。
The lower alkyl group for R 0 , R 3 , R 7 , R 8 , R 10 and R 11 is, for example, carbon such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or n-pentyl. The thing of several 1-5 is mentioned. Examples of the lower alkoxy group for R 11 include those having 1 to 5 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy or n-pentoxy. Examples of the aryl group include phenyl, o-tolyl and p-tolyl.

【0011】また、R3 、R7 およびR8 における置換
低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル 、
1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチルのような
炭素数1〜5のヒドロキシ低級アルキル基、例えばメト
キシメチル、1−メトキシエチル、2−エトキシエチル
のような炭素数1〜5の低級アルコキシアルキル基、例
えばアミノメチル、N−メチルアミノメチル、N,N−
ジメチルアミノメチル、N−メチルアミノエチルのよう
な炭素数1〜5の無置換ないし、モノもしくはジ低級ア
ルキルアミノアルキル基、例えばカルバモイルメチル、
メチルアミノカルボニルメチル、ジメチルアミノカルボ
ニルメチル、2−(ジメチルアミノカルボニル)エチル
のような炭素数1〜5の無置換ないし、モノもしくはジ
低級アルキルアミノカルボニルアルキル基等を挙げるこ
とができる。R10における置換低級アルキル基として
は、例えばアミノメチル、アセチルアミノメチル、カル
ボキシルメチル、アセチルメチル、プロピオニルメチ
ル、カルバモイルメチル、N−メチルアミノカルボニル
メチル、N,N−ジメチルアミノカルボニルメチル、2
−(イミノメチルアミノ)メチル、2−アミノエチル、
2−アセチルアミノエチル、2−シアノエチル、2−メ
トキシエチル、2−エトキシエチル、2−カルボキシル
エチル、2−ヒドロキシエチル、2−カルバモイルエチ
ル、2−N−メチルアミノカルボニルエチル、2−N,
N−ジメチルアミノカルボニルエチル、3−カルボキシ
ルプロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペ
ンチル等の炭素数2〜7のものが挙げられる。
The substituted lower alkyl group for R 3 , R 7 and R 8 is, for example, hydroxymethyl,
C1-C5 hydroxy lower alkyl groups such as 1-hydroxyethyl and 2-hydroxyethyl, for example, C1-C5 lower alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl, 1-methoxyethyl and 2-ethoxyethyl, For example, aminomethyl, N-methylaminomethyl, N, N-
C1-C5 unsubstituted or mono- or di-lower alkylaminoalkyl groups such as dimethylaminomethyl and N-methylaminoethyl, such as carbamoylmethyl,
Examples include unsubstituted or mono- or di-lower alkylaminocarbonylalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as methylaminocarbonylmethyl, dimethylaminocarbonylmethyl and 2- (dimethylaminocarbonyl) ethyl. Examples of the substituted lower alkyl group for R 10 include aminomethyl, acetylaminomethyl, carboxylmethyl, acetylmethyl, propionylmethyl, carbamoylmethyl, N-methylaminocarbonylmethyl, N, N-dimethylaminocarbonylmethyl, 2
-(Iminomethylamino) methyl, 2-aminoethyl,
2-acetylaminoethyl, 2-cyanoethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-carboxyethyl, 2-hydroxyethyl, 2-carbamoylethyl, 2-N-methylaminocarbonylethyl, 2-N,
Examples thereof include those having 2 to 7 carbon atoms such as N-dimethylaminocarbonylethyl, 3-carboxypropyl, 4-hydroxybutyl, 5-hydroxypentyl and the like.

【0012】R3 における低級アルコキシカルボニル基
としては例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、n−プロピルオキシカルボニル、tert−ブチル
オキシカルボニルのような炭素数2〜5のものが挙げら
れる。さらにモノ及びジ低級アルキルアミノカルボニル
基としては、例えばメチルアミノカルボニル、ジメチル
アミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、メチルエ
チルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニルのよ
うな炭素数2〜5のものが挙げられる。また、R3 にお
ける環状アミノカルボニル基としては下に示すような3
〜6員環のものが挙げられる。
Examples of the lower alkoxycarbonyl group for R 3 include those having 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propyloxycarbonyl and tert-butyloxycarbonyl. Furthermore, examples of the mono- and di-lower alkylaminocarbonyl groups include those having 2 to 5 carbon atoms such as methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, methylethylaminocarbonyl and diethylaminocarbonyl. Further, as the cyclic aminocarbonyl group for R 3 , the following 3
To 6-membered ring.

【化110】 [Chemical 110]

【0013】Zにおけるハロゲン原子としては、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子が挙げら
れる。また、低級アルコキシカルボニル基としては例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロ
ピルオキシカルボニル、tert−ブチルオキシカルボ
ニルのような炭素数2〜5のものが挙げられる。さらに
モノ及びジ低級アルキルアミノカルボニル基としては、
例えばメチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル、メチルエチルアミノカ
ルボニル、ジエチルアミノカルボニルのような炭素数2
〜5のものが挙げられる。
Examples of the halogen atom in Z include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Further, examples of the lower alkoxycarbonyl group include those having 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propyloxycarbonyl and tert-butyloxycarbonyl. Further, as the mono- and di-lower alkylaminocarbonyl group,
2 carbon atoms such as methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, methylethylaminocarbonyl, diethylaminocarbonyl
~ 5 are mentioned.

【0014】また、Lで表される水酸基の反応性エステ
ルとしては、例えばベンゼンスルホン酸エステル、p−
トルエンスルホン酸エステル、p−ニトロベンゼンスル
ホン酸エステル、p−ブロモベンゼンスルホン酸エステ
ル等の置換もしくは無置換アリールスルホン酸エステ
ル、例えばメタンスルホン酸エステル、エタンスルホン
酸エステル等の炭素数1〜5の低級アルカンスルホン酸
エステル、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル等の炭素数1〜5のハロゲノ低級アルカンスルホン
酸エステル、例えばジフェニルリン酸エステル等のジア
リールリン酸エステル、例えばハロゲン化水素とのエス
テルである塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物等のハロゲ
ン化物等を挙げることができる。この中で好適なものと
しては、p−トルエンスルホン酸エステル、メタンスル
ホン酸エステル、ジフェニルリン酸エステルを挙げるこ
とができる。また、置換もしくは無置換の低級アルキル
スルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、
n−ブチルスルフィニル、2−(アセチルアミノ)エチ
ルスルフィニル等の炭素数1〜5のものが挙げられる。
The reactive ester of the hydroxyl group represented by L is, for example, benzenesulfonic acid ester, p-
Substituted or unsubstituted aryl sulfonic acid ester such as toluene sulfonic acid ester, p-nitrobenzene sulfonic acid ester and p-bromobenzene sulfonic acid ester, for example, lower alkane having 1 to 5 carbon atoms such as methane sulfonic acid ester and ethane sulfonic acid ester. Sulfonic acid esters, for example, C1-5 halogeno lower alkane sulfonic acid esters such as trifluoromethane sulfonic acid esters, diaryl phosphoric acid esters such as diphenyl phosphoric acid esters, chlorinated compounds such as esters with hydrogen halides, Examples thereof include halides such as bromide and iodide. Among these, preferred examples include p-toluenesulfonic acid ester, methanesulfonic acid ester, and diphenylphosphoric acid ester. Examples of the substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group include, for example, methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl,
Examples thereof include those having 1 to 5 carbon atoms such as n-butylsulfinyl and 2- (acetylamino) ethylsulfinyl.

【0015】また、Xa 、Xb 、Xc 、Xd 及びXe
おける酸残基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ま
たはヨウ素のようなハロゲン等の無機酸残基、例えばベ
ンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキ
シ、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシ等のような有機酸残基等が挙げられる。
The acid residue in X a , X b , X c , X d and X e is, for example, an inorganic acid residue such as chlorine, bromine, fluorine or halogen such as iodine, eg benzenesulfonyloxy. , P-toluenesulfonyloxy, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, etc., and the like.

【0016】さらに、Yの末端がカルボニル基の場合、
c 及びXd としてはエトキシカルボニルオキシ、イソ
プロピルオキシカルボニルオキシ等のような炭素数2〜
6の低級アルコキシカルボニルオキシ基も挙げることが
できる。
Further, when the terminal of Y is a carbonyl group,
X c and X d have 2 to 2 carbon atoms such as ethoxycarbonyloxy and isopropyloxycarbonyloxy.
The lower alkoxycarbonyloxy group of 6 can also be mentioned.

【0017】また、Yにおける低級アルキレン基として
はメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンのような
炭素数1〜4のものが挙げられ、低級アルケニレン基と
してはビニレン、プロペニレン、ブチニレンのような炭
素数2〜4のものが挙げられる。さらに、カルボニル
基、酸素原子または−NR0 −基を1種以上含有する低
級アルキレン基としては例えば下に示すようなものが挙
げられる。 −CO−CH2 −,−CO−CH2 CH2 −,−CH2
−CO−,−CH2 −CO−CH2 −,−CH2 −CO
NMe−,−CH2 −CO−NH−,−CH2 −CON
H−CH2 −,−CH2 CH2 −CO−NH−,−CH
2 CH2 −CO−NMe−,−CH2 CH2 CO−NM
e−CH2 −,−COO−CH2 −,−CH2 −COO
−,−CH2 −COO−CH2 CH2 − また、カルボニル基、酸素原子または−NR0 −基を1
種以上含有する低級アルケニレン基としては例えば下に
示すようなものが挙げられる。 −CO−CH=CH−,−CH2 −CO−CH=CH
−,−CH2 −CO−NH−CH=CH−CH2 −,−
CH2 −CO−NMe−CH=CH−CH2 −,−CO
O−CH2 −CH=CH−,−CH2 −COO−CH=
CH−
Further, the lower alkylene group in Y includes those having 1 to 4 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene and butylene, and the lower alkenylene group includes those having 2 to 2 carbon atoms such as vinylene, propenylene and butynylene. 4 are mentioned. Furthermore, examples of the lower alkylene group containing at least one kind of carbonyl group, oxygen atom or —NR 0 — group include those shown below. -CO-CH 2 -, - CO -CH 2 CH 2 -, - CH 2
-CO -, - CH 2 -CO- CH 2 -, - CH 2 -CO
NMe -, - CH 2 -CO- NH -, - CH 2 -CON
H-CH 2 -, - CH 2 CH 2 -CO-NH -, - CH
2 CH 2 -CO-NMe -, - CH 2 CH 2 CO-NM
e-CH 2 -, - COO -CH 2 -, - CH 2 -COO
—, —CH 2 —COO—CH 2 CH 2 — In addition, a carbonyl group, an oxygen atom or a —NR 0 — group is 1
Examples of the lower alkenylene group containing one or more species include those shown below. -CO-CH = CH -, - CH 2 -CO-CH = CH
-, - CH 2 -CO-NH -CH = CH-CH 2 -, -
CH 2 -CO-NMe-CH = CH-CH 2 -, - CO
O-CH 2 -CH = CH - , - CH 2 -COO-CH =
CH-

【0018】Aにおける一般式(a)〜(p)以外のそ
の他の有機基としては、例えばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチルのような炭素数3〜8の環状ア
ルキル基、炭素数1〜3の低級アルキレン基を介した前
記のような炭素数3〜8の環状アルキル基、例えば2−
ピロリル、4−イミダゾリル、2−チアゾリルのような
総原子数5〜11からなり、そのうち1〜5が窒素原
子、酸素原子及び硫黄原子から選択されるヘテロ原子で
ある一もしくは二環式ヘテロ環基、炭素数1〜3の低級
アルキレン基を介した前記のような一もしくは二環式ヘ
テロ環基等を挙げることができる。
Examples of other organic groups other than the general formulas (a) to (p) in A include cyclic alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl, cyclobutyl and cyclopentyl, and lower alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms. A cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as described above via an alkylene group, for example, 2-
A mono- or bicyclic heterocyclic group consisting of a total of 5 to 11 atoms such as pyrrolyl, 4-imidazolyl and 2-thiazolyl, of which 1 to 5 are heteroatoms selected from nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom. Examples thereof include mono- or bicyclic heterocyclic groups as described above through a lower alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

【0019】また、前記一般式〔I〕の塩は常用の無毒
性塩である。そのような塩としては、例えばナトリウ
ム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウ
ムのような無機塩基塩、例えばトリエチルアンモニウ
ム、ピリジニウム、ジイソプロピルアンモニウムのよう
な有機塩基塩、例えば塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸付
加塩、例えばギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸等の有機酸付加塩等が挙げられる。
The salt of the above general formula [I] is a conventional non-toxic salt. Examples of such salts include inorganic base salts such as sodium, potassium, calcium, magnesium and ammonium, organic base salts such as triethylammonium, pyridinium and diisopropylammonium, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid. Examples thereof include addition salts such as organic acid addition salts of formic acid, acetic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid and the like.

【0020】以下に本発明化合物の製造方法について詳
細に述べる。 (A法)一般式〔I−a〕で示される化合物は、一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−a〕で表
されるメルカプタン化合物とをそれぞれ不活性溶媒中、
塩基の存在下に反応させる(工程A)ことにより製造す
ることができる。
The method for producing the compound of the present invention is described in detail below. (Method A) The compound represented by the general formula [Ia] is obtained by reacting the compound represented by the general formula [II] and the mercaptan compound represented by the general formula [III-a] in an inert solvent,
It can be produced by reacting in the presence of a base (step A).

【化111】 これらの反応に用いられる不活性溶媒のうち好適なもの
としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラ
ミドを挙げることができる。
[Chemical 111] Among the inert solvents used in these reactions, dioxane, tetrahydrofuran, dimethylsulfoxide, acetonitrile, and hexamethylphosphoramide are preferable.

【0021】塩基としては例えば炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、t−ブ
トキシカリウムのような無機塩基、例えばピリジン、ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕−7−ウンデセン(DBU)のような有機塩基等が
挙げられる。特に好適なものとして、ジイソプロピルエ
チルアミンまたはDBUを挙げることができる。
Examples of the base include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride and potassium t-butoxy, such as pyridine, dimethylaminopyridine, triethylamine, diisopropylethylamine and 1,8-diazabicyclo [5. .4.
0] -7-undecene (DBU) and the like. Particularly preferred are diisopropylethylamine or DBU.

【0022】塩基は反応が十分進行するだけの量が必要
であり、一般式〔III−a〕で示されるメルカプタン
化合物に対して通常1〜3当量を用いて行うことができ
る。一般式〔III−a〕で示されるメルカプタン化合
物は反応が十分進行するだけの量が必要であり、大過剰
量を用いることができるが、一般式〔II〕で示される
化合物に対して通常1〜2当量を用いて行うことができ
る。反応温度は−78〜+60℃の範囲で行われるが、
−40〜+40℃の範囲が好適である。なお、反応終了
後は通常の有機化学的手法によって成績体を取出すこと
ができる。
The base is required in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out usually in an amount of 1 to 3 equivalents relative to the mercaptan compound represented by the general formula [III-a]. The mercaptan compound represented by the general formula [III-a] is required in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and a large excess amount can be used, but it is usually 1 relative to the compound represented by the general formula [II]. ~ 2 equivalents can be used. The reaction temperature is −78 to + 60 ° C.,
The range of -40 to + 40 ° C is preferable. After the completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0023】また、一般式〔I−a〕で表される化合物
は、次のようにしても製造することができる。
The compound represented by the general formula [Ia] can also be produced in the following manner.

【化112】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−b−1〕で表されるメルカプタン化合物とから前記
工程Aによって一般式〔IV−a〕で示される化合物を
製造する。次いで、一般式〔IV−a〕で表される化合
物から公知の方法に従ってR8 におけるアミノ基の保護
基の除去反応を行う。この保護基の除去方法(工程B)
は酸、塩基、還元剤等で処理するそれ自体公知の方法で
あり、例えばT.W. Greene : Protective Groups in
Organic Synthesis, J. Wiley & Sons Inc., 1981.を参
照することができる。酸としては好適にはトリフルオロ
酢酸、ギ酸、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム等また
はその混合したものを挙げることができる。塩基として
は好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、硫化ナトリウムあるいは硫化カリウム等の
アルカリ金属硫化物、あるいはフッ化テトラブチルアン
モニウムを挙げることができる。還元による方法として
は好適には亜鉛及び酢酸、水素及びパラジウム−炭素あ
るいは白金等による水素化分解等が挙げられる。また、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを使う手
法も用いることができる。
[Chemical 112] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
I-b-1] and a mercaptan compound represented by the formula [IV-a] are produced by the above step A. Then, a reaction for removing the amino-protecting group in R 8 is carried out from the compound represented by the general formula [IV-a] according to a known method. Method for removing this protecting group (step B)
Is a method known per se of treating with an acid, a base, a reducing agent, etc., for example, TW Greene: Protective Groups in
Reference can be made to Organic Synthesis, J. Wiley & Sons Inc., 1981. Preferable examples of the acid include trifluoroacetic acid, formic acid, boron trifluoride, aluminum chloride and the like or a mixture thereof. Preferable examples of the base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal sulfides such as sodium sulfide and potassium sulfide, and tetrabutylammonium fluoride. Preferable examples of the reduction method include zinc and acetic acid, hydrogen and hydrogenolysis with palladium-carbon or platinum. Also,
A technique using tetrakistriphenylphosphine palladium can also be used.

【0024】使用される溶媒としては保護基の除去反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定はないが、
水、メタノールやエタノール等のアルコール類、テトラ
ヒドロフランやジオキサン等のエーテル類、酢酸等の脂
肪酸類、またはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ
ロホルムあるいはクロロベンゼン等のハロゲノ炭化水素
類、およびそれら混合溶媒を用いることができる。反応
温度としては適宜冷却または加熱することにより反応を
抑制または促進することが可能であり、好適温度として
は−30〜+40℃が挙げられる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction for removing the protecting group.
Water, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, fatty acids such as acetic acid, halogenohydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and chlorobenzene, and mixed solvents thereof can be used. With respect to the reaction temperature, the reaction can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating, and the preferable temperature is −30 to + 40 ° C.

【0025】このようにして保護基の除去反応を行った
後、一般式〔V〕で表される化合物と必要に応じて塩基
の存在下、不活性溶媒中で反応させる(工程C)ことに
より前記一般式〔I−a〕で表される化合物を製造する
ことができる。この反応に用いられる不活性溶媒として
は、水、アセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、
テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド、またはジクロロメ
タン、ジクロロエタンあるいはクロロホルム等のハロゲ
ノ炭化水素類のような反応に悪影響を及ぼさない溶媒ま
たはその混合物を挙げることができる。
After the reaction for removing the protecting group is carried out in this manner, the compound represented by the general formula [V] is reacted in the presence of a base, if necessary, in an inert solvent (step C). The compound represented by the above general formula [Ia] can be produced. As the inert solvent used in this reaction, water, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone,
Examples thereof include ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, dimethylformamide, and halogenohydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform, which do not adversely influence the reaction, or a mixture thereof.

【0026】この際、必要に応じて炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウムのよ
うな無機塩基、またはピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
DBUのような有機塩基を共存させることができる。反
応温度は特に限定されないが、通常は−40〜+60℃
の範囲が好適である。反応終了後は通常の有機化学的手
法により成績体を取り出すことができる。
At this time, if necessary, an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide or sodium hydride, or pyridine, dimethylaminopyridine, triethylamine, diisopropylethylamine,
An organic base such as DBU can coexist. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -40 to + 60 ° C.
Is preferred. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0027】(B法)一般式〔I−b〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method B) The compound represented by the general formula [Ib] can be produced as follows.

【化113】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−b−2〕で表されるメルカプタン化合物とから前記
工程Aによって一般式〔IV−b〕で示される化合物を
製造する。次いで、一般式〔IV−b〕で表される化合
物と一般式〔VI〕で表される化合物を不活性溶媒中反
応させる(工程D)ことにより一般式〔I−b〕で表さ
れる化合物を製造することができる。この反応に用いら
れる不活性溶媒としては、水、アセトンやメチルエチル
ケトン等のケトン類、テトラヒドロフランやジオキサン
等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、またはジクロロメタン、ジクロロエタンあるいはク
ロロホルム等のハロゲノ炭化水素類のような反応に悪影
響を及ぼさない溶媒またはその混合物を挙げることがで
きる。反応温度は特に限定されないが、通常は−40〜
+60℃の範囲が好適である。反応終了後は通常の有機
化学的手法により成績体を取り出すことができる。
[Chemical 113] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
The compound represented by the general formula [IV-b] is produced by the step A from the mercaptan compound represented by Ib-2]. Then, the compound represented by the general formula [IV-b] is reacted with the compound represented by the general formula [VI] in an inert solvent (step D) to give the compound represented by the general formula [Ib]. Can be manufactured. Examples of the inert solvent used in this reaction include water, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, dimethylformamide, or halogeno hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane or chloroform. Examples thereof include solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the above. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -40 to
A range of + 60 ° C is preferred. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemical method.

【0028】(C法)一般式〔I−c〕で表される化合
物は、一般式〔VII〕で表される化合物と一般式
〔V〕で表される化合物とから前記工程Cによって製造
することができる。
(Method C) The compound represented by the general formula [Ic] is produced by the above step C from the compound represented by the general formula [VII] and the compound represented by the general formula [V]. be able to.

【化114】 [Chemical 114]

【0029】(D法)一般式〔I−d〕で表される化合
物は、一般式〔VIII〕で表される化合物を不活性溶
媒中で加熱すること(工程E)により製造することがで
きる。
(Method D) The compound represented by the general formula [Id] can be produced by heating the compound represented by the general formula [VIII] in an inert solvent (step E). ..

【化115】 不活性溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類が好適であるが、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、シクロヘキサン、クロロ
ホルム等の各種の溶媒を用いることも可能である。反応
温度としては適宜冷却または加熱することにより、反応
を抑制または促進することが可能であり、好適反応温度
としては20〜200℃であるということができる。こ
の工程自体は公知の手法であり、例えばThe Journal of
Antibiotics, vol.36, p.938-941,1983、 The Journal
of Antibiotics, vol.41,p.780-787, 1988あるいはJo
urnal of Medicinal Chemistry, vol.30, p.871-880, 1
987 に記載の方法に準じて行うことができる。
[Chemical 115] Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene are suitable as the inert solvent, but ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, various solvents such as cyclohexane and chloroform can also be used. The reaction temperature can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating, and it can be said that the preferable reaction temperature is 20 to 200 ° C. This step itself is a known method, for example, The Journal of
Antibiotics, vol.36, p.938-941,1983, The Journal
of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988 or Jo
urnal of Medicinal Chemistry, vol.30, p.871-880, 1
It can be carried out according to the method described in 987.

【0030】(E法)一般式〔I−e〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method E) The compound represented by the general formula [Ie] can be produced as follows.

【化116】 すなわち、一般式〔IX〕で表される化合物を前記工程
Eに付することにより、一般式〔X〕で表される化合物
を製造し、次いで一般式〔VI〕で表される化合物と前
記工程Dに付することにより製造することができる。 (F法)一般式〔I−f〕で表される化合物は、一般式
〔XI〕で表される化合物と一般式〔V〕で表される化
合物とから前記工程Cによって製造することができる。
[Chemical formula 116] That is, the compound represented by the general formula [IX] is subjected to the step E to produce the compound represented by the general formula [X], and then the compound represented by the general formula [VI] and the step It can be manufactured by attaching D. (Method F) The compound represented by the general formula [If] can be produced by the step C from the compound represented by the general formula [XI] and the compound represented by the general formula [V]. ..

【化117】 [Chemical 117]

【0031】(G法)一般式〔I−g〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method G) The compound represented by the general formula [Ig] can be produced as follows.

【化118】 まず、一般式〔II〕で表される化合物と一般式〔II
I−c〕で表されるメルカプタン化合物とから前記工程
Aによって一般式〔XII〕で示される化合物を製造す
る。次いで、R1aが水酸基の保護基である場合には、一
般式〔XII〕で表される化合物から前記工程Bによっ
て保護基の除去反応を行った後、得られる一般式〔XI
II〕で表される化合物を一般式〔XIV〕で表される
化合物と前記工程Cに付することにより一般式〔I−
g〕で表される化合物を製造することができる。
[Chemical 118] First, the compound represented by the general formula [II] and the general formula [II]
The compound represented by the general formula [XII] is produced by the step A from the mercaptan compound represented by Ic]. Next, when R 1a is a hydroxyl-protecting group, the compound represented by the general formula [XII] is subjected to the reaction of removing the protective group in the above step B, and then the resulting compound of the general formula [XI
II] by subjecting the compound represented by the general formula [XIV] to the compound represented by the general formula [I-
The compound represented by g] can be manufactured.

【0032】(H法)一般式〔I−h〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method H) The compound represented by the general formula [Ih] can be produced as follows.

【化119】 すなわち、一般式〔I−g’〕で表される化合物と一般
式〔XV〕で表される化合物を前記工程Dに付する。あ
るいは、一般式〔I−g’〕で表される化合物のR9
おけるアミノ基の保護基の除去反応を前記工程Bによっ
て行った後、ホルムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アル
キルエステルと反応する(工程F)それ自体公知の方法
(例えば、欧州特許出願公開第0289801号に記載の方
法)に付する。
[Chemical 119] That is, the compound represented by the general formula [Ig ′] and the compound represented by the general formula [XV] are subjected to the step D. Alternatively, after the reaction for removing the amino-group-protecting group at R 9 of the compound represented by the general formula [Ig ′] is carried out by the above step B, a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid is added. The reaction (step F) is carried out by a method known per se (for example, the method described in European Patent Application Publication No. 0289801).

【0033】(I法)一般式〔I−i〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method I) The compound represented by the general formula [Ii] can be produced as follows.

【化120】 すなわち、一般式〔XVI〕で示される化合物を前記工
程Eに付することにより、一般式〔XVII〕で表され
る化合物を製造し、次いでR1aが水酸基の保護基である
場合には、一般式〔XVII〕で表される化合物から前
記工程Bによって保護基の除去反応を行って一般式〔X
VIII〕とした後、一般式〔XIV〕で表される化合
物と前記工程Cに付することにより一般式〔I−i〕で
表される化合物を製造することができる。
[Chemical 120] That is, a compound represented by the general formula [XVII] is produced by subjecting the compound represented by the general formula [XVI] to the step E, and then when R 1a is a hydroxyl-protecting group, The compound of the formula [XVII] is subjected to the reaction of removing the protecting group in the above step B to give a compound of the general formula [X
VIII], the compound represented by the general formula [XIV] and the above step C can be applied to produce the compound represented by the general formula [Ii].

【0034】(J法)一般式〔I−j〕で表される化合
物は、次のようにして製造することができる。
(Method J) The compound represented by the general formula [I-j] can be produced as follows.

【化121】 すなわち、一般式〔I−i’〕で表される化合物と一般
式〔XV〕で表される化合物を前記工程Dに付する。あ
るいは、一般式〔I−i’〕で表される化合物のR9
おけるアミノ基の保護基の除去反応を前記工程Bによっ
て行った後、前記工程Fに付する。
[Chemical 121] That is, the compound represented by the general formula [Ii ′] and the compound represented by the general formula [XV] are subjected to the step D. Alternatively, the reaction of removing the amino-protecting group in R 9 of the compound represented by the general formula [Ii ′] is carried out in the step B, and then the step F is carried out.

【0035】なお、得られる一般式〔I−a〕〜〔I−
j〕で表される化合物を、必要に応じて、R2aにおける
カルボキシル基の保護基の除去反応、R8 あるいはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応、及びR1a
5 、もしくはR6 における水酸基の保護基の除去反応
を適宜組合わせた反応に付することにより、R8
9 、R1 、R5 、またはR6 のうち1つ以上が水素原
子であり、さらにR2 が水素原子または陰電荷である一
般式〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物を製造するこ
とができる。反応終了後は通常の有機化学的手法により
成績体を取出すことができるが、例えばCHP−20P
等の吸着樹脂等を用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、目的化合物の溶出する部分を分取し、凍結乾燥する
ことにより反応成績体を得ることができる。
The obtained general formulas [Ia] to [I-
j], if necessary, the reaction of removing the protective group for the carboxyl group in R 2a , R 8 or R 9
Removal of the amino-protecting group in R, and R 1a ,
By subjecting R 5 or R 6 to a reaction in which the removal reaction of the hydroxyl-protecting group is appropriately combined, R 8 ,
A β-lactam compound represented by the general formula [I] in which at least one of R 9 , R 1 , R 5 , or R 6 is a hydrogen atom, and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is produced. be able to. After completion of the reaction, the product can be taken out by a usual organic chemistry method, for example, CHP-20P.
The reaction product can be obtained by subjecting it to column chromatography using an adsorption resin or the like, collecting the portion from which the target compound is eluted, and freeze-drying.

【0036】なお、本発明の原料化合物である一般式
〔II〕で表される化合物は公知であり、例えばTetrah
edron Letters, vol.23, p.897-900, 1982、Heterocycl
es,vol.21, p.29-40, 1984 あるいは欧州特許出願公開
第0046363号公報に記載されている。また、一般式〔V
II〕あるいは一般式〔XI〕で表される化合物も公知
であり、例えばChemical & Pharmaceutical Bulletin,
vol.29, p.3158-3172,1981、The Journal of Antibioti
cs, vol.36, p.938-941, 1983あるいはTheJournal of
Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988 に記載されて
いる。さらに、一般式〔VIII〕、〔IX〕あるいは
〔XVI〕で表される化合物も公知であり、例えばThe
Journal of Antibiotics, vol.36, p.938-941, 1983 、
TheJournal of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 19
88あるいはJournal ofMedicinal Chemistry, vol.30,
p.871-880, 1987に記載の方法に準じて製造することが
できる。
The compound represented by the general formula [II], which is the starting material compound of the present invention, is publicly known, for example, Tetrah.
edron Letters, vol.23, p.897-900, 1982, Heterocycl
es, vol.21, p.29-40, 1984 or European Patent Application Publication No. 0046363. In addition, the general formula [V
II] or the compound represented by the general formula [XI] is also known, for example, Chemical & Pharmaceutical Bulletin,
vol.29, p.3158-3172,1981, The Journal of Antibioti
cs, vol.36, p.938-941, 1983 or The Journal of
Antibiotics, vol.41, p.780-787, 1988. Further, compounds represented by the general formula [VIII], [IX] or [XVI] are also known, for example, The
Journal of Antibiotics, vol.36, p.938-941, 1983,
TheJournal of Antibiotics, vol.41, p.780-787, 19
88 or Journal of Medicinal Chemistry, vol.30,
It can be produced according to the method described in p.871-880, 1987.

【0037】一方、一般式〔III−a〕、〔III−
b−1〕、〔III−b−2〕あるいは〔III−c〕
で表されるメルカプタン化合物は公知の各種の方法、例
えば特開昭60−58987号公報、特願平2−349
52号公報あるいは特願平2−212102号公報に記
載の方法によって製造することができる。
On the other hand, general formulas [III-a] and [III-
b-1], [III-b-2] or [III-c]
The mercaptan compound represented by the following formula is known in various methods, for example, JP-A-60-58987, Japanese Patent Application No. 2-349.
It can be produced by the method described in Japanese Patent Publication No. 52 or Japanese Patent Application No. 2-212102.

【0038】前記一般式〔I〕で示される化合物には、
ペネム骨格の5位、6位及び8位またはカルバペネム骨
格の4位、5位、6位及び8位の不斉炭素に基づく光学
異性体及び立体異性体が存在し、これらの異性体が便宜
上すべて単一の式で示されているが、これによって本発
明の範囲は限定されるものではなく、本発明は各不斉炭
素原子に基づく、すべての異性体及び異性体混合物を含
むものである。しかしながら、5位と6位の立体配位に
ついては、好適には、Mが硫黄原子あるいはメチレン基
の場合、5位の炭素原子がR配位を有する(5R,6
S)配位あるいは(5R,6R)配位の化合物を、Mが
低級アルキル基で置換されたメチレン基でj=0の場
合、5位の炭素原子がR配位を有する(5R,6S)配
位あるいは(5R,6R)配位の化合物を、Mが低級ア
ルキル基で置換されたメチレン基でj=1の場合、5位
の炭素原子がS配位を有する(5S,6S)配位あるい
は(5S,6R)配位の化合物を挙げることができる。
8位については、好適なものとしてR配位を有する化合
物を選択することができる。
The compound represented by the general formula [I] includes
There are optical isomers and stereoisomers based on the asymmetric carbons at the 5-position, 6-position and 8-position of the penem skeleton or 4-position, 5-position, 6-position and 8-position of the carbapenem skeleton, and all of these isomers are convenient for convenience. Although shown as a single formula, this is not intended to limit the scope of the invention, which is intended to include all isomers and isomer mixtures based on each asymmetric carbon atom. However, regarding the 5- and 6-position configurations, preferably, when M is a sulfur atom or a methylene group, the 5-position carbon atom has the R configuration (5R, 6).
S) -coordinated or (5R, 6R) -coordinated compound, when M is a methylene group substituted with a lower alkyl group and j = 0, the carbon atom at 5-position has R-coordinated (5R, 6S) Coordination or (5R, 6R) coordination compounds, when M is a methylene group substituted with a lower alkyl group and j = 1, the carbon atom at the 5 position has S coordination (5S, 6S) coordination Alternatively, compounds having (5S, 6R) coordination can be mentioned.
For the 8-position, a compound having an R-coordinate can be selected as a suitable one.

【0039】更に好適なものとしては、式〔I−k〕More preferred is the formula [Ik]

【化122】 および式〔I−l〕[Chemical formula 122] And the formula [I-1]

【化123】 で示す化合物を挙げることができる。最も好適な配位を
有する化合物としては、前記一般式〔I−k〕で示す化
合物を挙げることができる。
[Chemical 123] The compound shown by can be mentioned. Examples of the compound having the most suitable coordination include the compounds represented by the above general formula [Ik].

【0040】このような配位を有する異性体を製造する
場合には、原料化合物〔II〕、〔VII〕、〔VII
I〕、〔IX〕、〔XI〕あるいは〔XVI〕で表され
る化合物において対応する異性体を使用して行う。
When producing isomers having such a coordination, the starting compounds [II], [VII] and [VII]
I], [IX], [XI] or [XVI] is carried out using the corresponding isomer.

【0041】また一般式〔I〕で表される化合物のうち
好適なものとしては前記一般式〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−d〕、〔I−e〕、〔I−g〕あるいは
〔I−i〕で表される化合物群を挙げることができる。
特に好適なものとしては前記一般式〔I−a〕、〔I−
b〕、〔I−d〕あるいは〔I−e〕で表される化合物
群を挙げることができる。
Among the compounds represented by the general formula [I], preferred ones are those represented by the general formulas [Ia] and [I-
b], [Id], [Ie], [Ig] or [Ii] can be mentioned.
Particularly preferred are the above-mentioned general formulas [Ia] and [I-
b], [Id] or [Ie] can be mentioned.

【0042】なお、前記一般式〔I〕で示される化合物
がヒドロキシピリドン部分を有する場合(一般式(2)
あるいは(3)で表される基が含まれる場合)には、1
位置換基の種類に対応して下記の式(i)あるいは(i
i)で示される互変異性体の存在が可能であって、本発
明はこれらの全てを包含するものである(ただし、化合
物の命名及び構造式の記載はピリドン型で行うものとす
る)。 (i) 1位置換基が水素原子の場合(一般式(2)
で表される基が含まれる場合)
When the compound represented by the general formula [I] has a hydroxypyridone moiety (general formula (2)
Alternatively, when the group represented by (3) is included), 1
The following formula (i) or (i
It is possible for tautomers represented by i) to exist, and the present invention includes all of them (however, the naming of compounds and the description of structural formulas are to be made in the pyridone form). (I) When the 1-position substituent is a hydrogen atom (general formula (2)
When the group represented by is included)

【化124】 (ii) 1位置換基が水酸基の場合(一般式(3)で
表される基が含まれる場合)
[Chemical formula 124] (Ii) When the 1-position substituent is a hydroxyl group (when the group represented by the general formula (3) is included)

【化125】 [Chemical 125]

【0043】前記一般式〔I〕で示される本発明化合物
は、カテコール誘導体などを導入したペネムあるいはカ
ルバペネム誘導体であり、これらの化合物は優れた抗菌
活性を表し、医薬として有用な化合物であるか、あるい
はそれらの活性を表す化合物の重要中間体である。本発
明によって得られる前記一般式〔I〕を有する化合物の
具体例としては、例えば以下の表1−(1)および表1
−(2)に示した化合物を挙げることができる。
The compound of the present invention represented by the above general formula [I] is a penem or carbapenem derivative into which a catechol derivative or the like is introduced, and these compounds exhibit excellent antibacterial activity and are useful as pharmaceuticals. Alternatively, it is a key intermediate for compounds exhibiting their activity. Specific examples of the compound having the general formula [I] obtained by the present invention include, for example, Table 1- (1) and Table 1 below.
The compound shown in-(2) can be mentioned.

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【表5】 [Table 5]

【表6】 [Table 6]

【表7】 [Table 7]

【表8】 [Table 8]

【表9】 [Table 9]

【表10】 [Table 10]

【表11】 [Table 11]

【表12】 [Table 12]

【表13】 [Table 13]

【表14】 [Table 14]

【表15】 [Table 15]

【表16】 [Table 16]

【表17】 [Table 17]

【表18】 [Table 18]

【0044】表1−(1)および表1−(2)に例示し
た化合物においては、前述したように立体異性体が存在
し、例示化合物はすべての異性体を含むものである。
The compounds exemplified in Table 1- (1) and Table 1- (2) have stereoisomers as described above, and the exemplified compounds include all isomers.

【0045】本発明による前記一般式〔I〕で表される
新規β−ラクタム化合物は、スタフィロコッカス・オウ
レウス、ストレプトコッカス・パイロジエンス、エシエ
リキア・コリ、シュードモナス・エルギノーザ等のグラ
ム陽性菌並びにグラム陰性菌に優れた抗菌力を示す抗菌
剤として有用である。イミペネムをはじめカルバペネム
系化合物は生体内、特に腎に局在するDHP−Iに不安
定であることが知られているが、本発明化合物は各々の
化合物によってその程度は異なるが、DHP−Iに対し
てより安定になっていることがその特徴として挙げるこ
とができ、本発明化合物のあるものはDHP−Iに対し
て極めて安定である。また、各々の化合物によってその
程度は異なるが生体内半減期(T1/2 )がイミペネム等
に比して長い傾向にあるということもその特徴として挙
げることができる。また本発明化合物は、イミペネム耐
性緑膿菌に対して優れた抗菌力を示すことをその特徴と
して挙げることができる。
The novel β-lactam compound represented by the above general formula [I] according to the present invention is suitable for Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria such as Staphylococcus aureus, Streptococcus pyloriens, Escherichia coli and Pseudomonas aeruginosa. It is useful as an antibacterial agent showing excellent antibacterial activity. It is known that carbapenem compounds such as imipenem are unstable to DHP-I localized in the living body, especially in the kidney. However, the compound of the present invention is different in DHP-I although the degree varies depending on each compound. On the other hand, it can be mentioned as a characteristic that it is more stable, and some of the compounds of the present invention are extremely stable against DHP-I. In addition, it can be mentioned as a characteristic that the in vivo half-life (T 1/2 ) tends to be longer than that of imipenem or the like, although the degree varies depending on each compound. Further, the compound of the present invention can be mentioned as a feature that it exhibits excellent antibacterial activity against imipenem-resistant Pseudomonas aeruginosa.

【0046】本発明化合物を細菌感染症を治療する抗菌
剤として用いるための投与形態としては、例えば錠剤、
カプセル剤、散剤、シロップ剤等による経口投与あるい
は静脈内注射、筋肉内注射、直腸投与などによる非経口
投与があげられる。
Dosage forms for using the compound of the present invention as an antibacterial agent for treating bacterial infection include, for example, tablets,
Examples thereof include oral administration by capsules, powders, syrups and the like, or parenteral administration by intravenous injection, intramuscular injection, rectal administration and the like.

【0047】前記の適当な投与剤型は許容される通常の
担体、賦型剤、結合剤、安定剤などに活性化合物を配合
することにより製造することができる。注射剤型で用い
る場合には許容される緩衝剤、溶解補助剤、等張剤など
を添加することもできる。
The above suitable dosage forms can be prepared by incorporating the active compound into an acceptable conventional carrier, excipient, binder, stabilizer and the like. When used in an injection form, an acceptable buffer, solubilizing agent, isotonic agent, etc. may be added.

【0048】投与量は症状、年齢、体重、投与形態、投
与回数等によって異なるが、通常は成人に対し、一日10
0 〜3000mgを一回または数回に分けて投与する。必要に
応じて減量あるいは増量することができる。
The dose varies depending on the symptoms, age, body weight, dosage form, number of administrations, etc.
Administer 0 to 3000 mg once or in several divided doses. The dose can be reduced or increased as needed.

【0049】[0049]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はもちろんこれらによって何ら限定
されるものではない。なお以下の実施例で用いている略
号の意味は次の通りである。 AOC:アリルオキシカルボニル基 BOC:t−ブチルオキシカルボニル基 Me:メチル基 Ph:フェニル基 PNB:p−ニトロベンジル基 PNZ:p−ニトロベンジルオキシカルボニル基 TBDMS:tert−ブチルジメチルシリル基 TMS:トリメチルシリル基
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The abbreviations used in the following examples have the following meanings. AOC: allyloxycarbonyl group BOC: t-butyloxycarbonyl group Me: methyl group Ph: phenyl group PNB: p-nitrobenzyl group PNZ: p-nitrobenzyloxycarbonyl group TBDMS: tert-butyldimethylsilyl group TMS: trimethylsilyl group

【0050】実施例1Example 1

【化126】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(1.52g)を乾燥アセトニトリル(10ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下に(2S,4S)−1−
アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニ
ル−4−メルカプトピロリジン(877mg)の乾燥アセ
トニトリル(2ml)溶液を加え、次いでジイソプロピル
エチルアミン(0.49ml)を加え、そのまま1時間攪
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、2.5%リン酸
一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製することで(4R,5S,6S,8R,
2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−
アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(1.0g)を得た。
[Chemical formula 126] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.52 g) in dry acetonitrile (10 ml)
Dissolve in, and under ice cooling in a nitrogen stream (2S, 4S) -1-
A solution of allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (877 mg) in dry acetonitrile (2 ml) was added, and then diisopropylethylamine (0.49 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R,
2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-
Allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.0 g) was obtained.

【0051】IRmax cm-1(neat) : 3307(br), 1770, 1
702, 1655(sh), 1650, 1522, 1412,1347, 1140 ;
IR max cm -1 (neat): 3307 (br), 1770, 1
702, 1655 (sh), 1650, 1522, 1412,1347, 1140;

【0052】NMRδppm(CDCl3) : 1.28(3H,m), 1.37
(3H,m), 2.68(1H,m), 2.97, 2.98,3.06, 3.11(合わせ
て3H, それぞれs), 3.27(1H,m),3.47(2H,m), 3.64 (1H,
m),4.12(1H,m), 4.26(2H,m), 4.74(1H,m), 5.1 〜5.6(4
H,m), 5.90(1H,m), 7.65(2H,d,J=8.8Hz), 8.23(2H,d,J=
8.8Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, m), 1.37
(3H, m), 2.68 (1H, m), 2.97, 2.98,3.06, 3.11 (3H in total, each s), 3.27 (1H, m), 3.47 (2H, m), 3.64 (1H,
m), 4.12 (1H, m), 4.26 (2H, m), 4.74 (1H, m), 5.1 ~ 5.6 (4
H, m), 5.90 (1H, m), 7.65 (2H, d, J = 8.8Hz), 8.23 (2H, d, J =
8.8Hz).

【0053】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−アリルオ
キシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリ
ジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプ
ト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(1.
65g)を乾燥テトラヒドロフラン(30ml)に溶か
し、窒素気流中、ジメドン( 1.66g)を加え、氷冷
下にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(3
42mg)を加えて10分間攪拌した。除媒した残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製すること
で(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−
ニトロベンジル−3−〔(2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(0.94g)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [ 3.2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.
65 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (30 ml), dimedone (1.66 g) was added in a nitrogen stream, and tetrakistriphenylphosphine palladium (3
42 mg) was added and the mixture was stirred for 10 minutes. By removing the desolvated residue by silica gel column chromatography, (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-
Nitrobenzyl-3-[(2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (0.94 g) was obtained.

【0054】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1763, 1
698, 1638, 1518, 1381, 1342, 1203,1137 ;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1763, 1
698, 1638, 1518, 1381, 1342, 1203, 1137;

【0055】NMRδppm(CDCl3) : 1.28(3H,d, J=7.3H
z), 1.36(3H,d,J=6.3Hz), 1.59(1H, m), 2.59(1H,m),
3.00(3H,s), 3.02(3H,s), 3.10(1H,dd,J=11.6Hz, 4.6H
z),3.27(2H,m), 3.39(1H,m), 3.75(1H,m), 3.94(1H,t,J
=7.9Hz), 4.25(2H,m), 5.23(1H,d,J=13.8Hz), 5.50(1H,
d,J=13.8Hz), 7.67(2H,d,J=8.6Hz), 8.24(2H,d,J=8.6H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.36 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.59 (1H, m), 2.59 (1H, m),
3.00 (3H, s), 3.02 (3H, s), 3.10 (1H, dd, J = 11.6Hz, 4.6H
z), 3.27 (2H, m), 3.39 (1H, m), 3.75 (1H, m), 3.94 (1H, t, J
= 7.9Hz), 4.25 (2H, m), 5.23 (1H, d, J = 13.8Hz), 5.50 (1H,
d, J = 13.8Hz), 7.67 (2H, d, J = 8.6Hz), 8.24 (2H, d, J = 8.6H)
z).

【0056】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(2−ジメチル
アミノカルボニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−
メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−
カルボキシレート(137mg)をアセトン(3ml)及び
塩化メチレン(2ml)に溶かし、1−ブロモアセチル−
3,4−ジ−(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(200mg)を加え、室温で1日攪拌した。0.02M
リン酸緩衝液(pH=7.0)洗し、硫酸マグネシウム
乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製することで(4R,5S,6S,8R,
2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−
(3,4−ジ−p−ニトロベンジルオキシベンゾイル)
メチル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−
4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−7−オン−2−カルボキシレート(129mg)を
得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-
Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-
Carboxylate (137 mg) was dissolved in acetone (3 ml) and methylene chloride (2 ml) and 1-bromoacetyl-
3,4-Di- (p-nitrobenzyloxy) benzene (200 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. 0.02M
By washing with a phosphate buffer (pH = 7.0), drying with magnesium sulfate, removing the solvent, and purifying the residue by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R,
2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1-
(3,4-di-p-nitrobenzyloxybenzoyl)
Methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine)-
4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-
En-7-one-2-carboxylate (129 mg) was obtained.

【0057】IRmax cm-1(neat) : 3400(br), 1763, 1
694, 1672, 1640, 1602, 1505, 1417,1344, 1271, 120
7, 1177, 1133 ;
IR max cm -1 (neat): 3400 (br), 1763, 1
694, 1672, 1640, 1602, 1505, 1417, 1344, 1271, 120
7, 1177, 1133;

【0058】NMRδppm(CDCl3) : 1.20(3H,d, J=7.3H
z), 1.35(3H,d,J=5.9Hz), 1.87(1H, m), 2.74(1H,m),
2.95(3H,s), 3.03(3H,s), 3.20(3H,m), 3.37(1H,m), 3.
75(1H,d,J=16.2Hz), 3.81(1H,m), 3.99(1H,t,J=7.9Hz),
4.23(1H,t,J=6.3Hz), 4.32(1H,d,J=16.2Hz), 5.17(1H,
d,J=13.9Hz), 5.32(2H,s), 5.37(2H,s), 5.44(1H,d,J=1
3.9Hz), 6.93(1H,d,J=8.6Hz), 7.56 〜7.77(7H,m), 7.9
6(1H,d,J=2.0Hz),8.13〜8.33(6H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.35 (3H, d, J = 5.9Hz), 1.87 (1H, m), 2.74 (1H, m),
2.95 (3H, s), 3.03 (3H, s), 3.20 (3H, m), 3.37 (1H, m), 3.
75 (1H, d, J = 16.2Hz), 3.81 (1H, m), 3.99 (1H, t, J = 7.9Hz),
4.23 (1H, t, J = 6.3Hz), 4.32 (1H, d, J = 16.2Hz), 5.17 (1H,
d, J = 13.9Hz), 5.32 (2H, s), 5.37 (2H, s), 5.44 (1H, d, J = 1
3.9Hz), 6.93 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.56 ~ 7.77 (7H, m), 7.9
6 (1H, d, J = 2.0Hz), 8.13 ~ 8.33 (6H, m).

【0059】d)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−(3,4
−ジ−p−ニトロベンジルオキシベンゾイル)メチル−
2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−4−イル
チオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7
−オン−2−カルボキシレート(120mg)をテトラヒ
ドロフラン(6ml)、0.1Mリン酸緩衝液(pH=
7.0,6ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(12
0mg)を加え、室温下、常圧で2時間水素添加を行っ
た。触媒を濾別、濾液を塩化メチレンで3回洗浄し、水
層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブランフィル
ターにて濾過、濾液をCHP−20Pポリマーによるカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、2〜4%テトラヒ
ドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥する
ことで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−〔(1−(3,4−ジヒド
ロキシベンゾイル)メチル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
D) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1- (3,4
-Di-p-nitrobenzyloxybenzoyl) methyl-
2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl)-
1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7
-On-2-carboxylate (120 mg) was added to tetrahydrofuran (6 ml), 0.1M phosphate buffer (pH =
It was dissolved in 7.0, 6 ml) and 10% palladium on carbon (12
0 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 2 hours. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, then filtered through a membrane filter, and the filtrate was purified by column chromatography using CHP-20P polymer. Fractions eluted with a 2 to 4% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3-[(1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0060】UVmax nm (H2O) : 220, 263, 297 ;UV max nm (H 2 O): 220, 263, 297;

【0061】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1754, 16
20, 1594, 1388, 1289 ;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1754, 16
20, 1594, 1388, 1289;

【0062】NMRδppm(D 2 O) : 1.19(3H,d,J=6.9H
z), 1.30(3H,d,J=6.3Hz), 1.72(3H,m), 2.80(1H,m), 2.
90(3H,s), 3.01(3H,s), 3.24(3H,m), 3.40(2H,m), 3.87
(1H,m), 3.95〜4.30(5H,m), 6.91(1H,d,J=8.3Hz), 7.45
(1H,s), 7.52(1H,d,J=8.3Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.19 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.72 (3H, m), 2.80 (1H, m), 2.
90 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.24 (3H, m), 3.40 (2H, m), 3.87
(1H, m), 3.95 ~ 4.30 (5H, m), 6.91 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.45
(1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.3Hz).

【0063】実施例2Example 2

【化127】 a)(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p
−ニトロベンジル−3−〔(1−アリルオキシカルボニ
ル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン)−4−
イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(574mg)を乾
燥塩化メチレン(18ml)に溶かし、窒素気流中、ジメ
ドン(560mg)を加え、室温でテトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウム(116mg)を加えて20分間
攪拌した。反応液を0℃に冷却後、乾燥塩化メチレン
(0.5ml)に溶かしたジイソプロピルエチルアミン
(115mg)を加え、次いで3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)シンナモイルクロリド(約1mmo
l)の乾燥塩化メチレン(3ml)溶液を滴下した。反応
液を食塩水洗し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで
乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー により精製することで(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3−
〔{1−(3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)シンナモイル)−2−ジメチルアミノカルボニルピ
ロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕
ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート
(446mg)を得た。
[Chemical 127] a) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p
-Nitrobenzyl-3-[(1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine) -4-
Ilthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (574 mg) was dried over methylene chloride (18 ml). Dimethone (560 mg) was added in a nitrogen stream, tetrakistriphenylphosphine palladium (116 mg) was added at room temperature, and the mixture was stirred for 20 minutes. After cooling the reaction solution to 0 ° C., diisopropylethylamine (115 mg) dissolved in dry methylene chloride (0.5 ml) was added, and then 3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl chloride (about 1 mmo).
A solution of l) in dry methylene chloride (3 ml) was added dropwise. The reaction solution was washed with brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, the solvent was removed, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3-
[{1- (3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-
Hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0]
Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (446 mg) was obtained.

【0064】IRmax cm-1(neat) : 3400(br), 1770, 1
707, 1655(sh), 1642, 1602, 1593,1513, 1347, 1302,
1253, 1132;
IR max cm -1 (neat): 3400 (br), 1770, 1
707, 1655 (sh), 1642, 1602, 1593,1513, 1347, 1302,
1253, 1132;

【0065】NMRδppm(CDCl3) : 0.19(6H,s), 0.21
(6H,s), 0.98(18H,s), 1.27(3H,d,J= 6.9Hz), 1.37(3H,
d,J=6.3Hz), 2.63(1H,m), 3.00(3H,s), 3.21(3H,s), 3.
25〜3.55(3H,m), 3.60〜3.85(2H,m), 4.20〜4.40(3H,
m), 4.98(1H,t,J=8.4Hz), 5.20〜5.60(2H,m), 6.46(1H,
d,J=16Hz), 6.81(1H,d,J=8.3Hz), 6.94(1H,d,J=2.0Hz),
7.05(1H,dd,J=2.0Hz および8.3Hz), 7.56(1H,d,J=16H
z), 7.66(2H,d,J=8.9Hz),8.24(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.19 (6H, s), 0.21
(6H, s), 0.98 (18H, s), 1.27 (3H, d, J = 6.9Hz), 1.37 (3H,
d, J = 6.3Hz), 2.63 (1H, m), 3.00 (3H, s), 3.21 (3H, s), 3.
25 ~ 3.55 (3H, m), 3.60 ~ 3.85 (2H, m), 4.20 ~ 4.40 (3H,
m), 4.98 (1H, t, J = 8.4Hz), 5.20 ~ 5.60 (2H, m), 6.46 (1H,
d, J = 16Hz), 6.81 (1H, d, J = 8.3Hz), 6.94 (1H, d, J = 2.0Hz),
7.05 (1H, dd, J = 2.0Hz and 8.3Hz), 7.56 (1H, d, J = 16H
z), 7.66 (2H, d, J = 8.9Hz), 8.24 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0066】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔(1−(3,4
−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)シンナモイ
ル)−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4
−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(446mg)をテ
トラヒドロフラン(6.8ml)に溶かし、室温で酢酸
(187mg)を加え、次いで1M−フッ化テトラブチル
アンモニウムテトラヒドロフラン溶液(1ml)を滴下し
た。1時間攪拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム(262mg)の水溶液を加えて中和
し、有機層を食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製することで(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(3,4
−ジヒドロキシシンナモイル)−2−ジメチルアミノカ
ルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(220mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[(1- (3,4
-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4
-Ilthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (446 mg) was added to tetrahydrofuran (6.8 ml). ), Acetic acid (187 mg) was added at room temperature, and then a 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (1 ml) was added dropwise. After stirring for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate,
An aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (262 mg) was added for neutralization, the organic layer was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (3,4
-Dihydroxycinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-
6- (1-Hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (220 mg) was obtained.

【0067】IRmax cm-1(KBr) : 3430(br), 1768, 17
10, 1642, 1600, 1521, 1440, 1350,1286;
IR max cm -1 (KBr): 3430 (br), 1768, 17
10, 1642, 1600, 1521, 1440, 1350,1286;

【0068】NMRδppm(CDCl3 -CD 3 OD(9:1)) : 1.2
5(3H,d,J=7.3Hz), 1.33(3H,d,J=6.3Hz), 2.66(1H,m),
3.00(3H,s), 3.38(3H,m), 3.70(2H,m), 4.0〜4.4(3H,
m),4.95(1H,t,J=8.6Hz), 5.2 〜5.6(2H,m), 6.49(1H,d,
J=15Hz), 6.80(1H,d,J=8.3Hz), 6.92(1H,d,J=7.3Hz),
7.04(1H,s), 7.49(1H,d,J=15Hz), 7.67(2H,d,J=8.9Hz),
8.24(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 -CD 3 OD (9: 1)): 1.2
5 (3H, d, J = 7.3Hz), 1.33 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.66 (1H, m),
3.00 (3H, s), 3.38 (3H, m), 3.70 (2H, m), 4.0 ~ 4.4 (3H,
m), 4.95 (1H, t, J = 8.6Hz), 5.2 ~ 5.6 (2H, m), 6.49 (1H, d,
J = 15Hz), 6.80 (1H, d, J = 8.3Hz), 6.92 (1H, d, J = 7.3Hz),
7.04 (1H, s), 7.49 (1H, d, J = 15Hz), 7.67 (2H, d, J = 8.9Hz),
8.24 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0069】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(3,4
−ジヒドロキシシンナモイル)−2−ジメチルアミノカ
ルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(258mg)をテトラヒドロフラン(1
3.0ml)、0.1M−リン酸緩衝液(pH7.0,1
3.0ml)、に溶かし10%パラジウム炭素(250m
g)を加え、室温下常圧で1時間水素添加した。触媒を
濾別し、濾液を塩化メチレンで3回洗浄、水層中の有機
溶媒を減圧下留去し、メンブランフィルターで濾過、濾
液をCHP−20Pポリマーによるカラムクロマトグラ
フィーに付し、2%テトラヒドロフラン水溶液による溶
出分画を凍結乾燥することにより白色アモルファスとし
て(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−3−
〔{1−(3,4−ジヒドロキシシンナモイル)−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イルチ
オ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (3,4
-Dihydroxycinnamoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-
6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (258 mg) was added to tetrahydrofuran (1
3.0 ml), 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0, 1)
3.0 ml), dissolved in 10% palladium on carbon (250 m
g) was added and hydrogenated at room temperature and atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, filtered through a membrane filter, and the filtrate was subjected to column chromatography with CHP-20P polymer and 2% tetrahydrofuran. The fraction eluted with the aqueous solution was freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-
[{1- (3,4-dihydroxycinnamoyl) -2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylic acid was obtained.

【0070】UVmax nm (H2O) : 218(sh), 245(sh),
297;
UV max nm (H 2 O): 218 (sh), 245 (sh),
297;

【0071】IRmax cm-1(KBr) : 3420, 1739, 1634,
1585, 1390, 1289;
IR max cm -1 (KBr): 3420, 1739, 1634,
1585, 1390, 1289;

【0072】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=6.9H
z), 1.29(3H,d,J=6.6Hz), 1.83(1H,m), 2.85(1H,m), 2.
97(3H,s), 3.19(3H,s), 6.70(1H,d,J=15.5Hz), 6.94(1
H,d,J=8.3Hz), 7.14(1H,dd,J=8.3Hzおよび2.0Hz), 7.22
(1H,d,J=2.0Hz), 7.44(1H,d,J=15.5Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.29 (3H, d, J = 6.6Hz), 1.83 (1H, m), 2.85 (1H, m), 2.
97 (3H, s), 3.19 (3H, s), 6.70 (1H, d, J = 15.5Hz), 6.94 (1
H, d, J = 8.3Hz), 7.14 (1H, dd, J = 8.3Hz and 2.0Hz), 7.22
(1H, d, J = 2.0Hz), 7.44 (1H, d, J = 15.5Hz).

【0073】実施例3Example 3

【化128】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(772mg)と(2S,4S)−1−{(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ)ベン
ゾイル}−2−ジメチルアミノカルボニル−4−メルカ
プトピロリジン(547mg)とを乾燥アセトニトリル
(6ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にジイソプロピ
ルエチルアミン(168mg)を加え、そのまま50分間
攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、2.5%リン
酸一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム
と炭酸ナトリウムで乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製することで(4R,
5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベン
ジル−3−〔{1−(2−ヒドロキシ−3−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)ベンゾイル)−2−ジメチル
アミノカルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−
メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−
カルボキシレート(794mg)を得た。
[Chemical 128] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (772 mg) and (2S, 4S) -1-{(2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} -2- Dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (547 mg) was dissolved in dry acetonitrile (6 ml), diisopropylethylamine (168 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream, and the mixture was stirred for 50 minutes as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, washed with brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, removed of the solvent, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R,
5S, 6S, 8R, 2 ′S, 4 ′S) -p-Nitrobenzyl-3-[{1- (2-hydroxy-3- (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine } -4-ylthio] -4-
Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-
The carboxylate (794 mg) was obtained.

【0074】IRmax cm-1(neat) : 3375(br), 1758, 1
697, 1627, 1512, 1338, 1250;
IR max cm -1 (neat): 3375 (br), 1758, 1
697, 1627, 1512, 1338, 1250;

【0075】NMRδppm(CDCl3) : 0.20(6H,s), 1.00
(9H,s), 1.25(3H,d,J=6.3Hz), 1.34(3H,d,J=6.3Hz), 2.
71(1H,m), 3.01(3H,s), 3.19(3H,s), 3.5 〜4.35(5H,
m),5.0 〜5.6(3H,m), 6.75(1H,t,J=7.9Hz), 6.94(1H,d,
J=7.9Hz), 7.00(1H,d,J=5.9Hz), 7.65(2H,d,J=8.9Hz),
8.23(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.20 (6H, s), 1.00
(9H, s), 1.25 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.34 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.
71 (1H, m), 3.01 (3H, s), 3.19 (3H, s), 3.5 ~ 4.35 (5H,
m), 5.0 to 5.6 (3H, m), 6.75 (1H, t, J = 7.9Hz), 6.94 (1H, d,
J = 7.9Hz), 7.00 (1H, d, J = 5.9Hz), 7.65 (2H, d, J = 8.9Hz),
8.23 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0076】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(2−ヒ
ドロキシ−3−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)ベ
ンゾイル)−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(741
mg)をテトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、氷冷下
で酢酸(173mg)を加え、次いで1M−フッ化テトラ
ブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液(0.96
ml)を滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応液を酢
酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム(242mg)の
水溶液を加えて中和し、有機層を食塩水洗し、硫酸マグ
ネシウム乾燥、除媒することにより(4R,5S,6
S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−3
−〔{1−(2,3−ジヒドロキシベンゾイル)−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イルチ
オ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレートを得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (2-hydroxy-3- (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl -6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (741
mg) was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml), acetic acid (173 mg) was added under ice cooling, and then a 1 M tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (0.96) was added.
ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (242 mg), and the organic layer was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated (4R , 5S, 6
S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3
-[{1- (2,3-dihydroxybenzoyl) -2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylate was obtained.

【0077】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1762, 1
700(br), 1634, 1518, 1344 ;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1762, 1
700 (br), 1634, 1518, 1344;

【0078】NMRδppm(CDCl3) : 1.23(3H,d,J=7.3H
z), 1.34(3H,d,J=7.3Hz), 2.76(1H,m), 3.00(3H,s), 3.
17(3H,s), 3.5 〜4.3(5H,m), 5.1〜5.6(3H,m), 6.80(1
H,t,J=7.9Hz), 6.92(1H,d,J=6.3Hz), 7.01(1H,d,J=7.9H
z), 7.65(2H,d,J=8.9Hz),8.23(2H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.23 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.34 (3H, d, J = 7.3Hz), 2.76 (1H, m), 3.00 (3H, s), 3.
17 (3H, s), 3.5 ~ 4.3 (5H, m), 5.1 ~ 5.6 (3H, m), 6.80 (1
H, t, J = 7.9Hz), 6.92 (1H, d, J = 6.3Hz), 7.01 (1H, d, J = 7.9H
z), 7.65 (2H, d, J = 8.9Hz), 8.23 (2H, d, J = 8.9Hz).

【0079】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔{1−(2,3
−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(300mg)をテトラヒドロフラン(15ml)、
0.1Mリン酸緩衝液(15ml)に溶かし、10%パラ
ジウム炭素(300mg)を加え、室温下、常圧で1時間
水素添加を行った。触媒を濾別し、濾液を塩化メチレン
で3回洗浄、水層中の有機溶媒を減圧下留去し、メンブ
ランフィルターで濾過した。濾液をCHP−20Pポリ
マーによるカラムクロマトグラフィーに付し、2〜4%
テトラヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結
乾燥することで白色アモルファスとして(4R,5S,
6S,8R,2’S,4’S)−3−〔{1−(2,3
−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン)−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3-[{1- (2,3
-Dihydroxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (300 mg) in tetrahydrofuran (15 ml),
It was dissolved in 0.1 M phosphate buffer (15 ml), 10% palladium carbon (300 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed with methylene chloride three times, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and the mixture was filtered with a membrane filter. The filtrate was subjected to column chromatography with CHP-20P polymer, 2-4%
Fractions eluted with an aqueous tetrahydrofuran solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S,
6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-[{1- (2,3
-Dihydroxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin) -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0080】UVmax nm (H2O) : 297;UV max nm (H 2 O): 297;

【0081】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1752, 16
34, 1398, 1265;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1752, 16
34, 1398, 1265;

【0082】NMRδppm(D 2 O) : 1.18(3H,d,J=7.3H
z), 1.31(3H,d,J=6.3Hz), 1.88(1H,m), 2.86(1H,m), 3.
01(3H,s), 3.22(3H,s), 6.66(1H,dd,J=7.6Hzおよび1.3H
z),6.86(1H,t,J=7.6Hz), 7.00(1H,dd,J=7.6Hzおよび1.3
Hz).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.18 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.31 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.88 (1H, m), 2.86 (1H, m), 3.
01 (3H, s), 3.22 (3H, s), 6.66 (1H, dd, J = 7.6Hz and 1.3H
z), 6.86 (1H, t, J = 7.6Hz), 7.00 (1H, dd, J = 7.6Hz and 1.3
Hz).

【0083】実施例4Example 4

【化129】 a)(4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p
−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン−4−イルチオ)−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(8.35
g)とジメチルアミノピリジン(392mg)を乾燥塩化
メチレン(40ml)に溶かし、ジイソプロピルエチルア
ミン(2.48g)の乾燥塩化メチレン(7ml)溶液を
加え、窒素気流中、氷冷下に3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)ベンゾイルクロリド(10.5mm
ol)の乾燥塩化メチレン(32ml)溶液を滴下し、氷冷
で1時間さらに室温で一夜反応した。食塩水洗し、硫酸
マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製することで(4R,5S,
6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロベンジル−
3−(1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−
ジメチルアミノカルボニルピロリジン−4−イルチオ)
−4−メチル−6−〔1−{3,4−ジ(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)ベンゾイル}オキシエチル〕−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレート(3.34g)を得た。
[Chemical formula 129] a) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p
-Nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] ] Hept-
2-en-7-one-2-carboxylate (8.35
g) and dimethylaminopyridine (392 mg) were dissolved in dry methylene chloride (40 ml), and a solution of diisopropylethylamine (2.48 g) in dry methylene chloride (7 ml) was added. (T-Butyldimethylsilyloxy) benzoyl chloride (10.5mm
ol) in dry methylene chloride (32 ml) was added dropwise, and the mixture was reacted with ice for 1 hour and further at room temperature overnight. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, removed of the solvent, and the residue is purified by silica gel column chromatography (4R, 5S,
6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-
3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-
Dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio)
-4-Methyl-6- [1- {3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} oxyethyl] -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylate (3.34 g) was obtained.

【0084】IRmax cm-1(neat) : 1777, 1708, 1653,
1599, 1515, 1415, 1404, 1346,1298, 1252, 1207, 11
74, 1135, 1111;
IR max cm -1 (neat): 1777, 1708, 1653,
1599, 1515, 1415, 1404, 1346, 1298, 1252, 1207, 11
74, 1135, 1111;

【0085】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.20(3H,s), 0.21
(3H,s), 0.22(6H,s), 0.98(18H,s),1.27(3H,m), 1.52(3
H,m), 1.94(1H,m), 2.72(1H,m), 2.93〜3.10(6H,m), 3.
3 〜3.8(3H,m), 4.0〜4.2(1H,m), 4.32(1H,m), 4.72(1
H,m), 5.03 〜5.51(5H,m),6.84(1H,d,J=7.9Hz), 7.4 〜
7.7(6H,m), 8.18 〜8.23(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 0.20 (3H, s), 0.21
(3H, s), 0.22 (6H, s), 0.98 (18H, s), 1.27 (3H, m), 1.52 (3
H, m), 1.94 (1H, m), 2.72 (1H, m), 2.93 to 3.10 (6H, m), 3.
3 ~ 3.8 (3H, m), 4.0 ~ 4.2 (1H, m), 4.32 (1H, m), 4.72 (1
H, m), 5.03 ~ 5.51 (5H, m), 6.84 (1H, d, J = 7.9Hz), 7.4 ~
7.7 (6H, m), 8.18 ~ 8.23 (4H, m).

【0086】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−{3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)ベンゾイル}オキシエチル〕−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(1.0g)をテトラヒドロフラン(12
ml)に溶かし、氷冷下で酢酸(339mg)を加え、次い
で1M−フッ化テトラブチルアンモニウムテトラヒドロ
フラン溶液(1.9ml)を滴下した。室温で1時間攪拌
した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリ
ウム(475mg)の水溶液を加えて中和し、有機層を水
洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製することで(4
R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロ
ベンジル−3−(1−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン−4−
イルチオ)−4−メチル−6−〔1−(3,4−ジヒド
ロキシベンゾイル)オキシエチル〕−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(316mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- {3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzoyl} oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (1.0 g ) To tetrahydrofuran (12
ml), acetic acid (339 mg) was added under ice-cooling, and then 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (1.9 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (475 mg), the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. By purifying by chromatography (4
R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-Nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine-4-
Ilthio) -4-methyl-6- [1- (3,4-dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (316 mg) Got

【0087】IRmax cm-1(neat) : 3300(br), 1764, 1
700, 1640, 1633, 1601, 1514, 1434,1400, 1342, 128
7, 1206, 1177, 1107;
IR max cm -1 (neat): 3300 (br), 1764, 1
700, 1640, 1633, 1601, 1514, 1434, 1400, 1342, 128
7, 1206, 1177, 1107;

【0088】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.28(3H,m), 1.49
(3H,m), 2.72(1H,m), 2.94 〜3.17(6H,m), 3.4 〜3.6
(2H,m), 4.12(1H,m), 4.33(1H,m), 4.79(1H,m), 4.89
〜5.50(5H,m), 6.80〜6.88(1H,m), 7.10(1H,d,J=8.2H
z), 7.37〜7.65(5H,m), 8.1 〜8.2(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 1.28 (3H, m), 1.49
(3H, m), 2.72 (1H, m), 2.94 ~ 3.17 (6H, m), 3.4 ~ 3.6
(2H, m), 4.12 (1H, m), 4.33 (1H, m), 4.79 (1H, m), 4.89
~ 5.50 (5H, m), 6.80 ~ 6.88 (1H, m), 7.10 (1H, d, J = 8.2H
z), 7.37 ~ 7.65 (5H, m), 8.1 ~ 8.2 (4H, m).

【0089】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−(1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボ
ニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−(3,4−ジヒドロキシベンゾイル)オキシエチ
ル〕−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレート(33mg)をテト
ラヒドロフラン(1.5ml)、0.1Mリン酸緩衝液
(pH7.0、1.5ml)に溶かし、10%パラジウム
炭素(41mg)を加え、室温下、常圧で1時間水素添加
を行った。触媒を濾別し、濾液を塩化メチレンで3回洗
浄、水層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブラン
フィルターで濾過した。濾液をCHP−20Pポリマー
によるカラムクロマト精製に付し、2〜16%テトラヒ
ドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥する
ことで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−(2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン−4−イルチオ)−4−メチル−6−
〔1−(3,4−ジヒドロキシベンゾイル)オキシエチ
ル〕−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- (1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (33 mg) was added to tetrahydrofuran (1.5 ml), 0 It was dissolved in 1M phosphate buffer (pH 7.0, 1.5 ml), 10% palladium carbon (41 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed 3 times with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and then filtered with a membrane filter. The filtrate was subjected to column chromatographic purification with CHP-20P polymer, and the elution fractions with a 2 to 16% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and lyophilized to give white amorphous (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3- (2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidin-4-ylthio) -4-methyl-6-
[1- (3,4-Dihydroxybenzoyl) oxyethyl] -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0090】UVmax nm (H 2 O) : 262, 294;UV max nm (H 2 O): 262, 294;

【0091】IRmax cm-1(KBr) : 3440(br), 1758, 16
02, 1394, 1282, 1223;
IR max cm -1 (KBr): 3440 (br), 1758, 16
02, 1394, 1282, 1223;

【0092】NMRδppm (D2 O) : 1.25(3H,m), 1.47
(3H,d,J=4.3Hz), 2.99(3H,s), 3.08(3H,s), 5.50(1H,
m), 6.91(1H,m), 7.55(2H,m).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.25 (3H, m), 1.47
(3H, d, J = 4.3Hz), 2.99 (3H, s), 3.08 (3H, s), 5.50 (1H,
m), 6.91 (1H, m), 7.55 (2H, m).

【0093】実施例5Example 5

【化130】 a)(4R,5R,6S,8R)−アリル−3−ジフェ
ニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−(1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(154mg)とジイソプロピルエチルアミン(4
7mg)の乾燥アセトニトリル(3ml) 溶液に、窒素気流
中、氷冷下に(2S,4S)−1−(4,5−ジアリル
オキシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカ
ルボニル−4−メルカプトピロリジン(102mg)の乾
燥アセトニトリル(3ml) 溶液を加え、そのまま一夜反
応した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗、食塩水洗
し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで乾燥、除媒
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製することで(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(88mg)を得た。
[Chemical 130] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -allyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6- (1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (154 mg) and diisopropylethylamine (4
7 mg) in a solution of dry acetonitrile (3 ml) in a nitrogen stream under ice-cooling (2S, 4S) -1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercapto. A solution of pyrrolidine (102 mg) in dry acetonitrile (3 ml) was added, and the mixture was reacted overnight as it was. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed with water, brine, dried over magnesium sulfate and sodium carbonate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S). ,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (88 mg) was obtained.

【0094】IRmax cm-1(neat) : 1768, 1700, 1644,
1507, 1320, 1250, 1207, 1140;
IR max cm -1 (neat): 1768, 1700, 1644,
1507, 1320, 1250, 1207, 1140;

【0095】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.13(9H,s), 1.21
(3H,d,J=7.3Hz), 1.26(3H,d,J=6.3Hz), 1.93(1H,m), 2.
64(1H,m), 2.8〜3.4(4H,m), 2.92(3H,s), 3.06(3H,s),
3.50〜4.05(4H,m), 4.05(1H,dd,J=2.6Hzおよび9.2Hz),
4.19(1H,m), 4.50〜4.85(6H,m), 5.20〜5.55(6H,m), 5.
85〜6.20(3H,m), 7.10(1H,s), 8.04(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.13 (9H, s), 1.21
(3H, d, J = 7.3Hz), 1.26 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.93 (1H, m), 2.
64 (1H, m), 2.8 ~ 3.4 (4H, m), 2.92 (3H, s), 3.06 (3H, s),
3.50 ~ 4.05 (4H, m), 4.05 (1H, dd, J = 2.6Hz and 9.2Hz),
4.19 (1H, m), 4.50 ~ 4.85 (6H, m), 5.20 ~ 5.55 (6H, m), 5.
85 ~ 6.20 (3H, m), 7.10 (1H, s), 8.04 (1H, s).

【0096】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(88mg)をテトラヒドロフラン
(1.6ml) に溶かし、氷冷下で酢酸(31mg)を加
え、次いで1M−フッ化テトラブチルアンモニウムテト
ラヒドロフラン溶液(0.13ml) を滴下した。1時間
攪拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナ
トリウム(55mg)の水溶液を加えて中和し、有機層を
水洗および食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒す
ることにより(4R,5S,6S,8R,2’S,4’
S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオキシ
−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(73mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (88 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (1.6 ml), acetic acid (31 mg) was added under ice-cooling, and then 1M-tetrabutylammonium fluoride tetrahydrofuran solution (0.13 ml) was added dropwise. After stirring for 1 hour, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, neutralized by adding an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate (55 mg), and the organic layer was washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated (4R , 5S, 6S, 8R, 2'S, 4 '
S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (73 mg) was obtained.

【0097】IRmax cm-1(neat) : 3350(br), 1760, 1
690, 1633, 1504, 1315;
IR max cm -1 (neat): 3350 (br), 1760, 1
690, 1633, 1504, 1315;

【0098】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.20(3H,d,J=7.3H
z), 1.35(3H,d,J=6.3Hz), 1.89(1H,m), 2.93(3H,s), 3.
06(3H,s), 3.21(1H,dd,J=2.6Hzおよび7.3Hz), 3.55〜3.
90(2H,m), 3.90〜4.30(2H,m), 4.50〜4.90(6H,m), 5.15
〜5.55(6H,m), 5.85〜6.20(3H,m), 7.14(1H,s), 8.04(1
H,s).
NMR δppm (CDCl 3 ): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.35 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.89 (1H, m), 2.93 (3H, s), 3.
06 (3H, s), 3.21 (1H, dd, J = 2.6Hz and 7.3Hz), 3.55 ~ 3.
90 (2H, m), 3.90 ~ 4.30 (2H, m), 4.50 ~ 4.90 (6H, m), 5.15
~ 5.55 (6H, m), 5.85 ~ 6.20 (3H, m), 7.14 (1H, s), 8.04 (1
H, s).

【0099】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−2−ピリジル)メチル−2−ジメチルアミノカル
ボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(85mg)をモノクロロベンゼン(2ml) に溶か
し、窒素気流中、氷冷下にアニリン(0.124ml)お
よびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(4
7mg)を加えて45分間攪拌した。反応液に0.02M
リン酸緩衝液(pH=7.0)を加えて分液し、水層を
塩化メチレンで洗浄し、水層中の有機溶媒を減圧下留去
した後、水層中の有機溶媒を減圧化留去し、CHP−2
0Pポリマーによるカラムクロマトグラフィーに付し、
2〜8%テトラヒドロフラン水溶液による溶出分画を凍
結乾燥することにより白色アモルファスとして(4R,
5S,6S,8R,2’S,4’S)−3−〔{1−
(5−ヒドロキシ−4−ピリドン−2−イル)メチル−
2−ジメチルアミノカルボニルピロリジン}−4−イル
チオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7
−オン−2−カルボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (85 mg) was dissolved in monochlorobenzene (2 ml), and aniline (0.124 ml) and tetrakistriphenylphosphine palladium under nitrogen cooling in a nitrogen stream. (4
7 mg) was added and stirred for 45 minutes. 0.02M in the reaction solution
Phosphate buffer (pH = 7.0) was added for liquid separation, the aqueous layer was washed with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and then the organic solvent in the aqueous layer was reduced in pressure. Distilled off, CHP-2
Subjected to column chromatography with 0P polymer,
The fraction eluted with a 2 to 8% tetrahydrofuran aqueous solution was lyophilized to give a white amorphous substance (4R,
5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -3-[{1-
(5-hydroxy-4-pyridon-2-yl) methyl-
2-Dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl)-
1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7
-On-2-carboxylic acid was obtained.

【0100】UVmax nm (H2 O) : 277, 302(sh);UV max nm (H 2 O): 277, 302 (sh);

【0101】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 1756, 16
35, 1558, 1506, 1394, 1260;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 1756, 16
35, 1558, 1506, 1394, 1260;

【0102】NMRδppm (D2O) : 1.20(3H,d,J=7.3H
z), 1.29(3H,d,J=6.3Hz), 1.77(1H,m),2.85(3H,s), 3.0
7(3H,s), 2.85 〜3.50(6H,m), 3.92(2H,s), 4.16(2H,
m), 4.23(1H,m), 6.62(1H,s), 7.71(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.20 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.29 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.77 (1H, m), 2.85 (3H, s), 3.0
7 (3H, s), 2.85 ~ 3.50 (6H, m), 3.92 (2H, s), 4.16 (2H,
m), 4.23 (1H, m), 6.62 (1H, s), 7.71 (1H, s).

【0103】実施例6Example 6

【化131】 a)(4R,5R,6S,8R)−アリル−3−ジフェ
ニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−(1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(114mg)とジイソプロピルエチルアミン(3
5mg)の乾燥アセトニトリル(1ml)溶液に、窒素気流
中、氷冷下に(2S,4S)−1−(4,5−ジアリル
オキシ−3−クロロフェニル)メチル−2−ジメチルア
ミノカルボニル−4−メルカプトピロリジン(93mg)
の乾燥アセトニトリル(1ml)溶液を加え、1時間反応
した。1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ
−7−エン(DBU)(0.039ml)を加え、さらに
1時間反応した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗
し、硫酸マグネシウムと炭酸ナトリウムで乾燥、除媒し
た。残渣を酢酸エチル(10ml)に再び溶かし、氷冷下
1N塩酸(0.5ml)を加え、5分間激しく攪拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水
洗、食塩水洗し、乾燥、除媒し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製することで(4R,5
S,6S,8R,2’S,4’S)−アリル−3−
〔{1−(4,5−ジアリルオキシ−3−クロロフェニ
ル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニルピロリジ
ン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。
[Chemical 131] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -allyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6- (1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (114 mg) and diisopropylethylamine (3
5 mg) in dry acetonitrile (1 ml) in a nitrogen stream under ice-cooling (2S, 4S) -1- (4,5-diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercapto. Pyrrolidine (93mg)
A dry acetonitrile (1 ml) solution of was added and reacted for 1 hour. 1,8-Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) (0.039 ml) was added, and the reaction was further continued for 1 hour. Then, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water and washed with magnesium sulfate. It was dried with sodium carbonate and the solvent was removed. The residue was redissolved in ethyl acetate (10 ml), 1N hydrochloric acid (0.5 ml) was added under ice cooling, and the mixture was vigorously stirred for 5 minutes.
The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with sodium hydrogen carbonate water, brine, dried and desolvated, and the residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5
S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -allyl-3-
[{1- (4,5-Diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3. 2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0104】IRmax cm-1(neat) : 3350, 1758, 1688,
1627, 1475, 1412, 1312, 1265,1198, 1125;
IR max cm -1 (neat): 3350, 1758, 1688,
1627, 1475, 1412, 1312, 1265, 1198, 1125;

【0105】NMRδppm (CDCl 3 ): 1.22(3H,d,J=7.3
Hz), 1.34(3H,d,J=6.3Hz), 1.97(1H,m), 2.66(1H,m),
2.81(1H,dd,J=9.9Hzおよび7.3Hz), 2.90(3H,s), 3.02(3
H,s),3.13(1H,dd,J=9.6Hzおよび4.6Hz), 3.20(1H,dd,J=
7.3Hzおよび2.4Hz), 3.36(1H,m), 3.41(1H,d,J=13.2H
z), 3.59(1H,m), 3.70(1H,m), 3.83(1H,d,J=13.2Hz),4.
17(2H,m), 4.56(4H,m), 4.67(1H,m), 4.80(1H,m), 5.20
〜5.40(6H,m), 5.90〜6.24(3H,m), 6.88(2H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.22 (3H, d, J = 7.3
Hz), 1.34 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.97 (1H, m), 2.66 (1H, m),
2.81 (1H, dd, J = 9.9Hz and 7.3Hz), 2.90 (3H, s), 3.02 (3
H, s), 3.13 (1H, dd, J = 9.6Hz and 4.6Hz), 3.20 (1H, dd, J =
7.3Hz and 2.4Hz), 3.36 (1H, m), 3.41 (1H, d, J = 13.2H
z), 3.59 (1H, m), 3.70 (1H, m), 3.83 (1H, d, J = 13.2Hz), 4.
17 (2H, m), 4.56 (4H, m), 4.67 (1H, m), 4.80 (1H, m), 5.20
~ 5.40 (6H, m), 5.90 ~ 6.24 (3H, m), 6.88 (2H, m).

【0106】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−アリル−3−〔{1−(4,5−ジアリルオ
キシ−3−クロロフェニル)メチル−2−ジメチルアミ
ノカルボニルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチ
ル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート(90mg)をモノクロロベンゼン(2ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下にアニリン(0.181
ml)およびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム(47mg)を加えて50分間攪拌した。反応液に0.
1Mリン酸緩衝液(pH=7.0)を加えて分液し、水
層を塩化メチレンで2回洗浄し、水層中の有機溶媒を減
圧下留去し、CHP−20Pポリマーによるカラムクロ
マトグラフィーに付し、2〜4%テトラヒドロフラン水
溶液による溶出分画を凍結乾燥することにより白色アモ
ルファスとして(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−3−〔{1−(4,5−ジヒドロキシ−3−
クロロフェニル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニ
ルピロリジン}−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボン酸
を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -allyl-3-[{1- (4,5-diallyloxy-3-chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidin} -4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxy Ethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate (90 mg) was added to monochlorobenzene (2 ml).
Aniline (0.181
ml) and tetrakistriphenylphosphine palladium (47 mg) were added and stirred for 50 minutes. 0.
1M phosphate buffer (pH = 7.0) was added for liquid separation, the aqueous layer was washed twice with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, and column chromatography was performed using CHP-20P polymer. Then, the fraction eluted with a 2-4% aqueous tetrahydrofuran solution was freeze-dried to give a white amorphous product (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -3-[{1- (4,5-dihydroxy-3-
(Chlorophenyl) methyl-2-dimethylaminocarbonylpyrrolidine} -4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0107】UVmax nm (H2 O) : 297;UV max nm (H 2 O): 297;

【0108】IRmax cm-1(KBr) : 3380(br), 1754, 15
93, 1392, 1291;
IR max cm -1 (KBr): 3380 (br), 1754, 15
93, 1392, 1291;

【0109】NMRδppm (D2 O) : 1.19(3H,d,J=7.3H
z), 1.31(3H,d,J=6.6Hz), 1.71(1H,m),2.76(3H,s), 2.8
5(1H,m), 2.95(3H,s), 3.37(4H,m), 3.75(1H,d,J=12.5H
z),3.90(1H,m), 4.00(1H,d,J=12.5Hz), 4.22(3H,m), 6.
79(1H,s), 6.91(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.19 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.31 (3H, d, J = 6.6Hz), 1.71 (1H, m), 2.76 (3H, s), 2.8
5 (1H, m), 2.95 (3H, s), 3.37 (4H, m), 3.75 (1H, d, J = 12.5H
z), 3.90 (1H, m), 4.00 (1H, d, J = 12.5Hz), 4.22 (3H, m), 6.
79 (1H, s), 6.91 (1H, s).

【0110】前記実施例1〜6と同様の方法によって以
下の表2、表3、表4、表5−i及び表5−iiに示す
実施例7〜実施例60の化合物を得た。
The compounds of Examples 7 to 60 shown in the following Table 2, Table 3, Table 4, Table 5-i and Table 5-ii were obtained by the same method as in Examples 1 to 6 above.

【表19】 [Table 19]

【表20】 [Table 20]

【表21】 [Table 21]

【表22】 [Table 22]

【表23】 [Table 23]

【表24】 [Table 24]

【表25】 [Table 25]

【表26】 [Table 26]

【表27】 [Table 27]

【表28】 [Table 28]

【表29】 [Table 29]

【表30】 [Table 30]

【表31】 [Table 31]

【表32】 [Table 32]

【表33】 [Table 33]

【表34】 [Table 34]

【表35】 [Table 35]

【表36】 [Table 36]

【表37】 [Table 37]

【表38】 [Table 38]

【表39】 [Table 39]

【表40】 [Table 40]

【表41】 [Table 41]

【表42】 [Table 42]

【表43】 [Table 43]

【表44】 [Table 44]

【表45】 [Table 45]

【表46】 [Table 46]

【表47】 [Table 47]

【表48】 [Table 48]

【表49】 [Table 49]

【表50】 [Table 50]

【表51】 [Table 51]

【表52】 [Table 52]

【表53】 [Table 53]

【表54】 [Table 54]

【表55】 [Table 55]

【表56】 [Table 56]

【表57】 [Table 57]

【表58】 [Table 58]

【表59】 [Table 59]

【表60】 [Table 60]

【表61】 [Table 61]

【表62】 [Table 62]

【表63】 [Table 63]

【表64】 [Table 64]

【表65】 [Table 65]

【表66】 [Table 66]

【表67】 [Table 67]

【表68】 [Table 68]

【表69】 [Table 69]

【表70】 [Table 70]

【表71】 [Table 71]

【表72】 [Table 72]

【表73】 [Table 73]

【表74】 [Table 74]

【表75】 [Table 75]

【表76】 [Table 76]

【表77】 [Table 77]

【表78】 [Table 78]

【表79】 [Table 79]

【表80】 [Table 80]

【表81】 [Table 81]

【表82】 [Table 82]

【表83】 [Table 83]

【表84】 [Table 84]

【表85】 [Table 85]

【表86】 [Table 86]

【表87】 [Table 87]

【表88】 [Table 88]

【表89】 [Table 89]

【表90】 [Table 90]

【表91】 [Table 91]

【表92】 [Table 92]

【表93】 [Table 93]

【表94】 [Table 94]

【表95】 [Table 95]

【表96】 [Table 96]

【表97】 [Table 97]

【表98】 [Table 98]

【表99】 [Table 99]

【表100】 [Table 100]

【表101】 [Table 101]

【表102】 [Table 102]

【表103】 [Table 103]

【表104】 [Table 104]

【表105】 [Table 105]

【表106】 [Table 106]

【表107】 [Table 107]

【表108】 [Table 108]

【表109】 [Table 109]

【表110】 [Table 110]

【表111】 [Table 111]

【表112】 [Table 112]

【表113】 [Table 113]

【表114】 [Table 114]

【表115】 [Table 115]

【表116】 [Table 116]

【表117】 [Table 117]

【表118】 [Table 118]

【表119】 [Table 119]

【表120】 [Table 120]

【表121】 [Table 121]

【表122】 [Table 122]

【表123】 [Table 123]

【表124】 [Table 124]

【表125】 [Table 125]

【表126】 [Table 126]

【表127】 [Table 127]

【表128】 [Table 128]

【表129】 [Table 129]

【表130】 [Table 130]

【表131】 [Table 131]

【表132】 [Table 132]

【表133】 [Table 133]

【表134】 [Table 134]

【表135】 [Table 135]

【表136】 [Table 136]

【表137】 [Table 137]

【表138】 [Table 138]

【表139】 [Table 139]

【表140】 [Table 140]

【表141】 [Table 141]

【表142】 [Table 142]

【表143】 [Table 143]

【表144】 [Table 144]

【表145】 [Table 145]

【表146】 [Table 146]

【表147】 [Table 147]

【表148】 [Table 148]

【表149】 [Table 149]

【0111】実施例61Example 61

【化132】 a)(4R,5R,6S,8R)−p−ニトロベンジル
−3−ジフェニルホスホリルオキシ−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(356mg)を乾燥アセトニトリル(2.3ml)
に溶かし、窒素気流中、氷冷下に(2S,4S)−1−
p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(4,5−
ジアリルオキシピリジン−2−カルボニル)アミノメチ
ル−4−メルカプトピロリジン(270mg)の乾燥アセ
トニトリル(2.3ml)溶液を加え、次いでジイソプロ
ピルエチルアミン(77mg)を加え、そのまま2時間攪
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗、食塩水洗
し、硫酸マグネシウム−炭酸ナトリウム乾燥、除媒し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
することで(4R,5S,6S,8R,2’S,4’
S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−2−(4,5−ジアリルオキシ
ピリジン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジン−
4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−7−オン−2−カルボキシレート(302mg)を
得た。
[Chemical 132] a) (4R, 5R, 6S, 8R) -p-nitrobenzyl-3-diphenylphosphoryloxy-4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (356 mg) in dry acetonitrile (2.3 ml)
Dissolve in, and under ice cooling in a nitrogen stream (2S, 4S) -1-
p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-
A solution of diallyloxypyridine-2-carbonyl) aminomethyl-4-mercaptopyrrolidine (270 mg) in dry acetonitrile (2.3 ml) was added, then diisopropylethylamine (77 mg) was added, and the mixture was stirred for 2 hours as it was. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water, brine, dried over magnesium sulfate-sodium carbonate, and the solvent was removed.
The residue was purified by silica gel column chromatography (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4 '
S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-diallyloxypyridine-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidine-
4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-
En-7-one-2-carboxylate (302 mg) was obtained.

【0112】IRmax cm-1(neat) : 3370(br), 1762, 1
698, 1680(sh), 1670(sh), 1516,1502(sh), 1341, 131
6, 1272, 1202;
IR max cm -1 (neat): 3370 (br), 1762, 1
698, 1680 (sh), 1670 (sh), 1516,1502 (sh), 1341, 131
6, 1272, 1202;

【0113】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.27(3H,d,J=6.9H
z), 1.37(3H,d,J=6.3Hz), 2.56(1H,m), 3.2 〜4.4(10H,
m), 4.72(4H,m), 5.1 〜5.6(8H,m), 5.95 〜6.20(2H,
m),7.45〜7.80(5H,m), 7.95〜8.45(5H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.27 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.37 (3H, d, J = 6.3Hz), 2.56 (1H, m), 3.2 ~ 4.4 (10H,
m), 4.72 (4H, m), 5.1 ~ 5.6 (8H, m), 5.95 ~ 6.20 (2H,
m), 7.45 ~ 7.80 (5H, m), 7.95 ~ 8.45 (5H, m).

【0114】b)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−(4,5−ジアリルオ
キシピリジン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジ
ン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレート(249m
g)を乾燥塩化メチレン(5.6ml)に溶かし、窒素気
流中、ジメドン(157mg)を加え、氷冷下にテトラキ
ストリフェニルホスフィンパラジウム(32mg)を加え
た。室温まで昇温し、40分間攪拌した後除媒して残渣
を薄層クロマトグラフィーにより精製することで(4
R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニトロ
ベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−2−(5−ヒドロキシ−4−ピリドン−2−カル
ボニルアミノメチル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4
−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(156mg)を得た。
B) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4,5-diallyloxypyridin-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl- 6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-
2-en-7-one-2-carboxylate (249m
g) was dissolved in dry methylene chloride (5.6 ml), dimedone (157 mg) was added in a nitrogen stream, and tetrakistriphenylphosphine palladium (32 mg) was added under ice cooling. The temperature was raised to room temperature, the mixture was stirred for 40 minutes, the solvent was removed, and the residue was purified by thin layer chromatography (4
R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (5-hydroxy-4-pyridone-2-carbonylaminomethyl) ) Pyrrolidin-4-ylthio] -4
-Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (156 mg) was obtained.

【0115】IRmax cm-1(neat) : 3320(br), 1762, 1
695, 1518, 1342;
IR max cm -1 (neat): 3320 (br), 1762, 1
695, 1518, 1342;

【0116】NMRδppm(CDCl3 -CD 3 OD(9:1)) : 1.2
3(3H,d,J=7.3Hz), 1.33(3H,d,J=5.9Hz), 1.85(1H,m),
2.63(1H,m), 5.1〜5.6(4H,m), 7.4〜7.8(5H,m), 8.05
〜8.35(5H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 -CD 3 OD (9: 1)): 1.2
3 (3H, d, J = 7.3Hz), 1.33 (3H, d, J = 5.9Hz), 1.85 (1H, m),
2.63 (1H, m), 5.1 ~ 5.6 (4H, m), 7.4 ~ 7.8 (5H, m), 8.05
~ 8.35 (5H, m).

【0117】c)(4R,5S,6S,8R,2’S,
4’S)−p−ニトロベンジル−3−〔1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−(5−ヒドロキシ−4
−ピリドン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリジン
−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキシ
エチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−7−オン−2−カルボキシレート(114mg)
をテトラヒドロフラン(6ml)、0.1Mリン酸緩衝液
(pH=7.0,6ml)に溶かし、10%パラジウム炭
素(120mg)を加え、室温下、常圧で1.5時間水素
添加を行った。触媒を濾別、濾液を塩化メチレンで洗浄
し、水層中の有機溶媒を減圧下留去した後、メンブラン
フィルターにて濾過、濾液をCHP−20Pポリマーに
よるカラムクロマトグラフィーにて精製し、2%テトラ
ヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾燥す
ることで白色アモルファスとして(4R,5S,6S,
8R,2’S,4’S)−3−〔2−(5−ヒドロキシ
−4−ピリドン−2−カルボニルアミノメチル)ピロリ
ジン−4−イルチオ〕−4−メチル−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボン酸を得た。
C) (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S,
4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (5-hydroxy-4)
-Pyridone-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2
-En-7-one-2-carboxylate (114 mg)
Was dissolved in tetrahydrofuran (6 ml) and 0.1 M phosphate buffer (pH = 7.0, 6 ml), 10% palladium carbon (120 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1.5 hours. .. The catalyst was filtered off, the filtrate was washed with methylene chloride, the organic solvent in the aqueous layer was distilled off under reduced pressure, then filtered through a membrane filter, and the filtrate was purified by column chromatography with CHP-20P polymer to yield 2%. Fractions eluted with an aqueous tetrahydrofuran solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6S,
8R, 2 ′S, 4 ′S) -3- [2- (5-hydroxy-4-pyridone-2-carbonylaminomethyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-1-azabicyclo [3.2. 0] hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid was obtained.

【0118】UVmax nm (H2O) : 295;UV max nm (H 2 O): 295;

【0119】IRmax cm-1(KBr) : 3358(br), 1752, 16
54, 1560. 1389;
IR max cm -1 (KBr): 3358 (br), 1752, 16
54, 1560. 1389;

【0120】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=6.6H
z), 1.30(3H,d,J=6.3Hz), 1.78(1H,m), 2.76(1H,m), 3.
25〜4.35(10H,m), 7.12(1H,s), 7.76(1H,s).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 6.6H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.78 (1H, m), 2.76 (1H, m), 3.
25 ~ 4.35 (10H, m), 7.12 (1H, s), 7.76 (1H, s).

【0121】前記実施例61と同様の方法によって、以
下の表6に示す実施例62〜66の化合物を得た。
By the same method as in Example 61, the compounds of Examples 62 to 66 shown in Table 6 below were obtained.

【表150】 [Table 150]

【表151】 [Table 151]

【表152】 [Table 152]

【表153】 [Table 153]

【表154】 [Table 154]

【表155】 [Table 155]

【表156】 [Table 156]

【表157】 [Table 157]

【表158】 [Table 158]

【表159】 [Table 159]

【表160】 [Table 160]

【表161】 [Table 161]

【0122】実施例67Example 67

【化133】 (4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニ
トロベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−(4−メチルピペラジン−1−イルカル
ボニル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4−メチル−6
−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート(147mg)と1−ブロモアセチル−3,4−ジ
(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン(200mg)を
アセトン(3.0ml)に溶かし、室温下、10日間反応
した。溶媒を減圧下留去し、残渣をテトラヒドロフラン
(10.0ml)、0.1M−リン酸緩衝液(pH=7.
0,10.0ml)に溶かし、10%パラジウム炭素を加
え、室温下、常圧で1.5時間水素添加を行った。実施
例1と同様な後処理を行った後、CHP−20Pポリマ
ーによるカラムクロマトグラフィーにて精製し、8%テ
トラヒドロフラン水溶液による溶出分画を集め、凍結乾
燥することで白色アモルファスとして(4R,5S,6
S,8R,2’S,4’S)−3−〔2−(4−(3,
4−ジヒドロキシフェニルカルボニルメチル)−4−メ
チル−ピペラジニウム−1−イルカルボニル)ピロリジ
ン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。 UVmax nm (H2O) : 301;
[Chemical 133] (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2- (4-methylpiperazin-1-ylcarbonyl) pyrrolidine- 4-ylthio] -4-methyl-6
-(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate (147 mg) and 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (200 mg) in acetone (3.0 ml) And was reacted at room temperature for 10 days. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was tetrahydrofuran (10.0 ml) and 0.1M-phosphate buffer solution (pH = 7.
0.1% ml), 10% palladium-carbon was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1.5 hours. After performing the same post-treatment as in Example 1, the product was purified by column chromatography with a CHP-20P polymer, and the elution fractions with an 8% tetrahydrofuran aqueous solution were collected and freeze-dried to obtain white amorphous (4R, 5S, 6
S, 8R, 2'S, 4'S) -3- [2- (4- (3,
4-dihydroxyphenylcarbonylmethyl) -4-methyl-piperazinium-1-ylcarbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept −
2-En-7-one-2-carboxylate was obtained. UV max nm (H 2 O): 301;

【0123】IRmax cm-1(KBr) : 3402(br), 1758, 16
64, 1594. 1489, 1453, 1388, 1255,1208, 1090;
IR max cm -1 (KBr): 3402 (br), 1758, 16
64, 1594. 1489, 1453, 1388, 1255, 1208, 1090;

【0124】NMRδppm(D 2 O) : 1.22(3H,d,J=7.3H
z), 1.30(3H,d,J=6.9Hz), 3.46(3H,S), 6.64(1H,d,J=8.
3Hz), 7.24(2H,m).
NMR δ ppm (D 2 O): 1.22 (3H, d, J = 7.3H
z), 1.30 (3H, d, J = 6.9Hz), 3.46 (3H, S), 6.64 (1H, d, J = 8.
3Hz), 7.24 (2H, m).

【0125】実施例68Example 68

【化134】 (4R,5S,6S,8R,2’S,4’S)−p−ニ
トロベンジル−3−〔1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−((2−(4−ピリジル)エチル)メチ
ルアミノカルボニル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4
−メチル−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2
−カルボキシレート(248mg)と1−ブロモアセチル
−3,4−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(228mg)を乾燥塩化メチレン(4ml)と乾燥ジメチ
ルホルムアミド(2ml)の混合溶媒に溶かし、室温下、
10日間反応した。実施例5と同様にして水素添加、後
処理および精製することにより(4R,5S,6S,8
R,2’S,4’S)−3−〔2−((2−(1−
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボニルメチル)ピ
リジニウム−4−イル)エチル)メチルアミノカルボニ
ル)ピロリジン−4−イルチオ〕−4−メチル−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レートを得た。
[Chemical 134] (4R, 5S, 6S, 8R, 2'S, 4'S) -p-nitrobenzyl-3- [1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-((2- (4-pyridyl) ethyl) methylamino Carbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4
-Methyl-6- (1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2
-Carboxylate (248 mg) and 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (228 mg) were dissolved in a mixed solvent of dry methylene chloride (4 ml) and dry dimethylformamide (2 ml) at room temperature. ,
Reacted for 10 days. Hydrogenation, post-treatment and purification (4R, 5S, 6S, 8
R, 2'S, 4'S) -3- [2-((2- (1-
(3,4-Dihydroxyphenylcarbonylmethyl) pyridinium-4-yl) ethyl) methylaminocarbonyl) pyrrolidin-4-ylthio] -4-methyl-6-
(1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0126】UVmax nm (H 2 O) : 286;UV max nm (H 2 O): 286;

【0127】IRmax cm-1(KBr) : 3400(br), 2364, 17
52, 1654. 1560, 1508, 1280;
IR max cm -1 (KBr): 3400 (br), 2364, 17
52, 1654. 1560, 1508, 1280;

【0128】NMRδppm(D 2 O) : 0.95(3H,d,J=6.9H
z), 1.28(3H,d,J=6.6Hz), 3.04(3H,S), 6.89(1H,d,J=7.
9Hz), 7.2 〜7.5(2H,m), 8.09(2H,br.s), 8.70(2H, br.
s).
NMR δppm (D 2 O): 0.95 (3H, d, J = 6.9H
z), 1.28 (3H, d, J = 6.6Hz), 3.04 (3H, S), 6.89 (1H, d, J = 7.
9Hz), 7.2 ~ 7.5 (2H, m), 8.09 (2H, br.s), 8.70 (2H, br.
s).

【0129】参考例1Reference Example 1

【化135】 a)60%水素化ナトリウム(8.0g)を乾燥テトラ
ヒドロフラン(50ml)に懸濁した。窒素気流中、氷冷
し、乾燥テトラヒドロフラン(25ml)に溶かしたカテ
コール(5.5g)と乾燥ヘキサメチルホスホラミド
(60ml)を加えた。40℃で10分間加熱攪拌後、再
度氷冷し、p−ニトロベンジルブロミド(9.5g)の
乾燥テトラヒドロフラン(30ml)溶液を加えて10分
間攪拌した。反応液をベンゼンで希釈し、2.5%リン
酸一カリウム水溶液洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム
乾燥、除媒し、残渣を酢酸エチルで結晶化、濾取し、
1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン
(3.8g)を得た。
[Chemical 135] a) 60% sodium hydride (8.0 g) was suspended in dry tetrahydrofuran (50 ml). After cooling with ice in a nitrogen stream, catechol (5.5 g) dissolved in dry tetrahydrofuran (25 ml) and dry hexamethylphosphoramide (60 ml) were added. After heating and stirring at 40 ° C. for 10 minutes, the mixture was ice-cooled again, a solution of p-nitrobenzyl bromide (9.5 g) in dry tetrahydrofuran (30 ml) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. The reaction solution was diluted with benzene, washed with 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, washed with saline solution, dried over magnesium sulfate and removed of solvent. The residue was crystallized with ethyl acetate and collected by filtration.
1,2-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (3.8 g) was obtained.

【0130】IRmax cm-1(KBr) : 1608, 1511, 1453,
1343, 1259, 1218, 1128, 1047;
IR max cm -1 (KBr): 1608, 1511, 1453,
1343, 1259, 1218, 1128, 1047;

【0131】NMRδppm(CDCl3 ): 5.26(4H,s), 6.94
(4H,s), 7.62(4H,d,J=8.9Hz), 8.24(4H,d,J=8.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 5.26 (4H, s), 6.94
(4H, s), 7.62 (4H, d, J = 8.9Hz), 8.24 (4H, d, J = 8.9Hz).

【0132】b)窒素置換したフラスコに無水塩化アル
ミニウム(1.27g)を入れ、乾燥塩化メチレン(1
0ml)を加え、−10℃に冷却した。塩化アセチル(6
40μl)を加えて10分間攪拌し、次いで1,2−ジ
(p−ニトロベンジルオキシ)ベンゼン(2.78g)
の乾燥塩化メチレン(35ml)溶液を5分間かけて滴下
した。同温度で10分間攪拌した後、反応液を塩化メチ
レンで希釈し、0.1Mリン酸緩衝液(pH=7.0)
洗、炭酸水素ナトリウム水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒し、残渣をベンゼンで結晶化、濾取し、1−ア
セチル−3,4−ジ(p−ニトロベンジルオキシ)ベン
ゼン(2.81g)を得た。
B) Anhydrous aluminum chloride (1.27 g) was placed in a flask purged with nitrogen, and dried methylene chloride (1
0 ml) was added and the mixture was cooled to -10 ° C. Acetyl chloride (6
40 μl) and stirred for 10 minutes, then 1,2-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (2.78 g)
Of dry methylene chloride (35 ml) was added dropwise over 5 minutes. After stirring for 10 minutes at the same temperature, the reaction solution was diluted with methylene chloride, and 0.1M phosphate buffer solution (pH = 7.0)
Washing, washing with sodium hydrogen carbonate water, drying over magnesium sulfate, removal of the solvent, crystallization of the residue with benzene, and filtration to obtain 1-acetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (2.81 g). Obtained.

【0133】IRmax cm-1(KBr) : 1673, 1607, 1586,
1516, 1430, 1352, 1276, 1218,1151, 1040;
IR max cm -1 (KBr): 1673, 1607, 1586,
1516, 1430, 1352, 1276, 1218, 1151, 1040;

【0134】NMRδppm(CDCl3 ): 2.54(3H,s), 5.31
(2H,s), 5.34(2H,s), 6.92(1H,d,J=8.2Hz), 7.62(6H,
m), 8.27(4H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.54 (3H, s), 5.31
(2H, s), 5.34 (2H, s), 6.92 (1H, d, J = 8.2Hz), 7.62 (6H,
m), 8.27 (4H, m).

【0135】c)1−アセチル−3,4−ジ(p−ニト
ロベンジルオキシ)ベンゼン(5.0g)に乾燥テトラ
ヒドロフラン(350ml)を加え、60℃に加熱攪拌し
て溶解させ、無水塩化アルミニウム(150mg)を加え
た。ここに、乾燥テトラヒドロフラン(10ml)に溶か
した臭素(605μl)を5分間かけて加え、さらに同
温度で10分間攪拌した後、冷却した。反応液に0.0
1Mリン酸緩衝液(pH7.0,200ml)を加え、氷
冷下1時間攪拌した後結晶を濾取し、水、エタノール、
酢酸エチルで結晶を順次洗い、減圧下で乾燥させること
により1−ブロモアセチル−3,4−ジ(p−ニトロベ
ンジルオキシ)ベンゼン(3.8g)を得た。
C) To 1-acetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (5.0 g) was added dry tetrahydrofuran (350 ml), and the mixture was heated with stirring at 60 ° C. to dissolve it, and anhydrous aluminum chloride ( 150 mg) was added. Bromine (605 μl) dissolved in dry tetrahydrofuran (10 ml) was added thereto over 5 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 10 minutes and then cooled. 0.0 in the reaction solution
1M phosphate buffer (pH 7.0, 200 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour under ice cooling, and the crystals were collected by filtration, water, ethanol,
The crystals were washed successively with ethyl acetate and dried under reduced pressure to give 1-bromoacetyl-3,4-di (p-nitrobenzyloxy) benzene (3.8 g).

【0136】IRmax cm-1(KBr) : 1667, 1607, 1517,
1437, 1348, 1278, 1224, 1150,1108, 1037;
IR max cm -1 (KBr): 1667, 1607, 1517,
1437, 1348, 1278, 1224, 1150, 1108, 1037;

【0137】NMRδppm(CDCl3 ): 4.36(2H,s), 5.31
(2H,s), 5.35(2H,s), 6.95(1H,d,J=8.9Hz), 7.64(6H,
m), 8.27(4H,m).
NMR δppm (CDCl 3 ): 4.36 (2H, s), 5.31
(2H, s), 5.35 (2H, s), 6.95 (1H, d, J = 8.9Hz), 7.64 (6H,
m), 8.27 (4H, m).

【0138】参考例2Reference Example 2

【化136】 カフェイン酸(3.60g)、tert−ブチルジメチ
ルシリルクロリド(10.85g)およびイミダゾール
(6.12g)を乾燥ジメチルホルムアミド(20ml)
に溶かし、室温で一夜反応した。反応液をトルエンで希
釈し、水洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、除媒
した。残渣をメタノール(60ml)およびテトラヒドロ
フラン(60ml)に溶かし、氷冷下炭酸水素ナトリウム
(1.35g)の水(20ml)溶液を加え、室温で1時
間攪拌した。希塩酸を用いて反応液を酸性とした後、酢
酸エチルで抽出、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾燥、
除媒した。残渣をメタノールで結晶化、濾取して3,4
−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)けい皮酸
(7.37g)を得た。
[Chemical 136] Caffeic acid (3.60 g), tert-butyldimethylsilyl chloride (10.85 g) and imidazole (6.12 g) were dried over dimethylformamide (20 ml).
, And reacted overnight at room temperature. The reaction solution was diluted with toluene, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and desolvated. The residue was dissolved in methanol (60 ml) and tetrahydrofuran (60 ml), a solution of sodium hydrogen carbonate (1.35 g) in water (20 ml) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hr. The reaction solution was acidified with diluted hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, washed with brine, dried over magnesium sulfate,
Removed the medium. The residue was crystallized with methanol and collected by filtration 3,4
-Di (t-butyldimethylsilyloxy) cinnamic acid (7.37 g) was obtained.

【0139】IRmax cm-1(KBr) : 3320(br), 1690(s
h), 1680, 1630, 1504, 1282, 1250;
IR max cm -1 (KBr): 3320 (br), 1690 (s
h), 1680, 1630, 1504, 1282, 1250;

【0140】NMRδppm(CDCl3 ): 0.22(6H,s), 0,23
(6H,s), 0.99(9H,s), 1.00(9H,s),6.25(1H,d,J=16Hz),
6.83(1H,d,J=8.6Hz), 7.03(2H,s), 7.66(1H,d,J=16Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.22 (6H, s), 0.23
(6H, s), 0.99 (9H, s), 1.00 (9H, s), 6.25 (1H, d, J = 16Hz),
6.83 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.03 (2H, s), 7.66 (1H, d, J = 16Hz).

【0141】次の表7に示すtert−ブチルジメチル
シリルエーテルは、それぞれに対応するカテコール誘導
体を用いて参考例2と同様の方法により得た。
The tert-butyldimethylsilyl ethers shown in Table 7 below were obtained in the same manner as in Reference Example 2 using the corresponding catechol derivatives.

【表162】 [Table 162]

【0142】参考例6Reference Example 6

【化137】 2,3−ジヒドロキシ安息香酸(4.62g)を用い
て、参考例2と同様の方法により2−ヒドロキシ−3−
t−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸を得た。
[Chemical 137] 2,3-Dihydroxybenzoic acid (4.62 g) was used, and 2-hydroxy-3- was prepared in the same manner as in Reference Example 2.
t-Butyldimethylsilyloxybenzoic acid was obtained.

【0143】IRmax cm-1(neat) : 1645, 1459, 1442,
1390, 1300, 1267, 1255, 1228,1176, 1158;
IR max cm -1 (neat): 1645, 1459, 1442,
1390, 1300, 1267, 1255, 1228, 1176, 1158;

【0144】NMRδppm(CDCl3) : 0.22(6H,s), 1.03
(9H,s), 6.80(1H,m), 7.11(1H,dd,J= 1.6Hz および7.9H
z), 7.55(1H,dd,J=1.6Hzおよび8.1 Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.22 (6H, s), 1.03
(9H, s), 6.80 (1H, m), 7.11 (1H, dd, J = 1.6Hz and 7.9H
z), 7.55 (1H, dd, J = 1.6Hz and 8.1Hz).

【0145】参考例7Reference Example 7

【化138】 a)(2S,4S)−1−アリルオキシカルボニル−2
−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロ
リジン(2.53g)を乾燥塩化メチレン(70ml)に
溶かし、ジメドン(3.92g)を加え、窒素気流中、
氷冷下にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(809mg)を加えた。30分間攪拌した後、2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸
(1.88g)および1−エチル−3−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(1.34
g)を加え、5℃で一日反応した。反応液を酢酸エチル
で希釈し、希塩酸洗、食塩水洗し、硫酸マグネシウム乾
燥、除媒した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより、(2S,4S)−1−(2
−ヒドロキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベ
ンゾイル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベン
ゾイルチオピロリジンを得た。
[Chemical 138] a) (2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2
-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (2.53 g) was dissolved in dry methylene chloride (70 ml), dimedone (3.92 g) was added, and the mixture was stirred in a nitrogen stream.
Tetrakistriphenylphosphine palladium (809 mg) was added under ice cooling. After stirring for 30 minutes, 2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoic acid (1.88 g) and 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (1.34).
g) was added and reacted at 5 ° C for one day. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with dilute hydrochloric acid, brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. By purifying the residue by silica gel column chromatography, (2S, 4S) -1- (2
-Hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine was obtained.

【0146】IRmax cm-1(neat) : 3150(br), 1660, 1
650(sh), 1630(sh), 1574, 1444,1412, 1255, 1205;
IR max cm -1 (neat): 3150 (br), 1660, 1
650 (sh), 1630 (sh), 1574, 1444,1412, 1255, 1205;

【0147】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.21(6H,s), 1.01
(9H,s), 2.06(1H,m), 2.83(1H,m),3.03(3H,s), 3.21(3
H,s), 3.79(1H,m), 4.13(2H,m), 5.20(1H,t,J=8.3Hz),
6.72(1H,t,J=7.9Hz), 6.91(1H,m), 7.03(1H,d,J=7.6H
z), 7.4 〜7.55(2H,m), 7.55〜7.70(1H,m), 7.90(2H,d
d,J=1.5Hzおよび8.5Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.21 (6H, s), 1.01
(9H, s), 2.06 (1H, m), 2.83 (1H, m), 3.03 (3H, s), 3.21 (3
H, s), 3.79 (1H, m), 4.13 (2H, m), 5.20 (1H, t, J = 8.3Hz),
6.72 (1H, t, J = 7.9Hz), 6.91 (1H, m), 7.03 (1H, d, J = 7.6H
z), 7.4 ~ 7.55 (2H, m), 7.55 ~ 7.70 (1H, m), 7.90 (2H, d
d, J = 1.5Hz and 8.5Hz).

【0148】b)(2S,4S)−1−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベンゾイル)
−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオ
ピロリジン(682mg)をメタノール(3ml)に溶か
し、窒素気流中、氷冷下に30%メチルアミンメタノー
ル溶液(399mg)を加えた。30分間攪拌した後30
%メチルアミンメタノール溶液(399mg)を追加し、
さらに30分間攪拌した。リン酸一カリウム(1.05
g)の水溶液を加え、塩化メチレンで抽出し、有機層を
2.5%リン酸一カリウム水溶液洗し、硫酸マグネシウ
ム乾燥、除媒して(2S,4S)−1−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシベンゾイル)
−2−ジメチルアミノカルボニル−4−メルカプトピロ
リジンを得た。これを精製することなく次の反応に用い
た。
B) (2S, 4S) -1- (2-hydroxy-3-t-butyldimethylsilyloxybenzoyl)
2-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (682 mg) was dissolved in methanol (3 ml), and a 30% methylamine methanol solution (399 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream. After stirring for 30 minutes, 30
% Methylamine methanol solution (399 mg) was added,
It was stirred for another 30 minutes. Monopotassium phosphate (1.05
g) was added and the mixture was extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with a 2.5% aqueous solution of monopotassium phosphate, dried over magnesium sulfate and desolvated to give (2S, 4S) -1- (2-hydroxy-3). -T-butyldimethylsilyloxybenzoyl)
2-Dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine was obtained. This was used in the next reaction without purification.

【0149】参考例8Reference Example 8

【化139】 a)1,2−ジヒドロキシ−4−ニトロベンゼン(2.
0g)、イミダゾール(4.4g)を乾燥ジメチルホル
ムアミド(10ml)に溶かし、室温下t−ブチルジメチ
ルシリルクロリド(4.9g)を加え、同温度で一日攪
拌した後、さらに60℃で3時間加熱攪拌した。放冷
後、反応液をベンゼンで希釈、0.1Mリン酸緩衝液
(pH7.0)、飽和食塩水で洗浄、乾燥、除媒し、得
られた結晶をメタノールで洗い減圧下乾燥することで1
−ニトロ−3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)ベンゼン(4.5g)を得た。
[Chemical 139] a) 1,2-dihydroxy-4-nitrobenzene (2.
0 g) and imidazole (4.4 g) were dissolved in dry dimethylformamide (10 ml), t-butyldimethylsilyl chloride (4.9 g) was added at room temperature, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 day, then at 60 ° C. for 3 hours. Heated and stirred. After cooling, the reaction solution was diluted with benzene, washed with 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0) and saturated saline, dried and desolvated, and the obtained crystals were washed with methanol and dried under reduced pressure. 1
-Nitro-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (4.5 g) was obtained.

【0150】IRmax cm-1(KBr) : 1583, 1515, 1338,
1301, 1268, 1236, 1088;
IR max cm -1 (KBr): 1583, 1515, 1338,
1301, 1268, 1236, 1088;

【0151】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.15(6H,s), 0,18
(6H,s), 0.96(9H,s), 0.98(9H,s),6.16(1H,d,J=2.0Hz),
6.21(1H,dd,J=8.3Hzおよび2.0Hz), 6.62(1H,d,J=8.3H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.15 (6H, s), 0,18
(6H, s), 0.96 (9H, s), 0.98 (9H, s), 6.16 (1H, d, J = 2.0Hz),
6.21 (1H, dd, J = 8.3Hz and 2.0Hz), 6.62 (1H, d, J = 8.3H
z).

【0152】b)1−ニトロ−3,4−ジ(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)ベンゼン(2.36g)を酢酸
エチル(5ml)に溶かし、10%パラジウム炭素(23
6mg)を加え、室温下、常圧で1時間水素添加を行っ
た。触媒を濾別し、濾上物を酢酸エチルで洗い、濾・洗
液を除媒することにより1−アミノ−3,4−ジ(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)ベンゼンを得た。
B) 1-Nitro-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (2.36 g) was dissolved in ethyl acetate (5 ml) and 10% palladium on carbon (23
6 mg) was added, and hydrogenation was carried out at room temperature under atmospheric pressure for 1 hour. The catalyst was filtered off, the filter cake was washed with ethyl acetate, and the filtration / washing liquid was removed to remove 1-amino-3,4-di (t-
Butyldimethylsilyloxy) benzene was obtained.

【0153】IRmax cm-1(neat) : 3450, 3360, 1614,
1581, 1508, 1468, 1461, 1441.1322, 1267, 1250, 12
23, 1180, 1122;
IR max cm -1 (neat): 3450, 3360, 1614,
1581, 1508, 1468, 1461, 1441.1322, 1267, 1250, 12
23, 1180, 1122;

【0154】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.15(6H,s), 0.19
(6H,s), 0.97(9H,s), 0.98(9H,s),6.17(1H,dd,J=8.5Hz
および2.7Hz), 6.23(1H,d,J=2.7Hz), 6.63(1H,d,J=8.5H
z).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.15 (6H, s), 0.19
(6H, s), 0.97 (9H, s), 0.98 (9H, s), 6.17 (1H, dd, J = 8.5Hz
And 2.7Hz), 6.23 (1H, d, J = 2.7Hz), 6.63 (1H, d, J = 8.5H
z).

【0155】c)1−アミノ−3,4−ジ(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)ベンゼン(354mg)を乾燥テ
トラヒドロフラン(1.5ml)に溶かし、窒素気流中、
氷冷下に1.55M−n−ブチルリチウムヘキサン溶液
(0.71ml)を加えた。15分間攪拌した後同温度で
ブロモ酢酸ブロミド(0.087ml)を加え、さらに3
0分間攪拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム(42m
g)の水溶液および酢酸エチルを加え抽出し、食塩水
洗、硫酸マグネシウム乾燥、除媒し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、1−
ブロモアセチルアミノ−3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)ベンゼンを得た。
C) 1-Amino-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene (354 mg) was dissolved in dry tetrahydrofuran (1.5 ml), and the solution was stirred under a nitrogen stream.
1.55 M n-butyllithium hexane solution (0.71 ml) was added under ice cooling. After stirring for 15 minutes, bromoacetic acid bromide (0.087 ml) was added at the same temperature, and further 3
Stir for 0 minutes. Sodium hydrogen carbonate (42m
g)) aqueous solution and ethyl acetate were added for extraction, washing with brine, drying with magnesium sulfate, removal of the solvent, and purification of the residue by silica gel column chromatography.
Bromoacetylamino-3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) benzene was obtained.

【0156】IRmax cm-1(neat) : 3280, 1655, 1607,
1507, 1420, 1405, 1294, 1250,1225, 1206, 1120;
IR max cm -1 (neat): 3280, 1655, 1607,
1507, 1420, 1405, 1294, 1250, 1225, 1206, 1120;

【0157】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.23
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.99(9H,s),4.00(2H,s), 6.78(1
H,d,J=8.6Hz), 6.83(1H,dd,J=2.3Hzおよび8.6Hz), 7.25
(1H,d,J=2.3Hz), 7.95(1H,br.s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.23
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.99 (9H, s), 4.00 (2H, s), 6.78 (1
H, d, J = 8.6Hz), 6.83 (1H, dd, J = 2.3Hz and 8.6Hz), 7.25
(1H, d, J = 2.3Hz), 7.95 (1H, br.s).

【0158】参考例9Reference Example 9

【化140】 a)(2S,4S)−1−t−ブトキシカルボニル−2
−ジメチルアミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロ
リジン(7.56g)に氷冷下アニソール(4.32
g)のトリフルオロ酢酸(36ml)溶液を滴下後、室温
に昇温して5.5時間攪拌した。反応液を減圧下に除媒
し、残渣にジエチルエーテルを加えて結晶化後濾取し
た。減圧下に乾燥して、(2S,4S)−2−ジメチル
アミノカルボニル−4−ベンゾイルチオピロリジントリ
フルオロ酢酸塩(5.82g)を得た。
[Chemical 140] a) (2S, 4S) -1-t-butoxycarbonyl-2
-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (7.56 g) was added to anisole (4.32 g) under ice cooling.
A solution of g) in trifluoroacetic acid (36 ml) was added dropwise, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 5.5 hours. The solvent of the reaction solution was removed under reduced pressure, diethyl ether was added to the residue, and the mixture was crystallized and collected by filtration. It was dried under reduced pressure to obtain (2S, 4S) -2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine trifluoroacetic acid salt (5.82 g).

【0159】IRmax cm-1 (KBr) : 3060(br), 1668, 1
450, 1424, 1199, 1179, 1132;
IR max cm -1 (KBr): 3060 (br), 1668, 1
450, 1424, 1199, 1179, 1132;

【0160】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.95 〜2.15(1H,
m), 3.06(3H,s), 3.07(3H,s), 3.35〜3.55(1H,m), 3.95
〜4.15(1H,m), 4.38(1H,m), 5.04(1H,t,J=8.4Hz), 7.47
(2H,m), 7.62(1H,m), 7.90(2H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.95 to 2.15 (1H,
m), 3.06 (3H, s), 3.07 (3H, s), 3.35 ~ 3.55 (1H, m), 3.95
~ 4.15 (1H, m), 4.38 (1H, m), 5.04 (1H, t, J = 8.4Hz), 7.47
(2H, m), 7.62 (1H, m), 7.90 (2H, m).

【0161】b)(2S,4S)−2−ジメチルアミノ
カルボニル−4−ベンゾイルチオピロリジントリフルオ
ロ酢酸塩(78mg)と4,5−ジアリルオキシ−2−ク
ロロメチルピリジン(180mg)を乾燥塩化メチレン
(2ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にトリエチルア
ミン(61mg)を加えた。室温に昇温して4日間反応後
水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥、除媒し、残渣をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィーにより精製することで(2
S,4S)−1−(4,5−ジアリルオキシ−2−ピリ
ジル)メチル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ベ
ンゾイルチオピロリジン(212mg)を得た。
B) (2S, 4S) -2-Dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine trifluoroacetate (78 mg) and 4,5-diallyloxy-2-chloromethylpyridine (180 mg) were dried over methylene chloride (180 mg). 2 ml) and triethylamine (61 mg) was added under ice cooling in a nitrogen stream. After heating to room temperature and reacting for 4 days, washing with water, drying with sodium sulfate, removal of the solvent, and purification of the residue by silica gel thin layer chromatography (2
S, 4S) -1- (4,5-Diallyloxy-2-pyridyl) methyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-benzoylthiopyrrolidine (212 mg) was obtained.

【0162】IRmax cm-1(neat) : 1655, 1588, 1580,
1510, 1445, 1395, 1322, 1242,1207, 1172;
IR max cm -1 (neat): 1655, 1588, 1580,
1510, 1445, 1395, 1322, 1242, 1207, 1172;

【0163】NMRδppm(CDCl3 ) : 2.04(1H,m), 2.7
〜3.3(3H,m), 2.93(3H,s), 3.01(3H, s), 3.5 〜3.9(3
H,m), 4.22(1H,m), 4.5〜4.8(4H,m), 5.2〜5.5(4H, m),
5.95,〜6.15(2H,m), 7.20(1H,s), 7.35〜7.65(3H,m),
7.91(2H,m), 8.04(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.04 (1H, m), 2.7
~ 3.3 (3H, m), 2.93 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.5 ~ 3.9 (3
H, m), 4.22 (1H, m), 4.5 ~ 4.8 (4H, m), 5.2 ~ 5.5 (4H, m),
5.95, ~ 6.15 (2H, m), 7.20 (1H, s), 7.35 ~ 7.65 (3H, m),
7.91 (2H, m), 8.04 (1H, s).

【0164】対応するアルキル化剤を用い、参考例9と
同様の方法によって表8及び表9に示す化合物を得た。
The compounds shown in Tables 8 and 9 were obtained in the same manner as in Reference Example 9 using the corresponding alkylating agent.

【表163】 [Table 163]

【表164】 [Table 164]

【表165】 [Table 165]

【表166】 [Table 166]

【表167】 [Table 167]

【表168】 [Table 168]

【表169】 [Table 169]

【表170】 [Table 170]

【表171】 [Table 171]

【表172】 [Table 172]

【表173】 [Table 173]

【表174】 [Table 174]

【表175】 [Table 175]

【0165】参考例23Reference Example 23

【化141】 a)(2S,4R)−1−p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ヒドロ
キシピロリジン(500mg)を酢酸エチル(30ml)に
溶かし、10%パラジウム炭素(500mg)を加え、室
温下常圧で30分間水素添加した。触媒を濾別し、濾液
を減圧下濃縮し、残渣をベンゼンで結晶化後濾取するこ
とにより、(2S,4R)−2−ジメチルアミノカルボ
ニル−4−ヒドロキシピロリジン(195mg)を得た。
[Chemical 141] a) (2S, 4R) -1-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (500 mg) is dissolved in ethyl acetate (30 ml), 10% palladium carbon (500 mg) is added, and the mixture is allowed to stand at room temperature. Hydrogenation was carried out under normal pressure for 30 minutes. The catalyst was filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was crystallized from benzene and collected by filtration to obtain (2S, 4R) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (195 mg).

【0166】IRmax cm-1 (KBr) : 3279, 1636, 1387,
1102;
IR max cm -1 (KBr): 3279, 1636, 1387,
1102;

【0167】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.84(1H,m), 2.14
(1H,m), 2.89(1H,d,J=12.9Hz), 2.98(3H,s), 3.04(3H,
s), 3.31(1H,dd,J=4.6Hzおよび11.6Hz), 4.15(1H,t,J=
8.1Hz),4.45(1H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.84 (1H, m), 2.14
(1H, m), 2.89 (1H, d, J = 12.9Hz), 2.98 (3H, s), 3.04 (3H,
s), 3.31 (1H, dd, J = 4.6Hz and 11.6Hz), 4.15 (1H, t, J =
8.1Hz), 4.45 (1H, m).

【0168】b)(2S,4R)−2−ジメチルアミノ
カルボニル−4−ヒドロキシピロリジン(100mg)と
3,4−ジアリルオキシベンズアルデヒド(137mg)
をメタノール(0.5ml)に溶かし、室温で30分間攪
拌した。次いで、氷冷下、水素化シアノホウ素ナトリウ
ム(13mg)のメタノール(0.5ml)溶液を加え、氷
冷で1時間、室温でさらに1時間攪拌した。反応液をベ
ンゼンで希釈し、2.5%リン酸−カリウム水溶液で抽
出した。水層を1N水酸化ナトリウムでpHを10に調
整した後、塩化メチレンで抽出し、乾燥後除媒すること
で(2S,4R)−1−(3,4−ジアリルオキシベン
ジル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ヒドロキ
シピロリジン(86mg)を得た。
B) (2S, 4R) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (100 mg) and 3,4-diallyloxybenzaldehyde (137 mg)
Was dissolved in methanol (0.5 ml) and stirred at room temperature for 30 minutes. Then, under ice-cooling, a solution of sodium cyanoborohydride (13 mg) in methanol (0.5 ml) was added, and the mixture was stirred for 1 hour under ice-cooling and further for 1 hour at room temperature. The reaction solution was diluted with benzene and extracted with 2.5% aqueous solution of potassium phosphate-potassium. The aqueous layer was adjusted to pH 10 with 1N sodium hydroxide, extracted with methylene chloride, dried, and then subjected to removal of (2S, 4R) -1- (3,4-diallyloxybenzyl) -2-dimethyl. Aminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (86 mg) was obtained.

【0169】NMRδppm(CDCl3): 2.61(1H,dd,J=3.2Hz
および10.1Hz), 2.83(3H,s), 2.90(3H,s), 3.46(1H,dd,
J=5.4Hzおよび10.1Hz), 3.55 〜4.00(3H,m), 4.45〜4.7
5(5H,m), 5.2 〜5.5(4H,m), 6.0〜6.2(2H,m), 6.82(2H,
s), 6.95(1H,s).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 2.61 (1H, dd, J = 3.2Hz
And 10.1Hz), 2.83 (3H, s), 2.90 (3H, s), 3.46 (1H, dd,
J = 5.4Hz and 10.1Hz), 3.55 to 4.00 (3H, m), 4.45 to 4.7
5 (5H, m), 5.2 ~ 5.5 (4H, m), 6.0 ~ 6.2 (2H, m), 6.82 (2H,
s), 6.95 (1H, s).

【0170】b)(2S,4R)−1−(3,4−ジア
リルオキシベンジル)−2−ジメチルアミノカルボニル
−4−ヒドロキシピロリジン(226mg)とトリフェニ
ルホスフィン(247mg)を乾燥テトラヒドロフラン
(0.5ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にアゾジカ
ルボン酸ジエチル(164mg)の乾燥テトラヒドロフラ
ン(0.2ml)溶液を滴下し、0.5時間攪拌した。チ
オ酢酸(72mg)の乾燥テトラヒドロフラン(0.2m
l)溶液を滴下後、室温に昇温して1時間攪拌した。反
応液を酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム(79
mg)の水溶液を加えて、抽出した。有機層を合わせて食
塩水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、除媒した。残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製することによ
り、(2S,4S)−1−(3,4−ジアリルオキシベ
ンジル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−アセチ
ルチオピロリジン(108mg)を得た。
B) (2S, 4R) -1- (3,4-Diallyloxybenzyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-hydroxypyrrolidine (226 mg) and triphenylphosphine (247 mg) in dry tetrahydrofuran (0.5 ml). ), A solution of diethyl azodicarboxylate (164 mg) in dry tetrahydrofuran (0.2 ml) was added dropwise under a nitrogen stream under ice cooling, and the mixture was stirred for 0.5 hours. Thioacetic acid (72 mg) in dry tetrahydrofuran (0.2 m
l) After dropping the solution, the temperature was raised to room temperature and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, and sodium hydrogen carbonate (79
(mg) aqueous solution was added and extracted. The organic layers were combined, washed with brine, dried over sodium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel thin layer chromatography to obtain (2S, 4S) -1- (3,4-diallyloxybenzyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-acetylthiopyrrolidine (108 mg).

【0171】IRmax cm-1(neat) : 1684, 1641, 1508,
1422, 1259, 1221, 1134, 1120(sh);
IR max cm -1 (neat): 1684, 1641, 1508,
1422, 1259, 1221, 1134, 1120 (sh);

【0172】NMRδppm(CDCl3 ) : 1.60 〜1.94(2H,
m), 2.28(3H,s), 2.66(1H,m), 2.91(3H,s), 2.92(3H,
s), 2.98(1H,m), 3.47(1H,d,J=13.1Hz), 3.59(1H,m),
3.84(1H,d,J=13.1Hz), 3.99(1H,m), 4.57 〜4.63(4H,
m), 5.24〜5.30(2H,m), 5.36〜5.47(2H,m), 6.00〜6.17
(2H,m), 6.75〜6.99(3H,m).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 1.60 to 1.94 (2H,
m), 2.28 (3H, s), 2.66 (1H, m), 2.91 (3H, s), 2.92 (3H,
s), 2.98 (1H, m), 3.47 (1H, d, J = 13.1Hz), 3.59 (1H, m),
3.84 (1H, d, J = 13.1Hz), 3.99 (1H, m), 4.57 ~ 4.63 (4H,
m), 5.24 ~ 5.30 (2H, m), 5.36 ~ 5.47 (2H, m), 6.00 ~ 6.17
(2H, m), 6.75 ~ 6.99 (3H, m).

【0173】3−ヒドロキシピロリジンを用い、参考例
23と同様の方法によって表10に示す化合物を得た。
The compounds shown in Table 10 were obtained in the same manner as in Reference Example 23 using 3-hydroxypyrrolidine.

【表176】 [Table 176]

【表177】 [Table 177]

【0174】参考例9あるいは参考例23と同様の方法
によって表11に示す化合物を得た。
The compounds shown in Table 11 were obtained in the same manner as in Reference Example 9 or Reference Example 23.

【表178】 [Table 178]

【表179】 [Table 179]

【表180】 [Table 180]

【0175】参考例29Reference Example 29

【化142】 a)3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フ
ェニルプロピオン酸(2.054g)を乾燥テトラヒド
ロフラン(20ml)に溶かし、窒素気流中、氷冷下にト
リエチルアミン(607mg)およびクロロギ酸エチル
(651mg)を加え、1時間攪拌した。3−ヒドロキシ
ピロリジン(436mg)の乾燥テトラヒドロフラン(5
ml)溶液を加えてさらに1時間攪拌した。反応液を酢酸
エチルで希釈し、食塩水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥、除媒した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより1−〔3,4−ジ(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)フェニルプロピオニル〕−3
−ヒドロキシピロリジン(1.93g)を得た。
[Chemical 142] a) 3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionic acid (2.054 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (20 ml), and triethylamine (607 mg) and ethyl chloroformate (651 mg) were cooled with ice in a nitrogen stream. ) Was added and stirred for 1 hour. 3-hydroxypyrrolidine (436 mg) in dry tetrahydrofuran (5
ml) solution was added and the mixture was further stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. The residue was purified by silica gel column chromatography to give 1- [3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionyl] -3.
-Hydroxypyrrolidine (1.93g) was obtained.

【0176】IRmax cm-1(neat) : 3390(br), 1620, 1
508, 1459, 1421, 1294, 1252, 1226,1158, 1122;
IR max cm -1 (neat): 3390 (br), 1620, 1
508, 1459, 1421, 1294, 1252, 1226,1158, 1122;

【0177】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.18
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.95(2H,m), 2.52(2
H,m), 2.85(2H,t,J=7.4Hz), 3.2 〜3.7(4H,m), 4.47(1
H,m),6.64(1H,d,J=7.9Hz), 6.68(1H,s), 6.73(1H,d,J=
7.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.18
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.95 (2H, m), 2.52 (2
H, m), 2.85 (2H, t, J = 7.4Hz), 3.2 to 3.7 (4H, m), 4.47 (1
H, m), 6.64 (1H, d, J = 7.9Hz), 6.68 (1H, s), 6.73 (1H, d, J =
7.9Hz).

【0178】b)水素化リチウムアルミニウム(394
mg)を乾燥テトラヒドロフラン(25ml)に懸濁し、窒
素気流中、室温で1−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)フェニルプロピオニル〕−3−ヒドロ
キシピロリジン(1.66g)の乾燥テトラヒドロフラ
ン(25ml)溶液を滴下した。1時間加熱還流後室温に
戻して水(3.36ml)を加えて過剰の還元剤を分解
し、硫酸ナトリウム(1.0g)を加えて15分間攪拌
した。不溶物を濾別し、濾液を除媒し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、1
−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フ
ェニルプロピル〕−3−ヒドロキシピロリジン(736
mg)を得た。
B) Lithium aluminum hydride (394
mg) in dry tetrahydrofuran (25 ml), and at room temperature in a nitrogen stream, 1- [3,4-di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropionyl] -3-hydroxypyrrolidine (1.66 g) in dry tetrahydrofuran. (25 ml) solution was added dropwise. After heating under reflux for 1 hour, the temperature was returned to room temperature, water (3.36 ml) was added to decompose excess reducing agent, sodium sulfate (1.0 g) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes. The insoluble matter was filtered off, the filtrate was removed, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 1
-[3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-hydroxypyrrolidine (736
mg) was obtained.

【0179】IRmax cm-1(neat) : 3350(br), 1509, 1
471, 1460, 1420, 1290, 1250, 1222,1157, 1127;
IR max cm -1 (neat): 3350 (br), 1509, 1
471, 1460, 1420, 1290, 1250, 1222, 1157, 1127;

【0180】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.19
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.7 〜1.9(4H,m), 2.
12 〜2.35(2H,m), 2.45〜2.56(4H,m), 2.74(1H,m), 2.9
3(1H,m), 4.33(1H,m), 6.60(1H,dd,J=2.0Hzおよび7.9H
z), 6.64(1H,d,J=2.0Hz),6.73(1H,d,J=7.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.19
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.7〜1.9 (4H, m), 2.
12 ~ 2.35 (2H, m), 2.45 ~ 2.56 (4H, m), 2.74 (1H, m), 2.9
3 (1H, m), 4.33 (1H, m), 6.60 (1H, dd, J = 2.0Hz and 7.9H
z), 6.64 (1H, d, J = 2.0Hz), 6.73 (1H, d, J = 7.9Hz).

【0181】c)1−〔3,4−ジ(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)フェニルプロピル〕−3−ヒドロキシ
ピロリジン(844mg)を乾燥塩化メチレン(17ml)
に溶かし、窒素気流中氷冷下、トリエチルアミン(27
5mg)とメタンスルホン酸クロリド(249mg)を加
え、1時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水
洗および食塩水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥、除媒し
た。残渣にチオ酢酸カリウム(620mg)を加え乾燥ジ
メチルホルムアミド(14ml)中、60℃で2時間攪拌
した。酢酸エチルで希釈し、水洗および食塩水洗し、硫
酸ナトリウムで乾燥除媒した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、1−〔3,
4−ジ(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェニルプ
ロピル〕−3−アセチルチオピロリジン(455mg)を
得た。
C) 1- [3,4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-hydroxypyrrolidine (844 mg) was dried over methylene chloride (17 ml).
Dissolved in triethylamine (27
5 mg) and methanesulfonic acid chloride (249 mg) were added, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, washed with water and brine, dried over sodium sulfate, and desolvated. Potassium thioacetate (620 mg) was added to the residue, and the mixture was stirred in dry dimethylformamide (14 ml) at 60 ° C for 2 hours. The mixture was diluted with ethyl acetate, washed with water and brine, dried over sodium sulfate, and removed. By purifying the residue by silica gel column chromatography, 1- [3,
4-Di (t-butyldimethylsilyloxy) phenylpropyl] -3-acetylthiopyrrolidine (455 mg) was obtained.

【0182】IRmax cm-1(neat) : 1688, 1508, 1460,
1420, 1291, 1252, 1221;
IR max cm -1 (neat): 1688, 1508, 1460,
1420, 1291, 1252, 1221;

【0183】NMRδppm(CDCl3 ) : 0.18(6H,s), 0.18
(6H,s), 0.98(9H,s), 0.98(9H,s),1.6 〜1.81(3H,m),
2.30(3H,s), 2.3 〜2.6(6H,m), 2.64(1H,m), 2.921H,
m),3.92(1H,m), 6.57〜6.64(2H,m), 6.
72(1H,d,J=7.9Hz).
NMR δ ppm (CDCl 3 ): 0.18 (6H, s), 0.18
(6H, s), 0.98 (9H, s), 0.98 (9H, s), 1.6〜1.81 (3H, m),
2.30 (3H, s), 2.3 ~ 2.6 (6H, m), 2.64 (1H, m), 2.921H,
m), 3.92 (1H, m), 6.57 to 6.64 (2H, m), 6.
72 (1H, d, J = 7.9 Hz).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/44 7252−4C 31/445 7252−4C (72)発明者 品川 永敏 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友製薬株式会社内 (72)発明者 深沢 万左友 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友製薬株式会社内 (72)発明者 住田 能弘 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友製薬株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Internal reference number FI Technical indication location A61K 31/44 7252-4C 31/445 7252-4C (72) Inventor Shintoshi Nagatoshi Kasuga, Konohana-ku, Osaka City 3-1,98 Idemaka Sumitomo Pharmaceutical Co., Ltd. (72) Inventor Manza Fukazawa 3-1,98 Kasuga, Kosuka Ward, Osaka City Sumitomo Pharmaceutical Co., Ltd. (72) Inventor Yoshihiro Sumita Sumitomo Pharmaceutical Co., Ltd. 3-98 Kasugadechu, Konohana-ku, Osaka

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、 〔1〕R1 が水素原子または水酸基の保護基を示す場
合、Aは次の一般式(a)〜(g)のいずれかで表され
る基を示す。 一般式(a) 【化2】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1) 【化3】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2) 【化4】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3) 【化5】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b) 【化6】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c) 【化7】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d) 【化8】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e) 【化9】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合には、Aは次の一般式(h)〜
(p)のいずれかで表される基あるいはその他の有機基
を示す。 一般式(h) 【化10】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i) 【化11】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j) 【化12】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k) 【化13】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l) 【化14】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m) 【化15】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kは前記と同じ意味を、R10は低級アルキル基
または置換低級アルキル基を示す。) 一般式(o) 【化16】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p) 【化17】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩。
1. A compound represented by the general formula [I]: [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A represents a group represented by any of the following general formulas (a) to (g). General formula (a) (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1) (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2) (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3) (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b) (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c): (In the formula, k, l, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d) (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an intramolecular COO when the acid residue or R 2 has a negative charge.) General formula (e) (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents the following general formula (h) to
The group represented by any of (p) or other organic groups are shown. General formula (h): (In the formulae, k, l, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i) (In the formula, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j) (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k) (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l) (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m) (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k has the same meaning as described above, and R 10 represents a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o) (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p) (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
A novel β-lactam compound represented by and a salt thereof.
【請求項2】 一般式〔I〕 【化18】 〔式中、jは0もしくは1を、R1 は水素原子、水酸基
の保護基、または後記一般式(1)〜(3)のいずれか
で表される基を、R2 は水素原子、カルボキシル基の保
護基、またはAに陽電荷が含まれる場合の陰電荷を、M
は硫黄原子、メチレン基または低級アルキル基で置換さ
れたメチレン基を示す。AはR1 に対応して次に表され
る基を示す。すなわち、 〔1〕R1 が水素原子または水酸基の保護基を示す場
合、Aは次の一般式(a)〜(g)のいずれかで表され
る基を示す。 一般式(a) 【化19】 (式中、k、lおよびmは0〜3の整数を示す(但し、
lとmは同時には0とならない)。R3 は水素原子、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノもし
くはジ低級アルキルアミノカルボニル基、環状アミノカ
ルボニル基、低級アルキル基、または置換低級アルキル
基を示し、R4 は次の一般式(1)〜(3)で表される
いずれかの基を示す。 一般式(1) 【化20】 (式中、Yは、イ)単結合、ロ)低級アルキレン基、
ハ)低級アルケニレン基、ニ)カルボニル基、ホ)カル
ボニル基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R
0 は水素原子または低級アルキル基を示す。)を1種以
上含有する低級アルキレン基、またはヘ)カルボニル
基、酸素原子、もしくは−NR0 −基(式中、R0 は前
記と同じ意味を示す。)を1種以上含有する低級アルケ
ニレン基を、R5 とR6 は水素原子、または水酸基の保
護基を、およびZは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、またはモノもしくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基を示す。) 一般式(2) 【化21】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(3) 【化22】 (式中、Y、Z、R5 およびR6 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(b) 【化23】 (式中、k、l、mおよびR4 は前記と同じ意味を、n
は0〜3の整数を示す。R7 は水素原子、低級アルキル
基または置換低級アルキル基を、R8 は水素原子、アミ
ノ基の保護基、低級アルキル基または置換低級アルキル
基を示す。 一般式(c) 【化24】 (式中、k、l、m、n、R4 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。) 一般式(d) 【化25】 (式中、k、l、m、n、R4 、R7 およびR8 は前記
と同じ意味を示し、pは0〜5の整数を、qは1〜5の
整数を示す。また、Xa は酸残基またはR2 が陰電荷で
ある時の分子内COOを示す。) 一般式(e) 【化26】 (式中、k、l、m、n、q、R4 、R7 、R8 および
a は前記と同じ意味を示す。) 一般式(f) −(CH2 k−O−R4 (f) (式中、kおよびR4 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(g) −(CH2 k−NR7 −R4 (g) (式中、k、R4 およびR7 は前記と同じ意味を示
す。) 〔2〕R1 が前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表
される基を示す場合には、Aは次の一般式(h)〜
(p)のいずれかで表される基あるいはその他の有機基
を示す。 一般式(h) 【化27】 (式中、k、l、m、R3 およびR8 は前記と同じ意味
を示す。) 一般式(i) 【化28】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(j) 【化29】 (式中、k、l、mおよびR3 は前記と同じ意味を、r
は0〜2の整数を示す。) 一般式(k) 【化30】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(l) 【化31】 (式中、k、およびR3 は前記と同じ意味を示す。) 一般式(m) 【化32】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を、R9 は水
素原子またはアミノ基の保護基を示す。) 一般式(n) −(CH2 k −R10 (n) (式中、kは前記と同じ意味を、R10は低級アルキル基
または置換低級アルキル基を示す。) 一般式(o) 【化33】 (式中、k、R3 およびR10は前記と同じ意味を示
す。) 一般式(p) 【化34】 (式中、k、lおよびmは前記と同じ意味を示す。)〕
で表される新規なβ−ラクタム化合物及びその塩を製造
するにあたり、 (A法)j=1でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔II〕 【化35】 〔式中、Mは前記と同じ意味を、R1aは水素原子または
水酸基の保護基を、R2aはカルボキシル基の保護基を、
およびLは水酸基の反応性エステル基または置換もしく
は無置換の低級アルキルスルフィニル基を示す。〕で表
される化合物を、一般式〔III−a〕 Aa −SH 〔III−a〕 〔式中、Aa は前記一般式(a)〜(c)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔I−a〕 【化36】 〔式中、R1a、R2a、Aa およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するか、前記一般式
〔II〕で表される化合物と一般式〔III−b−
1〕、 Q1 −SH 〔III−b−1〕 〔式中、Q1 は前記一般式(h)で表される基を示
す。〕で表される化合物とを反応させて一般式〔IV−
a〕 【化37】 〔式中、R1a、R2a、Q1 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造し、次いでR8 がアミ
ノ基の保護基である場合には、その除去反応を行った
後、一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 は前記と同じ意味を示し、Xc は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させて、前記一般式
〔I−a〕で表される化合物を製造するかまたは、 (B法)j=1でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔II〕 【化38】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−b−2〕 Q2 −SH 〔III−b−2〕 〔式中、Q2 は次の一般式(d’)または(e’)で表
される基を示す。 一般式(d’) 【化39】 (式中、k、l、m、n、p、R7 およびR8 は前記と
同じ意味を示す。) 一般式(e’) 【化40】 (式中、k、l、m、n、R7 およびR8 は前記と同じ
意味を示す。)〕で表されるメルカプタン化合物と反応
させて、一般式〔IV−b〕 【化41】 〔式中、R1a、R2a、Q2 およびMは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、qおよびR4 は前記と同じ意味を、Xb は酸残
基を示す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I
−b〕 【化42】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
b は前記一般式(d)または(e)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (C法)j=1でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔VII〕 【化43】 〔式中、k、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示
し、Ya は酸素原子または−NR7 −基(式中、R7
前記と同じ意味を示す)を示す。〕で表される化合物と
一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−c〕 【化44】 〔式中、R1 、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (D法)j=0でAが(a)〜(c)の場合には、一般
式〔VIII〕 【化45】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級アル
コキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔I−d〕 【化46】 〔式中、R1a、M、Aa 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (E法)j=0でAが(d)〜(e)の場合には、一般
式〔IX〕 【化47】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aおよびR11は前記と同じ
意味を示す。〕で表される化合物を加熱して一般式
〔X〕 【化48】 〔式中、R1a、M、Q2 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、次いで一般式〔VI〕 Xb −(CH2q −R4 〔VI〕 〔式中、q、R4 およびXb は前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物と反応させて一般式〔I−e〕 【化49】 〔式中、R1a、M、Ab 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (F法)j=0でAが(f)〜(g)の場合には、一般
式〔XI〕 【化50】 〔式中、k、R1a、R2a、MおよびYa は前記と同じ意
味を示す。〕で表される化合物と一般式〔V〕 R4 −Xc 〔V〕 〔式中、R4 およびXc は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−f〕 【化51】 〔式中、R1a、R2aおよびMは前記と同じ意味を示し、
c は前記一般式(f)または(g)で表される基を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (G法)j=1でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔II〕 【化52】 〔式中、R1a、R2a、MおよびLは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を、一般式〔III−c〕 Ad −SH 〔III−c〕 〔式中、Ad は前記一般式(h)〜(n)のいずれかで
表される基を示す。〕で表されるメルカプタン化合物と
反応させて一般式〔XII〕 【化53】 〔式中、R1a、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造し、次いでR1aが水酸基
の保護基である場合にはその除去反応を行って、一般式
〔XIII〕 【化54】 〔式中、M、Ad 、R2aは前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bは前記一般式(1)〜(3)で表される基
を示し、Xd は酸残基を示す。〕で表される化合物と反
応させて一般式〔I−g〕 【化55】 〔式中、M、Ad 、R2a、R1bは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (H法)j=1でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−g’〕 【化56】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)あるいは(m)で表される基を
示す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−h〕 【化57】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (I法)j=0でAが(h)〜(n)の場合には、一般
式〔XVI〕 【化58】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示し、R11は低級アルキル基、アリール基または低級ア
ルコキシ基を示す。〕で表される化合物を加熱して一般
式〔XVII〕 【化59】 〔式中、R1a、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物とし、次いでR1aが水酸基の
保護基である場合にはその除去反応を行った後、一般式
〔XVIII〕 【化60】 〔式中、M、Ad およびR2aは前記と同じ意味を示
す。〕で表される化合物とし、さらに一般式〔XIV〕 R1b−Xd 〔XIV〕 〔式中、R1bおよびXd は前記と同じ意味を示す。〕で
表される化合物と反応させて一般式〔I−i〕 【化61】 〔式中、M、Ad 、R2aおよびR1bは前記と同じ意味を
示す。〕で表される化合物を製造するかまたは、 (J法)j=0でAが(o)〜(p)の場合には、一般
式〔I−i’〕 【化62】 〔式中、R1b、MおよびR2cは前記と同じ意味を示し、
e は前記一般式(l)または(m)で表される基を示
す。〕で表される化合物を一般式〔XV〕 R10−Xe 〔XV〕 〔式中、R10は前記と同じ意味を示し、Xe は酸残基を
示す。〕で表される化合物と反応させるか、またはR9
におけるアミノ基の保護基の除去反応を行った後、ホル
ムイミド酸の低級(C1 〜C5 )アルキルエステルと反
応させるかすることにより一般式〔I−j〕 【化63】 〔式中、R1b、MおよびR2aは前記と同じ意味を示し、
f は前記一般式(o)あるいは(p)で表される基を
示す。〕で表される化合物を製造し、R1 、R5
6 、R8 あるいはR9 が水素原子でR2 が水素原子ま
たは陰電荷であるβ−ラクタム化合物を所望する場合に
は、次いで一般式〔I−a〕〜〔I−j〕で表される化
合物に水酸基の保護基の除去反応、カルボキシル基の保
護基の除去反応およびアミノ基の保護基の除去反応を必
要に応じて適宜組み合わせて行うか、または、これらの
保護基を同時に除去することを特徴とする上記一般式
〔I〕で表されるβ−ラクタム化合物または、その薬理
学上許容される塩の製造法。
2. A compound represented by the general formula [I]: [In the formula, j is 0 or 1, R 1 is a hydrogen atom, a protective group for a hydroxyl group, or a group represented by any of the following general formulas (1) to (3), R 2 is a hydrogen atom, a carboxyl group. The protecting group of the group, or the negative charge when A contains a positive charge,
Represents a methylene group substituted with a sulfur atom, a methylene group or a lower alkyl group. A represents the group shown below corresponding to R 1 . That is, when [1] R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, A represents a group represented by any of the following general formulas (a) to (g). General formula (a): (In formula, k, l, and m show the integer of 0-3 (however,
l and m do not become 0 at the same time). R 3 represents a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group, a cyclic aminocarbonyl group, a lower alkyl group, or a substituted lower alkyl group, and R 4 represents the following general formula (1) To any of the groups represented by (3). General formula (1) (In the formula, Y is a) single bond, b) lower alkylene group,
(C) lower alkenylene group, (d) carbonyl group, (e) carbonyl group, oxygen atom, or -NR 0 -group (in the formula, R
0 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a lower alkylene group containing at least one), or a) lower alkenylene group containing at least one carbonyl group, oxygen atom, or —NR 0 — group (in the formula, R 0 has the same meaning as described above). R 5 and R 6 are a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a mono- or di-lower alkylaminocarbonyl group. Indicates. ) General formula (2): (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (3) (In the formula, Y, Z, R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) General formula (b) (Wherein k, l, m and R 4 have the same meanings as described above, and n
Represents an integer of 0 to 3. R 7 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an amino group protecting group, a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group. General formula (c) (In the formulae, k, 1, m, n, R 4 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (d) (In the formula, k, 1, m, n, R 4 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above, p represents an integer of 0 to 5, and q represents an integer of 1 to 5. a represents an intramolecular COO when the acid residue or R 2 has a negative charge.) General formula (e) (In the formulae, k, l, m, n, q, R 4 , R 7 , R 8 and X a have the same meanings as described above.) General formula (f)-(CH 2 ) k- O-R 4 (F) (In the formula, k and R 4 have the same meanings as described above.) General formula (g)-(CH 2 ) k -NR 7 -R 4 (g) (In the formula, k, R 4 and R 4 7 has the same meaning as described above.] [2] When R 1 represents a group represented by any of the general formulas (1) to (3), A represents the following general formula (h) to
The group represented by any of (p) or other organic groups are shown. General formula (h): (In the formulae, k, 1, m, R 3 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (i) (In the formulae, k, l, m and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (j) (Wherein k, l, m and R 3 have the same meanings as described above, r
Represents an integer of 0 to 2. ) General formula (k) (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (l) (In the formula, k and R 3 have the same meanings as described above.) General formula (m) (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above, and R 9 represents a hydrogen atom or an amino group-protecting group.) General formula (n)-(CH 2 ) k -R 10 (n) (Formula In the formula, k has the same meaning as described above, and R 10 represents a lower alkyl group or a substituted lower alkyl group.) General formula (o) (In the formula, k, R 3 and R 10 have the same meanings as described above.) General formula (p) (In the formula, k, l and m have the same meanings as described above.)]
In the production of the novel β-lactam compound represented by and a salt thereof, (Method A), when j = 1 and A is (a) to (c), the compound represented by the general formula [II] [In the formula, M has the same meaning as described above, R 1a represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R 2a represents a carboxyl-protecting group,
And L represent a reactive ester group of a hydroxyl group or a substituted or unsubstituted lower alkylsulfinyl group. A compound represented by], in the general formula [III-a] A a -SH [III-a] [wherein, the group A a represented by any one of formulas (a) ~ (c) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [Ia] [In the formula, R 1a , R 2a , A a and M have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [III-b-
1], Q 1 -SH [III-b-1] [In the formula, Q 1 represents a group represented by the above general formula (h). ] The compound of the general formula [IV-
a] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 1 and M have the same meanings as described above. ] To produce a compound represented by, then if R 8 is a protecting group of the amino group, after the removal reaction of the general formula (V) R 4 -X c [V] [wherein, R 4 has the same meaning as described above, and X c represents an acid residue. ] To produce a compound represented by the general formula [Ia], or (Method B) j = 1 and A is (d) to (e) Is represented by the general formula [II] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. Table a compound represented by the general formula [III-b-2] Q 2 -SH [III-b-2) (wherein, Q 2 is the following general formula (d ') or (e') in] Is shown as a group. General formula (d ') (In the formulae, k, l, m, n, p, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.) General formula (e ′) (In the formula, k, l, m, n, R 7 and R 8 have the same meanings as described above.)], And reacted with a mercaptan compound represented by the general formula [IV-b] [In the formula, R 1a , R 2a , Q 2 and M have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein the same meaning as q and R 4 above, the X b is acid residue Show. ] The compound represented by the general formula [I
-B] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A b represents a group represented by the general formula (d) or (e). Or when (Method C) j = 1 and A is (f) to (g), a compound of the general formula [VII] [In the formula, k, R 1a , R 2a and M represent the same meaning as described above, and Y a represents an oxygen atom or a —NR 7 — group (in the formula, R 7 represents the same meaning as described above). ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] The compound represented by the general formula [Ic] [In the formula, R 1 , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). Or a (D method) j = 0 and A is (a) to (c), a compound of the general formula [VIII] [In the formula, R 1a , M, A a and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound represented by the general formula [Id] [In the formula, R 1a , M, A a , and R 2a have the same meanings as described above. Or when (E method) j = 0 and A is (d) to (e), a compound represented by the general formula [IX] [In the formula, R 1a , M, Q 2 , R 2a and R 11 have the same meanings as described above. ] By heating the compound represented by the general formula [X] [In the formula, R 1a , M, Q 2 and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] followed by the general formula (VI) X b - (CH 2) q -R 4 (VI) wherein, q, R 4 and X b are as defined above. ] The compound represented by the general formula [Ie] [In the formula, R 1a , M, Ab and R 2a have the same meanings as described above. Or when (Method F) j = 0 and A is (f) to (g), a compound of the general formula [XI] [In the formula, k, R 1a , R 2a , M and Y a have the same meanings as described above. ] And a compound represented by the general formula [V] R 4 -X c [V] [In the formula, R 4 and X c have the same meanings as described above. ] By reacting with a compound represented by the general formula [If] [Wherein R 1a , R 2a and M have the same meanings as described above,
A c represents a group represented by the general formula (f) or (g). Or a (G method) in which j = 1 and A is (h) to (n), a compound represented by the general formula [II] [In the formula, R 1a , R 2a , M and L have the same meanings as described above. A compound represented by], in the general formula [III-c] A d -SH [III-c] [wherein, the group A d represented by any one of formulas (h) ~ (n) Show. ] By reacting with a mercaptan compound represented by the general formula [XII] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. To produce a compound represented by], then when R 1a is a protecting group of a hydroxyl group is subjected to the removal reaction of the general formula [XIII] embedded image [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] In addition, let it be a compound represented by these, General formula [XIV] R <1b > -Xd [XIV] [In formula, R <1b> shows group represented by said General formula (1)-(3), Xd is Indicates an acid residue. ] The compound represented by the general formula [Ig] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. Or when (Method H) j = 1 and A is (o) to (p), a compound of the general formula [Ig ′] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
After removing the protecting group of the amino group in the formula ( 1 ), it is reacted with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid to give a compound of the general formula [I-h] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). Or when (Method I) j = 0 and A is (h) to (n), a compound of the general formula [XVI] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group, an aryl group or a lower alkoxy group. ] The compound of the general formula [XVII] [In the formula, R 1a , M, A d and R 2a have the same meanings as described above. ] Then, when R 1a is a protective group for a hydroxyl group, the removal reaction is carried out, and then the compound of the general formula [XVIII] [In the formula, M, A d and R 2a have the same meanings as described above. A compound represented by] in more general formula [XIV] R 1b -X d [XIV] [wherein, the R 1b and X d represents the same meaning as above. ] The compound of the general formula [Ii] [In the formula, M, A d , R 2a and R 1b have the same meanings as described above. Or when (Method J) j = 0 and A is (o) to (p), a compound represented by the general formula [Ii ′] [Wherein R 1b , M and R 2c have the same meanings as described above,
A e represents a group represented by the general formula (1) or (m). Formula [XV] in R 10 -X e [XV] [wherein the compound represented by], R 10 is as defined above, X e represents an acid residue. ] Or by reacting with a compound represented by R 9
After the reaction for removing the amino-protecting group is carried out, it is reacted with a lower (C 1 -C 5 ) alkyl ester of formimidic acid to give a compound of the general formula [I-j] [Wherein R 1b , M and R 2a have the same meanings as described above,
A f represents a group represented by the general formula (o) or (p). ] To produce a compound represented by, R 1, R 5,
When a β-lactam compound in which R 6 , R 8 or R 9 is a hydrogen atom and R 2 is a hydrogen atom or a negative charge is desired, it is then represented by the general formulas [Ia] to [Ij]. Or a combination of the reaction for removing the protective group for the hydroxyl group, the reaction for removing the protective group for the carboxyl group, and the reaction for removing the protective group for the amino group, or the simultaneous removal of these protective groups. A process for producing a β-lactam compound represented by the above general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof, characterized by:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007532693A (en) * 2004-08-31 2007-11-15 コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー 2-Arylmethylazetidine / carbapenem derivative and method for producing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007532693A (en) * 2004-08-31 2007-11-15 コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー 2-Arylmethylazetidine / carbapenem derivative and method for producing the same
JP4801049B2 (en) * 2004-08-31 2011-10-26 コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー 2-Arylmethylazetidine / carbapenem derivative and method for producing the same
WO2006049148A1 (en) * 2004-11-02 2006-05-11 Sankyo Company, Limited 1β-METHYLCARBAPENEM DERIVATIVE

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