JPH05217214A - Material for substrate reflection layer in optical recording medium - Google Patents

Material for substrate reflection layer in optical recording medium

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JPH05217214A
JPH05217214A JP4103400A JP10340092A JPH05217214A JP H05217214 A JPH05217214 A JP H05217214A JP 4103400 A JP4103400 A JP 4103400A JP 10340092 A JP10340092 A JP 10340092A JP H05217214 A JPH05217214 A JP H05217214A
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JP
Japan
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substrate
reflection layer
recording
layer
optical
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Application number
JP4103400A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kuwano
敦司 桑野
Itsuo Watanabe
伊津夫 渡辺
Jun Taketazu
潤 竹田津
Masanobu Hanehiro
昌信 羽広
Takeo Tomiyama
健男 富山
Nobuaki Takane
信明 高根
Mitsuo Yamada
三男 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the material for a substrate reflection layer which enables a high reflectivity by imparting a good push-pull signal characteristic to an optical disk having the film of the material for the substrate reflection layer which exhibits a high reflectivity and high transmittance with a good balance on the substrate. CONSTITUTION:The substrate reflection layer 2, then a recording layer 3 are formed on the substrate 1 and light is made incident from the substrate 1. Grooves 4 for tracking servo are directly formed on this substrate 1. The substrate 1 consists of an acrylic resin, polycarbonate resin, glass, etc. The film formation of the reflection layer 2 is executed by a sputtering method, vacuum vapor deposition method, etc. Further, the material to be used for the recording layer 3 generates a certain optical change by the photon energy or thermal energy generated by photoirradiation. Namely, a change in the reflectivity or transmittance arises from a color change, phase change, pit formation, shape change, etc. As a result, the high reflectivity is enabled.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体において高
い反射率と高い透過率を可能にする基板反射層用材料に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a material for a reflective layer of a substrate which enables high reflectance and high transmittance in an optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】高密度記録が可能な光ディスクは、将
来、記録メディアの主流となることが予想されており、
既に再生専用形光ディスクはオーディオ分野で大きな市
場を形成している。また、情報の記録が可能な追記形光
ディスク並びに情報の記録及び消去が可能な書換え形光
ディスクも研究開発が行われている。中でも、記録材料
にTe系または有機色素を用い、ピット形成方式で記録
する追記形光ディスク及び記録材料にTbFeCo系、
希土類系等を用いた光磁気方式の書換え形光ディスクが
既に実用化されている。
2. Description of the Related Art Optical discs capable of high density recording are expected to become the mainstream of recording media in the future.
Read-only optical discs have already formed a large market in the audio field. Research and development have also been conducted on a write-once optical disc capable of recording information and a rewritable optical disc capable of recording and erasing information. Among them, a write-once optical disc for recording by a pit formation method using a Te-based or organic dye as a recording material and a TbFeCo-based for a recording material,
A rewritable optical disk of a magneto-optical system using a rare earth system has already been put into practical use.

【0003】光ディスクの多くは、基板上に直接記録層
が形成されたものであるが、このような光ディスクは、
記録層に用いる記録材料の光学定数、膜厚、製膜性等に
起因して、トラッキングサーボを行うために必要なプッ
シュプル信号特性が得られない場合がある。例えば、基
板と記録層の複素屈折率差が小さく、記録層と空気また
は記録層とその上に積層した層(例えば、反射層、保護
層)との複素屈折率の差が大きい場合、プッシュプル信
号が得られにくい。また、記録材料の製膜性が悪い場
合、膜の微小な荒れ等によりノイズが高くなったり、ト
ラッキングずれるるという問題も生じる。従って、基板
上に直接記録層を形成すると特性が劣る場合がある。こ
のような場合、基板と異なる屈折率を有し、かつ製膜性
の良好な材料を、基板と記録層の間に基板反射層として
形成させることが有効となる。これにより、トラッキン
グサーボに必要なプッシュプル信号を良好に検出し、か
つ低ノイズ化を図ることができる。
Most optical discs have a recording layer formed directly on a substrate.
The push-pull signal characteristics necessary for performing tracking servo may not be obtained due to the optical constants, film thickness, film forming properties, etc. of the recording material used for the recording layer. For example, when the difference in the complex refractive index between the substrate and the recording layer is small and the difference in the complex refractive index between the recording layer and the air or the recording layer and the layer laminated thereon (for example, the reflective layer or the protective layer) is large, the push-pull It is difficult to get a signal. In addition, when the film forming property of the recording material is poor, there arises a problem that the noise becomes high due to a minute roughness of the film or the tracking shifts. Therefore, if the recording layer is formed directly on the substrate, the characteristics may be inferior. In such a case, it is effective to form a material having a refractive index different from that of the substrate and having a good film-forming property as the substrate reflecting layer between the substrate and the recording layer. As a result, the push-pull signal required for tracking servo can be satisfactorily detected and noise can be reduced.

【0004】このような基板反射層としては、使用する
光源の波長域で屈折率が基板と大きく異なるものが好ま
しく、例えば、特開平1−276443号公報ではA
u、Ag、Cu等の金属からなる基板反射層を有する光
ディスクが開示されている。しかしながら、これらの金
属は、基板反射層用材料として光の透過性と反射性のバ
ランスが悪い。すなわち、十分な反射率を得るために膜
厚を大きくすると透過率が低下し、逆に十分な透過率を
得るために膜厚を小さくすると反射率が低下する。
As such a substrate reflecting layer, one having a refractive index which is largely different from that of the substrate in the wavelength range of the light source used is preferable. For example, in JP-A-1-276443,
An optical disc having a substrate reflection layer made of a metal such as u, Ag or Cu is disclosed. However, these metals have a poor balance between light transmittance and reflectivity as materials for the substrate reflecting layer. That is, if the film thickness is increased to obtain a sufficient reflectance, the transmittance is lowered, and conversely, if the film thickness is reduced to obtain a sufficient transmittance, the reflectance is lowered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記問
題に鑑み、鋭意研究した結果、シリコン又は窒化シリコ
ンが基板反射層用材料として優れた特性を有することを
見いだし、本発明を完成するに至った。本発明は、この
知見に基づき、半導体レーザを用いて光記録や消去を行
う光記録媒体において、記録層の膜厚を任意に設定で
き、かつ、安定なトラッキングサーボを可能にする基板
反射層用材料を提供するものである。
The inventors of the present invention have conducted extensive studies in view of the above problems, and as a result, found that silicon or silicon nitride has excellent properties as a material for a substrate reflection layer, and complete the present invention. Came to. The present invention is based on this knowledge, and for an optical recording medium in which optical recording and erasing are performed using a semiconductor laser, a substrate reflection layer for which the film thickness of the recording layer can be arbitrarily set and which enables stable tracking servo. It provides the material.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明における基板反射
層用材料は、少なくとも基板、その上に形成される基板
反射層及び記録層を含む光記録媒体における基板反射層
に使用され、シリコン又は窒化シリコンからなるもので
ある。
A material for a substrate reflection layer in the present invention is used for a substrate reflection layer in an optical recording medium including at least a substrate, a substrate reflection layer formed on the substrate, and a recording layer. It is made of silicon.

【0007】前記基板反射層用材料は、使用する光源の
波長で消衰係数が0.2以下のものが好ましく、特に0
又はほぼ0のものが好ましい。その屈折率は、基板の屈
折率と0.4以上異なるものであるのが好ましい。
The substrate reflection layer material preferably has an extinction coefficient of 0.2 or less at the wavelength of the light source used, and is particularly 0.
Or, almost 0 is preferable. The refractive index is preferably different from the refractive index of the substrate by 0.4 or more.

【0008】図面を用いて、本発明における基板反射層
用材料の適用例を説明する。図1は、本発明における基
板反射層用材料を用いた光ディスクの構造の一例を示す
断面図である。図1中、基板1上に基板反射層2、次い
で記録層3が積層されている。この光ディスクにおい
て、光は基板側から入射される。
An application example of the material for the substrate reflecting layer in the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of an optical disc using the material for a substrate reflecting layer in the present invention. In FIG. 1, a substrate reflective layer 2 and then a recording layer 3 are laminated on a substrate 1. In this optical disc, light is incident from the substrate side.

【0009】基板1にはトラッキングサーボのためのグ
ルーブ4が直接形成されているが、これはピットであっ
てもよい。また、基板1にグルーブを直接形成せず、基
板上にグルーブ形成層が積層されていてもよい。グルー
ブは、単純グルーブであってもよく、グルーブ内にフォ
ーマット信号に対応したピットが形成されていてもよ
い。このフォーマット信号に対応したピットは基板のラ
ンド部に形成されていてもよい。また、トラッキングサ
ーボのためにグルーブの代りにピットを形成するとき
は、さらに、フォーマット信号に対応したピットを含ん
でいてもよい。前記基板1は、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂等の
合成樹脂、ガラス等の材質からなるものがある。
Although the groove 4 for tracking servo is directly formed on the substrate 1, it may be a pit. Further, the groove forming layer may be laminated on the substrate without directly forming the groove on the substrate 1. The groove may be a simple groove, or pits corresponding to the format signal may be formed in the groove. Pits corresponding to this format signal may be formed in the land portion of the substrate. When forming a pit instead of the groove for tracking servo, a pit corresponding to the format signal may be further included. The substrate 1 may be made of synthetic resin such as acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyolefin resin, or glass.

【0010】前記基板反射層の製膜は、スパッタリング
法、真空蒸着法等により行うことができ、特に、窒化シ
リコンの製膜は、窒素ガスを含む雰囲気下でのスパッタ
リング法により行うことができる。
The substrate reflective layer can be formed by a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, or the like. In particular, the silicon nitride film can be formed by a sputtering method in an atmosphere containing nitrogen gas.

【0011】前記記録層3に用いられる材料は、光照射
による光子エネルギや発生する熱エネルギにより何らか
の光学的変化を生じるものであれば特に限定するもので
はなく、追記形材料であっても書換え形材料であっても
よい。このような材料としては、例えば、色変化、相変
化、ピット形成、形状変化等に起因して反射率または透
過率変化を起こすもの等が挙げられる。さらに、具体的
には、色変化するものとしてはスピロピラン系化合物、
フルギド系化合物等のフォトクロミック化合物、フォト
クロミック化合物を高分子化合物中に分散させたもの、
側鎖にフォトクロミック基を有するもの等があり、相変
化するものとして高分子化合物のブレンド物、高分子液
晶等があり、ピットを形成するものとしてフタロシアニ
ン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素等
の有機色素、このような有機色素を分散させた高分子化
合物等があり、形状変化するものとして形状記憶樹脂、
ポリウレタン等の熱膨張及び収縮が可能な材料からなる
膨張層とエポキシ樹脂等の熱変形が可能でガラス転移点
が高い樹脂からなる保持層の二層構造からなるもの等が
ある。記録層3は、スピンコート法、ディップ法、真空
蒸着法等により製膜することができる。
The material used for the recording layer 3 is not particularly limited as long as it causes some kind of optical change due to photon energy or heat energy generated by light irradiation, and it is a rewritable material even if it is a write-once material. It may be a material. Examples of such a material include materials that cause a change in reflectance or transmittance due to color change, phase change, pit formation, shape change, and the like. Furthermore, specifically, as a color-changing substance, a spiropyran-based compound,
A photochromic compound such as a fulgide-based compound, a photochromic compound dispersed in a polymer compound,
There are those having a photochromic group in the side chain, there are polymer compounds blends, polymer liquid crystals, etc. that undergo phase changes, and phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, etc. that form pits. There are organic dyes, polymer compounds in which such organic dyes are dispersed, and shape memory resins that change in shape,
There is one having a two-layer structure of an expansion layer made of a material capable of thermal expansion and contraction such as polyurethane and a holding layer made of a resin capable of being thermally deformed and having a high glass transition point such as an epoxy resin. The recording layer 3 can be formed by a spin coating method, a dipping method, a vacuum deposition method, or the like.

【0012】記録層3の上に反射層及び/又は保護層を
積層してもよい。以上の光ディスクの各層は、使用する
材料の光学定数及びプッシュプル信号を考慮して、膜厚
を最適化する条件下に積層される。
A reflective layer and / or a protective layer may be laminated on the recording layer 3. The respective layers of the optical disc described above are stacked under the condition that the film thickness is optimized in consideration of the optical constant of the material used and the push-pull signal.

【0013】[0013]

【実施例】次に、本発明の基板反射層用材料の一例の光
学定数(屈折率及び消衰係数)と、この基板反射層用材
料を用いて作製した光ディスクの特性評価の実施例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES Next, examples of optical constants (refractive index and extinction coefficient) of an example of the material for a substrate reflecting layer of the present invention and characteristics evaluation of an optical disk manufactured using this material for a substrate reflecting layer will be shown. However, the present invention is not limited to these.

【0014】実施例1 スライドガラス基板上にスパッタリング法により厚さ約
50nmのシリコン薄膜を形成し、基板反射層とした。
この基板反射層を有するガラス基板を用いて反射スペク
トル(アルミニウム相対値)及び透過スペクトルを測定
した。反射スペクトルを図2に、透過スペクトルを図3
示す。波長780nmにおいて反射率は62%(アルミ
ニウム相対値)及び透過率は50%であり、波長830
nmにおいて反射率は63%(アルミニウム相対値)及
び透過率は48%であった。いずれの場合も反射率と透
過率のバランスは良好であった。
Example 1 A silicon thin film having a thickness of about 50 nm was formed on a slide glass substrate by a sputtering method to form a substrate reflection layer.
A reflection spectrum (aluminum relative value) and a transmission spectrum were measured using the glass substrate having this substrate reflection layer. Figure 2 shows the reflection spectrum and Figure 3 shows the transmission spectrum.
Show. At a wavelength of 780 nm, the reflectance is 62% (aluminum relative value) and the transmittance is 50%.
In nm, the reflectance was 63% (aluminum relative value) and the transmittance was 48%. In each case, the balance between reflectance and transmittance was good.

【0015】実施例2 直径120mmのポリカーボネート製グルーブ付きディ
スク基板(出光石油化学株式会社製、830nmでの屈
折率1.59)上にスパッタリング法により厚さ約50
nmのシリコン薄膜(830nmでの屈折率3.15、
消衰係数0.05)を製膜し基板反射層を形成した。次
に、ポリスチレンとトランス−1,4−ポリブタジエン
のブロック共重合体(アスマー、旭化成工業株式会社商
品名)10重量部、ビス(トリエチルシロキシ)シリコ
ン−テトラキス(デシルチオ)ナフタロシアニン1重量
部をトルエン320重量部に溶解させ均一溶液とした。
前記基板反射層の上に、この溶液をスピンコートにより
塗布製膜して厚さ約290nmの記録層を形成し、光デ
ィスクを作製した。
Example 2 A polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and having a groove (made by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., refractive index of 1.59 at 830 nm) having a thickness of about 50 was formed on a disk substrate.
nm silicon thin film (refractive index at 830 nm is 3.15,
A film having an extinction coefficient of 0.05) was formed to form a substrate reflection layer. Next, 10 parts by weight of a block copolymer of polystyrene and trans-1,4-polybutadiene (Asmer, trade name of Asahi Kasei Corporation), 1 part by weight of bis (triethylsiloxy) silicon-tetrakis (decylthio) naphthalocyanine, and toluene 320 It was dissolved in 1 part by weight to obtain a uniform solution.
This solution was applied by spin coating on the substrate reflection layer to form a recording layer having a thickness of about 290 nm, and an optical disc was produced.

【0016】波長830nmの半導体レーザーを搭載し
た光記録特性評価装置(OMS2000、ナカミチ株式
会社商品名、この装置はレ−ザ光を基板側から照射する
ようになっている)により上記で作製した光ディスクに
1mWのレーザパワーでトラッキングサーボを試みたと
ころ、波形及び信号強度に優れた良好なプッシュプル信
号が得られ、安定なトラッキングサーボを行うことがで
きた。この光ディスクに、回転速度3m/s、周波数1
MHz、デューティ50%でレーザパワーを変えて記録
を行ったところ、C/Nは記録パワー依存性を示しレー
ザパワー5mWで45dBが得られた。次に消去は、回
転速度3m/sで、記録したトラック全周を2mWのレ
ーザ光で照射した。C/Nは減少し、消去比は25dB
を示した。さらに、再記録パワー5mWでC/Nは45
dBを示した。このような記録特性及び消去特性は繰り
返し測定することが可能であった。すなわち、トラッキ
ングサーボが安定しているので、良好な記録及び消去を
繰返し行うことができた。
An optical disk manufactured as described above by an optical recording characteristic evaluation device (OMS2000, trade name of Nakamichi Co., Ltd., which is designed to irradiate laser light from the substrate side) equipped with a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm. When a tracking servo was attempted with a laser power of 1 mW, a good push-pull signal excellent in waveform and signal strength was obtained, and stable tracking servo could be performed. This optical disc has a rotation speed of 3 m / s and a frequency of 1
When recording was performed while changing the laser power at MHz and a duty of 50%, C / N showed recording power dependency and 45 dB was obtained at a laser power of 5 mW. Then, for erasing, the entire circumference of the recorded track was irradiated with a laser beam of 2 mW at a rotation speed of 3 m / s. C / N decreases, erase ratio is 25 dB
showed that. Furthermore, C / N is 45 with re-recording power of 5 mW.
It showed dB. Such recording characteristics and erasing characteristics could be repeatedly measured. That is, since the tracking servo is stable, good recording and erasing can be repeated.

【0017】実施例3 直径120mmのポリカーボネート製グルーブ付きディ
スク基板(出光石油化学株式会社製、830nmでの屈
折率1.59)上に、アルゴンガスと窒素ガスの混合気
流(流量比、アルゴンガス:窒素ガス=1.4:1)中
でのスパッタリング法により厚さ約50nmの窒化シリ
コン薄膜(830nmでの屈折率2.6、消衰係数0.
02)を製膜し基板反射層を形成した。次に、ポリ(3
−ドデシルチオフェン)10重量部、ビス(トリエチル
シロキシ)シリコン−テトラキス(デシルチオ)ナフタ
ロシアニン1重量部をトルエン490重量部に溶解させ
均一溶液とした。前記基板反射層の上に、この溶液をス
ピンコートにより塗布製膜して厚さ約100nmの記録
層を形成し、光ディスクを作製した。
Example 3 On a disk substrate made of polycarbonate having a diameter of 120 mm (made by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., refractive index 1.59 at 830 nm), a mixed gas flow of argon gas and nitrogen gas (flow rate ratio, argon gas: A silicon nitride thin film with a thickness of about 50 nm (refractive index 2.6 at 830 nm, extinction coefficient 0.
02) was formed into a film to form a substrate reflection layer. Next, poly (3
10 parts by weight of -dodecylthiophene and 1 part by weight of bis (triethylsiloxy) silicon-tetrakis (decylthio) naphthalocyanine were dissolved in 490 parts by weight of toluene to obtain a uniform solution. This solution was applied by spin coating to form a recording layer having a thickness of about 100 nm on the substrate reflective layer to prepare an optical disc.

【0018】実施例2と同じ光記録特性評価装置によ
り、上記で作製した光ディスクに1mWのレーザパワー
でトラッキングサーボを試みたところ、波形及び信号強
度に優れた良好なプッシュプル信号が得られ、安定なト
ラッキングサーボを行うことができた。この光ディスク
に、回転速度3m/s、周波数1MHz、デューティ5
0%でレーザパワーを変えて記録を行ったところ、C/
Nは記録パワー依存性を示しレーザパワー8mWで40
dBが得られた。次に消去は、回転速度3m/sで、記
録したトラック全周を2mWのレーザ光で照射した。C
/Nは減少し、消去比は25dBを示した。さらに、再
記録パワー8mWでC/Nは40dBを示した。このよ
うな記録特性及び消去特性は繰り返し測定することが可
能であった。すなわち、トラッキングサーボが安定して
いるので、良好な記録及び消去を繰返し行うことができ
た。
Using the same optical recording characteristic evaluation device as in Example 2, an attempt was made to perform tracking servo on the above-produced optical disk with a laser power of 1 mW, and a good push-pull signal excellent in waveform and signal strength was obtained and stable. I was able to perform a proper tracking servo. This optical disc has a rotation speed of 3 m / s, a frequency of 1 MHz and a duty of 5
When recording was performed by changing the laser power at 0%, C /
N indicates the recording power dependence and is 40 at a laser power of 8 mW.
dB was obtained. Then, for erasing, the entire circumference of the recorded track was irradiated with a laser beam of 2 mW at a rotation speed of 3 m / s. C
/ N decreased and the erase ratio was 25 dB. Furthermore, the C / N was 40 dB at a re-recording power of 8 mW. Such recording characteristics and erasing characteristics could be repeatedly measured. That is, since the tracking servo is stable, good recording and erasing can be repeated.

【0019】実施例4 直径120mmのポリカーボネート製グルーブ付きディ
スク基板〔出光石油化学株式会社製830nmでの屈折
率1.59〕上に、スパッタリング法により厚さ約50
nmのシリコン薄膜(830nmでの屈折率3.15、
消衰係数0.05)を形成させ反射層とした。次に、
1,2−ポリブタジエン〔JSR RB810、日本合
成ゴム株式会社商品名〕10重量部及びビス(トリエチ
ルシロキシ)シリコン−テトラキス(デシルチオ)ナフ
タロシアニン1重量部をトルエン320重量部に溶解さ
せ均一溶液としたものを、スピンコートにより前記基板
のシリコン膜表面上に塗布製膜して厚さ約250nmの
記録層を形成し、光記録媒体を作製した。波長830n
mの半導体レーザーを搭載した光記録特性評価装置〔OM
S2000(ナカミチ株式会社商品名、この装置はレ−ザ光
を基板側から照射するようになっている〕をにより、実
施例1と同じ条件下で上記で得られた光記録媒体の記録
特性及び消去特性を測定した。その結果、記録パワー7
mWでC/Nは40dBを示し、消去パワー2mWでC
/Nは減少し、消去比は20dBであった。さらに、再
記録パワー7mWでC/Nは40dBを示した。このよ
うな記録特性及び消去特性は繰返し測定することが可能
であった。すなわち、トラッキングサーボが安定してい
るので、良好な記録及び消去を繰返し行うことができ
た。
Example 4 A polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and having a groove [a refractive index of 1.59 at 830 nm manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.] having a thickness of about 50 was formed by a sputtering method.
nm silicon thin film (refractive index at 830 nm is 3.15,
An extinction coefficient of 0.05) was formed and used as a reflective layer. next,
10 parts by weight of 1,2-polybutadiene [JSR RB810, trade name of Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.] and 1 part by weight of bis (triethylsiloxy) silicon-tetrakis (decylthio) naphthalocyanine were dissolved in 320 parts by weight of toluene to form a uniform solution. Was spin-coated to form a recording layer having a thickness of about 250 nm on the surface of the silicon film of the substrate to form an optical recording medium. Wavelength 830n
Optical recording characteristics evaluation device [OM
S2000 (trade name of Nakamichi Co., Ltd., this device is adapted to irradiate laser light from the substrate side) according to the recording characteristics of the optical recording medium obtained as described above under the same conditions as in Example 1. The erasing characteristics were measured, and as a result, the recording power was 7
C / N shows 40 dB at mW and C at erasing power of 2 mW
/ N decreased and the erase ratio was 20 dB. Furthermore, C / N was 40 dB at a re-recording power of 7 mW. Such recording characteristics and erasing characteristics could be repeatedly measured. That is, since the tracking servo is stable, good recording and erasing can be repeated.

【0020】実施例5 直径120mmのポリカーボネート製グルーブ付きディ
スク基板〔出光石油化学株式会社製830nmでの屈折
率1.59〕上に、スパッタリング法により厚さ約50
nmシリコン薄膜(830nmでの屈折率3.15、消
衰係数0.05)を形成させ反射層とした。次に、ポリ
スチレン(分子量95800アルドリッチ ケミカル コ
−ポレ−ション製)10重量部及びビス(トリエチルシ
ロキシ)シリコン−テトラキス(デシルチオ)ナフタロ
シアニン1重量部をトルエン320重量部に溶解させ均
一溶液としたものを、スピンコートにより前記基板のシ
リコン膜表面上に塗布製膜して厚さ約200nmの記録
層を形成し、光記録媒体を作製した。
Example 5 A polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and having a groove [a refractive index of 1.59 at 830 nm manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.] having a thickness of about 50 was formed by a sputtering method.
nm silicon thin film (refractive index at 830 nm: 3.15, extinction coefficient: 0.05) was formed as a reflective layer. Next, a uniform solution was prepared by dissolving 10 parts by weight of polystyrene (95800 molecular weight Aldrich Chemical Corporation) and 1 part by weight of bis (triethylsiloxy) silicon-tetrakis (decylthio) naphthalocyanine in 320 parts by weight of toluene. An optical recording medium was prepared by applying a film on the surface of the silicon film of the substrate by spin coating to form a recording layer having a thickness of about 200 nm.

【0021】実施例1で示した光記録特性評価装置を用
いて、実施例1と同じ条件下で上記で得られた光記録媒
体の記録特性及び消去特性を測定した。この結果、記録
パワー4mWでC/Nは40dBを示した。次いで、こ
の光記録媒体をオーブンに入れ120℃で5分間加熱処
理を行ったところ、C/Nは減少し消去比20dBが得
られた。さらに、再記録パワー4mWでC/Nは40d
Bを示した。このような記録特性及び消去特性は繰返し
測定することが可能であった。すなわち、トラッキング
サーボが安定しているので、良好な記録及び消去を繰返
し行うことができた。
Using the optical recording characteristic evaluation apparatus shown in Example 1, the recording characteristic and the erasing characteristic of the optical recording medium obtained above were measured under the same conditions as in Example 1. As a result, the C / N was 40 dB at a recording power of 4 mW. Next, when this optical recording medium was placed in an oven and subjected to heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes, C / N was reduced and an erasing ratio of 20 dB was obtained. Furthermore, with a re-recording power of 4 mW, the C / N is 40 d.
B was shown. Such recording characteristics and erasing characteristics could be repeatedly measured. That is, since the tracking servo is stable, good recording and erasing can be repeated.

【0022】比較例1 スライドガラス基板上に真空蒸着法により厚さ23Åの
金薄膜を形成し、基板反射層とした。この基板反射層を
有するガラス基板を用いて反射スペクトル(アルミニウ
ム相対値)及び透過スペクトルを測定した。この結果、
波長780nmにおいて反射率は19%(アルミニウム
相対値)及び透過率は53%であり、波長830nmに
おいて反射率は18%(アルミニウム相対値)及び透過
率は56%であった。いずれの場合も反射率と透過率の
バランスは良くなかった。
Comparative Example 1 A 23 Å-thick gold thin film was formed on a slide glass substrate by a vacuum deposition method to form a substrate reflection layer. A reflection spectrum (aluminum relative value) and a transmission spectrum were measured using the glass substrate having this substrate reflection layer. As a result,
At a wavelength of 780 nm, the reflectance was 19% (aluminum relative value) and the transmittance was 53%, and at the wavelength 830 nm, the reflectance was 18% (aluminum relative value) and the transmittance was 56%. In both cases, the balance between reflectance and transmittance was not good.

【0023】比較例2 実施例2において、ポリカーボネート基板の代わりに直
径130mmのグルーブ付きガラス基板を用い、基板反
射層を形成しないこと以外実施例2に従って基板と記録
層からなる光ディスクを作製した。この光ディスクを実
施例2で用いたのと同じ光記録特性評価装置により評価
したところ、プッシュプル信号は検出されず、トラッキ
ングサーボを行うことができなかった。
Comparative Example 2 An optical disk comprising a substrate and a recording layer was prepared in the same manner as in Example 2 except that a glass substrate with a groove having a diameter of 130 mm was used instead of the polycarbonate substrate and the substrate reflection layer was not formed. When this optical disk was evaluated by the same optical recording characteristic evaluation device as that used in Example 2, no push-pull signal was detected and tracking servo could not be performed.

【0024】[0024]

【発明の効果】請求項1における基板反射層用材料の膜
は、高反射率及び高透過率をバランス良く示し、これを
基板上に有している光ディスクに良好なプッシュプル信
号特性を付与し、トラッキングサーボの優れた光ディス
クを可能にする。
The film of the substrate reflective layer material according to claim 1 exhibits high reflectance and high transmittance in a well-balanced manner, and imparts good push-pull signal characteristics to an optical disc having this on the substrate. Enables optical discs with excellent tracking servo.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における基板反射層用材料を用いて作製
した光ディスクの一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an optical disc manufactured using a material for a substrate reflection layer in the present invention.

【図2】実施例1において作製した基板反射層を積層し
た基板の反射スペクトルである。
FIG. 2 is a reflection spectrum of a substrate on which a substrate reflection layer manufactured in Example 1 is laminated.

【図3】実施例1において作製した基板反射層を積層し
た基板の透過スペクトルである。
FIG. 3 is a transmission spectrum of a substrate on which a substrate reflection layer manufactured in Example 1 is laminated.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板、2・・・基板反射層、3・・・記録層、
4・・・グルーブ。
1 ... Substrate, 2 ... Substrate reflective layer, 3 ... Recording layer,
4 ... groove.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽広 昌信 茨城県つくば市和台48番 日立化成工業株 式会社筑波開発研究所内 (72)発明者 富山 健男 茨城県つくば市和台48番 日立化成工業株 式会社筑波開発研究所内 (72)発明者 高根 信明 茨城県つくば市和台48番 日立化成工業株 式会社筑波開発研究所内 (72)発明者 山田 三男 茨城県つくば市和台48番 日立化成工業株 式会社筑波開発研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masanobu Haburo 48 Wadai, Tsukuba City, Ibaraki Prefecture Tsukuba Development Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Takeo Toyama 48 Wadai, Tsukuba City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Incorporated company Tsukuba R & D Labs (72) Inventor Nobuaki Takane 48 No. Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Within Tsukuba R & D Labs (72) Inventor, Mitsuo Yamada 48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Hitachi Chemical Co., Ltd. Incorporated company Tsukuba Development Laboratory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも基板、その上に形成される基板
反射層及び記録層を含む光記録媒体における基板反射層
に使用され、シリコン又は窒化シリコンからなる基板反
射層用材料。
1. A material for a substrate reflection layer, which is used for a substrate reflection layer in an optical recording medium including at least a substrate, a substrate reflection layer formed thereon, and a recording layer, and made of silicon or silicon nitride.
JP4103400A 1991-12-09 1992-04-23 Material for substrate reflection layer in optical recording medium Pending JPH05217214A (en)

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