JPH05209930A - Semiconductor test device - Google Patents

Semiconductor test device

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Publication number
JPH05209930A
JPH05209930A JP4040132A JP4013292A JPH05209930A JP H05209930 A JPH05209930 A JP H05209930A JP 4040132 A JP4040132 A JP 4040132A JP 4013292 A JP4013292 A JP 4013292A JP H05209930 A JPH05209930 A JP H05209930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
semiconductor device
under test
device under
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP4040132A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruo Isobe
輝雄 磯部
Makoto Kuwata
真 鍬田
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Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Computer Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4040132A priority Critical patent/JPH05209930A/en
Publication of JPH05209930A publication Critical patent/JPH05209930A/en
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor test device which may carry out a test with a high degree of reliability. CONSTITUTION:A voltage monitor for monitoring an operation voltage applied to a semiconductor device to be tested is provided so as to carry out control such that an input signal produced from a signal generating part is delivered to the semiconductor device to be tested only when the operation voltage applied to the semiconductor device to be tested from a power voltage supply part is higher than a predetermined voltage which is necessary for normal operation. When the operation voltage applied to the semiconductor device to be tested becomes abnormally low, the voltage monitor part forcively cuts off the delivery of the input signal, thereby it is possible to prevent occurrence of abnormal operation such as latch-up or the like of the semiconductor device to be tested.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体試験装置に関
し、例えばCMOS(相補型MOS)集積回路装置のバ
ーンインテスト(高温ライニング試験)装置に利用して
有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor test device, and more particularly to a technique effectively used for a burn-in test (high temperature lining test) device for a CMOS (complementary MOS) integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置では、初期不良モードを摘出
する有効な手段としてバーンインテスト(又はエージン
グ)が行われる。バーンインテストに関しては、例えば
オーム社昭和60年12月25日発行『マイクロコンピ
ュータハンドブック』頁727がある。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device, a burn-in test (or aging) is performed as an effective means for extracting an initial failure mode. Regarding the burn-in test, there is, for example, page 727 of "Microcomputer Handbook" published by Ohmsha, Ltd. on December 25, 1960.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のバーンインテス
ト装置では、被試験半導体装置に対して電源供給を行う
電源電圧供給部と、半導体装置の内部回路を動作状態に
する入力信号を供給する信号発生部から構成される。上
記電源電圧供給部は、被試験半導体装置の耐圧等を考慮
して最大電圧が与えられる。これに対して、信号供給部
では主にTTL回路を用いて信号を出力する。そのた
め、装置においてはシーケンス制御機能が設けられ、被
試験半導体装置に対して電源電圧を供給してから一定時
間差を以て信号発生部に対して動作電圧を供給して動作
を開始させるものである。
In a conventional burn-in test apparatus, a power supply voltage supply unit for supplying power to a semiconductor device under test and a signal generator for supplying an input signal for operating an internal circuit of the semiconductor device. Composed of parts. The power supply voltage supply section is given a maximum voltage in consideration of the breakdown voltage of the semiconductor device under test. On the other hand, the signal supply unit mainly outputs the signal using the TTL circuit. Therefore, the device is provided with a sequence control function, and after the power supply voltage is supplied to the semiconductor device under test, the operation voltage is supplied to the signal generating portion with a certain time difference to start the operation.

【0004】この構成では、被試験半導体装置の数に応
じて、電源電圧供給部からみた負荷が大きく変化し、そ
の電源立ち上がりが遅くなったり、あるいは装置内の瞬
断等による電源波形の鈍り歪みによって信号発生部から
の入力信号に対して電源電圧が低くなることがある。被
試験半導体装置において、入力信号より電源電圧が低く
なると、不所望な寄生サイリスタ等によるラッチアップ
が発生して被試験半導体装置を素子破壊に至らせてしま
う。特に、CMOS集積回路では、構造上必然的に寄生
サイリスタを持つものであり、近年の素子の微細化に伴
い上記ラッチアップが生じやすくなっているので上記動
作電圧と入力信号との管理を厳しく行うことが必要にな
るものである。
In this configuration, the load seen from the power supply voltage supply section changes greatly depending on the number of semiconductor devices under test, the power supply rises slowly, or the power supply waveform is distorted due to a momentary interruption in the device. Therefore, the power supply voltage may be lower than the input signal from the signal generator. In the semiconductor device under test, when the power supply voltage becomes lower than the input signal, undesired latch-up due to a parasitic thyristor or the like occurs and the semiconductor device under test is destroyed. In particular, a CMOS integrated circuit necessarily has a parasitic thyristor because of its structure, and the latch-up is likely to occur due to the miniaturization of elements in recent years. Therefore, the operating voltage and the input signal are strictly controlled. Is what you need.

【0005】この発明の目的は、高信頼性のもとでの試
験を可能にした半導体試験装置を提供することにある。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴
は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるで
あろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor test apparatus which enables a test with high reliability.
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、被試験半導体装置に与えら
れる動作電圧をモニタする電圧モニタ部を設け、電源電
圧供給部から被試験半導体装置に与えられる動作電圧が
正常な動作に必要な所定電圧以上のときにのみ信号発生
部により発生された入力信号を被試験半導体装置に対し
て供給するよう制御する。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a voltage monitor unit for monitoring the operating voltage applied to the semiconductor device under test is provided, and a signal is generated only when the operating voltage applied from the power supply voltage supply unit to the semiconductor device under test is equal to or higher than a predetermined voltage required for normal operation. The input signal generated by the unit is controlled to be supplied to the semiconductor device under test.

【0007】[0007]

【作用】上記した手段によれば、電圧モニタ部により被
試験半導体装置の動作電圧が異常に低くなると、入力信
号の供給を強制的に停止させることにより被試験半導体
装置においてラッチアップ等の異常動作の発生を未然に
防止することができる。
According to the above means, when the operating voltage of the semiconductor device under test becomes abnormally low by the voltage monitor, the supply of the input signal is forcibly stopped to cause an abnormal operation such as latch-up in the semiconductor device under test. It is possible to prevent the occurrence of.

【0008】[0008]

【実施例】図1には、この発明に係るバーンインテスト
装置(又はエージング装置)の一実施例のブロック図が
示されている。電源電圧供給部は、複数の電源電圧回路
VG1〜VGnから構成される。これら電源電圧回路V
G1〜VGnは、被試験半導体装置の動作電圧(通常、
バーンインテストでは最大定格電圧)に応じて電圧値の
設定が可能にされる。それ故、これら複数からなる電源
電圧回路VG1〜VGnは、同じ品種の被試験装置を大
量に同時にバーンインテストを行う場合には、各電源電
圧回路VG1〜VGnは、同じ出力電圧を形成するよう
にされる。また、動作電圧が異なる複数種類の半導体装
置を同時にバーンインテストを行うとき、それぞれの電
源電圧回路VG1〜VGnの出力電圧は、それぞれが受
け持つ被試験半導体装置の動作電圧に応じて設定され
る。
1 is a block diagram of an embodiment of a burn-in test device (or an aging device) according to the present invention. The power supply voltage supply unit includes a plurality of power supply voltage circuits VG1 to VGn. These power supply voltage circuits V
G1 to VGn are operating voltages of the semiconductor device under test (usually,
In the burn-in test, the voltage value can be set according to the maximum rated voltage. Therefore, the power supply voltage circuits VG1 to VGn composed of these plural power supply voltage circuits VG1 to VGn form the same output voltage when a large number of devices under test of the same type are simultaneously subjected to the burn-in test. To be done. When a plurality of types of semiconductor devices having different operating voltages are simultaneously subjected to the burn-in test, the output voltages of the respective power supply voltage circuits VG1 to VGn are set according to the operating voltage of the semiconductor device under test.

【0009】製品実装部は、上記各電源電圧回路VG1
〜VGnに対応した製品実装基板1ないしnが納められ
た高温度炉から構成される。上記製品実装基板1ないし
nは、それぞれが物理的に1毎の実装基板であるという
意味ではなく、上記電源電圧回路VG1〜VGnの電流
供給能力に応じて予め決められた被試験半導体装置の数
に対応した1ないし複数毎の実装基板から構成される。
すなわち、被試験半導体装置は、その品種毎に消費電流
が異なる。したがって、消費電流の小さな被試験半導体
装置のバーンインテストを行うときには、上記製品実装
基板には比較的多数からなる被試験半導体装置が実装さ
れ、消費電流の大きな被試験半導体装置のバーインテス
トを行うときには、上記製品実装基板には比較的少数か
らなる被試験半導体装置が実装されることになる。
The product mounting section is provided with the above-mentioned power supply voltage circuits VG1.
It is composed of a high temperature furnace in which product mounting boards 1 to n corresponding to VGn are housed. The product mounting boards 1 to n do not mean that each of them is physically one mounting board, but the number of semiconductor devices under test determined in advance according to the current supply capability of the power supply voltage circuits VG1 to VGn. It is composed of one or a plurality of mounting boards corresponding to.
That is, the semiconductor device under test has different current consumption depending on its type. Therefore, when performing a burn-in test on a semiconductor device under test with low current consumption, a relatively large number of semiconductor devices under test are mounted on the product mounting board, and when performing a burn-in test on a semiconductor device under test with high current consumption. A relatively small number of semiconductor devices under test are mounted on the product mounting board.

【0010】信号発生部は、上記製品実装基板1ないし
nに対応した信号発生回路SG1〜SGnから構成され
る。この信号発生部は、独自の電源電圧により動作させ
られる。特に制限されないが、上記製品実装基板上に搭
載される被試験半導体装置に対しする入力信号は、TT
Lレベルのような一定の信号にされる。上記のように被
試験半導体装置の動作電圧が、その最大動作電圧付近に
設定されるのとは異なる。
The signal generating section is composed of signal generating circuits SG1 to SGn corresponding to the product mounting boards 1 to n. This signal generator is operated by a unique power supply voltage. Although not particularly limited, the input signal to the semiconductor device under test mounted on the product mounting board is TT
It is made a constant signal such as L level. This is different from the case where the operating voltage of the semiconductor device under test is set near its maximum operating voltage as described above.

【0011】このように、被試験半導体装置に供給され
る電源電圧と、入力信号を形成する電源が別々である
と、電源電圧回路VG1等からみた製品実装基板1に搭
載される被試験半導体装置の数や品種に応じた負荷の軽
重により、電源立ち上がり等が大きく変動したり、バー
ンイン装置内での瞬断による電圧低下や変動により、入
力信号レベルに対して電源電圧が低くなる虞れがある。
このような現象が生じると、被試験半導体装置の内部回
路では、寄生サイリスタによるラッチアップが発生して
素子破壊が発生してしまうという問題が生じる。
As described above, when the power supply voltage supplied to the semiconductor device under test and the power supply for forming the input signal are different, the semiconductor device under test mounted on the product mounting board 1 viewed from the power supply voltage circuit VG1 and the like. There is a risk that the power supply voltage may drop significantly relative to the input signal level due to a large change in the power supply startup, etc. due to the load or load depending on the number and type of products, or a voltage drop or fluctuation due to an instantaneous interruption in the burn-in device. ..
When such a phenomenon occurs, in the internal circuit of the semiconductor device under test, there is a problem that latch-up occurs due to the parasitic thyristor and element breakdown occurs.

【0012】この実施例では、上記のようなラッチアッ
プ等の発生を未然に防止するために、製品実装部の各製
品実装基板1ないしnに一対一に対応させて電圧モニタ
回路VM1〜VMnが設けられる。上記製品実装基板1
に余裕があれば、電圧モニタ回路VM1〜VMnは、そ
れぞれに対応した製品実装基板1ないしnに設けられ
る。これにより、電圧モニタ回路VM1〜VMnは、そ
れぞれの実装基板における動作電圧をモニタできるか
ら、電圧電圧回路VGでの電圧低下や瞬断以外に製品実
装基板と電源電圧供給部との間の接続経路での断線や接
触不良に起因する電圧低下も正確に検出することができ
る。
In this embodiment, the voltage monitor circuits VM1 to VMn are provided in a one-to-one correspondence with the product mounting boards 1 to n of the product mounting portion in order to prevent the occurrence of the above-mentioned latch-up. It is provided. Product mounting board 1
If there is a margin, the voltage monitor circuits VM1 to VMn are provided on the corresponding product mounting boards 1 to n. As a result, the voltage monitor circuits VM1 to VMn can monitor the operating voltage of each mounting board, so that the connection path between the product mounting board and the power supply voltage supply unit can be used in addition to the voltage drop and the instantaneous interruption in the voltage / voltage circuit VG. It is also possible to accurately detect a voltage drop due to a disconnection or a contact failure at.

【0013】電圧モニタ回路VM1〜VMnの出力信号
C1〜Cnは、上記信号発生部の信号発生回路SG1〜
SGnに入力される。この信号C1〜Cnにより、信号
発生回路SG1〜SGnにおいて形成された信号の出力
が制御される。すなわち、製品実装基板1〜nでの動作
電圧が所望の動作電圧であることが電圧モニタ回路VM
1〜VMnにおいて検出されたときのみ、上記信号Cに
より被試験半導体装置に対する入力信号S1〜Snが許
可され、動作電圧V1〜Vnが十分に立ち上がる前や一
時的に低下したときには、個々の動作電圧V1〜Vnに
応じて被試験半導体装置に対する入力信号S1〜Snが
停止させられ、強制的に回路の接地電位のようなロウレ
ベルにされる。これにより、個々の製品実装基板1ない
しnにおいて、被試験半導体装置の動作電圧が実質的に
不足しているときには、入力信号が全て強制的にロウレ
ベルにされており、ラッチアップを未然に防止すること
ができる。
The output signals C1 to Cn of the voltage monitor circuits VM1 to VMn are the signal generation circuits SG1 to SG1 of the signal generator.
Input to SGn. The signals C1 to Cn control the output of the signals generated in the signal generation circuits SG1 to SGn. That is, it is determined that the operating voltage on the product mounting boards 1 to n is the desired operating voltage.
1-VMn, the input signals S1-Sn to the semiconductor device under test are permitted by the signal C, and when the operating voltages V1-Vn sufficiently rise or temporarily decrease, the individual operating voltages The input signals S1 to Sn to the semiconductor device under test are stopped according to V1 to Vn, and are forced to a low level like the ground potential of the circuit. As a result, in each of the product mounting boards 1 to n, when the operating voltage of the semiconductor device under test is substantially insufficient, all the input signals are forcibly set to the low level, and latch-up is prevented in advance. be able to.

【0014】図2には、電圧モニタ回路の一実施例の回
路図が示されている。製品実装基板1等に搭載された被
試験半導体装置の動作電圧V1は、抵抗R1とR2より
分圧される。この分圧電圧V1’は、電圧比較回路VC
の一方の入力(+)に供給される。電圧比較回路VCの
他方(−)の入力には、基準電圧VREFが供給され
る。この基準電圧VREFは、入力信号レベルに対して
逆転してしまう直前の動作電圧V1の分圧電圧V1’に
対応して設定される。電圧比較回路VCは、分圧電圧V
1’が基準電圧VREFより低くなると、出力信号C1
をロウレベルにして、次に説明するように信号発生回路
SG1等の信号出力を禁止する。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the voltage monitor circuit. The operating voltage V1 of the semiconductor device under test mounted on the product mounting board 1 or the like is divided by the resistors R1 and R2. This divided voltage V1 ′ is the voltage comparison circuit VC
Is supplied to one of the inputs (+). The reference voltage VREF is supplied to the other (-) input of the voltage comparison circuit VC. The reference voltage VREF is set in correspondence with the divided voltage V1 ′ of the operating voltage V1 immediately before it is inverted with respect to the input signal level. The voltage comparison circuit VC has a divided voltage V
When 1 ′ becomes lower than the reference voltage VREF, the output signal C1
Is set to a low level to inhibit signal output of the signal generating circuit SG1 and the like as described below.

【0015】図3には、信号発生部の一実施例の回路図
が示されている。ブラックボックスで示された信号発生
回路SG1により形成された信号S11〜S1mは、ア
ンド(AND)ゲート回路G1〜Gmを通して出力され
る。このアンドゲート回路G1〜Gmは、フリップフロ
ップFFにより形成された信号出力イネーブル信号SE
が供給される。フリップフロップFFは、前記電圧モニ
タ回路VM1により形成された出力信号C1がセット入
力Sに供給される。このフリップフロップFFのリセッ
ト入力Rには、信号C1を受けるインバータ回路Nの出
力信号が供給される。これにより、信号C1がハイレベ
ルときには、フリップフロップFFがセットされて、出
力端子Qからハイレベルの信号出力イネーブル信号SE
が出力される。これに対して、信号C1がロウレベルと
きには、フリップフロップFFがリセットされて、出力
端子Qからロウレベルの信号出力イネーブル信号SEが
出力される。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of the signal generator. The signals S11 to S1m formed by the signal generating circuit SG1 represented by the black box are output through AND gate circuits G1 to Gm. The AND gate circuits G1 to Gm have a signal output enable signal SE formed by a flip-flop FF.
Is supplied. In the flip-flop FF, the output signal C1 formed by the voltage monitor circuit VM1 is supplied to the set input S. The output signal of the inverter circuit N receiving the signal C1 is supplied to the reset input R of the flip-flop FF. As a result, when the signal C1 is at the high level, the flip-flop FF is set and the signal output enable signal SE at the high level is output from the output terminal Q.
Is output. On the other hand, when the signal C1 is low level, the flip-flop FF is reset and the low level signal output enable signal SE is output from the output terminal Q.

【0016】他の電源電圧回路VGn等に対応した製品
実装基板nの電圧モニタ回路VMnの出力信号Cnも、
上記同様に信号発生回路SGnに対応したフリップフロ
ップに伝えられ、その出力信号により同様な出力ゲート
回路の制御が行われる。
The output signal Cn of the voltage monitor circuit VMn of the product mounting board n corresponding to the other power supply voltage circuit VGn,
Similarly to the above, the signal is transmitted to the flip-flop corresponding to the signal generating circuit SGn, and the output signal thereof controls the similar output gate circuit.

【0017】図4には、この発明を説明するための動作
波形図が示されている。電源回路VG1の動作開始によ
り動作電圧V1が立ち上げられる。この動作電圧V1の
分圧電圧V1’が基準電圧VREFに達すると、信号S
Eがロウレベルからハイレベルに変化する。これによ
り、前記のようなアンドゲート回路G1〜Gmがゲート
を開くので、信号発生回路SG1により既に発生されて
いた信号S11〜S1mがバーンインテスト用の信号S
B1〜SBmとして製品実装基板1上に搭載されて被試
験半導体装置に供給される。
FIG. 4 shows an operation waveform diagram for explaining the present invention. When the power supply circuit VG1 starts operating, the operating voltage V1 rises. When the divided voltage V1 ′ of the operating voltage V1 reaches the reference voltage VREF, the signal S
E changes from low level to high level. As a result, the AND gate circuits G1 to Gm as described above open the gates, so that the signals S11 to S1m already generated by the signal generating circuit SG1 are the signals S for the burn-in test.
B1 to SBm are mounted on the product mounting board 1 and supplied to the semiconductor device under test.

【0018】上記のように電源の立ち上がり時や、負荷
の急激や変動やバーンインテスト装置内での瞬断等によ
り動作電圧が一時的に低下して、その分圧電圧V1’が
基準電圧VREF以下のときには、信号SEがロウレベ
ルとなって、アンドゲート回路G1〜Gmのゲートを閉
じてしまい、被試験半導体装置に入力されるバーンイン
テスト用の信号SB1〜SBmを、信号発生回路SG1
により形成された信号S11〜S1mに無関係に強制的
に回路の接地電位のようなロウレベルにする。これによ
り、動作電圧が低下しても信号レベルがそれより高くな
ることはない。これにより、被試験半導体装置がCMO
S回路のようにラッチアップが発生することがない。
As described above, the operating voltage is temporarily reduced due to the rise of the power supply, the sudden change of the load, the momentary interruption in the burn-in test device, etc., and the divided voltage V1 'is less than the reference voltage VREF. At this time, the signal SE goes low, closing the gates of the AND gate circuits G1 to Gm, and the signals SB1 to SBm for the burn-in test input to the semiconductor device under test are changed to the signal generation circuit SG1.
Are forced to a low level like the ground potential of the circuit irrespective of the signals S11 to S1m formed by. As a result, even if the operating voltage is lowered, the signal level does not become higher than that. As a result, the semiconductor device under test becomes a CMO.
Latch-up does not occur unlike the S circuit.

【0019】この実施例では、バーインテスト装置が複
数の電源電圧回路VG1〜VGnを持つ場合、それぞれ
に対応して電圧モニタ回路を設けて対応した信号発生回
路の出力を制御するので、各電源電圧回路VG1〜VG
nにおける負荷(被試験半導体装置)の状況に応じた微
妙な変動を捕らえることができ、信頼性の高い半導体装
置のバーンインテストを実施することができる。
In this embodiment, when the burn-in test apparatus has a plurality of power supply voltage circuits VG1 to VGn, a voltage monitor circuit is provided corresponding to each of them to control the output of the corresponding signal generating circuit. Circuits VG1 to VG
It is possible to capture a subtle change in the load n (semiconductor device under test) depending on the situation, and it is possible to perform a highly reliable burn-in test of the semiconductor device.

【0020】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 被試験半導体装置に与えられる動作電圧をモニ
タする電圧モニタ回路を設け、電源電圧供給部から被試
験半導体装置に与えられる動作電圧が正常な動作に必要
な所定電圧以上のときにのみ信号発生部により発生され
た入力信号を被試験半導体装置に対して供給するよう制
御することにより、動作電圧に対して入力信号のレベル
が高くなってしまうことによるラッチアップ等の異常動
作の発生を未然に防止することができるという効果が得
られる。
The operational effects obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) a voltage monitor circuit for monitoring the operating voltage applied to the semiconductor device under test is provided, and when the operating voltage applied to the semiconductor device under test from the power supply voltage supply unit is equal to or higher than a predetermined voltage required for normal operation. By controlling the input signal generated by the signal generator to be supplied to the semiconductor device under test, the level of the input signal becomes higher than the operating voltage, causing abnormal operation such as latch-up. It is possible to obtain the effect that the above can be prevented.

【0021】(2) 複数の電源電圧回路やそれに応じ
た製品実装基板及び信号発生回路から構成されるとき、
それぞれに対応して電圧モニタして被試験半導体装置に
入力される信号を制御するものであるので、個々の電源
電圧回路における負荷(被試験半導体装置)の状況に応
じた微妙な変動を捕らえることができ、信頼性の高い半
導体装置のバーンインテストを実施することができると
いう効果が得られる。
(2) When it is composed of a plurality of power supply voltage circuits and a product mounting board and a signal generating circuit corresponding thereto,
Since the voltage is monitored corresponding to each and the signal input to the semiconductor device under test is controlled, it is possible to capture subtle fluctuations according to the status of the load (semiconductor device under test) in each power supply voltage circuit. As a result, it is possible to perform the burn-in test of the semiconductor device with high reliability.

【0022】(3) 電圧モニタを行う回路を製品実装
部(炉)の中に設けることにより、被試験半導体装置に
供給される動作電圧をより正確にモニタできるという効
果が得られる。
(3) By providing a circuit for performing voltage monitoring in the product mounting section (furnace), the operating voltage supplied to the semiconductor device under test can be more accurately monitored.

【0023】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、電圧
モニタは、ヒステリシス特性を持つ電圧コンパレータに
より動作電圧をモニタするものであってもよい。このよ
うなヒステリシス特性を利用することにより、バーンイ
ンテスト用の信号の供給を安定に行える。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the voltage monitor may monitor the operating voltage with a voltage comparator having a hysteresis characteristic. By utilizing such a hysteresis characteristic, it is possible to stably supply the burn-in test signal.

【0024】バーンインテスト用の信号を被試験半導体
装置に選択的に供給する機能は、製品実装基板上に設け
る構成としてもよい。この場合には、製品実装部内で電
圧モニタと信号の選択的な供給を行う回路との接続を行
うことができる。上記電圧モニタを行う回路は、電源電
圧回路VGや信号発生回路SGに搭載してもよい。この
発明は、半導体試験装置として広く利用できる。
The function of selectively supplying the burn-in test signal to the semiconductor device under test may be provided on the product mounting board. In this case, the voltage monitor and the circuit for selectively supplying the signal can be connected in the product mounting section. The circuit for performing the voltage monitoring may be mounted on the power supply voltage circuit VG or the signal generation circuit SG. The present invention can be widely used as a semiconductor test device.

【0025】[0025]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、被試験半導体装置に与えら
れる動作電圧をモニタする電圧モニタ部を設け、電源電
圧供給部から被試験半導体装置に与えられる動作電圧が
正常な動作に必要な所定電圧以上のときにのみ信号発生
部により発生された入力信号を被試験半導体装置に対し
て供給するよう制御することにより、動作電圧に対して
入力信号のレベルが高くなってしまうことによるラッチ
アップ等の異常動作の発生を未然に防止することができ
る。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a voltage monitor unit for monitoring the operating voltage applied to the semiconductor device under test is provided, and a signal is generated only when the operating voltage applied from the power supply voltage supply unit to the semiconductor device under test is equal to or higher than a predetermined voltage required for normal operation. By controlling the input signal generated by the section to be supplied to the semiconductor device under test, the occurrence of abnormal operation such as latch-up due to the level of the input signal becoming higher than the operating voltage can be prevented. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係るバーンインテスト装置の一実施
例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a burn-in test apparatus according to the present invention.

【図2】上記バーンインテスト装置に設けられる電圧モ
ニタの一実施例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of a voltage monitor provided in the burn-in test device.

【図3】上記バーンインテスト装置に設けられる信号発
生部の一実施例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment of a signal generator provided in the burn-in test device.

【図4】この発明に係るバーンインテスト装置の動作の
一例を説明するための波形図である。
FIG. 4 is a waveform diagram for explaining an example of the operation of the burn-in test apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

VG1〜VGn…電源電圧回路、V1〜Vn…動作電
圧、VM1〜VMn…電圧モニタ回路、C1〜Cn…モ
ニタ出力信号、SG1〜SGn…信号発生回路、S1〜
Sn…入力信号、S11〜S1m…信号発生回路の出力
信号、SB11〜SB1m…バーンインテスト用信号、
FF…フリップフロップ、N…インバータ回路、G1〜
Gm…アンドゲート回路。
VG1 to VGn ... Power supply voltage circuit, V1 to Vn ... Operating voltage, VM1 to VMn ... Voltage monitor circuit, C1 to Cn ... Monitor output signal, SG1 to SGn ... Signal generating circuit, S1.
Sn ... Input signal, S11-S1m ... Output signal of signal generation circuit, SB11-SB1m ... Burn-in test signal,
FF ... Flip-flop, N ... Inverter circuit, G1 ...
Gm ... AND gate circuit.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被試験半導体装置に対して動作電圧を供
給する電源電圧供給部と、被試験半導体装置が搭載され
る製品実装部と、上記被試験半導体装置の内部回路の動
作に必要な入力信号を発生させる信号発生部と、上記被
試験半導体装置に与えられる動作電圧をモニタして、そ
の動作電圧が被試験半導体装置の正常な動作に必要な所
定電圧以上のときにのみ上記信号発生部により発生され
た入力信号を被試験半導体装置に対して供給するよう制
御する電圧モニタ部とを備えてなることを特徴とする半
導体試験装置。
1. A power supply voltage supply section for supplying an operating voltage to a semiconductor device under test, a product mounting section on which the semiconductor device under test is mounted, and inputs necessary for operation of an internal circuit of the semiconductor device under test. A signal generator that generates a signal and an operating voltage applied to the semiconductor device under test are monitored, and the signal generator is generated only when the operating voltage is equal to or higher than a predetermined voltage required for normal operation of the semiconductor device under test. And a voltage monitor unit for controlling the input signal generated by the device to be supplied to the semiconductor device under test.
【請求項2】 上記製品実装部は、被試験装置を所望の
高温度にする機能を持つものであり、電圧モニタ部はこ
の製品実装部中に設けられるものであることを特徴とす
る請求項1の半導体試験装置。
2. The product mounting section has a function of bringing a device under test to a desired high temperature, and the voltage monitor section is provided in the product mounting section. 1. Semiconductor test equipment.
【請求項3】 上記信号発生部は、電圧モニタ部により
形成された電圧モニタ出力信号に従い、発生した信号を
選択的に被試験装置に対して出力させる出力ゲート機能
が設けられるものであることを特徴とする請求項1又は
請求項2の半導体試験装置。
3. The signal generating section is provided with an output gate function for selectively outputting the generated signal to the device under test according to the voltage monitor output signal formed by the voltage monitoring section. The semiconductor test apparatus according to claim 1 or 2, which is characterized.
JP4040132A 1992-01-30 1992-01-30 Semiconductor test device Pending JPH05209930A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012059996A (en) * 2010-09-10 2012-03-22 Elpida Memory Inc Method of manufacturing semiconductor device

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