JPH05196415A - 平行移動装置に用いられる変位測定方法及び変位測定装置 - Google Patents
平行移動装置に用いられる変位測定方法及び変位測定装置Info
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- JPH05196415A JPH05196415A JP3002892A JP3002892A JPH05196415A JP H05196415 A JPH05196415 A JP H05196415A JP 3002892 A JP3002892 A JP 3002892A JP 3002892 A JP3002892 A JP 3002892A JP H05196415 A JPH05196415 A JP H05196415A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】可動盤を移動した状態で、連続的に平行度等の
変位を高精度にて測定する。 【構成】可動盤5を移動した状態で、固定盤6に装着さ
れたレーザビームガン17から移動方向に平行にレーザ
光を照射する。該照射光Bはハーフミラー19を透過し
て可動盤5に装着された反射鏡18に反射される。該反
射光Cはハーフミラー19に反射されて、CCD20に
て検出される。CCD20上の光点に対応して表示装置
26上の座標軸に、可動盤5の移動位置に対応した可動
盤の変位角が線図として表示される。
変位を高精度にて測定する。 【構成】可動盤5を移動した状態で、固定盤6に装着さ
れたレーザビームガン17から移動方向に平行にレーザ
光を照射する。該照射光Bはハーフミラー19を透過し
て可動盤5に装着された反射鏡18に反射される。該反
射光Cはハーフミラー19に反射されて、CCD20に
て検出される。CCD20上の光点に対応して表示装置
26上の座標軸に、可動盤5の移動位置に対応した可動
盤の変位角が線図として表示される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平行移動装置、例えば
射出成形機及びプレス機等における金型の移動装置、及
び放電加工における可動部材の移動装置に用いられ、平
行移動部材の変位を測定する方法及び装置に係り、詳し
くは平行移動部材の移動状態において連続的に測定する
変位測定方法、並びにそれに用いられる測定装置に関す
る。
射出成形機及びプレス機等における金型の移動装置、及
び放電加工における可動部材の移動装置に用いられ、平
行移動部材の変位を測定する方法及び装置に係り、詳し
くは平行移動部材の移動状態において連続的に測定する
変位測定方法、並びにそれに用いられる測定装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、例えば射出成形機における型締
装置は、図6に示すように、型締シリンダ1内に摺動自
在に嵌挿されている型締ラム2を有しており、該ラム2
の先端には金型3を取付け得る可動盤5が連結されてい
る。金型3は射出側に設けられた固定盤6に取付けられ
た金型7と対向しており、両金型3,7が当接した所定
型締め状態において、両金型にて形成される空間(キャ
ピティ)に、固定盤6のノズル挿入口8から射出ノズル
(図示せず)所定溶融状態にあるプラスチックが射出さ
れる。また、型締ラム2の後端は環状に膨出してピスト
ン部2aを形成しており、該ピストン部底面とシリンダ
1とにより比較的大容量の型締油室9が形成され、また
ピストン部前面とシリンダ1との間にて比較的小容量の
型開油室10が形成されている。更に、型締ラム2の中
央部分には所定深さの孔が形成されており、該孔にはシ
リンダ1から突出形成されているブースタラム11が嵌
挿されて、型閉油室12を形成している。また、型締油
室9に連通してプレフィルバルブ14が設置されてい
る。そして、型締シリンダ1と固定盤6との間には複数
本の案内ロッド13…が設けられており、該ロッド13
に案内されて可動盤5が固定盤6との平行を保持されて
往復自在に支持されている。
装置は、図6に示すように、型締シリンダ1内に摺動自
在に嵌挿されている型締ラム2を有しており、該ラム2
の先端には金型3を取付け得る可動盤5が連結されてい
る。金型3は射出側に設けられた固定盤6に取付けられ
た金型7と対向しており、両金型3,7が当接した所定
型締め状態において、両金型にて形成される空間(キャ
ピティ)に、固定盤6のノズル挿入口8から射出ノズル
(図示せず)所定溶融状態にあるプラスチックが射出さ
れる。また、型締ラム2の後端は環状に膨出してピスト
ン部2aを形成しており、該ピストン部底面とシリンダ
1とにより比較的大容量の型締油室9が形成され、また
ピストン部前面とシリンダ1との間にて比較的小容量の
型開油室10が形成されている。更に、型締ラム2の中
央部分には所定深さの孔が形成されており、該孔にはシ
リンダ1から突出形成されているブースタラム11が嵌
挿されて、型閉油室12を形成している。また、型締油
室9に連通してプレフィルバルブ14が設置されてい
る。そして、型締シリンダ1と固定盤6との間には複数
本の案内ロッド13…が設けられており、該ロッド13
に案内されて可動盤5が固定盤6との平行を保持されて
往復自在に支持されている。
【0003】以上構成に基づき、型閉油室12に圧油を
供給すると共に型開油室10をドレーンし、かつプレフ
ィルバルブ14を開くと、型締ラム2は型締油室9にオ
イルを吸込みながら、高速で型閉じ方向に移動し、可動
盤5は案内ロッド13に案内されて固定盤6に近接す
る。そして、可動盤5に取付けられた金型3が固定盤6
に取付けられた金型7に接近・当接すると、型締油室9
に圧油が供給され、強力な力で金型3が締めつけられる
と共に、ノズル挿入口8から射出ノズルによって溶融プ
ラスチックが射出され、金型3,7にて形成されるキャ
ピティ内に注入・供給されて所定形状に成形される。つ
いで、型開油室10に圧油が供給されると共に型閉油室
12がドレーンし、かつプレフィルバルブ14が開かれ
て、型締ラム2は高速で型開き方向に移動し、可動盤5
は案内ロッド13に案内されて固定盤6から離れる。
供給すると共に型開油室10をドレーンし、かつプレフ
ィルバルブ14を開くと、型締ラム2は型締油室9にオ
イルを吸込みながら、高速で型閉じ方向に移動し、可動
盤5は案内ロッド13に案内されて固定盤6に近接す
る。そして、可動盤5に取付けられた金型3が固定盤6
に取付けられた金型7に接近・当接すると、型締油室9
に圧油が供給され、強力な力で金型3が締めつけられる
と共に、ノズル挿入口8から射出ノズルによって溶融プ
ラスチックが射出され、金型3,7にて形成されるキャ
ピティ内に注入・供給されて所定形状に成形される。つ
いで、型開油室10に圧油が供給されると共に型閉油室
12がドレーンし、かつプレフィルバルブ14が開かれ
て、型締ラム2は高速で型開き方向に移動し、可動盤5
は案内ロッド13に案内されて固定盤6から離れる。
【0004】これにより、可動盤5は案内ロッド13に
案内されて、固定盤6との平行を保持した状態で型開閉
及び型締め作業を行うが、可動盤5及び固定盤6の平行
度は、加工精度の高い金型に対して重大な影響を及ぼ
す。即ち、型開閉及び型締め作業の型締めにおいて、大
きな圧力を金型に加えるため、金型が破損するとその成
形能力は皆無となるばかりか、成形品にはかなりの精度
を要求される製品が多く、平行精度が劣化すると成形不
良品となることがある。
案内されて、固定盤6との平行を保持した状態で型開閉
及び型締め作業を行うが、可動盤5及び固定盤6の平行
度は、加工精度の高い金型に対して重大な影響を及ぼ
す。即ち、型開閉及び型締め作業の型締めにおいて、大
きな圧力を金型に加えるため、金型が破損するとその成
形能力は皆無となるばかりか、成形品にはかなりの精度
を要求される製品が多く、平行精度が劣化すると成形不
良品となることがある。
【0005】このため、定期的又は所定稼動時間毎に可
動盤5と固定盤6との平行度を測定して調整する必要が
あるが、従来、該測定は、型開き時及び型閉じ時におけ
る可動及び固定の両盤5,6の上下・左右位置における
距離を、治具及びダイヤルゲージ等にて測定して行う
か、又は水準器を用いて行っていた。そして、該測定結
果に基づき、案内ロッド13の端に螺合しているナット
13a,13aを調節して、可動盤5と固定盤6との平
行度を調整している。
動盤5と固定盤6との平行度を測定して調整する必要が
あるが、従来、該測定は、型開き時及び型閉じ時におけ
る可動及び固定の両盤5,6の上下・左右位置における
距離を、治具及びダイヤルゲージ等にて測定して行う
か、又は水準器を用いて行っていた。そして、該測定結
果に基づき、案内ロッド13の端に螺合しているナット
13a,13aを調節して、可動盤5と固定盤6との平
行度を調整している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した距離
又は水準器による平行度の測定は、熟練を要すると共に
精度の高い測定を行うのは困難であり、特に横型射出成
形機のように可動盤が横方向に移動するものは、測定時
に重力の影響を受けて測定を困難にしている。
又は水準器による平行度の測定は、熟練を要すると共に
精度の高い測定を行うのは困難であり、特に横型射出成
形機のように可動盤が横方向に移動するものは、測定時
に重力の影響を受けて測定を困難にしている。
【0007】また、可動盤5を停止した所定位置での平
行度の測定しか行うことができず、使用状態に即応し
て、可動盤5の移動状態における連続的な測定を行うこ
とが望まれている。
行度の測定しか行うことができず、使用状態に即応し
て、可動盤5の移動状態における連続的な測定を行うこ
とが望まれている。
【0008】更に、レーザ光を用いた距離の測定装置
を、平行移動装置の平行度測定に利用することも考えら
れる。しかし、このものにあっては、精度の高い距離の
測定を行うことが可能であるとしても、可動盤を所定位
置に固定した状態での静的な測定であって、上述した可
動盤を移動した状態で連続的に測定することができず、
また装置が大掛かりとなって、高価であると共に操作が
極めて複雑になっている。
を、平行移動装置の平行度測定に利用することも考えら
れる。しかし、このものにあっては、精度の高い距離の
測定を行うことが可能であるとしても、可動盤を所定位
置に固定した状態での静的な測定であって、上述した可
動盤を移動した状態で連続的に測定することができず、
また装置が大掛かりとなって、高価であると共に操作が
極めて複雑になっている。
【0009】そこで、本発明は、可動部材(盤)を移動
した状態で、連続的に平行度等の変位を高精度にて測定
できる、変位測定方法及び測定装置を提供することを目
的とするものである。
した状態で、連続的に平行度等の変位を高精度にて測定
できる、変位測定方法及び測定装置を提供することを目
的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係る測定方法
は、固定部材(6)に対して平行移動し得る可動部材
(5)を有する平行移動装置に用いられる変位測定方法
であって、前記固定部材及び可動部材のいずれか一方
(6)に装着された光源(17)からの光を前記可動部
材(5)の移動方向に平行に照射し、該照射光(B)
を、ハーフミラー(19)を透過して前記固定部材及び
可動部材のいずれか他方(5)に設けられた反射鏡(1
8)にて反射し、該反射光(C)を、前記ハーフミラー
(19)に反射して検出手段(20)にて検出すること
により、前記可動部材(5)を移動しながら、該可動部
材の前記固定部材に対する変位を連続的に測定するこ
と、を特徴とする。
は、固定部材(6)に対して平行移動し得る可動部材
(5)を有する平行移動装置に用いられる変位測定方法
であって、前記固定部材及び可動部材のいずれか一方
(6)に装着された光源(17)からの光を前記可動部
材(5)の移動方向に平行に照射し、該照射光(B)
を、ハーフミラー(19)を透過して前記固定部材及び
可動部材のいずれか他方(5)に設けられた反射鏡(1
8)にて反射し、該反射光(C)を、前記ハーフミラー
(19)に反射して検出手段(20)にて検出すること
により、前記可動部材(5)を移動しながら、該可動部
材の前記固定部材に対する変位を連続的に測定するこ
と、を特徴とする。
【0011】また、本発明に係る測定装置は、固定部材
(6)に対して平行移動し得る可動部材(5)を有する
平行移動装置に用いられる変位測定装置(16)であっ
て、前記固定部材及び可動部材のいずれか一方(6)に
装着される光源(17)と、前記固定部材及び可動部材
のいずれか他方(5)に装着される反射鏡(18)と、
前記光源(17)から反射鏡(18)への照射線上に配
置され、前記光源からの光を透過しかつ前記反射鏡から
の反射光を反射するハーフミラー(19)と、該ハーフ
ミラーからの反射光を検出する検出手段(20)と、を
備えてなることを特徴とする。
(6)に対して平行移動し得る可動部材(5)を有する
平行移動装置に用いられる変位測定装置(16)であっ
て、前記固定部材及び可動部材のいずれか一方(6)に
装着される光源(17)と、前記固定部材及び可動部材
のいずれか他方(5)に装着される反射鏡(18)と、
前記光源(17)から反射鏡(18)への照射線上に配
置され、前記光源からの光を透過しかつ前記反射鏡から
の反射光を反射するハーフミラー(19)と、該ハーフ
ミラーからの反射光を検出する検出手段(20)と、を
備えてなることを特徴とする。
【0012】更に、好ましくは、例えば図4に示すよう
に、互に直角方向に延びる第1の部位(30a)及び第
2の部位(30b)を有するケース体(30)を備え、
前記第1の部位(30a)の先端に、前記固定部材又は
可動部材に密着して装着し得る装着面(a)を形成する
と共に、該装着面に対して直交する方向に光を照射する
ように前記光源(17)を配置し、また前記第2の部位
(30b)の先端に、前記光源(17)からの照射光
(B)に平行に検出手段(20)を配置し、そして前記
ケース体(30)の直交部分に、前記光源からの照射光
(B)に対して45度に前記ハーフミラー(19)を配
置する。
に、互に直角方向に延びる第1の部位(30a)及び第
2の部位(30b)を有するケース体(30)を備え、
前記第1の部位(30a)の先端に、前記固定部材又は
可動部材に密着して装着し得る装着面(a)を形成する
と共に、該装着面に対して直交する方向に光を照射する
ように前記光源(17)を配置し、また前記第2の部位
(30b)の先端に、前記光源(17)からの照射光
(B)に平行に検出手段(20)を配置し、そして前記
ケース体(30)の直交部分に、前記光源からの照射光
(B)に対して45度に前記ハーフミラー(19)を配
置する。
【0013】なお、上記カッコ内の符号は、図面と対照
するためのものであるが、何等本発明の構成を限定する
ものではない。
するためのものであるが、何等本発明の構成を限定する
ものではない。
【0014】
【実施例】以下、図面に沿って本発明の実施例について
説明する。
説明する。
【0015】射出成形機における型締装置等の平行移動
装置は、図1に示すように、可動盤(プラテン)5及び
固定盤(プラテン)6を有しており、可動盤5は固定盤
6と型締シリンダとの間に設けられた案内ロッド13,
13に往復動自在に案内されている。そして、可動盤5
の移動路に臨んでリニアスケール15が配設されてお
り、該スケールにて可動盤5の移動位置を検出し得る。
なお、可動盤5の移動位置検出は、リニアスケールに限
らず、ポテンショメータやロータリエンコーダ等の他の
位置検出装置でもよいことは勿論である。
装置は、図1に示すように、可動盤(プラテン)5及び
固定盤(プラテン)6を有しており、可動盤5は固定盤
6と型締シリンダとの間に設けられた案内ロッド13,
13に往復動自在に案内されている。そして、可動盤5
の移動路に臨んでリニアスケール15が配設されてお
り、該スケールにて可動盤5の移動位置を検出し得る。
なお、可動盤5の移動位置検出は、リニアスケールに限
らず、ポテンショメータやロータリエンコーダ等の他の
位置検出装置でもよいことは勿論である。
【0016】また、変位測定装置16は、レーザビーム
ガン17、反射鏡18、ハーフミラー19及び電荷結合
素子(CCD)20を有している。レーザビームガン1
7はホルダ21に保持・固定されており、該ホルダ21
にはビーム照射方向を補正する複数の調整ネジ22…が
設けられており、レーザビームガン17は該調整ネジ2
2を介して固定盤6の可動盤側側面6aに取付けられ
る。一方、可動盤5の固定盤側側面5aには平面鏡から
なる反射鏡18がマグネット等により取付けられ、また
前記レーザビームガン17から該反射鏡18への照射線
B上例えばレーザビームガン17の直前に、該照射線B
に対して45度の角度にてハーフミラー19が配置され
る。更に、受光面平面が前記ガン17からの照射光軸B
に平行になるように、多数の受光素子をマトリックス配
置した電荷結合素子20が設置されている。そして、ガ
ン17からのレーザ光Bは、該ハーフミラー19を透過
して反射鏡18に至り、かつ該反射鏡18にて反射され
た反射光Cはハーフミラー19にて反射され、電荷結合
素子20のマトリックス上に照射される。更に、電荷結
合素子20は、インターフェイス24に結線されてお
り、かつ該インターフェイス24から中央演算装置(C
PU)25に接続され、更に該中央演算装置25はCR
T等の表示装置26及びマイクロフロッピーディスク
(MFD)等の記録装置27に出力すると共に、入力装
置29及びリニアケース15からの信号が入力してい
る。
ガン17、反射鏡18、ハーフミラー19及び電荷結合
素子(CCD)20を有している。レーザビームガン1
7はホルダ21に保持・固定されており、該ホルダ21
にはビーム照射方向を補正する複数の調整ネジ22…が
設けられており、レーザビームガン17は該調整ネジ2
2を介して固定盤6の可動盤側側面6aに取付けられ
る。一方、可動盤5の固定盤側側面5aには平面鏡から
なる反射鏡18がマグネット等により取付けられ、また
前記レーザビームガン17から該反射鏡18への照射線
B上例えばレーザビームガン17の直前に、該照射線B
に対して45度の角度にてハーフミラー19が配置され
る。更に、受光面平面が前記ガン17からの照射光軸B
に平行になるように、多数の受光素子をマトリックス配
置した電荷結合素子20が設置されている。そして、ガ
ン17からのレーザ光Bは、該ハーフミラー19を透過
して反射鏡18に至り、かつ該反射鏡18にて反射され
た反射光Cはハーフミラー19にて反射され、電荷結合
素子20のマトリックス上に照射される。更に、電荷結
合素子20は、インターフェイス24に結線されてお
り、かつ該インターフェイス24から中央演算装置(C
PU)25に接続され、更に該中央演算装置25はCR
T等の表示装置26及びマイクロフロッピーディスク
(MFD)等の記録装置27に出力すると共に、入力装
置29及びリニアケース15からの信号が入力してい
る。
【0017】ついで、上述した変位測定装置16を用い
た測定方法について説明する。
た測定方法について説明する。
【0018】固定盤6の金型装着面である対向側面6a
の任意の位置、例えば中央部分に、ホルダ21に保持さ
れているレーザビームガン17を取付ける。この際、調
整ネジ22…によりレーザビームガン17からのレーザ
光Bが固定盤側面6aに直交するように調整する。一
方、可動盤5の対向側面5aにおける前記レーザ光Bが
照射される部分に、反射鏡18を取付ける。更に、該レ
ーザ光Bの光路を遮ぎるように、ハーフミラー19を光
軸に対して45度に配置し、かつ該ハーフミラーからの
反射光Dを受光するようにCCD20を配置する。な
お、反射鏡18は、可動盤5の対向側面5a(の一部)
を鏡面仕上して、反射鏡の代りとすることも可能であ
る。
の任意の位置、例えば中央部分に、ホルダ21に保持さ
れているレーザビームガン17を取付ける。この際、調
整ネジ22…によりレーザビームガン17からのレーザ
光Bが固定盤側面6aに直交するように調整する。一
方、可動盤5の対向側面5aにおける前記レーザ光Bが
照射される部分に、反射鏡18を取付ける。更に、該レ
ーザ光Bの光路を遮ぎるように、ハーフミラー19を光
軸に対して45度に配置し、かつ該ハーフミラーからの
反射光Dを受光するようにCCD20を配置する。な
お、反射鏡18は、可動盤5の対向側面5a(の一部)
を鏡面仕上して、反射鏡の代りとすることも可能であ
る。
【0019】そして、可動盤5を型開き方向に最大に移
動した状態で、前記レーザビームガン17を発光すると
共に、可動盤5を型閉じ方向に移動する。すると、レー
ザビームガン17からのレーザ光Bはハーフミラー19
を透過して可動盤5上の反射鏡18にて反射され、該反
射光Cはハーフミラー19にて反射されて、CCD20
のマトリックスにおける所定受光素子上に照射される。
これにより、該受光素子は電気信号に変換し、インター
フェイス24及びCPU25を介して表示装置26に構
成されたドッドマトリックス上の対応する座標位置に光
点として表示する。一方、可動盤5の移動は、リニアス
ケール15により逐次検知され、該検知された位置信号
がCPU25を介して表示装置26に出力され、該表示
装置26のドッドマトリックス上に、可動盤5の移動位
置に同期して前記光点を移動すると共にその軌跡を表示
する。
動した状態で、前記レーザビームガン17を発光すると
共に、可動盤5を型閉じ方向に移動する。すると、レー
ザビームガン17からのレーザ光Bはハーフミラー19
を透過して可動盤5上の反射鏡18にて反射され、該反
射光Cはハーフミラー19にて反射されて、CCD20
のマトリックスにおける所定受光素子上に照射される。
これにより、該受光素子は電気信号に変換し、インター
フェイス24及びCPU25を介して表示装置26に構
成されたドッドマトリックス上の対応する座標位置に光
点として表示する。一方、可動盤5の移動は、リニアス
ケール15により逐次検知され、該検知された位置信号
がCPU25を介して表示装置26に出力され、該表示
装置26のドッドマトリックス上に、可動盤5の移動位
置に同期して前記光点を移動すると共にその軌跡を表示
する。
【0020】これにより、CCD20のマトリックス上
の受光素子にて検出された可動盤5のX方向及びY方向
の平行変位角(後に説明するθx,θy)が、図2に示
すように、表示装置26の予め設定されたドッドマトリ
ックス上のX−Y座標位置に光点として表示され、それ
が可動盤5の移動に同期して移動し、該光点の移動跡が
光線図Aとして表示される。図2の(a) は、可動盤5が
最開き位置(又は最閉じ位置)を中央点として、最閉じ
位置(又は最開き位置)を経由して元の位置に戻るまで
の往復移動時の線図を示し、また図2の(b) は、可動盤
5が最開き位置(又は最閉じ位置)から最閉じ位置(又
は最開き位置)までの一方向移動時の線図を示す。
の受光素子にて検出された可動盤5のX方向及びY方向
の平行変位角(後に説明するθx,θy)が、図2に示
すように、表示装置26の予め設定されたドッドマトリ
ックス上のX−Y座標位置に光点として表示され、それ
が可動盤5の移動に同期して移動し、該光点の移動跡が
光線図Aとして表示される。図2の(a) は、可動盤5が
最開き位置(又は最閉じ位置)を中央点として、最閉じ
位置(又は最開き位置)を経由して元の位置に戻るまで
の往復移動時の線図を示し、また図2の(b) は、可動盤
5が最開き位置(又は最閉じ位置)から最閉じ位置(又
は最開き位置)までの一方向移動時の線図を示す。
【0021】更に、該線図Aは、CPU25にて演算・
処理され、可動盤5の固定盤6に対する平行度、変形及
び振動等の変位が、可動盤5の移動に応じて連続的に算
出され、また所定位置での上記平行度(変位角)等の変
位が算出される。また、これら算出値は、記録装置27
に記録して、射出成形機の射出成形作業時等にデータと
して利用することができる。
処理され、可動盤5の固定盤6に対する平行度、変形及
び振動等の変位が、可動盤5の移動に応じて連続的に算
出され、また所定位置での上記平行度(変位角)等の変
位が算出される。また、これら算出値は、記録装置27
に記録して、射出成形機の射出成形作業時等にデータと
して利用することができる。
【0022】ついで、図3に沿って、平行変位角の演算
について説明する。図中、L,L1,L2 は、ハーフミ
ラー19の光軸交点Oから可動盤5上の反射鏡18まで
の距離、L0 はレーザ光源17から前記ハーフミラー光
軸交点Oまでの距離で、該距離L0 は光軸交点OからC
CD20の受光面までの距離と等しく設定してある。そ
して、θ1 ,θ2 は反射鏡即ち可動盤5の光軸Bに対す
る変位角、R1 ,R2は該変位角に基づくCCD20上
のレーザ光検出値である。従って、可動盤5の移動位置
L1 ,L2 …において、その変位角θ1 ,θ2 …が連続
的にCCD20上に基準位置P点からのズレ値R1 ,R
2 …として検出される。
について説明する。図中、L,L1,L2 は、ハーフミ
ラー19の光軸交点Oから可動盤5上の反射鏡18まで
の距離、L0 はレーザ光源17から前記ハーフミラー光
軸交点Oまでの距離で、該距離L0 は光軸交点OからC
CD20の受光面までの距離と等しく設定してある。そ
して、θ1 ,θ2 は反射鏡即ち可動盤5の光軸Bに対す
る変位角、R1 ,R2は該変位角に基づくCCD20上
のレーザ光検出値である。従って、可動盤5の移動位置
L1 ,L2 …において、その変位角θ1 ,θ2 …が連続
的にCCD20上に基準位置P点からのズレ値R1 ,R
2 …として検出される。
【0023】該レーザ光検出値R1 ,R2 は、CCD2
0におけるX−Y座標軸上に点として表われるが、その
X軸方向の成分は、図3(b) に示すように、ハーフミラ
ー19の光軸交点Oからの光源17及び受光面20まで
の距離が等しい関係上、 Rx=(L+L0 )tan θx となり、従って、
0におけるX−Y座標軸上に点として表われるが、その
X軸方向の成分は、図3(b) に示すように、ハーフミラ
ー19の光軸交点Oからの光源17及び受光面20まで
の距離が等しい関係上、 Rx=(L+L0 )tan θx となり、従って、
【0024】
【数1】 となる。同様に、Y軸方向の変位角成分は、
【0025】
【数2】 となる。
【0026】上記(1) 及び(2) 式の演算値は、表示装置
26上に、例えば図2に示すように、X軸及びY軸にそ
れぞれθx,θyを表示するか、又はX軸上に可動盤5
の移動位置L,L1 ,L2 …、Y軸上にθx又はθyを
表示する。
26上に、例えば図2に示すように、X軸及びY軸にそ
れぞれθx,θyを表示するか、又はX軸上に可動盤5
の移動位置L,L1 ,L2 …、Y軸上にθx又はθyを
表示する。
【0027】なお、光源17から可動盤5(上の反射
鏡)までの距離(L+L0 )が比較的大きい関係上、厳
密性はそれほど高くはないが、CCD20の基準光線
(O−P)に対する直角度、並びにハーフミラー19の
45度の保証を要する。それを解決するための一実施例
を図4に示す。
鏡)までの距離(L+L0 )が比較的大きい関係上、厳
密性はそれほど高くはないが、CCD20の基準光線
(O−P)に対する直角度、並びにハーフミラー19の
45度の保証を要する。それを解決するための一実施例
を図4に示す。
【0028】本実施例は、セラミック等にて一体に形成
された断面L字状のケース30を有しており、該ケース
30の水平部30aの先端面aは精密に平面度及び直角
度が加工されている。更に、該水平部30aには前記先
端面aに対して直交度を精密に保持されてレーザビーム
ガン17が装着されており、また該ガン17からのレー
ザ光線Bが通過し、かつ反射鏡18からの反射光が通過
し得るように、水平部30aの他端部分には孔bが形成
されている。また、ケース30の垂直部30bの上端部
cには前記ガン17からのレーザ光線Bに平行になるよ
うに、即ち前記水平部先端面aに対して精密に直角度を
保持してCCD20が装着される。そして、水平部30
a及び垂直部30bが交差する部分には前記光軸線Bに
対して45度になるように精密にハーフミラー19が装
着されており、かつ該ハーフミラー19からの反射光が
通過するように孔dが形成されている。
された断面L字状のケース30を有しており、該ケース
30の水平部30aの先端面aは精密に平面度及び直角
度が加工されている。更に、該水平部30aには前記先
端面aに対して直交度を精密に保持されてレーザビーム
ガン17が装着されており、また該ガン17からのレー
ザ光線Bが通過し、かつ反射鏡18からの反射光が通過
し得るように、水平部30aの他端部分には孔bが形成
されている。また、ケース30の垂直部30bの上端部
cには前記ガン17からのレーザ光線Bに平行になるよ
うに、即ち前記水平部先端面aに対して精密に直角度を
保持してCCD20が装着される。そして、水平部30
a及び垂直部30bが交差する部分には前記光軸線Bに
対して45度になるように精密にハーフミラー19が装
着されており、かつ該ハーフミラー19からの反射光が
通過するように孔dが形成されている。
【0029】上述したように構成されている測定ユニッ
トUは、その水平部先端面aが固定盤6の対向側面6a
に例えば磁石又はボルト等により密着して固定される。
これにより、レーザ光線Bに対するCCD20及びハー
フミラー19の角度が保証されると共に、固定盤6に対
するレーザ光線Bの直角度が保証される。
トUは、その水平部先端面aが固定盤6の対向側面6a
に例えば磁石又はボルト等により密着して固定される。
これにより、レーザ光線Bに対するCCD20及びハー
フミラー19の角度が保証されると共に、固定盤6に対
するレーザ光線Bの直角度が保証される。
【0030】一方、反射鏡18も、その厚さが均一にな
るように高精度に形成されており、その反射面が可動盤
5の対向側面5aに例えば磁石又はボルト等により密着
して固定される。これにより、可動盤5と反射鏡鏡面と
の平行度が保証される。
るように高精度に形成されており、その反射面が可動盤
5の対向側面5aに例えば磁石又はボルト等により密着
して固定される。これにより、可動盤5と反射鏡鏡面と
の平行度が保証される。
【0031】また、図5に一部変更した実施例を示す。
本実施例は、反射鏡18を平面鏡に代えて凹面鏡又は凸
面鏡を用いたものである。図5(a) は、凹面鏡182 を
用いた実施例を示し、固定盤8が射出装置等からの熱影
響を受けて矢印に示すように膨張又は収縮変形すると、
該固定盤8に固定されているレーザビームガン17を一
体に移動する。すると、レーザ光の照射軸線が変化し
(B→B′)、凹面鏡182 による反射光Cも変化し
て、CCD20上の受光点にずれRhを生じ、これによ
り固定盤8の可動盤5に対する膨縮変形を測定し得る。
この際、凹面鏡182 の焦点がハーフミラー19上の光
軸交点O上に位置するように可動盤5の移動位置を設定
すると、可動盤5及び固定盤8の平行度変位に影響され
ることなく、上記膨縮変形を測定し得る。
本実施例は、反射鏡18を平面鏡に代えて凹面鏡又は凸
面鏡を用いたものである。図5(a) は、凹面鏡182 を
用いた実施例を示し、固定盤8が射出装置等からの熱影
響を受けて矢印に示すように膨張又は収縮変形すると、
該固定盤8に固定されているレーザビームガン17を一
体に移動する。すると、レーザ光の照射軸線が変化し
(B→B′)、凹面鏡182 による反射光Cも変化し
て、CCD20上の受光点にずれRhを生じ、これによ
り固定盤8の可動盤5に対する膨縮変形を測定し得る。
この際、凹面鏡182 の焦点がハーフミラー19上の光
軸交点O上に位置するように可動盤5の移動位置を設定
すると、可動盤5及び固定盤8の平行度変位に影響され
ることなく、上記膨縮変形を測定し得る。
【0032】また、図5(a) は、凸面鏡を用いた実施例
を示し、同様に膨縮変形を測定し得る。
を示し、同様に膨縮変形を測定し得る。
【0033】なお、上述実施例は、横型射出成形機に適
用して説明したが、これに限らず、竪型射出成形機、プ
レス、放電加工機等における可動部材の変位測定に適用
することができる。また、ハーフミラー19からの反射
光を検出する手段として、電荷結合素子(CCD)20
を用いたが、これに限らず、フォトダイオード、フォト
トランジスタ等の光電変換素子、更には写真フィルム、
感光紙、酸化亜鉛(ZnO)、硫化カドミウム(Cd
s)、セレン(Se)、有機半導体(OPC)、アモル
ファスシリコン(A−Si)等の感光体でもよい。
用して説明したが、これに限らず、竪型射出成形機、プ
レス、放電加工機等における可動部材の変位測定に適用
することができる。また、ハーフミラー19からの反射
光を検出する手段として、電荷結合素子(CCD)20
を用いたが、これに限らず、フォトダイオード、フォト
トランジスタ等の光電変換素子、更には写真フィルム、
感光紙、酸化亜鉛(ZnO)、硫化カドミウム(Cd
s)、セレン(Se)、有機半導体(OPC)、アモル
ファスシリコン(A−Si)等の感光体でもよい。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る測定
方法によると、可動部材を移動した状態において、その
固定部材に対する変位を連続的に測定することができ、
実際の使用状態に応じた正確な変位を極めて容易に測定
することができる。これにより、可動部材及び固定部材
の関係を高精度に調整することができると共に、移動位
置に対応する変位をデータとして用いて、射出成形等の
平行移動作業の精度を向上することができる。
方法によると、可動部材を移動した状態において、その
固定部材に対する変位を連続的に測定することができ、
実際の使用状態に応じた正確な変位を極めて容易に測定
することができる。これにより、可動部材及び固定部材
の関係を高精度に調整することができると共に、移動位
置に対応する変位をデータとして用いて、射出成形等の
平行移動作業の精度を向上することができる。
【0035】また、本発明による測定装置は、レーザビ
ームガン、ハーフミラー、反射鏡及びCCD等の検出手
段で足り、極めて簡単で安価であると共に、あらゆる平
行移動装置に容易に適用することができる。
ームガン、ハーフミラー、反射鏡及びCCD等の検出手
段で足り、極めて簡単で安価であると共に、あらゆる平
行移動装置に容易に適用することができる。
【0036】特に、光源、ハーフミラー及び検出手段を
ケース体に装着すると、装置がユニット化されて、平行
移動装置への装着が高い精度でかつ極めて容易に行うこ
とができ、更に装着面に対する光源の直交度、光源から
の照射光に対する検出手段の平行度及びハーフミラーの
角度を高い精度で保証することができ、測定操作が極め
て容易となる。
ケース体に装着すると、装置がユニット化されて、平行
移動装置への装着が高い精度でかつ極めて容易に行うこ
とができ、更に装着面に対する光源の直交度、光源から
の照射光に対する検出手段の平行度及びハーフミラーの
角度を高い精度で保証することができ、測定操作が極め
て容易となる。
【図1】本発明に係る測定装置を平行移動装置に取付け
た状態を示す一部断面した側面図。
た状態を示す一部断面した側面図。
【図2】表示装置上の線図を示す図で、(a) は可動部材
(盤)を往復動した状態、(b)は可動部材を一方向に移
動した状態を示す。
(盤)を往復動した状態、(b)は可動部材を一方向に移
動した状態を示す。
【図3】本発明に係る測定装置における各部品の位置関
係を示す図で、(a) を可動部材が移動した状態、(b) は
X軸成分を示す。
係を示す図で、(a) を可動部材が移動した状態、(b) は
X軸成分を示す。
【図4】光源、ハーフミラー、検出手段をケース体に装
着した実施例を示す断面図。
着した実施例を示す断面図。
【図5】一部変更した実施例を示す概略図であり、(a)
は凹面鏡を用いたもの、(b) は凸面鏡を用いたものを示
す。
は凹面鏡を用いたもの、(b) は凸面鏡を用いたものを示
す。
【図6】本発明を適用し得る横型射出成形機における型
締装置の概略を示す断面図。
締装置の概略を示す断面図。
5 可動部材(盤) 6 固定部材(盤) 13 案内ロッド 16 測定装置 17 光源(レーザビームガン) 18,182 ,183 反射鏡(平面鏡、凹面鏡、凸
面鏡) 19 ハーフミラー 20 検出手段(CCD) 30 ケース体(ケース) 30a 第1の部位(水平部) 30b 第2の部位(垂直部)
面鏡) 19 ハーフミラー 20 検出手段(CCD) 30 ケース体(ケース) 30a 第1の部位(水平部) 30b 第2の部位(垂直部)
Claims (3)
- 【請求項1】 固定部材に対して平行移動し得る可動部
材を有する平行移動装置に用いられる変位測定方法であ
って、 前記固定部材及び可動部材のいずれか一方に装着された
光源からの光を前記可動部材の移動方向に平行に照射
し、 該照射光を、ハーフミラーを透過して前記固定部材及び
可動部材のいずれか他方に設けられた反射鏡にて反射
し、 該反射光を、前記ハーフミラーに反射して検出手段にて
検出することにより、前記可動部材を移動しながら、該
可動部材の前記固定部材に対する変位を連続的に測定す
ること、 を特徴とする変位測定方法。 - 【請求項2】 互に直角方向に延びる第1の部位及び第
2の部位を有するケース体を備え、 前記第1の部位の先端に、前記固定部材又は可動部材に
密着して装着し得る装着面を形成すると共に、該装着面
に対して直交する方向に光を照射するように前記光源を
配置し、 前記第2の部位の先端に、前記光源からの照射光に平行
に前記検出手段を配置し、 前記ケース体の直交部分に、前記光源からの照射光に対
して45度に前記ハーフミラーを配置してなる、 請求項1記載の変位測定方法に用いられる変位測定装
置。 - 【請求項3】 固定部材に対して平行移動し得る可動部
材を有する平行移動装置に用いられる変位測定装置であ
って、 前記固定部材及び可動部材のいずれか一方に装着される
光源と、 前記固定部材及び可動部材のいずれか他方に装着される
反射鏡と、 前記光源から反射鏡への照射線上に配置され、前記光源
からの光を透過しかつ前記反射鏡からの反射光を反射す
るハーフミラーと、 該ハーフミラーからの反射光を検出する検出手段と、 を備えてなる変位測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3002892A JPH05196415A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 平行移動装置に用いられる変位測定方法及び変位測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3002892A JPH05196415A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 平行移動装置に用いられる変位測定方法及び変位測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05196415A true JPH05196415A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=12292374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3002892A Pending JPH05196415A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 平行移動装置に用いられる変位測定方法及び変位測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05196415A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014089095A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Fujitsu Ltd | 移動体の姿勢検出方法及び移動体の姿勢検出装置並びに部品組立装置 |
JP2016057124A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | 大成建設株式会社 | 変位測定装置 |
-
1992
- 1992-01-21 JP JP3002892A patent/JPH05196415A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014089095A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Fujitsu Ltd | 移動体の姿勢検出方法及び移動体の姿勢検出装置並びに部品組立装置 |
JP2016057124A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | 大成建設株式会社 | 変位測定装置 |
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