JPH05189736A - Magnetic disk substrate and magnetic disk formed by using the same and production thereof - Google Patents

Magnetic disk substrate and magnetic disk formed by using the same and production thereof

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JPH05189736A
JPH05189736A JP402492A JP402492A JPH05189736A JP H05189736 A JPH05189736 A JP H05189736A JP 402492 A JP402492 A JP 402492A JP 402492 A JP402492 A JP 402492A JP H05189736 A JPH05189736 A JP H05189736A
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JP
Japan
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magnetic disk
substrate
roughness
magnetic
disk substrate
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JP402492A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Mishima
彰生 三島
Sazuku Nakamura
授 中村
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SUMIKEI MEMORY DEISUKU KK
Sony Corp
Original Assignee
SUMIKEI MEMORY DEISUKU KK
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To satisfy the low coefft. of friction of a disk surface with a head and the durability to attraction by forming a rough surface consisting of fine dotty ruggedness on the surface of the magnetic disk substrate to the surface roughness of a specific characteristic value. CONSTITUTION:The rough surface 16 consisting of the fine dotty ruggedness is formed on the surface of the magnetic disk substrate 11. The state of such rough surface 16 is formed to the surface roughness of 60 to 240Angstrom center line average roughness Ra, 500 to 2000Angstrom max. roughness Rtm, 300 to 1500Angstrom height Rpm of a center line peak and 0.5 to 0.75 value of Rpm/Rtm. Such state is obtd. by bringing the extremely fine abrasive grains suspended in fluid into collision against the surface of the substrate 11, thereby roughening the surface. The lower floating and lower coefft. of friction of the magnetic head and the surface characteristic having the good durability to attraction are obtd. The lower floating at <=0.1mum of the magnetic head on the disk surface is enabled.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクに適用
して好適な磁気ディスクとこれに用いる磁気ディスク基
板、並びにその製造方法に係わり、記録密度向上を担
う、良好な磁気特性並びに磁気ヘッドの低浮上化に対応
できるようにする。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk suitable for application to a hard disk, a magnetic disk substrate used for the same, and a method for manufacturing the same. Be able to cope with the emergence.

【0002】[0002]

【従来の技術】水平磁気記録媒体は、媒体の構成によ
り、塗布型磁気記録媒体と、メッキ型及びスパッタ型磁
気記録媒体とに大きく分けられる。そしてメッキ型及び
スパッタ型磁気記録媒体は、塗布型磁気記録媒体に比
し、記録密度が高いという利点を有する。この種のメッ
キないしスパッタ型媒体は、図8に示すように、Alよ
り成る基板1の上に、下から、順次Ni−Pのメッキ下
地層2、Co−Ni−P,或いはCo−Niのメッキな
いしはスパッタ膜による磁性膜3、更に保護膜4、潤滑
膜5が積層されて構成されている。
2. Description of the Related Art Horizontal magnetic recording media are broadly classified into coating type magnetic recording media and plating type and sputter type magnetic recording media depending on the structure of the medium. The plating-type and sputter-type magnetic recording media have the advantage of higher recording density than the coating-type magnetic recording media. As shown in FIG. 8, this type of plating or sputter type medium comprises a Ni-P plating base layer 2, a Co-Ni-P layer, and a Co-Ni layer formed on a substrate 1 made of Al in this order from the bottom. A magnetic film 3 made of a plated or sputtered film, a protective film 4, and a lubricating film 5 are laminated.

【0003】この場合、磁気ディスク基板1の表面は、
磁気ヘッドとの関連で低摩擦係数と良好な吸着耐久性の
確保のために、その円周方向に沿って多数の微細な筋状
の溝を付与して粗面化する、いわゆるテキスチャー加工
が行われる。本来、テキスチャー加工は、スパッタ加工
時に、ディスクの円周方向の磁気異方性を生じせしめる
ためのものであるが、このような本来の目的以上にヘッ
ド吸着防止のために基板表面の粗さを大きくせざるを得
ないのが実情である。もちろん、吸着耐久性について
は、テキスチャーによる粗さのみではなく、磁気ディス
ク表面の保護膜や潤滑膜の特性によっても影響される
が、保護膜や潤滑膜の摩擦係数が一定であればテキスチ
ャーによる粗さの大きいほうが、一般に吸着耐久性は向
上する。
In this case, the surface of the magnetic disk substrate 1 is
In order to secure a low coefficient of friction and good adsorption durability in relation to the magnetic head, so-called texture processing is performed in which a large number of fine streaky grooves are provided along the circumferential direction to roughen the surface. Be seen. Originally, the texture processing is intended to cause magnetic anisotropy in the circumferential direction of the disk during the sputtering processing, but in order to prevent head adsorption, the roughness of the substrate surface is further increased than the original purpose. The reality is that it must be increased. Of course, the adsorption durability is influenced not only by the roughness due to the texture but also by the characteristics of the protective film and lubricating film on the magnetic disk surface. The larger the size, the better the adsorption durability in general.

【0004】したがって、磁気ディスク基板1には、摩
擦係数や吸着耐久性を考慮して、ある程度の粗さを付与
するように、テキスチャー加工が行われている。
Therefore, the magnetic disk substrate 1 is textured so as to give a certain degree of roughness in consideration of the friction coefficient and the adsorption durability.

【0005】一般に、テキスチャーによる基板1の半径
方向の粗さは平均粗さ(Ra)が50〜100Å、最大
粗さ(Rtm)が450〜600Å、中心線山高さ即ち
中心線C(図9で示す山の断面積の中心)からの山の高
さ(Rpm)が150〜250Åであり、Rpm/Rt
mの比が0.3〜0.4である。
Generally, the roughness of the substrate 1 in the radial direction by the texture has an average roughness (Ra) of 50 to 100Å, a maximum roughness (Rtm) of 450 to 600Å, and a center line mountain height or center line C (in FIG. 9). The height (Rpm) of the mountain from the center of the cross-sectional area of the mountain shown is 150 to 250Å, and Rpm / Rt
The ratio of m is 0.3 to 0.4.

【0006】しかし、テキスチャー加工の性格上、粗さ
を大きくすれば、スクラッチあるいは微小突起などの表
面欠陥が生じやすくなり、これらの欠陥は後に、ヘッド
クラッシュなどの事故を誘発させることになる。
However, in view of the nature of the texture processing, if the roughness is increased, surface defects such as scratches or minute protrusions are likely to occur, and these defects will cause an accident such as head crash later.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】一方、磁気ディスクの
記録密度の向上のために、磁気ディスク面とこれに対し
浮上して対向する磁気ヘッドとのその浮上距離を小さく
する、いわゆる低浮上化が必要となっている。しかし、
従来のテキスチャー基板、すなわち、ある程度の粗さを
付与した基板を用いた磁気ディスクでは、その表面形状
異方性のためにS/N比を低下させたり、前述のテキス
チャー加工によるスクラッチや微小突起等の表面欠陥部
とヘッドとが接触して、走行不能や磁気ディスク表面の
損傷が引き起こされる、という欠点がある。
On the other hand, in order to improve the recording density of the magnetic disk, there is a so-called low flying height, in which the flying distance between the magnetic disk surface and the magnetic head which opposes the magnetic disk surface is reduced. Is needed. But,
In a magnetic disk using a conventional texture substrate, that is, a substrate provided with a certain degree of roughness, the S / N ratio is lowered due to the surface shape anisotropy, and scratches and minute protrusions caused by the above-described texture processing are generated. However, there is a drawback in that the surface defect portion and the head come into contact with each other, which may cause traveling failure or damage to the magnetic disk surface.

【0008】また、これに対してテキスチャーによる磁
気ディスク基板の表面粗さを低減させた磁気ディスク
は、摩擦係数が大きく、例えば浮上型磁気ヘッドにおけ
る磁気ディスクに対する磁気ヘッドの接触、すなわちデ
ィスクの駆動開始前と停止時の接触、いわゆるCSS
(コンタクト・スタート・ストップ)の繰り返しにより
ますます摩擦係数が増大し、ディスクドライブ停止中の
磁気ディスク表面と磁気ヘッドとの停止状態での接触に
より、吸着が発生し、再起動が困難となり、ついにその
役割を果たせなくなる場合もある。
On the other hand, a magnetic disk in which the surface roughness of the magnetic disk substrate due to the texture is reduced has a large friction coefficient, and, for example, the contact of the magnetic head with the magnetic disk in a floating magnetic head, that is, the start of driving of the disk. Contact before and after, so-called CSS
The friction coefficient increases more and more due to repeated (contact start stop), and the contact between the magnetic disk surface and the magnetic head while the disk drive is stopped in a stopped state causes adsorption, which makes restarting difficult, and finally In some cases, it may not be able to fulfill its role.

【0009】本発明は、このような事情の背景の下にな
されたものであって、その課題とするところは、磁気デ
ィスクの記録密度向上につながる磁気ヘッドの低浮上
化、低摩擦係数、および良好な吸着耐久性を可能とする
磁気ディスク基板と、これを用いる磁気ディスク並びに
磁気ディスク基板の製造方法を提供するにある。
The present invention has been made under such circumstances, and its problems are to reduce the flying height of a magnetic head, to reduce the friction coefficient, and to improve the recording density of a magnetic disk. (EN) It is possible to provide a magnetic disk substrate that enables good adsorption durability, a magnetic disk using the same, and a method for manufacturing a magnetic disk substrate.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、鋭意研究した結果、流体に浮遊させた極微細砥
粒を基板表面に衝突させることにより粗面化し、磁気ヘ
ッドの低浮上化、低摩擦係数および良好な吸着耐久性に
最適な表面性状が得られることを見出し、本発明を提供
できるに至った。
[Means for Solving the Problems] In order to solve such a problem, as a result of earnest research, as a result of making ultrafine abrasive grains suspended in a fluid collide with the substrate surface to roughen the surface, the magnetic head has a low flying height. It has been found that the optimum surface properties can be obtained for a low friction coefficient and good adsorption durability, and the present invention can be provided.

【0011】すなわち、本発明は、図1にその模式的断
面図を示すように、磁気ディスク基板表面に点状の凹凸
16即ち点状凹部が緻密に配置されて成る凹凸から成る
粗面が形成されており、その粗面状態が中心線平均粗さ
(Ra)が60〜240Å、最大粗さ(Rtm)が50
0〜2000Å、中心線山高さ(Rpm)が300〜1
500Åであり、かつRpm/Rtmの比が0.5〜
0.75である表面粗さを有する磁気ディスク基板11
を構成する。
That is, according to the present invention, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, a rough surface is formed on the surface of a magnetic disk substrate, which is formed by finely arranging dot-shaped irregularities 16 or dot-shaped concave portions. The center line average roughness (Ra) is 60 to 240Å and the maximum roughness (Rtm) is 50.
0 to 2000Å, center line mountain height (Rpm) is 300 to 1
500Å and the ratio of Rpm / Rtm is 0.5 to
Magnetic disk substrate 11 having a surface roughness of 0.75
Make up.

【0012】なお、本発明でいう表面粗さは、先端が
2.5μm角の触針を、40μNの力で表面上を走らせ
る超精密あらさ計(ランク・テーラー・ホブソン社製)
を用いて、測定長さ0.49mm、カットオフ0.08
mmにて測定したものであって、Raは中心線平均粗
さ、Rtmは各カットオフ内の最大振幅の平均値であ
り、Rpmは各カットオフ内の中心線最大山高さの平均
値である。
The surface roughness referred to in the present invention is an ultra-precision roughness meter (made by Rank Taylor Hobson Co., Ltd.) in which a stylus with a tip of 2.5 μm is run on the surface with a force of 40 μN.
Using, measurement length 0.49mm, cutoff 0.08
Ra is the centerline average roughness, Rtm is the average value of the maximum amplitude in each cutoff, and Rpm is the average value of the centerline maximum peak heights in each cutoff. ..

【0013】また他の本発明は、磁気ディスク基板11
をアルミニウム又はアルミニウム合金からなる円板状基
体21上にNi−Pメッキによる下地層22を有する構
成とする。
Still another aspect of the present invention is a magnetic disk substrate 11
Is a disc-shaped substrate 21 made of aluminum or an aluminum alloy, and an underlayer 22 made of Ni-P plating.

【0014】更に、他の本発明は磁気ディスク基板11
がガラス又はセラミックスの円板状基板21から成る構
成とする。また、更に他の本発明は、図2にその一例の
略線的断面図を示すように、磁気ディスク基板11に、
磁性膜13、保護膜14及び潤滑膜15が順次被着され
て磁気ディスク17を形成する。
Still another aspect of the present invention is a magnetic disk substrate 11.
Is a disk-shaped substrate 21 made of glass or ceramics. Still another embodiment of the present invention, as shown in the schematic cross-sectional view of the example in FIG.
The magnetic film 13, the protective film 14, and the lubricating film 15 are sequentially deposited to form the magnetic disk 17.

【0015】また、本発明の製造方法は、上述の下地層
22を有する磁気ディスク基板11の表面、或いはこの
下地層22を有しないで構成された磁気ディスク基板1
1の表面を研磨する工程と、平均粒径0.5〜5.0μ
mからなる砥粒を流体に浮遊させた固相及び気相2相流
(以下固気2層流という)を、研磨した表面に噴射ノズ
ルで吹きつけ、上述の研磨した表面に微細点状凹凸16
を形成する工程とを経て磁気ディスク基板11を製造す
る。
In the manufacturing method of the present invention, the surface of the magnetic disk substrate 11 having the above-mentioned underlayer 22 or the magnetic disk substrate 1 configured without the underlayer 22.
Step of polishing the surface of No. 1, and an average particle size of 0.5 to 5.0 μ
Solid-phase and vapor-phase two-phase flow (hereinafter referred to as solid-gas two-layer flow) in which abrasive grains composed of m are suspended in a fluid is sprayed onto a polished surface by an injection nozzle to form fine dot-like irregularities on the polished surface. 16
The magnetic disk substrate 11 is manufactured through the steps of forming.

【0016】[0016]

【作用】上述の本発明方法によって得た磁気ディスク基
板11を用いた磁気ディスク17は、すぐれた吸着耐久
性を示す。
The magnetic disk 17 using the magnetic disk substrate 11 obtained by the method of the present invention described above exhibits excellent adsorption durability.

【0017】今、アルミニウム合金基体21上にNi−
Pメッキ面を、人工皮革によって0.8〜2.0μmの
平均粒径の砥粒を用いて研磨し、表面粗さをRaで10
〜60Åの下地層22を設けた表面に対して、平均粒径
0.5〜5.0μmからなる砥粒を不活性ガスに浮遊さ
せ、この固気2層流を噴射ノズルから吹きつけると、そ
の表面は、これを模式的に示すと、図1のような断面と
なる。すなわち、アルミニウム合金板材による基体21
上のNi−Pメッキ下地層の表面に最大粗さ(Rtm)
0.05〜0.2μm(500〜2000Å)の無数に
点在する微細点状凹凸16、いわば微細梨地パターンが
形成される。そしてこの断面を観察すると、山部の幅が
谷部の幅よりも狭くなっている。
Now, on the aluminum alloy substrate 21, Ni-
The P-plated surface was polished with artificial leather using abrasive grains having an average particle diameter of 0.8 to 2.0 μm, and the surface roughness was 10 with Ra.
When the abrasive particles having an average particle diameter of 0.5 to 5.0 μm are suspended in an inert gas on the surface of the base layer 22 having a thickness of ˜60 Å, and the solid gas two-layer flow is blown from the injection nozzle, The surface has a cross section as shown in FIG. 1 when this is schematically shown. That is, the base 21 made of an aluminum alloy plate material
Maximum roughness (Rtm) on the surface of the above Ni-P plated underlayer
An infinite number of fine dot-like irregularities 16 of 0.05 to 0.2 μm (500 to 2000 Å), that is, a fine satin pattern is formed. When this cross section is observed, the width of the peaks is narrower than the width of the valleys.

【0018】そしてこのようなディスク基板11の表面
に磁性膜13、保護膜14ならびに潤滑膜15を被覆す
ると、図3に示すように、これらが山部よりも谷部に厚
く付着するようになり、結局、ディスク基板11の表面
より粗さが小さくなる。
When the magnetic film 13, the protective film 14, and the lubricating film 15 are coated on the surface of the disk substrate 11 as described above, they are attached thicker to the valleys than to the peaks as shown in FIG. After all, the roughness becomes smaller than the surface of the disk substrate 11.

【0019】これに対し、図10で示した従来のテキス
チャー表面は、人工皮革によって0.8〜2.0μmの
平均粒径の砥粒を用いて研磨し、表面粗さをRaで10
〜60Åの下地層22にさらに、軟質の布によって0.
8〜2.0μmの平均粒径の砥粒を用いるか、同種の砥
粒が接着されている研磨テープを用いて円周方向に研磨
し、表面粗さをRaで50〜100Åとしたものであ
る。したがって、図10に示したように谷底幅の狭い断
面を有することから、これに磁性膜3、保護膜4、潤滑
膜15を形成すると図11に示すように谷底が埋め上げ
られた状態となり、完成後の磁気ディスクの表面の最大
粗さ(Rtm)がより小さくなり、さらに山部の面積が
相対的に大きくなる。このため、従来の磁気ディスクで
は高い吸着耐久性が得られていないものと思われる。
On the other hand, the conventional textured surface shown in FIG. 10 was polished with artificial leather using abrasive grains having an average particle diameter of 0.8 to 2.0 μm, and the surface roughness Ra was 10
Further, the base layer 22 having a thickness of about 60 Å is further covered with a soft cloth so that
The average grain size of 8 to 2.0 μm is used, or polishing is performed in the circumferential direction using a polishing tape to which the same type of abrasive grains are adhered, and the surface roughness is set to Ra of 50 to 100 Å. is there. Therefore, as shown in FIG. 10, since it has a cross section with a narrow valley bottom width, when the magnetic film 3, the protective film 4, and the lubricating film 15 are formed on this, the valley bottom is filled up as shown in FIG. The maximum roughness (Rtm) of the surface of the magnetic disk after completion becomes smaller, and the area of the mountain portion becomes relatively larger. Therefore, it is considered that the conventional magnetic disk does not have high adsorption durability.

【0020】これに対し、本発明の表面による磁気ディ
スク17は、図1に示したように、図9の従来のものよ
りも粗さ曲線の中心線Cが谷底に近いために、比較的大
きなRpm/Rtmを示す。
On the other hand, the magnetic disk 17 according to the present invention, as shown in FIG. 1, is relatively large because the center line C of the roughness curve is closer to the valley bottom than the conventional one of FIG. Indicates Rpm / Rtm.

【0021】また、従来法は、湿式で、しかも新生面を
全面に生じさせる研削加工であるため、スクラッチ、微
小突起などの表面欠陥が発生しやすく、強加工ができ
ず、最大粗さ(Rtm)600Åが実用上の限界である
にもかかわらず、本発明は、乾式で、主に圧縮力を与え
る表面加工のため、表面欠陥が生じにくい上に、ある程
度の強加工をしても山の高さを均一に揃えることが可能
で、最大粗さ(Rtm)の実用限界が2000Åであ
る。
In addition, since the conventional method is a wet-type grinding process for producing a new surface on the entire surface, surface defects such as scratches and minute projections are likely to occur, strong processing cannot be performed, and the maximum roughness (Rtm) is obtained. Despite the practical limit of 600Å, the present invention is a dry surface treatment that mainly applies a compressive force, so that surface defects are less likely to occur, and even if a certain amount of heavy machining is performed, the peak height is high. It is possible to make the thickness uniform, and the practical limit of the maximum roughness (Rtm) is 2000Å.

【0022】このように本発明は、Rpm/Rtm及び
Rtmいずれも大きくすることができ、媒体加工後の表
面の粗さをより大きく保つことができ、ひいては、摩擦
係数を低く抑え、吸着耐久性を高める作用がある。
As described above, according to the present invention, both Rpm / Rtm and Rtm can be increased, the surface roughness after processing the medium can be kept larger, and the friction coefficient can be kept low, and the adsorption durability can be improved. Has the effect of increasing

【0023】[0023]

【実施例】本発明による磁気ディスク基板と、これを用
いる磁気ディスク、並びにその製造方法の実施例につい
て図1及び図2を参照して説明する。
Embodiments of a magnetic disk substrate, a magnetic disk using the same, and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0024】磁気ディスク基板11、即ちこれを構成す
る基体21は剛性のある非磁性材料からなり、中央に透
孔を有する円板状に形成される。
The magnetic disk substrate 11, that is, the base body 21 constituting the magnetic disk substrate 11 is made of a rigid non-magnetic material, and is formed in a disk shape having a through hole in the center.

【0025】基体21は、Al或いはAlによって構成
することができ、この場合は、その表面に磁性膜13の
下地層22としてNi−Pメッキ層を形成する。また、
基体21としては上述のAl又はその合金以外にガラ
ス、セラミックス等が知られ、これらでは、下地層22
としてのNi−Pメッキの下地層を施さずに、この基体
21自体を磁気ディスク基板11として用いる。
The base 21 can be made of Al or Al. In this case, a Ni-P plated layer is formed on the surface of the base 21 as the underlayer 22 of the magnetic film 13. Also,
As the base 21, glass, ceramics, etc. are known in addition to the above-mentioned Al or its alloy.
The base body 21 itself is used as the magnetic disk substrate 11 without applying a Ni-P plating base layer as described above.

【0026】基体21の厚さは、0.35〜1.9mm
程度であり、実際にはAl合金が多用されていて、これ
にNi−P下地層22が5〜20μmの厚さでメッキさ
れる。
The thickness of the substrate 21 is 0.35 to 1.9 mm.
Al alloy is often used, and the Ni—P underlayer 22 is plated to a thickness of 5 to 20 μm.

【0027】そして、この磁気ディスク基板11の表面
を研磨し、この研磨面に平均粒径0.5〜5.0μmの
砥粒例えばSiCあるいはAl2 3 の微粒子をN2
ス等の不活性ガス、空気等の流体に浮遊させた固気相流
を、吹きつけてこの研磨表面に図4に示す微細点状凹部
が緻密に分散された凹凸16を形成する。
Then, the surface of the magnetic disk substrate 11 is polished, and abrasive particles having an average particle diameter of 0.5 to 5.0 μm, for example, fine particles of SiC or Al 2 O 3 are inactivated by N 2 gas or the like. A solid-gas phase flow suspended in a fluid such as gas or air is blown to form irregularities 16 in which fine dot-shaped concave portions shown in FIG. 4 are densely dispersed on the polishing surface.

【0028】そして、このように粗面化されたディスク
基板11上に、メッキまたはスパッタによってCo−N
i−PまたはCo−Ni等の金属磁性膜13を形成し、
これの上に周知の保護膜14、潤滑膜15を形成する。
Then, on the disk substrate 11 thus roughened, Co--N is formed by plating or sputtering.
forming a metal magnetic film 13 such as i-P or Co-Ni,
A well-known protective film 14 and a lubricating film 15 are formed on this.

【0029】実施例1 外径が95mm、内径が25mm、厚さが1.27mm
のAl−Mg系アルミニウム合金のリング状円板体より
成る基体21を用意し、その両面にNi−P下地層22
を無電解メッキ法で形成した後、人工皮革によって1.
0μmの平均粒径の砥粒を用いて研磨し、表面粗さをR
aで20Åとする、いわゆる通常の研磨を行い、下地層
22の厚さを15μmとした。その後、SiC微粉末と
2 ガスとの固気2相流を発生させる遊離砥粒噴射加工
装置を用いて、基板11の両面に対し同時に微細な点状
の凹凸16を形成した。
Example 1 Outer diameter 95 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1.27 mm
Of the Al-Mg-based aluminum alloy ring-shaped disc body is prepared, and the Ni-P underlayer 22 is provided on both sides of the base body 21.
Is formed by electroless plating, and then 1.
Polished with an abrasive having an average particle diameter of 0 μm to obtain a surface roughness R
So-called normal polishing was carried out to obtain 20Å in a, and the thickness of the underlayer 22 was set to 15 μm. After that, fine spot-like concavities and convexities 16 were simultaneously formed on both surfaces of the substrate 11 by using a free abrasive grain jetting processing device that generates a solid-gas two-phase flow of the SiC fine powder and N 2 gas.

【0030】この遊離砥粒噴射加工装置は、特開平3−
35978号公報に開示された特殊な構成による装置を
用いる。
This free-abrasive blasting machine is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No.
A device having a special configuration disclosed in Japanese Patent No. 35978 is used.

【0031】この装置の詳細については後述するが、こ
の実施例1では、この装置において、所定の間隔で対向
させた0.6mm×100mmの長方形開口部を有する
2つの噴射ノズルから上述の固気2相流を噴出し、これ
らノズルの間の中心に、基板11をこれらノズルの開口
部の短辺方向に一定速度で移動させながら、これに両ノ
ズルから噴出させた固気2相流を吹きつけて上述の点状
凹凸16を形成した。このように表面に微細な凹凸16
を形成した基板11に、スパッタによってCo−Ni−
Pによる磁性膜13、保護膜14及び潤滑膜15を順次
通常のように被着形成して磁気ディスク17を得た。
Although the details of this apparatus will be described later, in this Example 1, in this apparatus, the above solid gas is injected from two injection nozzles having rectangular openings of 0.6 mm × 100 mm which are opposed to each other at a predetermined interval. A two-phase flow is jetted and the solid-gas two-phase flow jetted from both nozzles is blown to the center between these nozzles while moving the substrate 11 in the short side direction of the openings of these nozzles at a constant speed. Then, the above-mentioned dot-shaped irregularities 16 were formed. Fine unevenness 16 on the surface
The Co-Ni-
The magnetic film 13, the protective film 14, and the lubricating film 15 made of P were sequentially deposited and formed in the usual manner to obtain a magnetic disk 17.

【0032】この実施例1における諸条件と、更にこの
条件を変えた実施例2〜5の条件と、各実施例1〜5で
得た磁気ディスク17について性能測定の結果を表1に
示す。
Table 1 shows the conditions of Example 1, the conditions of Examples 2 to 5 in which the conditions were changed, and the results of performance measurement of the magnetic disks 17 obtained in Examples 1 to 5.

【表1】 (表1)において砥粒の供給量は、ノズル開口面積1m
2 当りの供給量を示し、加工時間は被加工面に対しノ
ズルに開口部が通過する時間を示す。また、ディスク基
板11に得た加工面の表面粗さは、前述したように、超
精密あらさ計(ランク・テーラー・ホブソン社製)を用
いて、先端が2.5μmの触針を、40μNの力で表面
上を走らせ、測定長さ0.49mm、カットオフ0.0
8mmにて測定した。Raは中心線平均粗さ、Rtmは
各カットオフ内の最大振幅の平均値であり、Rpmは各
カットオフ内の中心線最大山高さの平均値が、あらさ計
の指示として得られる。そして、この基板11上に磁性
膜13、保護膜14、潤滑膜15を形成して得た磁気デ
ィスク17に対してCSS前と後の動摩擦係数、及びC
SS耐久性の測定を行った。
[Table 1] In (Table 1), the supply amount of abrasive grains is the nozzle opening area of 1 m.
The amount of supply per m 2 is shown, and the processing time is the time for the opening to pass through the nozzle with respect to the surface to be processed. The surface roughness of the machined surface obtained on the disk substrate 11 is 40 μN using a stylus with a tip of 2.5 μm by using an ultra-precision roughness meter (Rank Taylor Hobson Co., Ltd.) as described above. Run on the surface by force, measuring length 0.49mm, cutoff 0.0
It was measured at 8 mm. Ra is the centerline average roughness, Rtm is the average value of the maximum amplitude in each cutoff, and Rpm is the average value of the centerline maximum peak heights in each cutoff, which is obtained as an indication of the roughness meter. Then, with respect to the magnetic disk 17 obtained by forming the magnetic film 13, the protective film 14, and the lubricating film 15 on the substrate 11, the dynamic friction coefficient before and after CSS, and C
The SS durability was measured.

【0033】このCSS前の動摩擦係数は、摩耗試験機
(クボタコンプス株式会社製)を使用し、ディスク17
の回転速度を1rpmとし、ディスクを1周させた測定
距離の平均値で求めた。なお、このときの雰囲気とし
て、相対湿度45%、気温23℃とした。
The dynamic friction coefficient before CSS was measured by using a wear tester (made by Kubota Comps Co., Ltd.)
The rotation speed was set to 1 rpm, and the average value of the measured distances when the disk was rotated once was determined. The atmosphere at this time was 45% relative humidity and 23 ° C. temperature.

【0034】また、CSS後の動摩擦係数は、ドライブ
装置、磁気ヘッドを有する実機を使用し、ディスク17
の回転速度を3600rpmとし、トルクメータで摩擦
力の測定を行った。なお、CSSの回数は、20000
回とした。このときの雰囲気は、相対湿度50%以下、
気温23℃とした。
The coefficient of kinetic friction after CSS is obtained by using an actual machine having a drive device and a magnetic head, and using a disk 17
The rotation speed was set to 3600 rpm, and the frictional force was measured with a torque meter. The number of times of CSS is 20,000.
It was time. The atmosphere at this time is 50% or less in relative humidity,
The temperature was set to 23 ° C.

【0035】CSS耐久性は、CSS後の動摩擦係数の
測定方法と同じであるが、このときの雰囲気は、相対湿
度80%、気温30℃として、ヘッド吸着までのCSS
回数を測定した。
The CSS durability is the same as the method for measuring the dynamic friction coefficient after CSS, but the atmosphere at this time is 80% relative humidity, 30 ° C. temperature, and CSS until head adsorption.
The number of times was measured.

【0036】これらの結果から、実施例1〜5は、Ra
は60〜230Å、Rtmが520〜2000Å、Rp
mが310〜1300の表面粗さを有し、Rpm/Rt
mの比が0.52〜0.72を有することが良いことが
分る。
From these results, Examples 1 to 5 show that Ra
Is 60 ~ 230Å, Rtm is 520 ~ 2000Å, Rp
m has a surface roughness of 310 to 1300, and Rpm / Rt
It can be seen that it is preferable for the ratio of m to be 0.52 to 0.72.

【0037】表1中、比較例1及び2は従来のテキスチ
ャー加工を施した場合であり、人工皮革によって1.0
μmの平均粒径の砥粒を用いて研磨し、表面粗さをRa
で20Åとした後、軟質の布によって0.8及び1.0
μmの平均粒径の砥粒を用いて円周方向に研磨したもの
である。また、比較例3及び4は従来の研磨即ち人工皮
革によって0.8μm及び1.0μmの平均粒径の砥粒
を用いて研磨したものである。このようにして得られた
各磁気ディスク基板11を用いて実施例1と同様の磁性
膜13、保護膜14、潤滑膜15を形成した磁気ディス
クであり、これらについても同様の特性の測定結果を示
した。
In Table 1, Comparative Examples 1 and 2 are the cases where the conventional texture processing is applied, and the artificial leather is 1.0
Polished with an abrasive having an average particle diameter of μm to obtain a surface roughness Ra.
20 Å and then 0.8 and 1.0 with a soft cloth
It was polished in the circumferential direction using abrasive grains having an average grain size of μm. In Comparative Examples 3 and 4, conventional polishing, that is, artificial leather was used to polish grains having an average grain size of 0.8 μm and 1.0 μm. A magnetic disk having the same magnetic film 13, protective film 14, and lubricating film 15 as in Example 1 was formed using each magnetic disk substrate 11 thus obtained. Indicated.

【0038】表1から明らかなように、本発明の実施例
では、動摩擦係数及びCSS耐久性が、従来のテキスチ
ャー加工されたものと同等あるいはそれ以上の性能が得
られている。
As is apparent from Table 1, in the examples of the present invention, the dynamic friction coefficient and the CSS durability were equal to or higher than those of the conventional texture-processed ones.

【0039】これに対し、比較例1〜4では、冒頭に述
べたように、スクラッチや表面欠陥の発生を回避する上
でその表面粗さを、Raで20〜100Åという小さい
値にする必要があることから、特にCSS後の摩擦係数
が0.45〜0.70と大きくなり、耐久性が低くなる
恐れがあり、好ましくない。
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4, as described at the beginning, in order to avoid the occurrence of scratches and surface defects, it is necessary to set the surface roughness Ra to a small value of 20 to 100Å. Therefore, the coefficient of friction after CSS becomes as large as 0.45 to 0.70, and the durability may be lowered, which is not preferable.

【0040】これらの表面粗さの測定結果即ちプロファ
イルを、本発明実施例1については図5に、比較例1に
ついては図12に、比較例3については図13に示す。
これらを比較して明らかなように図5の実施例1の場合
のプロファイルは、比較例1に比べて谷の幅が広くなっ
ているのがわかる。また、本発明方法で得たディスク基
板11の表面は、顕微鏡で観察した結果、図4で示した
ように非常に細かな点状凹凸により形成されていること
がわかった。一方、テキスチャー加工による場合は、ス
クラッチが観察され、テキスチャー加工及び研磨加工で
は微小突起による表面欠陥が存在するのがわかった。
The results of measurement of the surface roughness, that is, the profile, are shown in FIG. 5 for Example 1 of the present invention, FIG. 12 for Comparative Example 1, and FIG. 13 for Comparative Example 3.
As is clear by comparing these, it can be seen that the profile of Example 1 in FIG. 5 has a wider valley width than Comparative Example 1. Further, the surface of the disk substrate 11 obtained by the method of the present invention was observed by a microscope, and as a result, it was found that as shown in FIG. On the other hand, in the case of the texture processing, scratches were observed, and it was found that in the texture processing and the polishing processing, surface defects due to minute projections exist.

【0041】次に、基板11の表面に凹凸を形成する本
発明方法で用いる遊離砥粒噴射加工装置について説明す
る。図6は本発明の一実施例に係る遊離砥粒噴射加工装
置の横断面図で、図7はその一部を断面とした側面図で
あって、60は、この装置の噴射加工容器でその中央部
に開口端が幅狭長方形をなす噴射ノズル50を備えてい
る。この噴射ノズル50はステンレス製の例えばN2
スが供給される管体51に連結されている。またこの管
体51には、SiC等の砥粒が供給される砥粒供給管5
2が設けられている。ノズル50はリング53内に配さ
れ、リング53は被加工物として基板11の移行面に対
向するように配置される。54は砥粒回収管を示す。こ
のような装置は、容器60内に、基板11即ち被加工物
を挟んで両面に対向して一対配置される。
Next, the free abrasive grain jetting processing apparatus used in the method of the present invention for forming irregularities on the surface of the substrate 11 will be described. FIG. 6 is a cross-sectional view of a free abrasive grain jetting processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 7 is a side view showing a part of the section, and 60 is a jetting processing container of this apparatus. An injection nozzle 50 whose opening end is a narrow rectangle is provided at the center. The injection nozzle 50 is connected to a pipe body 51 made of stainless steel, for example, to which N 2 gas is supplied. Further, the tube body 51 is supplied with abrasive grains supply pipe 5 in which abrasive grains such as SiC are supplied.
Two are provided. The nozzle 50 is arranged in a ring 53, and the ring 53 is arranged as a workpiece so as to face the transition surface of the substrate 11. Reference numeral 54 represents an abrasive grain recovery tube. A pair of such devices are arranged in the container 60 so as to face each other on both sides of the substrate 11 or the workpiece.

【0042】噴射ノズル50と接続されている管体51
にドライ窒素を5〜200kPaで供給する。このよう
にすると加速された気体によって砥粒供給管52の接続
部を通して遊離砥粒が吸引される。なおここでは粒径が
0.5〜5.0μm程度の例えばSiCの微細砥粒が用
いられているので加速された基体により遊離砥粒が吸引
され、固気2相流として噴射ノズル50側へ、送り込ま
れ、これより噴出する。この場合、砥粒供給管52にも
0.1〜1.3kg/cm2 の圧力を加えるようにして
いる。ここで固気2相流における遊離砥粒の供給は10
g/min程度にして、噴射ノズル50から噴射する噴
流の方向が乱れないようにする。
A tube body 51 connected to the injection nozzle 50
Is supplied with dry nitrogen at 5-200 kPa. By doing so, the loose abrasive grains are sucked by the accelerated gas through the connecting portion of the abrasive grain supply pipe 52. Since fine abrasive grains of, for example, SiC having a particle diameter of about 0.5 to 5.0 μm are used here, the loose abrasive grains are sucked by the accelerated substrate, and flow toward the injection nozzle 50 as a solid-gas two-phase flow. , Sent in and spouted from this. In this case, a pressure of 0.1 to 1.3 kg / cm 2 is also applied to the abrasive grain supply pipe 52. Here, the supply of loose abrasive particles in the solid-gas two-phase flow is 10
It is set to about g / min so that the direction of the jet flow jetted from the jet nozzle 50 is not disturbed.

【0043】そして対の噴射ノズル50間の中心面上
に、ノズル50の開口形状の短軸方向に、被加工物の磁
気ディスク基体11を、搬送手段61をもって基板11
の面に沿って移行させる。このようにして砥粒が高圧噴
射されて被加工物の基板11の両面に衝撃して微細点状
凹凸を形成する。
Then, on the center plane between the pair of jet nozzles 50, the magnetic disk substrate 11 to be processed is conveyed to the substrate 11 by the conveying means 61 in the short axis direction of the opening shape of the nozzles 50.
Migrate along the plane of. In this way, the abrasive grains are jetted at a high pressure and impact on both surfaces of the substrate 11 of the workpiece to form fine dot-like irregularities.

【0044】尚、供給管体51への流体の供給圧力とし
ては、5〜200kPaでNi−Pメッキ層に砥粒を含
浸させることなく凹凸を形成することができた。砥粒の
供給量はノズル開口面積1mm2 当り0.1〜1.0g
/分の範囲で調整する。その他の調整項目としてはノズ
ルと被加工面の間隔及び加工時間がある。
The supply pressure of the fluid to the supply pipe body 51 was 5 to 200 kPa, and the unevenness could be formed without impregnating the Ni-P plating layer with the abrasive grains. The amount of abrasive grains supplied is 0.1 to 1.0 g per 1 mm 2 of nozzle opening area.
Adjust within the range of / minute. Other adjustment items include the distance between the nozzle and the surface to be processed and the processing time.

【0045】このようにして本発明による、5〜200
kPaの圧力を有するガスに砥粒を浮遊させた固気2相
流の吹きつけによってRaが60〜240Å、Rtmが
500〜2000Å、Rpmが300〜1500Å、R
pm/Rtmが0.5〜0.75の粗面化のなされたデ
ィスク基板を得ることができる。そしてこのディスク基
板11上に、金属磁性膜13を有する磁気ディスク17
は、磁気ヘッドの吸着性の改善、耐摩擦性の改善がはか
られた。
Thus, according to the present invention,
Ra of 60 to 240 Å, Rtm of 500 to 2000 Å, Rpm of 300 to 1500 Å, R by spraying a solid gas two-phase flow in which abrasive grains are suspended in a gas having a pressure of kPa
It is possible to obtain a roughened disk substrate having a pm / Rtm of 0.5 to 0.75. A magnetic disk 17 having a metal magnetic film 13 on the disk substrate 11
Has improved the magnetic head's attractiveness and abrasion resistance.

【0046】これに対し、基板の表面粗さがRaで60
Å未満であったり、Rtmで500Å未満であったり、
Rpm/Rtmの比が0.5未満である場合は、粗さが
不足でディスク17の表面に対する磁気ヘッドの吸着が
発生しやすい問題があり、また、Raで240Åを越え
たり、Rtmで2000Åを越えたり、Rpm/Rtm
の比が0.75を越えたりすると、加工上、山の高さが
不揃いとなり磁気ヘッドの揺動によって、摩擦が激しく
なり、磁気ヘッドの低浮上化を充分に達成し得なくな
る。
On the other hand, the surface roughness Ra of the substrate is 60.
Less than Å, Rtm less than 500 Å,
When the ratio of Rpm / Rtm is less than 0.5, there is a problem that the magnetic head is likely to be attracted to the surface of the disk 17 due to insufficient roughness, and Ra exceeds 240Å and Rtm exceeds 2000Å. Cross over, Rpm / Rtm
If the ratio exceeds 0.75, the heights of the peaks become uneven due to processing, and the magnetic head oscillates, resulting in severe friction, which makes it impossible to sufficiently achieve low flying of the magnetic head.

【0047】また、流体の圧力が5kPa以下の場合
は、Ni−Pメッキ下地層に必要な凹凸を形成すること
ができず、200kPaを越えるとNi−Pメッキ下地
層内に砥粒を含浸させたり、スクラッチ等の表面欠陥を
形成するので好ましくない。
Further, when the fluid pressure is 5 kPa or less, it is not possible to form the necessary unevenness on the Ni-P plated underlayer, and when it exceeds 200 kPa, the Ni-P plated underlayer is impregnated with abrasive grains. And surface defects such as scratches are formed, which is not preferable.

【0048】本発明の基板表面が従来のテキスチャー基
板表面に比べ非常に優れているところは、次の2点であ
る。 表面欠陥が少ない。これは粗さが大きいほど顕著で
ある。 中心線山高さが大きい。言い換えればRpm/Rt
mの比が大きい。 は、本発明の加工方法が、被加工面に圧縮力だけ与
え、テキスチャーのように研削することで新生面を作る
ことがないのと、乾式加工であることに起因する。もち
ろん本発明の場合、砥粒の埋め込みは生じない条件で加
工する。また、不活性ガス中の加工のために酸化膜も極
めて薄い。は、従来の基板表面と決定的な差があり、
Rpm/Rtmの比で、本発明の方が1.5〜2.5倍
と大きい。このことは、例えば浮上型磁気ヘッドのスラ
イダーと接触した場合、方向性がないこともあって正味
の接触面積が小さく、必然的に摩擦係数が小さくなり、
ヘッド吸着が起こりにくい。これらの性質を保有する基
板の表面性状は、媒体層、保護膜がつけられてもある程
度維持され、ヘッド浮上量を小さくでき、高記録密度化
が容易となり、しかも耐ヘッド吸着にすぐれた磁気ディ
スクを提供することになる。
The substrate surface of the present invention is very superior to the conventional texture substrate surface in the following two points. There are few surface defects. This is more remarkable as the roughness is larger. The center line mountain height is large. In other words, Rpm / Rt
The ratio of m is large. The reason is that the processing method of the present invention does not create a new surface by applying only compressive force to the surface to be processed and grinding like a texture, and is because it is dry processing. Of course, in the case of the present invention, the processing is carried out under the condition that the embedding of abrasive grains does not occur. Further, the oxide film is extremely thin due to the processing in the inert gas. Has a definite difference from the conventional substrate surface,
The ratio of Rpm / Rtm in the present invention is as large as 1.5 to 2.5 times. This means that, for example, when contacting the slider of a floating magnetic head, the net contact area is small due to lack of directivity, and the friction coefficient is inevitably small.
Head adsorption is unlikely to occur. The surface texture of the substrate possessing these properties is maintained to some extent even if a medium layer and a protective film are attached, the head flying height can be reduced, high recording density can be easily achieved, and a magnetic disk with excellent head attraction resistance. Will be provided.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
基体11に媒体加工を施した磁気ディスク17は、磁気
ディスクに要求されるヘッドに対するディスク表面の低
摩擦係数、吸着耐久性を満足させつつ、磁気ヘッドのデ
ィスク面上での0.1μm以下の低浮上が可能となるの
であり、またヘッドヒット不良(グライドテスト不良)
及び信号エラーを低減し、製品としての歩留りが向上す
る。
As is apparent from the above description, the magnetic disk 17 obtained by subjecting the substrate 11 of the present invention to the medium processing satisfies the low friction coefficient and the adsorption durability of the disk surface with respect to the head required for the magnetic disk. At the same time, it is possible to achieve a low flying height of 0.1 μm or less on the disk surface of the magnetic head, and also a head hit failure (glide test failure).
Also, the signal error is reduced, and the product yield is improved.

【0050】この根拠は、第1に本発明の基板最終加工
において、表面に圧縮力のみを与え、微小凹凸をつける
ことで、所定の粗さを確保するため、従来基板のそれの
ように切り屑を生じさせないので、表面欠陥が極めて少
ないことである。これは粗さが大きいほど顕著であり、
言い換えれば粗い基板も提供できるわけである。
The grounds for this are as follows. First, in the final processing of the substrate of the present invention, only a compressive force is applied to the surface to form minute irregularities so as to secure a predetermined roughness. Since it does not generate scraps, it has very few surface defects. This is more remarkable as the roughness is larger,
In other words, a rough substrate can be provided.

【0051】第2に、本発明の基板表面は、従来基板の
それに比べ、Rpm/Rtmの比が大きい特徴があり、
すなわち、山の頂上の面積より谷の底の面積のほうが大
きいため、表面の摩擦係数が小さいことである。このこ
とは、基板表面に磁性膜等の媒体加工を施した場合、そ
の表面はさらに顕著になる。
Secondly, the substrate surface of the present invention is characterized in that the ratio of Rpm / Rtm is larger than that of the conventional substrate.
That is, since the area of the bottom of the valley is larger than the area of the top of the peak, the coefficient of friction of the surface is small. This is more noticeable when a medium such as a magnetic film is processed on the surface of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による磁気ディスク基板の表面状態を示
す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a surface state of a magnetic disk substrate according to the present invention.

【図2】本発明による磁気ディスクの一例の略線的断面
図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a magnetic disk according to the present invention.

【図3】本発明による磁気ディスクの表面状態を示す模
式的断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a surface state of a magnetic disk according to the present invention.

【図4】本発明による磁気ディスク基体表面の模式的凹
凸パターン図である。
FIG. 4 is a schematic pattern diagram of a magnetic disk substrate surface according to the present invention.

【図5】本発明による磁気ディスクの表面粗さの測定曲
線図である。
FIG. 5 is a measurement curve diagram of the surface roughness of the magnetic disk according to the present invention.

【図6】遊離砥粒噴射加工装置の平断面図である。FIG. 6 is a plan sectional view of a loose abrasive jet processing apparatus.

【図7】遊離砥粒噴射加工装置の一部を断面とした側面
図である。
FIG. 7 is a side view in which a part of the loose abrasive grain injection processing device is shown as a cross section.

【図8】従来の磁気記録ディスクの断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a conventional magnetic recording disk.

【図9】従来の磁気ディスク基板の表面状態を示す模式
的断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a surface state of a conventional magnetic disk substrate.

【図10】従来のテキスチャー加工面の模式的パターン
図である。
FIG. 10 is a schematic pattern diagram of a conventional textured surface.

【図11】従来の磁気ディスクの表面状態を示す模式的
断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a surface state of a conventional magnetic disk.

【図12】従来のテキスチャー加工の表面の粗さ測定曲
線図である。
FIG. 12 is a surface roughness measurement curve diagram of a conventional texture processing.

【図13】従来のテキスチャー加工の表面の粗さ測定曲
線図である。
FIG. 13 is a surface roughness measurement curve diagram of a conventional texture processing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 磁気ディスク基板 13 磁性膜 14 保護膜 15 潤滑膜 17 磁気ディスク 21 基体 22 下地層 11 Magnetic Disk Substrate 13 Magnetic Film 14 Protective Film 15 Lubrication Film 17 Magnetic Disk 21 Base 22 Underlayer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ディスク基板表面に微細点状凹凸か
ら成る粗面が形成されており、その粗面状態が中心線平
均粗さRaが60〜240Å、最大粗さRtm500〜
2000Å、中心線山高さRpmが300〜1500Å
であり、かつRpm/Rtmの比が0.5〜0.75で
ある表面粗さを有することを特徴とする磁気ディスク基
板。
1. A magnetic disk substrate surface is provided with a rough surface composed of fine dot-like irregularities, and the rough surface state has a center line average roughness Ra of 60 to 240Å and a maximum roughness Rtm of 500 to
2000Å, center line mountain height Rpm is 300-1500Å
And a surface roughness Rpm / Rtm of 0.5 to 0.75.
【請求項2】 磁気ディスク基板がアルミニウム又はア
ルミニウム合金からなる円板状基体上にNi−Pメッキ
の下地層を有して成ることを特徴とする請求項1に記載
の磁気ディスク基板。
2. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the magnetic disk substrate comprises a disk-shaped substrate made of aluminum or an aluminum alloy, and a Ni-P plated underlayer on the disk-shaped substrate.
【請求項3】 磁気ディスク基板がガラス又はセラミッ
クスの円板状基体から成ることを特徴とする請求項1に
記載の磁気ディスク基板。
3. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the magnetic disk substrate comprises a disk-shaped substrate made of glass or ceramics.
【請求項4】 請求項1〜3に記載の磁気ディスク基板
に、磁性膜、保護膜及び潤滑膜が順次被着されて成るこ
とを特徴とする磁気ディスク。
4. A magnetic disk comprising the magnetic disk substrate according to any one of claims 1 to 3 and a magnetic film, a protective film, and a lubricating film sequentially deposited on the magnetic disk substrate.
【請求項5】 表面にNi−P下地層を有する或いは有
することのない磁気ディスク基板の表面を研磨する工程
と、 その後、上記研磨した表面に、平均粒径0.5〜5.0
μmからなる砥粒を流体に浮遊させた固相及び気相の2
相流を吹きつけて、前記研磨した表面に微細点状凹凸を
形成する工程とを採ることを特徴とする磁気ディスク基
板の製造方法。
5. A step of polishing the surface of a magnetic disk substrate having or not having a Ni—P underlayer on the surface, and thereafter, the average particle size of 0.5 to 5.0 on the polished surface.
A solid phase and a gas phase in which abrasive particles of μm are suspended in a fluid
A step of spraying a phase flow to form fine dot-like irregularities on the polished surface.
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