JPH05189713A - Block positioning and fixing method - Google Patents

Block positioning and fixing method

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JPH05189713A
JPH05189713A JP274792A JP274792A JPH05189713A JP H05189713 A JPH05189713 A JP H05189713A JP 274792 A JP274792 A JP 274792A JP 274792 A JP274792 A JP 274792A JP H05189713 A JPH05189713 A JP H05189713A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
positioning
head block
block
height
Prior art date
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Pending
Application number
JP274792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Akamatsu
潔 赤松
Masayasu Fujisawa
政泰 藤沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To simultaneously perform exposure development etching on plural magnetic head blocks by positioning two axes of an XY-plane to be aligned with a reference position of a microscopic field of view, performing the alignment in contact with a reference plane and adjusting the height of an exposure surface of each magnetic head block in the direction of Z-axis by pressing the exposure surface against the reference plane. CONSTITUTION:In the XY-plane an element of the magnetic head block 1 (goods to be processed) is aligned with the reference position of a mask pattern in the field of view of a microscope 9. In the heightwise direction of the Z-axis the height of a floating surface side of the head block 1 is set evenly by pressing the floating surface of the magnetic head against the reference plane in order to absorb variations of the height of the head block 1. Thus, in a processing process of exposure development etching on the head block 1 positioned and fixed on a jig, the plural goods 1 to be processed are positioned on the same jig in the directions of three axes of X, Y and Z with high accuracy, and can be processed by exposure.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドブロック
(被加工物)を治具上に位置決め固定し、露光現像エッ
チング加工する加工プロセスに関して、同一の治具上に
複数個の磁気ヘッドブロックをXYZ軸方向の位置決め
して、量産性を考慮して一括露光できることを特徴とす
るブロックの位置決め固定方法である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing process of positioning and fixing a magnetic head block (workpiece) on a jig, and exposing, developing, and etching a plurality of magnetic head blocks on the same jig. This is a method for positioning and fixing blocks, which is capable of performing batch exposure by positioning in the XYZ axis directions and considering mass productivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、露光現像エッチング加工によって
磁気ヘッドにおいては、特開昭62−231481号公
報に記載されているように、滑動子のレール形状をエッ
チングによりに形成する方法が示されている。
2. Description of the Related Art Heretofore, a method of forming a rail shape of a slider by etching has been disclosed in a magnetic head by exposure / development etching, as described in JP-A-62-231481. .

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、被加
工物を滑動子とするため、レール形状をエッチングによ
り形成する方法が示されている。しかしながら、被加工
物の保持状態、露光現像のプロセスに配慮されていな
い。このため、複数の被加工物を同時に露光現像エッチ
ングするための被加工物の位置決めができず、量産性に
問題があった。
The above-mentioned prior art discloses a method of forming a rail shape by etching in order to use a workpiece as a slider. However, no consideration is given to the holding state of the work piece and the exposure and development process. Therefore, the workpieces cannot be positioned for exposing, developing, and etching a plurality of workpieces at the same time, which causes a problem in mass productivity.

【0004】本発明の目的は、磁気ヘッドブロック(被
加工物)を治具上に位置決め固定し露光現像エッチング
する加工プロセスにおいて、量産性を考慮して一括露光
するため、同一の治具上に複数個の被加工物をXYZの
3軸方向に高精度に位置決めすることを特徴とするブロ
ックの位置決め固定方法を提供することにある。
An object of the present invention is to perform batch exposure in consideration of mass productivity in a processing process in which a magnetic head block (workpiece) is positioned and fixed on a jig and is exposed, developed and etched. It is an object of the present invention to provide a block positioning and fixing method characterized in that a plurality of workpieces are positioned with high precision in three XYZ directions.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、XY平面ではマスクパターンの基準位置にヘッドブ
ロックの素子を位置合わせすること、Z軸の高さ方向で
は磁気ヘッドの浮上面を均一高さに設定することが必要
となる。
In order to achieve the above object, the elements of the head block are aligned with the reference positions of the mask pattern on the XY plane, and the air bearing surface of the magnetic head is made uniform in the height direction of the Z axis. It is necessary to set the

【0006】被加工物である磁気ヘッドブロックの外形
形状は、機械加工によって形成されており、ミクロンオ
ーダの形状誤差を含む。このため、磁気ヘッドブロック
を単に並べるだけでは、多数個の配列の位置精度は得ら
れない。このためXY平面では、磁気ヘッドブロックの
素子をマスクパターンの基準位置に顕微鏡の視野内で位
置合わせする。さらに、Z軸の高さ方向ではヘッドブロ
ックの高さばらつきを吸収するため磁気ヘッドの浮上面
を基準面におし当てて、磁気ヘッドブロックの浮上面側
を均一高さにする。
The outer shape of the magnetic head block, which is the object to be processed, is formed by machining and includes a micron-order shape error. Therefore, the positional accuracy of a large number of arrays cannot be obtained simply by arranging the magnetic head blocks. Therefore, on the XY plane, the element of the magnetic head block is aligned with the reference position of the mask pattern within the field of view of the microscope. Further, in the height direction of the Z axis, the air bearing surface of the magnetic head is brought into contact with the reference surface in order to absorb the height variation of the head block, and the air bearing surface side of the magnetic head block is made uniform in height.

【0007】[0007]

【作用】磁気ヘッドブロック(被加工物)を治具上に位
置決め固定し露光現像エッチングする加工プロセスにお
いて、同一の治具上に複数個の被加工物をXYZの3軸
方向に高精度に位置決めすることができる。XY平面の
位置決めにより、エッチング加工によって被加工物であ
るヘッドブロックに浮上面のレール位置を位置精度良く
形成できる。このため、エッチングのマスクパターンを
形成する加工工程において、複数のヘッドブロックを同
時に露光できるので、生産性が向上する。
In the processing process of positioning and fixing the magnetic head block (workpiece) on the jig and exposing, developing, and etching, a plurality of workpieces are positioned on the same jig with high precision in the three XYZ directions. can do. By positioning the XY plane, the rail position of the air bearing surface can be formed with high positional accuracy on the head block, which is the workpiece, by etching. Therefore, in the processing step of forming the etching mask pattern, a plurality of head blocks can be exposed at the same time, which improves productivity.

【0008】さらに、Z軸の高さ方向ではヘッドブロッ
クの高さばらつきを吸収するため薄膜磁気ヘッドの浮上
面を基準面におし当てて、ヘッドブロックを均一高さに
することにより、エッチングのマスクパターンを形成す
る加工工程において、露光の焦点位置からのずれ量を小
さくできるので、マスクパターンの形状精度を得ること
ができ、このパタ−ンを用いたエッチング加工により形
成する浮上面のレール幅の寸法精度を向上できる。
Further, in order to absorb the height variation of the head block in the Z-axis height direction, the air bearing surface of the thin film magnetic head is brought into contact with the reference surface, and the head block is made uniform in height. In the process of forming the mask pattern, the amount of deviation from the focus position of the exposure can be reduced, so the shape accuracy of the mask pattern can be obtained, and the rail width of the air bearing surface formed by the etching process using this pattern. The dimensional accuracy of can be improved.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0010】実施例1 図1は、本発明に用いる被加工物である磁気ヘッドブロ
ック1の位置決め装置の概略を示している。位置決め装
置の構成は、X軸方向に押しつけるバー2、押しつけバ
ー2の押しつけの変位量を決めるネジ部3、Y軸の位置
決めのガイドピン4、Z軸基準のオプチカルフラット
5、XYテーブル6、XYテーブルをY軸方向に駆動で
きるサーボモータ7、X軸方向に駆動できるサーボモー
タ8(図示していない)、顕微鏡9、顕微鏡9の測定視
野を観察するモニターカメラ10、モニタ11である。
位置決め装置の上には、露光現像エッチング工程におい
て被加工物を保持するスルー治具12がある。
Embodiment 1 FIG. 1 schematically shows a positioning device for a magnetic head block 1 which is a workpiece used in the present invention. The configuration of the positioning device includes a bar 2 to be pressed in the X-axis direction, a screw portion 3 that determines the amount of displacement of the pressing bar 2, a Y-axis positioning guide pin 4, a Z-axis-based optical flat 5, an XY table 6, and an XY. A servo motor 7 that can drive the table in the Y-axis direction, a servo motor 8 (not shown) that can drive the table in the X-axis direction, a microscope 9, and a monitor camera 10 and a monitor 11 for observing the measurement field of view of the microscope 9.
Above the positioning device is a through jig 12 that holds a workpiece in the exposure, development and etching process.

【0011】次に、被加工物の位置合わせ動作について
説明する。磁気ヘッドブロック1のエッチング加工面を
オプチカルフラット5に向けガイドピン2の間にはさみ
保持する。XYテーブル6をサーボモータ7、8により
設定位置に移動させる。モニタ12において磁気ヘッド
ブロック1の設定位置からのずれ量を測定し、ネジ部3
を用いてバー2を変位させて、磁気ヘッドブロック1の
X軸方向の位置決めを行う。Y軸方向の位置決めは、ガ
イドピン4にヘッドブロックを押しつけて行う。同様の
動作を次の磁気ヘッドブロックの位置決めにおいても順
次繰り返す。
Next, the positioning operation of the work piece will be described. The etched surface of the magnetic head block 1 is directed toward the optical flat 5 and held between the guide pins 2. The XY table 6 is moved to the set position by the servomotors 7 and 8. The monitor 12 measures the amount of deviation of the magnetic head block 1 from the set position and
Is used to displace the bar 2 to position the magnetic head block 1 in the X-axis direction. Positioning in the Y-axis direction is performed by pressing the head block against the guide pin 4. The same operation is sequentially repeated in positioning the next magnetic head block.

【0012】磁気ヘッドブロック1をXYZ3軸の位置
決め後、スルー治具12の空孔13から接着剤を注入し
て、スルー治具12に固定する。固定後、ねじ部3の送
りを戻し押しつけバー3による磁気ヘッドブロック1へ
の位置決めの拘束力を解除する。これらの動作により、
スルー治具12に複数の磁気ヘッドブロック1を位置決
めを行い、固定保持する。複数の磁気ヘッド1を固定保
持したスルー治具12は、フォトレジストのコーティン
グ、マスクパターンの露光現像を行い、ミリング工程に
より、磁気ヘッドブロック1の浮上面のレールを形成で
きる。
After the magnetic head block 1 is positioned on the XYZ triaxial axes, an adhesive is injected from the holes 13 of the through jig 12 and fixed to the through jig 12. After fixing, the feed of the screw portion 3 is returned and the restraining force for positioning the magnetic head block 1 by the pressing bar 3 is released. By these actions,
A plurality of magnetic head blocks 1 are positioned on the through jig 12 and fixedly held. The through jig 12, which holds the plurality of magnetic heads 1 fixed, performs photoresist coating, exposure and development of a mask pattern, and a milling process to form rails on the air bearing surface of the magnetic head block 1.

【0013】図2は、XY平面の基準位置からのずれ
量、すなわち、位置決め精度を示している。ここでは、
直径70mmのスルー治具に、15本の磁気ヘッドブロ
ックを位置決め保持している。X軸の位置決め精度は±
5μm、Y軸の位置決め精度は±20μm以内を得てい
ることを示している。
FIG. 2 shows the amount of deviation from the reference position on the XY plane, that is, the positioning accuracy. here,
Fifteen magnetic head blocks are positioned and held by a through jig having a diameter of 70 mm. X-axis positioning accuracy is ±
It is shown that the positioning accuracy of 5 μm and the Y-axis is within ± 20 μm.

【0014】図3は、Z軸方向の磁気ヘッドブロックの
高さ精度を示している。磁気ヘッド浮上面の裏面を基準
に磁気ヘッドブロックを位置決めすると、磁気ヘッドブ
ロックの外形の機械加工精度の影響を受けるため、Z軸
の位置決め精度は±20μmである。本発明によるよう
に、磁気ヘッドの浮上面を基準に位置決めすることによ
り、Z軸の位置決め精度は±2μmである。
FIG. 3 shows the height accuracy of the magnetic head block in the Z-axis direction. When the magnetic head block is positioned on the basis of the back surface of the air bearing surface of the magnetic head, the machining accuracy of the outer shape of the magnetic head block affects the positioning accuracy of the Z axis is ± 20 μm. By positioning with the air bearing surface of the magnetic head as a reference as in the present invention, the Z axis positioning accuracy is ± 2 μm.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明によれば、被加工物である磁気ヘ
ッドブロックを同一の治具に複数個同時に位置決めし、
スルー治具に保持できるので、複数の磁気ヘッドブロッ
クを同時に露光現像エッチングできる。XY平面の位置
決め精度を得ることにより、一括露光を可能にし、しか
もZ軸の高さを均一に揃えることにより露光時の焦点ぼ
けを小さくすることもできる。これらによって、加工の
寸法精度と位置精度と量産性を得ることができる。
According to the present invention, a plurality of magnetic head blocks, which are workpieces, are simultaneously positioned on the same jig,
Since it can be held by the through jig, a plurality of magnetic head blocks can be exposed, developed and etched simultaneously. By obtaining the positioning accuracy of the XY plane, it is possible to perform a batch exposure, and further, by uniformly aligning the heights of the Z axis, it is possible to reduce the defocusing at the time of exposure. With these, dimensional accuracy and positional accuracy of processing and mass productivity can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による磁気ヘッドブロックの位置決め装
置の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of a magnetic head block positioning device according to the present invention.

【図2】本発明による、XY平面における磁気ヘッドブ
ロックの位置精度を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the positional accuracy of a magnetic head block in an XY plane according to the present invention.

【図3】本発明による、Z軸方向の磁気ヘッドブロック
の位置精度を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the positional accuracy of a magnetic head block in the Z-axis direction according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…磁気ヘッドブロック(被加工物) 2…押しつけバー 4…ガイドピン 5…オプチカルフラット 12…スルー治具 1 ... Magnetic head block (workpiece) 2 ... Pressing bar 4 ... Guide pin 5 ... Optical flat 12 ... Through jig

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】磁気ヘッドブロック(被加工物)を治具上
に位置決め固定し露光現像エッチングする加工プロセス
において、量産性を考慮して一括露光するため、同一の
治具上に複数個の磁気ヘッドブロックをXYZの3軸方
向に高精度に位置決めするブロックの位置決め固定方法
において、XY平面の一軸の位置決めは、顕微鏡の視野
において基準位置に位置合わせし、XY平面の一軸は基
準面に接触させ位置決めし、磁気ヘッドブロックの露光
面のZ軸方向の高さ合わせは、露光面を基準面に押しつ
けることにより、高さ合わせすることを特徴とするブロ
ックの位置決め固定方法。
1. In a processing process of positioning and fixing a magnetic head block (workpiece) on a jig and exposing and developing and etching, batch exposure is performed in consideration of mass productivity. In a block positioning and fixing method for positioning a head block with high accuracy in the three directions of XYZ, positioning of one axis of the XY plane is aligned with a reference position in the field of view of the microscope, and one axis of the XY plane is brought into contact with the reference surface. A method for positioning and fixing a block, characterized in that the height of the exposed surface of the magnetic head block in the Z-axis direction is aligned by pressing the exposed surface against a reference surface.
【請求項2】請求項1のXY平面の位置合わせは、XY
の2軸とも顕微鏡視野にて基準位置に位置合わせするこ
とを特徴としたブロックの位置決め固定方法。
2. The alignment of the XY plane of claim 1 is XY
Positioning and fixing method of the block characterized by aligning both of the two axes to the reference position in the microscope field of view.
【請求項3】請求項1のZ軸の高さ合わせは、磁気ヘッ
ドブロックの高さを1μm単位で分級することにより、
ヘッドブロックの底面を基準として位置決めを行い、高
さ精度を得ることを特徴とするブロックの位置決め固定
方法。
3. The Z-axis height alignment according to claim 1, wherein the height of the magnetic head block is classified in units of 1 μm.
A method for positioning and fixing a block, wherein positioning is performed using the bottom surface of the head block as a reference to obtain height accuracy.
JP274792A 1992-01-10 1992-01-10 Block positioning and fixing method Pending JPH05189713A (en)

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