JPH05174699A - Long size cathode - Google Patents

Long size cathode

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JPH05174699A
JPH05174699A JP34097091A JP34097091A JPH05174699A JP H05174699 A JPH05174699 A JP H05174699A JP 34097091 A JP34097091 A JP 34097091A JP 34097091 A JP34097091 A JP 34097091A JP H05174699 A JPH05174699 A JP H05174699A
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JP
Japan
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cathode
electron
tantalum
main body
tungsten
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP34097091A
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Japanese (ja)
Inventor
Ikuo Wakamoto
郁夫 若元
Takamasa Nakamura
隆正 中村
Kazuyuki Toki
和之 土岐
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LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKY
LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Jeol Ltd
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKY
LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Jeol Ltd
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

PURPOSE:To lower a temperature of a main body, and also reduce deflection, by joining an electron emitting member consisting of tantalum to the front a cathode main body consisting of tungsten, and emitting thermoelectrons from here, in an electron gun used as a heat source to vaporize metal in a vacuum by means of long size shape electron beams. CONSTITUTION:In a linear electron gun, a cathode 1 is positioned/arranged in the rear of an anode 7 and a grid 6, and both the ends are supported with a support mechanism 3. At this time, a main body 5 of the cathode 1 is constituted by combining a tungsten material and a tantalum material 4 to play a role of electron emission with each other, and the shape is formed in a long size shape. At this time, a recess part is bored in front of the main body 5, that is, in the central part of the electron emitting directional surface, and the tantalum material 4 is buried here, and electrons are emitted from here. By constituting in this way, even if the main body 5 and the tantalum material 4 are heated up to the same temperature, thermoelectrons are emitted mostly from the tantalum material 4 according to size of a work function, so that a temperature of the main body 5 can be lowered.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、真空中で金属蒸気を発
生させる熱源として使用される電子銃における長尺カソ
ードに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a long cathode in an electron gun used as a heat source for generating metal vapor in a vacuum.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5に従来の電子銃を示す。この電子銃
は、長尺状電子ビームの発生により、真空中で金属等を
蒸発させるものである(以下、リニア電子銃と称す
る)。即ち、このリニア電子銃においてはアノード7、
グリッド6の後方にカソード1が配置され、このカソー
ド1の後方にはカソード加熱用フィラメント2が配置さ
れている。カソード1は、タングステン材又はタンタル
材で製作され、カソード加熱用フィラメント2により、
それぞれ2700k,2500kまで加熱され、熱電子eを放出
する。アノード7には正の高電圧が加速電源9により印
加され、放出された熱電子eが加速される。グリッド6
には負の電圧がグリッド電源8により印加され、電子ビ
ーム量や集光性が調整される。更に、図中紙面と垂直方
向に均一磁場Bが形成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a conventional electron gun. This electron gun evaporates metal or the like in a vacuum by generating a long electron beam (hereinafter referred to as a linear electron gun). That is, in this linear electron gun, the anode 7,
A cathode 1 is arranged behind the grid 6, and a cathode heating filament 2 is arranged behind the cathode 1. The cathode 1 is made of a tungsten material or a tantalum material, and the cathode heating filament 2
They are heated to 2700 k and 2500 k, respectively, and emit thermoelectrons e. A positive high voltage is applied to the anode 7 by the acceleration power supply 9, and the emitted thermoelectrons e are accelerated. Grid 6
A negative voltage is applied by the grid power supply 8 to adjust the electron beam amount and the light collecting property. Furthermore, a uniform magnetic field B is formed in the direction perpendicular to the plane of the drawing.

【0003】従って、カソード加熱用フィラメント2に
よりカソード1を加熱すると、カソード1から熱電子e
が放出され、アノード7による電界により加速されて電
子ビーム12となり、この電子ビーム12は均一磁場B
の作用により偏向する。そして、電子ビーム12は、る
つぼ10内のターゲット(蒸発源)11に集光して照射
され、これにより、ターゲット11が蒸発して金属蒸気
13が得られる。
Therefore, when the cathode 1 is heated by the cathode heating filament 2, the thermoelectrons e are generated from the cathode 1.
Are emitted and accelerated by an electric field from the anode 7 to become an electron beam 12, which is a uniform magnetic field B
It is deflected by the action of. Then, the electron beam 12 is focused on a target (evaporation source) 11 in the crucible 10 and is irradiated, whereby the target 11 is evaporated and metal vapor 13 is obtained.

【0004】ここで、上記カソード1は、タングステン
材又はタンタル材を単独で使用していた為、それぞれ27
00k,2500kまで加熱されると、カソード自身の自重に
より撓みを生じる。この為、従来のカソード1は長いス
パンが取れなかった。この為、長いスパンのカソード1
が必要となる場合には、図4に示すように、カソード1
の両端を両端支持機構3で支持すると共にカソード1の
中間を中間支持機構15で支持する必要があった。つま
り、長いスパンのカソードを短いスパンの複数のカソー
ドに分割して、これらの中間を中間支持機構15により
支持し、短いスパンのカソードを連続的に配置したもの
である。尚、カソード加熱用フィラメント2は、中間支
持14を設けるか、分割形のカソード加熱用フィラメン
トを直列に連続して設けることにより、長尺化に対応し
ている。
Here, since the cathode 1 is made of a tungsten material or a tantalum material alone, 27
When heated up to 00k and 2500k, the cathode itself bends, causing bending. Therefore, the conventional cathode 1 cannot have a long span. Therefore, long span cathode 1
If a cathode is needed, as shown in FIG.
Both ends of the cathode must be supported by the both-end supporting mechanism 3 and the middle of the cathode 1 must be supported by the intermediate supporting mechanism 15. That is, a cathode with a long span is divided into a plurality of cathodes with a short span, the middle of these is supported by an intermediate support mechanism 15, and the cathodes with a short span are continuously arranged. The cathode heating filament 2 can be made longer by providing the intermediate support 14 or by providing split cathode heating filaments in series.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】金属蒸気13の分布密
度をるつぼ10の長手方向に均一化して、その方向に均
一な膜厚を形成するには、長尺のカソード1を均一温度
に加熱すると共に各電極間の長さを均一に保つ必要があ
る。しかし、カソード1として、タングステン材又はタ
ンタル材を単独で使用すると、必要な放射電流密度を得
るためには、電子放出面積を増大するか、加熱温度を上
昇させる必要がある。前者については、電子ビーム12
の集光性を悪化させるという問題があり、また、後者に
ついては、強度が低下し、クリープ変形が生じる問題が
ある。
In order to make the distribution density of the metal vapor 13 uniform in the longitudinal direction of the crucible 10 and form a uniform film thickness in that direction, the long cathode 1 is heated to a uniform temperature. At the same time, it is necessary to keep the length between the electrodes uniform. However, if a tungsten material or a tantalum material is used alone as the cathode 1, it is necessary to increase the electron emission area or raise the heating temperature in order to obtain the required radiation current density. For the former, the electron beam 12
There is a problem of deteriorating the light condensing property, and the latter has a problem that the strength decreases and creep deformation occurs.

【0006】この為、現状では、長尺カソードの長さは
150mmが上限であり、それ以上の長尺なカソードが必要
となる場合には、図4に示すように、中間支持機構15
を使用して、短いスパンのカソードを連続的に配置する
しかなかったが、温度分布の不均一或いは電極間距離の
不均一の不具合が生じていた。本発明は、上記従来技術
に鑑みてなされたものであり、構造材料としての役目を
果たすカソード本体としてタングステン材と、電子放出
の役目を果たす電子放出材料としてタンタル材とを組み
合わせ、仕事関数の小さなタンタル材のみで必要な放射
電流密度が得られる温度まで加熱して使用することので
きる長尺カソードを提供することを目的とする。
Therefore, at present, the length of the long cathode is
When the upper limit is 150 mm and a longer cathode is required, as shown in FIG. 4, the intermediate support mechanism 15
However, there was no choice but to arrange the short-span cathodes continuously, but there was a problem of uneven temperature distribution or uneven distance between electrodes. The present invention has been made in view of the above-mentioned prior art, and combines a tungsten material as a cathode body serving as a structural material and a tantalum material as an electron emitting material serving as an electron emitting material, and has a small work function. An object of the present invention is to provide a long cathode which can be heated to a temperature at which a required emission current density can be obtained by using only a tantalum material and used.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成する本
発明の構成は長尺状の電子ビームの発生により、真空中
で金属等を蒸発させる熱源として使用される電子銃にお
いて、タングステンよりなるカソード本体の前面にタン
タルからなる電子放出部材を結合して、タンタルにより
熱電子が放射される温度まで加熱すること特徴とする。
The structure of the present invention which achieves such an object is made of tungsten in an electron gun used as a heat source for evaporating a metal or the like in a vacuum by the generation of a long electron beam. An electron emission member made of tantalum is coupled to the front surface of the cathode body, and the tantalum is heated to a temperature at which thermoelectrons are emitted.

【0008】[0008]

【作用】仕事関数については、タングステンに比較して
タンタルが小さいので、これらを同一温度まで加熱する
と、熱電子は殆どタンタルから放出される。必要な放射
電流密度、例えば、2A/cm2を得る場合、タングステンで
は約2700kまで加熱する必要があるのに対して、タンタ
ルの場合には約2500kと、200k低温でよい。従って、
タンタルを電子放出としての役目を果たす材料として使
用することにより、加熱温度を低下させることができ
る。高温強度については、タンタルに比較してタングス
テンが大きいので、タングステンを構造材料としての役
目を果たすカソード本体とすることで、高温時の撓みを
減少させることができる。
With respect to the work function, since tantalum is smaller than tungsten, if these are heated to the same temperature, most of the thermoelectrons are emitted from tantalum. To obtain the required emission current density, for example 2 A / cm 2 , tungsten needs to be heated up to about 2700 k, whereas for tantalum about 2500 k, a low temperature of 200 k is sufficient. Therefore,
The heating temperature can be lowered by using tantalum as a material that serves as electron emission. With respect to high temperature strength, since tungsten is larger than tantalum, by using tungsten as the cathode main body that serves as a structural material, it is possible to reduce the deflection at high temperature.

【0009】尚、電子放出材料として使用されるタンタ
ル材の形状を任意の形状とすることができるので、電子
ビームを形状を任意の形状とすることができる。特に、
カソード中央部にタンタルの無い部分を設けることで、
イオンボンパートによる損傷を低減することが可能とな
る。また、タングステン材とタンタル材とを接合する方
法としては、高温真空中で圧接する拡散接合やHIP(
Hot Isostation Press )、また、溶射後HIP,CVP
やPVDによる蒸着等の方法がある。
Since the tantalum material used as the electron emitting material can have any shape, the electron beam can have any shape. In particular,
By providing a part without tantalum in the center of the cathode,
It is possible to reduce the damage caused by the ion bomber. Further, as a method of joining the tungsten material and the tantalum material, diffusion joining in which they are pressure-welded in a high temperature vacuum or HIP (
Hot Isostation Press), HIP, CVP after spraying
There are methods such as vapor deposition by PVD and PVD.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明について、図面に示す実施例を
参照して詳細に説明する。図1及び図2に本発明の一実
施例に係るリニア電子銃を示す。両図に示すように、こ
のリニア電子銃においてはアノード7、グリッド6の後
方にカソード1が配置されている。カソード1は、その
両端を両端支持機構3で支持され、この構造材料5は、
カソード1の熱膨脹を許容するように支持している。カ
ソード1は、構造部材として役目を果たすカソード本体
5としてタングステン材と、電子放出の役目を果たす電
子放出材料4としてタンタル材とを組み合わせたもので
ある。即ち、タングステン材により長尺状をなすカソー
ド本体5が構成され、そのカソード本体5の前面、つま
り、電子放出方向の面の中央部に凹部を穿設し、その凹
部にタンタル材よりなる電子放出材料4を一体的に嵌合
したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the embodiments shown in the drawings. 1 and 2 show a linear electron gun according to an embodiment of the present invention. As shown in both figures, in this linear electron gun, an anode 7 and a cathode 1 are arranged behind a grid 6. Both ends of the cathode 1 are supported by both end supporting mechanisms 3, and the structural material 5 is
The cathode 1 is supported so as to allow thermal expansion. The cathode 1 is a combination of a tungsten material as a cathode main body 5 serving as a structural member and a tantalum material as an electron emitting material 4 serving as an electron emitting material. That is, a long cathode main body 5 is made of a tungsten material, and a recess is formed in the front surface of the cathode main body 5, that is, in the center of the surface in the electron emission direction, and the electron emission made of a tantalum material is formed in the recess. The material 4 is integrally fitted.

【0011】タンタルの仕事関数はタングステンの仕事
関数に比較して小さいので、カソード本体5及び電子放
出材料4を同一温度まで加熱すると、熱電子eは電子放
出材料4であるタンタルから殆ど放出される。この為、
必要な放射電流密度、例えば、2A/cm2を得る場合、タン
グステンでは約2700kまで加熱する必要があるのに対し
て、タンタルの場合には約2500kと、200k低温でよ
い。従って、本発明のようにタンタルを電子放出材料4
として使用することにより、タングステンのみを使用す
る場合に比較して加熱温度を低下させることができる。
Since the work function of tantalum is smaller than the work function of tungsten, when the cathode body 5 and the electron emitting material 4 are heated to the same temperature, most of the thermoelectrons e are emitted from tantalum which is the electron emitting material 4. .. Therefore,
To obtain the required emission current density, for example 2 A / cm 2 , tungsten needs to be heated up to about 2700 k, whereas for tantalum about 2500 k, a low temperature of 200 k is sufficient. Therefore, tantalum is used as the electron-emitting material 4 as in the present invention.
As a result, the heating temperature can be lowered as compared with the case where only tungsten is used.

【0012】また、タングステンの高温強度は、タンタ
ルの高温強度に比較してが大きいので、タングステンを
カソード本体5とすることで、タンタルのみを使用する
場合に比較して高温時の撓みを減少させることができ
る。一方、カソード1の後方にはカソード加熱用フィラ
メント2が配置されている。カソード加熱用フィラメン
ト2は一般にカソード1よりも断面積が小さく、自重に
より変形しやすいので、その中間部を支持機構14によ
り支持されている。カソード加熱用フィラメント2は、
熱伝導、輻射、電子衝撃加熱等の方法で、必要な放射電
流密度が得られるまで、カソード1を長さ方向に均一に
加熱する。更に、アノード7には正の高電圧が加速電源
9により印加されており、放出された熱電子が加速され
るようになっている。また、グリッド6には負の電圧が
グリッド電源8により印加され、電子ビーム量や集光性
が調整される。更に、図中紙面と垂直方向に均一磁場B
が形成されている。
Since the high temperature strength of tungsten is higher than that of tantalum, the use of tungsten as the cathode body 5 reduces the deflection at high temperature as compared with the case of using only tantalum. be able to. On the other hand, a cathode heating filament 2 is arranged behind the cathode 1. Since the cathode heating filament 2 generally has a smaller cross-sectional area than the cathode 1 and is easily deformed by its own weight, the intermediate portion thereof is supported by the support mechanism 14. The cathode heating filament 2 is
The cathode 1 is uniformly heated in the length direction by a method such as heat conduction, radiation, or electron impact heating until the required radiant current density is obtained. Further, a positive high voltage is applied to the anode 7 by the acceleration power source 9, so that the emitted thermoelectrons are accelerated. In addition, a negative voltage is applied to the grid 6 by the grid power supply 8 to adjust the electron beam amount and the light collecting property. Furthermore, the uniform magnetic field B is perpendicular to the plane of the drawing.
Are formed.

【0013】従って、カソード加熱用フィラメント2に
よりカソード1が2500kに加熱されると、電子放出材料
4であるタンタルから熱電子eが放出され、アノード7
による電界により加速されて電子ビーム12となり、こ
の電子ビーム12は均一磁場Bの作用により偏向する。
そして、電子ビーム12は、るつぼ10内のターゲット
(蒸発源)11に集光して照射され、これにより、ター
ゲット11が蒸発して金属蒸気13が得られる。ここ
で、カソード1は2700kよりも200k低い2500kに加熱
され、且つ、カソード本体5として高温強度の最も優れ
るタングステンが使用されているので、自重による撓み
が少なくなる。従って、中間支持機構15が不要とな
り、カソード1の長尺化が図れる。
Therefore, when the cathode 1 is heated to 2500 k by the cathode heating filament 2, thermoelectrons e are emitted from the tantalum, which is the electron emitting material 4, and the anode 7 is discharged.
The electron beam 12 is accelerated by the electric field due to the electron beam 12 and is deflected by the action of the uniform magnetic field B.
Then, the electron beam 12 is focused on a target (evaporation source) 11 in the crucible 10 and is irradiated, whereby the target 11 is evaporated and metal vapor 13 is obtained. Here, the cathode 1 is heated to 2500 k, which is 200 k lower than 2700 k, and since tungsten having the highest high-temperature strength is used as the cathode main body 5, the deflection due to its own weight is reduced. Therefore, the intermediate support mechanism 15 becomes unnecessary, and the length of the cathode 1 can be increased.

【0014】次に、カソード1のその他の構造につい
て、図3に示す。図3(a)は上記実施例と同様に、タン
グステン材よりなるカソード本体5の前面中央に凹部を
穿設し、この凹部にタンタル材である電子放出材料4を
嵌合したものである。図3(b)(c)は、何れも電子放出材
料4の上下をカソード本体5で挟んだ3層構造である
が、同図(b)は電子放出材料4が前方に突出しているの
に対して、同図(c)はカソード本体5が前方に突出して
いる。図3(d)(e)は、何れもカソード本体5の前面の全
面に亙って電子放出材料4を形成したものであるが、同
図(e)は、更に、カソード本体5の後面に凹部を形成
し、この凹部にカソード加熱用フィラメント2を収納し
たものである。図3(f)(g)は、何れもカソード本体5の
前面の一部に電子放出材料4を張り付けたものである
が、同図(f)が上下に張り付けられているのに対し、同
図(g)は中央に張り付けられている。
Next, another structure of the cathode 1 is shown in FIG. Similar to the above embodiment, FIG. 3 (a) shows a cathode main body 5 made of a tungsten material, in which a concave portion is formed in the center of the front surface, and an electron emitting material 4 which is a tantalum material is fitted in the concave portion. 3 (b) and 3 (c) each have a three-layer structure in which the upper and lower sides of the electron emitting material 4 are sandwiched by the cathode main body 5, but FIG. 3 (b) shows that the electron emitting material 4 is projected forward. On the other hand, in FIG. 3C, the cathode main body 5 projects forward. 3 (d) and 3 (e), the electron-emitting material 4 is formed on the entire front surface of the cathode body 5, but FIG. 3 (e) further shows that the electron emitting material 4 is formed on the rear surface of the cathode body 5. A concave portion is formed, and the cathode heating filament 2 is housed in this concave portion. 3 (f) and 3 (g), the electron-emitting material 4 is attached to a part of the front surface of the cathode main body 5, but the same FIG. 3 (f) is attached up and down. Figure (g) is attached to the center.

【0015】図3(a)〜(c)に示すものは、主に拡散接合
により製作され、同図(d)〜(g)に示すものは、溶射後H
IP処理により製作される。同図(d)〜(g)のようにタン
タルが薄くて良い場合には、CVD又はPVD等のコー
ティング法にても製作可能である。図3(a)(b)(g)は集
光性を得る目的で製作されるものであり、同図(c)(f)は
イオンボンバードによる損傷を低減し、長寿命化を目的
として製作されるものである。
Those shown in FIGS. 3 (a) to 3 (c) are mainly manufactured by diffusion bonding, and those shown in FIGS. 3 (d) to 3 (g) are H after thermal spraying.
It is manufactured by IP processing. When the tantalum is thin as shown in FIGS. 3D to 3G, it can be manufactured by a coating method such as CVD or PVD. Figures 3 (a) (b) (g) are manufactured for the purpose of obtaining light-collecting properties, and Figures 3 (c) (f) are manufactured for the purpose of reducing damage due to ion bombardment and extending the life. Is done.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明の長尺カソードは、構造部材としての
カソード本体としてタングステンと、電子放出材料とし
てタンタルとを組み合わせたので、タングステン単独で
使用する場合に比較して、約200k低温化することがで
きると共にタンタル単独で使用する場合に比較して、加
熱時における撓みを減少することができる。このような
カソード温度の低減により、蒸発による寿命を延長させ
ることができ、また、電子銃の冷却時間を短縮する事が
できる。更に、高温時の撓みが少ないので、中間支持機
構を不要にしてカソードの長尺化が可能となる。特に、
電子放出材料として任意の形状を取ることができるの
で、ビーム集光性を向上させ、イオンボンバードによる
損傷を低減することがてきる。このように、本発明によ
れば、高性能、長寿命な長尺リニア電子銃が製作可能と
なり、高品質な蒸着が低コストで実現可能となる。
As described above in detail with reference to the embodiments, the long cathode of the present invention is a combination of tungsten as a cathode body as a structural member and tantalum as an electron emitting material. The temperature can be reduced by about 200 k as compared with the case of using it alone, and the deflection during heating can be reduced as compared with the case of using tantalum alone. By reducing the cathode temperature as described above, the life due to evaporation can be extended and the cooling time of the electron gun can be shortened. Further, since the bending at a high temperature is small, it is possible to make the cathode longer without the need for an intermediate supporting mechanism. In particular,
Since the electron-emitting material can have an arbitrary shape, it is possible to improve the beam converging property and reduce the damage due to the ion bombardment. As described above, according to the present invention, a long linear electron gun with high performance and long life can be manufactured, and high-quality vapor deposition can be realized at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る長尺カソードの斜視図
である。
FIG. 1 is a perspective view of a long cathode according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す長尺カソードを使用したリニア電子
銃の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a linear electron gun using the long cathode shown in FIG.

【図3】同図(a)〜(g)は、それぞれ本発明に係る長尺カ
ソードの他の実施例を示す断面図である。
3 (a) to 3 (g) are cross-sectional views showing another embodiment of the long cathode according to the present invention.

【図4】中間支持機構により支持される従来のカソード
の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a conventional cathode supported by an intermediate support mechanism.

【図5】従来のリニア電子銃の構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional linear electron gun.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カソード 2 カソード加熱用フィラメント 3 両端支持機構 4 電子放出材料 5 カソード本体 6 グリッド 7 アノード 8 グリッド電源 9 加速電源 10 るつぼ 11 ターゲット 12 電子ビーム 13 金属蒸気 14 フィラメント支持機構 15 中間支持機構 B 均一磁場 e 熱電子 1 cathode 2 cathode heating filament 3 both ends support mechanism 4 electron emission material 5 cathode body 6 grid 7 anode 8 grid power supply 9 acceleration power supply 10 crucible 11 target 12 electron beam 13 metal vapor 14 filament support mechanism 15 intermediate support mechanism B uniform magnetic field e Thermoelectron

フロントページの続き (72)発明者 中村 隆正 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 土岐 和之 東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 日本 電子株式会社内Front page continued (72) Inventor Takamasa Nakamura 4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City, Hiroshima Prefecture Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Works (72) Inventor Kazuyuki Toki 3-1-2 Musashino, Akishima-shi, Tokyo Inside JEOL Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 長尺状の電子ビームの発生により、真空
中で金属等を蒸発させる熱源として使用される電子銃に
おいて、タングステンよりなるカソード本体の前面にタ
ンタルからなる電子放出部材を結合して、タンタルによ
り熱電子が放射される温度まで加熱すること特徴とする
長尺カソード。
1. In an electron gun used as a heat source for evaporating a metal or the like in a vacuum by generating a long electron beam, an electron emitting member made of tantalum is coupled to a front surface of a cathode body made of tungsten. A long cathode which is heated to a temperature at which thermionic electrons are emitted by tantalum.
JP34097091A 1991-12-24 1991-12-24 Long size cathode Withdrawn JPH05174699A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34097091A JPH05174699A (en) 1991-12-24 1991-12-24 Long size cathode

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JP34097091A JPH05174699A (en) 1991-12-24 1991-12-24 Long size cathode

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ID=18341996

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JP34097091A Withdrawn JPH05174699A (en) 1991-12-24 1991-12-24 Long size cathode

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JP (1) JPH05174699A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011060486A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Jeol Ltd Electron beam device for vacuum deposition

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