JPH05173088A - Optical waveguide driving device - Google Patents

Optical waveguide driving device

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JPH05173088A
JPH05173088A JP34326791A JP34326791A JPH05173088A JP H05173088 A JPH05173088 A JP H05173088A JP 34326791 A JP34326791 A JP 34326791A JP 34326791 A JP34326791 A JP 34326791A JP H05173088 A JPH05173088 A JP H05173088A
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JP
Japan
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deflection
optical fiber
optical waveguide
light
optical
Prior art date
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Application number
JP34326791A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Ota
好紀 太田
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH05173088A publication Critical patent/JPH05173088A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a compact and light optical waveguide driving device capable of executing optical scanning by providing the device with an optical waveguide means such as an optical waveguide or an optical fiber supported by a cantilever and at least one electrode or magnetic circuit for deflecting the free end side of the optical waveguide means. CONSTITUTION:This driving device is provided with the optical fiber 1 supported by the cantilever and an electrode group arranged around a deflection area 5 of the fiber 1 and consisting of horizontal deflection electrodes 8a, 8b which are mutually parallel and vertical deflection electrodes 9a, 9b which are mutually parallel. When positive voltage is impressed to any one of the deflecting electrodes and the residual electrodes are grounded, the deflection area 5 of the fiber 1 is attracted by electrostatic attractive force and positioned on a position balanced with restoring force determined by the spring constant of the fiber 1. In this state, light 12 projected from light projection end 2 is deflected. Thus the two-dimensional deflection of light can be attained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光導波路駆動装置の改
良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvement of an optical waveguide driving device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュ−タの普及は目覚まし
く、OA化,FA化,LA化等、省力化,高能率化を推
進するためには不可欠なものとなっている。コンピュ−
タの普及に伴い、そのデ−タ出力用のプリンタの小型
化,低価格化,高性能化の要求は強く、特に光プリンタ
は印字が鮮明,低騒音等の利点があり、その普及率は確
実に増加している。
2. Description of the Related Art In recent years, computers have been remarkably spread, and have become indispensable for promoting labor saving and high efficiency such as OA, FA and LA. Compu
With the spread of data, there is a strong demand for downsizing, price reduction, and high performance of printers for data output. Especially, optical printers have advantages such as clear printing and low noise. It is definitely increasing.

【0003】光プリンタの重要な機能要素はレ−ザ光の
収束,偏光であり、特に光偏向を小型で高精度に行ない
うる光偏向器の研究,開発が要求されている。従来実用
化あるいは研究開発が行われている光偏向器には反射鏡
を用いたポリゴンミラ−型,ガルバノミラ−型,カンチ
レバ−型があり、その他には音響光学効果を用いた導波
路型のものなどがある。ポリゴンミラ−型は回転多面体
の側面を反射鏡として用い最も普及している光偏向器で
あるが、重量,体積の点で軽量化,小型化が求められて
いる。ガルバノミラ−型,カンチレバ−型は、電磁力,
静電気力を利用した反射鏡であり、小型・軽量化には有
利な方法であるが、偏向精度の点で改良の余地がある。
強誘電体の音響光学効果を用いる回折型光偏向器は櫛型
電極に印加する高周波電圧の周波数を変えることで偏向
角を高精度に可変できるが、偏向角が数度程度と小さ
く、まだ実用の域に達していない。
An important functional element of an optical printer is the convergence and polarization of laser light, and in particular, research and development of an optical deflector that is small in size and capable of performing high precision is required. Optical deflectors that have been put to practical use or have been researched and developed include polygon mirror type using a reflecting mirror, galvanometer mirror type, and cantilever type, and waveguide type using acousto-optical effect. and so on. The polygon mirror type is the most popular optical deflector that uses the side surface of a rotating polyhedron as a reflecting mirror, but it is required to be lightweight and compact in terms of weight and volume. Galvano mirror type and cantilever type have electromagnetic force,
This is a reflecting mirror that uses electrostatic force, and is an advantageous method for reducing size and weight, but there is room for improvement in terms of deflection accuracy.
A diffractive optical deflector that uses the acousto-optic effect of a ferroelectric substance can change the deflection angle with high accuracy by changing the frequency of the high-frequency voltage applied to the comb-shaped electrodes, but the deflection angle is as small as a few degrees and is still in practical use. Has not reached the level of.

【0004】また、いずれの光偏向方式も光の一次元の
走査を行うだけであり、二次元走査を行うには2つの偏
向手段を組み合わせる必要があるため、装置構成が複雑
になる。
Further, all of the light deflection methods only perform one-dimensional scanning of light, and two deflection means must be combined to perform two-dimensional scanning, which complicates the apparatus configuration.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光プリンタに用いられているポリゴンミラ−には、小型
軽量化の問題がある。また、ガルバノミラ−,カンチレ
バ−ミラ−には偏向精度の向上が求められ、音響光学効
果を用いる回折型偏向器では偏向角の拡大が求められて
いる。また、従来実用化,開発されている偏向方式で
は、光の二次元偏向が困難であるという制限がある。本
発明は上記事情に鑑みてなされたもので、小型,軽量で
簡単な構成である光導波路駆動装置を提供することを目
的とする。
However, the polygon mirror used in the conventional optical printer has a problem of downsizing and weight saving. Further, the galvanometer mirror and the cantilever mirror are required to improve the deflection accuracy, and the diffraction type deflector using the acousto-optic effect is required to enlarge the deflection angle. Further, the conventional deflection methods that have been put to practical use have a limitation that it is difficult to two-dimensionally deflect light. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an optical waveguide driving device having a small size, a light weight, and a simple structure.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、片持ち支持さ
れた光導波路手段と、この光導波路手段の自由端側を偏
向する駆動手段とを具備することを特徴とする光導波路
駆動装置である。本発明において、前記光導波路手段と
しては、導電性薄膜で被覆された光ファイバ−あるいは
カンチレバ−型光導波路が挙げられる。
According to the present invention, there is provided an optical waveguide driving device comprising a cantilevered optical waveguide means and a driving means for deflecting the free end side of the optical waveguide means. is there. In the present invention, the optical waveguide means may be an optical fiber or cantilever type optical waveguide coated with a conductive thin film.

【0007】本発明において、前記駆動手段としては、
前記光導波路手段に電気的に絶縁されて独立に電圧を印
加できる1つあるいは1つ以上の電極、あるいは磁界を
発生させるための1つあるいは1つ以上の磁気回路、あ
るいは例えば圧電素子のような機械的駆動源が挙げられ
る。
In the present invention, as the driving means,
One or more electrodes electrically insulated from the optical waveguide means and capable of independently applying a voltage, one or more magnetic circuits for generating a magnetic field, or a piezoelectric element, for example A mechanical drive source is mentioned.

【0008】[0008]

【作用】本発明において、光導波路手段として例えば導
電性をもたせた薄膜で被覆した光ファイバ−を用いた場
合、この光ファイバ−の出射端付近の周囲に電気的に絶
縁され、独立に電圧を印加できる電極(駆動手段)を配
置する。そして前記導電性薄膜を接地し、固定して配置
される駆動手段に正あるいは負の電圧を加えることで、
光ファイバ−と駆動電極間に静電気力が発生し、駆動電
極を選択して印加電圧を適切に選定することで、光ファ
イバ−からの光出射端を移動することができ、光の走査
が可能になる。
In the present invention, when an optical fiber coated with a thin film having conductivity, for example, is used as the optical waveguide means, it is electrically insulated around the emitting end of the optical fiber and independently applied with a voltage. Electrodes (driving means) that can be applied are arranged. Then, the conductive thin film is grounded, and by applying a positive or negative voltage to the driving means fixedly arranged,
Electrostatic force is generated between the optical fiber and the drive electrode, and by selecting the drive electrode and appropriately selecting the applied voltage, the light emission end from the optical fiber can be moved and light scanning is possible. become.

【0009】また、磁性体薄膜で被覆した光ファイバ−
と、この光ファイバ−の光の入出端付近に磁界を発生さ
せるための磁気回路を配置し、ここの磁気回路を駆動す
ることで、光ファイバ−出射端付近の磁界分布を制御す
ることで、光ファイバ−への入出光を二次元走査でき
る。
An optical fiber coated with a magnetic thin film
By arranging a magnetic circuit for generating a magnetic field near the light input / output end of this optical fiber, and driving the magnetic circuit here, the optical fiber-by controlling the magnetic field distribution near the output end, Two-dimensional scanning of light entering and exiting the optical fiber is possible.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例について図を参照して
説明する。 (実施例1)図1を参照する。この実施例1は、静電気
力を用いて光ファイバ−を二次元的に変位させることで
光の2次元偏向を行うための装置である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1 Reference is made to FIG. The first embodiment is an apparatus for two-dimensionally deflecting light by two-dimensionally displacing an optical fiber by using electrostatic force.

【0011】図中の1は光を伝搬するための光ファイバ
−である。この光ファイバ−1は、光の出射端2にかけ
て光ファイバ−1の位置を固定するための固定領域3,
テ−パ領域4、一様な太さを有する偏向領域5に分けら
れる。前記固定領域3には、光ファイバ−1の位置を固
定するための治具6が配置されている。前記光ファイバ
−1の偏向領域5は、表面を金属薄膜(図1の斜線部
分)7で被覆され、その直径は静電的に偏向し易いよう
に数mmφに細くされている。前記金属薄膜7は接地さ
れている。
Reference numeral 1 in the figure denotes an optical fiber for propagating light. This optical fiber-1 has a fixing region 3 for fixing the position of the optical fiber-1 to the light emitting end 2.
It is divided into a taper region 4 and a deflection region 5 having a uniform thickness. A jig 6 for fixing the position of the optical fiber-1 is arranged in the fixing region 3. The deflecting region 5 of the optical fiber-1 is covered with a metal thin film (hatched portion in FIG. 1) 7 on its surface, and its diameter is reduced to several mmφ so as to facilitate electrostatic deflection. The metal thin film 7 is grounded.

【0012】前記偏向領域5の周囲には、2枚の水平偏
向電極8a,8bと2枚の垂直偏向電極9a,9bが固
定して配置されている。ここで、水平偏向電極8a,8
bは互いに平行に配置されて対をなし、垂直偏向電極9
a,9bも互いに平行に配置されて対をなしている。ま
た、前記各偏向電極の表面は絶縁されている。前記各偏
向電極には、独立に電圧を印加できるバイアス回路10が
夫々接続されている。前記各バイアス回路10は、光ファ
イバ−1の偏向領域5を静電的に偏向するためのバイア
ス制御回路11により制御されている。
Around the deflection region 5, two horizontal deflection electrodes 8a and 8b and two vertical deflection electrodes 9a and 9b are fixedly arranged. Here, the horizontal deflection electrodes 8a, 8
b are arranged parallel to each other to form a pair, and the vertical deflection electrodes 9
a and 9b are also arranged in parallel with each other to form a pair. The surface of each deflection electrode is insulated. A bias circuit 10 capable of independently applying a voltage is connected to each of the deflection electrodes. Each of the bias circuits 10 is controlled by a bias control circuit 11 for electrostatically deflecting the deflection area 5 of the optical fiber-1.

【0013】こうした構成の装置において、例えば垂直
偏向電極9aに正の電圧が印加され、その他の垂直偏向
電極9b,水平偏向電極8a,8bが接地されている
時、光ファイバ−1の偏向領域5は静電引力によって上
方へ引上げられ、光ファイバ−1のばね定数で決まる復
元力と釣り合う位置に位置決めされている。この時、光
の出射端2から出射される光12は上方へ偏向される。な
お、他の偏向電極9b,8a,8bも垂直偏向電極9a
と同様に電圧を印加することにより、光ファイバ−1の
偏向領域5を二次元的に偏向させることができ、光の二
次元偏向が可能となる。
In the apparatus having such a structure, for example, when a positive voltage is applied to the vertical deflection electrode 9a and the other vertical deflection electrodes 9b and the horizontal deflection electrodes 8a and 8b are grounded, the deflection area 5 of the optical fiber-1. Is pulled upward by electrostatic attraction and is positioned at a position that balances with the restoring force determined by the spring constant of the optical fiber-1. At this time, the light 12 emitted from the light emitting end 2 is deflected upward. The other deflection electrodes 9b, 8a, 8b are also vertical deflection electrodes 9a.
By applying a voltage in the same manner as above, the deflection region 5 of the optical fiber-1 can be two-dimensionally deflected, and the light can be two-dimensionally deflected.

【0014】実施例1に係る光導波路駆動装置は、上述
したように片持ち支持された光ファイバ−1と、この光
ファイバ−1の偏向領域5の周囲に配置され,互いに平
行な水平偏向電極8a,8b及び互いに平行な垂直偏向
電極9a,9bからなる電極群とを具備した構成になっ
ている。従って、いずれか1つの偏向電極に正の電圧を
印加し、他の残りの偏向電極を接地することにより、光
ファイバ−1の偏向領域5は静電引力によって引きつけ
られ、光ファイバ−1のばね定数で決まる復元力と釣り
合う位置に位置決めされている。また、この時、光の出
射端2から出射される光12は偏向され、光の二次元偏向
を実現できる。 (実施例2)図2を参照する。この実施例2は、磁気力
によりて光ファイバ−を二次元的に変位させることで光
の2次元偏向を行うための装置である。
The optical waveguide driving device according to the first embodiment is arranged such that the cantilevered optical fiber -1 and the horizontal deflection electrodes which are arranged around the deflection area 5 of the optical fiber -1 and are parallel to each other. 8a, 8b and an electrode group including vertical deflection electrodes 9a, 9b parallel to each other. Therefore, by applying a positive voltage to any one of the deflection electrodes and grounding the other remaining deflection electrodes, the deflection region 5 of the optical fiber-1 is attracted by the electrostatic attraction, and the spring of the optical fiber-1 is attracted. It is positioned at a position that balances the restoring force determined by a constant. Further, at this time, the light 12 emitted from the light emitting end 2 is deflected, and two-dimensional deflection of light can be realized. (Embodiment 2) Referring to FIG. The second embodiment is an apparatus for two-dimensionally deflecting light by two-dimensionally displacing an optical fiber by a magnetic force.

【0015】図中の21は光を伝搬するための光ファイバ
−である。この光ファイバ−21は、光の出射端22にかけ
て光ファイバ−21を固定するための固定領域23,テ−パ
領域24、一様な太さを有する偏向領域25に分けられる。
前記固定領域23には、光ファイバ−21の位置を固定する
ための治具26が配置されている。前記光ファイバ−21の
偏向領域25の表面には、磁性体薄膜(図2の斜線部分)
27が被着されている。前記光ファイバ−21の光の出射端
22付近の周囲には、磁気回路28a,28bが配置されてい
る。一方の磁気回路28aは前記偏向領域25の下部に位置
しており、エアギャップ29aを有した磁性体材料からな
るコア30aと励磁用コイル31aから構成されている。前
記励磁用コイル31aにはバイアス回路32が接続されてい
る。ここで、励磁用コイル31aにバイアス回路32から励
磁電流33を流すことにより、磁気回路28aに磁束が流れ
る。磁束は透磁率の大きい磁性体材料であるコア30a中
を流れるが、エアギャップ29aの部分で光ファイバ−21
側へ浸み出し、磁性体薄膜27を被着した偏向領域25を引
き寄せる。前記偏向領域25は、磁気力引力と光ファイバ
−21のばね定数で決まる位置に位置決めされる。この時
の光の出射端22は下方へ偏向され、それに伴い出射光34
も下方へ偏向される。なお、同様の磁気回路を光ファイ
バ21の上方へ、エアギャップ29aを下向きに配置するこ
とにより、出射光34の上方偏向も可能である(図2では
省略)。
Reference numeral 21 in the figure denotes an optical fiber for propagating light. The optical fiber 21 is divided into a fixed region 23 for fixing the optical fiber 21 toward the light emission end 22, a taper region 24, and a deflection region 25 having a uniform thickness.
A jig 26 for fixing the position of the optical fiber 21 is arranged in the fixing area 23. On the surface of the deflection area 25 of the optical fiber-21, a magnetic thin film (hatched portion in FIG. 2)
27 are worn. The light emitting end of the optical fiber-21
Magnetic circuits 28a and 28b are arranged around the vicinity of 22. One magnetic circuit 28a is located below the deflection region 25, and is composed of a core 30a made of a magnetic material having an air gap 29a and an exciting coil 31a. A bias circuit 32 is connected to the exciting coil 31a. Here, by supplying the exciting current 33 from the bias circuit 32 to the exciting coil 31a, a magnetic flux flows to the magnetic circuit 28a. The magnetic flux flows through the core 30a, which is a magnetic material having a high magnetic permeability, but the optical fiber 21
It leaches to the side and attracts the deflection region 25 with the magnetic thin film 27 adhered thereto. The deflection area 25 is positioned at a position determined by the magnetic attraction and the spring constant of the optical fiber-21. At this time, the emission end 22 of the light is deflected downward, and accordingly the emission light 34
Is also deflected downward. By arranging a similar magnetic circuit above the optical fiber 21 and with the air gap 29a facing downward, the emitted light 34 can be deflected upward (not shown in FIG. 2).

【0016】前記磁気回路28bは光ファイバ−21の横方
向に位置されており、エアギャップ29bを有した磁性体
材料からなるコア30bと励磁用コイル31bから構成され
ている。前記励磁用コイル31bにはバイアス回路35が接
続されている。ここで、励磁用コイル31bにバイアス回
路35から励磁電流36を流すことにより、磁気回路28bに
磁束が流れる。ここで、バイアス回路35から励磁コイル
31bを流れる励磁電流36によって誘起された磁束は、透
磁率の大きい磁性体材料であるコア30b中を流れるが、
エアギャップ29bの部分で光ファイバ−21側へ浸み出
し、光ファイバ−21を引き寄せる。これに伴い、光の出
射端22は磁気回路側へ水平方向に移動し、出射光34も水
平方向へ偏向される。なお、磁気回路28bと反対側へ配
置することにより、同様に水平方向の偏向が可能とな
る。
The magnetic circuit 28b is located in the lateral direction of the optical fiber 21, and is composed of a core 30b made of a magnetic material having an air gap 29b and an exciting coil 31b. A bias circuit 35 is connected to the exciting coil 31b. Here, by causing the exciting current 36 to flow from the bias circuit 35 to the exciting coil 31b, a magnetic flux flows to the magnetic circuit 28b. Here, from the bias circuit 35 to the exciting coil
The magnetic flux induced by the exciting current 36 flowing through 31b flows through the core 30b, which is a magnetic material having a high magnetic permeability,
At the portion of the air gap 29b, it seeps out to the optical fiber-21 side and pulls the optical fiber-21. Along with this, the light emitting end 22 moves in the horizontal direction toward the magnetic circuit side, and the emitted light 34 is also deflected in the horizontal direction. By arranging the magnetic circuit 28b on the side opposite to the magnetic circuit 28b, horizontal deflection is possible in the same manner.

【0017】前記励磁用コイル31a,31bを励磁するた
めのバイアス回路はバイアス制御回路37によって制御さ
れ、磁気回路28a,28bの励磁状態を制御することで出
射光34の二次元偏向が可能になる。また、図2では簡単
のために磁気回路28a,28bは光ファイバ−21の下方と
横の2箇所に配置してあるが、上下・左右に配置し出射
光34の二次元偏向を行うことも可能である。
A bias circuit for exciting the exciting coils 31a, 31b is controlled by a bias control circuit 37, and the emitted light 34 can be two-dimensionally deflected by controlling the excited states of the magnetic circuits 28a, 28b. .. Further, in FIG. 2, the magnetic circuits 28a and 28b are arranged at two positions below and on the side of the optical fiber 21 for simplification, but they may be arranged vertically and horizontally to perform two-dimensional deflection of the emitted light 34. It is possible.

【0018】実施例2に係る光導波路駆動装置は、上述
したように片持ち支持された光ファイバ−21と、この光
ファイバ−21の偏向領域25の下方,横方向に夫々配置れ
た磁気回路28a,28bとを具備した構成になっている。
従って、励磁用コイル31a(又は31b)にバイアス回路
32(又は35)から励磁電流を流すことにより、磁気回路
28a(又は28b)に磁束が流れ、該磁束はコアのエアギ
ャップ部分で光ファイバ−21側へ浸み出し、磁性体薄膜
27を被着した偏向領域25を引き寄せる。この時の光の出
射端22は下方(又は横方向)へ偏向され、それに伴い出
射光34も下方(又は横方向)へ偏向される。つまり、磁
気回路28a,28bの励磁状態を制御することで出射光34
の二次元偏向を実現できる。
The optical waveguide drive apparatus according to the second embodiment is provided with a cantilevered optical fiber 21 as described above, and magnetic circuits arranged below and laterally below the deflection region 25 of the optical fiber 21. It is configured to include 28a and 28b.
Therefore, a bias circuit is added to the exciting coil 31a (or 31b).
A magnetic circuit can be generated by passing an exciting current from 32 (or 35).
A magnetic flux flows through 28a (or 28b), and the magnetic flux permeates to the optical fiber-21 side in the air gap part of the core, and the magnetic thin film.
The deflection area 25, on which 27 has been applied, is attracted. At this time, the light emitting end 22 of the light is deflected downward (or laterally), and the emitted light 34 is also deflected downward (or laterally) accordingly. That is, by controlling the excitation states of the magnetic circuits 28a and 28b, the emitted light 34
The two-dimensional deflection of can be realized.

【0019】なお、上記実施例2では、簡単のために磁
気回路を光ファイバ−の偏向領域の下方と横方向の2箇
所に配置した場合について述べたが、これに限らず、例
えば上下左右に配置し出射光の二次元偏向を行うことも
できる。 (実施例3)
In the second embodiment, for the sake of simplicity, the magnetic circuits are arranged at two positions below and in the lateral direction of the deflection area of the optical fiber. However, the present invention is not limited to this. It is also possible to arrange and perform two-dimensional deflection of emitted light. (Example 3)

【0020】まず、LIGAプロセスと微細放電加工を
用いたマイクロマシニングで製作される静電偏向用電極
の製作方法について、図3及び図4を参照して説明す
る。但し、このケ−スはシリコン基板上に8つの偏向電
極を同心円状に設けた場合である。
First, a method for manufacturing an electrostatic deflection electrode manufactured by micromachining using the LIGA process and fine electric discharge machining will be described with reference to FIGS. 3 and 4. However, this case is a case where eight deflection electrodes are concentrically provided on a silicon substrate.

【0021】(1) まず、シリコン基板41の上下面に熱酸
化膜42a,42bを形成した後、基板上面の熱酸化膜42a
上にAuからなる金属膜43を形成する(図3(A)参
照)。この金属膜43は、例えばAu/Cr、Pt/Ti
の多層膜でも良い。つづいて、ホトリソグラフィ−技術
で前記金属膜43を選択的にエッチングし、金属膜パタ−
ン43aを形成する(図3(B)参照)。
(1) First, after forming the thermal oxide films 42a and 42b on the upper and lower surfaces of the silicon substrate 41, the thermal oxide film 42a on the upper surface of the substrate is formed.
A metal film 43 made of Au is formed thereon (see FIG. 3A). This metal film 43 is made of, for example, Au / Cr, Pt / Ti.
It may be a multilayer film. Subsequently, the metal film 43 is selectively etched by a photolithography technique to form a metal film pattern.
43a is formed (see FIG. 3B).

【0022】(2) 次に、偏向用電極の高さに相当する3
00μm程度の厚いレジスト44を、前記熱酸化膜42a及
び金属膜パタ−ン43a上に塗布した後、X線露光により
偏向用電極に相当する前記レジスト44を断面形状が略垂
直に抜かれるように開口して開口部44aを形成する(図
3(C)参照)。つづいて、前記レジスト44の開口部44
aにメッキによりNiを埋込み、複数個の円柱状の偏向
用電極45を同時に形成する(図3(D)参照)。
(2) Next, 3 corresponding to the height of the deflection electrode
After applying a thick resist 44 having a thickness of about 00 μm on the thermal oxide film 42a and the metal film pattern 43a, the resist 44 corresponding to the deflection electrode is removed by X-ray exposure so that its cross-sectional shape is substantially vertical. An opening 44a is formed by opening (see FIG. 3C). Next, the opening 44 of the resist 44
Ni is embedded in a by plating to form a plurality of cylindrical deflection electrodes 45 at the same time (see FIG. 3D).

【0023】(3) 次に、前記レジスト44を除去する。こ
こで、複数個の偏向用電極45は、それぞれ相互に電気的
に接続された状態で形成されている(図3(E)及び図
4参照)。なお、図4において、46は金属膜パタ−ン43
aの存在しない領域である。つづいて、微細放電加工法
を用いて、金属膜パタ−ン43a,熱酸化膜42a,基板41
及び熱酸化膜42bをくり抜き、円形状の貫通孔47を形成
する(図3(F)参照)。なお、この時点で各偏向用電
極45は電気的に分離される。
(3) Next, the resist 44 is removed. Here, the plurality of deflection electrodes 45 are formed in a state of being electrically connected to each other (see FIGS. 3E and 4). In FIG. 4, 46 is a metal film pattern 43.
This is a region where a does not exist. Then, using a fine electric discharge machining method, a metal film pattern 43a, a thermal oxide film 42a, a substrate 41
Then, the thermal oxide film 42b is hollowed out to form a circular through hole 47 (see FIG. 3F). At this point, the deflection electrodes 45 are electrically separated.

【0024】(4) 次に、前記金属膜パタ−ン43aに、ワ
イヤボンディング法によりリ−ド線48を接続し、光ファ
イバ−偏向装置49を製作する(図3(G)参照)。これ
により、金属膜パタ−ン43aからリ−ド線48を引き出す
ことで、各偏向用電極45に独立に電圧を印加することが
できる。
(4) Next, a lead wire 48 is connected to the metal film pattern 43a by a wire bonding method to manufacture an optical fiber deflector 49 (see FIG. 3G). As a result, by pulling out the lead wire 48 from the metal film pattern 43a, a voltage can be independently applied to each deflection electrode 45.

【0025】以上のようにして得られた光ファイバ−偏
向装置49の貫通孔47に、図5に示す如く直径数μmで表
面に金属薄膜を被覆した光ファイバ−50を挿入する。な
お、光ファイバ−50の根元の部分51は、固定用治具52で
固定する。前記偏向装置49も、光ファイバ−50を挿入後
固定する。
As shown in FIG. 5, an optical fiber 50 having a diameter of several μm and a surface coated with a metal thin film is inserted into the through hole 47 of the optical fiber-deflecting device 49 obtained as described above. The base portion 51 of the optical fiber 50 is fixed by a fixing jig 52. The deflecting device 49 is also fixed after inserting the optical fiber 50.

【0026】しかして、実施例3に係る光導波路駆動装
置は、片持ち支持された光ファイバ−50と、この光ファ
イバ−50の光の出射端側に光の出射方向を偏向する複数
個の円柱状の偏向用電極45を具備した構成になってい
る。従って、実施例1の場合と同じように光の二次元偏
向を実現できる。 (実施例4)まず、静電偏向装置の製作方法について図
6〜図9を参照して説明する。
Thus, the optical waveguide driving device according to the third embodiment has a cantilevered optical fiber 50 and a plurality of optical fibers 50 which deflect the light emitting direction toward the light emitting end side of the optical fiber 50. It is configured to include a columnar deflection electrode 45. Therefore, the two-dimensional deflection of light can be realized as in the case of the first embodiment. (Embodiment 4) First, a method of manufacturing an electrostatic deflecting device will be described with reference to FIGS.

【0027】(1) まず、N型のシリコン基板61の裏面
に、AI(アルミニウム)からなる複数個の第1パッド
62を放射状に形成する(図6(A)及び図7参照)。但
し、図7は図6(A)の裏面図である。つづいて、第1
パッド62が形成してある面を下向きにした状態で、基板
61を室温の石英ホルダ−(図示せず)上に保持し、上部
をハロゲンランプ63で加熱し、1200℃程度に数分間
保持する。加熱中、前記基板61の厚み方向には急激な温
度勾配が形成され、AIとシリコンとは共晶合金64とな
り、この温度勾配に沿って上方へ移動し、P型のシリコ
ン層65を基板内部を貫通するように形成する(図6
(B)参照)。
(1) First, a plurality of first pads made of AI (aluminum) are formed on the back surface of the N-type silicon substrate 61.
62 are formed radially (see FIGS. 6A and 7). However, FIG. 7 is a rear view of FIG. Next, the first
With the surface where the pad 62 is formed facing down,
61 is held on a quartz holder (not shown) at room temperature, the upper part is heated by a halogen lamp 63, and held at about 1200 ° C. for several minutes. During the heating, a steep temperature gradient is formed in the thickness direction of the substrate 61, and AI and silicon become a eutectic alloy 64, which moves upward along this temperature gradient to move the P-type silicon layer 65 inside the substrate. Is formed so as to penetrate (FIG. 6).
(See (B)).

【0028】(2) 次に、P型のシリコン層65が基板61の
表面側まで形成された後、基板61の両面を一旦ラッピン
グ後、ポリッシュし平坦化する。つづいて、絶縁膜66
a,66bを基板61の両面に夫々被着した後、第2パッド
形成予定部に対応する前記絶縁膜66aにコンタクトホ−
ル67を形成する(図6(C)参照)。更に、AIをスパ
ッタ法により前記コンタクトホ−ル67に蒸着させた後、
熱処理により前記シリコン層65とオ−ミック接触する第
2パッド(偏向電極)68を形成する(図6(D)参
照)。
(2) Next, after the P type silicon layer 65 is formed up to the front surface side of the substrate 61, both surfaces of the substrate 61 are once lapped and then polished and planarized. Next, insulating film 66
After depositing a and 66b on both sides of the substrate 61, contact holes are formed on the insulating film 66a corresponding to the second pad formation planned portion.
The line 67 is formed (see FIG. 6C). Further, after depositing AI on the contact hole 67 by a sputtering method,
A second pad (deflection electrode) 68 which makes ohmic contact with the silicon layer 65 is formed by heat treatment (see FIG. 6D).

【0029】(3) 次に、微細放電加工により、絶縁膜66
a,基板61及び絶縁膜66bをくり抜き、円形状の貫通孔
69を形成する。これにより、貫通孔69の側面には、8個
の電気的にPN接合分離されたP型のシリコン層65が露
出する。つづいて、前記各偏向電極68に、ワイヤボンデ
ィング法によりリ−ド線70を接続し、静電偏向装置71を
製作する(図6(E)及び図8参照)。
(3) Next, the insulating film 66 is formed by fine electric discharge machining.
a, the substrate 61 and the insulating film 66b are hollowed out to form a circular through hole
Forming 69. As a result, eight P-type silicon layers 65 electrically separated by PN junction are exposed on the side surface of the through hole 69. Subsequently, a lead wire 70 is connected to each of the deflection electrodes 68 by a wire bonding method to manufacture an electrostatic deflection device 71 (see FIGS. 6E and 8).

【0030】図6(E)及び図8に示す静電偏向装置71
の貫通孔69には、図9に示す如く直径数μmで表面に金
属薄膜を被覆した光ファイバ−72を挿入する。なお、光
ファイバ−72の根元の部分73は、固定用治具74で固定す
る。前記静電偏向装置71も、光ファイバ−72を挿入後固
定する。
The electrostatic deflector 71 shown in FIGS. 6 (E) and 8 is shown.
As shown in FIG. 9, an optical fiber 72 having a diameter of several μm and a surface coated with a metal thin film is inserted into the through hole 69 of FIG. The root portion 73 of the optical fiber 72 is fixed by a fixing jig 74. The electrostatic deflection device 71 is also fixed after the optical fiber 72 is inserted.

【0031】しかして、実施例4に係る光導波路駆動装
置は、片持ち支持された光ファイバ−72と、この光ファ
イバ−72の光の出射端側に光の出射方向を偏向する複数
個の円柱状の偏向用電極45を具備した構成になってい
る。従って、実施例1の場合と同じように光の二次元偏
向を実現できる。 (実施例5)まず、微細な光導波路の製作方法について
図10を参照して説明する。
Thus, the optical waveguide driving device according to the fourth embodiment has a cantilevered optical fiber 72 and a plurality of optical fibers 72 for deflecting the light emitting direction toward the light emitting end side of the optical fiber 72. It is configured to include a columnar deflection electrode 45. Therefore, the two-dimensional deflection of light can be realized as in the case of the first embodiment. (Fifth Embodiment) First, a method of manufacturing a fine optical waveguide will be described with reference to FIG.

【0032】(1) まず、(100)結晶面を有するシリ
コン基板81に、レジストあるいは熱酸化膜等の絶縁膜を
マスクとして等方性エッチングにより断面が半球状の凹
型溝82を形成する(図10(A)参照)。ここで、へき開
性の良さから前記シリコン基板の変わりにGaAs等の
化合物半導体からなる基板を用いても良い。つづいて、
前記マスクを除去した後、低屈折率絶縁(ガラス)膜8
3,高屈折率絶縁(ガラス)膜84を順次堆積し、高屈折
率絶縁膜84の最も低い位置85が前記基板81の表面の高さ
に大略一致するようにする(図10(B)参照)。
(1) First, a concave groove 82 having a hemispherical cross section is formed on a silicon substrate 81 having a (100) crystal plane by isotropic etching using a resist or an insulating film such as a thermal oxide film as a mask (FIG. 10 (A)). Here, a substrate made of a compound semiconductor such as GaAs may be used instead of the silicon substrate because of its good cleavage property. Continuing,
After removing the mask, the low refractive index insulating (glass) film 8
3. A high-refractive-index insulating (glass) film 84 is sequentially deposited so that the lowest position 85 of the high-refractive-index insulating film 84 substantially coincides with the height of the surface of the substrate 81 (see FIG. 10 (B)). ).

【0033】(2) 次に、前記高屈折率絶縁膜84及び低屈
折率絶縁膜83を研磨し、凹型溝82内にのみこれらの絶縁
膜を残存させる(図10(C)参照)。つづいて、全面に
低融点低屈折率膜85を堆積した後、フォトリソグラフィ
−で前記凹型溝82が存在する領域のみ低融点低屈折率
(ガラス)膜85を残す(図10(D),(E)参照)。こ
こで、図10(E)は図10(D)の斜視図である。前記低
屈折率絶縁膜83,高屈折率絶縁膜84及び低融点低屈折率
膜85により、光導波路が構成される。なお、基板81に形
成した凹型溝82の方向と低融点低屈折膜85のパタ−ンの
形成方向は<110>方向に選ぶ。
(2) Next, the high-refractive-index insulating film 84 and the low-refractive-index insulating film 83 are polished to leave these insulating films only in the concave groove 82 (see FIG. 10C). Next, after depositing the low melting point low refractive index film 85 on the entire surface, the low melting point low refractive index (glass) film 85 is left only in the region where the concave groove 82 exists by photolithography (FIG. 10 (D), ( See E)). Here, FIG. 10 (E) is a perspective view of FIG. 10 (D). The low refractive index insulating film 83, the high refractive index insulating film 84, and the low melting point low refractive index film 85 form an optical waveguide. The direction of the concave groove 82 formed on the substrate 81 and the pattern forming direction of the low melting point low refraction film 85 are selected to be the <110> direction.

【0034】(3) 次に、前記低融点低屈折膜85をマスク
として前記基板81をアルカリ系の異方性エッチング液で
エッチングし、導波路型カンチレバ−86を形成する(図
10(F)参照)。ここで、前記異方性エッチング液とし
ては、例えばシリコン基板に対してはエチレンジアミ
ン,NH4 OH/H2 2 系のエッチング液を用いる。
つづいて、熱処理を行い、低融点低屈折率膜85を軟化さ
せ、凸部に丸みをつけ、導波路型カンチレバ−86の断面
を円に近い形状に整形する(図10(G)参照)。
(3) Next, the substrate 81 is etched with an alkaline anisotropic etching solution using the low melting point and low refraction film 85 as a mask to form a waveguide type cantilever 86 (see FIG.
10 (F)). Here, as the anisotropic etching solution, for example, an ethylenediamine, NH 4 OH / H 2 O 2 based etching solution is used for a silicon substrate.
Subsequently, heat treatment is performed to soften the low-melting point low-refractive index film 85, round the convex portions, and shape the cross section of the waveguide type cantilever 86 into a shape close to a circle (see FIG. 10G).

【0035】しかして、実施例5に係る光導波路駆動装
置では、その一構成である導波路型カンチレバ−86が薄
膜で形成されるため、質量が小さく、実施例3,4の光
ファイバ−と置き換えることにより、高速の二次元偏向
に適する。 (実施例6)
In the optical waveguide driving device according to the fifth embodiment, however, the waveguide type cantilever 86, which is one of the components, is formed of a thin film, so that the mass is small and the optical fibers of the third and fourth embodiments are the same. By replacing it, it is suitable for high-speed two-dimensional deflection. (Example 6)

【0036】図11は、本発明に係る光導波路駆動装置の
一構成である機械的駆動手段の一例を示す。この機械的
駆動手段は、支持台91と、この支持台91の側壁に取り付
けられた第1のバイモルフ圧電素子92と、前記支持台の
上面に取り付けられた第2のバイモルフ圧電素子93とか
ら構成されている。前記各圧電素子92,93は互いにクロ
スするように構成されており、電圧を印加した時縮むタ
イプの第1部材94aと逆に膨脹するタイプの第2部材94
bとからなる。なお、図中の95は光ファイバ−の光の出
射端である。また、前記圧電素子92,93は矢印のように
動く。
FIG. 11 shows an example of a mechanical driving means which is one constitution of the optical waveguide driving device according to the present invention. This mechanical drive means is composed of a support 91, a first bimorph piezoelectric element 92 attached to the side wall of the support 91, and a second bimorph piezoelectric element 93 attached to the upper surface of the support. Has been done. The piezoelectric elements 92 and 93 are configured to cross each other, and the second member 94 of the type that expands in the opposite direction from the first member 94a of the type that contracts when a voltage is applied.
b. In addition, reference numeral 95 in the drawing denotes a light emitting end of the optical fiber. Further, the piezoelectric elements 92 and 93 move as shown by arrows.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、片持
ち支持された光導波路手段と、この光導波路手段の自由
端側を偏向する駆動手段とを具備することにより、従来
と比べて小型,軽量であるとともに、光導波路端に入出
する光の走査をなしえる光導波路駆動装置を提供でき
る。
As described above in detail, according to the present invention, the optical waveguide means supported in a cantilever manner and the driving means for deflecting the free end side of the optical waveguide means are provided, so that the conventional optical waveguide means is provided. It is possible to provide an optical waveguide driving device which is small and lightweight, and which can scan the light entering and exiting the end of the optical waveguide.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1に係り、静電気力を用いて光
ファイバ−を二次元的に変位させることで光の2次元偏
向を行うための装置の説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an apparatus for two-dimensionally deflecting light by two-dimensionally displacing an optical fiber using electrostatic force according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例2に係り、る磁気力によりて光
ファイバ−を二次元的に変位させることで光の2次元偏
向を行うための装置の説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of an apparatus for two-dimensionally deflecting light by two-dimensionally displacing an optical fiber by a magnetic force according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例3に係り、LIGAプロセスと
微細放電加工を用いたマイクロマシニングで製作される
静電偏向用電極の製作方法を工程順に示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing, in the order of steps, a method for manufacturing an electrostatic deflection electrode, which is manufactured by micromachining using a LIGA process and fine electric discharge machining, according to a third embodiment of the present invention.

【図4】図3(E)の平面図。FIG. 4 is a plan view of FIG.

【図5】図3(G)ので光ファイバ−偏向装置の貫通孔
に、表面に金属薄膜を被覆した光ファイバ−を挿入した
状態の説明図。
FIG. 5 is an explanatory view of a state in which an optical fiber having a surface coated with a metal thin film is inserted into the through hole of the optical fiber deflector shown in FIG.

【図6】本発明の実施例4に係る静電偏向装置の製作方
法を工程順に示す断面図。
6A to 6C are cross-sectional views showing a method of manufacturing an electrostatic deflection device according to a fourth embodiment of the present invention in the order of steps.

【図7】図6(A)の裏面図。FIG. 7 is a rear view of FIG.

【図8】図6(E)の裏面図。FIG. 8 is a rear view of FIG.

【図9】図6(E)の静電偏向装置の貫通孔に、表面に
金属薄膜を被覆した光ファイバ−を挿入した状態の説明
図。
FIG. 9 is an explanatory view showing a state in which an optical fiber whose surface is coated with a metal thin film is inserted into a through hole of the electrostatic deflection device of FIG. 6 (E).

【図10】本発明の実施例5に係る光導波路の製作方法
を工程順に示す説明図。
FIG. 10 is an explanatory view showing the method of manufacturing the optical waveguide according to the fifth embodiment of the present invention in the order of steps.

【図11】本発明の実施例6に光導波路駆動装置の一構
成である機械的駆動手段の概略説明図。
FIG. 11 is a schematic explanatory view of a mechanical driving means which is one configuration of the optical waveguide driving device according to the sixth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21,50,72…光ファイバ−、2,22…光の出射端、
3,23…固定領域、4,24…テ−パ領域、5,25…偏向
領域、6,26,52,74…固定用治具、7,27…導電性薄
膜、8a,8b…水平偏向電極、9a,9b…垂直偏向
電極、10…バイアス回路、11,37…バイアス制御回路、
28a,28b…磁器回路、29a,29b…エアギャップ、30
a,30b…コア、31a,31b…コイル、32,35…バイア
ス回路、33,36…励磁電流、41,61,81…シリコン基
板、45,66…偏向用電極、47…貫通孔、48…リ−ド線、
49…光ファイバ−偏向装置、62…第1パッド、64…共晶
合金、65…P型シリコン層、82…凹型溝、83…低屈折率
絶縁膜、84…高屈折率絶縁膜、85…低融点屈折率膜、86
…導波路型カンチレバ−。
1, 21, 50, 72 ... Optical fiber, 2, 22 ... Light emitting end,
3, 23 ... Fixed area, 4, 24 ... Taper area, 5, 25 ... Deflection area, 6, 26, 52, 74 ... Fixing jig, 7, 27 ... Conductive thin film, 8a, 8b ... Horizontal deflection Electrodes, 9a, 9b ... Vertical deflection electrodes, 10 ... Bias circuit, 11, 37 ... Bias control circuit,
28a, 28b ... Porcelain circuit, 29a, 29b ... Air gap, 30
a, 30b ... core, 31a, 31b ... coil, 32, 35 ... bias circuit, 33, 36 ... exciting current, 41, 61, 81 ... silicon substrate, 45, 66 ... deflection electrode, 47 ... through hole, 48 ... Lead wire,
49 ... Optical fiber-deflecting device, 62 ... First pad, 64 ... Eutectic alloy, 65 ... P-type silicon layer, 82 ... Concave groove, 83 ... Low refractive index insulating film, 84 ... High refractive index insulating film, 85 ... Low melting point refractive index film, 86
... Waveguide type cantilever.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/107 8934−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01S 3/107 8934-4M

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 片持ち支持された光導波路手段と、この
光導波路手段の自由端側を偏向する駆動手段とを具備す
ることを特徴とする光導波路駆動装置。
1. An optical waveguide drive device comprising: a cantilevered optical waveguide means; and a drive means for deflecting the free end side of the optical waveguide means.
【請求項2】 前記駆動手段が前記光導波路手段と電気
的に絶縁されて独立に電圧を印加できる少なくとも1つ
の電極である請求項1記載の光導波路駆動装置。
2. The optical waveguide driving device according to claim 1, wherein the driving means is at least one electrode electrically insulated from the optical waveguide means and capable of independently applying a voltage.
【請求項3】 前記駆動手段が磁界を発生させるための
少なくとも1つの磁気回路である請求項1記載の光導波
路駆動装置。
3. The optical waveguide driving device according to claim 1, wherein the driving means is at least one magnetic circuit for generating a magnetic field.
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