JPH05173018A - Production of uv cut filter - Google Patents

Production of uv cut filter

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JPH05173018A
JPH05173018A JP34111991A JP34111991A JPH05173018A JP H05173018 A JPH05173018 A JP H05173018A JP 34111991 A JP34111991 A JP 34111991A JP 34111991 A JP34111991 A JP 34111991A JP H05173018 A JPH05173018 A JP H05173018A
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JP
Japan
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titanium
group
thin film
compound
transparent substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP34111991A
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Japanese (ja)
Inventor
Riichi Nishide
利一 西出
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Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05173018A publication Critical patent/JPH05173018A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a UV cut filter which efficiently and selectively cut UV rays of 300-400nm wavelength. CONSTITUTION:A reaction liquid in a sol state is prepared by adding water to a mixture liquid of org. metal compd. of titanium. cerium compd., and elements of groups 3B, 4A and 4B except for carbon and titanium in the presence of an org. compd. having at least one hydroxyl group and at least one ether group, or an org. compd. having at least one hydroxyl group and at least one ketone group. This reaction liquid is applied on a transparent substrate and baked to form at least one layer of a thin film on the transparent substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光線カットフィルタ
ー、特にガラスなどの透明基板上に形成された紫外線カ
ットフィルターの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a light ray cut filter, particularly an ultraviolet ray cut filter formed on a transparent substrate such as glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の紫外線カットフィルターの製造方
法としては、ガラスなどの透明基板上に屈折率の異なる
物質を交互に多層積層する方法、金属,金属酸化物の蒸
着等による薄膜形成による方法、紫外線吸収剤をなんら
かのバインダーに溶解または分散させてこれを塗布する
方法、ガラス中に硫化亜鉛等を含有させる方法、などが
知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional method of manufacturing an ultraviolet cut filter, a method of alternately laminating materials having different refractive indexes on a transparent substrate such as glass, a method of forming a thin film by vapor deposition of metal or metal oxide, It is known to dissolve or disperse an ultraviolet absorber in some kind of binder and apply it, or to make glass contain zinc sulfide or the like.

【0003】特開昭63−103083号公報にはチタンアルコ
キシドとセリウム化合物の混合液に酸を加えてpHを3.5
〜5とし、全溶液中の含有水分を8%以下に調製し、こ
の混合液を基体表面に付着させた後、200 ℃以上に加熱
してセリウム含有チタン酸化物の皮膜を形成させる方法
が開示されている。
In Japanese Patent Laid-Open No. 63-103083, an acid is added to a mixed solution of titanium alkoxide and a cerium compound to adjust the pH to 3.5.
Disclosed is a method of forming a coating film of cerium-containing titanium oxide by adjusting the water content in the total solution to 8% or less, adhering this mixed solution to the surface of the substrate, and then heating it to 200 ° C. or higher. Has been done.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の方法にあっては、たとえば蒸着法によるもの
ではスループットが小さくまた反応チャンバーが小さい
ので、小さな面積のフィルターしかできず、コトスが高
くなるという問題点があった。紫外線吸収剤をなんらか
のバインダーに溶解または分散してこれを塗布する方法
では、バインダーや紫外線吸収剤の種類により好ましい
波長での吸収が得られない、などの問題点があった。ガ
ラス中に硫化亜鉛等を含有させる方法では、ガラスの調
製が難しく大面積のガラスが得られない、などの問題点
があった。
However, in such a conventional method, for example, a method using a vapor deposition method has a small throughput and a small reaction chamber, so that only a small area of the filter can be formed and the cost is increased. There was a problem. The method of dissolving or dispersing the ultraviolet absorber in some kind of binder and applying the same has a problem that absorption at a preferable wavelength cannot be obtained depending on the kind of the binder and the ultraviolet absorber. The method of incorporating zinc sulfide or the like into glass has a problem that it is difficult to prepare glass and a large-area glass cannot be obtained.

【0005】また、特開昭63−103083号公報に開示され
た方法では、400 nm以降の可視光線域にも吸収をもち、
可視域の一部もカットしてしまい、紫外線のみをカット
できない、という問題点がある。さらに、pHの制御や含
有水分の制御が困難である、混合液のポットライフが短
い、という問題点がある。
The method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-103083 has absorption even in the visible light region of 400 nm and below,
There is a problem that it also cuts part of the visible range and cannot cut only ultraviolet rays. Further, there are problems that it is difficult to control pH and water content, and the pot life of the mixed solution is short.

【0006】本発明の目的は、このような従来の問題点
を解決して300 〜400 nmの紫外線のみを選択的に効率よ
くカットする紫外線カットフィルターを提供することに
ある。さらに、本発明の他の目的は、安価で大面積のフ
ィルターを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide an ultraviolet cut filter which selectively and efficiently cuts only ultraviolet rays of 300 to 400 nm. Still another object of the present invention is to provide an inexpensive and large area filter.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の本発明の目的は、
少なくとも1つ以上の水酸基と少なくとも1つ以上のエ
ーテル基を有する有機化合物、または少なくとも1つ以
上の水酸基と少なくとも1つ以上のケトン基を有する有
機化合物の存在下で、チタンの有機金属化合物とセリウ
ム化合物および周期表の第3B,4A,4B族に属し炭
素とチタンを除く元素の化合物の混合液に水を添加して
ゾル化し、この反応液を透明基板上に塗布、焼成して少
なくとも1層の薄膜を、透明基板上に形成することによ
り、達成された。
The above objects of the present invention are as follows.
An organometallic compound of titanium and cerium in the presence of an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group, or an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ketone group At least one layer is prepared by adding water to a mixed solution of a compound and a compound of elements belonging to Groups 3B, 4A, and 4B of the periodic table except carbon and titanium, coating the reaction solution on a transparent substrate, and baking the solution. It was achieved by forming a thin film of the above on a transparent substrate.

【0008】以下本発明を詳細に説明する。本発明は、
少なくとも1つ以上の水酸基と少なくとも1つ以上のエ
ーテル基を有する有機化合物、または少なくとも1つ以
上の水酸基と少なくとも1つ以上のケトン基を有する有
機化合物の存在下で、チタンの有機金属化合物とセリウ
ム化合物および周期表の第3B,4A,4B族に属し炭
素とチタンを除く元素の化合物の混合液に水を添加して
ゾル化し、透明基板上に塗布し焼成して少なくとも1層
の薄膜を透明基板上に形成することを特徴とするもので
ある。
The present invention will be described in detail below. The present invention is
An organometallic compound of titanium and cerium in the presence of an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group, or an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ketone group Water is added to a mixed solution of a compound and a compound of elements belonging to groups 3B, 4A, and 4B of the periodic table except carbon and titanium to form a sol, which is applied on a transparent substrate and baked to make at least one thin film transparent. It is characterized in that it is formed on a substrate.

【0009】このような混合溶液に水を添加して金属イ
オンをゾル化する方法は、一般にはゾルゲル法といわれ
ているものである。ゾルゲル法による薄膜の形成方法
は、たとえば「ゾル・ゲル法によるガラス・セラミック
スの製造技術とその応用」(山根正之 監著 応用技術
出版 1989年) 108 〜140 ページに記載されている。例
えば、チタンテトラメトキシドをメタノールに溶解して
おく。これに、塩酸などの酸、および水などチタンテト
ラメトキシドの分解剤を加える。チタンテトラメトキシ
ドが加水分解されTi−O−Ti結合を有するゾルが形成さ
れる。粘度を適切に選択することにより、任意の手段で
基板に塗布し薄膜を形成する。塗布方法としては、ディ
ップ法、スピン塗布法、スプレー法などから選択され
る。次いで、焼成する。
The method of adding water to such a mixed solution to form metal ions into a sol is generally called a sol-gel method. The method for forming a thin film by the sol-gel method is described in, for example, "Manufacturing Technology of Glass-Ceramics by the Sol-Gel Method and Its Applications" (edited by Masayuki Yamane, Applied Technology Publication, 1989), pages 108-140. For example, titanium tetramethoxide is dissolved in methanol. To this, an acid such as hydrochloric acid and a decomposing agent for titanium tetramethoxide such as water are added. Titanium tetramethoxide is hydrolyzed to form a sol having a Ti-O-Ti bond. By appropriately selecting the viscosity, the film is applied to the substrate by any means to form a thin film. The coating method is selected from a dip method, a spin coating method, a spray method and the like. Then, it is baked.

【0010】本発明で用いられるチタンの有機金属化合
物としては、チタンアルコキシドが好ましい。チタンア
ルコキシドは一般式 Ti(OR)m であらわされる。ここで
mは整数でありアルコラート基の配位数をあらわし、一
般的には1〜4である。Rは任意のアルキル基から選択
される。Rとしては、たとえばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、などがある。
The organometallic compound of titanium used in the present invention is preferably titanium alkoxide. Titanium alkoxide is represented by the general formula Ti (OR) m . Here, m is an integer and represents the coordination number of the alcoholate group, and is generally 1 to 4. R is selected from any alkyl group. Examples of R include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.

【0011】セリウム化合物としては、セリウムの無機
化合物、たとえば硝酸セリウム、塩化セリウム、硫酸セ
リウムなどが好ましく用いられる。
As the cerium compound, an inorganic compound of cerium, such as cerium nitrate, cerium chloride and cerium sulfate, is preferably used.

【0012】周期表の第3B,4A,4B族に属し炭
素、チタンを除く元素は任意のものが用いられるが、好
ましくは第1〜5周期までの元素から選択される。それ
らは、B, Al, Si, Ga, Ge, Zr, In, Snであり、この中
から任意のものが選択される。これらの元素の化合物は
単一で用いられてもよいし、また複数の元素を組み合わ
せて用いてもよい。元素の化合物としては無機化合物と
しては塩化物塩、臭化物塩、のようなハロゲン化物塩、
硫酸塩、過塩素酸塩、などが好ましく用いられる。ま
た、有機金属化合物としてはアルコキシドが用いられ
る。これらの金属のアルコキシドは一般式 M(OR)n であ
らわされる。ここでMは上記金属イオンをあらわし、n
は整数でありアルコラート基の配位数をあらわし、一般
的には1〜8である。Rは任意のアルキル基から選択さ
れる。Rとしては、たとえばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、などがある。
Any element other than carbon and titanium belonging to Groups 3B, 4A and 4B of the periodic table can be used, but preferably selected from the elements of the 1st to 5th periods. They are B, Al, Si, Ga, Ge, Zr, In and Sn, and any one of them is selected. The compounds of these elements may be used alone or in combination of a plurality of elements. As an inorganic compound as an elemental compound, a halide salt such as a chloride salt, a bromide salt,
Sulfates, perchlorates, etc. are preferably used. Moreover, an alkoxide is used as the organometallic compound. The alkoxides of these metals are represented by the general formula M (OR) n . Here, M represents the above metal ion, and n
Is an integer and represents the coordination number of the alcoholate group, and is generally 1-8. R is selected from any alkyl group. Examples of R include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.

【0013】チタンの有機金属化合物とセリウム化合物
の混合割合としては、モル比でTi:Ce=1:5〜100 :
1の範囲であることが好ましい。チタンの有機金属化合
物とセリウム化合物および周期表の第3B,4A,4B
族に属し炭素、チタンを除く元素(M)の混合割合とし
ては、モル比で(Ti+Ce): M=1:0.1 〜1:10の範
囲であることが好ましい。
The organometallic compound of titanium and the cerium compound are mixed in a molar ratio of Ti: Ce = 1: 5 to 100:
It is preferably in the range of 1. Organometallic compounds and cerium compounds of titanium and 3B, 4A, 4B of the periodic table
The mixing ratio of the element (M) belonging to the group other than carbon and titanium is preferably in the range of (Ti + Ce): M = 1: 0.1 to 1:10.

【0014】本発明において用いられる少なくとも1つ
以上の水酸基と少なくとも1つ以上のエーテル基を有す
る有機化合物としては、グリコールのエーテル体が好ま
しく、具体的には、2−(2−メトキシエトキシ)エタ
ノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、2−(2−メト
キシプロピル)エタノール、2−(2−エトキシエトキ
シ)プロパノール、などが好ましく用いられる。水酸基
を少なくとも1つ含みかつケトン基を少なくとも1つ含
む有機化合物としては、一般にヒドロキシケトンといわ
れているものであり、アセトンアルコール、アセトイ
ン、ジアセトンアルコール、ベンゾインなどが好まし
い。この有機化合物の全金属イオンに対する添加量はモ
ル比で0.1 〜10の範囲が好ましい。
The organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group used in the present invention is preferably an ether form of glycol, specifically, 2- (2-methoxyethoxy) ethanol. , 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, 2- (2-methoxypropyl) ethanol, 2- (2-Ethoxyethoxy) propanol and the like are preferably used. The organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group is generally called hydroxyketone, and acetone alcohol, acetoin, diacetone alcohol, benzoin and the like are preferable. The addition amount of this organic compound to all metal ions is preferably in the range of 0.1 to 10 in terms of molar ratio.

【0015】本発明においては、水を添加して金属イオ
ンをゾル化させるのであるが、水の量は任意でよい。好
ましくは、金属イオンに対し1〜10倍モル量である。ま
た、ゾル化するときに、酸を添加してもよい。酸として
は硝酸、塩酸、酢酸、硫酸などが好ましい。反応温度は
任意で良いが、好ましくは50〜80℃である。溶媒は、こ
れらの化合物が溶解するものであれば任意で良いが、好
ましくはエチルアルコール、プロピルアルコール、ブチ
ルアルコールなどアルコール類が用いられる。焼結は有
機化合物が除去される温度であるべきであり、好ましく
は100 ℃以上がよい。また基板が変形または変質しない
温度であるべきで、本発明の場合は900℃以下が好まし
い。加熱時間は5〜60分でよい。
In the present invention, water is added to convert the metal ions into a sol, but the amount of water may be arbitrary. Preferably, the molar amount is 1 to 10 times the metal ion. Further, an acid may be added when the sol is formed. As the acid, nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid, sulfuric acid and the like are preferable. The reaction temperature may be arbitrary, but is preferably 50 to 80 ° C. Any solvent may be used as long as it can dissolve these compounds, but alcohols such as ethyl alcohol, propyl alcohol and butyl alcohol are preferably used. Sintering should be at a temperature at which organic compounds are removed, preferably above 100 ° C. Further, the temperature should be such that the substrate is not deformed or deteriorated, and in the case of the present invention, 900 ° C or lower is preferable. The heating time may be 5 to 60 minutes.

【0016】本発明で用いられる薄膜は少なくとも1層
以上積層されることが必要であり、吸光度を高めるため
2層以上塗布しても良い。積層方法は1層塗布後続いて
塗布してもよいし、焼結後さらに塗布してもよい。塗布
する基板としては、透明な基板であれば何でも良いが、
好ましくはソーダライムなどのガラス基板、石英基板、
ポリカーボネートなどのプラスチック基板などから選択
される。
The thin film used in the present invention needs to be laminated in at least one layer, and two or more layers may be applied in order to increase the absorbance. As for the laminating method, one layer may be applied and then applied, or further applied after sintering. The substrate to be applied may be any transparent substrate,
Preferably glass substrate such as soda lime, quartz substrate,
It is selected from plastic substrates such as polycarbonate.

【0017】[0017]

【作用】本発明によれば、少なくとも1つ以上の水酸基
と少なくとも1つ以上のエーテル基を有する有機化合
物、または少なくとも1つ以上の水酸基と少なくとも1
つ以上のケトン基を有する有機化合物の存在下で、チタ
ンの有機金属化合物とセリウム化合物および周期表の第
3B,4A,4B族に属し炭素とチタンを除く元素の化
合物の混合液に水を添加してゾル化し、この反応液を透
明基板上に塗布、焼結することにより少なくとも1層の
薄膜を、透明基板上に形成することにより、300 〜400
nmの紫外線のみを選択的に効率よくカットする紫外線カ
ットフィルターを提供することができる。さらに、安価
で大面積のフィルターを提供することができる。
According to the present invention, an organic compound having at least one or more hydroxyl group and at least one or more ether group, or at least one or more hydroxyl group and at least 1
In the presence of an organic compound having one or more ketone groups, water is added to a mixed liquid of an organometallic compound of titanium, a cerium compound, and a compound of elements belonging to Groups 3B, 4A, and 4B of the periodic table except carbon and titanium. Then, the reaction solution is applied to a transparent substrate and sintered to form at least one layer of thin film on the transparent substrate.
It is possible to provide an ultraviolet cut filter that selectively and efficiently cuts only ultraviolet light of nm. Further, it is possible to provide an inexpensive and large-area filter.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によりさ
らに説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。比較例 塩化セリウム 1.9gをエタノール 30 cc中に溶解した。
この溶液に室温でチタンテトライソプロポキシド 1.4g
を添加し、さらに30%酢酸1ccを加えてpHを4とした。
この溶液をスピンナーによりソーダライムガラス上に塗
布した。スピンナー塗布条件は3000 rpmで30秒であっ
た。塗布試料を大気中で乾燥させた後、電気炉に入れ、
500 ℃で10分間焼結した。得られた黄色ガラスは失透し
ていた。このガラスの吸光度曲線を図3に示した。440
nmに吸収極大を持ち、可視域に吸収をもっていた。試料
が失透していたため、可視域および紫外域で透過率が低
く、信頼性のある透過率曲線は得られなかった。さら
に、この溶液を室温で1週間放置したところ、白濁し、
塗布が不可能であった。
EXAMPLES The present invention will be further described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Comparative Example 1.9 g of cerium chloride was dissolved in 30 cc of ethanol.
1.4 g of titanium tetraisopropoxide was added to this solution at room temperature.
Was added and 1 cc of 30% acetic acid was further added to adjust the pH to 4.
This solution was applied onto soda lime glass with a spinner. The spinner application condition was 3000 rpm for 30 seconds. After drying the coated sample in the atmosphere, put it in an electric furnace,
Sintered at 500 ° C for 10 minutes. The obtained yellow glass was devitrified. The absorbance curve of this glass is shown in FIG. 440
It had an absorption maximum at nm and an absorption in the visible region. Since the sample was devitrified, the transmittance was low in the visible range and the ultraviolet range, and a reliable transmittance curve could not be obtained. Furthermore, when this solution was left at room temperature for 1 week, it became cloudy,
It was impossible to apply.

【0019】実施例1 塩化セリウム 2.8gをエタノール 35 cc中に加え溶解し
た。この溶液にチタンテトライソプロポキシド 1.7gを
添加し、シリコンテトラエトキシド 0.9gを添加し、さ
らに2−(2−メトキシエトキシ)エタノール 5.0gを
加え、80℃で1時間攪拌、加熱した。室温まで冷却した
後、水 0.35 mLおよび61%硝酸 0.1 mLを加え、80℃で
1時間攪拌、加熱した。この時のpHは2であった。この
溶液を室温まで冷却した後スピンナーによりソーダライ
ムガラス上に塗布した。スピンナー塗布条件は1000 rpm
で30秒であった。塗布試料を大気中で乾燥させた後、電
気炉中に入れ、500 ℃で10分間焼結した。得られた薄膜
試料の膜厚は 0.4μm であった。薄膜試料の吸光度曲線
を図1に示した。図示するように300 〜400 nmの紫外域
に良好な吸収を持ち紫外線を良好にカットしていた。ま
た、この反応液を室温で1週間放置した。反応液は透明
で塗布も可能であった。ガラス塗布試料は上と同じ吸光
度を示した。
Example 1 2.8 g of cerium chloride was added and dissolved in 35 cc of ethanol. To this solution, 1.7 g of titanium tetraisopropoxide was added, 0.9 g of silicon tetraethoxide was added, and 5.0 g of 2- (2-methoxyethoxy) ethanol was added, and the mixture was stirred and heated at 80 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, 0.35 mL of water and 0.1 mL of 61% nitric acid were added, and the mixture was stirred and heated at 80 ° C for 1 hour. The pH at this time was 2. After this solution was cooled to room temperature, it was applied onto soda lime glass by a spinner. Spinner application condition is 1000 rpm
It was 30 seconds. After the coated sample was dried in the air, it was placed in an electric furnace and sintered at 500 ° C. for 10 minutes. The thickness of the obtained thin film sample was 0.4 μm. The absorbance curve of the thin film sample is shown in FIG. As shown in the figure, it has good absorption in the UV region of 300 to 400 nm and cuts UV rays well. The reaction solution was left at room temperature for 1 week. The reaction solution was transparent and could be applied. The glass coated sample showed the same absorbance as above.

【0020】実施例2 実施例1における塩化セリウムに代えて硝酸セリウムを
2.8g用い、チタンテトライソプロポキシドに代えてチ
タンテトラ−n−ブトキシドを 2.3g用い、2−(2−
メトキシエトキシ)エタノールに代えてトリエチレング
リコールモノメチルエーテルを 2.0g用いた他は、実施
例1と同様にして薄膜試料を作製した。得られた薄膜試
料の吸光度曲線は実施例1と類似し、300 〜400 nmの紫
外域に良好な吸収を持ち紫外線を良好にカットしてい
た。
Example 2 Cerium nitrate was used in place of cerium chloride in Example 1.
Using 2.8 g, and using 2.3 g of titanium tetra-n-butoxide instead of titanium tetraisopropoxide, 2- (2-
A thin film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.0 g of triethylene glycol monomethyl ether was used instead of (methoxyethoxy) ethanol. The absorption curve of the obtained thin film sample was similar to that of Example 1, and had a good absorption in the ultraviolet region of 300 to 400 nm and had a good cut of ultraviolet rays.

【0021】実施例3 実施例1における水の量を0.12 mL から 0.2 , 0.5 ,
0.6 mL と変化させた。実施例1と同様に塗布し、焼結
した。得られた薄膜試料の吸光度曲線は実施例1と類似
し、300 〜400 nmの紫外域に良好な吸収を持ち紫外線を
良好にカットしていた。また、この反応液を室温で1週
間放置した。溶液は、透明であり、塗布も可能であっ
た。塗布した薄膜試料は上と同様の吸光度を示した。
Example 3 The amount of water in Example 1 was changed from 0.12 mL to 0.2, 0.5,
It was changed to 0.6 mL. It was applied and sintered in the same manner as in Example 1. The absorption curve of the obtained thin film sample was similar to that of Example 1, and had a good absorption in the ultraviolet region of 300 to 400 nm and had a good cut of ultraviolet rays. The reaction solution was left at room temperature for 1 week. The solution was transparent and could be applied. The coated thin film sample showed the same absorbance as above.

【0022】実施例4 実施例1におけるシリコンテトラエトキシドに代えて、
アルミニウムテトラブトキシドを等モル量用いた他は実
施例1と同様に薄膜試料を作成した。得られた薄膜試料
の吸光度曲線は実施例1と類似し、300 〜400 nmの紫外
域に良好な吸収を持ち紫外線を良好にカットしていた。
Example 4 Instead of silicon tetraethoxide in Example 1,
A thin film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that aluminum tetrabutoxide was used in an equimolar amount. The absorption curve of the obtained thin film sample was similar to that of Example 1, and had a good absorption in the ultraviolet region of 300 to 400 nm and had a good cut of ultraviolet rays.

【0023】実施例5 実施例1におけるシリコンテトラエトキシドに代えてジ
ルコニウムテトラブトキシドを等モル量用い、チタンテ
トライソプロポキシドに代えてチタンテトラエトキシド
を等モル量を用い、2−(2−メトキシエトキシ)エタ
ノールに代えてトリエチレングリコールモノメチルエー
テルを等モル量用い、溶媒をエタノールに代えてn−ブ
タノール 50 mLを用いた他は、実施例1と同様にして塗
布した。得られた薄膜試料の吸光度曲線は実施例1と類
似し、300 〜400 nmの紫外域に良好な吸収を持ち紫外線
を良好にカットしていた。
EXAMPLE 5 Zirconium tetrabutoxide was used in place of silicon tetraethoxide in Example 1 in an equimolar amount, titanium tetraethoxide was used in place of titanium tetraethoxide in an equimolar amount, and 2- (2- It was coated in the same manner as in Example 1 except that triethylene glycol monomethyl ether was used in an equimolar amount in place of (methoxyethoxy) ethanol, and 50 mL of n-butanol was used in place of the solvent. The absorption curve of the obtained thin film sample was similar to that of Example 1, and had a good absorption in the ultraviolet region of 300 to 400 nm and had a good cut of ultraviolet rays.

【0024】実施例6 実施例1におけるソーダライムガラスに代えて石英ガラ
スを用いた他は実施例1と同様にして塗布試料を作製し
た。得られた薄膜試料の吸光度曲線は実施例1と類似
し、300 〜400 nmの紫外域に良好な吸収を持ち紫外線を
良好にカットしていた。
Example 6 A coated sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that quartz glass was used instead of soda lime glass in Example 1. The absorption curve of the obtained thin film sample was similar to that of Example 1, and had a good absorption in the ultraviolet region of 300 to 400 nm and had a good cut of ultraviolet rays.

【0025】実施例7 実施例2におけるスピンナー塗布に代えて、ディップ塗
布法を用い、ガラス基板の大きさを500 mm×500 mm×3
mmtとした他は、実施例2と同様にしてガラス塗布試料
を作製した。塗布は均一で、得られた薄膜試料の吸光度
は実施例2と同様であった。
Example 7 Instead of the spinner coating in Example 2, a dip coating method was used and the size of the glass substrate was 500 mm × 500 mm × 3.
A glass-coated sample was prepared in the same manner as in Example 2 except that mmt was used. The coating was uniform, and the absorbance of the obtained thin film sample was the same as in Example 2.

【0026】実施例8 実施例1において作製した薄膜試料に、さらに実施例1
で作製した溶液を塗布し、同様に焼結した(2回塗布試
料)。さらに、上と同様に塗布、焼結を繰り返した(3
回塗布試料)。得られた薄膜試料の吸光度曲線を図2に
示した。比較として、実施例1の吸光度曲線も示した。
2回塗布試料は1回塗布試料よりも高い吸光度を与え、
3回塗布試料は2回塗布試料より高い吸光度を与え、紫
外線カット効果がさらに良好となった。
Example 8 The thin film sample prepared in Example 1 was further added to Example 1
The solution prepared in 1. was applied and sintered in the same manner (sample applied twice). Further, coating and sintering were repeated in the same manner as above (3
Reapplied sample). The absorbance curve of the obtained thin film sample is shown in FIG. As a comparison, the absorbance curve of Example 1 is also shown.
The double-coated sample gives higher absorbance than the single-coated sample,
The three-time application sample gave higher absorbance than the two-time application sample, and the UV blocking effect was further improved.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
少なくとも1つ以上の水酸基と少なくとも1つ以上のエ
ーテル基を有する有機化合物、または少なくとも1つ以
上の水酸基と少なくとも1つ以上のケトン基を有する有
機化合物の存在下で、チタンの有機金属化合物とセリウ
ム化合物および周期表の第3B,4A,4B族に属し炭
素とチタンを除く元素の化合物の混合液に水を添加して
ゾル化し、塗布、焼成することにより得られた少なくと
も1層の薄膜を、透明基板上に形成することにより、30
0 〜400 nmの紫外線のみを選択的に効率よくカットする
紫外線カットフィルターを提供することができる。さら
に、安価で大面積のフィルターを提供することができ
る。
As described in detail above, according to the present invention,
An organometallic compound of titanium and cerium in the presence of an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group, or an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ketone group A thin film of at least one layer obtained by adding water to a mixed liquid of a compound and a compound of elements belonging to Groups 3B, 4A, and 4B of the periodic table except carbon and titanium, and coating and baking the mixture, 30 by forming on a transparent substrate
It is possible to provide an ultraviolet ray cut filter that selectively and efficiently cuts only ultraviolet rays of 0 to 400 nm. Further, it is possible to provide an inexpensive and large-area filter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1の薄膜試料の吸光度曲線を示
す線図である。
FIG. 1 is a diagram showing an absorbance curve of a thin film sample of Example 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施例8の薄膜試料の吸光度曲線を示
す線図である。
FIG. 2 is a diagram showing an absorbance curve of a thin film sample of Example 8 of the present invention.

【図3】比較例の薄膜試料の吸光度曲線を示す線図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an absorbance curve of a thin film sample of a comparative example.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも1つ以上の水酸基と少なくと
も1つ以上のエーテル基を有する有機化合物、または少
なくとも1つ以上の水酸基と少なくとも1つ以上のケト
ン基を有する有機化合物の存在下で、チタンの有機金属
化合物とセリウム化合物および周期表の第3B,4A,
4B族に属し炭素とチタンを除く元素の化合物の混合液
に水を添加してゾル化し、この反応液を透明基板上に塗
布、焼成して少なくとも1層の薄膜を透明基板上に形成
することを特徴とする紫外線カットフィルターの製造方
法。
1. A titanium compound in the presence of an organic compound having at least one or more hydroxyl group and at least one or more ether group, or an organic compound having at least one or more hydroxyl group and at least one or more ketone group. Organometallic compounds and cerium compounds and 3B, 4A of the periodic table,
Water is added to a mixed solution of compounds of elements belonging to Group 4B except carbon and titanium to form a sol, and this reaction solution is applied onto a transparent substrate and baked to form at least one thin film on the transparent substrate. A method for producing an ultraviolet cut filter, characterized by:
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