JPH05167172A - Narrow-band oscillation excimer laser equipment and its purging method - Google Patents

Narrow-band oscillation excimer laser equipment and its purging method

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JPH05167172A
JPH05167172A JP35281291A JP35281291A JPH05167172A JP H05167172 A JPH05167172 A JP H05167172A JP 35281291 A JP35281291 A JP 35281291A JP 35281291 A JP35281291 A JP 35281291A JP H05167172 A JPH05167172 A JP H05167172A
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Yukio Kobayashi
Masahiko Kowaka
Osamu Wakabayashi
諭樹夫 小林
雅彦 小若
理 若林
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Komatsu Ltd
株式会社小松製作所
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Abstract

PURPOSE: To eliminate the fluctuation of oscillation wavelength of output laser light due to the change of refractive index of gas on the grating surface, and restrain heat generation of optical elements, by arranging an introducing port of clean gas for purging on the rear side of the grating, and preventing the clean gas from flowing on the trench surface of the grating.
CONSTITUTION: The title equipment is constituted of a front mirror 1, a laser chamber 10 for oscillating laser, and a narrow bandwidth equipment for narrowing the laser bandwidth, which equipment is constituted of a prism beam expander 25, a grating 30, a cabinet 35 and a clean gas equipment 40 which blows out clean gas from a clean gas introducing port 42 via a flowmeter 46 form a clean gas cylinder 44. The clean gas introducing port 42 is arranged on the rear side 30b of the grating 30. The gas flow is not generated on the trench surface 30a of the grating 30, so that the fluctuations of the center wavelength of output light and a beam profile do not occur. The inside of a narrow bandwidth box 35 and the inside of a pipe 37 are filled with the clean gas.
COPYRIGHT: (C)1993,JPO&Japio

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法に係わり、特には、縮小投影露光装置用の光源として用いられる狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法の改良に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a narrow-band oscillation excimer laser device and a purging method, particularly relates to an improvement in narrow-band oscillation excimer laser device and a purging method used as a light source for a reduction projection exposure apparatus .

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、特願平1−129392号、特開平1ー123238号公報、特開平1ー143372号公報等に開示されている技術では、複数個のエタロン又はビームエキスパンダとグレーティングによって狭帯域化を行っている。 Conventionally, Japanese Patent Application No. 1-129392, JP-A-1 over 123 238 discloses, in the technique disclosed in JP-A-1 over 143 372 discloses such, by a plurality of etalon or a beam expander and a grating We have done a narrow band. 狭帯域化素子の熱負荷が大きかったり、また、長期的に狭帯域レーザを運転する場合には、 Thermal load large or the narrowing element, also when operating a long-term narrow band lasers,
空気中のダストや酸素等によって狭帯域化素子が損傷し素子寿命を短くしているので、熱負荷を低減したり、狭帯域素子寿命を延ばすために清浄なパージ気体を図8のように光学素子に直接吹き付けている。 Since narrowing element by dust and oxygen in air is shorter damaged device lifetime, or to reduce the thermal load, an optical as shown in FIG. 8 clean purge gas to extend the narrowband device lifetime It is sprayed directly to the element.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、グレーティングを狭帯域化素子として使用し、グレーティングの溝表面に清浄気体を吹き付けるとグレーティングの溝表面の気体屈折率が変化するためにレーザの発振波長及びビームプロフィルに、図9、図10に示すように揺らぎが発生することを発見した。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, using a grating as a narrowing element blows clean gas into the groove surface of the grating when the grating laser with an oscillation wavelength and beam for gas refractive index of the groove surface changes in in profile, Fig. 9, the fluctuation as shown in FIG. 10 found to occur. この発振波長の揺らぎはランダムに発生するため、揺らぎ以下に発振波長を安定化することは出来なかった。 Fluctuation of the oscillation wavelength is to randomly generated, it was not possible to stabilize the oscillation wavelength below fluctuations. また、ビームが揺らぐと露光するときに均一に露光が出来なくなるためステッパ用の光源としては不適当であった。 It was also unsuitable as a light source for the stepper for can not uniformly exposed when exposing the beam fluctuates.

【0004】本発明は上記従来の問題点に着目し、狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法に係わり、特には、縮小投影露光装置用の光源として用いられる狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法の提供を目的としている。 [0004] The present invention focuses on the above conventional problems, it relates to a narrow-band oscillation excimer laser device and a purging method, in particular, narrow-band oscillation excimer laser device and a purge is used as a light source for a reduction projection exposure apparatus It is intended to provide a method.

【0005】 [0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明では、狭帯域発振として少なくともグレーティングを配置した狭帯域レーザにおいて、前記狭帯域化素子を筺体で囲う手段と、清浄気体で前記筺体内をパージする手段と、パージすることによって前記グレーティングの溝表面に清浄気体の流れが起きない手段を備えている。 To achieve the above object, according to the solution to ## in the present invention, in the narrow-band lasers arranged at least grating as a narrow-band oscillation, the narrowing device and means enclosed in the housing, with clean gas comprises a means for purging the inside of the housing, the means does not occur the flow of clean gas to the groove surface of the grating by purging.

【0006】このように、窒素あるいはヘリウム等の不活性ガスまたは空気等のレーザ光に反応、および吸収しない気体をHEPA等のフィルタを透過して清浄気体とし、その清浄気体がグレーティングの溝表面に吹き付けないことによりレーザの発振波長およびビームプロフィルの揺らぎをなくする。 [0006] Thus, in response to the laser beam such as an inert gas or air, such as nitrogen or helium, and does not absorb the gas passes through the filter HEPA such as clean gas, the groove surface of the clean gas is a grating eliminating the laser fluctuation of oscillation wavelength and beam profile by not spraying.

【0007】 [0007]

【作用】上記構成によれば、グレーティングの溝表面に清浄気体の流れを起こさないようにしているためにグレーティング表面の気体の屈折率の変化がなくなり、出力レーザ光の発振波長の揺らぎ及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。 According to the above arrangement, there is no change in refractive index of the gas the grating surface to the groove surface of the grating so that does not cause the flow of clean gas, fluctuation and beam profile of the oscillation wavelength of the output laser beam fluctuation of is eliminated. また、熱負荷が大きな光学素子の表面に清浄気体を吹き付けることにより光学素子の発熱を抑えることができる。 Further, it is possible to suppress heat generation of optical elements by the heat load blows clean gas to the surface of the large optical element.

【0008】 [0008]

【実施例】以下に、本発明に係わる狭帯域発振エキシマレーザ装置の実施例につき、図面を参照して詳細に説明する。 EXAMPLES Hereinafter, examples of a narrow-band oscillation excimer laser device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 図1は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第1実施例を示す全体構成図である。 Figure 1 is a general block diagram showing a first embodiment of a narrow-band oscillation excimer laser device of the present invention. 図1において、狭帯域発振エキシマレーザ装置はフロントミラー1と、レーザを起振するレーザチャンバ10と、レーザを狭帯域化する狭帯域化装置20とからなっている。 In Figure 1, the narrowband emission excimer laser device and a front mirror 1, the laser chamber 10 for excitation of the laser consists of a narrowing device 20 for narrowing the laser. レーザチャンバ10は、図示しない電極とウインド11とチヤンバー12とからなっている。 Laser chamber 10 is comprised of electrodes and the window 11 and Chiyanba 12 which is not shown. 狭帯域化装置20は、プリズムビームエキスパンダ25とグレーティング30と筺体35と、清浄気体装置40からなっている。 Narrowing apparatus 20 includes a prism beam expander 25 and the grating 30 and the housing 35 consists of a clean gas unit 40. プリズムビームエキスパンダ25とグレーティング30は筺体35 Prism beam expander 25 and the grating 30 is a housing 35
で囲われている。 It is surrounded by. プリズムビームエキスパンダ25は第1プリズム27および第2プリズム29よりなっている。 Prism beam expander 25 is made from the first prism 27 and second prism 29. 筺体35は狭帯域ボックスで形成されている。 Housing 35 is formed in a narrow band box. グレーティング30の溝表面30aの裏側30bに清浄気体装置40からの清浄気体の導入口42が配設されている。 Inlet 42 of the clean gas from the groove surface 30a clean gas system 40 on the back side 30b of the grating 30 is arranged.

【0009】本実施例の狭帯域化方式はプリズムビームエキスパンダ25とグレーティング30を組み合わせた方式であり、グレーティング30はリトロー配置になっている。 [0009] Narrowband scheme of the present embodiment is a method combining a prism beam expander 25 and the grating 30, the grating 30 is in the Littrow configuration. 第1プリズム27、第2プリズム29およびグレーティング30は狭帯域化ボックス35で覆われており、管37によりレーザチャンバー10と接続されている。 The first prism 27, second prism 29 and the grating 30 is covered by the band-narrowing box 35 is connected to the laser chamber 10 by a pipe 37. 清浄気体装置40は、清浄気体ガスボンベ44から流量計46を介して清浄気体は清浄気体の導入口42から吹き出される。 Clean gas unit 40, the clean gas from the clean gas bomb 44 via a flow meter 46 is blown from the inlet 42 of the clean gas. 清浄気体の導入口42はグレーティング30の裏側30bに配設されており、グレーティング30の溝表面30aには気体の流れが起こさずに狭帯域化ボックス35内および管37内(狭帯域化ボックスとウインドウの間の光路)が清浄気体で満たされる。 Inlet 42 of the clean gas is arranged on the back side 30b of the grating 30, the groove surface 30a of the grating 30 and the narrowing box 35 and the tube within 37 (narrowing box without causing the flow of gas optical path between the window) is filled with clean gas.

【0010】次に上記実施例において、作動について説明する。 [0010] Next, in the above embodiment, will be described operation. レーザチャンバ10内および狭帯域化装置20 Laser chamber 10 and in the narrowing device 20
がレーザに反応しない気体の清浄気体で満たされると、 When There is filled with clean gas of gas which does not react to laser,
次に、レーザチャンバ10内で放電励起され、狭帯域化装置20でレーザが狭帯域化された後にフロントミラー1より出力される。 Next, a discharge excitation laser chamber 10, the laser in narrowing device 20 is output from the front mirror 1 after being narrowed. このとき、グレーティング30の溝表面30aに気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。 In this case, fluctuations of the center wavelength and beam profile of the output light because the gas flow does not occur is eliminated in the groove surface 30a of the grating 30. また、ウインドウ11、プリズム27、29、およびグレーティング30の周囲が清浄気体でみたされているため、狭帯域化素子のプリズムビームエキスパンダ25とグレーティング30およびウインドウ11の寿命は飛躍的に延びる。 Also, the window 11, prisms 27, 29, and since the periphery of the grating 30 is filled with clean gas, the life of the prism beam expander 25 and the grating 30 and the window 11 of the narrowing element extends dramatically.

【0011】なお、この狭帯域化ボックス35または管37の密閉度はその内部が清浄気体で満たされる程度で良い。 [0011] Incidentally, tightness of the band-narrowing box 35 or tube 37 may be a degree therein is filled with clean gas. もし、狭帯域化ボックス35と管37の密閉度を高くした場合には清浄気体の小さな排出口を設置すれば良い。 If the result of increasing the degree of sealing narrowing box 35 and the tube 37 may be placed a small outlet of clean gas. この例では、清浄気体の導入口42はグレーティング30の背面30bに対向する筺体35の側壁に設置しているが、それに限定されるものでは無く、グレーティング30aの背面側であれば狭帯域化ボックスの底板35aあるいは上板35bに設置しても良い。 In this example, the inlet 42 of the clean gas is installed on the side wall of the housing 35 opposite the rear surface 30b of the grating 30, without being limited thereto, the band-narrowing box if the back side of the grating 30a of the bottom plate 35a or it may be installed in the upper plate 35b. 清浄気体の例として、窒素ガスやヘリウム等の不活性ガスがある。 Examples of clean gas, there is an inert gas such as nitrogen gas or helium. また、酸素が光学素子と反応したり、レーザ光を吸収したりしない場合は、HEPAフィルターを通過した空気でパージしても良い。 It can also react oxygen with the optical element, when not or absorbs the laser light can be purged with air that has passed through the HEPA filter.

【0012】図2は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第2実施例を示す全体構成図であり、第1実施例とは狭帯域化方式のプリズムビームエキスパンダ50がプリズム25、27とエタロン51およびグレーティング30を用いている。 [0012] Figure 2 is an overall configuration diagram showing a second embodiment of the narrowband emission excimer laser device of the present invention, the prism beam expander 50 of the narrow-band scheme to the first embodiment is a prism 25, 27 It is used etalon 51 and grating 30. この場合も、第1実施例と同様にグレーティング30の溝表面30aに気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。 Again, the fluctuation of the center wavelength and beam profile of the output light because the gas flow does not occur is eliminated in the groove surface 30a of the first embodiment as well as the grating 30. このように狭帯域化方式としては上記実施例に囚われることなくグレーティングを少なくとも配置した狭帯域化方式であれば何でも良い。 Thus it may be any narrowing scheme at least arranged a grating without being bound by the examples as a narrow-band scheme. また、グレーティングは斜入射配置でも良い。 Further, the grating may be a grazing incidence configuration.

【0013】図3は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第3実施例を示す全体構成図であり、第1実施例とは、清浄気体の導入口55の位置の変更と、壁56、 [0013] Figure 3 is an overall configuration diagram showing a third embodiment of the narrowband emission excimer laser device of the present invention, the first embodiment, a change in the position of the inlet 55 of the clean gas, wall 56,
57を追加した実施例を示している。 Shows the 57 added the Example. 清浄気体の導入口55の位置はグレーティング30の溝表面30a側に配置しており、また、壁56はプリズムビームエキスパンダ25とグレーティング30との間で光路を妨げない位置に配設している。 Position of the inlet 55 of the clean gas is arranged in the groove surface 30a side of the grating 30, also the wall 56 are disposed at a position that does not interfere with the optical path between the prism beam expander 25 and the grating 30 . このように、光路を囲うように壁5 Thus, the wall 5 so as to surround the optical path
6、57を配設すれば清浄気体の導入口55の位置はその外側であれば何処に配置しても良い。 If disposed 6,57 position of the inlet 55 of the clean gas may be disposed anywhere as long as the outside. この場合も、第1実施例と同様にグレーティング30の溝表面30aに気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。 Again, the fluctuation of the center wavelength and beam profile of the output light because the gas flow does not occur is eliminated in the groove surface 30a of the first embodiment as well as the grating 30.

【0014】図4は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第4実施例を示す全体構成図であり、第3実施例とは、第2実施例と同様に狭帯域化方式にプリズムビームエキスパンダ40がプリズム25、27とエタロン5 [0014] Figure 4 is an overall configuration diagram showing a fourth embodiment of the narrowband emission excimer laser device of the present invention, the third embodiment, the prism beam expander to the narrow band scheme as in the second embodiment Panda 40 prism 25 and 27 and the etalon 5
1およびグレーティング30を用いている。 It is used 1 and grating 30. この場合も、光路を囲うように壁56、57を配設すれば清浄気体の導入口55の位置はその外側であれば何処に配置しても良い。 Again, the position of the inlet 55 of the clean gas if disposed walls 56, 57 so as to surround the optical path may be disposed anywhere as long as the outside.

【0015】図5は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第5実施例を示す全体構成図であり、第3実施例とは、壁61、62の位置が変更した実施例を示している。 [0015] Figure 5 is an overall configuration diagram showing a fifth embodiment of the narrowband emission excimer laser device of the present invention, the third embodiment shows an embodiment in which the position of the wall 61, 62 has changed . 壁61によりグレーティング30を含む部屋63 Room including a grating 30 by the wall 61 63
と、プリズムビームエキスパンダ25を含む部屋65とに分割し、清浄気体の導入口64の位置はプリズムビームエキスパンダ25を含む部屋65側に配置している。 If, divided into a room 65 which includes a prism beam expander 25, the position of the inlet 64 of the clean gas is arranged on the 65 side room includes a prism beam expander 25.
この場合も、第1実施例と同様にグレーティング30の溝表面30aに気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。 Again, the fluctuation of the center wavelength and beam profile of the output light because the gas flow does not occur is eliminated in the groove surface 30a of the first embodiment as well as the grating 30. しかし、この場合もグレーティング30を含む部屋63は不活性ガスで満たされることは言うまでもない。 However, the room 63 including the grating 30 is also in this case of course to be filled with inert gas.

【0016】図6は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第6実施例を示す全体構成図であり、第1実施例とは、清浄気体の導入口71の位置が変更されている。 [0016] Figure 6 is an overall configuration diagram showing a sixth embodiment of the narrowband emission excimer laser device of the present invention, the first embodiment, the position of the inlet 71 of the clean gas is changed.
この場合は、清浄気体の導入口71の位置は第1プリズム27の第2の表面27bに清浄気体を吹き付ける位置にしている。 In this case, the position of the inlet 71 of the clean gas is then in a position to blow clean gas to the second surface 27b of the first prism 27. また、このとき第1プリズム27を冷却するために第1プリズム27の第1面27aまたは両面2 Further, the first surface 27a or both sides 2 of the first prism 27 in order to cool the first prism 27 at this time
7a、27bを冷却するように清浄気体を吹き付ける位置にしても良い。 7a, 27b may be positioned to blow clean gas to cool the. このようにすることにより、熱負荷の一番大きい第1プリズム27を冷却することができるため出力レーザ光のスペクトル線幅やビーム幅の変化を抑えることができるとともに、寿命を飛躍的に延ばすことができる。 In this way, it is possible to suppress the change in spectral line width and the beam width of the output laser beam it is possible to cool the largest first prism 27 of the thermal load, dramatically extended by the life can.

【0017】なお、第1実施例、第2実施例において、 [0017] The first embodiment, in the second embodiment,
清浄気体の流量を変化させて波長およびビームプロフィルの揺らぎを測定した結果、流量5l/min以下であれば波長およびビームプロフィルの揺らぎが起こらなかった。 Varying the flow rate of the clean gas is a result of measuring the fluctuation of the wavelength and beam profile, if less flow 5l / min fluctuation of the wavelength and the beam profile did not occur. また、狭帯域化ボックス35の清浄度をパーティクルカウンタで測定した結果、0.2l/min以上であれば狭帯域化ボックス35内は十分清浄であることが判明した。 As a result of the cleanliness it was measured by a particle counter of narrowing box 35, as long as 0.2 l / min or more narrowing box 35 has been found to be sufficient clean. さらに、実施例3、4、5、6では流量5l/min以上でも波長およびビームプロフィルの揺らぎは起こらなかった。 Moreover, fluctuation of the wavelength and the beam profile even at a flow rate 5l / min or more embodiments 3, 4, 5 and 6 did not occur.

【0018】 [0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、 As described in the foregoing, according to the present invention,
狭帯域化素子を筺体で囲い、清浄気体で前記筺体をパージすることによりダストや酸素等よより生ずる狭帯域化素子の損傷がなくなり、狭帯域化素子の寿命が飛躍的にのびる。 Surrounds the narrowing element in the housing, damage narrowing element arising from by dust and oxygen by purging the enclosure with clean gas is eliminated, the life of the narrowing element extending dramatically. また、グレーティングの溝表面に清浄気体の流れを起こさないようにするために発振波長およびビームの揺らぎがなくなり、そのため発振波長の安定が向上し、ステッパの光源として使用した場合に露光ムラがなくなる。 Further, there is no fluctuation of the oscillation wavelength and beam in order to cause no flow of clean gas to the groove surface of the grating, therefore stable improvement of the oscillation wavelength, exposure unevenness is eliminated when used as a stepper light source. さらに、熱負荷の大きな光学素子の発熱を抑えることができるため、スペクトル線幅の変化やビームプロフィルの変化を抑えることができ、光学素子寿命も向上する。 Furthermore, since it is possible to suppress heat generation of the large optical elements of the thermal load, it is possible to suppress a change or changes the beam profile of the spectral line width is also improved optical element life. このためステッパ用の光源として最適なレーザが得られる。 Therefore optimal laser as a light source for the stepper is obtained.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第1 [1] first narrowband emission excimer laser device of the present invention
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図2】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第2 [2] The second narrowband emission excimer laser device of the present invention
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図3】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第3 [3] Third narrowband emission excimer laser device of the present invention
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図4】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第4 [4] Fourth narrowband emission excimer laser device of the present invention
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図5】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第5 [5] Fifth narrowband emission excimer laser device of the present invention
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図6】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第6 Sixth narrowband emission excimer laser device of the present invention; FIG
実施例を示す全体構成図。 Diagram whole showing an embodiment.

【図7】本発明のビームプロフィルを示す図。 FIG. 7 shows the beam profile of the present invention.

【図8】従来のクリーンなパージ気体を光学素子に直接吹き付けている図。 8 is a diagram which directly blown conventional clean purge gas to the optical element.

【図9】従来の発振波長の揺らぎを示す図。 9 is a diagram showing fluctuations of a conventional oscillation wavelength.

【図10】従来のビームプロフィルの揺らぎを示す図。 FIG. 10 shows a fluctuation of a conventional beam profile.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 フロントミラー 10 レーザチャンバ 11 ウインド 12 チヤンバー 20 狭帯域化装置 25、40、50 プリズムビームエキスパンダ 27 第1プリズム 29 第2プリズム 30 グレーティング 35 狭帯域化ボックス(筺体) 37 管 40 清浄気体装置 42、55、64、71 清浄気体の導入口 44 清浄気体ガスボンベ 51 エタロン 56、57、61、62 壁 63、65 部屋 1 front mirror 10 the laser chamber 11 window 12 Chiyanba 20 narrowing device 25,40,50 prism beam expander 27 first prism 29 second prism 30 grating 35 narrowing box (housing) 37 tubes 40 clean gas system 42, inlet 44 clean gas bomb 51 etalon 55,64,71 clean gas 56,57,61,62 walls 63 and 65 room

Claims (8)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 狭帯域発振として少なくともグレーティングを配置した狭帯域レーザにおいて、前記狭帯域化素子を筺体で囲う手段と、清浄気体で前記筺体内をパージする手段と、前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段を備えたことを特徴とする狭帯域発振エキシマレーザ装置。 1. A narrow-band laser arranged at least grating as a narrow-band oscillator, and means surrounding said line narrowing element in the housing, and means for purging the inside of the housing with clean gas, to the groove surface of the grating narrowband emission excimer laser device comprising the purge gas flowing preventing means.
  2. 【請求項2】 前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段として、清浄気体の導入口を前記グレーティングの溝表面に対して裏側に配置した請求項1記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 As claimed in claim 2 purge gas inflow preventing means to the groove surface of the grating, the narrow-band oscillation excimer laser device according to claim 1, wherein arranged on the rear side of the inlet of the clean gas to the grooves the surface of the grating.
  3. 【請求項3】 前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段として、前記グレーティングと光学素子の間に光路を妨げない壁を配設し、前記壁の光路側の反対側に清浄気体の導入口を配設した請求項1記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 As 3. A purge gas inlet means for preventing the groove surface of the grating, disposed walls that do not interfere with the optical path between the grating and the optical element, the introduction of clean gas to an opposite side of the optical path side of said wall narrowband emission excimer laser device according to claim 1, wherein arranged mouth.
  4. 【請求項4】 前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段手段として、前記グレーティングと光学素子の間に光路を妨げないように壁で囲い、前記壁で囲われた光路以外の場所に清浄気体の導入口を配設した請求項1記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 As wherein the purge gas flowing preventing means means into the groove surface of the grating, cleaning the place surrounding wall so as not to interfere with the optical path, other than the optical path surrounded by said wall between the grating and the optical element narrowband emission excimer laser device according to claim 1, wherein were provided with the gas inlet.
  5. 【請求項5】 前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段手段として、前記筺体内を前記グレーティングを含む部屋とその他の光学素子の部屋に分ける壁を配設し、グレーティングを含まない部屋に清浄気体の導入口を前記グレーティングの溝表面に対して裏側に配置した請求項1記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 As claimed in claim 5 purge gas flowing preventing means means into the groove surface of the grating, is disposed a wall separating the inside the housing to room room and other optical elements including the grating, a room without the grating narrowband emission excimer laser device according to claim 1, wherein arranged on the rear side of the inlet to the grooves the surface of the grating of the clean gas.
  6. 【請求項6】 前記グレーティングの溝表面へのパージ気体流入防止手段手段として、ビームエキスパンダの表面に清浄気体を直接流す手段を備えた請求項1または請求項3または請求項4または請求項5記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 As 6. purge gas inflow preventing means means into the groove surface of the grating, according to claim 1 or claim comprising means for flowing the clean gas to the surface of the beam expander directly 3 or claim 4 or claim 5 narrowband emission excimer laser device according.
  7. 【請求項7】 ビームエキスパンダとしてプリズムを使用し、レーザチャンバーから第1面または第2面あるいは両面のプリズムビームエキスパンダ表面に清浄気体を吹き付ける手段を備えた請求項1または請求項3または請求項4または請求項5または請求項6記載の狭帯域発振エキシマレーザ装置。 7. Using a prism as a beam expander, according to claim 1 or claim 3 or claim including means for blowing cleaning gas into the first surface or second surface or both surfaces of the prism beam expander surface from the laser chamber claim 4 or narrowband emission excimer laser device according to claim 5 or claim 6 wherein.
  8. 【請求項8】 狭帯域発振として少なくともグレーティングを配置した狭帯域レーザにおいて、窒素あるいはヘリウム等の不活性ガスまたは空気等のレーザ光に反応、 8. narrow in narrow-band lasers arranged at least grating as the band oscillation, in response to the laser beam such as an inert gas or air, such as nitrogen or helium,
    および吸収しない気体をHEPA等のフィルタを透過して清浄気体とし、その清浄気体がグレーティングの溝表面に吹き付けないことによりレーザの発振波長およびビームプロフィルの揺らぎをなくしたことを特徴とする狭帯域発振エキシマレーザ装置のパージ方法。 And do not absorb the gas passes through the filter HEPA such as clean gas, narrowband oscillator, characterized in that it eliminates the fluctuation of the laser oscillation wavelength and the beam profile by the clean gas is not blown to the groove surface of the grating purging method of excimer laser device.
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