JPH05164982A - Image recorder - Google Patents

Image recorder

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Publication number
JPH05164982A
JPH05164982A JP3330629A JP33062991A JPH05164982A JP H05164982 A JPH05164982 A JP H05164982A JP 3330629 A JP3330629 A JP 3330629A JP 33062991 A JP33062991 A JP 33062991A JP H05164982 A JPH05164982 A JP H05164982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light beam
photosensitive material
recording
scanning direction
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3330629A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Naya
谷 昌 之 納
Yasuo Okamoto
本 安 男 岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP3330629A priority Critical patent/JPH05164982A/en
Publication of JPH05164982A publication Critical patent/JPH05164982A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make the image recorder inexpensive, to enhance aging stability and to enable processing in a relatively light room by using a light beam source which emits recording light having specific wavelength. CONSTITUTION:A light beam scanning part 12 deflects the recording light L in a main scanning direction shown by an arrow (a) and a conveyance part 14 conveys a photosensitive material A in a subscanning direction (arrow b) almost at right angles to the main scanning direction to scan the photosensitive material A with the recording light L in two dimensions, thereby recording an image over the entire surface of the photosensitive material A. In this case, the light beam scanning part 12 deflects the recording light L, modulated according to image information, in the main scanning direction and makes it incident on the photosensitive material A, and is basically constituted by arranging various optical elements on a base 11. The recording light L is a light beam of 400-440nm in wavelength and emitted by the light beam source 16.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は記録光として波長400
〜440nmである可視光領域の光ビームを適用し、こ
の波長領域の光ビームに感度を有する感光材料に画像記
録する画像記録装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention uses recording light having a wavelength of 400
The present invention relates to an image recording apparatus which applies a light beam in the visible light region of ˜440 nm and records an image on a photosensitive material having sensitivity to the light beam in this wavelength region.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷製版装置、レーザビームプリンタ、
複写機等の画像記録装置として、1次元的に偏向される
光ビームを適用する、いわゆるラスタースキャン方式に
よる画像記録装置が各種検討、実用化されている。
2. Description of the Related Art A printing plate making apparatus, a laser beam printer,
As an image recording apparatus such as a copying machine, various studies and practical use have been made of an image recording apparatus of a so-called raster scan system in which a light beam deflected one-dimensionally is applied.

【0003】このような画像記録装置は、半導体レー
ザ、ガスレーザ等の光源より射出された画像情報を担持
する記録光を、ポリゴンミラーやガルバノメータミラー
等の光偏向器によって主走査方向に偏向して、感光材料
に入射させる。一方、感光材料は露光台、搬送ローラ、
露光ドラム等の画像記録装置の移動(搬送)手段によっ
て前記主走査方向と略直交する副走査方向に搬送されて
いる。従って、感光材料は結果的に記録光によって2次
元的に走査され、感光材料の全面を露光して画像記録が
行われる。
In such an image recording apparatus, recording light carrying image information emitted from a light source such as a semiconductor laser or a gas laser is deflected in a main scanning direction by an optical deflector such as a polygon mirror or a galvanometer mirror. It is incident on the photosensitive material. On the other hand, the photosensitive material includes
It is conveyed in a sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction by moving (conveying) means of an image recording device such as an exposure drum. Therefore, as a result, the photosensitive material is two-dimensionally scanned by the recording light, and the entire surface of the photosensitive material is exposed to perform image recording.

【0004】このような画像記録装置に適用される感光
材料としては、銀塩写真感光材料、電子写真感光材料
等、各種の感光材料が適用されている。特に、近年では
高画質が望める上に、現像等の取扱いの簡易性や、感光
材料の安定性等の点でフォトポリマー感光材料が注目さ
れ、レーザダイレクト製版システム等の印刷製版装置等
への適用が検討されている。
As the photosensitive material applied to such an image recording apparatus, various photosensitive materials such as a silver salt photographic photosensitive material and an electrophotographic photosensitive material are used. In particular, in recent years, in addition to high image quality, attention has been paid to photopolymer photosensitive materials in terms of ease of handling such as development and stability of photosensitive materials, and application to printing plate making equipment such as laser direct plate making system. Is being considered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このようなラスタース
キャンを適用する画像記録装置においては、化学的・物
理的に安定で、かつ安価な増感剤や重合開始剤等を使用
できる、比較的明るい部屋での作業が可能となる等の理
由により、可視光、特に紫外領域に近い低波長側に感度
を有する感光材料の使用が望まれる。
In an image recording apparatus to which such a raster scan is applied, a chemically and physically stable and inexpensive sensitizer or polymerization initiator can be used, and it is relatively bright. It is desirable to use a light-sensitive material having sensitivity to visible light, especially to a low wavelength side close to the ultraviolet region, for reasons such as enabling work in a room.

【0006】可視領域に感度を有する感光材料をラスタ
ースキャンによって露光する画像記録装置としては、従
来より、波長488nmの光ビームを射出するAr+
ーザを記録光の光源として適用するシステムが知られて
おり、前述のフォトポリマー感光材料用の画像記録装置
として各種開発されている。
As an image recording apparatus for exposing a light-sensitive material having sensitivity in the visible region by raster scanning, a system in which an Ar + laser for emitting a light beam having a wavelength of 488 nm is used as a light source for recording light has been known. And has been variously developed as an image recording device for the above-mentioned photopolymer photosensitive material.

【0007】ところがAr+ レーザは大型であるため、
画像記録装置そのものが大型化してしまう。また、発光
効率が悪いため、使用電力が大きく、また、大量の熱が
発生するので、水冷装置等の冷却手段が必要となってし
まう。
However, since the Ar + laser is large,
The image recording device itself becomes large. Further, since the luminous efficiency is low, the power consumption is large and a large amount of heat is generated, so that a cooling means such as a water cooling device is required.

【0008】さらに、Ar+ レーザを光源としてフォト
ポリマー感光材料に画像記録を行う画像記録装置におい
ては、488nmという波長が本来フォトポリマーが持
つ感光波長よりも長波長であるため、高価で複雑な増感
剤が必要になってしまい、フォトポリマー感光材料の経
時安定性の低下や、コストアップ等を招いてしまう。
Furthermore, in an image recording apparatus for recording an image on a photopolymer photosensitive material using an Ar + laser as a light source, the wavelength of 488 nm is longer than the photosensitive wavelength originally possessed by the photopolymer, so that it is expensive and complicated. A sensitizer is required, which leads to a decrease in temporal stability of the photopolymer photosensitive material and an increase in cost.

【0009】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解決することにあり、波長400〜440nmの記録光
を射出する光ビーム光源を適用することにより、安価で
経時安定性に優れ、また取り扱い作業性に優れた感光材
料を使用可能とし、良好な作業性および画像形成のコス
トダウンを可能とした画像記録装置を提供することにあ
る。好ましくは、半導体レーザと、この半導体レーザよ
り射出された光ビームをSHG素子内部で共振させて波
長変換する波長変換器とより構成される光ビーム光源を
用いることにより、装置の小型化および低コスト化、さ
らには低消費電力も可能な画像記録装置を提供すること
にある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. By applying a light beam light source which emits recording light having a wavelength of 400 to 440 nm, it is inexpensive and has excellent stability over time. An object of the present invention is to provide an image recording apparatus which enables use of a light-sensitive material excellent in handling workability, which enables good workability and cost reduction of image formation. Preferably, by using a light beam light source composed of a semiconductor laser and a wavelength converter that resonates the light beam emitted from the semiconductor laser inside the SHG element to perform wavelength conversion, downsizing of the device and low cost can be achieved. Another object of the present invention is to provide an image recording apparatus capable of realizing high power consumption and low power consumption.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、記録光を射出する光ビーム光源、前記光
ビーム光源より射出された記録光を主走査方向に偏向す
る光偏向器、および前記主走査方向と略直行する副走査
方向に感光材料を移動する移動手段を有し、前記感光材
料を副走査方向に移動し、前記主走査方向に偏向された
記録光によって2次元的に走査することにより、この感
光材料に画像を記録する画像記録装置であって、前記光
ビーム光源が、波長400〜440nmの記録光を射出
する光ビーム光源であることを特徴とする画像記録装置
を提供する。
To achieve the above object, the present invention provides a light beam light source for emitting recording light, and an optical deflector for deflecting the recording light emitted from the light beam light source in the main scanning direction. , And moving means for moving the photosensitive material in a sub-scanning direction substantially perpendicular to the main scanning direction, the photosensitive material is moved in the sub-scanning direction, and two-dimensionally by the recording light deflected in the main scanning direction. An image recording apparatus for recording an image on this photosensitive material by scanning the light beam, wherein the light beam light source is a light beam light source for emitting recording light having a wavelength of 400 to 440 nm. I will provide a.

【0011】また、前記光ビーム光源が、光ビームを射
出する半導体レーザと、前記光ビームをSHG素子内部
で共振させて波長変換する波長変換器とより構成される
のが好ましい。
Further, it is preferable that the light beam light source is composed of a semiconductor laser for emitting a light beam and a wavelength converter for resonating the light beam inside the SHG element for wavelength conversion.

【0012】また、前記感光材料としてフォトポリマー
感光材料を適用するのが好ましい。
Further, it is preferable to apply a photopolymer photosensitive material as the photosensitive material.

【0013】[0013]

【発明の作用】本発明の画像記録装置は、主走査方向に
偏向された光ビーム(記録光)によって、この主走査方
向と略直交する副走査方向に移動する感光材料を2次元
的に走査し、画像記録を行う、いわゆるラスタースキャ
ンを適用する画像記録装置であって、光ビームの光源と
して、波長400〜440nmの記録光を射出する光ビ
ーム光源、例えば、半導体レーザと、この半導体レーザ
より射出された光ビームをSHG素子内部で共振させて
波長変換する波長変換器とより構成される光ビーム光源
を適用する。
The image recording apparatus of the present invention two-dimensionally scans the photosensitive material which moves in the sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction by the light beam (recording light) deflected in the main scanning direction. An image recording apparatus that applies so-called raster scanning, which performs image recording, is a light beam light source that emits recording light having a wavelength of 400 to 440 nm as a light beam light source, for example, a semiconductor laser and a semiconductor laser A light beam light source configured by a wavelength converter that resonates the emitted light beam inside the SHG element to perform wavelength conversion is applied.

【0014】そのため、感光材料として、化学的・物理
的に安定で、かつ安価な増感剤や重合開始剤等を使用し
た、比較的明るい部屋での作業が可能である等取り扱い
作業性にも優れる、可視光、特に紫外領域に近い低波長
側に感度を有する感光材料が使用可能となり、良好な作
業性で、安価な感光材料を用いたコストパフォーマンス
に優れた画像記録を行うことができる。
Therefore, it is possible to work in a relatively bright room by using a cheap sensitizer or a polymerization initiator which is chemically and physically stable and is inexpensive as a light-sensitive material. It is possible to use a photosensitive material having excellent sensitivity to visible light, particularly to a low wavelength side close to the ultraviolet region, and it is possible to perform image recording with excellent workability and cost performance using an inexpensive photosensitive material.

【0015】特に、本発明の画像記録装置は、高画質画
像の記録が可能で、取り扱いも容易である等の点で期待
されるフォトポリマー感光材料に使用した際において
も、400〜440nmという波長はフォトポリマが持
つ感光波長に極めて近く、高価で複雑な増感剤や重合開
始剤を用いることなく、経時安定性に優れ、安価なフォ
トポリマ感光材料を使用することができる。
In particular, the image recording apparatus of the present invention is capable of recording high-quality images and is easy to handle. Even when it is used for a photopolymer photosensitive material expected to have a wavelength of 400 to 440 nm. Is very close to the photosensitizing wavelength of the photopolymer, and it is possible to use an inexpensive photopolymer photosensitive material having excellent stability over time without using an expensive and complicated sensitizer or polymerization initiator.

【0016】さらに、好ましくは、光ビーム光源とし
て、半導体レーザと光ビームをSHG素子内部で共振さ
せて波長変換する波長変換器とより構成されるものを用
いることにより、装置の小型化および低コスト化、さら
には低消費電力も可能な画像記録装置を実現することが
できる。
Further, it is preferable to use, as the light beam light source, a semiconductor laser and a wavelength converter that resonates the light beam inside the SHG element to perform wavelength conversion, whereby the apparatus is downsized and the cost is reduced. Further, it is possible to realize an image recording apparatus that can be made more compact and consume less power.

【0017】[0017]

【実施態様】以下、本発明の画像記録装置について、添
付の図面に示される好適実施例をもとに詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The image recording apparatus of the present invention will be described in detail below with reference to the preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

【0018】図1に、本発明の画像記録装置の一例の斜
視図が概念的に示される。図1に示される画像記録装置
10(以下、記録装置10とする)は、基本的に光ビー
ム走査部12と、搬送部14とから構成される、ラスタ
ースキャンを適用する画像記録装置である。このような
記録装置10においては、光ビーム走査部12によって
記録光Lを図中矢印aで示される主走査方向に偏向し、
他方、搬送部14によって感光材料Aを主走査方向と略
直交する副走査方向(矢印b方向)に搬送することによ
り、記録光Lによって感光材料Aを2次元的に走査し、
感光材料Aの全面に画像記録を行う。
FIG. 1 conceptually shows a perspective view of an example of the image recording apparatus of the present invention. The image recording apparatus 10 shown in FIG. 1 (hereinafter referred to as the recording apparatus 10) is an image recording apparatus to which raster scanning is applied, which basically includes a light beam scanning unit 12 and a conveying unit 14. In such a recording apparatus 10, the recording beam L is deflected by the light beam scanning unit 12 in the main scanning direction indicated by an arrow a in the drawing,
On the other hand, the photosensitive material A is two-dimensionally scanned by the recording light L by transporting the photosensitive material A in the sub-scanning direction (direction of arrow b) substantially orthogonal to the main scanning direction by the transport unit 14.
Image recording is performed on the entire surface of the photosensitive material A.

【0019】光ビーム走査部12は、画像情報に応じて
変調された記録光Lを主走査方向に偏向し、感光材料A
に入射せしめるものであって、基本的に、基台11上に
各種の光学素子が配置されて構成される。
The light beam scanning unit 12 deflects the recording light L modulated in accordance with image information in the main scanning direction, and the photosensitive material A
And is basically configured by arranging various optical elements on the base 11.

【0020】本発明にかかる図示例の記録装置10にお
いて、記録光Lは波長400〜440nmの光ビームで
あって、光ビーム光源16より射出される。このような
構成、すなわち記録光として波長400〜440nmの
光ビームを適用することにより、安価で経時安定性に優
れ、また取り扱い作業性に優れた感光材料を適用可能と
し、良好な作業性および画像形成のコストダウンが可能
な記録装置10が実現できるのは前述のとおりである。
In the illustrated recording apparatus 10 according to the present invention, the recording light L is a light beam having a wavelength of 400 to 440 nm, which is emitted from the light beam light source 16. With such a structure, that is, by applying a light beam having a wavelength of 400 to 440 nm as recording light, it is possible to apply a light-sensitive material that is inexpensive, has excellent stability over time, and has excellent handling workability, and has good workability and image quality. As described above, the recording apparatus 10 capable of reducing the cost of formation can be realized.

【0021】このような光ビーム光源としては、上記波
長の光ビームが射出可能な各種のものが適用可能である
が、図示例の光ビーム光源16は、好ましい態様とし
て、光ビームLaを射出する半導体レーザと、この光ビ
ームLaをニオブ酸カリウム(KNbO3 )等のSHG
素子内部で共振させて波長変換する波長変換器とより構
成される。つまり、この光ビーム光源においては、半導
体レーザより射出された光ビームを、SHG素子に入射
することにより前記光ビームの2次高調波を得、かつ前
記光ビームをSHG素子内部で共振させることにより、
短波長の光ビーム(レーザ光)を高出力で得るものであ
る。
As such a light beam light source, various ones capable of emitting a light beam of the above wavelength are applicable, but the light beam light source 16 of the illustrated example emits a light beam La as a preferable mode. A semiconductor laser and an SHG of potassium niobate (KNbO 3 ) etc.
It is composed of a wavelength converter that resonates inside the element to perform wavelength conversion. That is, in this light beam light source, the light beam emitted from the semiconductor laser is incident on the SHG element to obtain the second harmonic of the light beam, and the light beam is resonated inside the SHG element. ,
A light beam (laser light) of a short wavelength is obtained with high output.

【0022】上記構成を有する光ビーム光源16を適用
することにより、従来はAr+ レーザ等のガスレーザを
用いても得ることのできなかった、波長400〜440
nmの短波長の光ビーム(レーザ光)を、小型でかつ安
価な光源でかつ高出力で得ることができる。
By applying the light beam light source 16 having the above structure, wavelengths 400 to 440, which could not be obtained using a gas laser such as an Ar + laser in the related art.
A light beam (laser light) with a short wavelength of nm can be obtained with a small and inexpensive light source and high output.

【0023】図2に、このような光ビーム光源16の一
例が概念的に示される。図2に示される光ビーム光源1
6は、光ビームLaを射出する半導体レーザ18(以
下、LD18とする)と、レンズ20と、SHG素子を
用いてバルク構造で形成されたリング型共振器22と、
リング型共振器22を微小変動自在とするためのPZT
素子24と、リング型共振器22から射出される第2高
調波を透過して記録光Lとし、リング型共振器22から
のもれ光であるLD11の基本波(光ビームLa)を反
射してフィードバック用とするダイクロイックミラー2
6と、ダイクロイックミラー26で反射された光ビーム
Laを検出する光検出器28と、光検出器28で検出し
た光信号を信号処理し、信号処理されて得られた信号に
基づいてPZT素子24を駆動して、リング型共振器2
2を微小変動させ、光路長を変化させる信号処理回路3
0とから構成される。
FIG. 2 conceptually shows an example of such a light beam light source 16. Light beam source 1 shown in FIG.
Reference numeral 6 denotes a semiconductor laser 18 (hereinafter referred to as LD 18) that emits a light beam La, a lens 20, a ring resonator 22 formed in a bulk structure using an SHG element,
PZT for allowing the ring resonator 22 to be slightly changed
The element 24 and the second harmonic emitted from the ring resonator 22 are transmitted to form the recording light L, and the fundamental wave (light beam La) of the LD 11 which is the leakage light from the ring resonator 22 is reflected. For dichroic mirror 2 for feedback
6, the photodetector 28 for detecting the light beam La reflected by the dichroic mirror 26, the optical signal detected by the photodetector 28, and the PZT element 24 based on the signal obtained by the signal processing. Drive the ring resonator 2
Signal processing circuit 3 that slightly changes 2 to change the optical path length
It consists of 0 and.

【0024】ただし、図示しないが、上記光学系は、熱
膨張のほとんどない材質、例えばスーパーインバー等の
基台上で組み立てるのが好ましい。それによって、温度
変化のあまりない環境下では信号処理回路30が全く必
要でなくなる場合もある。
Although not shown, it is preferable that the optical system is assembled on a base material such as Super Invar, which has almost no thermal expansion. As a result, the signal processing circuit 30 may not be necessary at all in an environment where the temperature does not change much.

【0025】なお、LD18は、一般に単一縦モードが
用いられているが、縦・横モード・マルチモードのLD
を注入同期によって単一モード化したものを用いてもよ
い。発光強度の大きなマルチモードレーザにこの手法を
用いることにより、強度の大きな縦単一モードの光ビー
ムを得ることができる。光波長変換は光強度の2乗に比
例する。そのため、このようにマルチモードを発振する
LD18を適用することにより、発振される光強度を大
きくすることができるので、高効率の第2高調波を得る
ことができる。
Although the LD 18 generally uses a single vertical mode, it has a vertical / horizontal mode / multimode LD.
It is also possible to use a single mode obtained by injection locking. By using this method for a multimode laser with high emission intensity, a vertical single-mode light beam with high intensity can be obtained. Light wavelength conversion is proportional to the square of the light intensity. Therefore, by applying the LD 18 that oscillates in the multimode as described above, the intensity of the oscillated light can be increased, so that the highly efficient second harmonic can be obtained.

【0026】図示例の光ビーム光源16においては、こ
のLD18から射出された光ビームLaをKNbO3
のSHG素子結晶を用いたリング型共振器22に入射さ
せて、光ビームLaの2次高調波を得る。例えば、LD
18として発振波長が860nm程度のGaAlAsダ
イオードレーザを用い、リング型共振器22のSHG素
子としてKNbO3 を用いることにより、約430nm
の波長の(青色)光をリング型共振器22より射出さ
せ、これを記録光Lとして用いることができる。
In the light beam light source 16 of the illustrated example, the light beam La emitted from the LD 18 is made incident on the ring type resonator 22 using an SHG element crystal such as KNbO 3 and the second harmonic of the light beam La. Get the waves. For example, LD
A GaAlAs diode laser having an oscillation wavelength of about 860 nm is used as 18, and KNbO 3 is used as the SHG element of the ring resonator 22 to obtain about 430 nm.
It is possible to emit (blue) light having a wavelength of from the ring resonator 22 and use it as the recording light L.

【0027】この構成における共振器の共振内部パワー
を最大にする動作を説明すると、LD18から射出され
た光ビームLaは、レンズ20を経てリング型共振器2
2に入射し、共振する。その結果、高い内部パワーにな
るためにSHG素子結晶内で高効率に光ビームLaが第
2高調波に光波長変換される。リング型共振器22より
射出した光のうち、リング型共振器22からもれ出たも
れ光(即ち基本波である光ビームLa)はダイクロイッ
クミラー26によって反射されて光検出器28に入射
し、他方、第2高調波のみがダイクロイックミラー26
を透過して記録光Lとされる。
The operation of maximizing the resonance internal power of the resonator in this configuration will be described. The light beam La emitted from the LD 18 passes through the lens 20 and the ring type resonator 2
It is incident on 2 and resonates. As a result, since the internal power becomes high, the optical wavelength La of the light beam La is converted into the second harmonic with high efficiency in the SHG element crystal. Of the light emitted from the ring resonator 22, the leak light (that is, the light beam La that is the fundamental wave) leaking from the ring resonator 22 is reflected by the dichroic mirror 26 and enters the photodetector 28. On the other hand, only the second harmonic is the dichroic mirror 26.
And transmitted as the recording light L.

【0028】光検出器28は、得られた光ビームLaの
強度に対応した信号を信号処理回路30に送り、信号処
理回路30は常にレーザ光の光強度が一定となるよう
に、リング型共振器22の裏面(または底面)に設けら
れてミラーの位置を微調整するPZT素子24を制御し
て、光ビームLaの光路上の空気の揺らぎに基づく光路
長のフラツキを無くして光路長が一定となるように調整
する。信号処理回路30については、安定化制御を行え
る公知技術を用いて達成される。
The photodetector 28 sends a signal corresponding to the intensity of the obtained light beam La to the signal processing circuit 30, and the signal processing circuit 30 keeps the ring type resonance so that the light intensity of the laser beam is always constant. The PZT element 24, which is provided on the back surface (or bottom surface) of the container 22 and finely adjusts the position of the mirror, is controlled to eliminate the fluctuation of the optical path length due to the fluctuation of air on the optical path of the light beam La so that the optical path length is constant. Adjust so that The signal processing circuit 30 is achieved by using a known technique capable of stabilizing control.

【0029】ここで、光ビーム光源16の主要な部分で
あるリング型共振器22について以下に説明する。
Here, the ring type resonator 22, which is a main part of the light beam light source 16, will be described below.

【0030】図示例のリング型共振器22はバルク型の
共振構造を有するものである。バルク型共振器構造のリ
ング型共振器22は種々の態様があるが、まず、図3に
示すように、2個のSHG素子をオプティカル・セメン
ト32で接合してバルク型共振器構造としたリング型共
振器22Aが例示される。
The ring type resonator 22 in the illustrated example has a bulk type resonance structure. The ring type resonator 22 having the bulk type resonator structure has various modes. First, as shown in FIG. 3, two SHG elements are joined by optical cement 32 to form a ring type bulk resonator structure. The type resonator 22A is exemplified.

【0031】この構造は、2個のSHG素子の部分をオ
プティカル・セメント32によって接合することによ
り、オプティカルセメント32とSHG素子との間の屈
折率差によりフレネル反射を生じ、LD18への戻り光
Lbが発生される。このような戻り光Lb適用すること
により、LD18より射出される光ビームLaの発信波
長を安定させることができる。共振器内部では、光ビー
ムLaの第2高調波の反射が行われ、リング型共振器2
2A内部の所定の光路、即ち光路A1,2,3,4 を通
り、共振される。
In this structure, by joining the two SHG element portions with the optical cement 32, Fresnel reflection is caused by the difference in the refractive index between the optical cement 32 and the SHG element, and the return light Lb to the LD 18 is generated. Is generated. By applying such return light Lb, the emission wavelength of the light beam La emitted from the LD 18 can be stabilized. Inside the resonator, the second harmonic of the light beam La is reflected, and the ring resonator 2
Resonance occurs through a predetermined optical path inside 2A, that is, optical paths A 1, A 2, A 3, and A 4 .

【0032】リング型共振器の別の例として、図4に示
すバルク型共振器構造が例示される。このリング型共振
器22Bは、SHG素子34のコアの両側に光学ガラス
よりなる所定形状の端面を有するガラス部分36,38
を接合したものであり、戻り光Lbは、SHG素子34
とガラス部分36との接合面H1 およびSHG素子34
とガラス部分38との接合面H2 とから発生される。こ
の例では、SHG素子34の形状が簡単な形状であるた
め、バルク型共振器構造の形成が容易であるという利点
がある。またガラス部分36、38から作成されたミラ
ーであるため加工が容易であり、低コスト化できる。
As another example of the ring type resonator, a bulk type resonator structure shown in FIG. 4 is exemplified. The ring resonator 22B has glass portions 36 and 38 having end faces of a predetermined shape made of optical glass on both sides of the core of the SHG element 34.
And the return light Lb is generated by the SHG element 34.
Surface H 1 between the glass and the glass portion 36 and the SHG element 34
Is generated from the joint surface H 2 between the glass part 38 and the glass part 38. In this example, since the SHG element 34 has a simple shape, there is an advantage that the bulk resonator structure can be easily formed. Further, since the mirror is made of the glass portions 36 and 38, the processing is easy and the cost can be reduced.

【0033】また、リング型共振器の別の例として、図
5に示される半球状のV字型のリング型共振器22Cが
例示される。このリング型共振器22Cは、SHG素
子、例えばKNbO3 を半球状に加工を施して得られる
ものである。
As another example of the ring resonator, a hemispherical V-shaped ring resonator 22C shown in FIG. 5 is exemplified. The ring resonator 22C is obtained by processing a SHG element, for example, KNbO 3 into a hemispherical shape.

【0034】LD18からの光ビームLaは、リング型
共振器22Cに入射して、まず光路A1 を通って球面で
反射されて、光路A1 を戻り、次に平面で内部反射され
て光路A2 を往復し、再び光路A1 を通って球面を透過
して、出射光となる。このとき内部でV字共振している
光の一部が戻り光Lbとなる。
The light beam La from the LD18 is incident on the ring resonator 22C, first is reflected by the spherical surface through the optical path A 1, the return light path A 1, is internally reflected then in plane optical path A It travels back and forth through 2 , passes through the spherical surface again through the optical path A 1 , and becomes emitted light. At this time, a part of the light that resonates in a V shape inside becomes the return light Lb.

【0035】図6にリング型共振器の別の例が示され
る。図6に示されるリング型共振器22Dは、SHG素
子を所定の共振器形状として、内部反射面には光が臨界
角で入射して全反射するように設計してあり、かつこの
共振器の上面に戻り光Lbを発生するための回折格子4
0を配設したものである。回折格子40は100%入っ
てきた光を戻すような位相型のグレーティング(gla
ting)を用いるとよい。
FIG. 6 shows another example of the ring resonator. The ring resonator 22D shown in FIG. 6 is designed so that the SHG element has a predetermined resonator shape, and light is incident on the internal reflection surface at a critical angle to be totally reflected. Diffraction grating 4 for generating return light Lb on the upper surface
0 is provided. The diffraction grating 40 is a phase type grating (gla) that returns 100% of incoming light.
ting) is preferably used.

【0036】図6に示す回折格子40で戻り光Lbを発
生する機構について、図7を参照して説明する。図7に
示す共振器の内部反射面において、光が臨界角で入射
し、全反射する際にエバネッセント波が共振器側から外
部空間側へ伝わっている。したがって、内部反射した光
は、ある程度光が反射面(境界面)から外側(外部空間
側)に出てから反射されると解釈することができる。こ
の場合に、反射面と対応する位置の共振器外側に、所定
微小距離hだけ離間して回折格子40を配設することに
より、トンネル効果により回折格子40に光エネルギー
が伝わり、反射面に入射する光の一部が所定の効率で戻
り光となる。上記微小距離hの大きさを調節することに
より、戻り光Lbの発生効率を制御できる。
A mechanism for generating the return light Lb in the diffraction grating 40 shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG. At the internal reflection surface of the resonator shown in FIG. 7, when light is incident at a critical angle and is totally reflected, an evanescent wave is transmitted from the resonator side to the external space side. Therefore, the light internally reflected can be interpreted as being reflected to some extent from the reflection surface (boundary surface) to the outside (external space side). In this case, by disposing the diffraction grating 40 at a predetermined minute distance h outside the resonator at a position corresponding to the reflection surface, light energy is transmitted to the diffraction grating 40 by the tunnel effect and is incident on the reflection surface. Part of the emitted light becomes return light with a predetermined efficiency. The generation efficiency of the return light Lb can be controlled by adjusting the size of the minute distance h.

【0037】図6に示す構造では、リング型共振器22
Dに入射した光ビームLaは内部反射経路A1 ,A2
3 ,A4 を通って、共振器の外部に2次高調波として
出射される。戻り光Lbは、経路A2 から経路A3 とな
る際に回折格子40によって発生され、内部経路B1
2 を通って共振器の外部に出射される。
In the structure shown in FIG. 6, the ring type resonator 22 is used.
The light beam La incident on D is reflected by the internal reflection paths A 1 , A 2 ,
The second harmonic wave is emitted to the outside of the resonator through A 3 and A 4 . The return light Lb is generated by the diffraction grating 40 when changing from the path A 2 to the path A 3, and the internal path B 1 ,
It is emitted to the outside of the resonator through B 2 .

【0038】また、回折格子40を配置する位置は図6
に示される例に限定はされず、図8に示されるリング型
共振器22Eのように、光ビームの射出部分に配置した
ものも好適に適用される。図8に示される例において
は、レーザ光の第2好調波が出射される端面に設けられ
たコーティング層が光を僅かに(例えば2%程度)透過
するため、回折格子40に光エネルギーが伝わり、回折
格子40で戻り光が発生される。戻り光の発生効率は、
回折格子の反射効率を適切に制御することにより、調整
することができる。
The position where the diffraction grating 40 is arranged is shown in FIG.
However, the ring resonator 22E shown in FIG. 8 is not limited to the example shown in FIG. In the example shown in FIG. 8, since the coating layer provided on the end face from which the second harmonic wave of the laser light is emitted slightly transmits light (for example, about 2%), optical energy is transmitted to the diffraction grating 40. Return light is generated by the diffraction grating 40. The return light generation efficiency is
It can be adjusted by appropriately controlling the reflection efficiency of the diffraction grating.

【0039】また、図7に示す構造では、リング型共振
器22Eに入射した光ビームLaが、内部反射経路
1 ,A2 ,A3 ,A4 を通って共振器の外部に2次高
調波として出射される。戻り光Lbは、経路A1 から経
路A2 となる際に回折格子40によって発生され、内部
経路を通って共振器の外部に出射される。
Further, in the structure shown in FIG. 7, the light beam La incident on the ring type resonator 22E passes through the internal reflection paths A 1 , A 2 , A 3 and A 4 to the second harmonic outside the resonator. Emitted as a wave. The return light Lb is generated by the diffraction grating 40 when changing from the path A 1 to the path A 2, and is emitted to the outside of the resonator through the internal path.

【0040】図9に、リング型共振器の別の例が示され
る。図9に示されるリング型共振器22Fは、SHG素
子を所定の共振器形状とし、さらに、光ビームLaが入
射する端面に基本波(光ビームLa)に対する反射率が
80〜99.9%であって、第2高調波に対する反射率
が80〜100%であるコーティング層42が、他方、
第2高調波が出射する端面を、光ビームLaに対する反
射率が80〜99.9%であって、第2高調波に対する
反射率が80〜99.9%であるコーティング層44が
形成される。
FIG. 9 shows another example of the ring resonator. The ring type resonator 22F shown in FIG. 9 has an SHG element having a predetermined resonator shape, and further has a reflectance of 80 to 99.9% with respect to the fundamental wave (light beam La) on the end face on which the light beam La is incident. The coating layer 42 having a reflectance of 80 to 100% for the second harmonic,
A coating layer 44 having a reflectance of 80 to 99.9% for the light beam La and a reflectance of 80 to 99.9% for the second harmonic is formed on the end face from which the second harmonic is emitted. ..

【0041】このような特殊な性質のコーティング層4
2および44を設けることにより、リング型共振器22
F内部で光ビームLaを共振させるとともに、光ビーム
Laの共振によって生じた第2高調波をも共振させる構
造となる。そのため、第2高調波は位相が揃い、スペク
トル密度も高くなり、第2高調波が一回のリング反射に
より出射される以外に、複数回反射されたものも出射さ
れるため、さらに位相の揃った、エネルギー密度の高
い、帯域幅の狭い、高出力のレーザ光の第2高調波を取
りたい方向に得ることができる。
Coating layer 4 having such special properties
By providing 2 and 44, the ring resonator 22
In this structure, the light beam La is resonated inside F and the second harmonic generated by the resonance of the light beam La is also resonated. Therefore, the phase of the second harmonic is uniform, the spectral density is high, and the second harmonic is emitted by a single reflection of the ring, and the second harmonic is also emitted by multiple reflections. In addition, it is possible to obtain the second harmonic of high-power laser light having a high energy density, a narrow band width, and the desired direction.

【0042】なお、このようなコーティング層は、前述
の図3〜8に示されるリング型共振器に形成して良いの
はもちろんである。また、図示例のリング型共振器22
Fは、好ましい態様として、コーティング層が設けられ
ていない内部反射面には、図6に示される例と同様の回
折格子40が配置されている。
It is needless to say that such a coating layer may be formed on the ring type resonator shown in FIGS. Further, the ring type resonator 22 of the illustrated example
In a preferable mode of F, the diffraction grating 40 similar to that in the example shown in FIG. 6 is arranged on the internal reflection surface on which the coating layer is not provided.

【0043】光ビーム光源16より射出された記録光L
は、次いで音響光学変調器(AOM)50に入射して、
記録画像に応じて変調される。AOM50には、メモリ
52およびCPU54が接続されている。CPU54に
は記録画像の信号が入力されており、画像信号をメモリ
52に転送する。メモリ52は画像信号に応じた変調信
号をAOM50に転送し、AOM50によって記録光L
が記録画像に応じて変調される。
Recording light L emitted from the light beam light source 16
Then enters an acousto-optic modulator (AOM) 50,
It is modulated according to the recorded image. A memory 52 and a CPU 54 are connected to the AOM 50. The signal of the recorded image is input to the CPU 54, and the image signal is transferred to the memory 52. The memory 52 transfers the modulation signal corresponding to the image signal to the AOM 50, and the recording light L is transmitted by the AOM 50.
Are modulated according to the recorded image.

【0044】AOM50によって変調された記録光L
は、次いでビームコリメータ51によってビームをコリ
メートされ、ミラー53,56および58によって所定
の方向に反射されて、光偏向器であるポリゴンミラー6
0に入射し、主走査方向(矢印a方向)に偏向される。
なお、本発明の画像記録装置に適用される光偏向器はポ
リゴンミラー60には限定はされず、レゾナントスキャ
ナー、ガルバノメータミラー等、公知の各種の光偏向器
がいずれも適用可能である。
Recording light L modulated by AOM50
Is then collimated by the beam collimator 51 and reflected in a predetermined direction by the mirrors 53, 56 and 58, and the polygon mirror 6 which is an optical deflector.
It is incident on 0 and is deflected in the main scanning direction (direction of arrow a).
The optical deflector applied to the image recording apparatus of the present invention is not limited to the polygon mirror 60, and various known optical deflectors such as a resonant scanner and a galvanometer mirror can be applied.

【0045】主走査方向に偏向された記録光Lは、fθ
レンズ62によって結像位置を調整され、長尺ミラー6
4によって上方に反射され、シリンドリカルミラー66
によって光路を調整されつつ下方に反射され、基台11
に形成されたスリット68より感光材料Aに入射する。
The recording light L deflected in the main scanning direction is fθ
The image forming position is adjusted by the lens 62, and the long mirror 6
4 is reflected upward by the cylindrical mirror 66.
It is reflected downward while the optical path is adjusted by the base 11
The light enters the photosensitive material A through the slit 68 formed in the.

【0046】ここで、感光材料Aは搬送部14によって
主走査方向(矢印a方向)と略直交する副走査方向(矢
印b方向)に搬送されている。従って、記録光Lは結果
的に感光材料Aを2次元的に走査し、全面に画像記録を
行うことが可能となる。
The photosensitive material A is transported by the transport unit 14 in the sub-scanning direction (arrow b direction) substantially orthogonal to the main scanning direction (arrow a direction). Therefore, as a result, the recording light L two-dimensionally scans the photosensitive material A, and it becomes possible to record an image on the entire surface.

【0047】図示例の画像記録装置10の搬送部14に
おいて、感光材料Aは露光台70上の所定の位置に固定
されており、露光台70をねじ伝動装置によって副走査
方向に移動することにより感光材料Aを副走査搬送す
る。
In the conveying section 14 of the image recording apparatus 10 of the illustrated example, the photosensitive material A is fixed at a predetermined position on the exposure table 70, and the exposure table 70 is moved in the sub scanning direction by a screw transmission device. The photosensitive material A is sub-scanned and conveyed.

【0048】ねじ伝動装置は、モータ、減速機、カップ
リング等より構成されるモータユニット72と、ねじ軸
74と、露光台70の下面に配置されるねじ軸74に螺
合するナットおよびその固定部材とより構成され、モー
タユニット72がねじ軸74を所定速度で回転させるこ
とにより、ナット、つまり露光台70が副走査方向に所
定速度で移動し、感光材料Aを副走査搬送する。
The screw transmission device includes a motor unit 72 including a motor, a speed reducer, a coupling, etc., a screw shaft 74, a nut screwed to the screw shaft 74 arranged on the lower surface of the exposure table 70, and its fixing. When the motor unit 72 rotates the screw shaft 74 at a predetermined speed, the nut, that is, the exposure table 70 moves at a predetermined speed in the sub-scanning direction, and conveys the photosensitive material A in the sub-scanning direction.

【0049】露光台70への感光材料Aの固定方法には
特に限定はなく、サクションによる方法、静電吸着、磁
石を適用する方法、各種の治具を用いる方法等、公知の
方法がいずれも適用可能である。また、露光台70の移
動手段は図示例のねじ伝動装置を適用するものに限定は
されず、ラックアンドピニオン、巻き掛け伝動装置等、
公知の露光台の移動手段がいずれも適用可能である。
The method of fixing the photosensitive material A to the exposure table 70 is not particularly limited, and any known method such as suction method, electrostatic attraction, magnet application method, various jig methods and the like can be used. Applicable. Further, the moving means of the exposure table 70 is not limited to the one using the screw transmission device of the illustrated example, and a rack and pinion, a winding transmission device, etc.
Any known exposure table moving means can be applied.

【0050】なお、本発明の画像記録装置10の搬送部
14は、図示例のような露光台70を適用するものに限
定はされず、ニップローラによる搬送装置、露光ドラム
を適用する方法等、公知のシート状物の搬送装置がいず
れも適用可能である。さらに、感光材料Aはシート状物
には限定されず、通常の電子写真式の複写機のような電
子写真感光体等、感光体ドラム等を適用する画像記録装
置であっても良いのはもちろんである。
The conveying unit 14 of the image recording apparatus 10 of the present invention is not limited to the one using the exposure table 70 as shown in the drawing, but a known conveying apparatus using nip rollers, a method of applying an exposure drum, and the like. Any of the sheet-shaped material conveying devices can be applied. Further, the photosensitive material A is not limited to a sheet-like material, and needless to say, may be an image recording apparatus to which an electrophotographic photosensitive member such as an ordinary electrophotographic copying machine or a photosensitive drum is applied. Is.

【0051】画像記録装置10は、このようにして波長
400〜440nmの記録光Lによって感光材料Aを露
光し、画像記録を行う。これにより、安価で経時安定性
に優れ、また取り扱い作業性に優れた感光材料Aが使用
可能となり、良好な作業性および画像形成のコストダウ
ンが可能せしめるものである。
The image recording apparatus 10 thus exposes the photosensitive material A with the recording light L having a wavelength of 400 to 440 nm to record an image. This makes it possible to use the photosensitive material A that is inexpensive, has excellent stability over time, and has excellent handling workability, and enables good workability and cost reduction of image formation.

【0052】適用可能な感光材料Aとしては、フォトポ
リマー感光材料、銀塩写真感光材料、フォトレジスト、
電子写真感光材料等、この波長領域に感度を有する公知
の感光材料、あるいはこれに必要に応じて増感剤等を加
えた各種の感光材料がいずれも使用可能であるが、中で
も特に、高画質が望める上に、現像等の取扱いの簡易性
や、感光材料の安定性等の点でフォトポリマー感光材料
が好適に適用される。
As the applicable photosensitive material A, a photopolymer photosensitive material, a silver salt photographic photosensitive material, a photoresist,
Known photosensitive materials having sensitivity in this wavelength region, such as electrophotographic photosensitive materials, or various photosensitive materials to which a sensitizer or the like is added if necessary can be used. In addition, the photopolymer photosensitive material is preferably applied in terms of easiness of handling such as development and stability of the photosensitive material.

【0053】フォトポリマー(photopolymer)とは、光
の照射によって単量体(モノマー)から重合体(ポリマ
ー)に変化する高分子化合物であって、通常は、光重合
性のモノマー、プレポリマー(すなわち2量体、3量体
およびオリゴマー)、またはこれらの混合物、ならびに
それらの共重合体(以下、これらを総称して光重合性化
合物とする)に、増感剤や重合開始剤を添加したもので
ある。フォトポリマー感光材料とは、このようなフォト
ポリマーの層をアルミニウム等の支持体上に形成したも
のである。
The photopolymer is a polymer compound which changes from a monomer (monomer) to a polymer (polymer) upon irradiation with light, and is usually a photopolymerizable monomer or prepolymer (ie, (A dimer, a trimer and an oligomer), or a mixture thereof and a copolymer thereof (hereinafter collectively referred to as a photopolymerizable compound) to which a sensitizer or a polymerization initiator is added. Is. The photopolymer light-sensitive material is a material in which such a photopolymer layer is formed on a support such as aluminum.

【0054】適用可能な光重合性化合物には特に限定は
なく、公知の各種のものがいずれも適用可能であるが、
一例として、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有するモノマー、プレポリマー
(すなわち2量体、3量体およびオリゴマー)、または
これらの混合物、ならびにそれらの共重合体等を主成分
とするもの例示される。
The applicable photopolymerizable compound is not particularly limited, and various known compounds can be applied.
As an example, at least one terminal ethylenically unsaturated bond is used.
The main component is a monomer having one, preferably two or more, a prepolymer (that is, a dimer, a trimer and an oligomer), or a mixture thereof, and a copolymer thereof.

【0055】このような光重合性化合物の例としては、
不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、
不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド
等が例示される。
Examples of such a photopolymerizable compound include:
Esters of unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds,
Examples thereof include amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.

【0056】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとしては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプトパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパン(アクリロイルオキシプロ
ピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート等;
Specific examples of the monomer of the ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,
3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolbutane triacrylate, trimethylolpropane (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, etc .;

【0057】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールメタ
クリレート、トリメチロールプロパンメタクリレート、
トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジ
メタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールジメタクリレート等;
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol methacrylate, trimethylolpropane methacrylate,
Trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate,
Pentaerythritol dimethacrylate etc .;

【0058】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート等;
As the itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, etc .;

【0059】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等;
As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate, etc .;

【0060】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等;
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, sorbitol tetraisocrotonate and the like;

【0061】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等;がそれぞれ好適に例示される。
Suitable examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbitol tetramaleate.

【0062】他方、脂肪族多価アミンと不飽和カルボン
酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビ
ス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエ
チレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビ
スアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等
が好適に例示される。
On the other hand, specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide,
Preferable examples are 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

【0063】また、光重合性化合物としては、特公昭4
8−41708号公報に開示される、1分子中に2個以
上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合
物に、下記の一般式[A]で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加せしめた、1分子中に2個以上の
重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等も好
適に例示される。 CH2 =C(R)COOCH2 CH(R′)OH [A] (なお、上記式[A]において、RおよびR′はHある
いはCH3 を示す。)
As the photopolymerizable compound, Japanese Patent Publication No.
One molecule obtained by adding a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following general formula [A] to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule disclosed in JP-A-8-41708. Preferable examples are vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups. CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R ′) OH [A] (In the above formula [A], R and R ′ represent H or CH 3. )

【0064】さらに、特開昭51−37193号公報に
開示されるウレタンアクリレート類、特開昭48−64
183号、特公昭49−431191号、特公昭52−
30490号の各公報に開示されるポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せることによって得られるエポキシアクリレート類等の
多官能アクリレートやメタクリレート等も好適に適用可
能である。また、日本接着協会誌 vol.20 No.7 300〜30
8 ページ(1984年)に開示される、光硬化性モノマ
およびオリゴマー等も好適に適用可能である。
Further, urethane acrylates disclosed in JP-A-51-37193 and JP-A-48-64 are disclosed.
No. 183, Japanese Patent Publication No. 49-431191, Japanese Patent Publication No. 52-
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, which are disclosed in each publication of No. 30490, are also suitably applicable. Also, Japan Adhesive Association magazine vol.20 No.7 300-30
The photocurable monomers and oligomers disclosed on page 8 (1984) are also suitably applicable.

【0065】このような光重合性化合物と、必要に応じ
て後述する各種の溶媒や増感材等と混合してフォトポリ
マーが構成されるが、化合物の使用量は、全成分に対し
て5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%程度で
ある。
A photopolymer is formed by mixing such a photopolymerizable compound with various solvents and sensitizers described later, if necessary, and the compound is used in an amount of 5 relative to all components. It is about 50% by weight, preferably about 10-40% by weight.

【0066】フォトポリマーは前述の各種の光重合性化
合物と、必要に応じて添加される重合開始剤、増感剤等
とが混合されて構成される。適用する重合開始剤、増感
剤は記録光Lの波長や光重合性化合物に応じて適宜選択
すればよく、特に限定はない。ただし、波長400〜4
40nmの光ビームを記録光Lとして用いるので、従来
のAr+ レーザより射出される波長488nmの光ビー
ムを記録光とする場合に比しても、簡易な構成で、安
定、かつ安価な重合開始剤および増感剤が適用可能であ
るのはもちろんである。
The photopolymer is formed by mixing the above-mentioned various photopolymerizable compounds with a polymerization initiator, a sensitizer, etc., which are added if necessary. The polymerization initiator and sensitizer to be applied may be appropriately selected according to the wavelength of the recording light L and the photopolymerizable compound and are not particularly limited. However, wavelength 400-4
Since the light beam of 40 nm is used as the recording light L, even if the light beam of the wavelength of 488 nm emitted from the conventional Ar + laser is used as the recording light, the composition is simple and stable, and the polymerization can be initiated at a low cost. Of course, the agents and sensitizers are applicable.

【0067】例えば、前述のように光ビーム光源16に
おいて、LD18として発振波長が860nm程度のG
aAlAsダイオードレーザを、リング型共振器22の
SHG素子としてKNbO3 を用い、約430nmの光
ビームを記録光Lとして用いる場合には、増感剤として
は、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、シ
アニン系、メロシアン系、クマリン系、キサンテン系等
の各種の色素、等が各種適用可能である。具体的には、
9−フェニルアクリジン、および下記式で示される化合
物が好適に例示される。
For example, as described above, in the light beam light source 16, the LD 18 is a G having an oscillation wavelength of about 860 nm.
When KNbO 3 is used as the SHG element of the ring type resonator 22 and an optical beam of about 430 nm is used as the recording light L, the sensitizer is a benzophenone derivative, a thioxanthone derivative, a cyanine group, a merocyanine group, Various types of dyes such as a system, a coumarin type, and a xanthene type can be applied. In particular,
Preferable examples are 9-phenylacridine and compounds represented by the following formula.

【0068】[0068]

【化1】 [Chemical 1]

【0069】また、この場合(約430nmの光ビーム
を記録光Lとする場合)の重合開始剤としては、トリハ
ロメチル−S−トリアジン化合物、芳香族オニウム塩、
有機過酸化物、ヘキサアリールビイミダゾール誘導体、
ボレート化合物等が好適に例示される。
In this case (when the light beam of about 430 nm is used as the recording light L), the polymerization initiator is a trihalomethyl-S-triazine compound, an aromatic onium salt,
Organic peroxide, hexaarylbiimidazole derivative,
A borate compound and the like are preferably exemplified.

【0070】具体的には、トリハロメチル−S−トリア
ジン化合物としては、若林ら著の、Bull.Chem.Soc.Japa
n,42、2924(1969) に開示される化合物、例えば、2−フ
ェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−S−トリアジン;
Specifically, as the trihalomethyl-S-triazine compound, Bull. Chem. Soc. Japa by Wakabayashi et al.
n, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl). ) -S-Triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine;

【0071】英国特許第1388492号明細書に開示
される化合物、例えば、2−スチリル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
チルスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロ
ロメチル−S−トリアジン;
The compounds disclosed in British Patent No. 1388492, such as 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis. (Trichloromethyl)-
S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(P-Methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine;

【0072】特開昭53−133428号公報に開示の
化合物、例えば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリア
ジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
[4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル]−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、
2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン;等が
好適に例示される。
The compounds disclosed in JP-A-53-133428, such as 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (4 -Ethoxy-naphth-1-yl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
[4- (2-Ethoxyethyl) -naphth-1-yl]-
4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine,
2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine; and the like are preferably exemplified.

【0073】また、芳香族オニウム塩としては、周期律
表の第5B、6Bおよび7B族の元素、具体的には、
N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Teおよび
Iの芳香族オニウム塩が適用可能であり、特公昭52−
14277号、同52−14278号、同52−142
79号の各公報に開示される、下記式で示される化合物
等が例示される。
Further, as the aromatic onium salt, an element of groups 5B, 6B and 7B of the periodic table, specifically,
Aromatic onium salts of N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te and I are applicable, and Japanese Patent Publication No. 52-
No. 14277, No. 52-14278, No. 52-142
Examples thereof include compounds represented by the following formulas, which are disclosed in each publication of No. 79.

【0074】[0074]

【化2】 [Chemical 2]

【0075】有機過酸化物としては、分子中に「O−
O」結合を1個以上有する有機化合物のほとんどすべて
が適用可能であるが、具体的には、メチルエチルケトン
パーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチル
パーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサノ
ン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、
tert−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化コハク
酸、過酸化ベンゾイル等が例示される。
As the organic peroxide, "O-
Almost all organic compounds having one or more “O” bonds are applicable, and specifically, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide,
3,3,5-Trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexanone, 2,2-bis (tert- Butyl peroxy) butane,
Examples thereof include tert-butyl hydroperoxide, succinic acid peroxide, and benzoyl peroxide.

【0076】ヘキサアリールビイミダゾール誘導体とし
ては、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−
メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′
−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o
−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m
−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール等が例示される。
As the hexaarylbiimidazole derivative, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5
5'-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis (o-
Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-
Methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'
-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o
-Nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m
-Methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5
Examples include 5'-tetraphenylbiimidazole and the like.

【0077】さらに、ボレート化合物としては、下記一
般式で示される化合物が好適に適用可能である。
Further, as the borate compound, compounds represented by the following general formula can be preferably applied.

【0078】[0078]

【化3】 [Chemical 3]

【0079】(上記一般式において、R1 、R2 、R3
およびR4 は互いに同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ置換または非置換のアルキル基、置換または非置換
のアリール基、置換または非置換のアルケニル基、置換
または非置換のアルキニル基、もしくは置換または非置
換の複素環基を示す。R1 、R2 、R3 およびR4 はそ
の2個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。
ただし、R1 、R2 、R 3 およびR4 のうち少なくとも
1つはアルキル基である。また、Z+ はアルカリ金属カ
チオンまたは第4級アンモニウムカチオンを示す。)
(In the above general formula, R1 , R2 , R3 
And RFour Can be the same or different from each other, which
Substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted, respectively
Aryl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted
Or an unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted
Represents a heterocyclic group. R1 , R2 , R3 And RFour Haso
Two or more groups of the above may combine to form a cyclic structure.
However, R1 , R2 , R 3 And RFour At least of
One is an alkyl group. Also, Z+ Is an alkali metal
Indicates a thione or quaternary ammonium cation. )

【0080】このようなボレート化合物としては米国特
許第3,567,453号、同4,343,891号、
ヨーロッパ特許第109,772号、同109,773
号の各明細書に開示されているもの化合物や、下記式で
示される化合物等が例示される。
Examples of such borate compounds include US Pat. Nos. 3,567,453 and 4,343,891,
European Patent Nos. 109,772 and 109,773
Compounds disclosed in each specification of the publication, compounds represented by the following formula, and the like are exemplified.

【0081】[0081]

【化4】 [Chemical 4]

【0082】以上、各種の重合開始剤が適用可能である
が、好ましくは、下記の構造を有する化合物が重合開始
剤として好適に適用可能である。
As described above, various polymerization initiators can be applied, but the compound having the following structure is preferably applicable as the polymerization initiator.

【0083】[0083]

【化5】 [Chemical 5]

【0084】また、通常のフォトポリマーでは重合開始
剤と前述の増感剤とが組み合わせて使用されるが、下記
の化合物を重合開始剤として使用する際には増感剤は不
要となり、フォトポリマー感光材料の経時安定性や価格
等の点でより好ましい。
Further, in a usual photopolymer, a polymerization initiator and the above-mentioned sensitizer are used in combination, but when the following compounds are used as the polymerization initiator, the sensitizer is not necessary and the photopolymer is not used. It is more preferable in terms of temporal stability and price of the light-sensitive material.

【0085】[0085]

【化6】 [Chemical 6]

【0086】フォトポリマーは、前述の光重合性化合物
に、重合開始剤と増感剤とを添加して構成されるが、必
要に応じて、バインダー、各種の添加剤、さらには溶剤
を有してもよい。
The photopolymer is constituted by adding a polymerization initiator and a sensitizer to the above-mentioned photopolymerizable compound, and if necessary, a binder, various additives and a solvent. May be.

【0087】適用されるバインダーとしては、線状有機
高分子重合体が好適に例示される。線状有機高分子重合
体としては、適用する光重合性化合物と相溶性を有する
線状有機高分子重合体がいずれも適用可能であるが、好
ましくはアクリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、
イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ポリビ
ニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド等が好適に例
示される。
A linear organic high molecular polymer is preferably exemplified as the binder to be applied. As the linear organic high molecular polymer, any linear organic high molecular polymer having compatibility with the photopolymerizable compound to be applied can be applied, but preferably an acrylic acid copolymer or a methacrylic acid copolymer. ,
Preferable examples thereof include itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, polyvinylpyrrolidone and polyethylene oxide.

【0088】また、フォトポリマーの熱重合を防止する
ために、必要に応じてハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール等の熱重合防止剤を添加剤として加えてもよ
い。
If necessary, a thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone or p-methoxyphenol may be added as an additive in order to prevent thermal polymerization of the photopolymer.

【0089】さらに、フォトポリマーを支持体上に塗布
する際には各種の有機溶剤に溶解した状態としてもよ
い。適用可能な溶剤としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン等、前述の光重合化合物等を溶解可能な溶剤を適宜
選択すればよい。
Further, when the photopolymer is coated on the support, it may be dissolved in various organic solvents. As applicable solvents, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, tetrahydrofuran, etc., such as the above-mentioned photopolymerizable compounds and the like, may be appropriately selected.

【0090】フォトポリマー感光材料Aは、このような
光重合性化合物、増感剤、重合開始剤を含有するフォト
ポリマーを支持体上に塗布・乾燥する等によって、支持
体上にフォトポリマー層を形成してなるものである。支
持体としては、各種の感光材料の支持体に適用される各
種のものがいずれも適用可能であり、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のプラスチック、アルミニウム(その合
金)、亜鉛、銅等の金属、あるいはプラスチックや金属
の積層体等が例示される。
In the photopolymer photosensitive material A, a photopolymer layer containing a photopolymerizable compound, a sensitizer and a polymerization initiator is coated on the support and dried to form a photopolymer layer on the support. It is formed. As the support, any of various materials applied to the support of various light-sensitive materials can be applied, and plastics such as polyethylene and polypropylene, metals such as aluminum (alloy thereof), zinc and copper, or plastics and Examples include metal laminates.

【0091】また、フォトポリマー感光材料Aのフォト
ポリマー層上には空気中の酸素等によるフォトポリマー
の重合禁止作用を防止するため、ポリビニルアルコー
ル、酸性セルロース等の保護層を形成してもよい。
Further, a protective layer of polyvinyl alcohol, acidic cellulose or the like may be formed on the photopolymer layer of the photopolymer photosensitive material A in order to prevent the polymerization inhibiting action of the photopolymer due to oxygen in the air or the like.

【0092】前述のようにして、本発明の画像記録装置
10によって画像記録が行われたフォトポリマー感光材
料は、次工程に搬送され、フォトポリマーに応じた現像
が施され、印刷版等とされる。
As described above, the photopolymer photosensitive material on which an image is recorded by the image recording apparatus 10 of the present invention is conveyed to the next step, is developed according to the photopolymer, and is used as a printing plate or the like. It

【0093】以上、本発明の画像記録装置に付いて詳細
に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種
の改良および変更を行ってもよいのはもちろんである。
The image recording apparatus of the present invention has been described above in detail. However, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various improvements and changes can be made without departing from the gist of the present invention. Of course you can go.

【0094】[0094]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の画
像記録装置は、波長400〜440nmの記録光を射出
する光ビーム光源を適用することにより、安価で経時安
定性に優れ、また、比較的明るい部屋での作業が可能で
ある等、取り扱い作業性に優れた感光材料を使用可能と
し、良好な作業性および印刷版の作製等の画像形成のコ
ストダウンが可能である。好ましくは、半導体レーザ
と、この半導体レーザより射出された光ビームをSHG
素子内部で共振させて波長変換する波長変換器とより構
成される光ビーム光源を用いることにより、装置の小型
化および低コスト化、さらには低消費電力も可能な画像
記録装置とすることができる。
As described in detail above, the image recording apparatus of the present invention is inexpensive and excellent in stability over time by applying a light beam light source which emits recording light having a wavelength of 400 to 440 nm. It is possible to use a photosensitive material that is excellent in handling workability such as work in a relatively bright room, and it is possible to achieve good workability and reduce the cost of image formation such as production of a printing plate. It is preferable that the semiconductor laser and the light beam emitted from the semiconductor laser be SHG.
By using a light beam light source composed of a wavelength converter that resonates inside the element to perform wavelength conversion, it is possible to reduce the size and cost of the device and further reduce the power consumption. ..

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の画像記録装置の一例を概念的に示す斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view conceptually showing an example of an image recording apparatus of the present invention.

【図2】図1に示される画像記録装置に適用される光ビ
ーム光源を概念的に示す図である。
FIG. 2 is a view conceptually showing a light beam light source applied to the image recording apparatus shown in FIG.

【図3】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の一例を概念的に示す図である。
FIG. 3 is a diagram conceptually showing an example of a ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【図4】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の別の例を概念的に示す図である。
4 is a diagram conceptually showing another example of the ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【図5】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の別の例を概念的に示す図である。
5 is a view conceptually showing another example of the ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【図6】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の別の例を概念的に示す図である。
6 is a view conceptually showing another example of the ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【図7】図6に示されるリング型共振器において、回折
格子の作用を説明するための線図である。
7 is a diagram for explaining the action of the diffraction grating in the ring resonator shown in FIG.

【図8】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の別の例を概念的に示す図である。
8 is a view conceptually showing another example of the ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【図9】図2に示される光ビーム光源に適用されるリン
グ型共振器の別の例を概念的に示す図である。
9 is a view conceptually showing another example of the ring resonator applied to the light beam light source shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 画像記録装置 11 基台 12 光ビーム走査部 14 搬送部 16 光ビーム光源 18 半導体レーザ(LD) 20 レンズ 22 リング型共振器 24 PZT素子 26 ダイクロイックミラー 28 光検出器 30 信号処理回路 32 オプティカルセメント 34 SHG素子 36,38 ガラス部分 40 回折格子 42,44 コーティング層 50 音響光学変調器(AOM) 51 ビームスプリッタ 52 メモリ 53,56,58 ミラー 54 CPU 60 ポリゴンミラー 62 fθレンズ 64 長尺ミラー 66 シリンドリカル 68 スリット 70 露光台 72 モーターユニット 74 ねじ軸 A 感光材料 10 image recording device 11 base 12 light beam scanning unit 14 transport unit 16 light beam light source 18 semiconductor laser (LD) 20 lens 22 ring resonator 24 PZT element 26 dichroic mirror 28 photodetector 30 signal processing circuit 32 optical cement 34 SHG element 36, 38 Glass part 40 Diffraction grating 42, 44 Coating layer 50 Acousto-optic modulator (AOM) 51 Beam splitter 52 Memory 53, 56, 58 Mirror 54 CPU 60 Polygon mirror 62 fθ lens 64 Long-length mirror 66 Cylindrical 68 Slit 70 exposure table 72 motor unit 74 screw shaft A photosensitive material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/027 7/20 511 7818−2H H01S 3/18 9170−4M H04N 1/04 104 A 7251−5C ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location G03F 7/027 7/20 511 7818-2H H01S 3/18 9170-4M H04N 1/04 104 A 7251 -5C

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】記録光を射出する光ビーム光源、前記光ビ
ーム光源より射出された記録光を主走査方向に偏向する
光偏向器、および前記主走査方向と略直行する副走査方
向に感光材料を移動する移動手段を有し、前記感光材料
を副走査方向に移動し、前記主走査方向に偏向された記
録光によって2次元的に走査することにより、この感光
材料に画像を記録する画像記録装置であって、 前記光ビーム光源が、波長400〜440nmの記録光
を射出する光ビーム光源であることを特徴とする画像記
録装置。
1. A light beam light source for emitting recording light, an optical deflector for deflecting the recording light emitted from the light beam source in a main scanning direction, and a photosensitive material in a sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction. Image recording for recording an image on the photosensitive material by moving the photosensitive material in the sub-scanning direction and two-dimensionally scanning by the recording light deflected in the main scanning direction. An image recording apparatus, wherein the light beam light source is a light beam light source that emits recording light having a wavelength of 400 to 440 nm.
【請求項2】前記光ビーム光源が、光ビームを射出する
半導体レーザと、前記光ビームをSHG素子内部で共振
させて波長変換する波長変換器とより構成される請求項
1に記載の画像記録装置。
2. The image recording according to claim 1, wherein the light beam light source comprises a semiconductor laser that emits a light beam and a wavelength converter that resonates the light beam inside an SHG element to perform wavelength conversion. apparatus.
【請求項3】前記感光材料としてフォトポリマー感光材
料を適用する請求項1または2に記載の画像記録装置。
3. The image recording apparatus according to claim 1, wherein a photopolymer photosensitive material is applied as the photosensitive material.
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US6767685B2 (en) 1999-12-03 2004-07-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method, plate-making apparatus used in such plate-making method, and image recording material

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