JPH05164682A - Particle sensor head - Google Patents
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- JPH05164682A JPH05164682A JP3350511A JP35051191A JPH05164682A JP H05164682 A JPH05164682 A JP H05164682A JP 3350511 A JP3350511 A JP 3350511A JP 35051191 A JP35051191 A JP 35051191A JP H05164682 A JPH05164682 A JP H05164682A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、真空装置内で浮遊また
は降下するミクロン、サブミクロンオーダーのパーティ
クル（微粒子）を測定する光散乱方式のパーティクルモ
ニター用のセンサーヘッドに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sensor head for a light-scattering type particle monitor for measuring particles (fine particles) of the micron or sub-micron order suspended or lowered in a vacuum apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体の製造装置をはじめとして、ＬＣ
Ｄやディスク製造における薄膜形成装置、エッチング装
置、ＣＶＤ装置などの真空装置は、その内部がきわめて
清浄であることが要求され、ミクロン、サブミクロンオ
ーダーの「ごみ」などの異物であるパーティクルがウエ
ハーやディスクなどに付着すると歩留りが大きく低下す
る。ことに最近では、半導体産業において、半導体の集
積度が非常に高いＤＲＡＭが量産されており、パーティ
クルが生産歩留りに与える影響はきわめて大きい。この
ため、パーティクルを測定するパーティクルモニターが
実用化されており、その測定値に基づいてプロセス条件
を最適化し、更には突発的なパーティクルの発生を検知
して歩留りの向上を図っている。2. Description of the Related Art LC including semiconductor manufacturing equipment
Vacuum equipment such as thin film forming equipment, etching equipment, and CVD equipment in D and disk manufacturing requires that the inside be extremely clean, and particles that are foreign matter such as "dust" on the order of microns and sub-microns are generated on wafers and If it adheres to a disc, the yield will drop significantly. In particular, recently, in the semiconductor industry, DRAMs having a very high degree of integration of semiconductors have been mass-produced, and the influence of particles on the production yield is extremely large. For this reason, a particle monitor for measuring particles has been put into practical use, and process conditions are optimized based on the measured values, and further, the generation of sudden particles is detected to improve the yield.
【０００３】光散乱方式のパーティクルモニターに使用
される従来のセンサーヘッドの要部を図４および図５に
基づいて説明する。図５は図４のＡ−Ａ線における断面
図であるが、真空装置内に配置されるケーシング１の側
部に開口 11が設けられ、真空装置内で浮遊または降下
しているパーティクルＰが点線矢印で示すように開口11
からケーシング１内に侵入する。The main part of a conventional sensor head used for a light scattering type particle monitor will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 4, in which an opening 11 is provided in the side portion of the casing 1 arranged in the vacuum device, and particles P floating or descending in the vacuum device are indicated by dotted lines. Opening 11 as indicated by the arrow
Penetrates into the casing 1.
【０００４】一方、例えばレーザから放射する波長が７
８０nmのビーム光Ｌがケーシング１の軸線に沿って進行
するが、このビーム光Ｌの進む方向とパーティクルＰが
侵入する方向で形成される仮想面と対面するように一対
のフィルター４およびフォトセルからなる光検出器５が
配置されており、このフィルター４，４の間が検出領域
９である。そして、この検出領域９においてビーム光Ｌ
がパーティクルＰに衝突して散乱し、この散乱光がフィ
ルター４を透過して光検出器５で検出されるようになっ
ている。On the other hand, for example, the wavelength emitted from the laser is 7
A beam light L of 80 nm travels along the axis of the casing 1, and a pair of filters 4 and photocells are arranged so as to face an imaginary plane formed in the traveling direction of the light beam L and the direction in which the particles P enter. The photodetector 5 is arranged, and the area between the filters 4 and 4 is the detection region 9. Then, in the detection area 9, the light beam L
Collide with the particles P and are scattered, and the scattered light passes through the filter 4 and is detected by the photodetector 5.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、スパッター
やエッチャー、プラズマＣＶＤなどの成膜装置などにお
いては、そのプロセス中で各種のガスがプラズマ化し、
プラズマ光が発生する。従って、このプラズマ光もケー
シングの開口からパーティクルとともに侵入する。一
方、フォトセルからなる光検出器は、大きな立体角をも
つ構造であるので、ケーシング内に侵入したプラズマ光
は直接または反射や散乱し、光検出器の前に配置された
フィルターに入射する。このフィルターで大部分のプラ
ズマ光は遮断されるが、どうしてもビーム光の波長に近
い一部のプラズマ光が透過して光検出器に入射する。従
って、このプラズマ光が光ノイズとなり、センサーが誤
作動してパーティクルとしてカウントする。このため、
プラズマ光が発生または侵入する装置内での使用が困難
である問題点がある。また、ヒーターなどのように近赤
外から可視領域にスペクトルを有する各種光源からの外
乱光が存在する真空装置内においても同様の問題点が生
じる。By the way, in a film forming apparatus such as a sputter, an etcher, or plasma CVD, various gases are turned into plasma during the process,
Plasma light is generated. Therefore, this plasma light also enters from the opening of the casing together with the particles. On the other hand, since the photodetector consisting of a photocell has a structure having a large solid angle, the plasma light that has entered the casing is directly reflected, scattered, or incident on a filter arranged in front of the photodetector. Although most of the plasma light is blocked by this filter, some of the plasma light near the wavelength of the beam light is inevitably transmitted and enters the photodetector. Therefore, this plasma light becomes optical noise, and the sensor malfunctions and counts as particles. For this reason,
There is a problem that it is difficult to use in a device where plasma light is generated or penetrates. The same problem also occurs in a vacuum device in which ambient light from various light sources having a spectrum in the near infrared to visible region, such as a heater, exists.
【０００６】また、かかる成膜装置などにおいては、成
膜物質として飛散させている原子状もしくは分子状の物
質もケーシングの開口からパーティクルとともに侵入し
てフィルターや光検出器の表面に付着し、膜を形成する
のでセンサーの機能が低下する不具合もある。Further, in such a film forming apparatus, an atomic or molecular substance scattered as a film forming substance also invades together with particles from the opening of the casing and adheres to the surface of the filter or the photodetector to form a film. There is also a problem that the function of the sensor is deteriorated due to the formation of
【０００７】そこで本発明は、かかる事情に鑑みてなさ
れたものであり、スパッターやエッチャー、プラズマＣ
ＶＤなどの成膜装置のように、各種ガスのプラズマ光が
存在する真空装置内や、ヒーターなどのように近赤外か
ら可視領域にスペクトルを有する各種光源からの外乱光
が存在する真空装置内においても正確に作動する光散乱
方式のパーティクルモニター用のセンサーヘッドを提供
することを目的とするものである。Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and includes a sputter, an etcher, and a plasma C.
In a vacuum device in which plasma light of various gases exists, such as a film forming device such as VD, or in a vacuum device in which ambient light from various light sources having a spectrum in the near infrared to visible region exists, such as a heater. It is also an object of the present invention to provide a sensor head for a light scattering type particle monitor that operates accurately.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は、パーティクルが侵入する開口を側部に
有する筒状のケーシング内に、光源と、この光源からの
光をビーム状に形成する光学系と、このビーム光の進む
方向とパーティクルが侵入する方向で形成される仮想面
と対面するフィルターと、ビーム光が開口から侵入した
パーティクルに衝突して発生する散乱光がフィルターを
透過して検出される光検出器と、ビーム光を受け止める
ビームストッパーとが配置された光散乱方式のパーティ
クルセンサーヘッドにおいて、開口がケーシングの軸線
方向に長い長孔であり、この開口に、内面が光散乱もし
くは光吸収する煙突状のガイド部材を突設する。In order to achieve the above object, the present invention provides a light source and a beam from the light source in a cylindrical casing having an opening through which particles enter. The optical system that forms it, the filter that faces the virtual surface that is formed in the direction in which the light beam travels and the direction that the particle enters, and the scattered light that is generated when the light beam collides with the particle that enters through the aperture passes through the filter. In a light scattering type particle sensor head in which a photodetector that is detected by a beam detector and a beam stopper that receives the beam light are arranged, the opening is a long hole that is long in the axial direction of the casing, and the inside surface A chimney-shaped guide member that scatters or absorbs light is projected.
【０００９】[0009]
【作用】煙突状のガイド部材をケーシングの開口に突設
したので、大部分のプラズマ光がガイド部材の内面で反
射しながらケーシング内に侵入するが、ガイド部材の内
面は光散乱もしくは光吸収するので、反射する過程で吸
収や散乱され、すなわち、プラズマ光が直接フィルター
や光検出器に入らない構造のため、光検出器に入射する
光ノイズは大幅に減少する。また、成膜物質として飛散
させている原子状もしくは分子状の物質がケーシング内
に侵入しようとしても、侵入する過程でガイド部材の内
面に付着する確率が高くてケーシング内への侵入が抑制
される。従って、フィルターや光検出器の表面に付着し
にくくて、センサー機能の低下を防止することができ
る。Since the chimney-shaped guide member is projected from the opening of the casing, most of the plasma light enters the casing while being reflected by the inner surface of the guide member, but the inner surface of the guide member scatters or absorbs light. Therefore, since the plasma light is absorbed or scattered during the reflection process, that is, the plasma light does not directly enter the filter or the photodetector, the optical noise incident on the photodetector is greatly reduced. Further, even if an atomic or molecular substance scattered as a film-forming substance tries to enter the casing, the probability that the substance adheres to the inner surface of the guide member during the process of entry is high and the entry into the casing is suppressed. .. Therefore, it is difficult to adhere to the surface of the filter or the photodetector, and the deterioration of the sensor function can be prevented.
【００１０】次に、煙突状のガイド部材をケーシング内
にも伸ばし、ガイド部材の下端が光検出器近傍に位置す
るようにすると、前記の作用をより効果的に発揮するこ
とができる。Next, if the chimney-shaped guide member is extended into the casing so that the lower end of the guide member is located in the vicinity of the photodetector, the above effect can be more effectively exhibited.
【００１１】また、ガイド部材の短辺の内寸を小さくし
て幅を狭くすると、光ノイズのカットや光検出器表面に
おける膜生成防止に効果的であるが、パーティクルの検
出精度が低下し、この内寸を大きくするとこの逆にな
る。従って、ガイド部材の短辺の内寸を可変にしておく
と、適用する個々の真空装置に最適の寸法で使用でき、
光ノイズのカット効果および膜生成防止効果とパーティ
クル検出精度を両立することができる。Further, if the inner dimension of the short side of the guide member is reduced to narrow the width, it is effective in cutting optical noise and preventing film formation on the surface of the photodetector, but the accuracy of detecting particles is lowered, If you increase the inner size, the opposite is true. Therefore, if the inner dimension of the short side of the guide member is made variable, it can be used with the optimum dimensions for each vacuum device to be applied,
It is possible to achieve both the effect of cutting optical noise and the effect of preventing film formation, and the accuracy of particle detection.
【００１２】[0012]
【実施例】以下に図面に示す実施例に基づいて本発明を
具体的に説明する。図３に示すように、ケーシング１
は、筒状体であり、その側部にケーシング１の軸線方向
に長い長孔である開口 11 が形成されている。この開口
11 からパーティクルが侵入するが、開口 11 が長孔で
あるのは、後に説明するビーム光を有効に利用するため
である。ケーシング１内の一端側には、光源２として、
波長が７８０nmの光を放射する半導体レーザが配置され
ている。光源２の前方には、レンズ 31 および絞り 32
からなる光学系３が配置され、光源２からの光を光学系
３でビーム光Ｌにするが、ビーム光Ｌはケーシング１の
軸線に沿って進行する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the embodiments shown in the drawings. As shown in FIG. 3, the casing 1
Is a cylindrical body, and an opening 11 which is a long hole which is long in the axial direction of the casing 1 is formed on a side portion thereof. This opening
Particles enter from 11 but the opening 11 is a long hole in order to effectively use the beam light described later. On one end side in the casing 1, as the light source 2,
A semiconductor laser that emits light having a wavelength of 780 nm is arranged. In front of the light source 2, a lens 31 and an aperture 32
The optical system 3 consisting of is arranged and the light from the light source 2 is converted into the beam light L by the optical system 3. The beam light L travels along the axis of the casing 1.
【００１３】また、開口 11 に対応して一対のフィルタ
ー４とフォトセルである光検出器５が配置されている
が、前出のように、ビーム光Ｌの進む方向とパーティク
ルが侵入する方向で形成される仮想面と対面するように
フィルター４および光検出器５が配置されており、この
フィルター４，４の間が検出領域９である。そして、フ
ィルター４および光検出器５の下流側に検出領域９を通
過したビーム光Ｌを受け止めるビームストッパー６が配
置されている。Further, a pair of filters 4 and a photodetector 5 which is a photocell are arranged corresponding to the apertures 11, but as described above, depending on the direction in which the light beam L advances and the direction in which particles enter. The filter 4 and the photodetector 5 are arranged so as to face the virtual surface to be formed, and the detection region 9 is between the filters 4 and 4. A beam stopper 6 that receives the beam light L that has passed through the detection region 9 is arranged on the downstream side of the filter 4 and the photodetector 5.
【００１４】次に、図１に示すように、開口 11 には、
断面形状が開口 11 に対応する煙突状のガイド部材８が
突設されており、パーティクルおよびプラズマ光や成膜
物質として飛散させている原子状もしくは分子状の物質
はガイド部材８を通ってケーシング１内に侵入する。ガ
イド部材８を開口 11 に直接固定しても良いが、本実施
例では、図２に示すように、ガイド部材８が固定された
ハウジング７でケーシング１を覆い、その結果としてガ
イド部材８が開口 11 に突設されるようになっている。
つまり、ハウジング７は、ガイド部材８を突設するため
のアダプターの役目をしている。Next, as shown in FIG.
A chimney-shaped guide member 8 having a cross-sectional shape corresponding to the opening 11 is provided so as to project particles, plasma light, and atomic or molecular substances scattered as film-forming substances through the guide member 8 and the casing 1 Invade inside. Although the guide member 8 may be directly fixed to the opening 11, in the present embodiment, as shown in FIG. 2, the housing 1 to which the guide member 8 is fixed covers the casing 1, and as a result, the guide member 8 is opened. It is designed to project at 11.
That is, the housing 7 serves as an adapter for projecting the guide member 8.
【００１５】ここで、ガイド部材８の内面は、光散乱も
しくは光吸収する特性を有する。つまり、黒色アルマイ
ト処理をしたアルミ合金、黒色ＣｒめっきをしたＳＵ
Ｓ、カーボンなどのように、７８０nm近傍の波長の光を
吸収する材料でガイド部材８を成形したり、内面にＧＢ
Ｂ処理を行ったり、前記の特性を有する材料を内面にコ
ーティングして、プラズマ光がガイド部材８の内面を反
射して進行する際に、散乱や吸収されるようになってい
る。Here, the inner surface of the guide member 8 has a property of scattering or absorbing light. In other words, black anodized aluminum alloy, black Cr plated SU
The guide member 8 is formed of a material that absorbs light having a wavelength near 780 nm, such as S or carbon, or GB is formed on the inner surface.
When the B treatment is performed or a material having the above characteristics is coated on the inner surface, the plasma light is scattered or absorbed when the plasma light is reflected on the inner surface of the guide member 8 and travels.
【００１６】次に、図１に示すように、ガイド部材８を
ケーシング１内にも伸ばし、ガイド部材８の下端 8a が
光検出器５近傍に位置させるのがよく、これによってプ
ラズマ光の光散乱や光吸収をより効果的に行うことがで
きる。また、ガイド部材８の短辺の内寸Ｗが可変にする
のが好ましく、例えばビーム光Ｌの断面が約１mmφの場
合はＷ＝３mm程度に調節する。前出のように、これによ
って適用する個々の真空装置に最適の寸法で使用でき、
光ノイズのカット効果および膜生成防止効果とパーティ
クル検出精度を両立することができる。Next, as shown in FIG. 1, it is preferable to extend the guide member 8 into the casing 1 so that the lower end 8a of the guide member 8 is located in the vicinity of the photodetector 5 so that the plasma light is scattered. And light absorption can be performed more effectively. Further, it is preferable that the inner dimension W of the short side of the guide member 8 is variable. For example, when the cross section of the light beam L is about 1 mmφ, W is adjusted to about 3 mm. As mentioned above, this allows it to be used with optimal dimensions for the individual vacuum device to be applied,
It is possible to achieve both the effect of cutting optical noise and the effect of preventing film formation, and the accuracy of particle detection.
【００１７】しかして、かかる構成のパーティクルセン
サーヘッドをスパッターやエッチャー、プラズマＣＶＤ
などの成膜装置のように、各種ガスのプラズマ光が存在
する真空装置内に配置すると、パーティクルがガイド部
材８を通ってケーシング１内に侵入する。そして、通電
すると光源２より光が放射し、前出のように、フィルタ
ー４，４間の検出領域９でビーム光Ｌがパーティクルに
衝突して光散乱し、散乱光がフィルター４を透過して光
検出器５で検出される。Therefore, the particle sensor head having such a structure is used for sputtering, etcher, plasma CVD.
When the apparatus is arranged in a vacuum apparatus in which plasma light of various gases exists, such as the film forming apparatus described above, particles enter the casing 1 through the guide member 8. Then, when energized, light is emitted from the light source 2, and as described above, the beam light L collides with particles in the detection region 9 between the filters 4 and 4 and is scattered, and the scattered light passes through the filter 4. It is detected by the photodetector 5.
【００１８】このとき、プラズマ光や成膜物質として飛
散させている原子状もしくは分子状の物質もガイド部材
８の内面で反射しながらケーシング１内に侵入しようと
する。しかし、ガイド部材８の内面は、光散乱もしくは
光吸収する特性を有するので、大部分のプラズマ光や成
膜物質はガイド部材８の内面に吸収されたり付着してフ
ィルター４や光検出器５にはほとんど到達しない。従っ
て、光ノイズのカット効果および膜生成防止効果が大き
く、各種ガスのプラズマ光が存在する成膜用の真空装置
内においても正確にパーティクルを測定することができ
る。なお、以上の実施例においては、各種ガスのプラズ
マ光が存在する成膜用の真空装置について説明したが、
ヒーターなどのように近赤外から可視領域にスペクトル
を有する各種光源からの外乱光が存在する真空装置であ
っても事情は同じである。At this time, plasma light and atomic or molecular substances scattered as film-forming substances also try to enter the casing 1 while being reflected by the inner surface of the guide member 8. However, since the inner surface of the guide member 8 has a property of scattering or absorbing light, most of the plasma light and the film-forming substance are absorbed or adhered to the inner surface of the guide member 8 and are attached to the filter 4 and the photodetector 5. Hardly reaches. Therefore, the effect of cutting optical noise and the effect of preventing film formation are large, and the particles can be accurately measured even in the vacuum apparatus for film formation in which plasma light of various gases exists. In the above embodiments, the vacuum apparatus for film formation in which plasma light of various gases is present has been described.
The situation is the same even in a vacuum device in which ambient light from various light sources having a spectrum in the near infrared to visible region such as a heater exists.
【００１９】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のパーティ
クルセンサーヘッドは、パーティクルが侵入するケーシ
ングの開口に、内面が光散乱もしくは光吸収する煙突状
のガイド部材を突設したので、各種ガスのプラズマ光が
存在する成膜用の真空装置内においても正確に作動する
パーティクルセンサーヘッドとすることができる。As described above, in the particle sensor head of the present invention, the chimney-shaped guide member whose inner surface scatters or absorbs light is projected at the opening of the casing through which particles enter, so that various gas The particle sensor head can be accurately operated even in a vacuum apparatus for film formation in which plasma light exists.
【図１】本発明実施例の縦断面図である。FIG. 1 is a vertical sectional view of an embodiment of the present invention.
【図２】同じく斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the same.
【図３】同じく横断面図である。FIG. 3 is a transverse sectional view of the same.
【図４】従来例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a conventional example.
【図５】図４のＡ−Ａ線における断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
１ ケーシング １１ 開口 ２ 光源 ３ 光学系 ３１ レンズ ３２ 絞り ４ フィルター ５ 光検出器 ６ ビームストッパー ７ ハウジング ８ ガイド部材 ９ 検出領域 Ｌ ビーム光 1 Casing 11 Aperture 2 Light Source 3 Optical System 31 Lens 32 Aperture 4 Filter 5 Photodetector 6 Beam Stopper 7 Housing 8 Guide Member 9 Detection Area L Beam Light
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 芳充 静岡県御殿場市駒門１−90 ウシオ電機株 式会社内 (72)発明者 神谷 誠作 静岡県御殿場市駒門１−90 ウシオ電機株 式会社内 (72)発明者 佐藤 信太郎 静岡県御殿場市駒門１−90 ウシオ電機株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshimitsu Morita 1-90 Komamon, Gotemba, Shizuoka Prefecture Ushio Electric Co., Ltd. (72) Inventor Shintaro Sato 1-90 Komamon, Gotemba, Shizuoka Prefecture Ushio Electric Co., Ltd.
Claims (3)
する筒状のケーシング内に、 光源と、この光源からの光をビーム状に形成する光学系
と、このビーム光の進む方向とパーティクルが侵入する
方向で形成される仮想面と対面するフィルターと、ビー
ム光が該開口から侵入したパーティクルに衝突して発生
する散乱光がフィルターを透過して検出される光検出器
と、ビーム光を受け止めるビームストッパーとが配置さ
れたパーティクルセンサーヘッドであって、 前記開口はケーシングの軸線方向に長い長孔であり、こ
の開口に、内面が光散乱もしくは光吸収する煙突状のガ
イド部材が突設されたことを特徴とするパーティクルセ
ンサーヘッド。1. A light source, an optical system for forming light from the light source into a beam, a direction in which the light beam travels, and particles entering a cylindrical casing having an opening through which particles enter. The filter that faces the virtual surface formed in the direction, the photodetector that detects the scattered light generated when the light beam collides with the particles that have entered through the aperture, and the beam that receives the light beam A particle sensor head in which a stopper is arranged, wherein the opening is a long hole that is long in the axial direction of the casing, and a chimney-shaped guide member whose inner surface scatters or absorbs light is projected from the opening. Particle sensor head characterized by.
び、ガイド部材の下端が該光検出器近傍に位置すること
を特徴とする請求項１記載のパーティクルセンサーヘッ
ド。2. The particle sensor head according to claim 1, wherein the guide member extends into the casing, and a lower end of the guide member is located near the photodetector.
ることを特徴とする請求項１記載のパーティクルセンサ
ーヘッド。3. The particle sensor head according to claim 1, wherein an inner size of a short side of the guide member is variable.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP3350511A JPH05164682A (en) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | Particle sensor head |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP3350511A JPH05164682A (en) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | Particle sensor head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05164682A true JPH05164682A (en) | 1993-06-29 |
Family
ID=18410993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3350511A Pending JPH05164682A (en) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | Particle sensor head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05164682A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100871540B1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-05 | 웅진코웨이주식회사 | Rotary particle sensor assembly |
| WO2009020355A3 (en) * | 2007-08-08 | 2009-04-09 | Woongjin Coway Co Ltd | Rotary particle sensor assembly and an air cleaner having it |
| KR20180065712A (en) * | 2016-12-08 | 2018-06-18 | 엘지전자 주식회사 | Ceiling type air conditioner |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP3350511A patent/JPH05164682A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100871540B1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-05 | 웅진코웨이주식회사 | Rotary particle sensor assembly |
| WO2009020355A3 (en) * | 2007-08-08 | 2009-04-09 | Woongjin Coway Co Ltd | Rotary particle sensor assembly and an air cleaner having it |
| US8365578B2 (en) | 2007-08-08 | 2013-02-05 | Woongjin Coway Co., Ltd. | Rotary particle sensor assembly and an air cleaner having it |
| KR20180065712A (en) * | 2016-12-08 | 2018-06-18 | 엘지전자 주식회사 | Ceiling type air conditioner |
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