JPH05151630A - Overwritable magneto-optical recording disk having 2nd m layer - Google Patents

Overwritable magneto-optical recording disk having 2nd m layer

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Publication number
JPH05151630A
JPH05151630A JP3314233A JP31423391A JPH05151630A JP H05151630 A JPH05151630 A JP H05151630A JP 3314233 A JP3314233 A JP 3314233A JP 31423391 A JP31423391 A JP 31423391A JP H05151630 A JPH05151630 A JP H05151630A
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JP
Japan
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layer
magnetization
state
temperature
recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP3314233A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Hosokawa
哲夫 細川
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05151630A publication Critical patent/JPH05151630A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent the degradation in C/N when reproduction is repetitively executed by providing a 2nd M layer having the relatively smaller MsHc product than the MsHc product of the M layer on the M layer and reducing the film thickness of the 2nd M layer smaller from the inner periphery toward the outer periphery. CONSTITUTION:The magneto-optical recording disk which includes at least two layers; the memory layer (M layer) having perpendicular magnetic anisotropy and a writing layer (W layer) having the perpendicular magnetic anisotropy exchange bonded thereto and can be overwritten simply by modulating a beam is provided with the magnetic layer (2nd M layer) having the Ms.Hc product at room temp. than the Ms.Hc product of the M layer and having the perpendicular magnetic anisotropy on the M layer and is decreased in the film thickness of the 2nd M layer successively smaller toward the outer periphery. (Ms is saturation magnetization and Hc is coercive force). As a result, the degradation in C/N when the reproduction is repetitively executed is prevented and the drastic degradation in the recording sensitivity is simultaneously prevented on the outer peripheral side of the disk.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、記録磁界Hb の向き及
び強度を変調せずに、レーザービームを記録すべき2値
化情報に従いパルス変調しながら照射する(irradiate)
ことにより、オーバーライト(over write)が可能な光磁
気記録ディスク(媒体)に関するものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention irradiates a laser beam while modulating the direction and intensity of a recording magnetic field Hb while modulating the pulse according to the binary information to be recorded.
Thus, the present invention relates to a magneto-optical recording disk (medium) capable of overwriting.

【0002】オーバーライトとは、 前の情報を消去せ
ずに新たな情報を記録する行為を言う。この場合、再生
したとき、前の情報は再生されてはならない。
Overwriting refers to the act of recording new information without erasing the previous information. In this case, when reproduced, the previous information should not be reproduced.

【0003】[0003]

【従来の技術】最近、高密度、大容量、高いアクセス速
度、並びに高い記録及び再生速度を含めた種々の要求を
満足する光学的記録再生方法、それに使用される記録装
置、再生装置及び記録媒体を開発しようとする努力が成
されている。広範囲な光学的記録再生方法の中で、光磁
気記録再生方法は、情報を記録した後、消去することが
でき、再び新たな情報を記録することが繰り返し何度も
可能であるというユニークな利点のために、最も大きな
魅力に満ちている。
2. Description of the Related Art Recently, an optical recording / reproducing method satisfying various requirements including high density, large capacity, high access speed, and high recording / reproducing speed, and a recording apparatus, reproducing apparatus and recording medium used therefor. Efforts are being made to develop. Among the wide range of optical recording / reproducing methods, the magneto-optical recording / reproducing method has a unique advantage that information can be recorded and then erased, and new information can be recorded again and again. For being full of the greatest attraction.

【0004】この光磁気記録再生方法で使用される記録
媒体は、記録を残す層として1層又は多層からなる垂直
磁化膜(perpendicular magnetic layer or layers) を
有する。この磁化膜は、例えばアモルファスのGdFeやGd
Co、GdFeCo、TbFe、TbCo、TbFeCoなどからなる。垂直磁
化膜は、一般に同心円状又はらせん状のトラックを有し
ており、このトラックの上に情報が記録される。トラッ
クは明示的な場合と黙示的な場合の2通りある。 〔明示的なトラック〕光磁気記録媒体はディスク形状を
している。明示的なトラックを有するディスクは、ディ
スク平面に対し垂直方向から見た場合、情報を記録する
トラックが渦巻状又は同心円状に形成されている。そし
て、隣接する2つのトラック間にトラッキングのため及
び分離のための溝(グルーブ groove )が存在する。逆
に溝と溝の間をランド(land)と呼ぶ。実際には、ディス
クの裏表でランドと溝が逆になる。そこで、ビームが入
射するのと同じにディスクを見て、手前を溝、奥をラン
ドと呼ぶ。垂直磁化膜は、溝の上にもランドの上にも一
面に形成するので、溝の部分をトラックにしてもよい
し、ランドの部分をトラックにしてもよい。溝の幅とラ
ンドの幅との間に特に大小関係はない。
The recording medium used in this magneto-optical recording / reproducing method has a perpendicular magnetic layer (perpendicular magnetic layer or layers) consisting of one layer or multiple layers as a layer for recording. This magnetic film is made of, for example, amorphous GdFe or Gd
It consists of Co, GdFeCo, TbFe, TbCo, TbFeCo, and the like. The perpendicular magnetic film generally has concentric or spiral tracks, and information is recorded on the tracks. There are two types of tracks, explicit and implicit. [Explicit Track] The magneto-optical recording medium has a disk shape. In a disc having explicit tracks, information recording tracks are formed in a spiral or concentric shape when viewed in a direction perpendicular to the disc plane. There is a groove for tracking and separation between two adjacent tracks. Conversely, the space between the grooves is called a land. In reality, the land and groove are reversed on the front and back of the disc. Therefore, looking at the disk in the same way as the beam enters, the front side is called a groove and the back side is called a land. Since the perpendicularly magnetized film is formed on the groove and the land over the entire surface, the groove portion may be the track or the land portion may be the track. There is no particular relationship between the width of the groove and the width of the land.

【0005】このようなランドと溝を構成するために、
一般に、基板には、表面に渦巻状又は同心円状に形成さ
れたランドと、2つの隣合うランド間に挟まれた溝が存
在する。このような基板上に薄く垂直磁化膜が形成され
る。これにより垂直磁化膜はランドと溝を持つ。 〔マーク〕本明細書では、膜面に対し「上向き(upwar
d) 」又は「下向き(downward)」の何れか一方を、「A
向き」、他方を「逆A向き」と定義する。 記録すべき
情報は、予め2値化されており、この情報が「A向き」
の磁化を有するマーク(B1)と、「逆A向き」の磁化を
有するマーク(B0)の2つの信号で記録される。これら
のマークB1 ,B0 は、デジタル信号の1,0の何れか
一方と他方にそれぞれ相当する。しかし、一般には記録
されるトラックの磁化は、記録前に強力な外部磁場を印
加することによって「逆A向き」に揃えられる。この磁
化の向きを揃える行為は、古い意味で「初期化* (init
ialize* )」と呼ばれる。その上でトラックに「A向
き」の磁化を有するマーク(B1)を形成する。情報は、
このマーク(B1)の有無及び/又はマーク長によって表
現される。尚、マークは、過去にピット又はビットと呼
ばれたことがあるが、最近はマークと呼ぶ。 〔マーク形成の原理〕マークの形成に於いては、レーザ
ーの特徴即ち空間的時間的に素晴らしい凝集性(coheren
ce) が有利に使用され、レーザー光の波長によって決定
される回折限界とほとんど同じ位に小さいスポットにビ
ームが絞り込まれる。絞り込まれた光はトラック表面に
照射され、垂直磁化膜に直径が1μm以下のマークを形
成することにより情報が記録される。光学的記録におい
ては、理論的に約108 マーク/cm2 までの記録密度を達
成することができる。何故ならば、レーザビームはその
波長とほとんど同じ位に小さい直径を有するスポットに
まで凝縮(concentrate)することが出来るからである。
In order to form such a land and groove,
Generally, a substrate has a land formed in a spiral or concentric shape on the surface and a groove sandwiched between two adjacent lands. A thin perpendicular magnetization film is formed on such a substrate. As a result, the perpendicular magnetic film has lands and grooves. [Mark] In the present specification, “upwar (upwar
d) ”or“ downward ”,
Orientation "and the other is defined as" reverse A orientation ". The information to be recorded is binarized in advance, and this information is "A direction".
Are recorded with two signals: a mark (B 1 ) having a magnetization of No. 1 and a mark (B 0 ) having a magnetization of “inverse A direction”. These marks B 1 and B 0 correspond to either one or the other of the digital signals 1 and 0, respectively. However, generally, the magnetization of the recorded track is aligned in the "reverse A direction" by applying a strong external magnetic field before recording. In the old sense, the act of aligning the directions of magnetization is "initialization * (init
ialize * ) ”. Then, a mark (B 1 ) having "A direction" magnetization is formed on the track. The information is
It is expressed by the presence or absence of this mark (B 1 ) and / or the mark length. The mark has been called a pit or a bit in the past, but is recently called a mark. [Principle of mark formation] In the formation of marks, the characteristic of the laser, that is, the excellent coherence in space and time (coheren
ce) is preferably used to focus the beam into a spot that is almost as small as the diffraction limit determined by the wavelength of the laser light. The narrowed light is applied to the track surface, and information is recorded by forming marks with a diameter of 1 μm or less on the perpendicular magnetization film. In optical recording, recording densities up to about 10 8 marks / cm 2 can theoretically be achieved. This is because the laser beam can be concentrated into a spot with a diameter as small as about its wavelength.

【0006】図2に示すように、光磁気記録において
は、レーザービーム(L)を垂直磁化膜(MO)の上に
絞りこみ、それを加熱する。その間、初期化* された向
きとは反対の向きの記録磁界(Hb)を加熱された部分に
外部から印加する。そうすると局部的に加熱された部分
の保磁力Hc(coersivity) は減少し記録磁界(Hb)より
小さくなる。その結果、その部分の磁化は、記録磁界
(Hb)の向きに並ぶ。こうして逆に磁化されたマークが
形成される。
As shown in FIG. 2, in magneto-optical recording, a laser beam (L) is focused on a perpendicularly magnetized film (MO) and heated. Meanwhile, a recording magnetic field (Hb) in the opposite direction to the initialized * direction is externally applied to the heated portion. Then, the coercive force Hc (coersivity) of the locally heated portion decreases and becomes smaller than the recording magnetic field (Hb). As a result, the magnetization of that portion is aligned in the direction of the recording magnetic field (Hb). In this way, the oppositely magnetized mark is formed.

【0007】フェロ磁性材料とフェリ磁性材料では、磁
化及びHc の温度依存性が異なる。フェロ磁性材料はキ
ュリー点付近で減少するHc を有し、この現象に基づい
て記録が実行される。従って、Tc 書込み(キュリー点
書込み)と引用される。他方、フェリ磁性材料はキュリ
ー点より低い補償温度(compensationtemperature ) T
comp. を有しており、そこでは磁化(M)はゼロにな
る。逆にその温度付近でHc が非常に大きくなり、その
温度から外れるとHc が急激に低下する。この低下した
Hc は、比較的弱い記録磁界(Hb)によって打ち負かさ
れる。つまり、記録が可能になる。この記録プロセスは
comp. 書込み(補償点書込み)と呼ばれる。
Ferromagnetic materials and ferrimagnetic materials have different temperature dependences of magnetization and Hc. Ferromagnetic materials have Hc that decreases near the Curie point, and recording is performed based on this phenomenon. Therefore, it is referred to as Tc writing (Curie point writing). On the other hand, ferrimagnetic materials have a compensation temperature T below the Curie point.
comp. , where the magnetization (M) becomes zero. On the contrary, Hc becomes very large near that temperature, and when it deviates from that temperature, Hc drops sharply. This lowered Hc is defeated by the relatively weak recording magnetic field (Hb). That is, recording becomes possible. This recording process is called T comp. Writing (compensation point writing).

【0008】もっとも、キュリー点又はその近辺、及び
補償温度の近辺にこだわる必要はない。要するに、室温
より高い所定の温度に於いて、低下したHc を有する磁
性材料に対し、その低下したHc を打ち負かせる記録磁
界(Hb )を印加すれば、記録は可能である。但し、室
温より高い所定の温度に達していない領域(この領域の
Hc は元の高いHc を有する)にある垂直磁化膜(M
O)の磁化を反転するような高すぎるHb は、不可であ
る。 〔再生の原理〕図3は、光磁気効果に基づく情報再生の
原理を示す。光は、光路に垂直な平面上で全ての方向に
通常は発散している電磁場ベクトルを有する電磁波であ
る。光が直線偏光(Lp ) に変換され、そして垂直磁化
膜(MO)に照射されたとき、光はその表面で反射され
るか又は垂直磁化膜(MO)を透過する。このとき、偏
光面は磁化Mの向きに従って回転する。この回転する現
象は、磁気カー(Kerr)効果又は磁気ファラデー(Farada
y) 効果と呼ばれる。
However, it is not necessary to stick to the Curie point or its vicinity and the compensation temperature. In short, recording is possible by applying a recording magnetic field (Hb) for compensating the lowered Hc to the magnetic material having the lowered Hc at a predetermined temperature higher than room temperature. However, the perpendicular magnetization film (Mc in the region where Hc in this region has the original high Hc) that has not reached a predetermined temperature higher than room temperature (M
Too high Hb that reverses the magnetization of (O) is not possible. [Principle of Reproduction] FIG. 3 shows the principle of information reproduction based on the magneto-optical effect. Light is an electromagnetic wave that has an electromagnetic field vector that is normally divergent in all directions on a plane perpendicular to the optical path. When the light is converted to linearly polarized light (L p ) and is applied to the perpendicular magnetic film (MO), the light is reflected on its surface or transmitted through the perpendicular magnetic film (MO). At this time, the polarization plane rotates according to the direction of the magnetization M. This rotating phenomenon is caused by the magnetic Kerr effect or the magnetic Faraday.
y) Called the effect.

【0009】例えば、もし反射光の偏光面が「A向き」
磁化に対してθk 度回転するとすると、「逆A向き」磁
化に対しては−θk 度回転する。従って、光アナライザ
ー(偏光子)の軸を−θk 度傾けた面に垂直にセットし
ておくと、「逆A向き」に磁化されたマーク(B0)から
反射された光はアナライザーを透過することができな
い。それに対して「A向き」に磁化されたマーク(B1)
から反射された光は、(sin2θk)2 を乗じた分がアナラ
イザーを透過し、 ディテクター(光電変換手段)に捕
獲される。その結果、「A向き」に磁化されたマーク
(B1)は「逆A向き」に磁化されたマーク(B0)よりも
明るく見え、ディテクターに於いて強い電気信号を発生
させる。従って、このディテクターからの電気信号は、
記録された情報に従って変調されるので、情報が再生さ
れるのである。
For example, if the plane of polarization of the reflected light is "A direction"
Rotation of θ k degrees with respect to magnetization causes rotation of −θ k degrees with respect to "reverse A direction" magnetization. Therefore, when the axis of the optical analyzer (polarizer) is set perpendicular to the plane inclined by -θk, the light reflected from the mark (B 0 ) magnetized in the "reverse A direction" passes through the analyzer. I can't. On the other hand, the mark (B 1 ) magnetized in “A direction”
The light reflected from is multiplied by (sin2θk) 2 and passes through the analyzer, and is captured by a detector (photoelectric conversion means). As a result, the mark (B 1 ) magnetized in the "A direction" appears brighter than the mark (B 0 ) magnetized in the "reverse A direction", and generates a strong electric signal in the detector. Therefore, the electrical signal from this detector is
The information is reproduced because it is modulated according to the recorded information.

【0010】ところで、記録ずみの媒体を再使用するに
は、 (1) 媒体を再び初期化* 装置で初期化* するか、
又は (2) 記録装置に記録ヘッドと同様な消去ヘッドを
併設するか、又は(3) 予め、前段処理として記録装置
又は消去装置を用いて記録ずみ情報を消去する必要があ
る。従って、光磁気記録方式では、これまで、記録ずみ
情報の有無にかかわらず新たな情報をその場で記録でき
るオーバーライトは、不可能とされていた。
By the way, in order to reuse the recorded medium, (1) initialize the medium again * initialize it with the device * , or
Alternatively, (2) it is necessary to add an erasing head similar to the recording head to the recording device, or (3) it is necessary to erase the recorded information in advance by using the recording device or the erasing device as a pre-stage process. Therefore, in the magneto-optical recording method, it has hitherto been impossible to perform overwriting capable of recording new information on the spot regardless of the presence or absence of recorded information.

【0011】もっとも、もし記録磁界Hb の向きを必要
に応じて「A向き」と「逆A向き」との間で自由に変調
することができれば、オーバーライトが可能になる。し
かしながら、記録磁界Hb の向きを高速度で変調するこ
とは不可能である。例えば、記録磁界Hb が永久磁石で
ある場合、磁石の向きを機械的に反転させる必要があ
る。しかし、磁石の向きを高速で反転させることは、無
理である。記録磁界Hbが電磁石である場合にも、大容
量の電流の向きをそのように高速で変調することは不可
能である。
However, if the direction of the recording magnetic field Hb can be freely modulated between "A direction" and "reverse A direction" as required, overwriting becomes possible. However, it is impossible to modulate the direction of the recording magnetic field Hb at high speed. For example, when the recording magnetic field Hb is a permanent magnet, it is necessary to mechanically reverse the direction of the magnet. However, it is impossible to reverse the direction of the magnet at high speed. Even when the recording magnetic field Hb is an electromagnet, it is impossible to modulate the direction of a large-capacity current at such a high speed.

【0012】しかしながら、技術の進歩は著しく、記録
磁界Hb の強度を変調せずに(ON、OFF を含む) 又は記
録磁界Hb の向きを変調せずに、照射する光ビームの強
度を記録すべき2値化情報に従い変調するだけで、オー
バーライトが可能な光磁気記録方法と、それに使用され
るオーバーライト可能な光磁気記録媒体と、同じくそれ
に使用されるオーバーライト可能な記録装置が発明さ
れ、特許出願された(特開昭62−175948号=DE3,619,61
8A1 =米国特許出願中 Ser.No453,255) 。以下、この発
明を「基本発明」と引用する。 〔基本発明の説明〕基本発明では、「基本的に垂直磁化
可能な磁性薄膜からなる記録再生層recording layer
(本明細書では、この記録再生層をメモリー層 Memory
layer又はM層と言う)と、垂直磁化可能な磁性薄膜か
らなる記録補助層 referencelayer (本明細書では、こ
の記録補助層をライティング層 Writinglayer 又はW層
と言う)とを含み、両層は交換結合しており、かつ、室
温でM層の磁化の向きは変えないでW層の磁化のみを所
定の向きに向けておくことができるオーバーライト可能
な多層光磁気記録媒体」を使用する。
However, the technological progress is remarkable, and the intensity of the irradiation light beam should be recorded without modulating the intensity of the recording magnetic field Hb (including ON and OFF) or without modulating the direction of the recording magnetic field Hb. A magneto-optical recording method capable of overwriting, a magneto-optical recording medium capable of being overwritten, and an overwritable recording device also employed therein have been invented simply by modulating in accordance with binary information. A patent application has been filed (JP-A-62-175948 = DE3,619,61)
8A1 = US patent pending Ser. No. 453,255). Hereinafter, this invention is referred to as a "basic invention". [Explanation of Basic Invention] In the basic invention, "a recording / reproducing layer basically consisting of a magnetic thin film capable of perpendicular magnetization is used.
(In this specification, this recording / reproducing layer is referred to as a memory layer Memory
layer or M layer) and a recording auxiliary layer reference layer (in this specification, this recording auxiliary layer is referred to as a writing layer Writing layer or W layer) composed of a magnetic thin film capable of perpendicular magnetization, and both layers are exchange-coupled. In addition, an overwritable multi-layered magneto-optical recording medium is used which is capable of directing only the magnetization of the W layer in a predetermined direction without changing the magnetization direction of the M layer at room temperature.

【0013】そして、情報をM層(場合によりW層に
も)における「A向き」磁化を有するマークと「逆A向
き」磁化を有するマークで表現し、記録するのである。
この媒体は、W層が外部手段(例えば初期補助磁界Hin
i. )によって、その磁化の向きを「A向き」に揃える
ことができる。しかも、そのとき、M層は、磁化の向き
は反転せず、更に、一旦「A向き」に揃えられたW層の
磁化の向きは、M層からの交換結合力を受けても反転せ
ず、逆にM層の磁化の向きは、「A向き」に揃えられた
W層からの交換結合力を受けても反転しない。
Then, the information is represented and recorded by the mark having the "A direction" magnetization and the mark having the "reverse A direction" magnetization in the M layer (and also in the W layer in some cases).
In this medium, the W layer has an external means (for example, an initial auxiliary magnetic field Hin.
By i.), the direction of the magnetization can be aligned in the “A direction”. Moreover, at that time, the magnetization direction of the M layer is not reversed, and further, the magnetization direction of the W layer once aligned in the “A direction” is not reversed even when the exchange coupling force from the M layer is received. On the contrary, the magnetization direction of the M layer is not reversed even when receiving the exchange coupling force from the W layer aligned in the “A direction”.

【0014】そして、W層は、M層に比べて低い保磁力
C と高いキュリー点TC を持つ。基本発明の記録方法
によれば、記録媒体は、記録前までに、外部手段により
W層の磁化の向きだけが「A向き」に揃えられる。この
行為を本明細書では特別に“初期化(initialize)”と呼
ぶ。この“初期化”はオーバーライト可能な媒体に特有
なことである。
The W layer has a lower coercive force H C and a higher Curie point T C than the M layer. According to the recording method of the basic invention, only the magnetization direction of the W layer of the recording medium is aligned in the “A direction” by external means before recording. This act is specifically referred to herein as "initialize". This "initialization" is unique to overwritable media.

【0015】その上で、2値化情報に従いパルス変調さ
れたレーザービームが媒体に照射される。レーザービー
ムの強度は、高レベルPH と低レベルPL があり、これ
はパルスの高レベルと低レベルに相当する。この低レベ
ルは、再生時に媒体を照射する再生レベルPR よりも高
い。既に知られているように、記録をしない時にも、例
えば媒体における所定の記録場所をアクセスするために
レーザービームを<非常な低レベル>で点灯することが
ある。この<非常な低レベル>も、再生レベルPR と同
一又は近似のレベルである。従って、例えば、基本発明
におけるレーザービームの出力波形は、図4の通りにな
る。
Then, the medium is irradiated with the laser beam pulse-modulated according to the binarized information. The intensity of the laser beam has a high level P H and a low level P L , which correspond to the high level and low level of the pulse. This low level is higher than the reproduction level P R that illuminates the medium during reproduction. As is already known, even when recording is not performed, the laser beam may be turned on at <very low level>, for example, to access a predetermined recording location on the medium. This <very low level> is also the same as or close to the reproduction level P R. Therefore, for example, the output waveform of the laser beam in the basic invention is as shown in FIG.

【0016】なお、基本発明の明細書には明記されてい
ないが、基本発明では、記録用のビームは、1本ではな
く近接した2本のビームを用いて、先行ビームを原則と
して変調しない低レベルのレーザービーム(消去用)と
し、後行ビームを情報に従い変調する高レベルのレーザ
ービーム(書込用)としてもよい。 この場合、後行ビ
ームは、高レベルと基底レベル(低レベルと同一又はそ
れより低いレベルであり、出力がゼロでもよい)との間
でパルス変調される。この場合の出力波形は例えば図5
に示される。
Although not specified in the specification of the basic invention, in the basic invention, the recording beam is not a single beam but two beams which are close to each other, and is a low beam which does not modulate the preceding beam in principle. It is also possible to use a level laser beam (for erasing) and a high level laser beam (for writing) that modulates the trailing beam according to information. In this case, the trailing beam is pulse modulated between a high level and a base level (equal to or lower than the low level and may have zero output). The output waveform in this case is, for example, as shown in FIG.
Shown in.

【0017】ビームが照射された部分の媒体に、向きも
強度も変調されない記録磁界Hb が作用する。Hb は、
ビームの照射された部分(スポット領域)と同じ位の寸
法に絞ることはできず、Hb が作用する領域は、スポッ
ト領域に比べれば、ずっと大きい。低レベルのビームが
照射されると、前のマークの磁化の向きに無関係に、M
層に「A向き」のマーク(B1)又は「逆A向き」のマー
ク(B0)の一方が形成される。
A recording magnetic field Hb whose direction and intensity are not modulated acts on the medium irradiated with the beam. Hb is
It cannot be narrowed down to the same size as the irradiated portion of the beam (spot area), and the area on which Hb acts is much larger than the spot area. When illuminated by a low level beam, M is independent of the direction of magnetization of the previous mark.
One of the "A-oriented" mark (B 1 ) and the "reverse A-oriented" mark (B 0 ) is formed on the layer.

【0018】そして、高レベルのビームが照射される
と、前のマークの磁化の向きに無関係に、M層に他方の
マークが形成される。これでオーバーライトが完了す
る。基本発明では、レーザービームは、記録すべき情報
に従いパルス状に変調される。しかし、このこと自身
は、従来の光磁気記録でも行われており、記録すべき2
値化情報に従いビーム強度をパルス状に変調する手段は
既知の手段である。例えば、THE BELL SYSTEM TECHN
ICAL JOURNAL, Vol.62(1983),1923 −1936に詳しく説
明されている。従って、ビーム強度の必要な高レベルと
低レベルが与えられれば、従来の変調手段を一部修正す
るだけで容易に入手できる。当業者にとって、そのよう
な修正は、ビーム強度の高レベルと低レベルが与えられ
れば、容易であろう。
When a high level beam is irradiated, the other mark is formed on the M layer regardless of the magnetization direction of the previous mark. This completes the overwrite. In the basic invention, the laser beam is pulse-modulated according to the information to be recorded. However, this is also done in the conventional magneto-optical recording, and it should be recorded.
The means for pulse-modulating the beam intensity in accordance with the digitized information is a known means. For example, THE BELL SYSTEM TECHN
ICAL JOURNAL, Vol. 62 (1983), 1923 -1936. Therefore, given the required high and low levels of beam intensity, it is readily available with only minor modifications to conventional modulation means. For a person skilled in the art, such a modification would be easy given the high and low levels of beam intensity.

【0019】基本発明に於いて特徴的なことの1つは、
ビーム強度の高レベルと低レベルである。即ち、ビーム
強度が高レベルの時に、記録磁界Hb その他の外部手段
によりW層の「A向き」磁化を「逆A向き」に反転(re
verse)させ、このW層の「逆A向き」磁化によってM層
に「逆A向き」磁化〔又は「A向き」磁化〕を有するマ
ークを形成する。ビーム強度が低レベルの時は、W層の
磁化の向きは、“初期化”状態と変わらず、そして、W
層の作用(この作用は交換結合力を通じてM層に伝わ
る)によってM層に「A向き」磁化〔又は「逆A向き」
磁化〕を有するマークを形成する。
One of the features of the basic invention is
There are high and low levels of beam intensity. That is, when the beam intensity is at a high level, the "A direction" magnetization of the W layer is reversed to "reverse A direction" by the recording magnetic field Hb or other external means (re
verse), and the "reverse A direction" magnetization of the W layer forms a mark having the "reverse A direction" magnetization (or "A direction" magnetization) in the M layer. When the beam intensity is low, the magnetization direction of the W layer is the same as in the "initialized" state, and
By the action of the layer (this action is transmitted to the M layer through the exchange coupling force), the M layer is magnetized “A direction” [or “reverse A direction”].
Magnetization] is formed.

【0020】なお、本明細書で、○○○〔又は△△△〕
という表現は、先に〔 〕の外の○○○を読んだときに
は、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも、〔 〕の
外の○○○を読むことにする。それに対して先に○○○
を読まずに〔 〕内の△△△の方を選択して読んだとき
には、以下の○○○〔又は△△△〕のときにも○○○を
読まずに〔 〕内の△△△を読むものとする。
In the present specification, ○○○ [or △△△]
With the expression, when XX outside [] is read first, XX outside [] will be read also in the following XX [or ΔΔ △ ]. On the contrary, ○○○
If you select and read the △△△ one in [] without reading, read the following △ ○ △ [or △△△ ] without reading ○○○. Should be read.

【0021】基本発明で使用される媒体は、第1実施態
様と第2実施態様とに大別される。いずれの実施態様に
おいても、 記録媒体は、M層とW層を含む多層構造を
有する。M層は、室温で保磁力が高く磁化反転温度が低
い磁性層である。W層はM層に比べ相対的に室温で保磁
力が低く磁化反転温度が高い磁性層である。なお、M層
とW層ともに、それ自体多層膜から構成されていてもよ
い。 場合によりM層とW層との間に第3の層(例え
ば、交換結合力σW 調整層・・・・以下、この層をC層
と略す)が存在していてもよい。C層については、特開
昭64−50257 号や特開平1−273248号を参照されたい。
更にM層とW層との間に明確な境界がなく、一方から
徐々に他方に変わってもよい。
The medium used in the basic invention is roughly classified into a first embodiment and a second embodiment. In any of the embodiments, the recording medium has a multilayer structure including an M layer and a W layer. The M layer is a magnetic layer having a high coercive force and a low magnetization reversal temperature at room temperature. The W layer is a magnetic layer having a lower coercive force and a higher magnetization reversal temperature at room temperature than the M layer. Both the M layer and the W layer may themselves be composed of a multilayer film. In some cases, a third layer (for example, an exchange coupling force σ W adjusting layer ... Hereinafter, this layer is abbreviated as C layer) may be present between the M layer and the W layer. For the C layer, refer to JP-A-64-50257 and JP-A-1-273248.
Furthermore, there is no clear boundary between the M layer and the W layer, and it is possible to gradually change from one to the other.

【0022】第1実施態様では、M層の保磁力をHC1
W層のそれをHC2、M層のキュリー点をTC1、W層のそ
れをTC2、室温をTR 、低レベルPL のレーザービーム
を照射した時の記録媒体の温度をTL 、高レベルPH
レーザービームを照射した時のそれをTH 、M層が受け
る結合磁界をHD1(HD1はσW をM層飽和磁気モーメン
トMS とM層の膜厚tとの積で割った商で算出され
る)、W層が受ける結合磁界をHD2(HD2はσW をW層
飽和磁気モーメントMS とW層の膜厚tとの積で割った
商で算出される)とした場合、記録媒体は、下記の式1
を満足し、そして室温で式2〜5を満足するものであ
る。
In the first embodiment, the coercive force of the M layer is H C1 ,
The W layer has H C2 , the M layer has a Curie point T C1 , the W layer has T C2 , the room temperature is T R , and the temperature of the recording medium when irradiated with a low-level P L laser beam is T L , When a high-level P H laser beam is irradiated, it is T H , and the coupling magnetic field received by the M layer is H D1 (H D1 is σ W multiplied by the saturation magnetic moment M S of the M layer and the film thickness t of the M layer. Is calculated by dividing the coupling magnetic field received by the W layer by H D2 (where H D2 is σ W divided by the product of the W layer saturation magnetic moment M S and the W layer thickness t). The recording medium is defined by the following formula 1
And satisfying formulas 2 to 5 at room temperature.

【0023】 TR <TC1≒TL <TC2≒TH……………式1 HC1>HC2+|HD1−(±HD2)|………式2 HC1>HD1 …………………………………式3 HC2>HD2 …………………………………式4 HC2+HD2<|Hini. |<HC1±HD1──式5 上記式中、符号「≒」は、等しいか又はほぼ等しい(±
20℃位) ことを表す。また上記式中、複号±について
は、上段が後述するA(antiparallel) タイプの媒体の
場合であり、下段は後述するP(parallel)タイプの媒体
の場合である。なお、フェロ磁性体媒体はPタイプに属
する。
T R <T C1 ≈T L <T C2 ≈T H ………… Equation 1 H C1 > H C2 + | HD 1 − (± HD 2 ) | …… Equation 2 H C1 > HD 1 ……………………………………… Formula 3 H C2 > H D2 ………………………………… Formula 4 H C2 + H D2 <| Hini. | <H C1 ± H D1 ──Equation 5 In the above equation, the symbols “≈” are equal or almost equal (±
20 ° C). Further, in the above formula, the double sign ± indicates the case of the A (antiparallel) type medium described later in the upper stage, and the case of the P (parallel) type medium described later in the lower stage. The ferromagnetic medium belongs to the P type.

【0024】つまり、保磁力と温度との関係をグラフで
表すと、一般には図6の如くなる。細線はM層のそれ
を、太線はW層のそれを表す。従って、この記録媒体に
室温で外部手段例えば初期補助磁界(Hini.) を印加する
と、 式5によれば、M層の磁化の向きは反転せずにW
層の磁化のみが反転する。そこで、記録前に媒体に外部
手段から作用(例えば、初期補助磁界Hini.)を及ぼす
と、W層の磁化のみを「A向き」に揃えることができ
る。つまり、“初期化”である。以下の説明では、「A
向き」を便宜的に本明細書紙面において上向きの矢↑で
示し、「逆A向き」を下向きの矢↓で示す。そして、Hi
ni.がなくなっても、式4により、W層の磁化↑は再反
転せずにそのまま保持される。
That is, the relationship between the coercive force and the temperature is generally represented by a graph as shown in FIG. The thin line represents that of the M layer, and the thick line represents that of the W layer. Therefore, when an external means such as an initial auxiliary magnetic field (Hini.) Is applied to this recording medium at room temperature, according to Equation 5, the magnetization direction of the M layer is not reversed and W
Only the magnetization of the layer is reversed. Therefore, when an action (for example, an initial auxiliary magnetic field Hini.) Is applied to the medium before recording, only the magnetization of the W layer can be aligned in the “A direction”. That is, "initialization". In the following explanation, "A
For convenience, the “direction” is indicated by an upward arrow ↑ on the surface of the present specification, and the “reverse A direction” is indicated by a downward arrow ↓. And Hi
Even if ni. disappears, the magnetization ↑ of the W layer is maintained as it is without being re-inverted by the equation 4.

【0025】外部手段によりW層の磁化のみが、記録前
までに「A向き」↑に揃えられた状態−−−−“初期
化”された状態−−−−を概念的に表すと、図7にな
る。図7でM層における磁化の向きは、それまでに記録
されていた情報を表わす。以下の説明においては、M層
の磁化の向きに関係がないので、これをXで示し簡略化
すると、図7は、図8の状態1で示せる。
When only the magnetization of the W layer is aligned to "A direction" ↑ by the external means before recording, a "initialized" state --- is shown conceptually. Become 7. The direction of magnetization in the M layer in FIG. 7 represents the information recorded up to that point. In the following description, since it has nothing to do with the direction of magnetization of the M layer, when this is shown by X and simplified, FIG. 7 can be shown as state 1 in FIG.

【0026】ここにおいて、高レベルのレーザービーム
を照射して媒体温度をTH に上昇させる。すると、TH
はキュリー点TC1より高温度なのでM層の磁化は消失し
てしまう。 更にTH はキュリー点TC2付近なのでW層
の磁化も全く又はほぼ消失する。ここで、媒体の種類に
応じて「A向き」又は「逆A向き」の記録磁界Hb を印
加する。Hb は、媒体自身からの浮遊磁界でもよい。説
明を簡単にするために「逆A向き」↓の記録磁界Hb を
印加したとする。媒体は移動しているので、照射された
部分は、レーザービームから直ぐに遠ざかり、冷却され
る。Hb の存在下で、媒体の温度が低下すると、W層の
磁化は、Hb に従い、反転されて「逆A向き」↓の磁化
となる(図8状態2)。
Here, the medium temperature is raised to T H by irradiating a high level laser beam. Then, T H
Is higher than the Curie point T C1 , the magnetization of the M layer disappears. Furthermore, since T H is near the Curie point T C2 , the magnetization of the W layer disappears completely or almost. Here, the recording magnetic field Hb of "A direction" or "reverse A direction" is applied according to the type of medium. Hb may be a stray magnetic field from the medium itself. In order to simplify the explanation, it is assumed that the recording magnetic field Hb in the "reverse A direction" ↓ is applied. Since the medium is moving, the irradiated portion is immediately moved away from the laser beam and cooled. When the temperature of the medium is lowered in the presence of Hb, the magnetization of the W layer is reversed according to Hb and becomes "inverse A direction" ↓ magnetization (state 2 in FIG. 8).

【0027】そして、さらに放冷が進み、媒体温度がT
C1より少し下がると、再びM層の磁化が現れる。その場
合、磁気的結合(交換結合)力のために、M層の磁化の
向きは、W層の影響を受け所定の向きとなる。その結
果、媒体の種類に応じて「逆A向き」↓のマーク(Pタ
イプの媒体の場合)又は「A向き」↑のマーク(Aタイ
プの媒体の場合)がM層に形成される。この状態が図8
状態3(Pタイプ)又は状態4(Aタイプ)である。
Then, the cooling is further advanced, and the medium temperature becomes T
When it is slightly lower than C1, the magnetization of the M layer appears again. In that case, due to the magnetic coupling (exchange coupling) force, the magnetization direction of the M layer is influenced by the W layer and becomes a predetermined direction. As a result, a "reverse A direction" ↓ mark (P type medium) or an "A direction" ↑ mark (A type medium) is formed in the M layer depending on the type of medium. This state is shown in Figure 8.
State 3 (P type) or state 4 (A type).

【0028】この高レベルのレーザービームによる状態
の変化をここでは高温サイクルと呼ぶことにする。次
に、低レベルPL のレーザービームを照射して 媒体温
度をTL に上昇させる。TL はキュリー点TC1付近なの
でM層の磁化は全く又はほぼ消失してしまうが、キュリ
ー点TC2よりは低温であるのでW層の磁化は消失しな
い。この状態は図8状態5で示される。ここでは、記録
磁界Hb は、不要であるが、高速度(短時間)でHb を
ON,OFFすることは不可能である。従って、止むを
得ず高温サイクルのときのままになっている。
The change of state due to this high level laser beam will be referred to as a high temperature cycle here. Next, the medium temperature is raised to T L by irradiating the laser beam of low level P L. Since T L is near the Curie point T C1, the magnetization of the M layer disappears at all or almost disappears. However, since the temperature is lower than the Curie point T C2 , the magnetization of the W layer does not disappear. This state is shown as state 5 in FIG. Here, the recording magnetic field Hb is unnecessary, but it is impossible to turn the Hb on and off at a high speed (short time). Therefore, it is unavoidable and remains as it was during the high temperature cycle.

【0029】しかし、HC2はまだ大きいままなので、H
b によってW層の磁化↑が反転することはない。媒体は
移動しているので、照射された部分は、レーザービーム
から直ぐに遠ざかり、冷却される。冷却が進むと、再び
M層に磁化が現れる。現れる磁化の向きは、磁気的結合
力のためにW層の影響を受け所定の向きとなる。その結
果、媒体の種類に応じて「A向き」↑のマーク(Pタイ
プの媒体の場合)又は「逆A向き」↓のマーク(Aタイ
プの媒体の場合)がM層に形成される。この磁化は室温
でも変わらない。この状態が図8状態6(Pタイプ)又
は状態7(Aタイプ)である。
However, since H C2 is still large, H C2
The magnetization ↑ of the W layer is not reversed by b. Since the medium is moving, the irradiated portion is immediately moved away from the laser beam and cooled. As cooling progresses, magnetization again appears in the M layer. The direction of the appearing magnetization has a predetermined direction due to the influence of the W layer due to the magnetic coupling force. As a result, depending on the type of medium, a mark “A direction” ↑ (for P type medium) or a mark “reverse A direction” ↓ (for A type medium) is formed in the M layer. This magnetization does not change even at room temperature. This state is the state 6 (P type) or the state 7 (A type) in FIG.

【0030】この低レベルのレーザービームによる状態
の変化をここでは低温サイクルと呼ぶことにする。以
上、説明したように、記録前のM層の磁化の向きがどう
であれ、高温サイクルと低温サイクルを選択することに
よって、「逆A向き」↓のマークと、「A向き」↑のマ
ークをM層に自由に形成できる。つまり、レーザービー
ムを情報に従い高レベル(高温サイクル)と低レベル
(低温サイクル)との間でパルス状に変調することによ
りオーバーライトが可能となる。図9、図10を参照さ
れたい。図9、図10では、それぞれPタイプ及びAタ
イプの媒体について、いずれも室温又は室温に戻ったと
き形成されている磁化の向きを描いてある。
The change of state caused by the low-level laser beam will be referred to as a low temperature cycle here. As described above, regardless of the magnetization direction of the M layer before recording, by selecting the high temperature cycle and the low temperature cycle, the mark of “reverse A direction” ↓ and the mark of “A direction” ↑ can be obtained. It can be freely formed on the M layer. That is, overwriting is possible by modulating the laser beam in a pulse shape between a high level (high temperature cycle) and a low level (low temperature cycle) according to information. Please refer to FIG. 9 and FIG. In FIG. 9 and FIG. 10, the directions of magnetization formed at room temperature or when returning to room temperature are drawn for the P-type and A-type media, respectively.

【0031】これまでの説明は、M層、W層ともに室温
とキュリー点との間に補償温度Tcomp. がない磁性体組
成について説明した。しかし、補償温度Tcomp. が存在
する場合には、それを越えると磁化の向きが反転する
こと−−−−実際にはRE、TMの各副格子磁化の向き
は変わらないが、その大小関係が逆転するので、全体
(合金)としての磁化の向きが反転する−−−−−と、
A、Pタイプが逆になるので、説明はそれだけ複雑に
なる。この場合、記録磁界Hb の向きも、室温で考えた
場合、前頁の説明の向き↓と逆になる。つまり、“初期
化”されたW層の磁化の向き↑と同じ向きのHb を印加
する。
In the above description, the magnetic material composition in which there is no compensation temperature T comp. Between the room temperature and the Curie point for both the M layer and the W layer has been described. However, if the compensating temperature T comp. Exists, the direction of the magnetization is reversed when the compensating temperature T comp. Is exceeded. In reality, the directions of the sublattice magnetizations of RE and TM do not change, but the magnitude relation is large. Is reversed, the direction of the magnetization as a whole (alloy) is reversed -----
The explanation becomes more complicated because the A and P types are reversed. In this case, the direction of the recording magnetic field Hb is also opposite to the direction ↓ in the description on the previous page when considering at room temperature. That is, Hb having the same direction as the magnetization direction ↑ of the “initialized” W layer is applied.

【0032】記録媒体は一般にディスク状であり、記録
時、媒体は回転される。そのため、記録された部分(マ
ーク)は、記録後に 再び外部手段例えばHini. の作用
を受け、その結果、W層の磁化は元の「A向き」↑に揃
えられる。つまり、W層は“初期化”される。しかし、
室温では、W層の磁化の影響がM層に及ぶことはなく、
そのため記録された情報は保持される。
The recording medium is generally disc-shaped, and the medium is rotated during recording. Therefore, the recorded portion (mark) is again subjected to the action of external means such as Hini. After recording, and as a result, the magnetization of the W layer is aligned in the original “A direction” ↑. That is, the W layer is “initialized”. But,
At room temperature, the influence of the magnetization of the W layer does not affect the M layer,
Therefore, the recorded information is retained.

【0033】そこで、M層に直線偏光を照射すれば、そ
の反射光には情報が含まれているので、従来の光磁気記
録媒体と同様に情報が再生される。このようなM層及び
W層を構成する垂直磁化膜は、補償温度を有せずキュ
リー点を有するフェロ磁性体の非晶質或いは結晶質、
補償温度を有せずキュリー点を有する及びフェリ磁性体
の非晶質或いは結晶質、並びに補償温度、キュリー点
の双方を有するフェリ磁性体の非晶質或いは結晶質から
なる群から選択される。以上の説明は、磁化反転温度と
してキュリー点を利用した第1実施態様の説明である。
それに対して第2実施態様はキュリー点より低い温度に
於いて低下したHc を利用するものである。第2実施態
様は、第1実施態様に於けるTC1の代わりにM層がW層
に磁気結合される温度TS1を使用し、TC2の代わりにW
層がHbで反転する温度TS2を使用すれば、第1実施態
様と同様に説明される。
Therefore, if the M layer is irradiated with linearly polarized light, the reflected light contains information, so that the information is reproduced as in the conventional magneto-optical recording medium. The perpendicularly magnetized films forming the M layer and the W layer are amorphous or crystalline of a ferromagnetic material having no Curie point and having a Curie point.
It is selected from the group consisting of amorphous or crystalline ferrimagnetic material having no Curie point without compensation temperature, and amorphous or crystalline ferrimagnetic material having both compensation temperature and Curie point. The above description is for the first embodiment using the Curie point as the magnetization reversal temperature.
On the other hand, the second embodiment utilizes Hc lowered at a temperature lower than the Curie point. The second embodiment uses the temperature T S1 in which the M layer is magnetically coupled to the W layer in place of T C1 in the first embodiment, and W in place of T C2.
Using a temperature T S2 at which the layer inverts at Hb, it is described as in the first embodiment.

【0034】第2実施態様では、M層の保磁力をHC1
W層のそれをHC2、M層がW層に磁気的に結合される温
度をTs1とし、W層の磁化がHb で反転する温度を
S2、室温をTR 、低レベルPL のレーザービームを照
射した時の媒体の温度をTL 、高レベルPH のレーザー
ビームを照射した時のそれをTH 、M層が受ける結合磁
界をHD1(HD1はσW をM層の飽和磁気モーメントMS
とM層の膜厚tとの積で割った商で算出される)、W層
が受ける結合磁界をHD2(HD2はσW をW層飽和磁気モ
ーメントMS とW層の膜厚tとの積で割った商で算出さ
れる)とした場合、記録媒体は、下記式6を満足し、か
つ室温で式7〜10を満足するものである。
In the second embodiment, the coercive force of the M layer is H C1 ,
Let W C2 be that of the W layer, T s1 be the temperature at which the M layer is magnetically coupled to the W layer, T S2 be the temperature at which the magnetization of the W layer is reversed at Hb, T R be the room temperature, and L be the low level P L. the temperature of the medium when irradiated with a laser beam T L, it T H when irradiated with a laser beam of high level P H, the coupling magnetic field M layer receives H D1 (H D1 is the sigma W of the M layer Saturation magnetic moment M S
Calculated by the quotient divided by the product of M and the film thickness t of the M layer), and the coupling magnetic field received by the W layer is H D2 (where H D2 is σ W is the W layer saturation magnetic moment M S and the W layer thickness t). (Calculated by the quotient divided by the product of and), the recording medium satisfies the following expression 6 and satisfies the expressions 7 to 10 at room temperature.

【0035】 TR <Ts1≒TL <Ts2≒TH ……………式6 HC1>HC2+|HD1−(±HD2)|………式7 HC1>HD1 …………………………………式8 HC2>HD2─…………………………………式9 HC2+HD2<|Hini. |<HC1±HD1──式10 上記式中、複号±については、上段がA(antiparalle
l) タイプの媒体の場合であり、下段はP(parallel)タ
イプの媒体の場合である。
T R <T s1 ≈T L <T s2 ≈T H ………… Equation 6 H C1 > H C2 + | HD 1 − (± HD 2 ) | …… Equation 7 H C1 > HD 1 ……………………………………… Formula 8 H C2 > H D2 ─ …………………………………… Formula 9 H C2 + H D2 <| Hini. | <H C1 ± H D1 ── Formula 10 In the above formula, the double sign ± is A (antiparalle
In the case of the l) type medium, the lower row shows the case of the P (parallel) type medium.

【0036】第2実施態様では、高温TH のとき、W層
の磁化は消失していないが、十分に弱く、M層の磁化は
消失しているか、又は十分に弱い。M層、W層ともに十
分に弱い磁化を残留していても、記録磁界Hb ↓が十分
に大きいので、Hb ↓がW層及び場合によりM層の磁化
の向きをHb ↓に従わせることができる。この状態が図
11状態2である。この後、直ちに又はレーザービ
ームの照射が無くなって放冷が進み、媒体温度がTH
り下がった時又はHb から遠ざかった時、W層がσW
を介してM層に影響を及ぼしてM層の磁化の向きを安定
な向きに従わせる。その結果、図11状態3(Pタイ
プ)又は状態4(Aタイプ)となる。
In the second embodiment, at high temperature T H , the magnetization of the W layer has not disappeared, but is sufficiently weak, and the magnetization of the M layer has disappeared or is sufficiently weak. The recording magnetic field Hb ↓ is sufficiently large even if a sufficiently weak magnetization remains in both the M layer and the W layer, so that the Hb ↓ can cause the magnetization direction of the W layer and, in some cases, the M layer to follow the Hb ↓. . This state is state 2 in FIG. Immediately thereafter, or when the laser beam is no longer emitted and cooling is allowed to proceed and the medium temperature falls below T H or moves away from H b, the W layer is σ W.
To influence the M layer through the magnetic field to make the magnetization direction of the M layer follow a stable direction. As a result, the state becomes the state 3 (P type) or the state 4 (A type) in FIG.

【0037】他方、低温TL のとき、W層はもちろんM
層も磁化を消失していない。 しかし、M層のそれは比
較的小さい。この場合、マークの状態には、Pタイプの
場合図11状態5と状態6の2種類あり、Aタイプの場
合、図11状態7と状態8の2種類ある。状態6及び状
態8では、M層とW層との間に界面磁壁(太線━で示
す)が生じており、やや不安定(準安定)な状態であ
る。状態1は状態5〜8のいずれかを示す。この状態の
媒体部分が、レーザービームの照射位置に来る直前に、
Hb ↓の印加を受ける。それでも、この状態6又は状態
8は保持される。何故ならば、W層は、室温で、十分な
磁化を有するので、磁化がHb ↓によって反転すること
はない。また、Hb ↓と向きが反対の状態8のメモリー
層は、Hb ↓の影響より大きなW層からの交換結合力σ
W の影響を受け、Pタイプ故にW層と同じ向きに、磁化
の向きが保持される。
On the other hand, at low temperature T L , the W layer is, of course, M
The layers have not lost their magnetization. However, that of the M layer is relatively small. In this case, there are two types of mark states, that is, state 5 and state 6 in FIG. 11 for the P type, and state 7 and state 8 in FIG. 11 for the A type. In the states 6 and 8, the interface domain wall (indicated by a thick line ━) is formed between the M layer and the W layer, and the state is slightly unstable (metastable). State 1 indicates any of states 5 to 8. Just before the medium part in this state reaches the irradiation position of the laser beam,
Hb ↓ is applied. Nevertheless, this state 6 or state 8 is retained. Because the W layer has sufficient magnetization at room temperature, the magnetization is not reversed by Hb ↓. In addition, the memory layer in the state 8 whose direction is opposite to Hb ↓ has a larger exchange coupling force σ from the W layer than the influence of Hb ↓.
Under the influence of W, the magnetization direction is maintained in the same direction as the W layer due to the P type.

【0038】その後、まもなく状態6又は状態8は低レ
ベルのレーザービームの照射を受ける。そのため、媒体
温度は上昇する。それに伴い両層の保磁力は低下する。
しかし、W層は高いキュリー点を有するので、保磁力H
C2の低下は小さく、Hb ↓に負けることがなく、“初期
化”されたときの磁化の向き「A向き」↑が維持され
る。他方、M層は低いキュリー点を有するものの、媒体
温度は未だM層のキュリー点Tc1より低いので、保磁力
C1は残存する。しかし、HC1は小さいので、W層は
Hb ↓の影響とW層からの交換結合力σw を介した影
響(Pタイプの場合、同じ向きに向かせようとする力)
を受ける。この場合、後者の方が強く、 式10の2 :HC1+Hb <(σw /2MS11 ) 式10の3 :HC2+Hb >(σw /2MS22 ) の2つの式が同時に満足される。これらの式が同時に満
足される最も低い温度をTLminS と呼ぶ。換言すれば、
状態6又は状態8の磁壁が消滅する最低温度がTLminS
である。
Shortly thereafter, the state 6 or the state 8 is irradiated with a low level laser beam. Therefore, the medium temperature rises. Along with that, the coercive force of both layers decreases.
However, since the W layer has a high Curie point, the coercive force H
The decrease in C2 is small, it does not lose to Hb ↓, and the magnetization direction "A direction" ↑ when "initialized" is maintained. On the other hand, although the M layer has a low Curie point, since the medium temperature is still lower than the Curie point T c1 of the M layer, the coercive force H C1 remains. However, since H C1 is small, the effect of Hb ↓ on the W layer and the effect via the exchange coupling force σ w from the W layer (in the case of the P type, the force to turn the same direction)
Receive. In this case, the latter is stronger, and two equations of 2: H C1 + Hb <(σ w / 2M S1 t 1 ) 3 of Equation 10: H C2 + Hb> (σ w / 2M S2 t 2 ) are obtained. At the same time satisfied. The lowest temperature at which these equations are satisfied simultaneously is called T LminS . In other words,
The minimum temperature at which the domain wall in state 6 or state 8 disappears is T LminS
Is.

【0039】その結果、状態6は状態9に移行し、状態
8は状態10に移行する。他方、磁壁が元々ない状態5は
状態9と同じであり、同じく磁壁が元々ない状態7は状
態10と同じであるから、結局、前の状態(Pタイプの場
合、状態5か6か、Aタイプの場合、状態7か8か)に
関係なく、低レベルのビームの照射により状態9(Pタ
イプ)又は状態10(Aタイプ)のマークが形成される。
As a result, the state 6 shifts to the state 9 and the state 8 shifts to the state 10. On the other hand, the state 5 without the domain wall is the same as the state 9, and the state 7 without the domain wall is also the same as the state 10. Therefore, the previous state (in the case of the P type, the state 5 or 6 or A In the case of the type, regardless of the state 7 or 8, the irradiation of the low level beam forms the mark of the state 9 (P type) or the state 10 (A type).

【0040】この状態は、その後マークがレーザービー
ムの照射が止んだり又は照射位置から外れたりすること
により、媒体温度が低下し、室温に戻った時にも、変わ
らない。この図11状態9(Pタイプ)又は状態11
(Aタイプ)は、図8状態6(Pタイプ)又は状態7
(Aタイプ)と同一である。これにより、M層のキュリ
ー点TC1まで媒体温度を高めることなく、低温サイクル
が実現されることが理解されよう。
This state does not change even when the medium temperature is lowered by returning the irradiation of the laser beam to the mark or deviating from the irradiation position, and then returning to room temperature. This FIG. 11 state 9 (P type) or state 11
(A type) is state 6 (P type) or state 7 in FIG.
It is the same as (A type). It will be appreciated that this allows a low temperature cycle to be achieved without raising the medium temperature to the Curie point T C1 of the M layer.

【0041】実は低温サイクルをTC1以上で実施する第
1実施態様の場合にも、媒体温度が室温からTC1に上昇
する途中でTLminを通るので、そのとき、Pタイプの場
合、状態6から状態9への移行が、Aタイプの場合、状
態8から状態10への移行がそれぞれ起こるのである。そ
の後、TC1に至り、図8状態5となるのである。以上の
説明は、M層、W層ともに室温とキュリー点との間に補
償温度Tcomp. がない磁性体組成について説明した。し
かし、補償温度Tcomp. が存在する場合には、それを越
えると磁化の向きが反転することとA、Pタイプが
逆になるので、説明はそれだけ複雑になる。また、記録
磁界Hb の向きも、室温で考えた場合の向きと逆にな
る。
In fact, also in the case of the first embodiment in which the low temperature cycle is carried out at T C1 or more, since the medium temperature passes T Lmin on the way from room temperature to T C1 , at that time, in the case of the P type, the state 6 The transition from state 8 to state 9 occurs in the case of type A, and the transition from state 8 to state 10 respectively. After that, T C1 is reached, and the state 5 shown in FIG. 8 is reached. The above description has explained the magnetic material composition in which there is no compensation temperature T comp. Between the room temperature and the Curie point for both the M layer and the W layer. However, if the compensating temperature T comp. Exists, the direction of the magnetization is reversed when the compensating temperature T comp. Is exceeded, and the A and P types are reversed, and the explanation becomes complicated accordingly. Further, the direction of the recording magnetic field Hb is also opposite to the direction when considered at room temperature.

【0042】第1、第2実施態様ともに、M層及びW層
が遷移金属(例えばFe, Co) −重希土類金属( 例えばG
d,Tb,Dyその他) 合金組成から選択された非晶質フェリ
磁性体である記録媒体が好ましい。M層、W層の双方と
も、遷移金属(transition metal)−重希土類金属(heavy
rare earth metal)合金組成から選択された場合に
は、各合金としての外部に現れる磁化の向き及び大きさ
は、合金内部の遷移金属原子(TM)の副格子磁化の向
き及び大きさと重希土類金属原子(RE)の副格子磁化
の向き及び大きさとの関係で決まる。例えばTMの副格
子磁化の向き及び大きさを点線の矢印で示すベクトルで
表わし、REの副格子磁化のそれを実線の矢で示すベク
トルで表し、合金全体の磁化の向き及び大きさを白抜き
の矢で示すベクトルで表す。このとき白抜きの矢(ベク
トル)は点線の矢(ベクトル)と実線の矢(ベクトル)
との和として表わされる。ただし、合金の中ではTMの
副格子磁化とRE副格子磁化との相互作用のために点線
の矢(ベクトル)と実線の矢(ベクトル)とは、向きが
必ず逆になっている。従って、点線の矢(ベクトル)と
実線の矢(ベクトル)との和は、両者の強度が等しいと
き、合金のベクトルはゼロ(つまり、外部に現れる磁化
の大きさはゼロ)になる。このゼロになるときの合金組
成は補償組成(compensation composition ) と呼ばれ
る。それ以外の組成のときには、合金は両方の副格子磁
化の強度差に等しい強度を有し、いずれか大きい方のベ
クトルの向きに等しい向きを有する白抜きの矢(ベクト
ル)を持つ。
In both the first and second embodiments, the M layer and the W layer are made of a transition metal (eg Fe, Co) -heavy rare earth metal (eg G).
d, Tb, Dy, etc.) A recording medium which is an amorphous ferrimagnetic material selected from alloy compositions is preferable. Both the M layer and the W layer are a transition metal and a heavy rare earth metal (heavy metal).
When selected from the alloy composition, the direction and magnitude of the magnetization appearing externally as each alloy is the direction and magnitude of the sublattice magnetization of the transition metal atom (TM) inside the alloy and the heavy rare earth metal. It is determined by the relationship with the direction and size of the sublattice magnetization of the atom (RE). For example, the direction and magnitude of the sublattice magnetization of TM is represented by a vector indicated by a dotted arrow, and that of RE sublattice magnetization is represented by a vector indicated by a solid line arrow, and the direction and magnitude of magnetization of the entire alloy are outlined. It is represented by the vector indicated by the arrow. At this time, the white arrow (vector) is a dotted arrow (vector) and the solid arrow (vector)
Expressed as the sum of and. However, in the alloy, due to the interaction between the TM sublattice magnetization and the RE sublattice magnetization, the dotted arrow (vector) and the solid arrow (vector) always have opposite directions. Therefore, the sum of the dotted arrows (vectors) and the solid arrows (vectors) makes the alloy vector zero (that is, the magnitude of the magnetization appearing outside) when the strengths of the two are equal. The alloy composition when it reaches zero is called the compensation composition. For any other composition, the alloy has an intensity equal to the intensity difference of both sublattice magnetizations and has a hollow arrow (vector) with an orientation equal to the orientation of the larger vector.

【0043】そこで、合金の磁化ベクトルを点線のベク
トルと実線のベクトルを隣接して書き、例えば図12に
示すように書き表す。RE、TMの副格子磁化の状態は
大別すると4通りあり、これらを図12の(1A)〜(4A)に
示す。そして、各状態における合金の磁化ベクトル(白
抜きの矢)を図13の(1B)〜(4B)に対応して示す。例え
ば、REベクトルがTMベクトルに比べて大きい場合、
副格子磁化の状態は(1A)に示され、合金の磁化ベクトル
は、(1B)に示される。
Therefore, the magnetization vector of the alloy is written adjacent to the vector of the dotted line and the vector of the solid line, for example, as shown in FIG. The sublattice magnetization states of RE and TM are roughly classified into four states, which are shown in (1A) to (4A) of FIG. And the magnetization vector (open arrow) of the alloy in each state is shown corresponding to (1B) to (4B) of FIG. For example, if the RE vector is larger than the TM vector,
The state of sublattice magnetization is shown in (1A), and the magnetization vector of the alloy is shown in (1B).

【0044】ある合金組成のTMベクトルとREベクト
ルの強度が、どちらか一方が大きいとき、その合金組成
は、強度の大きい方の名をとって○○リッチ例えばRE
リッチであると呼ばれる。M層とW層の両方について、
TMリッチな組成とREリッチな組成とに分けられる。
従って、縦軸座標にM層の組成を横軸座標にW層の組成
をとると、基本発明の媒体全体としては、種類を図14
に示す4象限に分類することができる。図14におい
て、座標の交点は両層の補償組成を表す。先に述べたP
タイプは、図14に示す1象限と3象限に属するもので
あり、Aタイプは2象限と4象限に属するものである。
When the strength of the TM vector or RE vector of a certain alloy composition is larger, the alloy composition is named as the one having the larger strength and is XX rich, for example, RE.
Called to be rich. For both M and W layers,
It is divided into TM-rich composition and RE-rich composition.
Therefore, when the composition of the M layer is plotted on the ordinate and the composition of the W layer is plotted on the abscissa, the types of the medium of the basic invention are shown in FIG.
It can be classified into the four quadrants shown in. In FIG. 14, the intersection of the coordinates represents the compensation composition of both layers. P mentioned above
The type belongs to the 1st quadrant and the 3rd quadrant shown in FIG. 14, and the A type belongs to the 2nd quadrant and the 4th quadrant.

【0045】一方、温度変化に対する保磁力の変化を見
ると、キュリー点(保磁力ゼロの温度)に達する前に保
磁力が一旦無限大に増加してまた降下すると言う特性を
持つ合金組成がある。この無限大のときに相当する温度
は補償温度(Tcomp. )と呼ばれる。補償温度より低い
温度ではREベクトル(実線の矢)の方がTMベクトル
(点線の矢) より大きく、そのためTMリッチと言うこ
とができ、補償温度より高い温度ではその逆になる。従
って、補償組成の合金の補償温度は、室温にあると言う
ことができる。
On the other hand, looking at the change of the coercive force with respect to the temperature change, there is an alloy composition having a characteristic that the coercive force temporarily increases to infinity and then drops before reaching the Curie point (temperature at which the coercive force is zero). .. The temperature corresponding to this infinity is called the compensation temperature (T comp. ). At a temperature lower than the compensation temperature, the RE vector (solid arrow) is larger than the TM vector (dotted arrow), so it can be said to be TM rich, and vice versa at a temperature higher than the compensation temperature. Therefore, it can be said that the compensation temperature of the alloy having the compensation composition is at room temperature.

【0046】逆に補償温度はTMリッチの合金組成にお
いては、室温からキュリー点の間には存在しない。室温
より下にある補償温度は、光磁気記録においては無意味
であるので、この明細書で補償温度とは室温からキュリ
ー点の間に存在するものを言うことにする。M層とW層
の補償温度の有無について分類すると、媒体はタイプ1
〜4の4つのタイプに分類される。タイプ1は、M層と
W層の両方が補償温度を持つ。タイプ2は、M層が補償
温度を持たず、W層が補償温度を持つ。タイプ3は、M
層が補償温度を持ち、W層が補償温度を持たない。タイ
プ4は、M層とW層の両方が補償温度を持たない。1象
限の媒体は、4つ全部のタイプを含む。そこで、M層と
W層の両方についてREリッチかTMリッチかで分け、
かつ補償温度を持つか持たないかで分けると、記録媒体
は表1に示す9クラスに分類される。
On the contrary, the compensation temperature does not exist between room temperature and the Curie point in the TM-rich alloy composition. Since the compensation temperature below room temperature is meaningless in magneto-optical recording, the compensation temperature in this specification means that it exists between room temperature and the Curie point. Classifying the presence or absence of the compensation temperature of the M layer and the W layer, the medium is type 1
Are classified into four types. In Type 1, both the M layer and the W layer have a compensation temperature. In the type 2, the M layer has no compensation temperature and the W layer has compensation temperature. Type 3 is M
The layer has a compensation temperature and the W layer has no compensation temperature. In Type 4, both the M layer and the W layer have no compensation temperature. One-quadrant media includes all four types. Therefore, for both the M layer and the W layer, it is divided into RE rich or TM rich,
In addition, the recording media are classified into 9 classes shown in Table 1 according to whether they have a compensation temperature or not.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】〔クラス1−1の説明〕ここで表1に示し
たクラス1の記録媒体(Pタイプ・1象限・タイプ1)
に属する媒体No.1−1 を例にとり、オーバーライト原理
について詳細に説明する。この媒体No.1−1 は、次式1
1: TR <Tcomp.1<TL <TH ≦TC1≦Tc2 及び式11の2:Tcomp.2 <TC1 の関係を有する。本明細書では「≦」の「=」は等しい
か又はほぼ等しい(±20℃位) ことを意味する。説明を
簡単にする目的から、以下の説明は、TH <TC1<Tc2
の関係を有するものについて説明する。Tcomp.2は、T
L よりも高くとも等しくとも、低くともよいが、説明を
簡単にする目的から、以下の説明では、TL <Tcomp.2
とする。以上の関係をグラフで示すと、図15の如くな
る。なお、細線はM層のグラフを示し、太線はW層のグ
ラフを示す。
[Explanation of Class 1-1] The recording medium of Class 1 shown in Table 1 (P type, 1 quadrant, Type 1)
The overwrite principle will be described in detail with reference to the medium No. 1-1 belonging to the category. This medium No. 1-1 has the following formula 1.
1: 2 T R <T comp.1 <T L <T H ≦ T C1 ≦ T c2 and the formula 11: with the relationship T comp.2 <T C1. In the present specification, “=” in “≦” means that they are equal or almost equal (± 20 ° C. or so). For the purpose of simplifying the explanation, the following explanation is T H <T C1 <T c2
Those having a relationship of will be described. T comp.2 is T
It may be higher than, equal to, or lower than L , but for the purpose of simplifying the explanation, in the following explanation, T L <T comp.2
And FIG. 15 is a graph showing the above relationship. The thin line shows the graph of the M layer, and the thick line shows the graph of the W layer.

【0049】室温TR でM層の磁界が初期補助磁界Hin
i. により反転せずにW層のみが反転する条件は、
At room temperature T R , the magnetic field of the M layer is the initial auxiliary magnetic field Hin.
The condition that only W layer is inverted without being inverted by i.

【0050】[0050]

【数1】 [Equation 1]

【0051】として示す式12である。この媒体No.1−1
は式12を満足する。 但し、HC1:M層の保磁力 HC2:W層の保磁力 MS1:M層の飽和磁気モーメント(saturation magnet
ization) MS2:W層の飽和磁気モーメント t1 :M層の膜厚 t2 :W層の膜厚 σw :界面磁壁エネルギー=交換結合力 (interface wa
ll energy) このとき、Hini. の条件式は、数4に示す式15で示され
る。Hini. が無くなると、M層、W層の磁化は交換結合
力により互いに影響を受ける。それでもM層、W層の磁
化が反転せずに保持される条件は、式13〜14で示され
る。この媒体No.1-1 は式13〜14を満足する。
Equation 12 is expressed as This medium No.1-1
Satisfies Equation 12. However, H C1 : Coercive force of M layer H C2 : Coercive force of W layer M S1 : Saturation magnet moment of M layer (saturation magnet)
ization) M S2 : saturation magnetic moment of W layer t 1 : thickness of M layer t 2 : thickness of W layer σ w : domain wall energy = exchange coupling force (interface wa
ll energy) At this time, the conditional expression of Hini. is expressed by Expression 15 shown in Expression 4. When the Hini. Disappears, the magnetizations of the M layer and the W layer are affected by the exchange coupling force. Nevertheless, the conditions under which the magnetizations of the M layer and W layer are maintained without being inverted are expressed by equations 13-14. This medium No. 1-1 satisfies the expressions 13 to 14.

【0052】[0052]

【数2】 [Equation 2]

【0053】[0053]

【数3】 [Equation 3]

【0054】室温で式12〜14の条件を満足する記録媒体
のW層の磁化は、記録の直前までに
The magnetization of the W layer of the recording medium satisfying the conditions of the equations 12 to 14 at room temperature is measured by the time immediately before recording.

【0055】[0055]

【数4】 [Equation 4]

【0056】に示す式15を満足するHini. により例えば
「A向き」↑に揃えられる。このときM層は前の記録状
態のままで残る。この状態は図16の状態1又は状態2
のいずれかで示される。これより図16を引用して説明
する。この状態1、状態2は記録直前まで保持される。
そして、記録磁界Hbは「A向き」↑に印加することに
する。
By Hini. Which satisfies the expression 15 shown in FIG. At this time, the M layer remains in the previous recording state. This state is state 1 or state 2 in FIG.
Indicated by either. This will be described with reference to FIG. The states 1 and 2 are held until just before recording.
Then, the recording magnetic field Hb is applied in the “A direction” ↑.

【0057】記録磁界Hb は、一般の磁界がそうである
ように、レーザービームの照射領域(スポット領域)と
同一の範囲に絞ることは難しい。媒体がディスク状の場
合、一旦記録された情報(マーク)は、1回転した場
合、 途中でHini. の影響を受け、再び状態1又は状態
2となる。その後、そのマークは、レーザービームの照
射領域(スポット領域)に近いところを通過する。この
とき、状態1、状態2のマークは、記録磁界Hb 印加手
段に近づくのでその影響を受ける。この場合Hbと反対
向きの磁化を有する状態2のマークのM層の磁化の向き
がHb によって反転させられたとすると、1回転前に記
録されたばかりの情報が消失することになる。そうなっ
てはならない条件は、
It is difficult to limit the recording magnetic field Hb to the same range as the irradiation area (spot area) of the laser beam, as is the case with general magnetic fields. When the medium is a disk, once the recorded information (mark) is rotated once, it is changed to state 1 or state 2 under the influence of Hini. After that, the mark passes near a laser beam irradiation region (spot region). At this time, the marks in state 1 and state 2 are affected by the approach to the recording magnetic field Hb applying means. In this case, if the magnetization direction of the M layer of the mark of the state 2 having the magnetization opposite to Hb is reversed by Hb, the information just recorded one rotation before disappears. The conditions that should not be so are

【0058】[0058]

【数5】 [Equation 5]

【0059】に示す式15の2で表される。ディスク状媒
体No.1−1 は、室温でこの条件式15の2を満足させる必
要がある。逆に言えば、Hb を決定する1つの条件は、
式15の2で示される。さて、状態1、2のマークは、い
よいよレーザービームのスポット領域に到達する。レー
ザービームの強度は、基本発明と同様に、低レベルと高
レベルの2種がある。
It is represented by 2 of the equation 15 shown in The disk-shaped medium No. 1-1 must satisfy the condition (2) of conditional expression 15 at room temperature. Conversely, one condition that determines Hb is
It is shown by 2 in Expression 15. The marks in states 1 and 2 finally reach the spot area of the laser beam. There are two types of laser beam intensities, low level and high level, as in the basic invention.

【0060】−−−−−低温サイクル−−−− 低レベルのレーザービームが照射されて、 媒体温度が
comp.1以上に上昇する。そうすると、PタイプからA
タイプに移行する。そして、M層のRE、TM各スピン
の方向は変わらないが、強度の大小関係が図13の(3A)
から(4A)へと逆転する。そのため、M層の磁化は図13
の(3B)から(4B)へと反転する。 その結果、図16状態
1のマークは状態3に移行し、状態2のマークは状態4
に移行する。
----- Low Temperature Cycle ---- A low-level laser beam is irradiated and the medium temperature rises to T comp.1 or higher. Then, from P type to A
Move to type. Then, although the directions of the RE and TM spins of the M layer do not change, the magnitude relationship between the strengths is (3A) in FIG.
To reverse (4A). Therefore, the magnetization of the M layer is as shown in FIG.
Invert from (3B) to (4B). As a result, the mark in state 1 moves to state 3 in FIG. 16, and the mark in state 2 changes to state 4.
Move to.

【0061】レーザービームの照射が続いて、媒体温度
は、やがてTLminになる。すると、式10の2 並びに式10
の3 が同時に満足される。その結果、Hb ↑が存在して
も、図16状態4のマークは状態5に遷移する。他方、
図16状態3のマークは、Hb ↑が存在しても10の2 並
びに式10の3 が同時に満足されているため、そのままの
状態を保つ。つまり、状態3から、同じ状態である図1
6状態5になるだけである。
Following the irradiation of the laser beam, the medium temperature eventually reaches T Lmin . Then, Equation 2 and Equation 10
3 is satisfied at the same time. As a result, even if Hb ↑ exists, the mark in state 4 in FIG. 16 transits to state 5. On the other hand,
The mark in the state 3 in FIG. 16 is kept as it is because 2 of 10 and 3 of equation 10 are satisfied at the same time even if Hb ↑ is present. That is, from the state 3 to the same state in FIG.
It only goes to 6 state 5.

【0062】この状態でレーザービームのスポット領域
から外れると媒体温度は低下を始める。媒体温度がT
comp.1以下に冷えると、Aタイプから元のPタイプに戻
る。そして、M層のREスピンとTMスピンとの大小関
係が、図13の(2A)から(1A)へと逆転する。そのため、
M層の磁化は図13の(2B)から(1B)へと反転する。 そ
の結果、図16状態5のマークは状態6(M層の磁化は
「A向き」↑)に移行する。この状態6は媒体温度が室
温まで下がっても保持される。こうして、M層に「A向
き」↑のマークが形成される。
In this state, when the laser beam deviates from the spot region, the medium temperature starts to drop. Medium temperature is T
When it cools down below comp.1, it will return to the original P type from A type. Then, the magnitude relationship between the RE spin and the TM spin of the M layer is reversed from (2A) to (1A) in FIG. for that reason,
The magnetization of the M layer is reversed from (2B) to (1B) in FIG. As a result, the mark of the state 5 in FIG. 16 shifts to the state 6 (the magnetization of the M layer is “A direction” ↑). This state 6 is maintained even when the medium temperature drops to room temperature. In this way, the mark of “A direction” ↑ is formed on the M layer.

【0063】−−−−−高温サイクル−−−−− 高レベルのレーザービームが照射されると、媒体温度
は、Tcomp.1を経て低温TL に上昇する。その結果、図
16状態5と同じ状態7になる。高レベルのレーザービ
ームの照射により、媒体温度は更に上昇する。媒体温度
がW層のTcomp.2を越えると、AタイプがPタイプに移
行する。そして、W層のRE、TM各スピンの方向は変
わらないが、強度の大小関係が、図13の(1A)から(2A)
へと逆転する。そのため、W層の磁化は図13の(1B)か
ら(2B)へと反転する。その結果、W層の磁化は、「逆A
向き」↓となる。これが図16状態8である。
[0063] ----- When the laser beam of the high-temperature cycle ----- high level is irradiated, the medium temperature is increased to the low temperature T L via T Comp.1. As a result, the state 7 is the same as the state 5 in FIG. Irradiation with a high level laser beam further raises the medium temperature. When the medium temperature exceeds T comp.2 of the W layer, the A type shifts to the P type. Although the directions of the RE and TM spins in the W layer do not change, the magnitude relationship between the strengths is (1A) to (2A) in FIG.
Reverse to. Therefore, the magnetization of the W layer is reversed from (1B) to (2B) in FIG. As a result, the magnetization of the W layer is
The direction will be ↓. This is state 8 in FIG.

【0064】しかし、この温度ではHC2がまだ大きいの
で、↑HbによってW層の磁化が反転されることはな
い。さらに温度が上昇し、THになると、M層、W層
は、その温度がキュリー点に近いので保磁力が小さくな
る。その結果、媒体は、
However, since H C2 is still large at this temperature, the magnetization of the W layer is not reversed by ↑ Hb. When the temperature further rises to T H , the coercive force of the M layer and the W layer becomes small because the temperature is close to the Curie point. As a result, the medium is

【0065】[0065]

【数6】 [Equation 6]

【0066】に示す(1)又は(1) or shown in

【0067】[0067]

【数7】 [Equation 7]

【0068】に示す(2)又は(2) or

【0069】[0069]

【数8】 [Equation 8]

【0070】に示す(3)のいずれかに示した2つの式
を同時に満足する。そのため、両層の磁化は、ほぼ同時
に反転し、Hb ↑の向きに従う。この状態が状態9であ
る。この状態でレーザービームのスポット領域から外れ
ると、媒体温度は低下を始める。媒体温度がTcomp.2
下になると、PタイプからAタイプに移行する。そし
て、RE、TMの各スピンの方向は変わらないが、強度
の大小関係が、図13の(4A)から(3A)へと逆転する。そ
のため、W層の磁化は図13の(4B)から(3B)へと反転す
る。その結果、W層の磁化は、「逆A向き」↓となる。
これが図16状態10である。状態10では、媒体は、
The two expressions shown in either of (3) shown in (3) are simultaneously satisfied. Therefore, the magnetizations of both layers are reversed almost at the same time and follow the direction of Hb ↑. This state is state 9. In this state, when the laser beam deviates from the spot area, the medium temperature starts to drop. When the medium temperature becomes T comp. 2 or less, the P type shifts to the A type. Then, the directions of the spins of RE and TM do not change, but the magnitude relationship of the strength is reversed from (4A) to (3A) in FIG. Therefore, the magnetization of the W layer is reversed from (4B) to (3B) in FIG. As a result, the magnetization of the W layer becomes “inverse A direction” ↓.
This is state 10 in FIG. In state 10, the medium is

【0071】[0071]

【数9】 [Equation 9]

【0072】に示す式15の4を満足する。そのため、W
層にHb ↑が作用しても反転することはない。媒体の温
度がこの状態10のときの温度から更に低下して、T
comp.1以下になると、Aタイプから元のPタイプに戻
る。そして、M層のREスピンとTMスピンの強度の大
小関係が、図13の(4A)から(3A)へと逆転する。そのた
め、M層の磁化は図13の(4B)から(3B)へと反転する。
その結果、M層の磁化は「逆A向き」↓となる。この状
態が図16状態11である。
4 of Expression 15 shown in is satisfied. Therefore, W
Even if Hb ↑ acts on the layer, it does not reverse. When the temperature of the medium further decreases from the temperature in this state 10,
When it becomes comp.1 or less, it returns from the A type to the original P type. Then, the magnitude relation between the intensity of the RE spin and the intensity of the TM spin of the M layer is reversed from (4A) to (3A) in FIG. Therefore, the magnetization of the M layer is reversed from (4B) to (3B) in FIG.
As a result, the magnetization of the M layer becomes “reverse A direction” ↓. This state is state 11 in FIG.

【0073】やがて媒体の温度は、状態11のときの温度
から室温まで低下する。室温でのHC1は十分に大きい
(式15の5参照)ので、M層の磁化↓は、↑Hb によっ
て反転されることなく、状態11が保持される。
Eventually, the temperature of the medium drops from the temperature in the state 11 to room temperature. Since H C1 at room temperature is sufficiently large (see 5 in Equation 15), the magnetization ↓ of the M layer is not inverted by ↑ Hb, and the state 11 is maintained.

【0074】[0074]

【数10】 [Equation 10]

【0075】こうして、M層に「逆A向き」↓のマーク
が形成される。 〔選択発明の説明〕以上の説明は、M層とW層の2層膜
で説明した。このような2層膜を持っておれば、3層膜
以上の多層膜でもオーバーライトは可能である。特に、
基本発明の説明では、初期補助磁界(Hini. )という外
部手段を用いた。しかし、基本発明では、外部手段はHi
ni. に限られることはない。要するに、記録の前まで
に、W層の磁化が所定の向きを向いている、つまり、
“初期化”されていればよいのである。そのため、外部
手段としてHini. に代えて初期化層(intializing laye
r)を使用する発明がなされた。和文雑誌 "OPTRONICS"
1990年No.4 第 227〜231頁を参照されたい。これより
詳しいものは、1990年3月8日に発行された国際公開特
許公報WO/90/2400(PCT/JP89/863)である。以下、この発
明を選択発明( selection invention ) と引用する。
In this way, the mark of "inverse A direction" ↓ is formed on the M layer. [Explanation of Selected Invention] The above explanation has been made on the two-layer film of the M layer and the W layer. With such a two-layer film, overwriting is possible even with a multilayer film of three or more layers. In particular,
In the description of the basic invention, an external means called an initial auxiliary magnetic field (Hini.) Was used. However, in the basic invention, the external means is Hi
It is not limited to ni. In short, by the time before recording, the magnetization of the W layer is oriented in a predetermined direction, that is,
It just needs to be "initialized". Therefore, instead of Hini. As an external means, the initialization layer (intializing laye
An invention was made using r). Japanese magazine "OPTRONICS"
See No. 4, 1990, pages 227-231. More detailed information is WO / 90/2400 (PCT / JP89 / 863) published on Mar. 8, 1990. Hereinafter, this invention is referred to as a selection invention.

【0076】図17の状態1に選択発明で使用される媒
体の構成を示す。この媒体は基板とその上に成膜された
原則的に4層構造の磁性膜からなる。この磁性膜は、順
に、垂直磁化可能な磁性薄膜からなるM層と、垂直磁化
可能な磁性薄膜からなるW層と、垂直磁化可能な磁性薄
膜からなるスイッチング層Switching layer (以下、S
層と略す)と、垂直磁化可能な磁性薄膜からなる“初期
化”層 Initializing layer(以下、I層と略す)との
原則的に4層構造(場合によりS層はなくともよい)か
らなる。
The state 1 of FIG. 17 shows the structure of the medium used in the selection invention. This medium is composed of a substrate and a magnetic film basically having a four-layer structure formed on the substrate. This magnetic film comprises, in order, an M layer made of a vertically magnetizable magnetic thin film, a W layer made of a vertically magnetizable magnetic thin film, and a switching layer (hereinafter S) made of a vertically magnetizable magnetic thin film.
A layer is abbreviated) and an "initializing" layer (hereinafter abbreviated as I layer) composed of a perpendicularly magnetizable magnetic thin film is basically formed of a four-layer structure (the S layer may be omitted).

【0077】尚、前記国際公開特許公報では、M層は第
1磁性層、W層は第2磁性層、S層は第3磁性層(特許
請求の範囲の第3項参照)、I層は第4磁性層(特許請
求の範囲の第3項参照)と呼ばれている。この第3項以
外の個所では第3磁性層と第4磁性層の呼び方が逆にな
っており、誤記と思われる。また、前記雑誌"OPTRONIC
S" では、S層は制御層と呼ばれている。
In the International Patent Publication, the M layer is the first magnetic layer, the W layer is the second magnetic layer, the S layer is the third magnetic layer (see claim 3), and the I layer is It is called the fourth magnetic layer (see claim 3). At points other than the third term, the names of the third magnetic layer and the fourth magnetic layer are opposite to each other, which seems to be a mistaken writing. Also, the magazine "OPTRONIC"
In S ", the S layer is called the control layer.

【0078】この4層構造媒体では、M層とW層とは交
換結合しており、室温でM層の磁化の向きは変えないで
W層の磁化のみを所定の向きに向けておくことができ、
しかもW層とI層とはS層のキュリー点以下の温度でS
層を介して交換結合している。I層は最も高いキュリー
点を有し、高レベルのレーザービームの照射を受けても
磁化を失わない。I層は常に所定の向きの磁化を保持し
ており、これが記録の都度、次の記録に備えてW層の
“初期化”を繰り返し行なう手段となる。そのため、I
層は“初期化”層と呼ばれる。
In this four-layer structure medium, the M layer and the W layer are exchange-coupled, and it is possible to direct only the magnetization of the W layer to a predetermined direction without changing the magnetization direction of the M layer at room temperature. You can
Moreover, the W layer and the I layer are S at a temperature below the Curie point of the S layer.
Exchange coupled through the layers. The I layer has the highest Curie point and does not lose its magnetization even when irradiated with a high level laser beam. The I layer always holds the magnetization in a predetermined direction, and this serves as a means for repeatedly "initializing" the W layer in preparation for the next recording each time recording is performed. Therefore, I
The layer is called the "initialization" layer.

【0079】しかしながら、高温サイクルの過程(例え
ば、TH 付近)では、W層の磁化反転が必ず起こらねば
ならず、その場合には、I層からの影響が無視できるよ
うに小さくなければならない。温度が高くなると、W層
とI層との間の交換結合力σw24 は小さくなるので、好
都合である。しかし、TH においても、十分なσw24
残っている場合には、W層とI層との間にS層が必要に
なる。S層が非磁性体であれば、σw24 はゼロ又は非常
に小さくなる。しかし、TH より低く室温までのどこか
の温度では、 W層の“初期化”のためにσw24 は大き
くなければならない。そのとき、S層はW層とI層との
間に見掛け上十分に大きな交換結合力を与えなければな
らない。それにはS層は磁性体である必要がある。従っ
て、S層は、相対的に低い温度では、磁性体となってW
層とI層との間に見掛け上十分に大きな交換結合力σ
w24 を与え、相対的に高い温度では、非磁性体となって
W層とI層との間に見掛け上ゼロ又は非常に小さな交換
結合力σw24 を与えるものである。それ故、S層はスイ
ッチング層switching layer と呼ばれる。
However, in the course of the high temperature cycle (for example, near T H ), the magnetization reversal of the W layer must occur, and in that case, the influence from the I layer must be small enough to be ignored. It is advantageous that the exchange coupling force σ w24 between the W layer and the I layer becomes smaller as the temperature becomes higher. However, even at T H , if sufficient σ w24 remains, an S layer is required between the W layer and the I layer. If the S layer is a non-magnetic material, σ w24 is zero or very small. However, at some temperature below T H to room temperature, σ w24 must be large due to the “initialization” of the W layer. At that time, the S layer must give an apparently sufficiently large exchange coupling force between the W layer and the I layer. For that purpose, the S layer needs to be magnetic. Therefore, the S layer becomes a magnetic material at a relatively low temperature and becomes W.
Apparently sufficiently large exchange coupling force σ between layer I and layer I
w24 is given, and at a relatively high temperature, it becomes a non-magnetic material and gives an apparent zero or very small exchange coupling force σ w24 between the W layer and the I layer. Therefore, the S layer is called the switching layer.

【0080】次に図17を用いて、4層膜オーバーライ
トの原理を説明する。この説明は典型的な例であり、こ
れ以外にも例はある。例えば、各層の何れかの層が室温
とキュリー点との間にTcomp. を持つと説明はより複雑
になる。図17で、白抜きの矢印は、各層の磁化の向き
を示す。記録前の状態は、状態1又は状態2のいずれか
である。M層に着目すると、状態1は「A向き」のマー
ク(B1)であり、状態2は「逆A向き」のマーク(B0)
であり、M層とW層との間に界面磁壁(太線━で示す)
があり、やや不安定な状態(準安定)にある。
Next, the principle of the four-layer film overwrite will be described with reference to FIG. This description is a typical example, and there are other examples. For example, the explanation becomes more complicated if any one of the layers has T comp. Between room temperature and the Curie point. In FIG. 17, white arrows indicate the magnetization directions of the layers. The state before recording is either state 1 or state 2. Focusing on the M layer, the state 1 is the “A-oriented” mark (B 1 ), and the state 2 is the “reverse A-oriented” mark (B 0 ).
And the domain wall between the M layer and the W layer (shown by a bold line ━)
, And is in a somewhat unstable state (metastable).

【0081】 −−−−−−−低温サイクル−−−−−−−− 状態1及び状態2のマークにレーザービームを照射して
温度を上昇させると、最初にS層の磁化が消失する。そ
のため、状態1は状態3に移行し、状態2は状態4に移
行する。更に温度が上昇してTLminに達すると、M層の
磁化は弱くなり、W層からの交換結合力を介した作用が
強くなる。その結果、状態4のM層の磁化は反転すると
同時に層間の磁壁は消失する。これが状態5である。状
態3のマークはもともと層間の磁壁はないので、そのま
ま状態5に移行する。
-------- Low Temperature Cycle ---------- When the laser beam is applied to the marks in state 1 and state 2 to raise the temperature, the magnetization of the S layer first disappears. Therefore, the state 1 shifts to the state 3, and the state 2 shifts to the state 4. When the temperature further rises and reaches TLmin , the magnetization of the M layer becomes weak and the action via the exchange coupling force from the W layer becomes strong. As a result, the magnetization of the M layer in state 4 is reversed, and at the same time, the domain wall between layers disappears. This is state 5. Since the mark in state 3 originally has no domain wall between layers, the state is directly shifted to state 5.

【0082】ここで、レーザービームの照射が止むか又
は照射位置から遠ざかると、状態5のマークは温度が低
下を始め、やがて状態3を経て状態1になる。これが低
温サイクルである。なお、状態5から更に温度が上昇し
M層のキュリー点を越えると、磁化が消失し状態6にな
る。ここで、レーザービームの照射が止むか又は照射位
置から遠ざかると、状態6のマークは温度が低下を始
め、やがてM層のキュリー点を少し低い温度に至る。そ
うすると、M層に磁化が現れる。この磁化の向きは、W
層からの交換結合力を介した作用を受け、W層の磁化の
向きに対して安定な向き(層間に磁壁が生じない向き)
となる。ここではPタイプであるので、状態5が再現す
る。温度は更に低下し、それに従い、状態3が生じ、次
いで状態1のマークが生じる。このプロセスは低温サイ
クルの別の例である。
Here, when the irradiation of the laser beam stops or moves away from the irradiation position, the temperature of the mark in state 5 begins to drop, and finally the mark goes to state 1 via state 3. This is the low temperature cycle. When the temperature further rises from the state 5 and exceeds the Curie point of the M layer, the magnetization disappears and the state 6 is established. Here, when the irradiation of the laser beam stops or moves away from the irradiation position, the temperature of the mark in state 6 starts to decrease, and eventually the Curie point of the M layer reaches a slightly lower temperature. Then, magnetization appears in the M layer. The direction of this magnetization is W
Stable to the magnetization direction of the W layer by the action of exchange coupling force from the layers (direction in which no domain wall is generated between layers)
Becomes Since the type is P type here, the state 5 is reproduced. The temperature drops further, and accordingly state 3 occurs, followed by the state 1 mark. This process is another example of a low temperature cycle.

【0083】 −−−−−−−高温サイクル−−−−−−−− 図17状態1及び状態2のマークにレーザービームを照
射して温度を上昇させると、既述のように状態5を経て
状態6に至る。更に温度が上昇すると、W層の保磁力は
非常に低下する。そのため、記録磁界Hb ↓によって磁
化が反転する。これが状態8である。
---------- High Temperature Cycle ------------- When the laser beam is irradiated to the marks in the state 1 and the state 2 to raise the temperature, the state 5 is changed as described above. After that, the state 6 is reached. When the temperature is further increased, the coercive force of the W layer is extremely reduced. Therefore, the magnetization is reversed by the recording magnetic field Hb ↓. This is state 8.

【0084】ここで、レーザービームの照射が止むか又
は照射位置から遠ざかると、媒体温度は低下を始める。
やがて媒体温度はM層のキュリー点より少し下になる。
そうすると、M層に磁化が現れる。この磁化の向きは、
W層からの交換結合力を介した作用を受け、W層の磁化
の向きに対して安定な向き(層間に磁壁が生じない向
き)となる。ここではPタイプであるので、状態9が出
現する。
Here, when the irradiation of the laser beam stops or moves away from the irradiation position, the medium temperature starts to decrease.
Eventually, the medium temperature falls slightly below the Curie point of the M layer.
Then, magnetization appears in the M layer. The direction of this magnetization is
Due to the action via the exchange coupling force from the W layer, the orientation becomes stable with respect to the magnetization direction of the W layer (direction in which no domain wall is generated between layers). Here, since it is the P type, the state 9 appears.

【0085】温度が更に低下すると、S層に磁化が現
れ、その結果、W層とI層とは磁気的に(交換結合力
で)結合される。その結果、W層の磁化の向きは、I層
の磁化の向きに対して安定な向き(層間に磁壁が生じな
い向き)となる。ここではPタイプであるので、W層の
磁化は「A向き」に反転し、その結果、M層とW層との
間には界面磁壁が生じる。この状態が室温でも維持さ
れ、状態2のマークが生成する。
When the temperature further decreases, magnetization appears in the S layer, and as a result, the W layer and the I layer are magnetically coupled (by an exchange coupling force). As a result, the magnetization direction of the W layer is stable with respect to the magnetization direction of the I layer (direction in which no domain wall is formed between layers). Since it is of P type here, the magnetization of the W layer is inverted in the “A direction”, and as a result, an interface domain wall is generated between the M layer and the W layer. This state is maintained even at room temperature, and the mark of state 2 is generated.

【0086】これが高温サイクルである。なお、記録磁
界Hb ↓によって状態8が出現した後、更に温度が上昇
すると、やがて温度はW層のキュリー点を越える。そう
すると、状態7が出現する。ここで、レーザービームの
照射が止むか又は照射位置から遠ざかると、媒体温度は
低下を始める。やがて媒体温度はW層のキュリー点より
少し下になる。そうすると、W層に磁化が現れる。この
磁化の向きは、記録磁界Hb ↓の向きに従う。その結
果、状態8が出現する。
This is the high temperature cycle. When the temperature further rises after the state 8 appears due to the recording magnetic field Hb ↓, the temperature eventually exceeds the Curie point of the W layer. Then, the state 7 appears. Here, when the irradiation of the laser beam stops or moves away from the irradiation position, the medium temperature starts to decrease. Eventually, the medium temperature falls slightly below the Curie point of the W layer. Then, magnetization appears in the W layer. The direction of this magnetization follows the direction of the recording magnetic field Hb ↓. As a result, the state 8 appears.

【0087】更に温度が低下すると、状態9を経て状態
2のマークが形成される。このプロセスは高温サイクル
の別の例である。 −−−−−−オーバーライト−−−−−−− 以上の通り、前の記録状態に無関係に、低温サイクルで
M層に状態1のマーク(B1)が形成され、高温サイクル
で M層に状態2のマーク(B0)が形成される。従っ
て、オーバーライトが可能となる。
When the temperature is further lowered, the mark of the state 2 is formed through the state 9. This process is another example of a high temperature cycle. ---------- Overwrite -------- As mentioned above, the mark (B 1 ) of the state 1 is formed in the M layer in the low temperature cycle and the M layer in the high temperature cycle regardless of the previous recording state. The mark (B 0 ) of the state 2 is formed at. Therefore, overwriting becomes possible.

【0088】[0088]

【発明が解決しようとする課題】既述のように、“初期
化”されたW層の磁化によってM層の情報が消去されな
いようにするために、媒体は、室温で不等式: HC1>σw /2MS11 (式13) を満足する必要がある。ところで、C/N比は、再生時
のレーザービーム強度をPR とすると、PR の平方根と
コントラスト(θk)との積に比例する。そこで、C/N
比を高くするには、PR を高くすることが必要である。
しかし、PR を高くすると、磁性層の温度が上がって、
C1が低下する。すると、式13が満足されない危険が
生じる。従って、PR のマージンを広げるには、式13
が満足される温度範囲をできるだけ高温まで拡大させれ
ばよい。PR のマージンが広くなると、媒体の温度が高
まる連続再生も実行可能になる。
As described above, in order to prevent the information in the M layer from being erased by the "initialized" magnetization of the W layer, the medium has an inequality: H C1 > σ at room temperature. It is necessary to satisfy w / 2M S1 t 1 (equation 13). However, C / N ratio, the laser beam intensity during reproduction When P R, is proportional to the product of P R of the square root and contrast (.theta.k). Therefore, C / N
To increase the ratio, it is necessary to increase P R.
However, if P R is increased, the temperature of the magnetic layer rises,
H C1 decreases. Then, there is a risk that Expression 13 is not satisfied. Therefore, in order to increase the margin of P R , Equation 13
It suffices to expand the temperature range that satisfies the above condition to the highest temperature possible. When the margin of P R becomes wider, continuous reproduction in which the temperature of the medium increases can be executed.

【0089】他方、媒体は、低温サイクルが起こる温度
L において、M層の磁化をW層によって制御された所
定の向きに従わせるために、不等式: HC1<σw /2MS11 (式13の2) を満足する必要がある。レーザービームの駆動回路の立
場から言えば、高温サイクルが実行される最低温度T
Hmin(ビーム強度で言うとPHmin)とTL (ビーム強度
で言うとPL との間が広い方が好ましい。この広さをオ
ーバーライト・パワーマージンと呼ぶ。これが広いと駆
動回路の設計や組み立て調整が容易になる。オーバーラ
イト・パワーマージンを広げるには、式13の2が満足
される温度範囲をできるだけ低温まで拡大させればよ
い。
On the other hand, the medium has the inequality: H C1w / 2M S1 t 1 (in order to make the magnetization of the M layer follow the predetermined orientation controlled by the W layer at the temperature T L where the low temperature cycle occurs. It is necessary to satisfy 2) of Expression 13. From the viewpoint of the laser beam drive circuit, the minimum temperature T at which the high temperature cycle is executed
It is preferable that the distance between Hmin (in terms of beam intensity, P Hmin ) and T L (in terms of beam intensity, P L ) is wide. This wide range is called the overwrite power margin. Assembly adjustment becomes easy.To widen the overwrite power margin, the temperature range satisfying the condition (2) of Equation 13 should be expanded to the lowest temperature.

【0090】しかし、式13が満足される温度範囲を
できるだけ高温まで拡大すると、式13の2が満足され
る温度範囲が狭くなり、逆に式13の2が満足される
温度範囲をできるだけ低温まで拡大すると、式13が満
足される温度範囲が、狭くなる。後者の結果、PR
ージンが低下し、そのため、繰り返し再生した時、次第
にC/N比が低下することになる。これを、「連続再生
の信頼性」の低下又は悪化と言う。
However, if the temperature range satisfying the equation 13 is expanded to the highest temperature possible, the temperature range satisfying the equation 13-2 becomes narrow, and conversely, the temperature range satisfying the equation 13-2 is reduced to the lowest temperature. When expanded, the temperature range in which Expression 13 is satisfied becomes narrower. As a result of the latter, the P R margin decreases, so that the C / N ratio gradually decreases when repeatedly reproduced. This is called deterioration or deterioration of "reliability of continuous reproduction".

【0091】仮にPR マージンを広くするために、式1
3に従ってM層の膜厚(t1 )を大きくする。しかし、
そうすると、今度はオーバーライト・パワーマージンが
狭くなる。そのため、ビーム強度が僅かに変動(±5%
以内)しても、良好なオーバーライト特性が得られなく
なってしまう。例えば、オーバーライト時のビットエラ
ーレートが増大する。
To widen the P R margin, Equation 1
The thickness (t 1 ) of the M layer is increased in accordance with 3. But,
Then, the overwrite power margin will be narrowed. Therefore, the beam intensity fluctuates slightly (± 5%
Even if it is within), good overwrite characteristics cannot be obtained. For example, the bit error rate at the time of overwriting increases.

【0092】このため、本発明者は、当初、M層の上に
M層より室温でMs (飽和磁化)×Hc(保磁力)の積
の小さい垂直磁気異方性を有する磁性層(以下、第2M
層と言う)を設け、これによりM層の見掛けの膜厚を増
加させた媒体を発明した。これにより、広いオーバーラ
イト・パワーマージンと広いPR マージンが達成され
た。しかしながら、この媒体はディスクの外周側で記録
感度がひどく低下すると言う欠点を示した。
Therefore, the present inventor initially found that a magnetic layer having a perpendicular magnetic anisotropy (hereinafter referred to as “Ms (saturation magnetization) × Hc (coercive force)”) on the M layer at room temperature has a smaller product. Second M
Layer), thereby increasing the apparent thickness of the M layer. Thus, a wide overwrite power margin and a wide P R margin was achieved. However, this medium has a drawback that the recording sensitivity is seriously reduced on the outer peripheral side of the disc.

【0093】本発明の目的は、「連続再生の信頼性」の
低下並びにディスクの外周側で記録感度のひどい低下を
同時に防ぐことにある。
An object of the present invention is to prevent the deterioration of "reliability of continuous reproduction" and the serious deterioration of recording sensitivity on the outer peripheral side of the disk at the same time.

【0094】[0094]

【課題を解決するための手段】そのため、本発明は、垂
直磁気異方性を有するM層とこれに交換結合した垂直磁
気異方性を有するW層の少なくとも2層を含み、レーザ
ービームを変調するだけでオーバーライトが可能な光磁
気記録ディスクにおいて、前記M層の上にM層より室温
でMs ・Hc積の小さい垂直磁気異方性を有する磁性層
(第2M層)を設け、かつ該磁性層の膜厚を外周に行く
に従い薄くしたことを特徴とする媒体を提供する。
Therefore, the present invention includes at least two layers, an M layer having perpendicular magnetic anisotropy and a W layer having perpendicular magnetic anisotropy exchange-coupled with the M layer, and modulates a laser beam. In the magneto-optical recording disk capable of overwriting only by providing the magnetic layer, a magnetic layer (second M layer) having a perpendicular magnetic anisotropy with a smaller Ms.Hc product at room temperature than the M layer is provided on the M layer, and Provided is a medium characterized in that the thickness of a magnetic layer is reduced toward the outer periphery.

【0095】[0095]

【作用】本発明は、M層の上にM層より相対的にMs H
C 積の小さい第2M層を設け、かつ、第2M層の膜厚を
内周から外周にかけて薄くしたので、オーバーライト・
パワーマージンの低下を十分に抑制しながら、PRマー
ジンを広げることができた。これにより良好なオーバー
ライト特性が得られる。それに加えて、外周での感度低
下もない。外周での感度を良くするには、W層の膜厚を
外周側で薄くする方法も考えられる。しかし、この方法
は、初期補助磁界Hini. の大きさがW層の膜厚に反比例
するので、外周側で大きなHini. が必要になってしまう
ことから、得策ではない。
According to the present invention, Ms H is formed on the M layer relatively to the M layer.
Since the second M layer having a small C product is provided and the film thickness of the second M layer is thinned from the inner circumference to the outer circumference,
It was possible to widen the P R margin while sufficiently suppressing the decrease in the power margin. As a result, good overwrite characteristics can be obtained. In addition, there is no reduction in sensitivity at the outer circumference. In order to improve the sensitivity on the outer circumference, a method of reducing the film thickness of the W layer on the outer circumference side may be considered. However, this method is not a good idea because the size of the initial auxiliary magnetic field Hini. Is inversely proportional to the film thickness of the W layer, and a large Hini. Is required on the outer peripheral side.

【0096】また、PR マージンを確保し、かつ、且つ
外周側での感度を向上させる別の方法として、W層又は
I層の下に熱拡散層(例えば、金属膜)を付加する方法
も考えられる。しかしながら、この方法は、熱の拡散が
増大するため、マークを長さ方向に見たとき、前端及び
後端の臨界がボケて、エッジが不明瞭になる。このこと
はC/N比の低下を招く。更に、マークを幅方向に見た
とき、マークが太って隣接トラックにまで及ぶ。これは
隣接トラックの情報を消去する問題や「クロストー
クと言う問題」を引き起こす。特に長いマークを書き込
むマーク長記録方式をとると、これらの問題は顕著
になる。
As another method for ensuring the P R margin and improving the sensitivity on the outer peripheral side, a method of adding a thermal diffusion layer (for example, a metal film) under the W layer or I layer is also available. Conceivable. However, this method increases the diffusion of heat, so that when the mark is viewed in the lengthwise direction, the criticality of the front end and the rear end is blurred and the edge becomes unclear. This causes a decrease in C / N ratio. Further, when the mark is viewed in the width direction, the mark becomes thick and extends to the adjacent track. This causes a problem of erasing information in adjacent tracks and a "problem called crosstalk". These problems become remarkable when a mark length recording system for writing a long mark is adopted.

【0097】本発明においては、M層及びW層、並びに
場合により設けられるC層(σW 調整層)、S層及びI
層は、基本発明や選択発明に従って選ばれる。本発明の
特徴である第2M層は、遷移金属−重希土類合金で構成
することが好ましい。第2M層の膜厚は、 200〜800 Å
程度が好ましい。但し、外周に行くに従い、この範囲内
で薄くする必要がある。
In the present invention, the M layer and the W layer, and optionally the C layer (σ W adjusting layer), the S layer and the I layer.
The layers are selected according to the basic invention or the selection invention. The second M layer, which is a feature of the present invention, is preferably composed of a transition metal-heavy rare earth alloy. The thickness of the 2nd M layer is 200-800 Å
A degree is preferable. However, it is necessary to reduce the thickness within this range as it goes to the outer circumference.

【0098】以下、実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0099】[0099]

【実施例1】 (1)まず、直径 130mm、厚さ1.2mm のガラス基板
(G)上に厚さ約 100μmの紫外線硬化型樹脂層(PP)
が形成された2P基板を用意する。この樹脂層(PP)上
には、内周側(半径r=30mm位置) から外周側(r=60
mm位置) にかけて多数本の溝が渦巻状に形成されてい
る。溝の寸法は、幅が0.5 μm、ピッチ1.6 μm、深さ
400Åである。 (2)6元のRFスパッタリング装置を用意し、2P基
板を該装置のチャンバー内にセットする。該装置のチャ
ンバー内を一旦7×10-7Torr. 以下の真空度に排気した
後、Arガスを5×10-3Torr. 導入する。そして、堆積(d
eposition)速度約2Å/秒で、スパッタリングを行な
う。
Example 1 (1) First, a glass substrate (G) having a diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm, and an ultraviolet curable resin layer (PP) having a thickness of about 100 μm.
A 2P substrate on which is formed is prepared. On this resin layer (PP), from the inner circumference side (radius r = 30 mm position) to the outer circumference side (r = 60 mm)
A large number of grooves are formed in a spiral shape up to the (mm position). Groove dimensions are: width 0.5 μm, pitch 1.6 μm, depth
It is 400Å. (2) Prepare a 6-element RF sputtering device, and set the 2P substrate in the chamber of the device. The chamber of the apparatus is once evacuated to a vacuum degree of 7 × 10 −7 Torr. Or less, and then Ar gas is introduced at 5 × 10 −3 Torr. And the deposition (d
eposition) Sputtering is performed at a speed of about 2Å / sec.

【0100】最初にSiターゲットを用い、Arガスに加え
てN2ガスをチャンバー内に導入して反応性スパッタリ
ングを行い、樹脂層の上に窒化シリコン(第1の保護
層) を700Åの厚さに形成する。次にN2 ガス導入を止
め、5×10-3Torr. のArガス中でGdFeCo合金ターゲット
を用いて、スパッタリングを行なう。これにより、第1
保護層の上に、Gd19Fe57Co24(注:添字の数字は、原子
%;以下同じ)の垂直磁化膜からなる第2M層を形成す
る。スパッタリング時に、ターゲットの上に膜厚補正板
を載せることにより、第2M層の膜厚を傾斜させた。こ
の第2層は内周側で 500Å、外周側で 200Åの膜厚を有
する。
First, using a Si target, N 2 gas was introduced into the chamber in addition to Ar gas for reactive sputtering, and silicon nitride (first protective layer) was deposited on the resin layer to a thickness of 700 Å. To form. Next, the introduction of N 2 gas is stopped, and sputtering is carried out in a 5 × 10 −3 Torr. Ar gas using a GdFeCo alloy target. This makes the first
A second M layer made of a perpendicular magnetic film of Gd 19 Fe 57 Co 24 (Note: subscript numbers are atomic%; the same applies below) is formed on the protective layer. At the time of sputtering, a film thickness correction plate was placed on the target to incline the film thickness of the second M layer. This second layer has a film thickness of 500Å on the inner peripheral side and 200Å on the outer peripheral side.

【0101】続いて真空状態を保持したまま、5×10-3
Torr. のArガス中でTbターゲットとFeCo合金ターゲット
の2つを用いて同時スパッタリングを行なう。これによ
り、第2M層の上に、膜厚t1 = 200ÅのTb23Fe72Co5
の垂直磁化膜からなるM層を形成する。続いて真空状態
を保持したまま、5×10-3Torr. のArガス中で第2GdFe
Co合金ターゲット系合金を用いてスパッタリングを行な
う。これにより、M層の上に、膜厚 200ÅのGd35Fe52Co
13の垂直磁化膜からなるC層を形成する。
Then, while maintaining the vacuum state, 5 × 10 −3
Simultaneous sputtering is performed using two Tb targets and FeCo alloy targets in Torr. Ar gas. Thereby, Tb 23 Fe 72 Co 5 having a film thickness t 1 = 200Å is formed on the second M layer.
Forming an M layer of the perpendicular magnetization film. Then, while maintaining the vacuum state, the second GdFe was added in Ar gas of 5 × 10 −3 Torr.
Sputtering is performed using a Co alloy target alloy. As a result, Gd 35 Fe 52 Co with a film thickness of 200 Å is formed on the M layer.
A C layer composed of 13 perpendicularly magnetized films is formed.

【0102】続いて真空状態を保持したまま、5×10-3
Torr. のArガス中で第6ターゲットとしてDyFeCo合金タ
ーゲットを用いてスパッタリングを行なう。これによ
り、C層の上に、膜厚t2 = 400ÅのDy30Fe35Co35の垂
直磁化膜からなるW層を形成する。最後に第1の保護層
と同様にして、W層の上に窒化シリコン(第2の保護
層)を 700Åの厚さに形成する。
Subsequently, while maintaining the vacuum state, 5 × 10 −3
Sputtering is performed using a DyFeCo alloy target as the sixth target in Ar gas of Torr. Thus, a W layer made of a perpendicularly magnetized film of Dy 30 Fe 35 Co 35 having a film thickness t 2 = 400Å is formed on the C layer. Finally, in the same manner as the first protective layer, silicon nitride (second protective layer) is formed on the W layer to a thickness of 700Å.

【0103】こうして、オーバーライト可能な光磁気記
録ディスクを得た。ディスク断面を図1に示す。 〔評価試験1〕初期補助磁界Hini. =4 kOe を与える
永久磁石及び「逆A向き」↓の記録磁界Hb = 300Oe
を与える永久磁石を備えた光磁気記録再生装置を用い、
ディスクを3600rpm の回転数(角速度一定)で回転させ
る。回転している媒体の最内周位置(r=30mm) のトラ
ックAと最外周位置(r=60mm) のトラックZにレーザ
ービーム(波長830nm )を照射する。レーザービーム
は、第1基準情報に従い高レベルPH と低レベルPL
の間で変調する。第1基準情報は、デュティ比=50%、
周波数 7.0MHzの信号である。低レベルはPL =3.0 mW
とし、高レベルはPH =6.0 mWとした。mWの値はいづれ
も磁性膜上での値である(以下、同じ)。これよりに、
両トラックに第1基準情報が記録されたはずである。こ
の後、PR =1.0 mwのレーザービームを照射して再生を
行い、C/N比を求める。 同じことをPH を1.0 mWず
つ増加させて繰り返す。試験はPH =12mWまで続ける。
得られた結果を「縦軸がC/N比、横軸がPH であるグ
ラフ(図18)」に示す。また、別途、再生信号中の2
次高調波が最低になるPH 値(“PH ”)を求める。 〔評価試験2〕前記試験1で得られた2次高調波が最低
になる“PH ”を用いて、試験1と同様にトラックA、
Zに記録する。その上で、PR =2.0 mwのレーザービー
ムを照射して106 回まで繰り返し再生し、C/N比の変
化を求める。これらの結果を図19に示す。
Thus, an overwritable magneto-optical recording disk was obtained. A cross section of the disk is shown in FIG. [Evaluation test 1] Permanent magnet giving initial auxiliary magnetic field Hini. = 4 kOe and recording magnetic field Hb = 300 Oe in "reverse A direction" ↓
Using a magneto-optical recording and reproducing device equipped with a permanent magnet that gives
Rotate the disk at 3600 rpm (constant angular velocity). A track A at the innermost peripheral position (r = 30 mm) and a track Z at the outermost peripheral position (r = 60 mm) of the rotating medium are irradiated with a laser beam (wavelength 830 nm). The laser beam modulates between the high level P H and the low level P L according to the first reference information. The first standard information is the duty ratio = 50%,
It is a signal with a frequency of 7.0 MHz. Low level is P L = 3.0 mW
And then, the high level is set to P H = 6.0 mW. The values of mW are all values on the magnetic film (hereinafter the same). Than this,
The first reference information should have been recorded on both tracks. After that, reproduction is performed by irradiating a laser beam of P R = 1.0 mw to obtain the C / N ratio. The same thing is repeated with increasing P H by 1.0 mW. The test continues until P H = 12 mW.
The obtained results are shown in "vertical axis C / N ratio, the horizontal axis is P H graph (FIG. 18)." Also, separately, 2 in the playback signal
The P H value (“P H ”) at which the next harmonic is the lowest is determined. [Evaluation Test 2] using the second harmonic obtained in Test 1 is the lowest "P H", Test 1 similarly to track A,
Record in Z. Then, a laser beam of P R = 2.0 mw is irradiated and the reproduction is repeated up to 10 6 times to obtain the change in C / N ratio. The results are shown in FIG.

【0104】図18の結果から、例えば、30dBに達する
H の値が、外周側(r=60mm)と内周側(r=30mm)
で余り差がない。このことは、外周側での“PH ”が、
内周側での“PH ”より僅かしか大きくないことを意味
する。このことから、外周側での記録感度が余り低下し
ておらず、良好であることが判る。また、図19の結果
から、内外周側とも「連続再生の信頼性」が高いことが
知れる。
From the result of FIG. 18, for example, the value of P H reaching 30 dB is the outer peripheral side (r = 60 mm) and the inner peripheral side (r = 30 mm).
There is not much difference. This means that "P H " on the outer peripheral side is
Means that only slightly larger than the "P H" of the inner peripheral side. From this, it is understood that the recording sensitivity on the outer peripheral side is not so much decreased and is good. Further, from the result of FIG. 19, it is known that “reliability of continuous reproduction” is high on both the inner and outer peripheral sides.

【0105】[0105]

【実施例2】本実施例のディスクは、第2M層がDy23Fe
54Co23である点を除けば、実施例1と同じディスクであ
る。このディスクも、評価試験1、2に供したところ、
図20、図21に示す通り、ほぼ同様の結果を得た。
Example 2 In the disk of this example, the second M layer is Dy 23 Fe.
The same disk as in Example 1 except that it is 54 Co 23 . This disk was also subjected to evaluation tests 1 and 2,
As shown in FIGS. 20 and 21, almost the same results were obtained.

【0106】[0106]

【比較例1】第2M層の膜厚を内周から外周まで 400Å
(一定) とした点を除いて、実施例1と同様にして、デ
ィスクを製造した。このディスクも、評価試験1、2に
供したところ、図22、図23に示す結果を得た。図2
3の結果から、内外周側とも「連続再生の信頼性」は高
いことが判る。しかし、図22の結果から、30dBに達す
るPH の値が、外周側(r=60mm)と内周側(r=30m
m)で差が大きい。このことは、外周側での“PH
が、内周側での“PH ”よりひどく大きいことを意味す
る。このことから、外周側での記録感度がひどく低下し
ていることが判る。このことは、外周側(r=60mm) で
例えば50dBに達するPH の値が11mW必要であることから
も知れる。実施例1(図18)では、その値は9mWであ
る。
[Comparative Example 1] The thickness of the second M layer is 400Å from the inner circumference to the outer circumference.
A disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that (fixed) was used. When this disc was also subjected to evaluation tests 1 and 2, the results shown in FIGS. 22 and 23 were obtained. Figure 2
From the result of No. 3, it can be seen that the "reliability of continuous reproduction" is high on both the inner and outer peripheral sides. However, from the result of FIG. 22, the value of P H reaching 30 dB was found to be at the outer circumference side (r = 60 mm) and the inner circumference side (r = 30 m).
There is a large difference in m). This means that "P H " on the outer peripheral side
But it means that severely than "P H" on the inner circumference side larger. From this, it can be seen that the recording sensitivity on the outer peripheral side is significantly lowered. This is the value of the outer peripheral side (r = 60 mm), for example, reaches 50 dB P H is become known also because it is necessary 11 mW. In Example 1 (FIG. 18), the value is 9 mW.

【0107】[0107]

【比較例2】第2M層を設けず、かつ、M層(TbFeCo)
の膜厚を 300Å(一定) とした点を除いて、実施例1と
同様にして、ディスクを製造した。このディスクも、評
価試験1、2に供したところ、図24、図25に示す結
果を得た。 図24の結果から、外周側での記録感度が
比較例1よりは改善されていることが判る。しかし、内
周側(r=30mm)での「連続再生の信頼性」が低いこと
が判る。
[Comparative Example 2] The second M layer is not provided and the M layer (TbFeCo)
A disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of was set to 300Å (constant). When this disc was also subjected to evaluation tests 1 and 2, the results shown in FIGS. 24 and 25 were obtained. From the results of FIG. 24, it can be seen that the recording sensitivity on the outer peripheral side is improved as compared with Comparative Example 1. However, it can be seen that the “reliability of continuous reproduction” on the inner peripheral side (r = 30 mm) is low.

【0108】[0108]

【発明の効果】本発明によれば、ディスクの内外周側で
の「連続再生の信頼性」の低下並びに外周側での記録感
度のひどい低下が防止される。そのため、ディスク全体
としてのオーバーライト特性が良好である。
According to the present invention, it is possible to prevent a decrease in "reliability of continuous reproduction" on the inner and outer peripheral sides of the disc and a serious decrease in recording sensitivity on the outer peripheral side. Therefore, the overwrite characteristics of the entire disc are good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】は、本発明の実施例にかかるオーバーライト可
能な光磁気記録ディスクの断面構造を示す概念図であ
る。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross-sectional structure of an overwritable magneto-optical recording disk according to an embodiment of the present invention.

【図2】は、光磁気記録方式の記録原理を説明する概念
図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating a recording principle of a magneto-optical recording method.

【図3】は、光磁気記録方式の再生原理を説明する概念
図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram for explaining the reproducing principle of the magneto-optical recording method.

【図4】は、基本発明に従いオーバーライトする場合の
レーザービームの波形図である。
FIG. 4 is a waveform diagram of a laser beam when overwriting according to the basic invention.

【図5】は、基本発明に従い2本のビームでオーバーラ
イトする場合のレーザービームの波形図である。
FIG. 5 is a waveform diagram of a laser beam when overwriting with two beams according to the basic invention.

【図6】は、オーバーライト可能な光磁気記録媒体のM
層、W層について保磁力と温度との関係を示すグラフで
ある。
FIG. 6 shows M of an overwritable magneto-optical recording medium.
It is a graph which shows the relationship between coercive force and temperature about a layer and a W layer.

【図7】は、M層とW層の磁化の向きを示す概念図であ
る。
FIG. 7 is a conceptual diagram showing the magnetization directions of the M layer and the W layer.

【図8】は、M層とW層の磁化の向きの変化を示す説明
図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing changes in the magnetization directions of the M layer and the W layer.

【図9】は、Pタイプ媒体について、低温サイクル、高
温サイクルの結果、M層とW層の磁化の向きがどう変化
するかを示す説明図である。いずれも室温での状態を示
す。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing how the magnetization directions of the M layer and the W layer change as a result of a low temperature cycle and a high temperature cycle for a P type medium. Both show the state at room temperature.

【図10】は、Aタイプ媒体について、低温サイクル、高
温サイクルの結果、M層とW層の磁化の向きがどう変化
するかを示す説明図である。いずれも室温での状態を示
す。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing how the magnetization directions of the M layer and the W layer change as a result of a low temperature cycle and a high temperature cycle for an A type medium. Both show the state at room temperature.

【図11】は、M層とW層の磁化の向きの変化を示す説明
図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing changes in the magnetization directions of the M layer and the W layer.

【図12】は、希土類(RE)原子の副格子磁化を示すベ
クトル(実線の矢)と遷移金属(TM)原子の副格子磁
化を示すベクトル(点線の矢)とを比較するための説明
図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram for comparing a vector indicating a sublattice magnetization of a rare earth (RE) atom (solid arrow) with a vector indicating a sublattice magnetization of a transition metal (TM) atom (dotted arrow). Is.

【図13】は、副格子磁化のベクトル(実線の矢及び点線
の矢)と合金の磁化の向きを示すベクトル(白抜き矢)
との関係を示す説明図である。
[Fig. 13] is a vector of the sublattice magnetization (solid arrow and dotted arrow) and a vector indicating the magnetization direction of the alloy (white arrow).
It is explanatory drawing which shows the relationship with.

【図14】は、M層とW層について、それぞれREリッ
チ、TMリッチに分けた場合、オーバーライト可能な媒
体が4つの分類(1象限〜4象限)に分けられることを
説明する説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating that, when the M layer and the W layer are respectively divided into RE-rich and TM-rich, overwritable media are divided into four categories (1 quadrant to 4 quadrants). is there.

【図15】は、オーバーライト可能な光磁気記録媒体No.
1−1のM層、W層について保磁力と温度との関係を示
すグラフである。
[Fig. 15] is a overwriteable magneto-optical recording medium No.
3 is a graph showing the relationship between coercive force and temperature for 1-1 M layer and W layer.

【図16】は、媒体No. 1−1の媒体について、低温サイ
クルと高温サイクルの結果、M層とW層の磁化の向きが
どう変化するかを示す概念図である。
FIG. 16 is a conceptual diagram showing how the magnetization directions of the M layer and the W layer change as a result of a low temperature cycle and a high temperature cycle for the medium of medium No. 1-1.

【図17】は、選択発明にかかる4層膜構造のオーバーラ
イト可能な光磁気記録媒体について、そのオーバーライ
ト原理を説明する説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining the overwrite principle of the overwritable magneto-optical recording medium having a four-layer film structure according to the selected invention.

【図18】は、実施例1のディスクについて、記録感度を
示すグラフである。
FIG. 18 is a graph showing the recording sensitivity of the disc of Example 1.

【図19】は、実施例1のディスクについて、「連続再生
の信頼性」を示すグラフである。
[Fig. 19] is a graph showing "reliability of continuous reproduction" with respect to the disc of Example 1.

【図20】は、実施例2のディスクについて、記録感度を
示すグラフである。
FIG. 20 is a graph showing the recording sensitivity of the disc of Example 2.

【図21】は、実施例2のディスクについて、「連続再生
の信頼性」を示すグラフである。
FIG. 21 is a graph showing “reliability of continuous reproduction” with respect to the disc of Example 2.

【図22】は、比較例1のディスクについて、記録感度を
示すグラフである。
FIG. 22 is a graph showing the recording sensitivity of the disc of Comparative Example 1.

【図23】は、比較例1のディスクについて、「連続再生
の信頼性」を示すグラフである。
FIG. 23 is a graph showing “reliability of continuous reproduction” for the disc of Comparative Example 1.

【図24】は、比較例2のディスクについて、記録感度を
示すグラフである。
FIG. 24 is a graph showing the recording sensitivity of the disc of Comparative Example 2.

【図25】は、比較例2のディスクについて、「連続再生
の信頼性」を示すグラフである。
FIG. 25 is a graph showing “reliability of continuous reproduction” for the disc of Comparative Example 2.

【主要部分の符号の説明】[Explanation of symbols for main parts]

L………レーザービーム Lp ……直線偏光 B1 ……「A向き」の磁化を有するマーク(又はマー
ク) B0 ……「逆A向き」の磁化を有するマーク(又はマー
ク) S………基板 MO……垂直磁化膜(光磁気記録層) G………ガラス基板 PP………紫外線硬化型樹脂層
G+PP=2P基板 SiN……第1保護層又は第2保護層 第2M…第2メモリー層 M………メモリー層 C………σw 調整層 W………ライティング層
L ………… Laser beam Lp …… Linearly polarized light B 1 …… Mark (or mark) having magnetization in “A direction” B 0 …… Mark (or mark) having magnetization in “reverse A direction” S ……… Substrate MO ...... Perpendicular magnetic film (magneto-optical recording layer) G ………… Glass substrate PP ………… UV curable resin layer G + PP = 2P substrate SiN …… First protective layer or second protective layer Second M… Second memory Layer M ………… Memory layer C ………… σw adjustment layer W ………… Lighting layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 垂直磁気異方性を有するメモリー層とこ
れに交換結合した垂直磁気異方性を有するライティング
層の少なくとも2層を含み、レーザービームを変調する
だけでオーバーライトが可能な光磁気記録ディスクにお
いて、 前記メモリー層の上にメモリー層より室温でMs ・Hc
積の小さい垂直磁気異方性を有する磁性層を設け、かつ
該磁性層の膜厚を外周に行くに従い薄くしたことを特徴
とするディスク。但し、Ms は飽和磁化で、Hcは保磁
力である。
1. A magneto-optical device which comprises at least two layers, a memory layer having perpendicular magnetic anisotropy and a writing layer exchange-coupled with the magnetic layer having perpendicular magnetic anisotropy, and which can be overwritten simply by modulating a laser beam. In the recording disc, Ms.Hc is formed on the memory layer at room temperature from the memory layer.
A disk comprising a magnetic layer having a perpendicular magnetic anisotropy having a small product, and having a film thickness of the magnetic layer made thinner toward the outer periphery. However, Ms is saturation magnetization and Hc is coercive force.
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