JPH05143177A - Operating device for furnace - Google Patents

Operating device for furnace

Info

Publication number
JPH05143177A
JPH05143177A JP3309348A JP30934891A JPH05143177A JP H05143177 A JPH05143177 A JP H05143177A JP 3309348 A JP3309348 A JP 3309348A JP 30934891 A JP30934891 A JP 30934891A JP H05143177 A JPH05143177 A JP H05143177A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control
sample
furnace
pattern
measuring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3309348A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Nakamu
栄治 中務
Takashi Honda
敬 本多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP3309348A priority Critical patent/JPH05143177A/en
Publication of JPH05143177A publication Critical patent/JPH05143177A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To eliminate the necessity of complicated pattern setting work relating to the manipulated variables of temperature, pressure, and so on. CONSTITUTION:A microcomputer 6 calculates manipulated variables I, P based upon a deviation epsilon between control variables x, w measured by a measuring instrument 4 and objective values x p, wp set up by a setter 5 and outputs control signals s1, s2. In this case, the microcomputer 6 sequentially stores the calculated manipulated variables I, P in a memory 6c, and thereafter executes memory playback control based upon the stored data.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、デワックス処理や焼結
処理を適正に進行させるために有効となる炉の操業装置
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a furnace operating device which is effective for properly performing dewaxing or sintering.

【0002】[0002]

【従来の技術】デワックス処理工程や焼結処理工程等で
は、炉内に収容した試料の寸法や重量を時間経過ととも
に一定のパターンで変化させていくことが質の高い最終
製品を得る上で極めて重要とされている。しかし、従来
では一旦炉内に収容した試料の寸法や重量を処理中に測
定することは極めて困難であったため、温度、圧力等を
フィードバック制御して理想的な試料変化パターンを実
現する手法が採用できず、経験や感に頼って望ましいと
思われる温度・圧力等を時間経過と対応させて規定する
ようにしていた。
2. Description of the Related Art In the dewaxing process, the sintering process, etc., it is extremely important to change the size and weight of the sample stored in the furnace in a certain pattern over time in order to obtain a high quality final product. It is considered important. However, in the past, it was extremely difficult to measure the size and weight of the sample once stored in the furnace during processing. Therefore, the method of feedback control of temperature, pressure, etc. to realize an ideal sample change pattern was adopted. It was not possible to do so, and depending on experience and feeling, the temperature and pressure that were considered desirable were specified in correspondence with the passage of time.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
手法に頼っている限り、試料が異なるごとに、寸法等の
変化パターンと炉内温度等の変化パターンとを試行錯誤
によって関連づけなければならない。そのため、パター
ン設定作業に多大な労力と時間を要し、稼動効率や製品
コストに莫大な悪影響が及ぶという不具合を生じる。ま
た、仮にフィードバック制御を行ったとしても、処理ご
とに測定用の試料を準備しなければならず、また、炉内
の有効スペースも減少した。
However, as long as the method is relied upon, the change pattern of dimensions and the change pattern of furnace temperature must be associated with each other by trial and error for each different sample. Therefore, a great deal of labor and time are required for the pattern setting work, resulting in a problem that the operation efficiency and the product cost are enormously adversely affected. Further, even if feedback control is performed, a sample for measurement must be prepared for each treatment, and the effective space in the furnace is reduced.

【0004】本発明は、このような課題を有効に解決す
ることを目的としている。
An object of the present invention is to effectively solve such a problem.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
The present invention adopts the following constitution in order to achieve the above object.

【0006】すなわち、本発明に係る炉の操業装置は、
図1に示すように、炉a内の被制御量すなわち試料Aの
寸法xや重量wなどを測定する測定手段bと、その被制
御量x、w等の理想的な時間変化パターンを設定する目
標値設定手段cと、この目標値設定手段cにより与えら
れる目標値xp 、wp と前記測定手段bにより実測され
る被制御量x、wとの偏差εを求め、それを零に収束さ
せるような温度T、圧力P等の操作量をゲインGを掛け
る等の手法により算出して制御信号s1 、s2 等を出力
する制御手段dと、この制御手段dから入力される制御
信号s1 、s2 等に対応した操作量T、P等を実現する
操作手段e1 、e2 等と、前記制御手段dで算出される
操作量T、P等を経時的な処理パターンとして保持する
記憶手段fとを具備してなり、前記制御手段dが、前記
記憶手段fに保持された処理パターンを取り出して制御
信号s1 、s2 等を再出力し得るように構成されている
ことを特徴とする。
That is, the furnace operating apparatus according to the present invention is
As shown in FIG. 1, a measuring means b for measuring the controlled variable in the furnace a, that is, the dimension x and the weight w of the sample A, and an ideal time change pattern of the controlled variable x, w, etc. are set. The target value setting means c, and the deviations ε between the target values x p , w p given by the target value setting means c and the controlled variables x, w actually measured by the measuring means b are obtained and converged to zero. A control means d for calculating the manipulated variable such as the temperature T and the pressure P by a method such as multiplying the gain G and outputting the control signals s 1 , s 2 and the like, and a control signal input from the control means d The operation means e 1 , e 2 etc. for realizing the operation quantities T, P etc. corresponding to s 1 , s 2 etc. and the operation quantities T, P etc. calculated by the control means d are held as a temporal processing pattern. And a storage unit f for storing the control unit d in the storage unit f. It is characterized in that the processing pattern is taken out and the control signals s 1 , s 2, etc. can be output again.

【0007】なお、炉内に収容された試料の寸法、重量
を正確に測定するためには、測定手段を言わば動的測定
法なる手法に基づいて構成することが有効となる。この
動的測定法を採用した測定手段としては、上向面上に試
料を保持する受枠と、この受枠が載置される支持部と、
受枠と試料の間に相対変位可能に配設され受枠を試料と
ともに持上げ支持部から離間させるプローブと、このプ
ローブが試料と受枠の間で該受枠を持上げずに相対変位
したときのプローブ上端部の相対変位量を検出する変位
検出手段と、このプローブが受枠を持上げたときのプロ
ーブ上端部に掛かる重量を検出する重量検出手段とを具
備してなり、試料の上下寸法の変化量を求め、ほぼ同時
に重量の変化量を求め得るようにしたものが挙げられ
る。
In order to accurately measure the size and weight of the sample contained in the furnace, it is effective to construct the measuring means based on a method called a dynamic measuring method. As the measuring means adopting this dynamic measuring method, a receiving frame for holding the sample on the upward surface, and a supporting portion on which the receiving frame is placed,
A probe which is disposed so as to be relatively displaceable between the receiving frame and the sample and separates the receiving frame from the lifting support together with the sample, and a probe upper end portion when the probe is relatively displaced between the sample and the receiving frame without lifting the receiving frame. It comprises a displacement detecting means for detecting the relative displacement amount and a weight detecting means for detecting the weight applied to the upper end of the probe when the probe lifts the receiving frame. At the same time, it is possible to obtain the amount of change in weight.

【0008】[0008]

【作用】このような構成のものであれば、目標値設定手
段cにおいて、被制御量x、w等の理想的な時間変化パ
ターンを設定するだけで、制御手段dがその理想的な時
間変化パターンを自動的に遂行することになる。すなわ
ち、炉a内に試料Aが収容され処理が開始された後に、
ある時刻において被制御量x、w等が目標値xp 、wp
等から外れた場合には、制御手段dがそれらの偏差εを
0に収束させるような操作量T、P等を比較演算機能に
よって算出し、それに対応する新たな制御信号s1 、s
2 等を出力することになる。そのため、この装置は操作
量T、P等のパターン設定を人為的に行わずとも、制御
手段dがそれを模索しながら被制御量x、w等を常に目
標値xp 、wp ないしその近傍の値にフィードバック制
御することになる。
With such a structure, the target value setting means c merely sets an ideal time change pattern of the controlled variables x, w, etc., and the control means d causes the ideal time change. The pattern will be executed automatically. That is, after the sample A is housed in the furnace a and the treatment is started,
At a certain time, the controlled variables x, w, etc. are the target values x p , w p
When the values deviate from the above, the control means d calculates the manipulated variables T, P, etc. that cause the deviation ε to converge to 0 by the comparison calculation function, and the corresponding new control signals s 1 , s.
2nd magnitude will be output. Therefore, in this apparatus, even if the pattern of the manipulated variables T, P, etc. is not artificially set, the controlled means x seeks the pattern, and the controlled variables x, w etc. are always set to the target values x p , w p or their vicinity. Feedback control will be performed on the value of.

【0009】しかも、制御手段dが算出した操作量T、
P等の処理パターンは記憶手段fによって保持され、制
御手段dがその記憶手段f内の処理パターンに沿って制
御信号s1 、s2 等を再出力し得るように構成されてい
る。そのため、取り扱われる試料Aの種類や量の違い、
あるいは炉aの経年変化などが制御の再現性を損なわな
い範囲内にある限り、この装置は再度のフィードバック
制御を必要とせず、測定用の試料A、測定手段b、目標
値設定手段c並びに制御手段d中の比較演算機能部分を
取り外してオープンループ制御を行うことが可能にな
る。
Moreover, the operation amount T calculated by the control means d,
The processing pattern such as P is held by the storage means f, and the control means d is configured to be able to re-output the control signals s 1 , s 2 etc. in accordance with the processing pattern in the storage means f. Therefore, the difference in the type and amount of sample A handled,
Alternatively, as long as the aging of the furnace a is within the range that does not impair the reproducibility of control, this device does not require feedback control again, and the sample A for measurement, the measuring means b, the target value setting means c and the control It is possible to perform the open loop control by removing the comparison calculation function part in the means d.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の一実施例を、図2および図3
を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
Will be described.

【0011】この炉aは、例えばデワックス処理と焼結
処理とを行い得るように構成されたもので、炉a内に配
置した処理物Aを加熱するヒータ1と、このヒータ1に
通電を行う操作手段たる温度コントローラ2と、炉内ガ
スや処理ガス等の導出入系路にあって流量調整を司どる
操作手段たる圧力コントローラ3とを具備してなる。こ
のような炉aにおいて、本実施例は、測定手段たる測定
器4と、目標値設定手段たる設定器5と、制御手段およ
び記憶手段の役割を担うマイクロコンピュータユニット
6とを備えた操業装置を適用している。
The furnace a is constructed so as to be able to perform dewaxing and sintering, for example, and the heater 1 for heating the object to be processed A arranged in the furnace a and the heater 1 are energized. It is provided with a temperature controller 2 as an operating means, and a pressure controller 3 as an operating means for controlling the flow rate in the inlet / outlet passage of the in-furnace gas, the processing gas and the like. In such a furnace a, the present embodiment provides an operating apparatus including a measuring device 4 as a measuring device, a setting device 5 as a target value setting device, and a microcomputer unit 6 serving as a control device and a storage device. Applied.

【0012】測定器4は、この炉1の被制御量である試
料Aの寸法xおよび重量wをリアルタイムで測定するた
めのもので、例えば、本発明者が特願平3−63590
号で提案しているものが好適に適用可能である。その構
成は、図3に概略的に示すように、上向面41a上に試
料Aを保持する受枠41と、温度補償台を兼ねた試料台
41bと、この受枠41が載置される支持部42と、受
枠41および試料Aの間に相対変位可能に配設され受枠
41を試料Aとともに持上げ支持部42から離間させ得
るプローブ43と、このプローブ43が試料Aと受枠4
1の間で該受枠41を持上げずに相対変位したときのプ
ローブ43の相対変位量を検出するマグネスケール等の
変位検出手段44と、このプローブ43が受枠41を持
上げたときのプローブ43の上端部に掛かる重量を検出
するロードセル等の重量検出手段45とを具備してな
る。そして、変位検出手段44が検出する相対変位量を
試料Aが存在しないときに計測した相対変位量(最大可
変量)から差し引くことによって試料Aの寸法xを求
め、また、重量検出手段45が検出する重量から試料A
が存在しないときの重量を差し引くことによって試料A
の重量wを求めるようにしている。
The measuring device 4 is for measuring the dimension x and the weight w of the sample A, which are the controlled quantities of the furnace 1, in real time. For example, the present inventor proposes Japanese Patent Application No. 3-63590.
The one proposed in No. 1 is applicable as appropriate. As shown schematically in FIG. 3, the structure is such that a receiving frame 41 for holding the sample A on the upward surface 41a, a sample table 41b also serving as a temperature compensating table, and a supporting section on which the receiving frame 41 is placed. 42, a probe 43 disposed between the receiving frame 41 and the sample A so as to be relatively displaceable, and capable of separating the receiving frame 41 together with the sample A from the lifting support portion 42.
Displacement detecting means 44 such as a magnescale for detecting the relative displacement amount of the probe 43 when the receiving frame 41 is relatively lifted without raising the receiving frame 41, and the upper end of the probe 43 when the probe 43 raises the receiving frame 41. And a weight detecting means 45 such as a load cell for detecting the weight applied to the part. Then, the dimension x of the sample A is obtained by subtracting the relative displacement amount detected by the displacement detection means 44 from the relative displacement amount (maximum variable amount) measured when the sample A does not exist, and the weight detection means 45 detects it. From the weight to be sample A
Sample A by subtracting the weight in the absence of
The weight w is calculated.

【0013】また、設定器5では、試料Aの寸法xや重
量wが処理開始とともにどのように時間的に推移するの
が望ましいかを設定する。例えば、デワックス処理では
脱脂が急速に進行すると最終製品にひび割れ等の欠陥が
生じるため重量wを徐々に減少させていく必要があり、
また、焼結工程では焼結が急速に進行するとやはり最終
製品にひび割れ等の欠陥が生じるため寸法xを徐々に減
少させていく必要がある。このような諸条件を勘案し
て、時間変化パターンのタイムチャートを作製する。そ
のタイムチャートは、マイクロコンピュータユニット6
のメモリ6c内に格納する。
Further, the setting device 5 sets how it is desirable that the dimension x and the weight w of the sample A change temporally with the start of processing. For example, in dewaxing, if degreasing progresses rapidly, defects such as cracks will occur in the final product, so it is necessary to gradually reduce the weight w.
Further, in the sintering process, when the sintering progresses rapidly, defects such as cracks still occur in the final product, so it is necessary to gradually reduce the dimension x. Taking these conditions into consideration, a time chart of a time change pattern is prepared. The time chart shows the microcomputer unit 6
Stored in the memory 6c.

【0014】マイクロコンピュータユニット6は、前記
メモリ6cの他にCPU6a及びインターフェース6b
を備えてなる通常のもので、メモリ6c内には主制御プ
ログラムが格納されており、そのプログラムに沿って、
一定のサイクルタイムで設定器5により与えられる目標
値xp 、wp と前記測定器4により実測される被制御量
x、wとの偏差を求め、それに適当なゲインを掛けて偏
差εを解消し得るような操作量T、Pを算出し、それら
を温度コントローラ2及び圧力コントローラ3にそれぞ
れ制御信号s1 、s2として出力する制御を行うように
なっている。また、そのプログラムは、操作量T、Pが
算出される度に、それをメモリ6c内の他の領域に順次
ストアしてゆくようにしている。一方、前記制御信号s
1 が入力された温度コントローラ2はその信号s1 を増
幅して駆動電流Iをヒータ1に通電し、また、前記制御
信号s2 が入力された圧力コントローラ2はその信号s
2 により電磁バルブ等を作動させて所定のバルブ開度を
実現するようにしている。
The microcomputer unit 6 includes a CPU 6a and an interface 6b in addition to the memory 6c.
The main control program is stored in the memory 6c, and in accordance with the program,
The deviation between the target values x p , w p given by the setting device 5 and the controlled variables x, w actually measured by the measuring device 4 is obtained at a constant cycle time, and the deviation ε is eliminated by multiplying it by an appropriate gain. The control values are calculated so that the possible manipulated variables T and P are calculated and output to the temperature controller 2 and the pressure controller 3 as control signals s 1 and s 2 , respectively. In addition, the program sequentially stores the manipulated variables T and P in other areas of the memory 6c each time the manipulated variables T and P are calculated. On the other hand, the control signal s
The temperature controller 2 to which 1 is input amplifies the signal s 1 to supply the drive current I to the heater 1, and the pressure controller 2 to which the control signal s 2 is input, outputs the signal s 1.
By 2 the electromagnetic valve etc. is operated to achieve a predetermined valve opening.

【0015】なお、前記マイクロコンピュータユニット
6は、上述した処理を通じて1チャージ分のデータが採
取された以降は、他のより簡易な補助制御プログラムを
利用することにより、それらのデータすなわち操作量
T、Pをメモリ6cから順次取り出して前記両コントロ
ーラ2、3に制御信号s1 、s2 を出力する所謂メモリ
プレイバック動作を行い得るようになっている。
After the data for one charge is collected through the above-mentioned processing, the microcomputer unit 6 uses another simpler auxiliary control program to obtain those data, that is, the manipulated variable T, A so-called memory playback operation in which P is sequentially taken out from the memory 6c and the control signals s 1 and s 2 are output to both the controllers 2 and 3 can be performed.

【0016】このような構成のものであれば、設定器5
において、被制御量x、w等の理想的な時間変化パター
ンを設定するだけで、マイクロコンピュータユニット6
がその理想的な時間変化パターンを自動制御してくれる
ことになる。このため、従来の経験と感に頼るだけのパ
ターン設定作業が不要になり、その結果、炉の稼動効率
や歩留まりを向上させ、製品コストを引き下げることが
可能になる。しかも、一旦データが採取されれば、マイ
クロコンピュータユニット6が同一処理をプレイバック
し得るので、取り扱われる試料Aの種類や量の違い、あ
るいは炉aの経年変化などが制御の再現性を損なわない
と見なし得る限り、この装置は同一処理に関して再度の
フィードバック制御を必要としない。このため、同一規
格の焼結品を反復継続して多数製造するような業者に対
しては、試料A、測定器4、設定器5を不要にし、補助
プログラムだけをマイクロコンピュータ6に搭載して出
荷することが可能になり、稼動装置自体のコストを引き
下げるとともに、装置の小形化によるスペースファクタ
ーおよび炉内の有効スペースの向上等を図ることができ
るものとなる。
With such a configuration, the setting device 5
In the above, by simply setting an ideal time change pattern of the controlled variables x, w, etc., the microcomputer unit 6
Will automatically control the ideal time change pattern. Therefore, the pattern setting work relying on the conventional experience and feeling is unnecessary, and as a result, it is possible to improve the operating efficiency and yield of the furnace and reduce the product cost. Moreover, once the data is collected, the microcomputer unit 6 can play back the same processing, so that the reproducibility of control is not impaired by the difference in the type and amount of the sample A to be handled, the secular change of the furnace a, or the like. As far as it can be considered, this device does not require feedback control again for the same process. Therefore, for a manufacturer who repeatedly manufactures a large number of sintered products of the same standard repeatedly, the sample A, the measuring device 4, and the setting device 5 are unnecessary, and only the auxiliary program is installed in the microcomputer 6. It becomes possible to ship, and the cost of the operating device itself can be reduced, and the space factor and effective space in the furnace can be improved by downsizing the device.

【0017】なお、前記実施例では被制御量として試料
Aの寸法xおよび重量wを対象としたが、何れか一方の
みを対象にしたり、他の被制御量を対象にしてもよい。
操作量についても同様で、前記実施例では温度Tおよび
圧力Pが対象になっているが、何れか一方のみ、あるい
は他の操作量を対象にしてもよい。他の被制御量として
は、例えば炉内に反応性ガスを導入しながら焼結する反
応焼結分野において、その反応性ガスに要求される炉内
分圧等が挙げられる。その他の構成も、本発明の趣旨を
逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
In the above embodiment, the dimension x and the weight w of the sample A are targeted as the controlled variables, but only one of them may be targeted, or another controlled variable may be targeted.
The same applies to the manipulated variable. In the above embodiment, the temperature T and the pressure P are targeted, but either one or other manipulated variables may be targeted. Other controlled amounts include, for example, in-reactor partial pressure required for the reactive gas in the field of reactive sintering where sintering is performed while introducing the reactive gas into the furnace. Other configurations can be variously modified without departing from the spirit of the present invention.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明に係る炉の操業装置は、以上説明
した構成であるから、被制御量の理想的な時間変化パタ
ーンを設定するだけで、制御手段がその理想的な時間変
化パターンを自動的に遂行することになる。そのため、
操作量のパターン設定を人為的に行わずとも制御量を最
適値にフィードバック制御することが可能になり、稼動
効率や歩留まりを向上させ、製品コストを引き下げる効
果を奏する。しかも、制御手段は一旦採取した処理パタ
ーンに沿ってオープンループ制御を行い得るので、同一
処理を反復する場合は装置の構成要素の一部を取り外し
て実施することができ、装置自体のコストの引き下げ等
にも奏効する。
Since the furnace operating apparatus according to the present invention has the above-described structure, the control means can set an ideal time change pattern of the controlled quantity only by setting the ideal time change pattern. It will be carried out automatically. for that reason,
The control amount can be feedback-controlled to the optimum value without artificially setting the operation amount pattern, and the operation efficiency and the yield can be improved, and the product cost can be reduced. Moreover, since the control means can perform open loop control according to the once-collected processing pattern, when repeating the same processing, it is possible to remove some of the constituent elements of the apparatus and implement it, thus reducing the cost of the apparatus itself. Also works well.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の構成を説明するための図。FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of the present invention.

【図2】本発明の一実施例を示すシステム図。FIG. 2 is a system diagram showing an embodiment of the present invention.

【図3】同実施例で使用した測定器の説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of a measuring instrument used in the same example.

【符号の説明】 A…試料 a…炉 b…測定手段 c…目標値設定手段 e1 、e2 …操作手段 f…記憶手段 P…操作量(圧力) s1 、s2 …制御信号 w…制御量(重量) x…制御量(寸法) xp 、wp …目標値 T…操作量(温度) ε…偏差 2…操作手段(温度コントローラ) 3…操作手段(圧力コントローラ) 4…測定手段(測定器) 5…目標値設定手段(設定器) 6…制御手段(マイクロコンピュータユニット) 6c…記憶手段(メモリ)A ... sample a ... furnace b ... measuring means c ... target value setting means e 1, e 2 ... operating means f ... memory means P ... operation amount [Description of symbols] (pressure) s 1, s 2 ... control signal w ... control amount (weight) x ... control amount (dimension) x p, w p ... target value T ... manipulated variable (temperature) epsilon ... deviation 2 ... operating means (temperature controller) 3 ... operating means (pressure controller) 4 ... measuring means (Measuring device) 5 ... Target value setting means (setting device) 6 ... Control means (microcomputer unit) 6c ... Storage means (memory)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】試料の変化量を測定する測定手段と、その
変化量の理想的な時間変化パターンを設定する目標値設
定手段と、この目標値設定手段により与えられる目標値
と前記測定手段により実測される変化量との偏差を求
め、それを零に収束させるような温度、圧力等の操作量
を算出して制御信号を出力する制御手段と、この制御手
段から入力される制御信号に対応した操作量を実現する
操作手段と、前記制御手段で算出される操作量を経時的
な処理パターンとして保持する記憶手段とを具備してな
り、前記制御手段が、前記記憶手段に保持された処理パ
ターンを取り出して制御信号を再出力し得るように構成
されていることを特徴とする炉の操業装置。
1. A measuring means for measuring a variation of a sample, a target value setting means for setting an ideal time variation pattern of the variation, a target value given by the target value setting means and the measuring means. Corresponds to control means for obtaining a deviation from the actually measured change amount, calculating a manipulated variable such as temperature and pressure that converges it to zero, and outputting a control signal, and a control signal input from this control means. And a storage unit for storing the operation amount calculated by the control unit as a temporal processing pattern, wherein the control unit stores the process stored in the storage unit. An apparatus for operating a furnace, wherein the pattern is taken out and a control signal can be output again.
JP3309348A 1991-11-25 1991-11-25 Operating device for furnace Pending JPH05143177A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3309348A JPH05143177A (en) 1991-11-25 1991-11-25 Operating device for furnace

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3309348A JPH05143177A (en) 1991-11-25 1991-11-25 Operating device for furnace

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05143177A true JPH05143177A (en) 1993-06-11

Family

ID=17991933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3309348A Pending JPH05143177A (en) 1991-11-25 1991-11-25 Operating device for furnace

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05143177A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
LU90601B1 (en) * 1999-08-21 2001-06-13 Ald Vacuum Techn Ag Device for dewaxing sintered material
CN104460737A (en) * 2014-10-29 2015-03-25 宁波恒普真空技术有限公司 Multipoint broken line furnace temperature correction method for vacuum degreasing sintering furnace
CN116793090A (en) * 2023-08-29 2023-09-22 沈阳广泰真空科技股份有限公司 Automatic protection feeding heat treatment control system and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
LU90601B1 (en) * 1999-08-21 2001-06-13 Ald Vacuum Techn Ag Device for dewaxing sintered material
CN104460737A (en) * 2014-10-29 2015-03-25 宁波恒普真空技术有限公司 Multipoint broken line furnace temperature correction method for vacuum degreasing sintering furnace
CN116793090A (en) * 2023-08-29 2023-09-22 沈阳广泰真空科技股份有限公司 Automatic protection feeding heat treatment control system and method
CN116793090B (en) * 2023-08-29 2023-10-27 沈阳广泰真空科技股份有限公司 Automatic protection feeding heat treatment control system and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6730885B2 (en) Batch type heat treatment system, method for controlling same, and heat treatment method
US8150784B2 (en) Control system and method for controlled object in time variant system with dead time, such as single crystal production device by czochralski method
KR101097945B1 (en) Temperature control method, method of obtaining a temperature correction value, method of manufaturing a semiconductor device and substrate treatment apparatus
JP4613751B2 (en) Manufacturing condition calculation method, quality adjustment method, steel manufacturing method, manufacturing condition calculation device, quality adjustment system, and computer program
JP4955237B2 (en) Control system and method for time-varying control target with dead time
JP5028352B2 (en) Temperature control method, temperature correction value acquisition method, semiconductor manufacturing method, substrate processing apparatus
JP4955238B2 (en) Single crystal manufacturing apparatus and method
JP5116222B2 (en) Single crystal manufacturing apparatus and method
JPH05143177A (en) Operating device for furnace
KR100864117B1 (en) Heat treatment method and heat treatment apparatus
JPH08128936A (en) Thermal fatigue tester
JP2618974B2 (en) Temperature control device for semiconductor processing furnace
JP2002297244A (en) Method for controlling pressure of reaction chamber and device for the same
JP3858833B2 (en) Material testing machine
JPH09198148A (en) Device and method for determining control parameter for heat treating device
US8150558B2 (en) Temperature control method and temperature controller
JP3368183B2 (en) Material testing machine
JP3608302B2 (en) Fatigue testing machine
JPH08255003A (en) Rolling mill controller
JPH06274231A (en) Device and method for controlling converter blowing
JP2004069659A (en) Thermal fatigue testing machine
JP2745122B2 (en) Sample analysis method by heating
JP2000148205A (en) Coefficient deciding device for command arithmetic expression of feedback controller
JPH10222206A (en) Test device
JPH1034216A (en) Method for controlling sheet crown in tandem mill and device therefor