JPH0511470U - Heat sink for semiconductor laser - Google Patents

Heat sink for semiconductor laser

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JPH0511470U
JPH0511470U JP5803691U JP5803691U JPH0511470U JP H0511470 U JPH0511470 U JP H0511470U JP 5803691 U JP5803691 U JP 5803691U JP 5803691 U JP5803691 U JP 5803691U JP H0511470 U JPH0511470 U JP H0511470U
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semiconductor laser
heat sink
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修一 都築
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体レーザのジャンクションダウンによる
載置においても、その側面に形成されている光の出射部
が隠されることなく、良好に半田付けできる。 【構成】 ヒートシンク本体21の一面に台形状部23
を形成し、その台形状部23の頂面23aに縞状の溝2
4を形成する。この頂面23aにメタライズ層を形成
し、半導体レーザを半田付けする。この際、余分な半田
は溝24内に流し込み、かつ溝24の端部から流れ出て
台形状部23の斜面23bを流れ落ちるため、半導体レ
ーザの側面を覆うような半田の盛り上がりは発生しな
い。
(57) [Abstract] [Purpose] Even when the semiconductor laser is mounted by the junction down, the light emitting portion formed on the side surface of the semiconductor laser can be soldered well without being hidden. [Configuration] A trapezoidal portion 23 is provided on one surface of the heat sink body 21.
And the striped groove 2 is formed on the top surface 23a of the trapezoidal portion 23.
4 is formed. A metallization layer is formed on the top surface 23a, and the semiconductor laser is soldered. At this time, the excess solder is poured into the groove 24, flows out from the end of the groove 24, and flows down the slope 23b of the trapezoidal portion 23, so that the solder does not rise to cover the side surface of the semiconductor laser.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この考案は半導体レーザの搭載に用いられ、その半導体レーザの発熱を吸収す るヒートシンクの構造に関するものである。 The present invention relates to a structure of a heat sink used for mounting a semiconductor laser and absorbing heat generated by the semiconductor laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

半導体レーザの例えばサブマウントなどへの搭載においては、半導体レーザの 放熱をよくするために、半導体レーザをヒートシンク上に載置し、このヒートシ ンクをサブマウントに搭載するという方法が用いられている。 このようにして用いられている従来の半導体レーザ用ヒートシンク10は、図 4に示すような構造を有している。ヒートシンク本体11は、熱伝導性のよいシ リコン、窒化アルミニウムなどの材料が直方体形状に加工されたものであり、こ のヒートシンク本体11の上下両面に金などのメタライズ層12がそれぞれ形成 されている。 In mounting a semiconductor laser on, for example, a submount, a method of mounting the semiconductor laser on a heat sink and mounting the heat sink on the submount is used in order to improve heat dissipation of the semiconductor laser. The conventional semiconductor laser heat sink 10 used in this manner has a structure as shown in FIG. The heat sink body 11 is made of a material having good thermal conductivity such as silicon or aluminum nitride and processed into a rectangular parallelepiped shape, and metallized layers 12 such as gold are formed on both upper and lower surfaces of the heat sink body 11. .

【0003】 メタライズ層12が形成されているヒートシンク10の一面に半導体レーザが 半田付けされ、他面がサブマウントに半田付けされる。ヒートシンク10の放熱 作用により、半導体レーザはその温度上昇が抑制され、安定した所期の性能を発 揮する。A semiconductor laser is soldered to one surface of the heat sink 10 on which the metallized layer 12 is formed, and the other surface is soldered to the submount. Due to the heat radiating action of the heat sink 10, the temperature rise of the semiconductor laser is suppressed, and stable and desired performance is emitted.

【0004】[0004]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところで、従来のヒートシンク10は直方体形状とされ、半導体レーザが載置 される面は平らに形成されているため、この面に半導体レーザを半田付けすると 、半導体レーザの周囲に半田の盛り上がりが発生する。これは、半田付けする際 、半導体レーザをヒートシンク10上の溶けている半田に押しつけるため、余分 な半田が半導体レーザの周囲にはみ出すことによって生じるものである。 By the way, the conventional heat sink 10 has a rectangular parallelepiped shape, and the surface on which the semiconductor laser is mounted is formed flat. Therefore, when the semiconductor laser is soldered to this surface, a swelling of the solder occurs around the semiconductor laser. . This is because, when soldering, the semiconductor laser is pressed against the melted solder on the heat sink 10, so that excess solder sticks out around the semiconductor laser.

【0005】 半導体レーザの周囲に発生した半田の盛り上がりは、半導体レーザの側面を覆 って側面に形成されている光の出射部を隠し、光の出射を不能としてしまうこと がある。特に、半導体レーザがジャンクションダウン、つまりその基板側が上と されてヒートシンク10に載置される場合は、光の出射部がこの載置面から数μ mの高さに位置するため、わずかな半田の盛り上がりでも光の出射部が隠されて しまう。The swelling of the solder generated around the semiconductor laser may cover the side surface of the semiconductor laser and hide the light emitting portion formed on the side surface, thereby making it impossible to emit light. In particular, when the semiconductor laser is junction down, that is, when the substrate side is placed on the heat sink 10 and the light emitting portion is located at a height of several μm from the mounting surface, a small amount of solder is used. Even if it rises, the light emission part will be hidden.

【0006】 この考案の目的は上記問題を鑑み、半田の盛り上がりが発生せず、ジャンクシ ョンダウンによる載置においても光の出射部が隠されることなく良好に半導体レ ーザを半田付けすることのできる構造とされた半導体レーザ用ヒートシンクを提 供することにある。In view of the above problems, an object of the present invention is to prevent solder swelling and to solder a semiconductor laser favorably without hiding a light emitting portion even when the device is placed by a junk down. The purpose is to provide a structured heat sink for a semiconductor laser.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

この考案は、半導体レーザを載置する部分を台形状とし、その台形状部の頂面 に縞状の溝を形成することにより半導体レーザ用ヒートシンクを構成したもので ある。 In this invention, a semiconductor laser heat sink is constructed by forming a trapezoidal portion on which a semiconductor laser is mounted and forming a striped groove on the top surface of the trapezoidal portion.

【0008】[0008]

【作用】[Action]

上記のように構成されたこの考案では、加熱されその台形状部の頂面上に溶か された半田上に半導体レーザが押しつけられて半田付けされる際に、余分な半田 は溝内に流れ込み、かつこの溝が半田の流出路となって余分な半田は溝の端部か ら流れ出る。この流れ出た半田は台形状部の斜面を伝わって流れ落ちてしまうた め、半導体レーザの側面を覆うような半田の盛り上がりは発生しない。 In the present invention configured as described above, when the semiconductor laser is pressed and soldered onto the solder that is heated and melted on the top surface of the trapezoidal portion, excess solder flows into the groove. Moreover, this groove serves as an outflow path for the solder, and excess solder flows out from the end of the groove. Since the solder that has flowed out flows down along the slope of the trapezoidal portion, the solder does not rise to cover the side surface of the semiconductor laser.

【0009】[0009]

【実施例】【Example】

次にこの考案の一実施例を図面を参照して説明する。図1はこの考案による半 導体レーザ用ヒートシンク20の断面図であり、その基体であるヒートシンク本 体21の全体形状を図2に示す。 ヒートシンク本体21は、熱伝導性のよいシリコン、窒化アルミニウムなどの 材料により形成され、直方体状部22の一面22aにその面22aより突出して 台形状部23が一体に形成され、その台形状部23の頂面23aに複数の溝24 が縞状に形成された構造となっている。 Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a heat sink 20 for a semiconductor laser according to the present invention, and FIG. 2 shows the whole shape of a heat sink body 21 which is a base body thereof. The heat sink body 21 is made of a material having good thermal conductivity such as silicon or aluminum nitride, and a trapezoidal portion 23 is integrally formed on one surface 22a of the rectangular parallelepiped portion 22 so as to project from the surface 22a. Has a structure in which a plurality of grooves 24 are formed in stripes on the top surface 23a.

【0010】 台形状部23の頂面23aの大きさは、この頂面23a上に載置される半導体 レーザ25の下面の大きさとほぼ等しい寸法に設定するのが好ましい。頂面23 aに形成される縞状の溝24は、この実施例においては、縦縞状の溝24aと、 これと直交する横縞状の溝24bとがそれぞれ3本ずつ形成されて格子縞状とさ れており、この格子縞状の溝24によって頂面23aは16分割された状態とな っている。The size of the top surface 23a of the trapezoidal portion 23 is preferably set to be substantially equal to the size of the bottom surface of the semiconductor laser 25 mounted on the top surface 23a. In this embodiment, the stripe-shaped grooves 24 formed on the top surface 23a are formed in a lattice-stripe shape by forming three vertical stripe-shaped grooves 24a and three horizontal stripe-shaped grooves 24b orthogonal to each other. The top surface 23a is divided into 16 parts by the lattice-shaped grooves 24.

【0011】 溝24は図1、2に示したように、その深さ方向の形状がV字状とされている 。この種のV字状溝24は、例えばヒートシンク本体21の材料にシリコンを用 い、これを異方性エッチング加工することにより、容易に形成することができる 。なお、溝24の断面形状はV字状に限らず、方形状、U字状などの他の形状と してもよい。As shown in FIGS. 1 and 2, the groove 24 has a V-shape in the depth direction. This type of V-shaped groove 24 can be easily formed by using, for example, silicon as the material of the heat sink body 21 and subjecting this to anisotropic etching. The cross-sectional shape of the groove 24 is not limited to the V shape, but may be other shapes such as a square shape and a U shape.

【0012】 上述のように構成されたヒートシンク本体21の上下両面、即ち台形状部23 が形成された面及びこれと対向する面に無電解メッキあるいは蒸着などにより金 のメタライズ層26,27がそれぞれ形成されてヒートシンク20が形成される 。 このヒートシンク20の、メタライズ層26が形成された台形状部23の頂面 23a上に半導体レーザ25が半田付けされ、メタライズ層27が形成された他 面がサブマウントに半田付けされる。半導体レーザ25は、頂面23a上に加熱 されて溶かされた半田の上に押しつけられて半田付けされるが、余分な半田はこ の押圧により溝24内に押しやられ、さらにこの溝24を伝わって溝24の端部 である頂面23aの周縁部から押し出される。押し出された半田は台形状部23 の斜面23bを伝わり、直方体状部22の面22a上に流れ落ち、この面22a 上に堆積する。Gold metallization layers 26 and 27 are formed on the upper and lower surfaces of the heat sink body 21 having the above-described structure, that is, the surface on which the trapezoidal portion 23 is formed and the surface opposite to the metallized layers 26 and 27 by electroless plating or vapor deposition, respectively. Then, the heat sink 20 is formed. The semiconductor laser 25 is soldered on the top surface 23a of the trapezoidal portion 23 on which the metallization layer 26 is formed of this heat sink 20, and the other surface on which the metallization layer 27 is formed is soldered to the submount. The semiconductor laser 25 is pressed and soldered on the solder which is heated and melted on the top surface 23 a, but the excess solder is pushed into the groove 24 by this pressing and further propagates through the groove 24. And is extruded from the peripheral edge of the top surface 23a which is the end of the groove 24. The extruded solder travels along the slope 23b of the trapezoidal portion 23, flows down onto the surface 22a of the rectangular parallelepiped portion 22, and deposits on this surface 22a.

【0013】 つまり、このヒートシンク20においては、半導体レーザ25が載置される台 形状部23の頂面23a上には半田の盛り上がりが発生しない構造とされている のである。従って、半田により半導体レーザ25の側面25aが覆われるという 問題も発生しない。 このような作用効果が得られる一数値例を示すと、例えば300μm×300 μmの面積を有する半導体レーザ25をこのヒートシンク20に載置する場合に は、図2の構成において台形状部23の突出高さは20μm程度、各溝24a, 24bの深さは10μm程度、幅は30μm程度、そして溝24a,24bのピ ッチはそれぞれ80μm程度とされる。 なお、この実施例においては、ヒートシンク本体21の台形状部23の頂面2 3aに縦縞状の溝24aと横縞状の溝24bとをそれぞれ3本ずつ形成している が、これら溝24a,24bの数は3本に限らず、例えば2本ずつとしてもよい 。また、溝24はこのような格子縞状とはせず、図3に示すような縦縞状の溝2 4aのみとしてもよい。That is, the heat sink 20 has a structure in which solder swelling does not occur on the top surface 23a of the trapezoidal portion 23 on which the semiconductor laser 25 is mounted. Therefore, the problem that the side surface 25a of the semiconductor laser 25 is covered with the solder does not occur. As one numerical example in which such action and effect are obtained, for example, when mounting the semiconductor laser 25 having an area of 300 μm × 300 μm on the heat sink 20, the protrusion of the trapezoidal portion 23 in the configuration of FIG. The height is about 20 μm, the depth of each groove 24a, 24b is about 10 μm, the width is about 30 μm, and the pitch of each groove 24a, 24b is about 80 μm. In this embodiment, three vertical stripe grooves 24a and three horizontal stripe grooves 24b are formed on the top surface 23a of the trapezoidal portion 23 of the heat sink body 21, but these grooves 24a and 24b are formed. Is not limited to three, and may be two, for example. Further, the groove 24 does not have to have such a grid stripe shape, and may have only the vertical stripe groove 24a as shown in FIG.

【0014】[0014]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上説明したように、この考案によればヒートシンクの半導体レーザが載置さ れる部分を台形状とし、この台形状部の頂面に縞状の溝を形成したことにより、 半導体レーザのこの頂面への半田付けにおいて、半導体レーザの側面を覆うよう な半田の盛り上がりを発生させないようにしたものである。従って、半導体レー ザのジャンクションダウンによる載置においても光の出射部が隠されることなく 、良好に半田付けを行うことができる。 As described above, according to the present invention, the portion of the heat sink on which the semiconductor laser is placed is trapezoidal, and the striped groove is formed on the top surface of this trapezoidal portion. When soldering to the semiconductor laser, the rise of the solder that covers the side surface of the semiconductor laser is prevented. Therefore, even when the semiconductor laser is placed by the junction down, the light emitting portion is not hidden and the soldering can be performed well.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この考案による半導体レーザ用ヒートシンクの
一実施例を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a semiconductor laser heat sink according to the present invention.

【図2】この考案による半導体レーザ用ヒートシンクの
一実施例に用いられるヒートシンク本体を示す斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing a heat sink body used in an embodiment of a semiconductor laser heat sink according to the present invention.

【図3】この考案による半導体レーザ用ヒートシンクの
他の実施例に用いられるヒートシンク本体を示す斜視
図。
FIG. 3 is a perspective view showing a heat sink body used in another embodiment of the semiconductor laser heat sink according to the present invention.

【図4】従来の半導体レーザ用ヒートシンクを示す斜視
図。
FIG. 4 is a perspective view showing a conventional heat sink for a semiconductor laser.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 ヒートシンク 21 ヒートシンク本体 23 台形状部 23a 頂面 24 溝 25 半導体レーザ 26,27 メタライズ層 20 heat sink 21 heat sink main body 23 trapezoidal portion 23a top surface 24 groove 25 semiconductor laser 26, 27 metallized layer

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 半導体レーザを載置する部分が台形状に
なっており、 その台形状部の頂面に縞状の溝が形成されていることを
特徴とする半導体レーザ用ヒートシンク。
[Claims for utility model registration] [Claim 1] The portion on which the semiconductor laser is mounted has a trapezoidal shape, and a striped groove is formed on the top surface of the trapezoidal portion. Heat sink for semiconductor laser.
JP5803691U 1991-07-24 1991-07-24 Heat sink for semiconductor laser Withdrawn JPH0511470U (en)

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JP5803691U JPH0511470U (en) 1991-07-24 1991-07-24 Heat sink for semiconductor laser

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