JPH0511303B2 - - Google Patents

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JPH0511303B2
JPH0511303B2 JP59098906A JP9890684A JPH0511303B2 JP H0511303 B2 JPH0511303 B2 JP H0511303B2 JP 59098906 A JP59098906 A JP 59098906A JP 9890684 A JP9890684 A JP 9890684A JP H0511303 B2 JPH0511303 B2 JP H0511303B2
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JP
Japan
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group
formula
carbon atoms
aromatic
groups
Prior art date
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Application number
JP59098906A
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Japanese (ja)
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JPS59231533A (en
Inventor
Paifuaa Josefu
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS59231533A publication Critical patent/JPS59231533A/en
Publication of JPH0511303B2 publication Critical patent/JPH0511303B2/ja
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔技術分野〕 本発明は基材の上に線感受性ポリマーを被覆し
た材料であつて、その際このポリマーがベンゾフ
エノンテトラカルボン酸イミドの構造単位を含有
しているもの、並びにこのような材料をレリーフ
パターンや保護皮膜の写真技術的な形成のために
使用することに関する。 〔背景技術〕 種々のレリーフ像形成のために線感受性ポリマ
ーを用いる写真技術的写像方法は、電子工学や半
導体工学において種々のデバイスを製造するため
に重要な意味を持つに至つている。このような感
光性ポリマーについてはそれぞれの使用目的に応
じて特定の性質が望まれ、そしてこれらに対して
種々のポリマーが公知になつている。このような
ポリマーの感光性は比較的低く、そのために経済
的な露光時間を得るためには種々のフオト重合開
始剤または増感剤の添加が必要である。このよう
な添加剤においてはこれらが機械的および物理的
諸特性を低下させる場合があることが欠点であ
る。 更に、特定の用途に対しては、その形成された
パターン像や光化学的に作り出された保護被覆の
高い耐温度安定性が望まれている。これに特に適
しているものはポリイミド類である。このものは
不溶性であるために、可溶性の前段階生成物より
出発する必要があり、これはフオト重合の後に初
めて熱処理によつてポリイミドに移行するもので
ある。従来、直接にポリイミド類をフオト架橋化
させることは知られていない。 ドイツ特許出願公告第3007445号公報より、ベ
ンゾフエノンテトラカルボン酸イミド単位を含む
ポリアミド類及びポリエステル類が公知である。
この物質よりなる繊維やフイルムの物理的機械的
諸特性は露光によつて改善することができる。し
かしながら、保護皮覆の形成や写真技術的な像形
成方法については、全然言及されていない。 〔発明の開示〕 本発明の対象は、基材の上に線感受性ポリマー
を被覆した材料であつて、上記ポリマーが下記式
の構造単位 〔上記式においてRは異節原子、芳香族基、異
節環状基または環状脂肪族基によつて中断されて
いてもよい、置換または非置換の2価の脂肪族
基、置換または非置換環状脂肪族または芳香脂肪
族の基、2箇の芳香核が1箇の脂肪族基を介して
連結されている芳香族基、或いは少なくとも1箇
のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、ア
ルキルチオアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
ヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシアルキルチ
オ基またはアラルキル基によつて置換されている
芳香族基またはその芳香族基の隣り合つた2箇の
炭素原子が1箇のアルキレン基によつて置換され
ている芳香族基を表わし、R′は独立的にRと同
じ意味を有し、そしてqは0または1の数を表わ
し、その際Rが芳香族基である場合には、qが0
のときアルキレン基によつて置換されていない
か、或いは式中のN原子に対して両方のオルソの
位置が前述した各基によつて置換されていない〕
をこのポリマーの全量の少なくとも5モル%以上
含有するホモポリマーまたはコポリマーであるこ
とを特徴とするものである。 〔発明を実施するための最良の形態〕 式の構造要素の量は、本質的にそのホモポリ
マーまたはコポリマーの所望の感光度およびこれ
らの構造によつて左右される。その量はそのポリ
マー全体の5ないし100モル%、好ましくは20な
いし100モル%、特に好ましくは40ないし100モル
%、特に50ないし100モル%である。特に好まし
くはそれらのホモポリマーおよびコポリマーは前
記式の構造要素を80−100モル%含んでいる。 式の構造要素においてRおよびR′が脂肪族
基または環状脂肪族基を意味するホモポリマーま
たはコポリマーの場合には、これらの構造要素の
量は好ましくは少なくとも50モル%以上であり、
特にそれらのホモポリマーおよびコポリマーがポ
リアミド類およびポリエステル類であるときにこ
れが該当する。 式においてRおよびR′が2価の脂肪族基を
意味する場合は、これらは好ましくは2ないし30
個、特に6ないし30個、特に6ないし20個の炭素
原子を含む。好ましい具体例の1つにおいてこれ
らRおよびR′は、それぞれ1個以上の酸素原子、
S,SO,SO2,NH,NRa、NRa 2G、シクロ
ヘキシレン、ナフチレン、フエニレンまたはヒダ
ントイン基によつて中断されていてもよい直鎖状
または分岐鎖状のアルキレン基である。Raは、
例えば1ないし12個の炭素原子を有するアルキル
基、5または6個の環炭素原子を有するシクロア
ルキル基、フエニル基またはベンジル基であるこ
とができる。Gはプロトン酸のアニオン、例え
ばハロゲンアニオン、サルフエートまたはホスフ
エートを表わす。好ましい具体例の一つにおいて
RおよびR′は6ないし30箇の炭素原子を有する
直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基、−(CH2n
−R1−(CH2o−〔但しR1はフエニレン基、ナフ
チレン基、シクロペンチレン基またはシクロヘキ
シレン基をあらわし、mおよびnは互いに独立に
1,2または3の数を表わす〕の基、−R2
(OR3p−O−R2−〔但しR2はエチレン、1,2
−プロピレン、1,3−プロピレンまたは2−メ
チル−1,3−プロピレンを、またR3はエチレ
ン、1,2−プロピレン、1,2−ブチレン、
1,3−プロピレン、または1,4−ブチレンを
表わし、そしてpは1ないし100の数を表わす〕
の基か、または の基を表わす。 脂肪族基の例は、メチレン、エチレン、1,2
−または1,3−プロピレン、2,2−ジメチル
−1,3−プロピレン、1,2−、1,3−また
は1,4−ブチレン、1,3−または1,5−ペ
ンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレ
ン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘ
キサデシレン、オクタデシレン、エイコシレン、
2,4,4−トリメチルヘキシレン、1,10−ジ
アルキルデシレン(但しこの場合このアルキルは
好ましくは1ないし6個の炭素原子を有する)、
例えばEP−B−0011559に記述されているような
置換された1,11−ウンデシレン、例えば 〔ここでpは1ないし100の数を表わす〕或い
は −(CH23〔−O(−CH24−〕pO(−CH2)−3 〔ここでpは1ないし100の数を表わす〕のよ
うなJeffアミン類、ジメチレンシクロヘキサン、
キシリレン、およびジエチレンベンゼンである。
特に好ましくは、RまたはR′は、例えば8ない
し30個の炭素原子を有する長鎖状の分岐したアル
キレン基である。 前記式においてRまたはR′が脂肪族基であ
る場合には、これは下記式 のポリシロキサン基を意味することができ、ここ
でR16およびR17はC1−C6のアルキル基、特にメ
チル基またはフエニル基であり、R20は例えばシ
クロヘキシレンのようなシクロアルキレン基およ
び特にC1−C12の、特にC1−C6のアルキレン基、
例えば1,3−プロピレンまたは1,4−ブチレ
ンであり、そしてxは少なくとも1以上の有理
数、例えば1ないし100、好ましくは1ないし10
の数である。このような基を有するジアミン類は
米国特許第3435002号公報および同第4030948号公
報に記述されている。 異節環状の基によつて中断されていてもよい脂
肪族基は、例えば、N,N′−アミノアルキル化
ヒダントイン類またはベンズイミダゾール類より
誘導されるようなものであることができる。その
例としては、N,N′−(γ−アミノプロピル)−
5,5−ジメチル−ヒダントインまたは同一ベン
ズイミダゾロンおよび下記式 〔式中、Rbは1ないし12個、好ましくは1な
いし4個の炭素原子を有するアルキレン基または
[Technical field] The present invention relates to a material in which a radiation-sensitive polymer is coated on a base material, in which the polymer contains a structural unit of benzophenone tetracarboxylic acid imide, and to such a material. for the phototechnical formation of relief patterns and protective coatings. BACKGROUND OF THE INVENTION Photographic imaging methods using line-sensitive polymers for the formation of various relief images have become important for the production of various devices in electronics and semiconductor engineering. For such photosensitive polymers, specific properties are desired depending on the purpose of use, and various polymers have become known for these properties. The photosensitivity of such polymers is relatively low, requiring the addition of various photoinitiators or sensitizers to obtain economical exposure times. A disadvantage of such additives is that they may reduce mechanical and physical properties. Furthermore, high temperature stability of the formed pattern image and the photochemically created protective coating is desired for certain applications. Particularly suitable for this are polyimides. Because of their insolubility, it is necessary to start from soluble pre-products, which, after photopolymerization, are converted into polyimides by heat treatment only. Conventionally, it has not been known to directly photocrosslink polyimides. From German Patent Application No. 3007445, polyamides and polyesters containing benzophenonetetracarboxylic imide units are known.
The physical and mechanical properties of fibers and films made of this substance can be improved by exposure to light. However, no mention is made of the formation of protective coatings or of photographic image formation methods. [Disclosure of the Invention] The object of the present invention is a material in which a radiation-sensitive polymer is coated on a base material, wherein the polymer has a structural unit of the following formula: [In the above formula, R is a substituted or unsubstituted divalent aliphatic group, a substituted or unsubstituted cyclic aliphatic group, which may be interrupted by a heteroatom, an aromatic group, a heterocyclic group, or a cycloaliphatic group. an aliphatic or araliphatic group, an aromatic group in which two aromatic nuclei are connected via one aliphatic group, or at least one alkyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, alkoxyalkyl group , alkylthio group, alkylthioalkyl group, hydroxyalkyl group,
An aromatic group substituted by a hydroxyalkoxy group, a hydroxyalkylthio group, or an aralkyl group, or an aromatic group in which two adjacent carbon atoms of the aromatic group are substituted by one alkylene group. , R′ independently has the same meaning as R, and q represents a number of 0 or 1, in which case when R is an aromatic group, q is 0
is not substituted by an alkylene group, or is not substituted by the above-mentioned groups at both positions ortho to the N atom in the formula]
It is characterized by being a homopolymer or copolymer containing at least 5 mol% or more of the total amount of the polymer. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The amounts of the structural elements of the formula depend essentially on the desired photosensitivity of the homopolymer or copolymer and their structure. Its amount is 5 to 100 mol %, preferably 20 to 100 mol %, particularly preferably 40 to 100 mol %, especially 50 to 100 mol % of the total polymer. Particularly preferably the homopolymers and copolymers contain 80-100 mol % of the structural elements of the above formula. In the case of homopolymers or copolymers in which R and R' in the structural elements of the formula represent aliphatic or cycloaliphatic groups, the amount of these structural elements is preferably at least 50 mol %,
This is especially the case when the homopolymers and copolymers are polyamides and polyesters. When R and R' in the formula mean a divalent aliphatic group, they are preferably 2 to 30
, especially 6 to 30, especially 6 to 20 carbon atoms. In one preferred embodiment, R and R' each represent one or more oxygen atoms,
S, SO, SO 2 , NH, NR a , NR a 2 G, a straight-chain or branched alkylene group optionally interrupted by cyclohexylene, naphthylene, phenylene or hydantoin groups. R a is
For example, it can be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 or 6 ring carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group. G represents an anion of a protic acid, such as a halogen anion, sulfate or phosphate. In one preferred embodiment, R and R' are straight-chain or branched alkylene radicals having 6 to 30 carbon atoms, -(CH 2 ) n
-R 1 -(CH 2 ) o - [wherein R 1 represents a phenylene group, naphthylene group, cyclopentylene group or cyclohexylene group, m and n each independently represent the number 1, 2 or 3] group, −R 2
(OR 3 ) p −O−R 2 − [However, R 2 is ethylene, 1,2
-propylene, 1,3-propylene or 2-methyl-1,3-propylene, and R 3 is ethylene, 1,2-propylene, 1,2-butylene,
represents 1,3-propylene or 1,4-butylene, and p represents a number from 1 to 100]
based on or represents the group of Examples of aliphatic groups are methylene, ethylene, 1,2
- or 1,3-propylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,2-, 1,3- or 1,4-butylene, 1,3- or 1,5-pentylene, hexylene, heptylene , octylene, decylene, dodecylene, tetradecylene, hexadecylene, octadecylene, eicosylene,
2,4,4-trimethylhexylene, 1,10-dialkyldecylene (in which case the alkyl preferably has 1 to 6 carbon atoms),
Substituted 1,11-undecylene as described for example in EP-B-0011559, e.g. [Here p represents a number from 1 to 100] or −(CH 2 ) 3 [−O(−CH 2 ) 4 −] p O(−CH 2 ) − 3 [Here p represents a number from 1 to 100 Jeff amines, dimethylenecyclohexane,
xylylene, and diethylenebenzene.
Particularly preferably R or R' is a long-chain branched alkylene radical having, for example, 8 to 30 carbon atoms. When R or R' in the above formula is an aliphatic group, it is represented by the following formula: in which R 16 and R 17 are C 1 -C 6 alkyl groups, in particular methyl or phenyl groups, and R 20 is a cycloalkylene group such as e.g. cyclohexylene and especially C1 - C12 alkylene groups, especially C1 - C6 alkylene groups,
For example 1,3-propylene or 1,4-butylene and x is at least one rational number, such as from 1 to 100, preferably from 1 to 10
is the number of Diamines having such groups are described in US Pat. No. 3,435,002 and US Pat. No. 4,030,948. Aliphatic groups which may be interrupted by heterocyclic groups can be, for example, those derived from N,N'-aminoalkylated hydantoins or benzimidazoles. Examples include N,N′-(γ-aminopropyl)-
5,5-dimethyl-hydantoin or the same benzimidazolone and the following formula [In the formula, R b is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, or

【式】であり、ここでRcは 水素原子またはメチル基を意味し、aは1ないし
20の整数を表わす)で示されるようなものをあげ
ることができる。 脂肪族基のための適当な置換基は、例えばヒド
ロキシル基、FまたはCl等のハロゲン、或いは1
ないし6個の炭素原子を有するアルコキシ基であ
る。 異節環状のジアミン基は好ましくはN−異節環
式ジアミン類より誘導され、例えばピロリジン、
インドール、ピペリジン、ピリジン、およびピロ
ール(これらはそのN原子が例えばメチル化等に
よりアルキル化されていてもよい)等から誘導さ
れる。1つの例はN−メチル−4−アミノ−5−
アミノメチルピペリジンである。 前記式においてRまたはR′が2価の環状脂
肪族基を意味する場合は、これは好ましくは5な
いし8個の環炭素原子を含み、そして特に、置換
されていないか、または好ましくは1ないし4個
の炭素原子を含むアルキル基で置換されている単
核または2核の、5ないし7個の環炭素原子を有
するシクロアルキレン基である。好ましい具体例
の1つにおいてRまたはR′が環状脂肪族残基で
ある場合に、これは下記式
[Formula], where R c means a hydrogen atom or a methyl group, and a is 1 to
(representing an integer of 20) can be given. Suitable substituents for aliphatic groups are, for example, hydroxyl groups, halogens such as F or Cl, or 1
an alkoxy group having 6 to 6 carbon atoms. The heterocyclic diamine group is preferably derived from N-heterocyclic diamines, such as pyrrolidine,
It is derived from indole, piperidine, pyridine, pyrrole (the N atom of which may be alkylated, for example, by methylation), and the like. One example is N-methyl-4-amino-5-
It is aminomethylpiperidine. If R or R' in the above formula denotes a divalent cycloaliphatic group, this preferably contains 5 to 8 ring carbon atoms and is especially unsubstituted or preferably 1 to 8 ring carbon atoms. A mononuclear or dinuclear cycloalkylene group having 5 to 7 ring carbon atoms substituted with an alkyl group containing 4 carbon atoms. In one preferred embodiment, when R or R' is a cycloaliphatic residue, this is represented by the formula

【式】または[expression] or

【式】で表わされ、この式に おいてqは0または1であり、R4は独立的に水
素、または1ないし6箇の炭素原子を有するアル
キル基を意味し、そしてXは直接結合、O,S,
SO2、1ないし3箇の炭素原子を有するアルキレ
ン基、または2ないし6箇の炭素原子を有するア
ルキリデン基を表わすものである。 R4は好ましくはエチル基およびメチル基であ
り、Xは好ましくはメチレン基であり、そしてア
ルキリデン基は例えばエリチデンおよび1,1−
または2,2−プロピリデンのように好ましくは
2個または3個の炭素原子を含んでいる。 RまたはR′がシクロアルキレンである場合の
例としては、1,2−または1,3−シクロペン
チレン、1,2−、1,3−または1,4−シク
ロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチ
レン、メチルシクロペンチレン、メチル−または
ジメチルシクロヘキシレン、3−または4−メチ
ルシクロヘキサ−1−イル、5−メチル−3−メ
チレンシクロヘキサ−1−イル、3,3′−または
4,4′−ビス−シクロヘキシレン、3,3′−ジメ
チル−4,4′−ビスシクロヘキシレン、4,4′−
ビスシクロヘキシレンエーテル、同−スルホン、
同−メタンまたは同−2,2−プロパン、ビス−
アミノメチルトリシクロデカンの基、ビス−アミ
ノメチルノルボルナンの基およびメンタンジアミ
ンの基があげられる。 環状脂肪族基としてのRまたはR′の、特に好
ましい例は1,4−または1,3−シクロヘキシ
レン、2,2,6−トリメチル−6−メチレン−
シクロヘキサ−4−イル、メチレンビス(シクロ
ヘキサ−4−イル)またはメチレンビス(3−メ
チルシクロヘキサ−4−イル)である。 RまたはR′が芳香脂肪族基である場合には、
これは好ましくは7ないし30個の炭素原子を含
む。この芳香脂肪族基の芳香族基が前記式の基
のN原子に結合している(これが好ましい)場合
には、それらの芳香族基はRまたはR′が芳香族
基を表わす場合と同様に置換されているのが好ま
しい。この芳香脂肪族基は好ましくは7ないし30
個、特に8ないし22個の炭素原子を含む。この芳
香脂肪族基中の芳香族基は好ましくは1個のフエ
ニル基である。RまたはR′が芳香脂肪族基を意
味する場合に、これらは特に、置換されていない
か、またはそのアリール基がアルキル基で置換さ
れているアラルキレン基を意味し、そのアルキレ
ン基は直鎖状であつても、または分岐していても
よい。好ましい例の1つにおいて、この芳香脂肪
族基は式 〔この式においてR4は互に独立に水素原子ま
たは特に1ないし6個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わし、rは1ないし20の整数を意味す
る〕で表わされる。 上記式において遊離の結合手(free bond)は
CrH2rの基に対してo−,m−、および特にp−
位置に存在することができ、そして基R4の一方
または両方が好ましくはこの遊離の結合手に対し
てo−位置に結合しているのがよい。 RまたはR′が芳香脂肪族基である場合の例と
しては、m−またはp−ベンジレン、3−メチル
−p−ベンジレン、3−エチル、p−ベンジレ
ン、3,5−ジメチル−p−ベンジレン、3,5
−ジエチル−p−ベンジレン、3−メチル−5−
エチル−p−ベンジレン−p−フエニレンプロピ
レン、3−メチル−p−フエニレン−プロピレ
ン、p−フエニレンブチレン、3−エチル−p−
フエニレンペンチレンおよび中でも、例えばEP
−A−0069062に記述されているような長鎖状の
種々のフエニレンアルキレン基、すなわち6−
(p−フエニレン)−6−メチルヘプト−2−イ
ル、6−(3′−メチル−p−フエニレン)−6−メ
チルヘプト−2−イル、6−(3′−エチル−p−
フエニレン)−6−メチルヘプト−2−イル、6
−(3′,5′−ジメチル−p−フエニレン)−6−メ
チルヘプト−2−イル、11−(p−フエニレン)−
2,11−ジメチル−ドデカ−1−イル、13−(p
−フエニレン)−2,12−ジメチルテトラデシ−
3−イルがあげられる。 RまたはR′はまた、芳香族基であつてもよく、
この場合に2つの芳香核、特にフエニル核が1個
の脂肪族基を介して結合していることができる。
この基は好ましくは下記式 〔この式において、両方の結合手は基Qに対し
てp−位置、m−位置、そして特にo−位置に結
合しており、そして基QはC1−C12、中でもC1
C6のアルキレン基であり、これはOまたはSに
よつて中断されていてもよい〕に相当する。基Q
の例としてはエチレン、1,2−または1,3−
プロピレン、ブチレン、−CH2−O−CH2−、−
CH2−S−CH2−および−CH2CH2−O−CH2
CH2−があげられる。 本発明によるホモポリマーおよびコポリマーの
中では、特に式においてRまたはR′が置換さ
れた芳香族基を表わすような構造要素を意味する
ものが好ましい。その芳香族基に置換されている
置換基は好ましくは1ないし20個、特に1ないし
12個、そして特に1ないし6個の炭素原子を含ん
でいる。この置換基は、特にC5またはC6のシク
ロアルキル基、1ないし6個の炭素原子を有する
直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、ア
ルキルチオアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
ヒドロキシアルコキシ基またはヒドロキシアルキ
ルチオ基、或いはまたベンジル基、トリメチレン
基またはテトラメチレン基である。アルコキシア
ルキル基としてはアルコキシメチルが好ましく、
そしてアルコキシ基としてはメトキシ基が好まし
い。各種置換基の例としてはメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、
テトラデシル、エイコシル、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソ
キシ、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、
ベンジル、メチルベンジル、フエニルエチル、メ
チルチオ、エチルチオ、ヒドロキシエチル、メチ
ルチオエチルおよびヒドロキシエチルチオがあげ
られる。好ましい基はメトキシメチル、エトキシ
メチル、メチル、エチル、n−プロピル、i−プ
ロピル、トリメチレン、テトラメチレン、シクロ
ペンチルおよびシクロヘキシルである。特に好ま
しいものはメチル、エチルおよびi−プロピルで
ある。置換された芳香族基としては、例えば単核
または多核の、特に2核の基をあげることができ
る。単核の基は4個まで、好ましくは2個の、特
に好ましくは1個の置換基を含むことができ、そ
して2核の基は4個まで、好ましくは1個または
2個の置換基をそれぞれの核の中に含むことがで
きる。本発明者等は、それらのホモポリマーまた
はコポリマーの感光性が、前記式のN原子に対し
てオルソの位置に1個または2個の置換基が結合
している場合に、特に高いことを見出した。従つ
てオルソの位置への置換が好ましい。この芳香族
残基は好ましくはN原子に対してメタまたはパラ
の位置に結合しているのがよい。 RまたはR′が芳香族基である場合にこれは7
ないし30個、中でも7ないし20個の炭素原子を含
んでいることができる。この芳香族基は好ましく
は炭化水素基またはピリジン基であつて、前述し
た通り置換されているものである。好ましい基の
例としては下記式
[Formula], in which q is 0 or 1, R 4 independently represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and X represents a direct bond, O ,S,
SO 2 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 6 carbon atoms. R 4 is preferably an ethyl group and a methyl group, X is preferably a methylene group, and alkylidene groups are e.g. erythidene and 1,1-
or preferably contains 2 or 3 carbon atoms, such as 2,2-propylidene. When R or R' is cycloalkylene, examples include 1,2- or 1,3-cyclopentylene, 1,2-, 1,3- or 1,4-cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene. , methylcyclopentylene, methyl- or dimethylcyclohexylene, 3- or 4-methylcyclohex-1-yl, 5-methyl-3-methylenecyclohex-1-yl, 3,3'- or 4,4' -bis-cyclohexylene, 3,3'-dimethyl-4,4'-biscyclohexylene, 4,4'-
Biscyclohexylene ether, sulfone,
methane or 2,2-propane, bis-
Mention may be made of the groups aminomethyltricyclodecane, bis-aminomethylnorbornane and menthanediamine. Particularly preferred examples of R or R' as cycloaliphatic group are 1,4- or 1,3-cyclohexylene, 2,2,6-trimethyl-6-methylene-
cyclohex-4-yl, methylenebis(cyclohex-4-yl) or methylenebis(3-methylcyclohex-4-yl). When R or R' is an araliphatic group,
It preferably contains 7 to 30 carbon atoms. If the aromatic groups of this araliphatic group are bonded (which is preferred) to the N atom of the group of the above formula, they are treated as if R or R' represents an aromatic group. Preferably, it is substituted. This araliphatic group is preferably 7 to 30
, especially 8 to 22 carbon atoms. The aromatic group in this araliphatic group is preferably one phenyl group. If R or R' denotes an araliphatic group, these mean in particular an aralkylene group which is unsubstituted or whose aryl group is substituted by an alkyl group, the alkylene group being linear or may be branched. In one preferred example, the araliphatic group has the formula [In this formula, R 4 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and r represents an integer of 1 to 20]. In the above formula, the free bond is
o-, m-, and especially p- for the C r H 2r group.
and one or both of the groups R 4 are preferably bonded in the o-position relative to this free bond. Examples of when R or R' is an araliphatic group include m- or p-benzylene, 3-methyl-p-benzylene, 3-ethyl, p-benzylene, 3,5-dimethyl-p-benzylene, 3,5
-diethyl-p-benzylene, 3-methyl-5-
Ethyl-p-benzylene-p-phenylenepropylene, 3-methyl-p-phenylene-propylene, p-phenylenebutylene, 3-ethyl-p-
Phenylenepentylene and among others, e.g. EP
-A-0069062, various long-chain phenylene alkylene groups, i.e. 6-
(p-phenylene)-6-methylhept-2-yl, 6-(3'-methyl-p-phenylene)-6-methylhept-2-yl, 6-(3'-ethyl-p-
phenylene)-6-methylhept-2-yl, 6
-(3',5'-dimethyl-p-phenylene)-6-methylhept-2-yl, 11-(p-phenylene)-
2,11-dimethyl-dodec-1-yl, 13-(p
-phenylene)-2,12-dimethyltetradecy-
3-il is mentioned. R or R' may also be an aromatic group,
In this case, two aromatic nuclei, in particular phenyl nuclei, can be linked via an aliphatic group.
This group is preferably of the following formula [In this formula, both bonds are attached to the group Q in the p-position, in the m-position and especially in the o-position, and the group Q is attached to C 1 -C 12 , especially C 1 -
C 6 alkylene group, which may be interrupted by O or S]. Base Q
Examples include ethylene, 1,2- or 1,3-
Propylene, butylene, -CH 2 -O-CH 2 -, -
CH2 -S- CH2- and -CH2CH2 - O- CH2
Examples include CH 2 −. Among the homopolymers and copolymers according to the invention, preference is given in particular to those in which R or R' denotes a structural element which represents a substituted aromatic group. The number of substituents on the aromatic group is preferably 1 to 20, particularly 1 to 20.
It contains 12 and especially 1 to 6 carbon atoms. This substituent is in particular a C5 or C6 cycloalkyl group, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, an alkylthio group, an alkylthioalkyl group, hydroxyalkyl group,
A hydroxyalkoxy or hydroxyalkylthio group, or also a benzyl, trimethylene or tetramethylene group. As the alkoxyalkyl group, alkoxymethyl is preferable,
As the alkoxy group, a methoxy group is preferable. Examples of various substituents include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, octyl, dodecyl,
Tetradecyl, eicosyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentoxy, hexoxy, methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl,
Mention may be made of benzyl, methylbenzyl, phenylethyl, methylthio, ethylthio, hydroxyethyl, methylthioethyl and hydroxyethylthio. Preferred groups are methoxymethyl, ethoxymethyl, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, trimethylene, tetramethylene, cyclopentyl and cyclohexyl. Particularly preferred are methyl, ethyl and i-propyl. As substituted aromatic groups, mention may be made, for example, of mononuclear or polynuclear, in particular dinuclear, groups. Mononuclear radicals can contain up to 4, preferably 2, particularly preferably 1 substituents, and dinuclear radicals can contain up to 4, preferably 1 or 2 substituents. can be contained within each nucleus. The inventors have found that the photosensitivity of their homopolymers or copolymers is particularly high when one or two substituents are attached in a position ortho to the N atom of the above formula. Ta. Therefore, substitution in the ortho position is preferred. This aromatic residue is preferably bonded in the meta or para position to the N atom. When R or R' is an aromatic group, this is 7
It can contain from 7 to 30 carbon atoms, especially from 7 to 20 carbon atoms. The aromatic group is preferably a hydrocarbon group or a pyridine group, substituted as described above. Examples of preferred groups include the following formula:

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】 〔これらの式においてR4はモノ置換の場合に
は1ないし6箇の炭素原子を有するアルキル基で
あつてその他のR4は水素であり、そしてジ、ト
リまたはテトラ置換の場合には2つのR4が1な
いし6箇の炭素原子を有するアルキル基で他の
R4が水素、または1ないし6箇の炭素原子を有
するアルキル基であるか、またはジ、トリまたは
テトラ置換の場合にそのフエニル環の中の隣り合
つた2つのR4がトリメチレン基またはテトラメ
チレン基であつてその他のR4が水素原子、また
は1ないし6箇の炭素原子を有するアルキル基で
あり、YはO,S,NH,COまたはCH2を意味
し、R5は水素原子、または1ないし5箇の炭素
原子を有するアルキル基を表わし、R6は1ない
し5箇の炭素原子を有するアルキル基を意味し、
そしてZは直接結合、O,S,SO,SO2,CO,
O=CO,O=CNR7,NR7,CONH,NH,R7
SiR8,R7OSiOR81ないし6箇の炭素原子を有するアルキレン基、
2ないし6箇の炭素原子を有するアルケニレンま
たはアルキリデン基、フエニレン基またはフエニ
ルジオキシ基を意味し、R7およびR8は互いに独
立に1ないし6箇の炭素原子を有するアルキル
基、またはフエニル基を意味し、そしてjは1な
いし10、特に1ないし3の数である〕で表わされ
るものがあげられる。 Zは、式 〔この式において、Gは硫黄または酸素を意味
し、fは0または1の数、gは1ないし6の数、
そしてhは1ないし50、中でも1ないし10の数を
表わし、R16およびR17は前述した意味を有する
か、または下記式 の基であり、Kは
[Formula] [In these formulas, R 4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the case of mono-substitution, the other R 4 is hydrogen, and in the case of di-, tri- or tetra-substitution is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which two R 4 are
R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or in the case of di-, tri- or tetra-substitution, two adjacent R 4 in the phenyl ring are trimethylene or tetramethylene group in which R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Y means O, S, NH, CO or CH 2 , and R 5 is a hydrogen atom, or represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 6 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
And Z is a direct bond, O, S, SO, SO 2 , CO,
O=CO, O= CNR7 , NR7 , CONH, NH, R7
SiR8 , R7OSiOR8 , an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms,
means an alkenylene or alkylidene group, a phenylene group or a phenyldioxy group having 2 to 6 carbon atoms, and R 7 and R 8 independently of each other represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group; , and j is a number from 1 to 10, especially from 1 to 3]. Z is the formula [In this formula, G means sulfur or oxygen, f is a number of 0 or 1, g is a number of 1 to 6,
and h represents a number from 1 to 50, especially from 1 to 10, and R 16 and R 17 have the above-mentioned meanings or the following formula and K is the group of

【式】【formula】

【式】ま たは[Formula] Ma Taha

【式】を表わし、ここでR25は水 素、C1−C6のアルキル基またはフエニル基を意
味する〕で表わされるものであることができる。
R5およびR6は好ましくはメチル基であり、Yは
好ましくは−CH2−または−O−を意味し、そし
てZは好ましくは単結合、−O−、−CH2−、また
は2ないし4個の炭素原子を有するアルキリデン
基である。R7およびR8は特にメチル基、エチル
基およびフエニル基である。アルキレン基は、好
ましくは2ないし4個の炭素原子を含み、そして
これは特にエチレン基であるのがよい。アルケニ
レン基は、特にエテニレン基であるのが好まし
い。 好ましい例としてはトルイレン基、o,o′−置
換されたジアミノジフエニレン、ジアミノジフエ
ニルメタン類およびジアミノジフエニルエーテル
の基である。 特に好ましい基は下記式
[Formula] wherein R 25 represents hydrogen, a C 1 -C 6 alkyl group or a phenyl group.
R 5 and R 6 are preferably methyl groups, Y preferably means -CH 2 - or -O-, and Z is preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, or 2 to 4 is an alkylidene group having 5 carbon atoms. R 7 and R 8 are especially methyl, ethyl and phenyl groups. The alkylene group preferably contains 2 to 4 carbon atoms and is especially an ethylene group. The alkenylene group is particularly preferably an ethenylene group. Preferred examples are toluylene groups, o,o'-substituted diaminodiphenylenes, diaminodiphenylmethanes and diaminodiphenyl ether groups. A particularly preferred group is the following formula:

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】の基であり、但 し上記式においてZは単結合、O、特にCH2を意
味し、そしてR9は水素原子、メチル基、エチル
基またはイソプロピル基を表わすものである。 置換された芳香族基の例は、4−メチル−1,
3−フエニレン、4−エチル−1,3−フエニレ
ン、2−メチル−1、3−フエニレン、4−ベン
ジル−1,3−フエニレン、4−メトキシメチル
−1,3−フエニレン、テトラヒドロ−1,3−
または−1,4−ナフチレン、3−プロピル−
1,3−または−1,4−フエニレン、3−イソ
プロピル、1,4−フエニレン、3,5−ジメチ
ル−1,4−フエニレン、2,4−ジメチル−
1,3−フエニレン、2,3−ジメチル−1,3
−フエニレン、5−メチル−1,3−フエニレ
ン、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−ま
たは−1,3−フエニレン、3−メチル−2,6
−ピリジレン、3,5−ジメチル−2,6−ピリ
ジレン、3−エチル−2,6−ピリジレン、1−
メチル−2,7−ナフチレン、1,6−ジメチル
−2,7−ナフチレン、1−メチル−2,4−ナ
フチレン、1,3−ジメチル−2,4−ナフチレ
ン、更にはまた、5−アミノ−1−(3′−アミノ
−4′−メチルフエニル)−1,3,3−トリメチ
ルインダンまたは6−アミノ−5−メチル−1−
(3′−アミノ−4′−メチル)−1,3,3−トリメ
チルインダンの2価の基、4−メトキシメチル−
1,3−フエニレン、3−メチル−p−ジフエニ
レン、3−エチル−p−ジフエニレン、3,3′−
ジメチル−p−ジフエニレン、3,3′−ジエチル
−p−ジフエニレン、3−メチル−3′−エチル−
p−ジフエニレン、3,3′,5,5′−テトラメチ
ル−ジフエニレン、3,3′−メチル−5−5′−エ
チル−p−ジフエニレン、4,4′−ジメチル−m
−ジフエニレン、3,3′−ジイソプロピル−ジフ
エニレン、および下記の基、 〔これらの式においてZ′,R11,R12,R13およ
びR14はそれぞれ下表にあげる基を表わす〕であ
る。
##STR1## where Z means a single bond, O, especially CH.sub.2 , and R.sub.9 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group. Examples of substituted aromatic groups are 4-methyl-1,
3-phenylene, 4-ethyl-1,3-phenylene, 2-methyl-1,3-phenylene, 4-benzyl-1,3-phenylene, 4-methoxymethyl-1,3-phenylene, tetrahydro-1,3 −
or -1,4-naphthylene, 3-propyl-
1,3- or -1,4-phenylene, 3-isopropyl, 1,4-phenylene, 3,5-dimethyl-1,4-phenylene, 2,4-dimethyl-
1,3-phenylene, 2,3-dimethyl-1,3
-phenylene, 5-methyl-1,3-phenylene, 2,3,5,6-tetramethyl-1,4- or -1,3-phenylene, 3-methyl-2,6
-pyridylene, 3,5-dimethyl-2,6-pyridylene, 3-ethyl-2,6-pyridylene, 1-
Methyl-2,7-naphthylene, 1,6-dimethyl-2,7-naphthylene, 1-methyl-2,4-naphthylene, 1,3-dimethyl-2,4-naphthylene, and also 5-amino- 1-(3'-amino-4'-methylphenyl)-1,3,3-trimethylindane or 6-amino-5-methyl-1-
(3'-amino-4'-methyl)-1,3,3-trimethylindane divalent group, 4-methoxymethyl-
1,3-phenylene, 3-methyl-p-diphenylene, 3-ethyl-p-diphenylene, 3,3'-
Dimethyl-p-diphenylene, 3,3'-diethyl-p-diphenylene, 3-methyl-3'-ethyl-
p-diphenylene, 3,3',5,5'-tetramethyl-diphenylene, 3,3'-methyl-5-5'-ethyl-p-diphenylene, 4,4'-dimethyl-m
-diphenylene, 3,3'-diisopropyl-diphenylene, and the following groups, [In these formulas, Z′, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each represent a group listed in the table below].

【表】【table】

【表】【table】

【表】 RまたはR′がそれより誘導されるジアミン類
は公知であるか、または公知の方法によつて製造
することができる。ポリシロキサン構造単位を有
するジアミン類は米国特許第3435002号公報およ
びEP−A−O,054426から公知である。 本発明により用いられるべきポリマー類は少な
くとも2000、好ましくは少なくとも5000以上の平
均分子量(数平均分子量)を有する。この分子量
の上限は本質的に例えば溶解度のような、そのも
のの被加工性を決定する諸特性によつて左右され
る。この上限は500000まで、好ましくは100000、
そして特に好ましくは60000までであることがで
きる。更にこのポリマーは統計学的分布のポリマ
ーまたはブロツク重合体であつてもよい。これら
のポリマーは通常の方法に従つて、そのために備
えられた種々の装置で製造される。これらのポリ
マーは好ましくは直鎖状の構造であるが、しかし
ながら僅かな量で加えられる少なくとも3官能性
のモノマーによつて僅かに分岐していてもよい。 これらのホモポリマーまたはコポリマーは、好
ましくはポリイミド類、ポリアミド類、飽和ポリ
エステル類、ポリカーボネート類、ポリアミドイ
ミド類、ポリエステルイミド類、ポリエステルア
ミド類、ポリシロキサン類、不飽和ポリエステル
類、エポキシ樹脂、芳香族ポリエーテル類、芳香
族ポリエーテルケトン類、芳香族ポリエーテルス
ルホン類、芳香族ポリケトン類、芳香族ポリチオ
エーテル類およびこれらのポリマー類の混合物か
ら選ばれる。 これらのポリマーのうちで特に好ましいものは
式(但しq=0)の繰返し構造要素を有するポ
リイミド、または式(但しq=0)の繰返し構
造要素と下記式 の繰返し構造要素(但しこの式においてAは4価
の有機残基であり、そしてR10は2価の有機残基
である)とからなる共重合ポリイミドである。 これらのホモ重合ポリイミドおよび共重合ポリ
イミドにおいてRおよびR10は、特に芳香族有機
基を表わす。共重合ポリイミドの中では特に式
の構造要素を少なくとも60モル%、特に少なくと
も80モル%含んでいるものが好ましい。 前記式におけるAはベンゾフエノン基でない
場合には芳香族基、脂肪族基、環状脂肪族基、異
節環状基、および芳香族基と脂肪族基との組合わ
せから選ばれていてもよい。これらの基はまた置
換されていてもよい。この基Aは下記の構造によ
つて特徴付けられていることができる:
Table The diamines from which R or R' are derived are known or can be prepared by known methods. Diamines having polysiloxane structural units are known from US Pat. No. 3,435,002 and EP-A-O, 054426. The polymers to be used according to the invention have an average molecular weight (number average molecular weight) of at least 2000, preferably at least 5000 or more. The upper limit of this molecular weight essentially depends on the properties that determine its processability, such as solubility. This upper limit is up to 500000, preferably 100000,
And particularly preferably it can be up to 60,000. Furthermore, the polymer may be a statistically distributed polymer or a block polymer. These polymers are produced according to customary methods in various equipment equipped for this purpose. These polymers preferably have a linear structure, but may also be slightly branched by at least trifunctional monomers added in small amounts. These homopolymers or copolymers are preferably polyimides, polyamides, saturated polyesters, polycarbonates, polyamideimides, polyesterimides, polyesteramides, polysiloxanes, unsaturated polyesters, epoxy resins, aromatic polyesters, etc. selected from ethers, aromatic polyetherketones, aromatic polyethersulfones, aromatic polyketones, aromatic polythioethers and mixtures of these polymers. Among these polymers, particularly preferred are polyimides having a repeating structural element of the formula (where q = 0) or a repeating structural element of the formula (where q = 0) and the following formula: (However, in this formula, A is a tetravalent organic residue, and R 10 is a divalent organic residue). In these homopolymerized polyimides and copolymerized polyimides, R and R 10 particularly represent aromatic organic groups. Among the copolymerized polyimides, those containing at least 60 mol%, particularly at least 80 mol%, of the structural elements of the formula are particularly preferred. When A in the above formula is not a benzophenone group, it may be selected from an aromatic group, an aliphatic group, a cycloaliphatic group, a heterocyclic group, and a combination of an aromatic group and an aliphatic group. These groups may also be substituted. This group A can be characterized by the following structure:

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】 【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 〔但しR15は −O−,−S−,SO2−,[Formula] [However, R 15 is -O-, -S-, SO 2 -,

【式】【formula】

【式】【formula】 【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】 【式】【formula】

【式】− N=N−,[Formula]- N=N-,

【式】【formula】

【式】−CH2 −,CH2CH2−、[Formula] −CH 2 −, CH 2 CH 2 −,

【式】【formula】

【式】フエニ レンおよびO(−Rd−O−)bから選ばれるものであ
り、ここでbは1ないし10の数、Rdはアルキレ
ン、。シクロアルキレン、アリーレンまたはアラ
ルキレンを表わし、またはR16およびR17は好ま
しくは1ないし6個の炭素原子を有するアルキル
基を意味する〕。上記各式にあげた基の各遊離の
結合手のうち常に2つは隣り合つた炭素原子に存
在している。 1個の4価の残基Aを有する適当なテトラカル
ボン酸酸無水物またはそれらのエステルは例えば
下記のものである: 2,3,9,10−ペリレンテトラカルボン酸ジ
無水物、 1,4,5,8−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、 2,6−ジクロロナフタリン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸ジ無水物、 2,7−ジクロロナフタリン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸ジ無水物、 2,3,6,7−テトラクロロナフタリン−
1,4,5,8−テトラカルボン酸ジ無水物、 フエナンスレン−1,8,9,10−テトラカル
ボン酸ジ無水物、 ピロメリツト酸ジ無水物、 3,3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸
ジ無水物、 2,2′,3,3′−ビフエニルテトラカルボン酸
ジ無水物、 4,4′−イソプロピリデンジフタル酸酸無水
物、 3,3′−イソプロピリデンジフタル酸酸無水
物、 4,4′−オキシジフタル酸酸無水物、 4,4′−スルホニルジフタル酸酸無水物、 3,3′−オキシジフタル酸酸無水物、 4,4′−メチレンジフタル酸酸無水物、 4,4′−チオジフタル酸酸無水物、 4,4′−エチリデンジフタル酸酸無水物、 2,3,6,7−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、 1,2,4,5−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、 1,2,5,6−ナフタリンテトラカルボン酸
ジ無水物、 ベンゾール−1,2,3,4−テトラカルボン
酸ジ無水物、 チオフエン−2,3,4,5、テトラカルボン
酸ジ無水物、 1−(3′,4′−ジカルボキシフエニル)−1,
3,3−トリメチルインダン−5,6−ジカルボ
ン酸−ジ無水物、 1−(3′,4′−ジカルボキシフエニル)−1,
3,3−トリメチルインダン−6,7−ジカルボ
ン酸−ジ無水物、 1−(3′,4′−ジカルボキシフエニル)−3−メ
チルインダン−5,6−ジカルボン酸−ジ無水
物、 テトラヒドロフランテトラカルボン酸ジ無水
物、 シクロペンタンテトラカルボン酸ジ無水物、 シクロオクタンテトラカルボン酸ジ無水物およ
び 1−(3′4′−ジカルボキシフエニル)−3−メチ
ルインダン−6,7−ジカルボン酸ジ無水物、並
びに一般式 〔式中、Y1,Y2,Y3およびY4はそれぞれ、水
素、アルキル基または特にメチル基である〕のジ
無水物。 好ましい非ベンゾフエノン系芳香族ジカルボン
酸無水物は、ピロメリツト酸ジ無水物および一般
〔但しR15はメチレン、酸素、スルホニルまた
[Formula] is selected from phenylene and O(-R d -O-) b , where b is a number from 1 to 10, and R d is alkylene. cycloalkylene, arylene or aralkylene, or R 16 and R 17 preferably represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms]. Two of the free bonds in the groups listed in each of the above formulas are always present on adjacent carbon atoms. Suitable tetracarboxylic acid anhydrides or their esters having one tetravalent residue A are, for example: 2,3,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 1,4 , 5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8
-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8
-Tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-
1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl Tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-isopropylidene diphthalic anhydride, 3,3'-isopropylidene diphthalic acid Acid anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic anhydride, 3,3'-oxydiphthalic anhydride, 4,4'-methylenediphthalic anhydride 4,4'-thiodiphthalic anhydride, 4,4'-ethylidene diphthalic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5- Naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, Benzol-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, Thiophene-2,3,4,5 , tetracarboxylic dianhydride, 1-(3',4'-dicarboxyphenyl)-1,
3,3-trimethylindane-5,6-dicarboxylic acid dianhydride, 1-(3',4'-dicarboxyphenyl)-1,
3,3-trimethylindane-6,7-dicarboxylic acid dianhydride, 1-(3',4'-dicarboxyphenyl)-3-methylindane-5,6-dicarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofuran Tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, cyclooctane tetracarboxylic dianhydride, and 1-(3′4′-dicarboxyphenyl)-3-methylindane-6,7-dicarboxylic acid Dianhydride, as well as general formula Dianhydrides of the formula in which Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each hydrogen, an alkyl group or especially a methyl group. Preferred non-benzophenone aromatic dicarboxylic acid anhydrides include pyromellitic dianhydride and general formula [However, R 15 is methylene, oxygen, sulfonyl or

【式】或いは[Formula] or

【式】を表わす〕によつて 特徴づけられる種々の芳香族ジ無水物である。 前に定義した基R10は下記の群から選ばれるこ
とができる。すなわち、2ないし10個の炭素原子
を有するアルキレン基、4ないし6個の環炭素原
子を有するシクロアルキレン基、キシリレン基、
またはm−またはp−フエニレン、トリレン、ビ
フエニレン、ナフチレンまたはアンスリレンのう
ちから選ばれるアリーレン基、或いは下記式 の非置換または置換されたアリーレン基〔上式に
おいて、Wは共有結合手、硫黄、カルボニル、−
NH−,−N−アルキル、O,S,SS,−N−フエ
ニル、スルホニル、1ないし3個の炭素原子を有
する直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基、2な
いし12個の炭素原子を有するアルキリデン基、5
または6個の環炭素原子を有するシクロアルキリ
デン基、アリーレン、特にフエニレン基、または
ジアルキル−またはジアリールシリル基を意味
し、R18およびR19は互に独立にそれぞれ水素、
ハロゲン、特に塩素または臭素、1ないし5個の
炭素原子を有するアルキル、中でもメチル基、1
ないし5個の炭素原子を有するアルコキシ、特に
メトキシ基またはアリール、特にフエニル基を意
味する〕である。 R10は更に好ましくは、前に記述した種々の芳
香族ジアミンから誘導される基を包含する。最も
好ましくはR10は下記式 〔上式においてWは共有結合手、メチレン基、
硫黄、酸素またはスルホンを表わし、そしてR18
およびR19は互に独立に水素、ハロゲンまたは1
ないし5個の炭素原子を有するアルキル、特にメ
チル基を意味する〕の基または下記式 〔この式においてR21は水素、ハロゲン、また
は1ないし5個の炭素原子を有するアルキル、特
にメチル基を表わす〕の基を意味する。 R10は、特に好ましくはm−またはp−フエニ
レン基または式 〔この式において、Wは共有結合手、メチレン
基、2,2−プロピリデン基、シクロヘキシリデ
ン基、硫黄、酸素またはスルホンを意味する〕の
基である。 2価の基R10を有するジアミン類の例として
は、4,4′−メチレンビス−(o−クロロアニリ
ン)、3,3′−ジクロロベンチジン、3,3′−ス
ルホニルジアニリン、4,4′−ジアミノベンゾフ
エノン、1,5−ジアミノナフタリン、ビス−
(4−アミノフエニル)−ジメチルシラン、ビス−
(4−アミノフエニル)−ジエチルシラン、ビス−
(4−アミノフエニル)−ジフエニルシラン、ビス
−(4−アミノフエニルオキシ)−ジメチルシラ
ン、ビス−(4−アミノフエニル)−エチルホスフ
インオキサイド、N−〔ビス−(4−アミノフエニ
ル)〕−N−メチルアミン、N−〔ビス−(4−アミ
ノフエニル)〕−N−フエニルアミン、4,4′−メ
チレンビス−(3−メチルアニリン)、4,4′−メ
チレンビス−(2−エチルアニリン)、4,4′−メ
チレンビス−(2−メトキシアニリン)、5,5′−
メチレンビス−(2−アミノフエノール)、4,
4′−メチレンビス−(2−メチルアニリン)、4,
4′−オキシビス−(2−メトキシアニリン)、4,
4′−オキシビス−(2−クロロアニリン)、5,
5′−オキシビス−(2−アミノフエノール)、4,
4′−チオビス−(2−メチルアニリン)、4,4′−
チオビス−(2−メトキシアニリン)、4,4′−チ
オビス−(2−クロロアニリン)、4,4′−スルホ
ニルビス−(2−メチルアニリン)、4,4′−スル
ホニルビス−(2−エトキシアニリン)、4,4′−
スルホニルビス−(2−クロロアニリン)、5,
5′−スルホニルビス−(2−アミノフエノール)、
3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフエ
ノン、3,3−ジメトキシ−4,4′−ジアミノベ
ンゾフエノン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジア
ミノベンゾフエノン、4,4′−ジアミノビフエニ
ル、m−フエニレンジアミン、p−フエニレンジ
アミン、4,4′−メチレンジアニリン、4,4′−
オキシジアニリン、4,4′−チオジアニリン、
4,4′−スルホニルジアニリン、4,4′−イソプ
ロピリデンジアニリン、3,3′−ジメチルベンチ
ジン、3,3′−ジメトキシベンチジン、3,3′−
ジカルボキシベンチジン、ジアミノトルオール、
4,4′−メチレン−ビス−(3−カルボキシアニ
リン)およびそれらのエステル類があげられる。 本発明によるこれらのホモポリイミドおよびコ
ポリイミドの製造は、通常の方法でベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸無水物と、NH2RNH2の式
で表わされるジアミン類とを、場合により 式 の更に別なテトラカルボン酸酸無水物および/ま
たは更に別なNH2R10NH2の式で表わされるジア
ミン類と反応させ、ついでカルボン酸無水物類の
作用および/又は引続く加熱のもとにイミド環化
させることによつて行なわれる。公知のもう一つ
の方法においては、ジイソシアネート類をテトラ
カルボン酸ジ無水物と反応させてポリイミドにす
る。 その他のホモポリマーおよびコポリマーの製造
のためにはベンゾフエノンテトラカルボン酸の官
能性のイミド誘導体から出発する。これらのイミ
ド誘導体は式 〔この式において、RおよびR′は前にあげた
と同じ意味を有し、cは1から約500までの数を、
そしてYは官能基を意味する〕で表わされるもの
であることができる。この官能基は、例えば
NHR22,OH,SH,O−アシル、COOR22
CON(R222,COCl,COBr,
These are various aromatic dianhydrides characterized by the following formula: The group R 10 defined above can be selected from the group below. That is, alkylene groups having 2 to 10 carbon atoms, cycloalkylene groups having 4 to 6 ring carbon atoms, xylylene groups,
or an arylene group selected from m- or p-phenylene, tolylene, biphenylene, naphthylene or anthrylene, or the following formula unsubstituted or substituted arylene group [in the above formula, W is a covalent bond, sulfur, carbonyl, -
NH-, -N-alkyl, O,S,SS, -N-phenyl, sulfonyl, straight-chain or branched alkylene radicals having 1 to 3 carbon atoms, having 2 to 12 carbon atoms alkylidene group, 5
or a cycloalkylidene group having 6 ring carbon atoms, an arylene, especially a phenylene group, or a dialkyl- or diarylsilyl group, R 18 and R 19 independently of each other hydrogen,
halogen, especially chlorine or bromine, alkyl having 1 to 5 carbon atoms, especially methyl, 1
alkoxy, especially methoxy, or aryl, especially phenyl, having from 5 to 5 carbon atoms. R 10 further preferably includes groups derived from the various aromatic diamines described above. Most preferably R 10 is [In the above formula, W is a covalent bond, a methylene group,
represents sulfur, oxygen or sulfone, and R 18
and R 19 are each independently hydrogen, halogen or 1
alkyl having 5 to 5 carbon atoms, especially methyl group] or the following formula: [In this formula, R 21 represents hydrogen, halogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms, especially methyl]. R 10 is particularly preferably an m- or p-phenylene group or a formula [In this formula, W means a covalent bond, methylene group, 2,2-propylidene group, cyclohexylidene group, sulfur, oxygen or sulfone]. Examples of diamines having a divalent group R10 include 4,4'-methylenebis-(o-chloroaniline), 3,3'-dichlorobenzidine, 3,3'-sulfonyldianiline, 4,4 '-Diaminobenzophenone, 1,5-diaminonaphthalene, bis-
(4-aminophenyl)-dimethylsilane, bis-
(4-aminophenyl)-diethylsilane, bis-
(4-Aminophenyl)-diphenylsilane, bis-(4-aminophenyloxy)-dimethylsilane, bis-(4-aminophenyl)-ethylphosphine oxide, N-[bis-(4-aminophenyl)]-N-methyl Amine, N-[bis-(4-aminophenyl)]-N-phenylamine, 4,4'-methylenebis-(3-methylaniline), 4,4'-methylenebis-(2-ethylaniline), 4,4' -methylenebis-(2-methoxyaniline), 5,5'-
methylenebis-(2-aminophenol), 4,
4'-methylenebis-(2-methylaniline), 4,
4'-oxybis-(2-methoxyaniline), 4,
4'-oxybis-(2-chloroaniline), 5,
5'-oxybis-(2-aminophenol), 4,
4'-thiobis-(2-methylaniline), 4,4'-
Thiobis-(2-methoxyaniline), 4,4'-thiobis-(2-chloroaniline), 4,4'-sulfonylbis-(2-methylaniline), 4,4'-sulfonylbis-(2-ethoxy aniline), 4,4'-
Sulfonylbis-(2-chloroaniline), 5,
5'-sulfonylbis-(2-aminophenol),
3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3-dimethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobiphenyl, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-methylene dianiline, 4,4'-
Oxydianiline, 4,4'-thiodianiline,
4,4'-sulfonyl dianiline, 4,4'-isopropylidene dianiline, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 3,3'-
dicarboxybenzidine, diaminotoluol,
Examples include 4,4'-methylene-bis-(3-carboxyaniline) and esters thereof. These homopolyimides and copolyimides according to the present invention can be produced by adding benzophenonetetracarboxylic anhydride and diamines of the formula NH 2 RNH 2 in a conventional manner. with a further tetracarboxylic acid anhydride and/or a further diamine of the formula NH 2 R 10 NH 2 and then under the action of the carboxylic anhydride and/or under subsequent heating. This is done by imide cyclization. In another known method, diisocyanates are reacted with tetracarboxylic dianhydrides to form polyimides. For the preparation of other homopolymers and copolymers, the starting point is functional imide derivatives of benzophenonetetracarboxylic acid. These imide derivatives have the formula [In this formula, R and R' have the same meanings as given above, c is a number from 1 to about 500,
and Y means a functional group]. This functional group is for example
NHR 22 , OH, SH, O-acyl, COOR 22 ,
CON( R22 ) 2 , COCl, COBr,

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】およびハロゲン、中で もClおよびBrであることができる。R22は水素原
子、または場合によりヒドロキシル化された炭化
水素基、例えば、1ないし20個、特に1ないし12
個の炭素原子を有するアルキル基またはヒドロキ
シアルキル基、好ましくは7ないし20個、中でも
7ないし16個の炭素原子を有するアラルキル基、
好ましくは6ないし20個、中でも6ないし16個の
炭素原子を有するアリール基、または好ましくは
5ないし7個の環炭素原子を有するシクロアルキ
ル基である。R23は、R22と同じ意味を有するか、
または
and halogens, among them Cl and Br. R 22 is a hydrogen atom or an optionally hydroxylated hydrocarbon group, for example 1 to 20, especially 1 to 12
an alkyl or hydroxyalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, preferably an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, especially 7 to 16 carbon atoms;
Preferably it is an aryl group having 6 to 20, especially 6 to 16, carbon atoms, or preferably a cycloalkyl group having 5 to 7 ring carbon atoms. R 23 has the same meaning as R 22 or
or

【式】を意味することがで きる。上記アシル基は1ないし20個、好ましくは
1ないし12個の炭素原子を含むことができる。 式においてc=1である化合物はドイツ特許
出願公告第3007445号公報により1部公知である
か、または類似の方法によつて作ることができ
る。例えば、グリシジル基のようなその他の官能
基の導入は通常の方法によつて行なわれる。 式においてcが1以上である化合物は新規化
合物であつて同様に本発明の対象の1つをなすも
のである。これらは末端官能基を有するオリゴマ
ーおよび低分子量ポリイミド類である。これらは
ポリイミドの場合と類似の方法で製造され、その
際cの大きさは一緒に使用するY−R−NH2
式のモノマーの量によつて決定される。これらの
オリゴマーおよび低分子量ポリマーを用いて、例
えばポリイミドのそれぞれのブロツクおよび例え
ばポリアミドブロツク、ポリエステルブロツクお
よびその他のポリイミドブロツクを有するブロツ
クポリマーが得られる。 本発明による塗覆材料のためのポリマー類のも
う一つの好ましい群は、種々の有機ジアミン類、
ジカルボン酸類、ω−アミノカルボン酸類、およ
び種々のジアミン類またはジカルボン酸類よりな
る、或いはこれらモノマー類の混合物よりなる前
記式(この式においてq=1であつて、またR
およびR′の基にアミノ基またはカルボキシル基
が結合している)の構造要素を有するポリアミド
または共重合ポリアミドである。 ホモポリマーの場合にはその分子鎖が式の構
造要素を有するジカルボン酸とジアミンとから構
成されているようなものであるか、またはその分
子鎖が式の構造要素を有するジカルボン酸また
はジアミンと種々の有機ジアミンまたはジカルボ
ン酸とから構成されていて、ベンゾフエノン残基
を含んでいないものであつてもよい。共重合ポリ
アミドは別のジアミン基、ジカルボン酸基または
アミノカルボン酸基を含んでいる。 適当なジカルボン酸は例えば、好ましくは2な
いし20個、中でも4ないし16個の炭素原子を有す
る直鎖状又は分岐鎖状脂肪族ジカルボン酸類、5
ないし7個の環炭素原子を有する非置換の、また
は特にアルキル基によつて置換されている環状脂
肪族ジカルボン酸類、および好ましくは8ないし
22個の炭素原子を有する非置換またはアルキル
基、ClまたはBrによつて置換されている芳香族
ジカルボン酸類である。それらの例としては、マ
ロン酸、アジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピ
メリン酸、コルク酸、アゼライン酸、ドデカンジ
カルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、p−ジフエニルジカル
ボン酸、ビス−(4−カルボキシルフエニル)エ
ーテル又はビス−(4−カルボキシルフエニル)−
スルホンがあげられる。 適当なジアミン類は例えば、好ましくは2ない
し30個、特に4ないし20個の炭素原子を有する直
鎖状または分岐鎖状の脂肪族ジアミン類、好まし
くは5ないし7個の環炭素原子を有する非置換
の、またはアルキル、特にメチル基によつて置換
されている環状脂肪族ジアミン類、好ましくは7
ないし24個の炭素原子を有する芳香脂肪族ジアミ
ン類、および非置換か、または特にアルキル基に
よつて置換されていてもよい、6ないし22個、中
でも6ないし18個の炭素原子を有する芳香族ジア
ミン類である。それらの例としては、エチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、1,3−または
1,4−ブチレンジアミン、ペンチレンジアミ
ン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジ
アミン、デシレンジアミン、ドデシレンジアミ
ン、例えば1,10−ジメチル−1,10−デシレン
ジアミンまたは1,10−ジ−n−ヘキシル−1,
10−デシレンジアミンのような1,10−アルキル
置換された1,10−デシレンジアミン類、キシリ
レンジアミン、イソホロンジアミン、1,3−ま
たは1,4−シクロヘキサンジアミン、1,3−
または1,4−フエニレンジアミン、メチルフエ
ニレンジアミン、トルイレンジアミン、p−ジフ
エニレンジアミン、ビス−(p−アミノフエニル)
エーテル、ビス−(p−アミノフエニル)スルホ
ン、ビス−(p−アミノフエニル)−メタンがあげ
られる。 アミノカルボン酸類としては芳香族、環状脂肪
族または脂肪族のアミノカルボン酸類をあげるこ
とができ、これらは例えば、アミノ安息香酸、ア
ミノシクロヘキサンカルボン酸、および例えばε
−アミノカプロン酸または11−アミノウンデカン
酸のようなε−アミノカルボン酸類である。 本発明の材料のためのポリマー類のもう一つの
好ましい群は種々の有機ジオール類、ジカルボン
酸類、ヒドロキシカルボン酸類および種々のジオ
ール類またはジカルボン酸類またはこれらのモノ
マー類の混合物からなる前記式(この式におい
てq=1であつてRおよびR′の基にはヒドロキ
シル基またはカルボキシル基が結合している)の
構造要素を有するポリエステルまたは共重合ポリ
エステルである。 ホモポリマーのポリエステル類はその分子鎖が
前記式のジカルボン酸類およびジオール類から
構成されているもの、或いはその分子鎖が前記式
のジオール類またはジカルボン酸類と、ベンゾ
フエノン基を含まない種々の有機ジオール類また
はジカルボン酸とから構成されているものであつ
てもよい。共重合ポリエステルは種々のジカルボ
ン酸類、ジオール類、および/またはヒドロキシ
カルボン酸類の別な残基を含んでいる。 適当なジカルボン酸類は既に記述した通りであ
る。芳香族ジカルボン酸類、中でもテレフタル酸
および/またはイソフタル酸に基づくポリエステ
ル類が好ましい。ジオール類としては例えば1,
4−シクロヘキサンジオールのような環状脂肪族
ジオール類、例えばビスフエノール−Aのような
芳香族ジオール類、および特に、例えば2ないし
12個、好ましくは2ないし6個の炭素原子を有す
る分岐鎖状および特に直鎖状のアルキレンジオー
ル類のような、場合により置換された脂肪族ジオ
ール類並びに1,4−ビス−ヒドロキシメチルシ
クロヘキサンおよびヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールエステルがあげられる。特に好
ましいものはエチレングリコール、トリメチレン
グリコール、テトラメチレングリコールおよびヘ
キサメチレングリコールである。ヒドロキシカル
ボン酸としては例えばm−またはp−ヒドロキシ
安息香酸または例えばγ−ヒドロキシ吉草酸、ヒ
ドロキシピバリン酸およびε−カプロラクトンの
ような脂肪族のω−ヒドロキシカルボン酸類等が
あげられる。 もう一つの好ましい実施形態において、本発明
の材料のためのポリマー類はポリアミドイミドま
たはポリエステルイミドである。このようなポリ
マー類は下記式 のトリカルボン酸またはこのものの、例えばエス
テル、酸無水物または酸ハロゲン化物のようなポ
リマー形成性誘導体を組入れることによつて得る
ことができる。式の3価の残基Dは好ましくは
6ないし16個の炭素原子を有する炭化水素残基で
あつて、2個のカルボキシル基が2つの隣り合つ
た炭素原子に結合しているものであることができ
る。好ましいものはトリメリツト酸である。 これらのポリアミドイミド類は前記式のジア
ミンと上記式のトリカルボン酸とだけから構成
されていることができる。コポリマーは例えばポ
リアミド類について既に前に述べたようにジカル
ボン酸類および/またはジアミン類を追加的にポ
リアミドイミド類の製造に際して、更にはまた式
のそれに際して一緒に使用した場合に得られ
る。ポリエステルイミド類は、先ず最初アミノカ
ルボン酸またはアミノアルコールを前記式のト
リカルボン酸と反応させてジカルボン酸またはヒ
ドロキシカルボン酸にし、そして次にこのものを
前記式のジオール類および/またはジカルボン
酸類と縮重合させてポリエステルにすることによ
つて得ることができる。この場合にもコポリマー
を作るために追加的に他のジカルボン酸類およ
び/またはジオール類を使用することができる。 更に、ポリエステルアミド類も好ましい。これ
らのポリマー類は前記式のジカルボン酸類およ
び/またはその他の追加的なジカルボン酸類を前
記式のジオール類および/または他のジオール
類および前記式のジアミン類および/または他
のジアミン類と縮重合することによつて得られ、
その際それらのモノマー類の個々のものについて
は既に記述した。 前述した各ポリマー類におけるアミド基のN原
子は好ましくは1ないし6個の炭素原子を有する
アルキル基、例えばフエニル基のようなアリール
基、例えばベンジル基のようなアラルキル基また
は例えばシクロヘキシル基のようなシクロアルキ
ル基によつて置換されていてもよい。 本発明の塗膜被覆材料のための他の適当なポリ
マー類は例えば下記のものである:a 式のジ
オール類および場合によりその他のジオール類
と(R242−SiB2のシラン化合物(但しR24は好
ましくは1ないし6個の炭素原子を有するアル
キル、中でもメチル基、またはシクロアルキ
ル、中でもフエニル基であり、そしてBはBr
または特にCl、または好ましくは1ないし6個
の炭素原子を有するアルコキシまたはアリール
オキシ基、特にメトキシ基またはフエノキシ基
である)よりなるポリシロキサン類。これらの
ポリマーは従つて下記式
can mean [formula]. The acyl group may contain 1 to 20, preferably 1 to 12 carbon atoms. Compounds with c=1 in the formula are known in part from DE 30 07 445 A1 or can be prepared by analogous methods. For example, introduction of other functional groups such as glycidyl groups is carried out by conventional methods. Compounds in which c is 1 or more are novel compounds and are also an object of the present invention. These are oligomers and low molecular weight polyimides with terminal functional groups. These are prepared in a manner similar to that for polyimides, the size of c being determined by the amount of monomers of the formula Y--R--NH 2 used together. Using these oligomers and low molecular weight polymers, block polymers are obtained having respective blocks of, for example, polyimide and, for example, polyamide blocks, polyester blocks and other polyimide blocks. Another preferred group of polymers for the coating materials according to the invention are various organic diamines,
The above formula (in this formula, q=1 and R
and a polyamide or copolymerized polyamide having a structural element (in which an amino group or a carboxyl group is bonded to the group R'). In the case of a homopolymer, the molecular chain is composed of a dicarboxylic acid and a diamine having the structural element of the formula, or the molecular chain is composed of a dicarboxylic acid or diamine having the structural element of the formula. organic diamine or dicarboxylic acid, and may not contain a benzophenone residue. The copolyamide contains further diamine, dicarboxylic acid or aminocarboxylic acid groups. Suitable dicarboxylic acids are, for example, straight-chain or branched aliphatic dicarboxylic acids having preferably 2 to 20, especially 4 to 16 carbon atoms, 5
Cycloaliphatic dicarboxylic acids having from 8 to 7 ring carbon atoms, which are unsubstituted or substituted in particular by alkyl groups, and preferably from 8 to 7 ring carbon atoms;
Aromatic dicarboxylic acids having 22 carbon atoms, unsubstituted or substituted by an alkyl group, Cl or Br. Examples of these are malonic acid, adipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, corkic acid, azelaic acid, dodecanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, p-diphenyldicarboxylic acid, bis-(4 -carboxylphenyl)ether or bis-(4-carboxylphenyl)-
Sulfone can be given. Suitable diamines are, for example, straight-chain or branched aliphatic diamines having preferably 2 to 30, especially 4 to 20 carbon atoms, non-alphatic diamines preferably having 5 to 7 ring carbon atoms. Cycloaliphatic diamines substituted or substituted by alkyl, especially methyl groups, preferably 7
araliphatic diamines having from 6 to 24 carbon atoms, and aromatic diamines having from 6 to 22, especially from 6 to 18 carbon atoms, which may be unsubstituted or substituted, in particular by alkyl groups. They are diamines. Examples thereof include ethylene diamine, propylene diamine, 1,3- or 1,4-butylene diamine, pentylene diamine, 1,6-hexylene diamine, octylene diamine, decylene diamine, dodecylene diamine, e.g. , 10-dimethyl-1,10-decylendiamine or 1,10-di-n-hexyl-1,
1,10-alkyl-substituted 1,10-decylendiamines such as 10-decylendiamine, xylylenediamine, isophoronediamine, 1,3- or 1,4-cyclohexanediamine, 1,3-
or 1,4-phenylenediamine, methylphenylenediamine, tolylenediamine, p-diphenylenediamine, bis-(p-aminophenyl)
Examples include ether, bis-(p-aminophenyl) sulfone, and bis-(p-aminophenyl)-methane. Aminocarboxylic acids include aromatic, cycloaliphatic or aliphatic aminocarboxylic acids, such as aminobenzoic acid, aminocyclohexanecarboxylic acid, and e.g.
- ε-aminocarboxylic acids such as aminocaproic acid or 11-aminoundecanoic acid. Another preferred group of polymers for the materials of the invention consists of various organic diols, dicarboxylic acids, hydroxycarboxylic acids and various diols or dicarboxylic acids or mixtures of these monomers (with the formula It is a polyester or a copolymerized polyester having a structural element in which q=1 and a hydroxyl group or a carboxyl group is bonded to the R and R' groups. Homopolymer polyesters are those whose molecular chain is composed of dicarboxylic acids and diols of the above formula, or those whose molecular chain is composed of diols or dicarboxylic acids of the above formula and various organic diols that do not contain benzophenone groups. Alternatively, it may be composed of a dicarboxylic acid. The copolyesters contain additional residues of various dicarboxylic acids, diols, and/or hydroxycarboxylic acids. Suitable dicarboxylic acids are as described above. Polyesters based on aromatic dicarboxylic acids, especially terephthalic acid and/or isophthalic acid, are preferred. Examples of diols include 1,
Cycloaliphatic diols such as 4-cyclohexanediol, aromatic diols such as bisphenol-A, and especially
Optionally substituted aliphatic diols, such as branched and especially straight-chain alkylene diols having 12, preferably 2 to 6 carbon atoms, and 1,4-bis-hydroxymethylcyclohexane and Examples include hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester. Particularly preferred are ethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol. Examples of hydroxycarboxylic acids include m- or p-hydroxybenzoic acid or aliphatic ω-hydroxycarboxylic acids such as γ-hydroxyvaleric acid, hydroxypivalic acid and ε-caprolactone. In another preferred embodiment, the polymers for the materials of the invention are polyamideimides or polyesterimides. Such polymers have the following formula tricarboxylic acids or their polymer-forming derivatives, such as esters, acid anhydrides or acid halides. The trivalent residue D of the formula is preferably a hydrocarbon residue having 6 to 16 carbon atoms, with two carboxyl groups attached to two adjacent carbon atoms. I can do it. Preferred is trimellitic acid. These polyamideimides can be composed only of the diamine of the above formula and the tricarboxylic acid of the above formula. Copolymers are obtained, for example, when dicarboxylic acids and/or diamines, as already mentioned above for polyamides, are additionally used together in the preparation of polyamide-imides and also in that of the formula. Polyesterimides are produced by first reacting an aminocarboxylic acid or aminoalcohol with a tricarboxylic acid of the above formula to give a dicarboxylic acid or hydroxycarboxylic acid, and then condensing this with diols and/or dicarboxylic acids of the above formula. It can be obtained by converting it into polyester. In this case too, additionally other dicarboxylic acids and/or diols can be used to form the copolymer. Furthermore, polyesteramides are also preferred. These polymers condensate dicarboxylic acids of the above formula and/or other additional dicarboxylic acids with diols of the above formula and/or other diols and diamines of the above formula and/or other diamines. obtained by,
The individual monomers have already been described. The N atom of the amide group in each of the aforementioned polymers is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as an aryl group such as phenyl, an aralkyl group such as benzyl, or an aralkyl group such as cyclohexyl. Optionally substituted with a cycloalkyl group. Other suitable polymers for the film coating materials of the invention are, for example: diols of the formula a and optionally other diols together with silane compounds of ( R24 ) 2 - SiB2 , R 24 is preferably alkyl having 1 to 6 carbon atoms, especially methyl, or cycloalkyl, especially phenyl, and B is Br
or in particular Cl, or alkoxy or aryloxy groups preferably having 1 to 6 carbon atoms, especially methoxy or phenoxy groups). These polymers therefore have the formula

【式】お よび場合により次式[Formula] O and possibly the following formula

【式】 〔上式において、Eは式の基に相当し、そ
の際q=1であり、そしてE′はジオールの2価
の基である〕の構造要素を有することができ
る。使用できるジオールHOE′OHは既に記述
した通りである。更に、これらのポリは下記式 の構造要素を有する追加的な各ブロツクを含む
ことができ、その際これらのブロツクはポリマ
ー全体の50重量%までを構成することができ
る。 b 不飽和ジカルボン酸、特にマレイン酸と、式
のジオール類HOEOHと、および場合により
他の同様に式で表わされるジカルボン酸並び
に他のジオールHOE′OHとからなる不飽和ポ
リエステル類。適当なジカルボン酸類は既に述
べた通りである。これらのポリマー類は従つて
〔E″はエチレン性不飽和のジカルボン酸の
2価の残基を表わす〕の構造要素を有すること
ができる。他の構造要素として下記
It can have the structural elements of the formula: In the above formula, E corresponds to a radical of the formula, q=1 and E' is a divalent radical of a diol. The diols HOE′OH that can be used are as already described. Furthermore, these polys have the following formula Additional blocks having structural elements of 1,000,000 or more can be included, these blocks making up to 50% by weight of the total polymer. b. Unsaturated polyesters consisting of unsaturated dicarboxylic acids, in particular maleic acid, diols of the formula HOEOH and optionally other similarly dicarboxylic acids of the formula as well as other diols HOE'OH. Suitable dicarboxylic acids are as already mentioned. These polymers therefore have the formula [E″ represents a divalent residue of an ethylenically unsaturated dicarboxylic acid].Other structural elements include the following:

【式】【formula】

【式】及び[Formula] and

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の材料の上のポリマー塗膜は多くの用途
に充分な高い感光性を有しており、そしてこれは
直接光架橋化することができる。そのようにして
作り出された保護皮膜やレリーフ像は高い接着強
度および高い熱的、機械的および化学的な安定性
によつて優れており、中でもポリイミドよりなる
塗膜はこれらの安定性が優れている。熱的な後処
理に際しては、僅かな減量しか観測されない。そ
の上に感光性形成または増強用の種々の添加剤の
使用を省略することができる。この材料は貯蔵に
おいて安定であるけれども、光の影響から保護さ
れる必要がある。 以下に本発明を実施例によつて更に詳細に説明
する。 A 出発生成物の製造 例 1 攪拌機、滴下漏斗、内部温度計および窒素導入
管を備えた円筒形容器中で窒素ガス中で27.28g
(0.12モル)の4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチ
ルジフエニルメタンを370gのN−メチルピロリ
ドン(NMPと略記する)の中に溶解し、そして
0ないし5℃に冷却する。次に39.43g(0.1225
モル)のベンゾフエノンテトラカルボン酸ジ無水
物(BTDAと略記する)を準備して4時間の間
に何回にも分けて添加する。最後の添加の30分後
に48.48g(0.48モル)のトリエチルアミンおよ
び110.1g(1.08モル)の無水酢酸を滴加し、生
じたポリアミド酸をポリイミドに環化する。室温
において16時間攪拌した後にその溶液を強い攪拌
のもとに6の水中に注ぎ込み、そしてその析出
した生成物を過分離する。この生成物を改めて
6の水で処理し、過して80℃において真空中
で乾燥させる。25℃においてNMP中の0.5%濃度
溶液で測定した固有粘度は0.97dl/gである。走
査示差熱カロリメトリDSCによつて測定したガ
ラス転移温度Tgは285℃である。 例 2 例1におけると同様に操作するが、66.7モル%
のBTDAおよび33.3モル%のピロメリツト酸ジ無
水物(PMDAと略記する)よりなる混合物を用
いる。得られた共重合ポリイミドの性質は下記の
通りである。 〔η〕=0.93dl/g Tg=304℃ 例 3 例1におけると同様に、3,3′−ジエチル−
4,4′−ジアミノジフエニルメタン、3−エチル
−4,4′−ジアミノジフエニルメタン、および
4,4′−ジアミノジフエニルメタンの工業薬品級
混合物を化学量論量のBTDAと反応させて環化
することによりポリイミドを得る。 〔η〕=1.00dl/g Tg=263℃ 例 4 50モル%のBTDAと50モル%のPMDAとの混
合物を用いて例3の操作を繰返す。得られた共重
合ポリイミドは下記の性質を有する: 〔η〕=0.87dl/g Tg=288℃ 例 5 例1に記載した縮重合装置中で溶剤としての
NMPの中に上記例3と同じジアミン混合物の
4.02gを溶解した溶液を3.78gのBTDA(ジアミ
ン混合物:BTDAのモル比=3:2)と縮重合
させて末端アミノ基を有するポリアミド酸ブロツ
クにする。次に、この溶液を−15℃に冷却した上
で先づ3.5717gのイソフタル酸ジ塩化物を加え、
次いで2.6791gのジアミン混合物を加える(イソ
フタル酸ジ塩化物:ジアミン混合物のモル比=
3:2)。冷却を停止することによつて温度はゆ
つくりと室温まで上昇する。5時間後に3mlのプ
ロピレンオキサイドを、そして更にその30分後に
6.51gのトリエチルアミンおよび26.6gの無水酢
酸を添加する。1夜攪拌し、翌日、混合物を水中
に入れて攪拌することによつて、ブロツク共重合
ポリアミドイミドが沈殿する。このものの性質は
次の通り: 〔η〕=0.82dl/g Tg=221℃ 例 6 例1と同様にして4,4′−ジアミノジフエニル
メタンと2,4−ジアミノトルオールとの混合物
(モル比=19.7:80.3)を当量のBTDAと縮重合
させる。得られたポリイミドの性質は下記の通
り: 〔η〕=0.43dl/g Tg=309℃ 例 7 例1と同様にして2,4−ジアミノトルオール
と5,(6)−アミノ−1−(4−アミノフエニル)−
1,3,3−トリメチルインダンとの混合物(モ
ル比=54.4:45.6)を当量のBTDAと縮重合させ
る。得られた共重合ポリイミドの性質は下記の通
り: 〔η〕=0.42dl/g Tg=309℃ 例8および9 例1と同様にしてBTDAを当量の2−アミノ
−6−メチル−6−(4−アミノフエニル)−ヘプ
タンまたは2−アミノ−6−メチル−6−(3−
エチル−4−アミノフエニル)−ヘプタンと縮重
合させることによりポリイミドを製造する。これ
らのポリイミドの性質は次の通り: 〔η〕=0.34および0.23dl/g Tg=177℃および170℃ 例 10 攪拌機、内部温度計、窒素導入管および水分離
装置を備えたスルホン化用フラスコ中で13.21g
(0.038モル)の1,10−ジアミノ−1,10−ジ−
n−ヘキシルデカンおよび13.34gのBTDA
(0.038モル)を100mlのo−ジクロロベンゾール
中で窒素ガスのもとで30分間攪拌する。次に、こ
の混合物を徐々に還流温度(175℃)に加熱し、
その際透明な淡黄色の溶液が生ずる。90分間の間
にその凝縮水をo−ジクロロベンゾールと一緒に
留去して水分離装置中で分離する。 分析のためのサンプルを採取し、その際冷却さ
せた溶液の1部をヘキサン中に攪拌注入し、過
し、そして乾燥する。得られたポリアミドの特性
は次の通り: 〔η〕=0.36dl/g Tg=63℃ 例 11−20 例1と同様にして下表にあげたジアミン類を
BTDAと縮重合させてポリイミドを作り、そし
てこれらの重合物のそれぞれ下表にあげた性質が
見出されている。
The polymer coating on the material of the invention has high photosensitivity, sufficient for many applications, and it can be directly photocrosslinked. The protective films and relief images produced in this way are excellent due to their high adhesive strength and high thermal, mechanical and chemical stability, and the coatings made of polyimide are especially excellent in these stability. There is. Only a slight weight loss is observed during thermal after-treatment. Moreover, the use of various additives for forming or enhancing the photosensitivity can be omitted. Although this material is stable in storage, it needs to be protected from the effects of light. The present invention will be explained in more detail below using Examples. A Preparation Example of Starting Product 1 27.28 g in nitrogen gas in a cylindrical vessel equipped with a stirrer, dropping funnel, internal thermometer and nitrogen inlet tube
(0.12 mol) of 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane is dissolved in 370 g of N-methylpyrrolidone (abbreviated as NMP) and cooled to 0-5°C. Next, 39.43g (0.1225
mol) of benzophenonetetracarboxylic dianhydride (abbreviated as BTDA) is prepared and added in portions over a period of 4 hours. Thirty minutes after the last addition, 48.48 g (0.48 mol) of triethylamine and 110.1 g (1.08 mol) of acetic anhydride are added dropwise and the resulting polyamic acid is cyclized to polyimide. After stirring for 16 hours at room temperature, the solution is poured into 6 water under vigorous stirring and the precipitated product is overseparated. The product is treated again with 6 portions of water, filtered and dried in vacuo at 80°C. The intrinsic viscosity, measured in a 0.5% strength solution in NMP at 25° C., is 0.97 dl/g. The glass transition temperature Tg measured by scanning differential thermal calorimetry DSC is 285°C. Example 2 Proceed as in Example 1, but with 66.7 mol%
of BTDA and 33.3 mol % of pyromellitic dianhydride (abbreviated as PMDA) is used. The properties of the obtained copolymerized polyimide are as follows. [η] = 0.93 dl/g Tg = 304°C Example 3 As in Example 1, 3,3'-diethyl-
A technical grade mixture of 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3-ethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, and 4,4'-diaminodiphenylmethane was reacted with a stoichiometric amount of BTDA. Polyimide is obtained by cyclization. [η] = 1.00 dl/g Tg = 263°C Example 4 The procedure of Example 3 is repeated using a mixture of 50 mol% BTDA and 50 mol% PMDA. The copolymerized polyimide obtained has the following properties: [η] = 0.87 dl/g Tg = 288°C Example 5
of the same diamine mixture as in Example 3 above in NMP.
A solution containing 4.02 g of BTDA is condensed with 3.78 g of BTDA (mole ratio of diamine mixture: BTDA = 3:2) to form a polyamic acid block having terminal amino groups. Next, after cooling this solution to -15°C, 3.5717 g of isophthalic acid dichloride was added first.
Then add 2.6791 g of diamine mixture (molar ratio of isophthalic acid dichloride:diamine mixture =
3:2). By stopping the cooling, the temperature slowly rises to room temperature. After 5 hours, 3 ml of propylene oxide, and after another 30 minutes.
Add 6.51 g triethylamine and 26.6 g acetic anhydride. The block copolymerized polyamideimide is precipitated by stirring overnight and the next day by stirring the mixture in water. The properties of this are as follows: [η] = 0.82 dl/g Tg = 221°C Example 6 Similarly to Example 1, a mixture of 4,4'-diaminodiphenylmethane and 2,4-diaminotoluol (molar ratio = 19.7:80.3) with an equivalent amount of BTDA. The properties of the obtained polyimide are as follows: [η] = 0.43 dl/g Tg = 309°C Example 7 In the same manner as in Example 1, 2,4-diaminotoluol and 5,(6)-amino-1-( 4-aminophenyl)-
A mixture with 1,3,3-trimethylindan (molar ratio = 54.4:45.6) is polycondensed with an equivalent amount of BTDA. The properties of the copolymerized polyimide obtained are as follows: [η] = 0.42 dl/g Tg = 309°C Examples 8 and 9 In the same manner as in Example 1, BTDA was added to an equivalent amount of 2-amino-6-methyl-6-( 4-aminophenyl)-heptane or 2-amino-6-methyl-6-(3-
Polyimide is produced by condensation polymerization with ethyl-4-aminophenyl)-heptane. The properties of these polyimides are as follows: [η] = 0.34 and 0.23 dl/g Tg = 177°C and 170°C Example 10 In a sulfonation flask equipped with a stirrer, an internal thermometer, a nitrogen inlet and a water separation device. 13.21g
(0.038 mol) of 1,10-diamino-1,10-di-
n-hexyldecane and 13.34g BTDA
(0.038 mol) is stirred in 100 ml of o-dichlorobenzole under nitrogen gas for 30 minutes. This mixture was then gradually heated to reflux temperature (175 °C),
A clear, pale yellow solution forms. During 90 minutes, the condensed water is distilled off together with o-dichlorobenzole and separated in a water separator. A sample for analysis is taken by stirring a portion of the cooled solution into hexane, filtering and drying. The properties of the obtained polyamide are as follows: [η] = 0.36 dl/g Tg = 63°C Example 11-20 The diamines listed in the table below were prepared in the same manner as in Example 1.
Polyimide was produced by condensation polymerization with BTDA, and the properties listed in the table below were found for each of these polymers.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 *無水酢酸による環化に際して酢酸エス
テルに変わる
例21 〔イソシアネートと酸無水物とのポリイミ
ド〕 攪拌機、還流冷却器およびガス導入管を備えた
反応容器中に、室温においてN2の中で0.7905g
(0.0021モル)のN,N′−ジ−(3−イソシアナト
−4−メチル)−フエニルパラバン酸および
DMSO(23ml)中の1.4633g(0.0084モル)のト
ルエン−2,4−ジイソシアネートを入れ、そし
てこれに3.386g(0.0105モル)のベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸ジ無水物を添加する。この混
合物を90℃に加温してこの温度で24時間保持す
る。冷却の後にこの溶液を水中に攪拌注入すれば
ポリマーが沈殿する。 〔η〕=0.228dl/g Tg=349℃ 例22 〔ポリイミド/ポリエステルアミド〕 反応容器中で1.5g(7.39ミリモル)のイソフ
タル酸ジ塩化物を38mlのN−メチルピロリドン
DMP中に溶解し、そして−15℃に冷却する。次
に、これに0.537g(4.92ミリモル)のm−アミ
ノフエノールおよび1.4mlのトリエチルアミンを
添加する。30分の後に2.832g(17.2ミリモル)
の3,6−ジアミノデユレンおよび0.65mlのトリ
エチルアミンを添加する。冷却浴を取除くことに
よつて温度を0℃まで上昇させ、そしてこれに
4.76g(14.78ミリモル)のBTDAを添加する。
室温において8時間攪拌した後に、16時間の間に
4.5mlのトリエチルアミンおよび12.6mlの無水酢
酸の添加によつてそのポリアミド酸は環化されて
ポリイミドとなる。これを常法に従つて後処理す
る。 〔η〕=0.38dl/g 例23 〔ポリイミド/ポリカーボネート〕 例26と同じ条件のもとで下記の成分を記載の順
に互に反応させる。 ホスゲン 0.008モル ビスフエノール 0.0053モル メシチレンジアミン 0.01866モル BTDA 0.016モル 〔η〕=0.16dl/g Tg=261℃ 例24 〔ポリイミド/ポリアミドイミド〕 7.5ミリモルの4,4′−ジアミノ−3,5,3′,
5′−テトラエチルジフエニルメタンおよび2.5ミ
リモルの4,4′−ジアミノジフエニルメタンを25
mlのNMP中に溶解し、この溶液を−15℃に冷却
し、そしてこれを0.4mlのトリエチルアミンの存
在のもとで2.5ミリモルの無水トリメリツト酸塩
化物と反応させる。その際生じたプレポリマーを
次に7.5ミリモルのBTDAと更に反応させ、そし
て次にトリエチルアミンおよび無水酢酸を用いて
環化させる。 〔η〕=0.58dl/g Tg=257℃ 例25 〔ポリイミドエステル〕 20ミリモルの3−アミノ−6−ヒドロキシデユ
レンを0℃において34.5mlのNMPの中で0.01モ
ルのBTDAと反応させる。次に−15℃において
0.01モルのイソフタル酸ジ塩化物および6.1mlの
トリエチルアミンを添加する。15分後に冷却を止
め、室温において更に8時間攪拌する。環化は無
水酢酸を用いて行なう。 〔η〕=0.09dl/g Tg=127℃ 例26 〔ポリイミド/ポリフエニレンスルフイ
ド〕 1.6458gの3,6−ジアミノデユレンおよび
0.9333gの末端アミノ基含有ポリフエニレンスル
フイド〔Polymer Bulletin4,459−466(1981)
に従つて製造した〕を0℃ないし25℃において24
mlのNMPの中で24時間の間に3.4313gのBTDA
と反応させ、そして次にトリエチルアミンおよび
無水酢酸によつて環化させる。 〔η〕=0.576dl/g Tg=411℃ 例27 〔ポリイミド/ポリエーテルスルホン〕 これに用いた末端アミノ基含有ポリエーテルス
ルホンは4,4′−ジクロロジフエニルスルホン
と、ビスフエノールAと、および4−クロロニト
ロベンゾールとを炭酸カリウムの存在のもとに
DMF中で縮合させ、次いでその末端ニトロ基を
還元することによつて製造する。例30と同様にし
て3.018gの3,6−ジアミノデユレンおよび
1.796gの上記ポリエーテルスルホンを44mlの
NMPの中で6.231gのBTDAと反応させ、そして
環化してポリイミドにする。 〔η〕=0.516dl/g Tg=380℃ B 応用例 片側面に銅を被覆した合成樹脂の板の上に5%
濃度のポリマー溶液を遠心スプレー塗覆して次に
溶剤を空気循環オーブン中で除去することにより
薄いポリマー塗膜を形成させる。溶剤としては、
アセトフエノン(例1,2および4のポリマーの
場合)、ブチロラクトン(例3の場合)、o−ジク
ロロベンゾール(例10の場合、但しポリマーの分
離なし)、その他の実施例のポリマーの場合には
o−メチルピロリドンを用いる。 そのようにして塗膜を設けた板を室温において
フオトマスク(Stouffer光楔板)を通して18cmの
距離から1000ワツトの紫外線ランプで露光する。
この露光された板を次に溶剤中で現像し、その際
そのポリマー塗膜の未露光部分は溶解除去され
る。このレリーフ像の可視化を、次にその曝露さ
れた銅層をFeCl3溶液でエツチング除去すること
によつて行なう。 露光時間、使用現像剤および感光度は下記の表
に記載されている。この表においてMEKはメチ
ルエチルケトンを、そしてDMFはジメチルホル
ムアミドを表わす。
[Table] *Example 21 of conversion to acetate ester upon cyclization with acetic anhydride [Polyimide of isocyanate and acid anhydride] In a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a gas inlet tube, at room temperature under N 2 0.7905g
(0.0021 mol) of N,N'-di-(3-isocyanato-4-methyl)-phenylparabanic acid and
1.4633 g (0.0084 mol) toluene-2,4-diisocyanate in DMSO (23 ml) is charged and to this is added 3.386 g (0.0105 mol) benzophenonetetracarboxylic dianhydride. The mixture is warmed to 90°C and kept at this temperature for 24 hours. After cooling, the solution is stirred and poured into water to precipitate the polymer. [η] = 0.228 dl/g Tg = 349°C Example 22 [Polyimide/Polyesteramide] In a reaction vessel, 1.5 g (7.39 mmol) of isophthalic acid dichloride was added to 38 ml of N-methylpyrrolidone.
Dissolve in DMP and cool to -15°C. Then 0.537 g (4.92 mmol) m-aminophenol and 1.4 ml triethylamine are added to this. 2.832 g (17.2 mmol) after 30 minutes
of 3,6-diaminodeurene and 0.65 ml of triethylamine are added. The temperature is raised to 0°C by removing the cooling bath, and to this
Add 4.76 g (14.78 mmol) BTDA.
After stirring for 8 hours at room temperature, during 16 hours
The polyamic acid is cyclized to polyimide by addition of 4.5 ml of triethylamine and 12.6 ml of acetic anhydride. This is post-treated according to a conventional method. [η] = 0.38 dl/g Example 23 [Polyimide/Polycarbonate] Under the same conditions as in Example 26, the following components are reacted with each other in the order listed. Phosgene 0.008 mol Bisphenol 0.0053 mol Mesitylenediamine 0.01866 mol BTDA 0.016 mol [η] = 0.16 dl/g Tg = 261°C Example 24 [Polyimide/Polyamideimide] 7.5 mmol of 4,4'-diamino-3,5,3' ,
5'-tetraethyldiphenylmethane and 2.5 mmol of 4,4'-diaminodiphenylmethane at 25
ml of NMP, cool the solution to −15° C. and react it with 2.5 mmol of anhydrous trimellitate acid chloride in the presence of 0.4 ml of triethylamine. The prepolymer thus formed is then further reacted with 7.5 mmol of BTDA and then cyclized using triethylamine and acetic anhydride. [η] = 0.58 dl/g Tg = 257°C Example 25 [Polyimide ester] 20 mmol of 3-amino-6-hydroxydurene are reacted with 0.01 mol of BTDA in 34.5 ml of NMP at 0°C. Then at -15℃
Add 0.01 mol of isophthalic acid dichloride and 6.1 ml of triethylamine. Cooling is stopped after 15 minutes and stirring is continued for a further 8 hours at room temperature. Cyclization is carried out using acetic anhydride. [η] = 0.09 dl/g Tg = 127°C Example 26 [Polyimide/polyphenylene sulfide] 1.6458 g of 3,6-diaminodeylene and
0.9333 g of polyphenylene sulfide containing terminal amino groups [Polymer Bulletin 4, 459-466 (1981)
[produced according to the method] at 0℃ to 25℃ for 24
3.4313g BTDA in 24 hours in ml NMP
and then cyclized with triethylamine and acetic anhydride. [η] = 0.576 dl/g Tg = 411°C Example 27 [Polyimide/Polyethersulfone] The terminal amino group-containing polyethersulfone used here was composed of 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone, bisphenol A, and 4-chloronitrobenzole in the presence of potassium carbonate
It is prepared by condensation in DMF followed by reduction of its terminal nitro group. 3.018 g of 3,6-diaminodurene and
Add 1.796g of the above polyether sulfone to 44ml
React with 6.231 g of BTDA in NMP and cyclize to polyimide. [η] = 0.516dl/g Tg = 380℃ B Application example 5% on a synthetic resin plate coated with copper on one side
A thin polymer coating is formed by centrifugal spray application of a concentrated polymer solution and then removal of the solvent in an air circulating oven. As a solvent,
acetophenone (for the polymers of examples 1, 2 and 4), butyrolactone (for example 3), o-dichlorobenzole (for example 10, but without separation of the polymer), o for the polymers of other examples. - Using methylpyrrolidone. The plate thus coated is exposed at room temperature to a 1000 watt ultraviolet lamp through a photomask (Stouffer light wedge) at a distance of 18 cm.
The exposed plate is then developed in a solvent, with the unexposed parts of the polymer coating being dissolved away. Visualization of this relief image is then carried out by etching away the exposed copper layer with a FeCl 3 solution. Exposure times, developers used and sensitivities are listed in the table below. In this table, MEK stands for methyl ethyl ketone and DMF stands for dimethyl formamide.

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基材の上に線感受性ポリマーを被覆した材料
において、このポリマーが 式の構造単位 〔上記式において、Rは異節原子、芳香族基、
異節環状基または環状脂肪族基によつて中断され
ていてもよい、置換または非置換の2価の脂肪族
基、置換または非置換環状脂肪族基または芳香脂
肪族基、2価の芳香核が1個の脂肪族基を介して
連結されている芳香族基、或いは少なくとも1箇
のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、ア
ルキルチオアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
ヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシアルキルチ
オ基若しくはアラルキル基によつて置換されてい
る芳香族基またはその隣り合つた2箇の炭素原子
が1箇のアルキレン基によつて置換されている芳
香族基を表わし、R′は独立してRと同じ意味を
有し、そしてqは0または1の数を表わし、芳香
族基であるRは、qが0のときはアルキレン基に
よつて置換されていないか、或いは式中のN原子
に対して両方のオルソの位置が前述した各基によ
つて置換されていない〕をこのポリマーの全量の
少なくとも5モル%以上含有するホモポリマーま
たはコポリマーであることを特徴とする塗膜を被
覆した材料。 2 上記ホモポリマーまたはコポリマーが、前記
式の構造単位をこのポリマーの全量の5ないし
100モル%含有している特許請求の範囲第1項記
載の材料。 3 芳香族基の置換基が1ないし20箇の炭素原子
を有している特許請求の範囲第1項記載の材料。 4 上記置換基が1ないし6箇の炭素原子を有す
るアルキル基、アルコキシ基またはアルコキシア
ルキル基、あるいはベンジル基、トリメチレン基
またはテトラメチレン基である特許請求の範囲第
3項記載の材料。 5 芳香族基にそのN原子に対してオルソの位置
に1箇または2箇の置換基が結合している特許請
求の範囲第1項記載の材料。 6 Rが脂肪族基のときは2ないし30箇の炭素原
子を、環状脂肪族残基のときは5ないし8箇の環
炭素原子を、芳香脂肪族残基のときは7ないし30
箇の炭素原子を、そして置換された芳香族残基の
ときは7ないし30箇の炭素原子を有する特許請求
の範囲第1項記載の材料。 7 Rが脂肪族基の場合には、それぞれ一つ以上
の酸素原子、NH,NRaまたはNRa 2G(但し
Raは1ないし12箇の炭素原子を有するアルキル
基か、5または6箇の環炭素原子を有するシクロ
アルキル基、フエニル基、またはベンジル基を表
わし、そしてGはプロトン酸のアニオンを表わ
す)、シクロヘキシレン基、ナフチレン基、フエ
ニレン基またはヒダントイン基によつて中断され
ていてもよい直鎖状または分岐鎖状のアルキレン
基であり、Rが環状脂肪族基の場合には非置換
の、またはアルキル基によつて置換されている、
5ないし7箇の環炭素原子を有する単環式または
2環式のシクロアルキレン基であり、Rが芳香脂
肪族基の場合には、非置換の、またはアリール基
にアルキル基が置換していてもよいアラルキレン
基(但し、アルキレン残基は直鎖状であつても、
または分岐鎖状であつてもよい)であり、そして
Rが芳香族基の場合には、アルキル基、アルコキ
シ基、アルコキシアルキル基、トリメチレン基ま
たはテトラメチレン基によつて置換されているピ
リジン残基または炭化水素残基である特許請求の
範囲第1項記載の材料。 8 Rが脂肪族基である場合には、6ないし30箇
の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状のアル
キレン基、−(CH2n−R1−(CH2o−〔但しR1
フエニレン基、ナフチレン基、シクロペンチレン
基またはシクロヘキシレン基をあらわし、mおよ
びnは互いに独立に1,2または3の数を表わ
す〕の基、−R2−(OR3p−O−R2−〔但しR2はエ
チレン、1,2−プロピレン、1,3−プロピレ
ンまたは2−メチル−1,3−プロピレンを、ま
たR3はエチレン、1,2−プロピレン、1,2,
−ブチレン、1,3−プロピレン、または1,4
−ブチレンを表わし、そしてpは1ないし100の
数を表わす〕の基或いは の基である特許請求の範囲第7項記載の材料。 9 Rが環状脂肪族基である場合には、下記式
【式】または 【式】 〔式中、qは0または1であり、R4は独立的
に水素か、または1ないし6箇の炭素原子を有す
るアルキル基を意味し、そしてXは直接結合、
O,S,1ないし3箇の炭素原子を有するアルキ
レン基、または2ないし6箇の炭素原子を有する
アルキリデン基を表わす〕で表わされる特許請求
の範囲第7項記載の材料。 10 芳香脂肪族基が下記式 〔式中R4は独立的に水素原子または1ないし
6箇の炭素原子を有するアルキル基を、rは1か
ら16までの整数を表わす〕に相当する特許請求の
範囲第7項記載の材料。 11 芳香族基が下記式【式】 【式】【式】 【式】 【式】 【式】または 【式】 〔式中、R4はモノ置換の場合には1ないし6
箇の炭素原子を有するアルキル基であつてその他
のR4は水素であり、そしてジ、トリまたはテト
ラ置換の場合には2つのR4が1ないし6箇の炭
素原子を有するアルキル基で他のR4が水素、ま
たは1ないし6箇の炭素原子を有するアルキル基
であるか、またはジ、トリまたはテトラ置換の場
合にそのフエニル環の中の隣り合つた2つのR4
がトリメチレン基またはテトラメチレン基であつ
てその他のR4が水素原子、または1ないし6箇
の炭素原子を有するアルキル基であり、YはO,
S,NH,COまたはCH2を意味し、R5は水素原
子、または1ないし5箇の炭素原子を有するアル
キル基を表わし、R6は1ないし5箇の炭素原子
を有するアルキル基を意味し、そしてZは単結
合、O,S,SO,SO2,CO,O=CO、O=
CNR7,NR7,CONH,NH,R7SiR8,R7
OSiOR8 1ないし6箇の炭素原子を有するアルキレン
基、2ないし6箇の炭素原子を有するアルケニレ
ンまたはアルキリデン基、フエニレン基またはフ
エニルジオキシ基を意味し、但し上記において
R7およびR8は互いに独立に1ないし6箇の炭素
原子を有するアルキル基またはフエニル基を意味
し、そしてjは1ないし10の数である〕に相当す
る特許請求の範囲第7項記載の材料。 12 芳香族基が下記式【式】 【式】【式】 【式】または 【式】 〔式中Zは単結合、O、特にCH2を意味し、
R9は水素原子、メチル基またはエチル基を表わ
す〕の基である特許請求の範囲第11項記載の材
料。 13 ホモポリマーまたはコポリマーがポリイミ
ド類、ポリアミド類、飽和ポリエステル類、ポリ
カーボネート類、ポリアミドイミド類、ポリエス
テルイミド類、ポリエステルアミド類、ポリシロ
キサン類、不飽和ポリエステル類、エポキシ樹
脂、芳香族ポリエーテル類、芳香族ポリエーテル
ケトン類、芳香族ポリエーテルスルホン類、芳香
族ポリケトン類、芳香族ポリチオエーテル類およ
びこれらのポリマー類の混合物から選ばれる特許
請求の範囲第1項記載の材料。 14 ポリマーが式(但しq=0)の繰返し構
造要素を有するポリイミドであるか、または式
(但しq=0)の繰返し構造要素と下記式 の繰返し構造要素(但しこの式においてAは4価
の有機残基であり、そしてR10は2価の有機残基
である)とからなる共重合ポリイミドである特許
請求の範囲第13項記載の材料。 15 ポリマーが有機ジアミン類、ジカルボン酸
類、ω−アミノカルボン酸類、およびジアミン
類、またはジカルボン酸類よりなる、またはこれ
らモノマー類の混合物よりなる、式(但しq=
1であつてまた各RおよびR′の基にアミノ基ま
たはカルボキシル基が結合している)の構造要素
を有するポリアミドまたは共重合ポリアミドであ
る特許請求の範囲第13項記載の材料。 16 ポリマーが有機ジオール類とジカルボン酸
類、ヒドロキシカルボン酸類とジオール類または
ジカルボン酸類からなる、またはこれらモノマー
類の混合物からなる、式(但しq=1であつて
また各RおよびR′の基にヒドロキシル基または
カルボキシル基が結合している)の構造要素を有
するポリエステルまたは共重合ポリエステルであ
る特許請求の範囲第13項記載の材料。 17 基材の上に式の構造単位 〔上記式において、Rは異節原子、芳香族基、
異節環状基または環状脂肪族基によつて中断され
ていてもよい、置換または非置換の2価の脂肪族
残基、置換または非置換環状脂肪族基または芳香
脂肪族基、2箇の芳香核が1箇の脂肪族基を介し
て連結されている芳香族基、或いは少なくとも1
箇のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、ア
ルキルチオアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
ヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシアルキルチ
オ基若しくはアラルキル基によつて置換されてい
る芳香族残基またはその隣り合つた2箇の炭素原
子が1箇のアルキレン基によつて置換されている
芳香族基を表わし、R′は独立にRと同じ意味を
有し、そしてqは0または1の数を表わし、Rが
芳香族残基である場合には、qが0のときはアル
キレン基によつて置換されていないか、或いは式
中のN原子に対して両方のオルソの位置が前述し
た各基によつて置換されていない〕をこのポリマ
ーの全量の少なくとも5モル%以上含有するホモ
ポリマーまたはコポリマーである線感受性ポリマ
ーを被覆した材料を、場合によりフオトマスクを
通して映像を露光し、そして場合によりその末露
光部分を現像剤を用いて除去することを特徴とす
る基材上に保護層またはレリーフ像を形成する方
法。
[Claims] 1. A material in which a radiation-sensitive polymer is coated on a base material, in which the polymer has a structural unit of the formula [In the above formula, R is a heteroatom, an aromatic group,
Substituted or unsubstituted divalent aliphatic groups, substituted or unsubstituted cycloaliphatic or araliphatic groups, divalent aromatic nuclei optionally interrupted by heterocyclic or cycloaliphatic groups are linked via one aliphatic group, or at least one alkyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, alkoxyalkyl group, alkylthio group, alkylthioalkyl group, hydroxyalkyl group,
R represents an aromatic group substituted with a hydroxyalkoxy group, a hydroxyalkylthio group, or an aralkyl group, or an aromatic group in which two adjacent carbon atoms are substituted with one alkylene group; ' independently has the same meaning as R, and q represents a number of 0 or 1, and R, which is an aromatic group, is unsubstituted by an alkylene group when q is 0, or Both ortho positions with respect to the N atom in the formula are not substituted by the above-mentioned groups], based on the total amount of the polymer, at least 5 mol% A material coated with a coating. 2 The above homopolymer or copolymer contains structural units of the above formula from 5 to 50% of the total amount of the polymer.
The material according to claim 1, containing 100 mol%. 3. The material according to claim 1, wherein the substituent of the aromatic group has 1 to 20 carbon atoms. 4. The material according to claim 3, wherein the substituent is an alkyl, alkoxy or alkoxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl, trimethylene or tetramethylene group. 5. The material according to claim 1, wherein one or two substituents are bonded to the aromatic group at positions ortho to the N atom thereof. 6 When R is an aliphatic group, it has 2 to 30 carbon atoms, when it is a cycloaliphatic residue, it has 5 to 8 ring carbon atoms, and when it is an araliphatic residue, it has 7 to 30 ring carbon atoms.
2. A material according to claim 1, having from 7 to 30 carbon atoms in the case of substituted aromatic residues. 7 When R is an aliphatic group, one or more oxygen atoms, NH, NR a or NR a 2 G (however,
R a represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 or 6 ring carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group, and G represents an anion of a protonic acid), A linear or branched alkylene group which may be interrupted by a cyclohexylene group, a naphthylene group, a phenylene group or a hydantoin group, and when R is a cycloaliphatic group, an unsubstituted or alkyl group. substituted by a group,
A monocyclic or bicyclic cycloalkylene group having 5 to 7 ring carbon atoms, and when R is an araliphatic group, it is unsubstituted or an aryl group substituted with an alkyl group. Aralkylene group (However, even if the alkylene residue is linear,
or branched) and, when R is an aromatic group, is a pyridine residue substituted by an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, a trimethylene group or a tetramethylene group. or a hydrocarbon residue, the material according to claim 1. 8 When R is an aliphatic group, a linear or branched alkylene group having 6 to 30 carbon atoms, -(CH 2 ) n -R 1 -(CH 2 ) o - [provided that R 1 represents a phenylene group, a naphthylene group, a cyclopentylene group, or a cyclohexylene group, and m and n each independently represent the number 1, 2 or 3], -R 2 -(OR 3 ) p - O-R 2 - [where R 2 is ethylene, 1,2-propylene, 1,3-propylene or 2-methyl-1,3-propylene, and R 3 is ethylene, 1,2-propylene, 1,2 ,
-butylene, 1,3-propylene, or 1,4
- represents butylene, and p represents a number from 1 to 100], or The material according to claim 7, which is based on. 9 When R is a cycloaliphatic group, the following formula [Formula] or [Formula] [where q is 0 or 1, and R 4 is independently hydrogen or 1 to 6 carbon atoms] means an alkyl group having atoms, and X is a direct bond,
O, S, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkylidene group having 2 to 6 carbon atoms]. 10 The aromatic aliphatic group has the following formula 8. The material according to claim 7, wherein R 4 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and r represents an integer from 1 to 16. 11 The aromatic group has the following formula [Formula] [Formula] [Formula] [Formula] [Formula] [Formula] or [Formula] [In the formula, R 4 is 1 to 6 in the case of monosubstitution
an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the other R 4 is hydrogen; and in case of di-, tri- or tetra-substitution, two R 4 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the other R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or in the case of di-, tri- or tetra-substitution, two adjacent R 4 in the phenyl ring
is a trimethylene group or a tetramethylene group, other R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Y is O,
S, NH, CO or CH2 , R5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R6 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. , and Z is a single bond, O, S, SO, SO 2 , CO, O=CO, O=
CNR 7 , NR 7 , CONH, NH, R 7 SiR 8 , R 7
OSiOR8 , means an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenylene or alkylidene group having 2 to 6 carbon atoms, a phenylene group or a phenyldioxy group, provided that in the above
R 7 and R 8 independently represent an alkyl group or phenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and j is a number from 1 to 10. material. 12 The aromatic group has the following formula [Formula] [Formula] [Formula] [Formula] or [Formula] [In the formula, Z means a single bond, O, especially CH 2 ,
12. The material according to claim 11, wherein R 9 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. 13 Homopolymers or copolymers are polyimides, polyamides, saturated polyesters, polycarbonates, polyamideimides, polyesterimides, polyesteramides, polysiloxanes, unsaturated polyesters, epoxy resins, aromatic polyethers, aromatic 2. A material according to claim 1, selected from group polyetherketones, aromatic polyethersulfones, aromatic polyketones, aromatic polythioethers and mixtures of these polymers. 14 The polymer is a polyimide having a repeating structural element of the formula (where q = 0), or a repeating structural element of the formula (where q = 0) and the following formula (However, in this formula, A is a tetravalent organic residue, and R 10 is a divalent organic residue). material. 15 Polymers of the formula (where q=
14. The material according to claim 13, which is a polyamide or copolyamide having a structural element of 1 and an amino group or a carboxyl group is bonded to each R and R' group. 16 Polymers consisting of organic diols and dicarboxylic acids, hydroxycarboxylic acids and diols or dicarboxylic acids, or mixtures of these monomers (where q=1 and each R and R' have hydroxyl 14. The material according to claim 13, which is a polyester or copolyester having a structural element of 100% or 200% or 300% carboxyl groups. 17 Structural unit of the formula on the base material [In the above formula, R is a heteroatom, an aromatic group,
Substituted or unsubstituted divalent aliphatic residues, substituted or unsubstituted cycloaliphatic or araliphatic groups, optionally interrupted by heterocyclic or cycloaliphatic groups, two aromatic an aromatic group whose nucleus is linked via one aliphatic group, or at least one
alkyl groups, cycloalkyl groups, alkoxy groups, alkoxyalkyl groups, alkylthio groups, alkylthioalkyl groups, hydroxyalkyl groups,
represents an aromatic residue substituted with a hydroxyalkoxy group, a hydroxyalkylthio group or an aralkyl group, or an aromatic group in which two adjacent carbon atoms are substituted with one alkylene group, R' independently has the same meaning as R, and q represents a number of 0 or 1, and when R is an aromatic residue, when q is 0, it is substituted by an alkylene group. or both positions ortho to the N atom in the formula are not substituted by each of the aforementioned groups], based on the total amount of the polymer, at least 5 mol% or more. A method for forming a protective layer or relief image on a substrate, characterized in that a material coated with a sensitive polymer is imagewise exposed, optionally through a photomask, and optionally the exposed areas are subsequently removed using a developer. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5229257A (en) * 1990-04-30 1993-07-20 International Business Machines Corporation Process for forming multi-level coplanar conductor/insulator films employing photosensitive polymide polymer compositions
US5851736A (en) * 1991-03-05 1998-12-22 Nitto Denko Corporation Heat-resistant photoresist composition, photosensitive substrate, and process for forming heat-resistant positive or negative pattern
JP4529252B2 (en) 1999-09-28 2010-08-25 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 Positive photosensitive resin composition, pattern manufacturing method, and electronic component
WO2005109099A1 (en) 2004-05-07 2005-11-17 Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. Positive photosensitive resin composition, method for forming pattern, and electronic component
US7638254B2 (en) 2004-05-07 2009-12-29 Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd Positive photosensitive resin composition, method for forming pattern, and electronic part
TWI407255B (en) 2005-09-22 2013-09-01 Hitachi Chem Dupont Microsys Negative photosensitive resin composite, method of forming pattern and electronic component
KR101438857B1 (en) 2007-03-12 2014-09-05 히다치 가세이듀퐁 마이쿠로시스데무즈 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition, process for producing patterned hardened film with use thereof and electronic part
JP5176872B2 (en) 2007-10-29 2013-04-03 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 Positive photosensitive resin composition, pattern manufacturing method, and electronic component
JP2009244801A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, polymer compound, method for manufacturing pattern and electronic device
JP2011173827A (en) * 2010-02-24 2011-09-08 Mitsubishi Chemicals Corp Bisimide phenol derivative and method for producing the same, and polymer compound

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