JPH0511099U - Electron beam irradiation device - Google Patents

Electron beam irradiation device

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Publication number
JPH0511099U
JPH0511099U JP8616491U JP8616491U JPH0511099U JP H0511099 U JPH0511099 U JP H0511099U JP 8616491 U JP8616491 U JP 8616491U JP 8616491 U JP8616491 U JP 8616491U JP H0511099 U JPH0511099 U JP H0511099U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flange
electron beam
window
irradiation
electrons
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Pending
Application number
JP8616491U
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
啓三 林
Original Assignee
日新ハイボルテージ株式会社
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Application filed by 日新ハイボルテージ株式会社 filed Critical 日新ハイボルテージ株式会社
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 照射窓のフランジが散乱電子、2次電子によ
って局部的に過熱されると、窓箔のシール材の復元弾力
が喪失することがある。そのため走査管部の気密が損な
われる。本考案はその気密洩れを防止することを目的と
する。 【構成】 ビームキャッチャー5とフランジ8との間
に、散乱電子、2次電子を遮蔽するための遮蔽材12を
設置する。この遮蔽材12によってフランジ8に散乱電
子、2次電子が当たるのを防止し、フランジ8の局部的
な過熱の発生を防止する。
(57) [Summary] (Modified) [Purpose] When the irradiation window flange is locally overheated by scattered electrons and secondary electrons, the resilience of the window foil sealant may be lost. Therefore, the airtightness of the scanning tube portion is impaired. The present invention aims to prevent such leaks. [Structure] A shielding material 12 for shielding scattered electrons and secondary electrons is provided between the beam catcher 5 and the flange 8. The shielding material 12 prevents the scattered electrons and secondary electrons from hitting the flange 8 and prevents the flange 8 from being locally overheated.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は電子線照射装置に関する。 The present invention relates to an electron beam irradiation device.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

周知のように電子線照射装置は、図に示すように加速管部1によって加速され た電子線を、走査部2によって走査し、走査管部3内で走査して被照射物4に照 射する。この場合電子線の走査幅は被照射物4の幅よりも広く走査する必要があ るので、被照射物4の幅より外側に外れた電子線は、その下にあるビームキャッ チャー5に当たる。被照射物4が存在していない場合でも、電子線はビームキャ ッチャー5に当たる。 As is well known, the electron beam irradiation apparatus scans the electron beam accelerated by the accelerating tube section 1 by the scanning section 2 as shown in FIG. To do. In this case, since the scanning width of the electron beam needs to be wider than the width of the irradiation target 4, the electron beam outside the width of the irradiation target 4 hits the beam catcher 5 therebelow. The electron beam hits the beam catcher 5 even when the irradiation target 4 does not exist.

【0003】 このようにビームキャッチャー5に当たった電子線のエネルギーは、ビームキ ャッチャー5によって吸収され、熱を発生する。通常はこのビームキャッチャー 5は冷却されており、その温度上昇を阻止している。しかし電子線の一部は散乱 される。また吸収の過程でも2次電子を発生することがある。The energy of the electron beam hitting the beam catcher 5 in this way is absorbed by the beam catcher 5 to generate heat. Normally, the beam catcher 5 is cooled to prevent its temperature rise. However, part of the electron beam is scattered. Also, secondary electrons may be generated during the absorption process.

【0004】 前記した散乱電子及び2次電子の一部は走査管部3の照射窓6に向かう。走査 管部3の照射窓は、図1に示すように、真空化されている走査管部3の内部と大 気とを遮断している窓箔7と、これを支持するフランジ8とによって構成されて いる。Some of the scattered electrons and secondary electrons described above go to the irradiation window 6 of the scanning tube section 3. As shown in FIG. 1, the irradiation window of the scanning tube portion 3 is composed of a window foil 7 that shields the inside of the scanning tube portion 3 that is evacuated from the atmosphere, and a flange 8 that supports the window foil 7. Has been done.

【0005】 これを詳細に説明すると、窓箔7の周縁を金属製のシール材9を介してフラン ジ8と走査管部3の下部のフランジ部10との間に挾み、フランジ8とフランジ 部10とをボルト11によって締め込むことにより、窓箔7の周縁をフランジ部 10に支持するようにしている。To explain this in detail, the peripheral edge of the window foil 7 is sandwiched between the flange 8 and the lower flange portion 10 of the scanning tube portion 3 via a metal sealing material 9, and the flange 8 and the flange By tightening the portion 10 with the bolt 11, the peripheral edge of the window foil 7 is supported by the flange portion 10.

【0006】 ところでこのような構成において、前記のように照射窓6に向かった散乱電子 または2次電子がフランジ8に向かい、ここで吸収されることがある。するとフ ランジ8が局部的に過熱されて膨張する。この膨張によってシール材9が圧縮さ れる。しかし電子線照射が終わると、フランジ8は放熱によって当初の状態に復 元される。By the way, in such a structure, scattered electrons or secondary electrons that have gone to the irradiation window 6 as described above may go to the flange 8 and be absorbed there. Then, the flange 8 is locally overheated and expanded. The sealing material 9 is compressed by this expansion. However, when the electron beam irradiation ends, the flange 8 is restored to the initial state by heat radiation.

【0007】 しかしシール材9が極度に圧縮された場合、復元弾力を失って当初の状態に復 元できないことがある。そのためシール材9に対する押圧力が減少し、フランジ 8とフランジ部10との間に隙間が発生する。このような隙間が発生すると、走 査管部3内の気密が維持できなくなってしまうようになる。However, if the sealing material 9 is extremely compressed, it may not be able to restore its original state due to loss of the restoring elasticity. Therefore, the pressing force on the sealing material 9 is reduced, and a gap is generated between the flange 8 and the flange portion 10. When such a gap is generated, it becomes impossible to maintain the airtightness inside the scanning pipe section 3.

【0008】[0008]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

本考案は、散乱電子、2次電子によるフランジの膨張を回避することにより、 走査管部の気密洩れを防止することを目的とする。 An object of the present invention is to prevent airtight leakage of the scanning tube portion by avoiding expansion of the flange due to scattered electrons and secondary electrons.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本考案は、走査管部の内部を気密に維持する窓箔と、この窓箔をシール材を介 して走査管部に支持させるフランジとによって構成した照射窓を備えた電子線照 射装置において、照射窓を通って照射される電子線を吸収するビームキャッチャ ーと、窓箔を支持しているフランジとの間に、散乱電子、2次電子を遮蔽するた めの遮蔽材を設置したことを特徴とする。 The present invention relates to an electron beam irradiating device having an irradiation window constituted by a window foil for keeping the inside of the scanning tube section airtight and a flange for supporting the window foil on the scanning tube section via a sealing material. , A shielding material has been installed between the beam catcher that absorbs the electron beam emitted through the irradiation window and the flange that supports the window foil to shield scattered electrons and secondary electrons. Is characterized by.

【0010】[0010]

【作用】[Action]

散乱電子、2次電子がビームキャッチャー側からフランジ側に向かったとして も、これらは遮蔽部材によってフランジに当たるのが防止されるようになる。こ れによってフランジのこれらの電子による局部的な過熱の発生が防止されるよう になる。 Even if scattered electrons and secondary electrons go from the beam catcher side to the flange side, they are prevented from hitting the flange by the shielding member. This will prevent these electrons from locally heating the flange.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

本考案の実施例を図によって説明する。本考案にしたがい、ビームキャッチャ ー5とフランジ8との間に、金属製の遮蔽材12を設置する。このような遮蔽材 12を設置しておくと、図2に示すように散乱電子、2次電子13はこの遮蔽材 12によって遮蔽され、フランジ8に当たるのが阻止されるようになる。 An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. According to the present invention, a metallic shielding material 12 is installed between the beam catcher 5 and the flange 8. When such a shielding material 12 is installed, scattered electrons and secondary electrons 13 are shielded by the shielding material 12 and prevented from hitting the flange 8 as shown in FIG.

【0012】 そのためフランジ8の局部的な過熱が防止され、膨張、収縮するようなことは なくなり、したがってシール材9の過圧による復元弾力の喪失によって、走査管 部3の気密洩れが回避されるようになる。Therefore, the flange 8 is prevented from being locally overheated and is not expanded or contracted. Therefore, the loss of the restoring elasticity due to the overpressure of the sealing material 9 prevents the airtight leak of the scanning tube 3. Like

【0013】[0013]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上説明したように本考案によれば、単に遮蔽材をビームキャッチャーとフラ ンジとの間に設置するだけの簡単な構成によって、走査管部の気密洩れを防止す ることができる効果を奏する。 As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the airtight leak of the scanning tube portion with a simple configuration in which the shielding material is simply installed between the beam catcher and the flange.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案の実施例を示す拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本考案の実施例を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 走査管部 4 被照射物 5 ビームキャッチャー 6 照射窓 7 窓箔 8 フランジ 9 シール材 12 遮蔽材 3 Scan tube part 4 Irradiation object 5 Beam catcher 6 Irradiation window 7 Window foil 8 Flange 9 Sealing material 12 Shielding material

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 走査管部と、前記走査管部に設けられた
照射窓と、前記照射窓を通って照射される電子線を吸収
するビームキャッチャーとを備え、前記照射窓を、前記
走査管部の内部を気密に維持する窓箔と、前記窓箔をシ
ール材を介して前記走査管部に支持させるフランジとに
よって構成してなる電子線照射装置において、前記ビー
ムキャッチャーと前記フランジとの間に、前記フランジ
に向かう散乱電子、2次電子を遮蔽するための遮蔽材を
設置してなる電子線照射装置。
Claims for utility model registration: 1. A scanning tube section, an irradiation window provided in the scanning tube section, and a beam catcher for absorbing an electron beam irradiated through the irradiation window, In the electron beam irradiation apparatus, wherein the irradiation window is constituted by a window foil for maintaining the inside of the scanning tube section airtight and a flange for supporting the window foil on the scanning tube section via a sealing material, An electron beam irradiation device comprising a shielding material for shielding scattered electrons and secondary electrons directed to the flange between the beam catcher and the flange.
JP8616491U 1991-07-24 1991-07-24 Electron beam irradiation device Pending JPH0511099U (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8616491U JPH0511099U (en) 1991-07-24 1991-07-24 Electron beam irradiation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8616491U JPH0511099U (en) 1991-07-24 1991-07-24 Electron beam irradiation device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0511099U true JPH0511099U (en) 1993-02-12

Family

ID=13879113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8616491U Pending JPH0511099U (en) 1991-07-24 1991-07-24 Electron beam irradiation device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0511099U (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07165083A (en) * 1993-12-16 1995-06-27 Murata Mach Ltd Hand truck

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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