JPH05107691A - Production of base material for photography - Google Patents

Production of base material for photography

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Publication number
JPH05107691A
JPH05107691A JP27244191A JP27244191A JPH05107691A JP H05107691 A JPH05107691 A JP H05107691A JP 27244191 A JP27244191 A JP 27244191A JP 27244191 A JP27244191 A JP 27244191A JP H05107691 A JPH05107691 A JP H05107691A
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JP
Japan
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water
weight
insoluble
layer
resin layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP27244191A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Kagami
健治 鏡
Takeshi Fujita
剛 藤田
憲二 加々美
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Oriental Photo Industrial Co Ltd
Original Assignee
Oriental Photo Industrial Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To produce the film base material for photography which is subjected to an antistatic treatment in a manner as not to adversely affect photosensitive layers at all, withstands chemical processing, such as developing and washing, is not degraded in the antistatic effect by a change in environment, such as temp. and humidity, and is highly transparent, inexpensive and highly economical. CONSTITUTION:This production process consists of a stage for previously providing water-insoluble and water-absorptive resin layers on at least one surface of a film base body and a stage for diffusing a water dispersion which does not substantially contain the resin of a colloidal conductive metal oxide contg. at least one kind of Zn, Sn and In as cations from the surface layer part of the water-insoluble and water-absorptive resin layers.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、優れた帯電防止性を有
する写真用フィルム支持体の製造方法に関し、特に温湿
度等の環境変化によって帯電防止性が低下しない写真用
フィルム支持体の製造方法に関するものである。更に本
発明は、写真用支持体として物理的、化学的な悪影響が
なく、廉価で透明性の高い写真用フィルム支持体の製造
方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a photographic film support having excellent antistatic properties, and particularly to a method for producing a photographic film support in which the antistatic property does not deteriorate due to environmental changes such as temperature and humidity. It is about. Further, the present invention relates to a method for producing an inexpensive and highly transparent photographic film support which is free from physical and chemical adverse effects as a photographic support.

【0002】[0002]

【従来の技術】写真材料の分野では、一般に感光性ハロ
ゲン化銀−ゼラチン乳剤をプラスチック支持体若しくは
紙−プラスチック複合支持体上に複層塗布して写真材料
を製造している。これらのプラスチック支持体は、材料
の製造時や使用時に同種あるいは誘電特性の異なる物質
との表面摩擦や剥離によって静電気を生じ、材料表面上
に蓄積される。蓄積された静電気は、材料の露光、現像
前においては放電により感光層を感光させ、点状や羽毛
状の露光ノイズ(スタチックマーク)を発生させる場合
がある。又、材料の露光、現像後においては、周囲に存
在する塵芥を引きつけてフィルム原稿に異物を付着させ
てしまう。この様に写真感光材料の分野においては、静
電防止処理は不可欠の処理となっていて、特に材料の高
感度化、高速製造、高速露光、高速現像等の移送技術の
進歩はより一層静電防止性に優れたフィルム支持体が要
求されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION In the field of photographic materials, photographic materials are generally manufactured by coating a light-sensitive silver halide-gelatin emulsion on a plastic support or a paper-plastic composite support in multiple layers. These plastic supports generate static electricity due to surface friction or peeling with substances of the same kind or different in dielectric properties during the production or use of the material, and accumulate on the surface of the material. The accumulated static electricity may cause the photosensitive layer to be exposed to light before exposure and development of the material, thereby causing exposure noise (static marks) in the form of dots or feathers. Further, after the material is exposed and developed, the dust existing around the material is attracted and foreign matter is attached to the film original. As described above, in the field of photographic light-sensitive materials, antistatic treatment has become an indispensable treatment, and progress in transport technology such as high sensitivity of materials, high-speed manufacturing, high-speed exposure, and high-speed development has become even more difficult. There is a demand for a film support having excellent preventive properties.

【0003】静電気を防止するために数々の特許が出願
されているが、プラスチックの導電化技術は、次の三つ
の技術に分けることができる。 1) プラスチック支持体自体の導電化。 2) 導電性物質のプラスチック支持体への分散化。 3) プラスチック支持体表面への導電性物質のコーティ
ング。 以上のうち1)は未だ十分な素材開発がなされていないの
が現状であり、また2)の技術はその多くが粗大な導電性
フィラーを混入するものであって、透明な支持体を要求
される例えば写真材料の分野では好ましい技術とは言え
ない。従って、写真材料の分野では、もっぱらプラスチ
ック基体表面上に導電性物質をコーティングして帯電防
止された支持体を製造する3)の方法が検討されてきた。
例えば特開昭55−84658 号公報、同61−174542号公報及
び同64−65180 号公報には、カルボキシル基を有する水
溶性電気伝導性重合体、カルボキシル基を有する疎水性
重合体及び多官能性アジリジンの三者から誘導される導
電性ポリマーが記載されている。また特開昭61−174543
号公報には導電性ポリマー(例えばポリ(ナトリウムス
チレンスルホネート))とゼラチンから成る静電防止層
が記載されている。また特開昭64−68751 号公報には、
ある種のポリホスファゼン化合物が記載されている。更
に米国特許2982651 号、同3428456 号、同3457076 号、
同3454625 号、同3552972 号及び同3655387 号明細書等
には多くの界面活性剤類が記載されている。ところがこ
れらの導電性組成物は、写真材料の感光層に重大な悪影
響を及ぼしたり、使用時における環境の変化、特に低湿
度下で、その効果が激減したり、更には現像水洗処理に
よって流出して効果を消失してしまったりして、十分な
技術となっていない。一方、特公昭35−6616号公報、米
国特許第3062700 号明細書、特開昭52−113224号公報、
同55−12927 号公報、特公平3−24656 号公報及び同3
−24657 号公報等には、Zn、Ti、In、Si等の金属酸化物
を樹脂中に分散し、プラスチック支持体上に塗布して静
電防止層を形成される技術が提案されている。ところ
が、これらの技術は多量の金属酸化物を必要とし、効果
とコストに問題があったり、写真材料を露光、現像し、
得た画像を原稿として、更に像を形成させる様な場合、
非画像部の光透過率を低下させ、特に複数枚重ねて印刷
原稿とする時、著しい欠点となることが分かった。
A number of patents have been filed to prevent static electricity, but the technique for making plastic conductive can be divided into the following three techniques. 1) Making the plastic support itself conductive. 2) Dispersion of conductive material on plastic support. 3) Coating of the conductive material on the surface of the plastic support. Of the above, 1) is the fact that sufficient material development has not yet been made, and in 2) most of them are mixed with coarse conductive fillers, and a transparent support is required. For example, it is not a preferable technique in the field of photographic materials. Therefore, in the field of photographic materials, the method 3) for producing an antistatic support by coating a conductive substance on the surface of a plastic substrate has been investigated.
For example, JP-A-55-84658, JP-A-61-174542 and JP-A-64-65180 disclose a water-soluble electrically conductive polymer having a carboxyl group, a hydrophobic polymer having a carboxyl group and a polyfunctional compound. Conducting polymers derived from aziridines are described. In addition, JP-A-61-174543
The publication describes an antistatic layer consisting of a conductive polymer (eg poly (sodium styrene sulfonate)) and gelatin. Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 64-68751,
Certain polyphosphazene compounds have been described. Furthermore, U.S. Pat.Nos. 2982651, 3428456, 3457076,
Many surfactants are described in the specifications of No. 3454625, No. 3552972 and No. 3655387. However, these conductive compositions have a serious adverse effect on the photosensitive layer of the photographic material, the effects thereof are drastically reduced under environmental changes during use, particularly under low humidity, and further, they are washed out by developing water washing treatment. The effect has disappeared, and it is not a sufficient technique. On the other hand, Japanese Examined Patent Publication No. 35-6616, U.S. Pat.No. 30,62700, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52-113224,
55-12927, Japanese Patent Publication 3-24656 and 3
No. 24657 and the like propose a technique in which a metal oxide such as Zn, Ti, In, or Si is dispersed in a resin and applied on a plastic support to form an antistatic layer. However, these techniques require a large amount of metal oxides, have problems in effectiveness and cost, and expose and develop photographic materials,
If you want to use the obtained image as a manuscript to form further images,
It has been found that the light transmittance of the non-image area is reduced, which is a serious drawback particularly when a plurality of sheets are overlapped to form a printed document.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の公知技
術の欠点を改良すべく成されたものであり、その第1の
目的は、感光層に何ら悪影響を与えない静電防止された
写真用フィルム支持体を製造することにある。本発明の
第2の目的は、現像、水洗処理等の化学処理に耐え、温
湿度等の環境変化により静電防止効果が低下しない写真
用フィルム支持体を製造することにある。本発明の第3
の目的は、透明性に優れた写真用フィルム支持体を製造
することにある。本発明の第4の目的は、廉価で経済的
に優れた写真用フィルム支持体を製造することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to remedy the above-mentioned drawbacks of the known art, the first purpose of which is to provide an antistatic photograph which does not adversely affect the photosensitive layer. To produce a film support for use. A second object of the present invention is to produce a photographic film support which withstands chemical treatments such as development and washing, and whose antistatic effect does not deteriorate due to environmental changes such as temperature and humidity. Third of the present invention
The purpose of is to produce a photographic film support having excellent transparency. A fourth object of the present invention is to produce an inexpensive and economically excellent photographic film support.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、フィル
ム基体上の少なくとも一面に 1) 予め水不溶性かつ吸水性樹脂層を設ける工程と 2) Zn、Sn、Inの少なくとも1種を陽イオンとしたコロ
イド状導電性金属酸化物の実質的に樹脂を含まない水分
散液を該水不溶性かつ吸水性樹脂層の表層部から拡散さ
せる工程 から成る写真用支持体の製造方法により達成することが
できた。
The object of the present invention is to: 1) provide a water-insoluble and water-absorbent resin layer on at least one surface of a film substrate in advance; and 2) at least one of Zn, Sn, and In is a cation. And a substantially resin-free aqueous dispersion of the colloidal conductive metal oxide described above are diffused from the surface layer of the water-insoluble and water-absorbent resin layer. did it.

【0006】本発明に用いられる水不溶性かつ吸水性を
有する樹脂層は、各種の水溶性樹脂の単独、若しくは2
種以上を混合した層を水不溶化処理したものであり、必
要であれば2種以上の樹脂層が多層構成となっていても
良い。本発明の樹脂層に用いる樹脂として好ましい具体
例としては、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体、ポリアクリルアミド、ポ
リジメチルアミノエチルメタクリレート、カゼイン、ポ
リアクリル酸共重合体、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体等をあげることができる。特に好ましい樹脂例と
しては、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理
ゼラチン等のゼラチン類である。これ等の水溶性樹脂の
うち活性水素基(水酸基、カルボキシル基、アミノ基
等)を有する水溶性樹脂は、架橋剤によって水不溶化処
理する。架橋剤としては、クロム明礬やアルミ明礬等の
無機架橋剤、ホルムアルデヒド、グリオキザール、サク
シンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒド−
スターチ、ポリアクロレイン等の有機アルデヒド型架橋
剤、N,N'−ジメチロールウレア、エチレングリコールと
グリオキザールの縮合物、サクシンアルデヒドとエタノ
ールの縮合物等の有機N−メチロール、及びアセタール
型架橋剤、ビス(2,3 −エポキシプロピル)メチルプロ
ピルアンモニウム−p−トルエンスルホン酸、1,4 −ビ
ス(2',3' −エポキシプロピルオキシ)ブタン等の有機
エポキシ型架橋剤、2,4,6 −トリエチレンイミノ−S−
トリアジン、1,6 −ヘキサメチレン−N,N'−ビスエチレ
ン尿素、ビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテル
等の有機アジリジン型架橋剤、ムコクロム酸、ムコブロ
ム酸、ムコフェノキシクロル酸等の有機ムコハロゲン酸
型架橋剤、2,4 −ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリ
アジン・ナトリウム塩、2,4 −ジクロロ−6−(4−ス
ルホアニリノ)−S−トリアジン・ナトリウム塩、2,4
−ジクロロ−6−(2−スルホエチルアミノ)−S−ト
リアジン等の活性ハロゲン型架橋剤、ビニルスルホン、
アクリロイル基を持つ活性オレフィン型架橋剤、カルボ
ジイミド型架橋剤、イソオキサゾリウム型架橋剤、メタ
ンスルホン酸エステル型架橋剤、及び活性エステル型架
橋剤等々を挙げることができる。架橋剤の使用量は通
常、樹脂に対して 0.002〜20重量%、好ましくは0.01〜
10重量%で、架橋の条件は室温〜90℃で数分から72時
間、好ましくは30℃から60℃の温度で30分から48時間の
範囲である。
The water-insoluble and water-absorbent resin layer used in the present invention is made of various water-soluble resins alone or 2
A layer in which two or more kinds are mixed is water-insolubilized, and if necessary, two or more kinds of resin layers may have a multilayer structure. Specific preferred examples of the resin used in the resin layer of the present invention include gelatin, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, styrene-maleic anhydride copolymer, polyacrylamide, polydimethylaminoethyl methacrylate, casein, polyacrylic acid copolymer. Examples thereof include polymers, agar, sodium alginate, starch derivatives and the like. Examples of particularly preferable resins are gelatins such as lime-processed gelatin, acid-processed gelatin and enzyme-processed gelatin. Among these water-soluble resins, the water-soluble resin having an active hydrogen group (hydroxyl group, carboxyl group, amino group, etc.) is water-insolubilized with a crosslinking agent. As the cross-linking agent, an inorganic cross-linking agent such as chrome alum or aluminum alum, formaldehyde, glyoxal, succinaldehyde, glutaraldehyde, dialdehyde-
Organic aldehyde type cross-linking agents such as starch and polyacrolein, N, N'-dimethylol urea, organic N-methylols such as condensates of ethylene glycol and glyoxal, condensates of succinaldehyde and ethanol, and acetal type cross-linking agents, bis Organic epoxy type cross-linking agents such as (2,3-epoxypropyl) methylpropylammonium-p-toluenesulfonic acid and 1,4-bis (2 ', 3'-epoxypropyloxy) butane, 2,4,6-tri Ethyleneimino-S-
Organic aziridine type crosslinking agents such as triazine, 1,6-hexamethylene-N, N'-bisethyleneurea, bis-β-ethyleneiminoethylthioether, etc., organic mucohalogenic acids such as mucochromic acid, mucobromic acid, mucophenoxycycloric acid, etc. -Type cross-linking agent, 2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt, 2,4-dichloro-6- (4-sulfoanilino) -S-triazine sodium salt, 2,4
-Dichloro-6- (2-sulfoethylamino) -S-triazine and other active halogen type crosslinking agents, vinyl sulfone,
Examples thereof include an active olefin type crosslinking agent having an acryloyl group, a carbodiimide type crosslinking agent, an isoxazolium type crosslinking agent, a methanesulfonic acid ester type crosslinking agent, and an active ester type crosslinking agent. The amount of the crosslinking agent used is usually 0.002 to 20% by weight, preferably 0.01 to 20% by weight, based on the resin.
At 10% by weight, the crosslinking conditions range from room temperature to 90 ° C for a few minutes to 72 hours, preferably at a temperature of 30 ° C to 60 ° C for 30 minutes to 48 hours.

【0007】本発明の水不溶性かつ吸水性樹脂中には次
に説明する導電性金属酸化物の分散水溶液を均一すみや
かに拡散させるため、高吸水性高分子化合物を併用する
のが好ましい。高吸水性高分子化合物の好ましい例とし
ては、特開昭52−14689 号、同53−50290 号、同51−16
0387号、同53−65597 号、同53−82666 号、同53−1046
52号、同53−104691号、同53−105589号、特公昭53−13
495 号、同53−13678 号公報等に記載された、少なくと
もビニルエステルとエチレン系不飽和カルボン酸又はそ
の誘導体とからなる共重合体のケン化物、特開昭53−80
493 号、同53−60985 号、同53−63486 号公報等に記載
されたアクリロニトリル系重合体の加水分解物などがあ
る。上記において、ビニルエステルとしては、たとえば
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル
など(好ましくは酢酸ビニル)がある。エチレン系不飽
和カルボン酸又はその誘導体としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン
酸、フマール酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸及び
これらのエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸及びこれらの
メチル−、エチル−、n−プロピル−、イソプロピル
−、n−ブチル−、t−ブチル−エステル類、アクリル
アミド、メタクリルアミドなどがある。ビニルエステル
成分(x)とエチレン系不飽和カルボン酸成分(y)と
のモル比は、x:y=10:100 〜80:20、好ましくは
x:y=0:100 〜70:30、特に好ましくは、x:y=
0:100 〜60:40である。この共重合体中に他のエチレ
ン性成分を1〜10モル%、好ましくは3〜7モル%の範
囲で含有させてもよい。ケン化度は、好ましくは上記共
重合体中のビニルエステル成分の30モル%以上、エチレ
ン系不飽和カルボン酸エステルを共重合させた場合はそ
の30モル%以上(特に70モル%以上)である。具体的に
は、アクリル酸メチル含量が62モル%の酢酸ビニルとア
クリル酸メチルの共重合体ケン化物(ケン化度90モル
%)、アクリル酸メチル含量が20モル%の酢酸ビニルと
アクリル酸メチル共重合体のケン化物(ケン化度98モル
%)、アクリル酸メチル含量48モル%の酢酸ビニルとア
クリル酸メチルの共重合体ケン化物(ケン化度98.3モル
%)等がある。
In the water-insoluble and water-absorbent resin of the present invention, it is preferable to use a highly water-absorbent polymer compound together in order to uniformly and quickly diffuse a dispersed aqueous solution of a conductive metal oxide described below. Preferred examples of the highly water-absorbing polymer compound include JP-A-52-14689, JP-A-53-50290, and JP-A-51-16.
0387, 53-65597, 53-82666, 53-1046
No. 52, No. 53-104691, No. 53-105589, Japanese Patent Publication No. 53-13
Saponification products of copolymers composed of at least vinyl ester and ethylenically unsaturated carboxylic acid or its derivative, as described in JP-A No. 495, 53-13678 and the like, JP-A-53-80.
493, 53-60985, 53-63486, etc., and hydrolysates of acrylonitrile polymers. In the above, examples of the vinyl ester include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl stearate and the like (preferably vinyl acetate). As the ethylenically unsaturated carboxylic acid or its derivative, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride and their esters, acrylamide, methacrylamide, preferably Are acrylic acid, methacrylic acid and their methyl-, ethyl-, n-propyl-, isopropyl-, n-butyl-, t-butyl-esters, acrylamide, methacrylamide and the like. The molar ratio of the vinyl ester component (x) and the ethylenically unsaturated carboxylic acid component (y) is x: y = 10: 100 to 80:20, preferably x: y = 0: 100 to 70:30, and particularly Preferably, x: y =
It is 0: 100 to 60:40. Other ethylenic components may be contained in the copolymer in an amount of 1 to 10 mol%, preferably 3 to 7 mol%. The degree of saponification is preferably 30 mol% or more of the vinyl ester component in the above copolymer, and 30 mol% or more (particularly 70 mol% or more) when the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester is copolymerized. .. Specifically, a saponified product of a copolymer of vinyl acetate and methyl acrylate having a methyl acrylate content of 62 mol% (saponification degree: 90 mol%), vinyl acetate and a methyl acrylate having a methyl acrylate content of 20 mol%. Examples include saponified copolymers (saponification degree 98 mol%), saponified copolymers of vinyl acetate and methyl acrylate having a methyl acrylate content of 48 mol% (saponification degree 98.3 mol%).

【0008】次にアクリロニトリル系重合体の加水分解
物について説明する。このアクリロニトリル系重合体と
は、アクリロニトリルを共重合成分として含有する重合
体の総称であり、具体的には、アクリロニトリル単独重
合体又はアクリロニトリルと他の1種若しくは2種以上
のエチレン系不飽和化合物との共重合体、あるいはアク
リロニトリルと他の重合体、例えば澱粉、ポリビニルア
ルコール等とのグラフト重合体を挙げることができる。
アクリロニトリルの含有率は30重量%、好ましくは50重
量%以上が望ましい。アクリロニトリル系重合体のケン
化物はアクリロニトリル部の加水分解によって生成した
アクリル酸塩及びアクリルアミドを含有する重合体であ
る。具体的にはアクリロニトリル含量90%のアクリロニ
トリルとアクリル酸メチルの共重合体のケン化物、澱粉
とアクリロニトリルのグラフト共重合体のケン化物、85
モル%のアクリロニトリル− 6.2%のアクリル酸メチル
− 8.8%の塩化ビニリデンの共重合体のケン化物などが
ある。
Next, the hydrolyzate of the acrylonitrile polymer will be described. The acrylonitrile-based polymer is a general term for polymers containing acrylonitrile as a copolymerization component, and specifically, acrylonitrile homopolymer or acrylonitrile and another one or two or more ethylenically unsaturated compounds Or a graft polymer of acrylonitrile and another polymer such as starch or polyvinyl alcohol.
The content of acrylonitrile is 30% by weight, preferably 50% by weight or more. The saponified product of an acrylonitrile polymer is a polymer containing an acrylate and acrylamide produced by hydrolysis of an acrylonitrile part. Specifically, saponified copolymer of acrylonitrile and methyl acrylate with 90% acrylonitrile content, saponified graft copolymer of starch and acrylonitrile, 85
Examples include saponified copolymers of mol% acrylonitrile-6.2% methyl acrylate-8.8% vinylidene chloride.

【0009】他の高吸水性ポリマーとしては、セルロー
ス系高吸水性ポリマーを挙げることができる。具体的に
はカルボキシメチルセルロース類があり、ハーキュリー
ズ(Hercules)社のアクアロン(Aqualon) 、エンカ(Enka)
社のアキューセル(Akucell)、ダイセル化学工業(株)
のジェルファインなどの市販品を用いることができる。
この高吸水性高分子の使用量は通常、ゼラチン等の樹脂
に対して1〜60重量%の範囲、好ましくは5〜30重量%
の範囲である。この範囲外、即ち1重量%未満であると
その効果がなく、60重量%を越えると皮膜強度に支障を
生じる。
Other superabsorbent polymers include cellulosic superabsorbent polymers. Specifically, there are carboxymethyl celluloses, such as Hercules's Aqualon and Enka.
Akucell, Daicel Chemical Industries, Ltd.
Commercially available products such as Gel Fine of No. 6 can be used.
The amount of the super absorbent polymer used is usually in the range of 1 to 60% by weight, preferably 5 to 30% by weight, based on the resin such as gelatin.
The range is. If it is out of this range, that is, if it is less than 1% by weight, the effect is not exerted, and if it exceeds 60% by weight, the film strength is impaired.

【0010】本発明の樹脂層は、着色してアンチハレー
ション層も兼ねることもでき、例えばカーボンブラッ
ク、フタロシアニン等の顔料やオキソール染料、アゾ染
料、スチリル染料、アントラキノン染料、メロシアニン
染料、ジアリルメタン染料、トリアリル染料、シアニン
染料、ヘミシアニン染料、アリーリデン染料等が挙げら
れる。又必要であれば、シリカ、酸チタン、ポリマービ
ーズ等のマット剤、寸法安定剤としてポリマーラテック
ス、被膜性を改良するために高沸溶剤等の可塑剤、紫外
線吸収剤、柔軟剤、増粘剤、塗布助剤、増白剤、滑剤及
び帯電防止助剤として公知の界面活性剤及びカルボン酸
のアルカリ塩等を有する樹脂を用いることができる。
The resin layer of the present invention may be colored to serve also as an antihalation layer. For example, pigments such as carbon black and phthalocyanine, oxol dyes, azo dyes, styryl dyes, anthraquinone dyes, merocyanine dyes, diallylmethane dyes, Examples thereof include triallyl dyes, cyanine dyes, hemicyanine dyes and arylidene dyes. If necessary, a matting agent such as silica, titanium oxide, and polymer beads, a polymer latex as a dimensional stabilizer, a plasticizer such as a high boiling solvent for improving the coating property, an ultraviolet absorber, a softening agent, and a thickening agent. A resin having a known surfactant such as a coating aid, a whitening agent, a lubricant and an antistatic aid and an alkali salt of a carboxylic acid can be used.

【0011】本発明のZn、Sn、Inから選ばれるコロイド
状金属酸化物は、好ましくは平均粒子径が200mμ以下、
特に好ましくは 50mμ以下であり、水を主体とした分散
媒に分散されたものである。また、本発明では前記の粒
子径外の粗大粒子を併用して、樹脂層内部と表層部に粒
子を局在させることもできる。金属酸化物としては、Zn
O 、SnO2、In2O3 の酸化物が好ましい。また、これ等酸
化物の導電特性を向上する目的で異種原子を微量含有さ
せることが好ましく、その例としてはAl、Nb、Ta、Sb、
ハロゲン等を挙げることができる。本発明に用いられる
コロイド状金属酸化物の体積抵抗値は、1010Ω・cm以
下、特に108 Ω・cm以下が好ましい。本発明のコロイド
状金属酸化物の導電層を形成するに際して、コロイド液
の安定性や均一塗工及び拡散を補助する目的で必要であ
れば樹脂、界面活性剤を使用しても良い。使用しうる樹
脂としては、前記樹脂層として例示した水溶性樹脂の他
に公知の水溶性電気伝導性重合体やノニオン、アニオン
界面活性剤を挙げることができる。コロイド状金属酸化
物とそれら助剤との比は、コロイド状金属酸化物1重量
部に対し 0.1重量部以下が好ましく、コロイド状金属酸
化物が凝集し沈澱しない最低量を用いる。
The colloidal metal oxide selected from Zn, Sn and In of the present invention preferably has an average particle size of 200 mμ or less,
It is particularly preferably 50 mμ or less, and is dispersed in a dispersion medium mainly composed of water. Further, in the present invention, coarse particles having a particle size other than the above-mentioned particle size may be used in combination to localize the particles inside the resin layer and the surface layer portion. As the metal oxide, Zn
Oxides of O 2 , SnO 2 and In 2 O 3 are preferred. Further, it is preferable to contain a small amount of a different kind of atom for the purpose of improving the conductive properties of these oxides, and examples thereof include Al, Nb, Ta, Sb,
Halogen etc. can be mentioned. The volume resistance value of the colloidal metal oxide used in the present invention is preferably 10 10 Ω · cm or less, particularly preferably 10 8 Ω · cm or less. When forming the conductive layer of the colloidal metal oxide of the present invention, a resin and a surfactant may be used if necessary for the purpose of assisting the stability of the colloidal solution and uniform coating and diffusion. Examples of the resin that can be used include known water-soluble electrically conductive polymers, nonions, and anionic surfactants in addition to the water-soluble resins exemplified as the resin layer. The ratio of the colloidal metal oxide to those auxiliary agents is preferably 0.1 part by weight or less relative to 1 part by weight of the colloidal metal oxide, and the minimum amount is used so that the colloidal metal oxide does not aggregate and precipitate.

【0012】本発明の水不溶性かつ吸水性樹脂層と導電
層を設けるに適したフィルム基体としては、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、セルロースアセテートフィル
ム、セルロースナイトレイトフィルム、セルロースアセ
テートプロピオネートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフ
ィルム等のフィルム、合成紙、及びそれ等の積層フィル
ムである。又、パライタ紙等のパルプ紙にα−オレフィ
ンポリマー類を塗工もしくはラミネートしたレジンコー
ト紙も含まれる。本発明の上記の基体は、水不溶性かつ
吸水性樹脂との接着を補助する目的で易接着層を設ける
ことができ、例えば水溶性樹脂と油溶性樹脂の混合液を
予め塗工したり、疎水基と親水基を有する共重合体を予
め塗工して易接着層とする。又フィルム表面を化学薬
品、熱線、紫外線、放射線、電気的放電処理等の化学
的、物理的処理により表面の改質を行うのが普通であ
る。
Suitable film substrates for providing the water-insoluble and water-absorbent resin layer and the conductive layer of the present invention include polyethylene terephthalate film, polystyrene film, polycarbonate film, cellulose acetate film, cellulose nitrate film and cellulose acetate propionate. Films, films such as polyvinylidene chloride film, synthetic papers, and laminated films thereof. Further, resin-coated paper obtained by coating or laminating α-olefin polymers on pulp paper such as Paraita paper is also included. The above-mentioned substrate of the present invention can be provided with an easy-adhesion layer for the purpose of assisting adhesion with a water-insoluble and water-absorbent resin. For example, a mixed solution of a water-soluble resin and an oil-soluble resin may be previously applied or a hydrophobic layer may be formed. A copolymer having a group and a hydrophilic group is previously coated to form an easily adhesive layer. The surface of the film is usually modified by chemical or physical treatment such as chemicals, heat rays, ultraviolet rays, radiation or electric discharge treatment.

【0013】次に本発明の好ましい製造工程の一例を示
すが、この態様によって本発明が限定されるものではな
い。予め易接着層を設けたフィルム基体(例えばポリエ
チレンテレフタレート)上に水可溶性樹脂/高吸水性高
分子/架橋剤からなる混合水溶液を均一に塗工する。塗
工方法はエアドクタコート、ブレードコート、ロッドコ
ート、ナイフコート、スクイブコート、リバースロール
コート、グラビアコート、キスコート、スプレイコート
等の方法から任意選択できる。塗工乾燥時の積層厚は、
特に限定されるものではなく、その目的に応じて塗工さ
れる。例えばその目的が単なる導電層であれば 0.5μ程
で十分その効果を得ることが出来る。又、その目的が写
真材料としてカール防止層やアンチハレーション層を兼
ねるのであれば、通常2〜10μの範囲であり、十分本発
明の効果が発揮しうる。本発明の樹脂層の性質として、
次の導電性コロイド金属酸化物の水溶液を塗工し、拡散
させる際、樹脂層が再溶解してはならない。従って本発
明では、架橋剤を十分作用させる為に一定時間、加温さ
せるのが好ましい。次に同様な塗工方法により、予め設
けた水不溶性で吸水性樹脂層中に吸収、拡散させ乾燥す
る。塗工方法は上記と同様な方法から選択される。塗工
量は、該樹脂層の厚みによって異なり、樹脂層が薄い場
合は少量、逆に厚い場合は、より多量を必要とするが樹
脂層1重量部に対し好ましくは金属酸化物0.03重量部以
上0.25重量部以下、更に好ましくは0.08重量部以上0.15
重量部以下である。この範囲外、すなわち0.03重量部未
満であると十分導電性効果が期待できず、0.25重量部を
越えると必要外のコスト高となる。
Next, an example of a preferred manufacturing process of the present invention will be shown, but the present invention is not limited to this embodiment. A mixed aqueous solution of a water-soluble resin / superabsorbent polymer / crosslinking agent is uniformly applied onto a film substrate (for example, polyethylene terephthalate) provided with an easy-adhesion layer in advance. The coating method can be arbitrarily selected from air doctor coating, blade coating, rod coating, knife coating, squib coating, reverse roll coating, gravure coating, kiss coating, spray coating and the like. The layer thickness when coating and drying is
It is not particularly limited, and it is applied according to its purpose. For example, if the purpose is simply a conductive layer, the effect can be sufficiently obtained with about 0.5 μm. If the purpose is to also serve as a curl prevention layer or an antihalation layer as a photographic material, it is usually in the range of 2 to 10 µ, and the effects of the present invention can be sufficiently exhibited. As the properties of the resin layer of the present invention,
When the following aqueous solution of conductive colloidal metal oxide is applied and diffused, the resin layer must not be redissolved. Therefore, in the present invention, it is preferable to heat the crosslinking agent for a certain period of time so that the crosslinking agent can sufficiently act. Next, by a similar coating method, the water-insoluble and water-absorbent resin layer provided in advance is absorbed and diffused and dried. The coating method is selected from the same methods as described above. The coating amount varies depending on the thickness of the resin layer. A small amount is required when the resin layer is thin, and a large amount is required when the resin layer is thick, but preferably 0.03 parts by weight or more of metal oxide per 1 part by weight of the resin layer. 0.25 parts by weight or less, more preferably 0.08 parts by weight or more 0.15
It is less than or equal to parts by weight. If it is out of this range, that is, if it is less than 0.03 parts by weight, the sufficient conductivity effect cannot be expected, and if it exceeds 0.25 parts by weight, the cost becomes unnecessary.

【0014】本発明により製造された支持体を写真材料
に適用するには、上記の説明から成る導電性層の反対面
に感光層を設ければよい。本発明に関わる写真材料の具
体的例としては、一般及び工業用撮影白黒感光材料、印
刷及びその他商業用白黒感光材料、X-ray 等医療用白黒
感光材料等の通常の白黒感光材料、カラーネガティブ用
感光材料、カラー反転感光材料、プリント用感光材料、
インスタントカラー感光材料等の通常の多層カラー感光
材料の他、特公昭43−4924号公報記載の熱現像性感光材
料にも適用される。本発明の製造方法の支持体が適用さ
れる写真材料の詳細は、T.H.James 著「The Theory of
the Photographic Process」第3版MacMillan 社刊、日
本写真学会編「写真工学の基礎−銀塩写真編−」コロナ
社刊、及び笹井明著「写真の化学」写真工業出版社刊に
記載されている。
In order to apply the support prepared according to the present invention to a photographic material, a photosensitive layer may be provided on the side opposite to the conductive layer described above. Specific examples of the photographic material relating to the present invention include general and industrial photography black-and-white light-sensitive materials, printing and other commercial black-and-white light-sensitive materials, ordinary black-and-white light-sensitive materials such as medical black-and-white light-sensitive materials such as X-ray, and color negatives. Photosensitive material, color reversal photosensitive material, printing photosensitive material,
In addition to the usual multi-layer color light-sensitive materials such as instant color light-sensitive materials, it can be applied to the heat-developable light-sensitive materials described in JP-B-43-4924. For details of the photographic material to which the support of the production method of the present invention is applied, see TH James, "The Theory of".
The Photographic Process "3rd edition, published by MacMillan, edited by The Photographic Society of Japan," Basics of Photographic Engineering-Silver Salt Photo- ", published by Corona, and Akira Sasai," The Chemistry of Photography, "published by Photo Industry Publishing. ..

【0015】[0015]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明がこれらの態様に限定されるもので
はない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these embodiments.

【0016】実施例1 100μ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムをコロ
ナ放電処理(春日電機(株)HF-403型)後、易接着層と
してスチレン−ブタジエン−アクリル酸共重合ラテック
スを乾燥時 0.1μ厚に塗工した。次に下記の樹脂組成液
を乾燥時 3.5μ厚になる様に塗工した。 樹脂組成液 1)水 90 重量部 2)ゼラチン 4 重量部 3)スミカゲルL-5(H)(吸水性高分子、住友化学工業(株)製) 2 重量部(固形分とし て) 4)1%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液 1 重量部 5)5%サポニン水溶液 2 重量部 6)10%ホルマリン水溶液 1 重量部 次にこの塗工済みフィルムを50℃で2時間加温して水不
溶性で吸水性樹脂層を形成した。次に(a)、(b)、
(c)、(d)4種の塩化第2錫(アンチモン処理)溶
液を調製した。 (a) ・水 90 重量部 ・平均粒子径 15mμの酸化第2錫(アンチモン処理)コロイド溶液の30重量% 水溶液 10 重量部 ・メガファックF-120 (フッ素系界面活性剤、大日本インキ(株)製) 5×10-5重量部 (b) ・水 90 重量部 ・平均粒子径200mμの酸化第2錫(アンチモン処理)コロイド溶液の30重量% 水溶液 10 重量部 ・メガファックF-120 5×10-5重量部 (c) ・水 90 重量部 ・(a)で用いた酸化第2錫コロイド溶液 7 重量部 ・(b)で用いた酸化第2錫コロイド溶液 3 重量部 ・メガファックF-120 5×10-5重量部 (d) ・水 80 重量部 ・15重量%のゼラチン水溶液 10 重量部 ・(a)で用いた酸化第2錫コロイド溶液 10 重量部 ・メガファックF-120 5×10-5重量部 以上の酸化第2錫コロイド分散液を予め用意した樹脂層
上に塗布溶液として約10g/m2塗工し乾燥させた導電性樹
脂層を設けたフィルム支持体を作った。これを各々酸化
第2錫溶液に対応させて試料(A)、(B)、(C)、
(D)とした。これらの試料を25℃、25%RHの雰囲気下
に5時間置きTR8611A 型デシタル超絶縁抵抗/微少電流
計(武田理研(株)製)で250Vに印加して表面抵抗値を
測定した。更に試料を直径10cmの円状に切り、45RPM の
速度で回転するゴム板上に付け耐熱性ナイロン繊維及び
ネオプレン板50g/cm2 の圧力で60秒間押し付けて表面温
度を50℃として発生する静電気を、静電量測定器(スタ
チロン−M、シシド静電機製)で測定した。その結果を
表1に示す。尚、試料(E)は導電性処理をしない水不
溶性かつ吸水性の樹脂層のみを測定したものである。
Example 1 A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was subjected to corona discharge treatment (Kasuga Denki HF-403 type), and then a styrene-butadiene-acrylic acid copolymer latex was applied as an easy-adhesion layer to a thickness of 0.1 μm when dried. I worked. Next, the following resin composition liquid was applied so as to have a thickness of 3.5 μm when dried. Resin composition liquid 1) 90 parts by weight of water 2) 4 parts by weight of gelatin 3) Sumika gel L-5 (H) (water-absorbing polymer, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 2 parts by weight (as solid content) 4) 1 % Sodium dodecylbenzene sulfonate aqueous solution 1 part by weight 5) 5% saponin aqueous solution 2 parts by weight 6) 10% formalin aqueous solution 1 part by weight Next, this coated film is heated at 50 ° C. for 2 hours to be water-insoluble and water-absorbing. A resin layer was formed. Next, (a), (b),
(C) and (d) Four kinds of stannic chloride (antimony treated) solutions were prepared. (A) 90 parts by weight of water 30% by weight of a stannous oxide (antimony treated) colloidal solution with an average particle size of 15 mμ 10 parts by weight of an aqueous solution Megafac F-120 (fluorine-based surfactant, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. ) 5 × 10 -5 parts by weight (b) ・ 90 parts by weight of water ・ 30% by weight of colloidal stannic oxide (antimony-treated) colloid solution having an average particle diameter of 200 mμ 10 parts by weight aqueous solution ・ Megafuck F-120 5 × 10 -5 parts by weight (c) 90 parts by weight of water 7 parts by weight of the stannic oxide colloidal solution used in (a) 3 parts by weight of the stannic oxide colloidal solution used in (b) Megafac F- 120 5 × 10 -5 parts by weight (d) ・ 80 parts by weight of water ・ 10 parts by weight of 15% by weight gelatin aqueous solution ・ 10 parts by weight of the stannic oxide colloid solution used in (a) ・ Megafuck F-120 5 × 10 -5 parts by weight or more of the stannic oxide colloidal dispersion liquid is applied on the resin layer prepared in advance as a coating solution of about 10 g / m 2 A film support provided with a coated and dried conductive resin layer was prepared. Samples (A), (B), (C), which correspond to stannic oxide solutions respectively,
(D). These samples were placed in an atmosphere of 25 ° C. and 25% RH for 5 hours, and a TR8611A type digital super insulation resistance / micro ammeter (manufactured by Takeda Riken Co., Ltd.) was applied to 250 V to measure the surface resistance value. Cut the sample into a circle with a diameter of 10 cm, attach it to a rubber plate that rotates at a speed of 45 RPM, and heat-resistant nylon fiber and a neoprene plate Press for 60 seconds with a pressure of 50 g / cm 2 to generate static electricity at a surface temperature of 50 ° C. , And was measured with a static electricity meter (Statylon-M, manufactured by Shishido Electrostatics Co., Ltd.). The results are shown in Table 1. Incidentally, the sample (E) was a measurement of only the water-insoluble and water-absorbent resin layer which was not subjected to the conductive treatment.

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】更に透過型電子顕微鏡(×5000)により
(A)、(B)、(C)、(D)の各試料の断面を観察
したところ、表2のような結果であった。
Further, the cross sections of the samples (A), (B), (C), and (D) were observed with a transmission electron microscope (× 5000), and the results shown in Table 2 were obtained.

【0019】[0019]

【表2】 [Table 2]

【0020】表1及び表2の結果より、表面抵抗値は表
層上に連続層を形成させることにより低下させることが
出来るが、一方、摩擦帯電は水不溶性かつ吸水性樹脂層
内の導電性金属酸化物によって防止されていることがわ
かる。又、導電性金属酸化物を予め樹脂と混合したもの
はその効果を発揮し得ないことがわかる。
From the results shown in Tables 1 and 2, the surface resistance value can be reduced by forming a continuous layer on the surface layer, while the triboelectrification is water insoluble and the conductive metal in the water absorbent resin layer is reduced. It can be seen that it is prevented by the oxide. Further, it is understood that the one in which the conductive metal oxide is mixed with the resin in advance cannot exert its effect.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム基体上の少なくとも一面に 1) 予め水不溶性かつ吸水性樹脂層を設ける工程と 2) Zn、Sn、Inの少なくとも1種を陽イオンとしたコロ
イド状導電性金属酸化物の実質的に樹脂を含まない水分
散液を該水不溶性かつ吸水性樹脂層の表層部から拡散さ
せる工程 から成ることを特徴とする写真用支持体の製造方法。
1. A step of 1) previously providing a water-insoluble and water-absorbent resin layer on at least one surface of a film substrate, and 2) a colloidal conductive metal oxide containing at least one of Zn, Sn and In as a cation. A method for producing a photographic support, comprising the step of diffusing a water dispersion substantially free of resin from the surface layer of the water-insoluble and water-absorbent resin layer.
【請求項2】 水不溶性かつ吸水性樹脂層が架橋された
ゼラチン層であることを特徴とする請求項1記載の写真
用支持体の製造方法。
2. The method for producing a photographic support according to claim 1, wherein the water-insoluble and water-absorbent resin layer is a crosslinked gelatin layer.
【請求項3】 水不溶性かつ吸水性樹脂層が層中に高吸
水性高分子化合物を含むものであることを特徴とする請
求項1又は2記載の写真用支持体の製造方法。
3. The method for producing a photographic support according to claim 1, wherein the water-insoluble and water-absorbent resin layer contains a highly water-absorbent polymer compound in the layer.
【請求項4】 コロイド状導電性金属酸化物が、平均粒
子径が 50mμ以下の微粒子であることを特徴とする請求
項1〜3の何れか1項記載の写真用支持体の製造方法。
4. The method for producing a photographic support according to claim 1, wherein the colloidal conductive metal oxide is fine particles having an average particle diameter of 50 mμ or less.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5862646A (en) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Antistaticized silver halide photosensitive material
JPS5862644A (en) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photographic support
JPH03240039A (en) * 1990-02-19 1991-10-25 Fuji Photo Film Co Ltd Film-containing cartridge

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5862646A (en) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Antistaticized silver halide photosensitive material
JPS5862644A (en) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photographic support
JPH03240039A (en) * 1990-02-19 1991-10-25 Fuji Photo Film Co Ltd Film-containing cartridge

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