JPH05105762A - Silicon-based hybrid material - Google Patents

Silicon-based hybrid material

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JPH05105762A
JPH05105762A JP28050791A JP28050791A JPH05105762A JP H05105762 A JPH05105762 A JP H05105762A JP 28050791 A JP28050791 A JP 28050791A JP 28050791 A JP28050791 A JP 28050791A JP H05105762 A JPH05105762 A JP H05105762A
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JP
Japan
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silicon
hybrid material
reaction
based hybrid
molecule
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JP28050791A
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Japanese (ja)
Inventor
Takanao Iwahara
孝尚 岩原
Noriyoshi Ando
紀芳 安藤
Kazuya Yonezawa
和弥 米沢
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject lightweight and, high-toughness material excellent in resistance to heat, combustion and environment, having high mechanical strength and good molding processability by reaction of a silicate with a silicon- based polymer having SiH groups in the molecule. CONSTITUTION:The objective hybrid material suitable as a structural material for aerospace applications, internal trim member or medical material is obtained by reaction of (A) a silicate such as olivine group or lithium metasilicate with (B) a silicon-based polymer such as polysiloxane or polycarbosilane in the presence of a catalyst such as FeCl3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シリケート類と分子内
に少なくとも2個のSiH基を有するケイ素系高分子と
を反応させて得られる、耐熱性、耐燃焼性、耐環境性に
優れ、軽量高靭性で高い機械的強度と良好な成形加工性
を有するケイ素系ハイブリッド材料に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention is excellent in heat resistance, combustion resistance and environment resistance obtained by reacting silicates with a silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule. The present invention relates to a silicon-based hybrid material that is lightweight and has high toughness, high mechanical strength, and good moldability.

【0002】[0002]

【従来技術・発明が解決しようとする課題】現在、ケイ
素系材料としてはそれぞれの特徴及び要求性能を鑑みて
各種タイプの材料が使用されている。炭化ケイ素、窒化
ケイ素、酸化ケイ素などの含ケイ素セラミックス類や各
種シリケート類は機械的強度、化学的安定性、熱的安定
性に優れた材料である。しかし、これらの無機系シリコ
ン化合物は一般に硬くて脆く、成形加工性がきわめて悪
いため、その用途が制限されている。
2. Description of the Related Art At present, various types of materials are used as silicon materials in view of their characteristics and required performance. Silicon-containing ceramics such as silicon carbide, silicon nitride, and silicon oxide, and various silicates are materials having excellent mechanical strength, chemical stability, and thermal stability. However, these inorganic silicon compounds are generally hard and brittle, and have extremely poor moldability, so that their use is limited.

【0003】また、主鎖骨格にケイ素を含む、ポリシロ
キサン、ポリカルボシラン、ポリシラン、ポリシラザン
などのいわゆる有機ケイ素ポリマーは、一般に無機系シ
リコン化合物に比較して成形加工性に優れるものの、そ
の機械的強度が格段に劣るためその使用範囲が限定され
ている。
So-called organosilicon polymers such as polysiloxanes, polycarbosilanes, polysilanes, and polysilazanes, which contain silicon in the main chain skeleton, are generally superior in molding processability to inorganic silicon compounds, but their mechanical properties are high. Its range of use is limited due to its markedly poor strength.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる実情
に鑑み鋭意研究の結果、これらの課題を解決して、耐熱
性、耐燃焼性に優れ、高靭性で高い機械的強度と良好な
成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料を提供す
るものである。すなわち、シリケート類と分子内に少な
くとも2個のSiH基を有するケイ素系高分子とを触媒
の存在下反応させて得られることを特徴とするケイ素系
ハイブリッド材料に関する。
Means for Solving the Problems As a result of earnest research in view of such circumstances, the present inventors have solved these problems and have excellent heat resistance and combustion resistance, high toughness and high mechanical strength. The present invention provides a silicon-based hybrid material having moldability. That is, the present invention relates to a silicon-based hybrid material obtained by reacting silicates with a silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule in the presence of a catalyst.

【0005】本発明で用いられる、シリケート類は本発
明で得られるケイ素系ハイブリッド材料の耐熱性、耐燃
焼性、耐環境性、高強度を付与するための成分であって
特に制限はなく各種のものを使用することができる。
The silicates used in the present invention are components for imparting heat resistance, combustion resistance, environment resistance, and high strength to the silicon-based hybrid material obtained in the present invention, and there are no particular restrictions, and various silicates are used. Things can be used.

【0006】具体的に例示すれば(1) カンラン石族(F
e,Mg)2 SiO4 、ザクロ石族Mg3 Al2 Si3
12、Ca3 Al2 Si312、ジルコンZrSi
4 、紅柱石、珪線石、ラン晶石、ムル石、トパズ、十
字石、サフィリン、ノルベルグ石、コンドロ石、ヒュー
ム石、単斜ヒューム石、クサビ石、クロリトイドなどの
ネソケイ酸塩類、(2) 黄長石群、緑レン石族、ローソン
石、パンペリー石などのソロケイ酸塩類、(3) キン青
石、電気石緑柱石などのサイクロケイ酸塩、(4) 長石
類、准長石、ゼオライト類などのテクトケイ酸塩、(5)
イノケイ酸塩、(6) メタケイ酸リチウムLi2 Si
3 、メタケイ酸ナトリウムNa2 SiO3 、メタケイ
酸カリウムK2 SiO3 、メタケイ酸マグネシウムMg
SiO3 、メタケイ酸ナトリウムカルシウムNa2 Si
3 −CaSiO3 、メタケイ酸カルシウムCaSiO
3 、メタケイ酸マグネシウムカルシウムCaMgSi2
5 、メタケイ酸バリウムBaSiO3 、メタケイ酸マ
ンガンMnSiO3 、メタケイ酸鉄FeSiO3 、メタ
ケイ酸コバルトCoSiO3 、メタケイ酸鉛PbSiO
3 、CaMgSi2 6 −MgSi2 6 固溶体、Ca
MgSi2 6 −FeSi2 6 固溶体などのメタケイ
酸塩類およびその固溶体、(7) 白雲母群、黒雲母群など
のフィロケイ酸塩類などがあげられる。
To give a concrete example, (1) olivine (F)
e, Mg) 2 SiO 4 , garnet group Mg 3 Al 2 Si 3
O 12 , Ca 3 Al 2 Si 3 O 12 , Zircon ZrSi
Nesosilicates such as O 4 , pearlite, silica gemstone, orthite, mullite, topaz, cruciate, sapphirine, norbergite, chondroite, fume stone, clinocline fumestone, wedge stone, chloritoid, etc. (2) Such as feldspar group, chlorite group, lawsonite, pumpellyite and other solosilicates, (3) quincerite, tourmaline beryl and other cyclosilicates, (4) feldspar, semi-feldspar, zeolites, etc. Tectosilicate, (5)
Inosilicate, (6) Lithium metasilicate Li 2 Si
O 3 , sodium metasilicate Na 2 SiO 3 , potassium metasilicate K 2 SiO 3 , magnesium metasilicate Mg
SiO 3 , calcium calcium metasilicate Na 2 Si
O 3 -CaSiO 3, calcium metasilicate CaSiO
3 , magnesium calcium metasilicate CaMgSi 2
O 5 , barium metasilicate BaSiO 3 , manganese metasilicate MnSiO 3 , iron metasilicate FeSiO 3 , cobalt metasilicate CoSiO 3 , lead metasilicate PbSiO.
3, CaMgSi 2 O 6 -MgSi 2 O 6 solid solution, Ca
Examples include metasilicates such as MgSi 2 O 6 —FeSi 2 O 6 solid solution and solid solutions thereof, and (7) phyllosilicates such as muscovite group and biotite group.

【0007】これらのうちでメタケイ酸リチウムLi2
SiO3、メタケイ酸ナトリウムNa2 SiO3 、メタ
ケイ酸カリウムK2 SiO3 、メタケイ酸マグネシウム
MgSiO3 、メタケイ酸ナトリウムカルシウムNa2
SiO3 −CaSiO3 、メタケイ酸カルシウムCaS
iO3 、メタケイ酸マグネシウムカルシウムCaMgS
2 5 などのメタケイ酸塩類が好ましく用いられる。
さらにメタケイ酸ナトリウムの水溶液(いわゆる水ガラ
ス)が特に好ましく用いられる。
Of these, lithium metasilicate Li 2
SiO 3 , sodium metasilicate Na 2 SiO 3 , potassium metasilicate K 2 SiO 3 , magnesium metasilicate MgSiO 3 , sodium metasilicate calcium Na 2
SiO 3 -CaSiO 3, calcium metasilicate CaS
iO 3 , magnesium calcium metasilicate CaMgS
Metasilicates such as i 2 O 5 are preferably used.
Further, an aqueous solution of sodium metasilicate (so-called water glass) is particularly preferably used.

【0008】本発明で用いられる分子内に少なくとも2
個のSiH基を有するケイ素系高分子は、本発明で得ら
れるケイ素系ハイブリッド材料に靭性、軽量性、成形加
工性を付与する成分であって、主鎖骨格にケイ素原子を
有していれば、特に制限なく用いることができる。
At least 2 in the molecule used in the present invention
The silicon-based polymer having individual SiH groups is a component that imparts toughness, lightness, and moldability to the silicon-based hybrid material obtained in the present invention, and has a silicon atom in the main chain skeleton. , Can be used without particular limitation.

【0009】SiH基はケイ素系高分子の主鎖中にペン
ダント型にランダムに存在してもよく、また分子末端に
存在してもよい。SiH基の個数としては分子内に少な
くとも2個存在すればよいが、好ましくは2個以上30
個以下である。SiH基が1個であると本発明で得られ
るケイ素系ハイブリッド材料の強度が充分ではなく、S
iH基が30個より多いと得られるケイ素系ハイブリッ
ド材料の靭性が不十分となり、非常に脆い材料となって
しまう。
The SiH group may exist randomly in a pendant type in the main chain of the silicon-based polymer, or may exist at the molecular end. The number of SiH groups should be at least two in the molecule, but preferably two or more 30
Not more than one. If the number of SiH groups is one, the strength of the silicon-based hybrid material obtained by the present invention is not sufficient, and S
When the number of iH groups is more than 30, the toughness of the obtained silicon-based hybrid material becomes insufficient, resulting in a very brittle material.

【0010】分子量については特に制限はないが、シリ
ケート類との相溶性及び得られるケイ素系ハイブリッド
材料の性能を考慮して、おおむね1000から5000
00程度のものが好ましく用いられる。ここで用いられ
るケイ素系高分子の主鎖骨格は直鎖状、はしご状、枝別
れ状、籠状などをとることができる。シリケート類との
反応性及び得られるケイ素系ハイブリッド材料の性能を
考慮して直鎖状、あるいははしご状のものが好ましく用
いられる。
Although the molecular weight is not particularly limited, it is generally from 1000 to 5000 in consideration of the compatibility with silicates and the performance of the obtained silicon-based hybrid material.
Those of about 00 are preferably used. The main chain skeleton of the silicon-based polymer used here may be linear, ladder-like, branched or cage-like. In view of reactivity with silicates and performance of the resulting silicon-based hybrid material, linear or ladder-shaped ones are preferably used.

【0011】本発明で用いられる分子内に少なくとも2
個のSiH基を有するケイ素系高分子としては、以下に
示すようなポリシロキサン類、ポリカルボシラン類、ポ
リシラン類、ポリシラザン類、あるいはそれらの主鎖骨
格を1分子中に2種以上併せ持つケイ素系高分子類など
をあげることができる。
At least 2 in the molecule used in the present invention
Examples of the silicon-based polymer having one SiH group include polysiloxanes, polycarbosilanes, polysilanes, polysilazanes, and silicon-based polymers having two or more kinds of their main chain skeletons in one molecule. Polymers and the like can be mentioned.

【0012】以下に具体例をあげて説明する。ポリシロ
キサン類を具体的に例示するならば、次のようなもの
A specific example will be described below. The following are specific examples of polysiloxanes.

【化1】 [Chemical 1]

【0013】[0013]

【化2】 などがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
[Chemical 2] However, the present invention is not limited to these.

【0014】本発明でいうポリカルボシラン類とは、主
鎖骨格がケイ素及び炭素原子から任意の割合で構成され
主鎖中にSi−Si,C−C結合を有する高分子も含め
たケイ素含有高分子を意味する。ポリカルボシラン類を
具体的に例示するならば、次式で示される繰返し単位を
有するものをあげることができる。
The term "polycarbosilanes" as used in the present invention means that the main chain skeleton is composed of silicon and carbon atoms and contains silicon including a polymer having an Si-Si, C-C bond in the main chain. Means a polymer. Specific examples of the polycarbosilanes include those having a repeating unit represented by the following formula.

【0015】[0015]

【化3】 [Chemical 3]

【0016】[0016]

【化4】 ここで列挙したR1 及びR2 はH、CH3 、CH2 CH
3 もしくはフェニル基が好ましい。R3 は炭素数が4〜
6の環状炭化水素が好ましい。nは1〜6が好ましい。
[Chemical 4] R 1 and R 2 listed here are H, CH 3 , CH 2 CH.
3 or a phenyl group is preferred. R 3 has 4 to 4 carbon atoms
Cyclic hydrocarbons of 6 are preferred. n is preferably 1-6.

【0017】また、本発明で用いられるポリカルボシラ
ン類は、上記の繰返し単位が1種類から構成される重合
体でも2種類以上から構成される共重合体であってもよ
い。
The polycarbosilanes used in the present invention may be a polymer composed of one type of the repeating unit or a copolymer composed of two or more types of repeating units.

【0018】このうち、好ましい構造式を例示すれば、Of these, preferred structural formulas are given below.

【化5】 などがあげられる。[Chemical 5] And so on.

【0019】また、以下の繰返し単位を有するポリカル
ボシラン類も用いることができる。
Polycarbosilanes having the following repeating units can also be used.

【0020】[0020]

【化6】 [Chemical 6]

【0021】上記の式中、RはH、CH3 、フェニル基
が好ましい。具体的な構造式としては、
In the above formula, R is preferably H, CH 3 or a phenyl group. As a concrete structural formula,

【0022】[0022]

【化7】 [Chemical 7]

【0023】[0023]

【化8】 などを例示することができる。[Chemical 8] And the like.

【0024】ポリシラン類を構成する繰返し単位として
は、
As the repeating unit constituting the polysilane,

【化9】 [Chemical 9]

【0025】[0025]

【化10】 [Chemical 10]

【0026】などをあげることができる。これらの繰返
し単位は単独あるいは2種以上の共重合体であってもよ
いが、構成されるポリシラン1分子中に少なくとも2個
のSiH基を有する必要がある。
And the like. These repeating units may be homopolymers or copolymers of two or more kinds, but it is necessary that they have at least two SiH groups in one molecule of the polysilane to be constituted.

【0027】ポリシラザン類を構成する繰返し単位とし
ては、
As the repeating unit constituting the polysilazanes,

【化11】 [Chemical 11]

【0028】などをあげることができる。これらの繰返
し単位は単独あるいは2種以上の共重合体であってもよ
いが、構成されるポリシラザン1分子中に少なくとも2
個のSiH基を有する必要がある。
And the like. These repeating units may be homopolymers or copolymers of two or more kinds, but at least 2 units are contained in one molecule of the polysilazane.
It is necessary to have 4 SiH groups.

【0029】本発明で用いられるシリケート類と分子内
に少なくとも2個のSiH基を有するケイ素系高分子と
の比率は、得られるケイ素系ハイブリッド材料の特性を
制御する上で非常に重要な指標である。シリケート類は
その種類によってケイ素含量が異なるので、使用するシ
リケート類に含まれるケイ素原子と同じモル数のSiO
2 量とケイ素系高分子との重量比を用いるのが簡便であ
る。該重量比(SiO2 /ケイ素系高分子の重量)は通
常0.1〜100の範囲で好適に用いることができる。
さらに好ましくは0.2〜80、特に好ましくは0.5
〜50の範囲である。該重量比が0.1より小さいと得
られるケイ素系ハイブリッド材料の強度が充分でなく、
また100より大きいと得られるケイ素系ハイブリッド
材料が脆くなってしまう。
The ratio of the silicates used in the present invention and the silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule is a very important index for controlling the properties of the obtained silicon-based hybrid material. is there. Since the silicon content of silicates varies depending on the type, the same number of moles of SiO as the silicon atoms contained in the silicates used.
It is convenient to use the weight ratio of dimer and silicon-based polymer. The weight ratio (weight of SiO 2 / silicon-based polymer) is usually in the range of 0.1 to 100 and can be preferably used.
More preferably 0.2 to 80, particularly preferably 0.5.
The range is from -50. When the weight ratio is less than 0.1, the strength of the obtained silicon-based hybrid material is insufficient,
If it is more than 100, the obtained silicon-based hybrid material becomes brittle.

【0030】シリケート類と分子内に少なくとも2個の
SiH基を有するケイ素系高分子との反応において、そ
の反応形態については特に制限はないが、効果的に反応
を促進させるためにはこれらの成分を液相均一系で反応
させることが望ましい。この点に鑑み各種シリケート類
のうちで、アルカリ金属塩は水溶性であるため好ましく
使用することができる。またアルカリ金属塩以外のシリ
ケート類はアルカリ融解することで水溶性のアルカリ塩
となるのでこれを使用してもよい。
In the reaction of the silicates with the silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule, the reaction form is not particularly limited, but these components are required to effectively promote the reaction. Is preferably reacted in a liquid phase homogeneous system. In view of this point, among various silicates, the alkali metal salt is water-soluble and can be preferably used. Further, silicates other than alkali metal salts may be used because they become water-soluble alkali salts by melting with alkali.

【0031】シリケート類の水溶液は一般にアルカリ性
を示すが、該水溶液にメタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、n−プロパノール、n−ブタノール、エチ
ルセロゾルブなどのアルコール性溶剤、THF、ジオキ
サンなどのエーテル系溶剤、などの水溶性溶剤に分子内
に少なくとも2個のケイ素系高分子を溶解し触媒の存在
あるいは不存在下反応させてもよい。また、シリケート
類の水溶液を中和し、溶剤で抽出したケイ酸溶液を用い
て、分子内に少なくとも2個のケイ素系高分子あるいは
その溶液と触媒の存在あるいは不存在下反応させてもよ
い。この場合に使用される中和剤としては、硫酸、塩
酸、酢酸、などが用いられ、抽出溶剤としてはメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、n−ブタノール、エチルセロゾルブなどのアルコー
ル性溶剤、THF、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、
好ましくはTHFを用いることができるが、これらに限
定されるものではない。
An aqueous solution of silicates is generally alkaline, but an aqueous solvent such as an alcoholic solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, n-butanol or ethyl cellosolve, an ether solvent such as THF or dioxane, etc. At least two silicon-based polymers in the molecule may be dissolved in an organic solvent and reacted in the presence or absence of a catalyst. Alternatively, a silicic acid solution obtained by neutralizing an aqueous solution of silicates and extracting with a solvent may be used to react with at least two silicon-based polymers in the molecule or a solution thereof in the presence or absence of a catalyst. As the neutralizing agent used in this case, sulfuric acid, hydrochloric acid, acetic acid, etc. are used, and as the extraction solvent, an alcoholic solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, n-butanol, and ethyl cellosolve, THF, Ethereal solvent such as dioxane,
Although THF can be preferably used, it is not limited thereto.

【0032】一般に本発明で用いる分子内に少なくとも
2個のSiH基を有するケイ素系高分子は疎水性なの
で、これをシリケート類の水溶液と反応させると不均一
な状態になり部分的にゲル化を起こし不均質な材料しか
得られない場合が多い。したがって反応の均一性を保つ
という点からは、シリケート類の中和・抽出溶液を用い
て反応させるのが好ましい。
In general, since the silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule used in the present invention is hydrophobic, when it is reacted with an aqueous solution of silicates, a non-uniform state is formed and a partial gelation occurs. In many cases, only non-uniform materials can be obtained. Therefore, from the viewpoint of maintaining the uniformity of the reaction, it is preferable to carry out the reaction using a neutralizing / extracting solution of silicates.

【0033】本発明においては、シリケート類と分子内
に少なくとも2個のSiH基を有するケイ素系高分子を
反応させるにあたり、各種触媒を用いてその反応速度を
制御することができる。
In the present invention, in reacting the silicates with the silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule, the reaction rate can be controlled by using various catalysts.

【0034】おおむね次にあげるような触媒を用いるこ
とができるがこれらに限定されるものではない。FeC
3 ,ZrOCl2 ,BaCl2 ,CaCl2 ,PbC
2 ,PdCl2 ,SnCl2 ,CuCl2 ,CuC
l,BiCl3 ,NiCl2 (PPh3 2 ,CoCl
2 6H2 O,H2 PtCl6 6H2 O,AlBr3 ,B
3 O(C2 5 2 ,MgBr2 6H2 O,AlCl
3 ,MgCl2 6H2 O,MgCl2 ,ZnCl2 ,N
iCl2 ,LiClなどの金属ハロゲン化物あるいはル
イス酸、塩酸、硫酸、燐酸、塩化白金酸などの無機酸
類;テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネー
トなどのチタン酸エステル類;ジブチルスズジラウレー
ト、ジブチルスズマレエート、ジブチルスズジアセテー
ト、オクチル酸スズ、ナフテン酸スズなどのスズカルボ
ン酸塩類;ジブチルスズオキサイドとフタル酸エステル
との反応物;ジブチルスズジアセチルアセトナート;ア
ルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウム
トリスエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアル
ミニウムエチルアセトアセテートなどの有機アルミニウ
ム化合物類;ジルコニウムテトラアセチルアセトナー
ト、チタンテトラアセチルアセトナートなどのキレート
化合物類;オクチル酸鉛;ブチルアミン、オクチルアミ
ン、ジブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シク
ロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプ
ロピルアミン、キシリレンジアミン、トリエチレンジア
ミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、モルホ
リン、N−メチルモルホリン、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7(DBU)などのアミン系化合物あるい
はそれらのカルボン酸などとの塩;過剰のポリアミンと
多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド樹脂;過剰
のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物;アミノ
基を有するシランカップリング剤、たとえばγ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチ
ル)アミノプロピルメチルジメトキシシランなどの化合
物を例示することができる。さらには他の公知のシラノ
ール縮合触媒等があげられる。これらの触媒は単独で使
用してもよく、2種以上併用してもよい。
In general, the following catalysts can be used, but the catalysts are not limited to these. FeC
l 3 , ZrOCl 2 , BaCl 2 , CaCl 2 , PbC
l 2 , PdCl 2 , SnCl 2 , CuCl 2 , CuC
1, BiCl 3 , NiCl 2 (PPh 3 ) 2 , CoCl
2 6H 2 O, H 2 PtCl 6 6H 2 O, AlBr 3 , B
F 3 O (C 2 H 5 ) 2 , MgBr 2 6H 2 O, AlCl
3 , MgCl 2 6H 2 O, MgCl 2 , ZnCl 2 , N
Metal halides such as iCl 2 and LiCl or inorganic acids such as Lewis acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and chloroplatinic acid; titanic acid esters such as tetrabutyl titanate and tetrapropyl titanate; dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, dibutyltin dichloride Tin carboxylates such as acetate, tin octylate, tin naphthenate; reaction products of dibutyltin oxide and phthalic acid ester; dibutyltin diacetylacetonate; aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethylacetoacetate, diisopropoxyaluminum ethylacetoacetate. Organoaluminum compounds such as; Chelate compounds such as zirconium tetraacetylacetonate and titanium tetraacetylacetonate; Octylic acid Butylamine, octylamine, dibutylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, oleylamine, cyclohexylamine, benzylamine, diethylaminopropylamine, xylylenediamine, triethylenediamine, guanidine, diphenylguanidine, 2 , 4, 6
-Tris (dimethylaminomethyl) phenol, morpholine, N-methylmorpholine, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,8-diazabicyclo (5,4,0)
Amine compounds such as undecene-7 (DBU) or salts thereof with carboxylic acids; low molecular weight polyamide resins obtained from excess polyamine and polybasic acid; reaction products of excess polyamine and epoxy compound; amino Examples thereof include a silane coupling agent having a group, such as γ-aminopropyltrimethoxysilane and N- (β-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane. Further, other known silanol condensation catalysts and the like can be mentioned. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0035】シリケート水溶液の中和・抽出溶液と分子
内に少なくとも2個のSiH基を有するケイ素系高分子
との反応では、反応終了後も縮合反応が完結せず、シラ
ノール基が反応系中に残存することが多い。該残存シラ
ノール基は後述する後工程段階で揮発成分を除去する際
にさらに縮合するのであるが、完全にシラノール基が消
費されるまでには至らない。しかし、おおむね本発明の
目的を達成することができる。
In the reaction between the neutralized / extracted solution of the silicate aqueous solution and the silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule, the condensation reaction is not completed even after the reaction is completed, and the silanol group is added to the reaction system. Often remains. The residual silanol groups are further condensed when the volatile components are removed in a later step described later, but the silanol groups are not completely consumed. However, the objects of the present invention can be generally achieved.

【0036】用途によっては最終材料中にシラノール基
が残存すると望ましくない場合があるので、その場合に
は各種のクロロシラン類、アルコキシシラン類、シラノ
ール類などを用いて反応系中に残存しているシラノール
基をトラップすることができる。クロロシラン類を例示
するならば、Me3 SiCl,PhMe2 SiCl,P
2 MeSiCl,Me2 SiCl2 ,PhMeSiC
2 ,Ph2 SiCl2 ,MeSiCl3 ,PhSiC
3 ,ClMe2 SiC6 4 SiMe2 Cl,ClM
2 SiOSiMe2 Cl,ClMe2 SiCH2 Si
Me2 Cl,ClMe2 SiCH2 CH2 SiMe2
l,ClMe2 SiSiMe2 Cl,Cl2 MeSiS
iMe2 Cl,Cl2 MeSiSiMeCl2 ,両末端
SiMe2 Clのポリジメチルシロキサンなど、アルコ
キシシラン類を例示するならば、Me3 SiOMe,P
hMe2 SiOMe,Ph2 MeSiOMe,Me2
i(OMe)2 ,PhMeSi(OMe)2 ,Ph2
i(OMe)2 ,MeSi(OMe)3 ,PhSi(O
Me)3 ,MeOMe2 SiC6 4 SiMe2 OM
e,MeOMe2 SiOSiMe2 OMe,MeOMe
2 SiCH2 SiMe2 OMe,MeOMe2 SiCH
2 CH2 SiMe2 OMe,MeOMe2 SiSiMe
2 OMe,(MeO)2 MeSiSiMe2 OMe,
(MeO)2 MeSiSiMe(OMe)2 ,両末端S
iMe2 OMeのポリジメチルシロキサンなど、シラノ
ール類を例示するならば、Me3 SiOH,PhMe2
SiOH,Ph2 MeSiOH,HOMe2 SiC6
4 SiMe2 OH,HOMe2 SiOSiMe2 OH,
HOMe2 SiCH2 SiMe2 OH,HOMe2 Si
CH2 CH2 SiMe2 OH,HOMe2 SiSiMe
2 OH,両末端SiMe2OHのポリジメチルシロキサ
ンなどがあげられるがこれらに限定されるものではな
い。
Depending on the application, it may not be desirable for the silanol groups to remain in the final material. In that case, various types of chlorosilanes, alkoxysilanes, silanols, etc., are used as silanols remaining in the reaction system. The group can be trapped. As an example of chlorosilanes, Me 3 SiCl, PhMe 2 SiCl, P
h 2 MeSiCl, Me 2 SiCl 2 , PhMeSiC
l 2 , Ph 2 SiCl 2 , MeSiCl 3 , PhSiC
l 3 , ClMe 2 SiC 6 H 4 SiMe 2 Cl, ClM
e 2 SiOSiMe 2 Cl, ClMe 2 SiCH 2 Si
Me 2 Cl, ClMe 2 SiCH 2 CH 2 SiMe 2 C
1, ClMe 2 SiSiMe 2 Cl, Cl 2 MeSiS
Examples of alkoxysilanes such as iMe 2 Cl, Cl 2 MeSiSiMeCl 2 , polydimethylsiloxane having both ends SiMe 2 Cl include Me 3 SiOMe, P.
hMe 2 SiOMe, Ph 2 MeSiOMe, Me 2 S
i (OMe) 2 , PhMeSi (OMe) 2 , Ph 2 S
i (OMe) 2 , MeSi (OMe) 3 , PhSi (O
Me) 3 , MeOMe 2 SiC 6 H 4 SiMe 2 OM
e, MeOMe 2 SiOSiMe 2 OMe, MeOMe
2 SiCH 2 SiMe 2 OMe, MeOMe 2 SiCH
2 CH 2 SiMe 2 OMe, MeOMe 2 SiSiMe
2 OMe, (MeO) 2 MeSiSiMe 2 OMe,
(MeO) 2 MeSiSiMe (OMe) 2 , both ends S
Examples of silanols such as polydimethylsiloxane of iMe 2 OMe include Me 3 SiOH, PhMe 2
SiOH, Ph 2 MeSiOH, HOMe 2 SiC 6 H
4 SiMe 2 OH, HOMe 2 SiOSiMe 2 OH,
HOMe 2 SiCH 2 SiMe 2 OH, HOMe 2 Si
CH 2 CH 2 SiMe 2 OH, HOMe 2 SiSiMe
Examples thereof include, but are not limited to, 2 OH and polydimethylsiloxane having SiMe 2 OH at both ends.

【0037】また、これらのトラップ剤、特にクロロシ
ラン類を用いた場合にはHClが発生するのでトリエチ
ルアミン、ピリジンなどを用いて中和してもよい。
Further, since HCl is generated when these trapping agents, especially chlorosilanes, are used, neutralization may be carried out using triethylamine, pyridine or the like.

【0038】本発明のケイ素系ハイブリッド材料を得る
ための後処理工程として、シリケート類と分子内に少な
くとも2個以上のSiH基を有するケイ素系高分子との
反応混合物を室温から100℃程度の温度範囲で膜状、
繊維状、板状、棒状その他複雑な形状に成形する工程、
該反応混合物から揮発成分を除去する工程が含まれる。
このうち揮発成分除去の工程では硬化収縮及び成形体の
緻密化が起こるので、該工程は得られるケイ素系ハイブ
リッド材料の性能に大きな影響を与える。一般には成形
体内部に残る歪を最小限にするために徐々に揮発成分を
除去するのが好ましい。その際、温度・圧力を変化させ
ることを利用してもよい。さらに、得られるケイ素系ハ
イブリッド材料の物性を向上させる目的で焼成を行なっ
てもよい。
As a post-treatment step for obtaining the silicon-based hybrid material of the present invention, a reaction mixture of silicates and a silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule is treated at a temperature from room temperature to about 100 ° C. Membranous in range,
A process of forming into a fibrous, plate-shaped, rod-shaped or other complicated shape
A step of removing volatile components from the reaction mixture is included.
Of these, curing shrinkage and compaction of the molded body occur in the step of removing volatile components, so that the step has a great influence on the performance of the obtained silicon-based hybrid material. Generally, it is preferable to gradually remove the volatile components in order to minimize the strain remaining inside the molded body. At that time, changing the temperature / pressure may be used. Further, firing may be performed for the purpose of improving the physical properties of the obtained silicon-based hybrid material.

【0039】本発明のケイ素系ハイブリッド材料はシリ
ケート類とケイ素系高分子とを主成分として製造される
のであるが、該基本成分の他に得られるケイ素系ハイブ
リッド材料の特性を調整する目的で各種添加剤・補強剤
を用いることができる。該添加剤・補強剤は上記基本成
分の反応時、それらの縮合反応がある程度進行した段
階、揮発成分の除去段階などで必要に応じて添加するこ
とができる。
The silicon-based hybrid material of the present invention is produced by using silicates and a silicon-based polymer as main components. In addition to the basic components, various kinds of silicon-based hybrid materials can be adjusted for the purpose of adjusting the characteristics of the obtained silicon-based hybrid material. Additives and reinforcing agents can be used. The additives / reinforcing agents can be added as required at the time of the reaction of the above-mentioned basic components, at the stage where their condensation reaction has progressed to a certain extent, at the stage of removing volatile components, and the like.

【0040】本発明で用いることのできる添加剤・補強
剤を具体的に例示すれば、アルコキシシラン類以外の各
種金属アルコキシドもしくは水酸化物を併用してもよ
い。それらの化合物を具体的にあげれば、Al(OiP
r)3 ,Ti(OiPr)4 ,Ti(OnBu)4 ,B
(OEt)3 ,Zr(OPr)4 ,Ti(OSiM
3 4 ,(Me3 SiO)2 Ti(OiPr)2 ,B
(OH)3 ,などの各種金属アルコキシドあるいは、水
酸化物類、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、ボロ
ン繊維、シリコンカーバイド繊維、シリコンナイトライ
ド繊維、チラノ繊維、などの無機繊維、アラミド繊維、
ナイロン繊維、ビニロン繊維、ポリエステル繊維、ポリ
アリレート繊維、超高分子量ポリエチレン繊維、ポリ−
p−ベンズアミド、ポリアミドヒドラジド等の有機繊維
からなる、チョップ状、ヤーン状、織物状、マット状の
ものや、アスベスト、マイカ、タルク等ならびにこれら
の混合物、炭酸カルシウム、アルミナ、シリカ、クレ
ー、酸化チタン、カーボンブラック等が例示できる。
As specific examples of additives and reinforcing agents that can be used in the present invention, various metal alkoxides or hydroxides other than alkoxysilanes may be used in combination. Specific examples of these compounds are Al (OiP
r) 3 , Ti (OiPr) 4 , Ti (OnBu) 4 , B
(OEt) 3 , Zr (OPr) 4 , Ti (OSiM
e 3 ) 4 , (Me 3 SiO) 2 Ti (OiPr) 2 , B
Various metal alkoxides such as (OH) 3 , hydroxides, glass fibers, alumina fibers, carbon fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, silicon nitride fibers, tyranno fibers, and other inorganic fibers, aramid fibers,
Nylon fiber, vinylon fiber, polyester fiber, polyarylate fiber, ultra high molecular weight polyethylene fiber, poly-
Chop-shaped, yarn-shaped, woven-shaped or mat-shaped organic fibers such as p-benzamide and polyamide hydrazide, asbestos, mica, talc and mixtures thereof, calcium carbonate, alumina, silica, clay, titanium oxide , Carbon black and the like.

【0041】このようにして得られる本発明のケイ素系
ハイブリッド材料は、各種の用途に用いることができ
る。具体的に例示すれば、人工衛星・スペースシャトル
・スペースコロニー・航空機やロケットの機体・エンジ
ン周辺部分などに用いる航空宇宙用構造材料、自動車の
外板・シリンダーヘッド・ホイールキャップ、プロペラ
シャフト、エンジン周辺部材・内装用部材・自転車のタ
イヤフレーム・リニヤモーターカー用材料その他自動車
・オートバイ・自転車・三輪車・鉄道・船舶などの各種
輸送機器に用いられる構造用材料、トラクターなどの農
業機器用材料、住宅・ビル・橋梁・歩道橋・はしご・超
高層ビル・大深度地下構造物・海中構造物などに用いる
構造用材料、ボート・ヨット・スキー・スノーモビル・
グライダー機体・テニスラケット・ゴルフシャフト・釣
竿・テント用支柱などのスポーツ用品、電子レンジ・冷
蔵庫・洗濯機・パーソナルコンピューターなどの家電
品、人工骨・人工歯・人工歯根などの医療用材料、化粧
品用材料、シーリング材、接着剤、粘着剤、粘接着剤、
塗料、改質剤、可塑剤、マスキング材、離型材、消泡
材、繊維処理材、電気絶縁材料、半導体封止材料、セラ
ミックス繊維及び成形体用前駆体、RIM・LIM・射
出・押出し・ブロー・圧縮などの成形材料、形状記憶材
料、光ファイバー・レーザーディスク光メモリー膜・フ
ォトクロミックガラス・光スイッチ・屈折率分布ガラス
・熱線遮断ガラス・反射鏡・反射防止ガラス・光ディス
ク基板などの光関連用機能性ガラス、テレビ撮像管素子
・固体電池・遅延線ガラス・ディスプレイなどの電磁気
関連用機能性ガラス、耐熱材料・フォトマスク基板・付
着・接着などの熱関連用機能性ガラス、高温分離精製・
酵素固定・放射性廃棄物の固化などの化学関連用機能性
ガラスなどをあげることができるがこれらに限定される
ものではない。
The silicon-based hybrid material of the present invention thus obtained can be used for various purposes. Concrete examples are aerospace structural materials used for satellites, space shuttles, space colonies, aircraft and rocket fuselage, engine peripheral parts, automobile outer plates, cylinder heads, wheel caps, propeller shafts, engine surroundings. Materials / Interior materials / Bicycle tire frames / Linear motor car materials / Other structural materials used in various transportation equipment such as automobiles, motorcycles, bicycles, tricycles, railroads, ships, agricultural equipment such as tractors, housing, etc. Structural materials used for buildings, bridges, pedestrian bridges, ladders, skyscrapers, deep underground structures, undersea structures, boats, yachts, skis, snowmobiles, etc.
Sports equipment such as glider aircraft, tennis rackets, golf shafts, fishing rods, and tent posts, household appliances such as microwave ovens, refrigerators, washing machines, personal computers, medical materials such as artificial bones, artificial teeth and artificial roots, and cosmetics Materials, sealing materials, adhesives, adhesives, adhesives,
Paints, modifiers, plasticizers, masking materials, mold release materials, defoaming materials, fiber treatment materials, electrical insulation materials, semiconductor encapsulation materials, ceramic fibers and precursors for molded products, RIM / LIM / injection / extrusion / blowing・ Molding material for compression, shape memory material, optical fiber, laser disk optical memory film, photochromic glass, optical switch, refractive index distribution glass, heat ray blocking glass, reflector, antireflection glass, optical-related functionality such as optical disk substrate Functional glass for electromagnetic fields such as glass, TV image pickup tube devices, solid state batteries, delay line glass, displays, etc., heat-resistant materials, photomask substrates, functional glass for heat-related applications such as adhesion and adhesion, high temperature separation and purification,
Examples thereof include functional glass for chemicals such as enzyme immobilization and solidification of radioactive waste, but are not limited to these.

【0042】[0042]

【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
るが、本発明の内容はこれらに限定されるものではな
い。 製造例1 0.64mol/L硫酸1.1L(0.74mol)に
0.80mol/Lのケイ酸ナトリウム水溶液500m
l(SiO2 0.40mol,日本化学工業JIS3号
品をそのまま使用した。)を攪拌しながら滴下し中和し
た。次いでその溶液にテトラヒドロフラン(THF)8
00mlを加え、室温で2時間攪拌したのち、分液ロー
トに移し塩化ナトリウム400gを加えて振とうした。
その上層を分離し、無水硫酸ナトリウムを加えて一夜放
置し脱水乾燥した。これをろ過しケイ酸−THF溶液6
00mlを得た。このSiO2 濃度は0.086g/m
lであった。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the contents of the present invention are not limited thereto. Production Example 1 500 L of 0.80 mol / L sodium silicate aqueous solution in 0.64 mol / L sulfuric acid 1.1 L (0.74 mol)
l (using SiO 2 0.40 mol, Chemical Industry JIS3 No. products directly.) was added dropwise with stirring to neutralize. Then add tetrahydrofuran (THF) 8 to the solution.
After adding 00 ml and stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was transferred to a separating funnel, 400 g of sodium chloride was added, and the mixture was shaken.
The upper layer was separated, anhydrous sodium sulfate was added, and the mixture was left overnight and dehydrated and dried. This is filtered and silicic acid-THF solution 6
00 ml was obtained. This SiO 2 concentration is 0.086 g / m
It was l.

【0043】製造例2 1,5−ヘキサジエン8.4g(0.1mol)及び塩
化白金酸触媒10wt%イソプロパノール溶液10.4
μl(2x10-3mmol,1x10-5molvs オ
レフィン 1mol)を乾燥クロロホルム30mlに溶
解させた溶液にHMe2 SiPhSiMe2 H 21.
34g(0.11mol)を乾燥クロロホルム10ml
に溶解した溶液を窒素雰囲気下、室温でゆっくりと滴下
した。滴下中おだやかな発熱反応が維持されるように滴
下速度を調節した。滴下終了後反応溶液を1時間室温で
攪拌した。該反応溶液をシリカゲルカラムに通し使用し
た白金触媒を除去した。揮発成分をエバボレートしたと
ころSi基末端の粗ポリマーを白色固体として得た。該
粗ポリマーを塩化メチレン/メタノールより再沈殿によ
り精製し、減圧乾燥後、下記構造式を有するSi基末端
ポリカルボシランポリマー約19.5g(約70%収
率)を得た。GPC測定による数平均分子量は450
0、重量平均分子量は10000であった。
Production Example 2 8.4 g (0.1 mol) of 1,5-hexadiene and 10 wt% isopropanol solution of chloroplatinic acid catalyst 10.4
HMe [mu] l of (2x10 -3 mmol, 1x10 -5 molvs olefin 1 mol) in a solution prepared by dissolving in dry chloroform 30ml 2 SiPhSiMe 2 H 21.
34 g (0.11 mol) of dry chloroform 10 ml
The solution dissolved in was slowly added dropwise at room temperature under a nitrogen atmosphere. The dropping rate was adjusted so that a mild exothermic reaction was maintained during the dropping. After completion of dropping, the reaction solution was stirred at room temperature for 1 hour. The platinum catalyst used was removed by passing the reaction solution through a silica gel column. When the volatile components were evaporated, a crude polymer having a Si group terminal was obtained as a white solid. The crude polymer was purified by reprecipitation from methylene chloride / methanol and dried under reduced pressure to obtain about 19.5 g (about 70% yield) of Si group-terminated polycarbosilane polymer having the following structural formula. The number average molecular weight measured by GPC is 450.
0, the weight average molecular weight was 10,000.

【0044】[0044]

【化12】 [Chemical 12]

【0045】実施例1 製造例1で合成したケイ酸−THF溶液(SiO2
量:17.2g)200mlに分子量約17,500の
分子末端にSiH基を有するポリジメチルシロキサン
(PS542、チッソ(株)製)THF30wt%溶液
20gを室温で加え、ほぼ均一になるまでよく攪拌し
た。該混合溶液に0.3NのHCl水溶液6mlを激し
く攪拌しながら室温で加えた。水素の発生及びおだやか
な発熱が観察された。室温で1時間、50℃で3時間反
応させた。該反応溶液その固形分濃度が約20%になる
まで濃縮した。該濃縮溶液を、あらかじめテフロンシー
トを敷いた100×25×25mmの型枠に10mmの
深さまで流し込んだ。これを室温で1週間、50℃で3
日間乾燥することにより厚さ約2mmの板状のケイ素系
ハイブリッド材料を得た。該材料は通常のガラスと同程
度の強度を有しかつ脆性破壊しなかった。熱重量分析
(TGA)の結果、該ケイ素系ハイブリッド材料は耐熱
性の優れる材料であることが判明した。
Example 1 In 200 ml of the silicic acid-THF solution (SiO 2 content: 17.2 g) synthesized in Preparation Example 1, polydimethylsiloxane having a SiH group at the molecular end with a molecular weight of about 17,500 (PS542, Chisso (stock) )) 20 g of a 30 wt% solution of THF was added at room temperature, and well stirred until almost uniform. 6 ml of 0.3 N HCl aqueous solution was added to the mixed solution at room temperature with vigorous stirring. Evolution of hydrogen and a mild exotherm were observed. The reaction was carried out at room temperature for 1 hour and at 50 ° C. for 3 hours. The reaction solution was concentrated until the solid content concentration became about 20%. The concentrated solution was poured to a depth of 10 mm in a 100 × 25 × 25 mm mold frame which was previously covered with a Teflon sheet. Do this for 1 week at room temperature and 3 at 50 ° C.
A plate-like silicon-based hybrid material having a thickness of about 2 mm was obtained by drying for one day. The material was as strong as ordinary glass and did not break brittle. As a result of thermogravimetric analysis (TGA), it was found that the silicon-based hybrid material had excellent heat resistance.

【0046】実施例2 製造例1で製造したSi基末端ポリカルボシランのTH
F30wt%溶液25gを用いた以外は、実施例1と全
く同じようにして板状のケイ素系ハイブリッド材料を得
た。この材料はガラスと同程度の強度を有しかつ脆性破
壊しなかった。熱重量分析(TGA)の結果、該ケイ素
系ハイブリッド材料は耐熱性の優れる材料であることが
判明した。
Example 2 TH of the Si-terminated polycarbosilane produced in Production Example 1
A plate-shaped silicon-based hybrid material was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that 25 g of a F30 wt% solution was used. This material was as strong as glass and did not undergo brittle fracture. As a result of thermogravimetric analysis (TGA), it was found that the silicon-based hybrid material had excellent heat resistance.

【0047】比較例1 分子内に少なくとも2個のSiH基を有するケイ素系高
分子を用いなかった以外は実施例1と全く同じようにし
て板状の成形体を得ようとしたが、揮発分が除去された
後は粉体状になってしまって成形体は得られなかった。
Comparative Example 1 A plate-shaped molded article was prepared in the same manner as in Example 1 except that a silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule was not used. After being removed, it became powdery and a molded body could not be obtained.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明により、耐熱性、耐燃焼性、耐環
境性に優れ、軽量高靭性で高い機械的強度と良好な成形
加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料を提供するこ
とができる。
According to the present invention, it is possible to provide a silicon-based hybrid material which is excellent in heat resistance, combustion resistance and environment resistance, is lightweight and has high toughness, high mechanical strength and good moldability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリケート類と分子内に少なくとも2個
のSiH基を有するケイ素系高分子とを反応させて得ら
れるケイ素系ハイブリッド材料。
1. A silicon-based hybrid material obtained by reacting a silicate with a silicon-based polymer having at least two SiH groups in the molecule.
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