JPH05100432A - Dampening waterless photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Dampening waterless photosensitive planographic printing plate

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JPH05100432A
JPH05100432A JP26176391A JP26176391A JPH05100432A JP H05100432 A JPH05100432 A JP H05100432A JP 26176391 A JP26176391 A JP 26176391A JP 26176391 A JP26176391 A JP 26176391A JP H05100432 A JPH05100432 A JP H05100432A
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cover film
film
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printing plate
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Shigeo Koizumi
滋夫 小泉
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the planographic printing plate which is short in the time required for vacuum contact with an original picture film at the time of image exposing, obviates the dislodgment of silica particles in spite of the friction of the surface of a cover film with the rear surface of another plate and rubbing with the surface of another plate at the time of production transportation and handling and is, therefore, not changed in vacuum contact time by plate making conditions. CONSTITUTION:This dampening waterless photosensitive planographic printing plate is constituted by laminating a photosensitive resin layer, an ink repulsion layer and a cover film having raggedness on the surface on a base. The raggedness of the above-mentioned cover film is formed by applying a film formable resin soln. contg. the silica particles and a crosslinking agent on the cover film, then drying the coating to crosslink and cure the coating.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、湿し水不要感光性平版
印刷版に関するものであり、特に、露光時に原画(リス
フィルム)との真空密着性に優れた湿し水不要感光性平
版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate, and in particular, a fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate excellent in vacuum adhesion to an original image (lith film) during exposure. Regarding the edition.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコーンゴムやフッ素樹脂などのイン
キ反発性層を上層に有する湿し水不要感光性平版印刷版
はその表面が非常に平滑で、かつ密着性が良好であるた
めに、いったん原画フィルムと密着すると強固に固定さ
れてしまうので、露光時にこの表面に原画フィルムを重
ねて真空密着を行う場合、原画と版面の間に残った気泡
を除去することは非常に困難であり、原画の密着が不十
分のまま露光を行った場合、ぼけを生じ原画を忠実に再
現できないという問題があった。この問題を解決するた
め特公昭61-614号公報には表面に凹凸を有するカバーフ
ィルムをインキ反発性層上にラミネートして設け、これ
により真空密着性を改良する方法が提案されている。
2. Description of the Related Art A photosensitive lithographic printing plate having an ink-repellent layer such as silicone rubber or fluororesin as an upper layer, which does not require fountain solution, has a very smooth surface and good adhesion, Since it will be firmly fixed when it comes into close contact with the film, it is very difficult to remove the bubbles left between the original image and the plate surface when the original image film is stacked on this surface at the time of exposure for vacuum adhesion. When exposure is performed with insufficient adhesion, there is a problem that blurring occurs and the original image cannot be faithfully reproduced. In order to solve this problem, Japanese Patent Publication No. 61-614 proposes a method in which a cover film having irregularities on the surface is laminated on the ink repellent layer to improve the vacuum adhesion.

【0003】更に特開平2-63051号公報には平均粒子径
が4〜9μmであり、かつ屈折率が1.4から1.7の粒子
を含むカバーフィルムを設けることが記載されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-63051 discloses that a cover film having particles having an average particle diameter of 4 to 9 μm and a refractive index of 1.4 to 1.7 is provided.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前記特開平2-63051号
公報に記載された方法は真空密着性を改良できるもので
あるが湿し水を用いる従来の感光性平版印刷版(PS
版)に比べるとまだ不十分である。特に、湿し水不要感
光性平版印刷版の製造時、ロール状の平版印刷版に連続
的に上記カバーフィルムをラミネートして巻き取った
り、連続的に裁断して積み重ねたりする際や、輸送時及
び製版のための版取扱い時にカバーフィルム表面のシリ
カ粒子が脱落して真空密着性が低下してしまうという問
題点があった。
The method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2-63051 described above can improve the vacuum adhesion, but the conventional photosensitive lithographic printing plate (PS) using fountain solution is used.
Version) is still insufficient compared to. In particular, during the production of a photosensitive lithographic printing plate that does not require fountain solution, when the cover film is continuously laminated and wound on a roll-shaped lithographic printing plate, or continuously cut and stacked, or during transportation. In addition, there is a problem that silica particles on the surface of the cover film fall off during handling of the plate for plate making, resulting in a decrease in vacuum adhesion.

【0005】従って本発明の目的は、露光時に原画フィ
ルムとの真空密着性に優れた、即ち真空密着に要する時
間の短い、生産性に優れた、湿し水不要感光性平版印刷
版を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which does not require a fountain solution and has excellent vacuum adhesion to an original film during exposure, that is, a short time required for vacuum adhesion and excellent productivity. That is.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、かかる問題
を解決すべく鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に
到達した。即ち本発明は、支持体上に感光性樹脂層、イ
ンキ反発層および表面に凹凸を有するカバーフィルムを
積層してなる湿し水不要感光性平版印刷版において、該
カバーフィルム表面の凹凸が、シリカ粒子および架橋剤
を含む、皮膜形成性の樹脂溶液をカバーフィルム上に塗
布、乾燥し、架橋硬化させたものであることを特徴とす
る湿し水不要感光性平版印刷版である。
The present inventor has arrived at the present invention described below as a result of extensive studies to solve such a problem. That is, the present invention is a photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution, which comprises a photosensitive resin layer, an ink repellent layer, and a cover film having unevenness on the surface, and the unevenness of the cover film is silica. A photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution, which is obtained by applying a film-forming resin solution containing particles and a cross-linking agent onto a cover film, drying and cross-linking curing.

【0007】本発明に使用される皮膜形成性の樹脂は適
当な溶剤に可溶性のポリマーで、好ましくは、分子の末
端及び/または側鎖に2個以上の、架橋剤との反応性基
を有するものである。このような樹脂としては、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリ
ル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルアルコール系樹
脂、ブチラール樹脂、酢酸セルロース、アルキド樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリスチレンなどがあげられる。これらの樹脂
のうち、OH基を有するポリエステル樹脂、末端OH
基、アミノ基を有するポリウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、側鎖にOH基、アミノ基、カルボキシル基を有する
アクリル樹脂、ポリビニルアルコールなど、架橋剤と直
接に反応性の官能基をもつものが特に好ましい。
The film-forming resin used in the present invention is a polymer soluble in a suitable solvent, and preferably has two or more crosslinker-reactive groups at the terminal and / or side chains of the molecule. It is a thing. Examples of such resin include polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, acrylic resin, polyamide resin, polyvinyl alcohol resin, butyral resin, cellulose acetate, alkyd resin,
Examples thereof include polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated polypropylene and polystyrene. Among these resins, polyester resin having OH group, terminal OH
Particularly preferred are those having a functional group that is directly reactive with the crosslinking agent, such as a polyurethane resin having a group or an amino group, an epoxy resin, an acrylic resin having an OH group, an amino group or a carboxyl group in its side chain, or polyvinyl alcohol.

【0008】本発明に使用される架橋剤としては多官能
イソシアネート架橋剤、多官能エポキシ架橋剤、アミノ
樹脂架橋剤などが用いられる。架橋剤は用いるポリマー
バインダーとの相溶性、反応性、用いる溶剤への溶解性
などを考慮して適宜選択する。多官能イソシアネート架
橋剤としては塗膜形成用バインダーとの相溶性、塗布溶
剤への溶解性などから適宜選択するが、ジフェニルメタ
ンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシアネ
ート(TDI)、ナフタレンジイソシアネート、トリジ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、リジンジ
イソシアネート、ウンデカントリイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイ
ソシアネート、末端にイソシアネート基を有するウレタ
ンプレポリマー、例えばコロネート(日本ポリウレタン
株式会社製)、タケネート(武田薬品工業株式会社製)
が用いられる。
As the crosslinking agent used in the present invention, a polyfunctional isocyanate crosslinking agent, a polyfunctional epoxy crosslinking agent, an amino resin crosslinking agent and the like are used. The crosslinking agent is appropriately selected in consideration of compatibility with the polymer binder used, reactivity, solubility in the solvent used, and the like. The polyfunctional isocyanate cross-linking agent is appropriately selected depending on the compatibility with the coating film forming binder, the solubility in the coating solvent, and the like, but diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, hexa Methylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, lysine diisocyanate, undecane triisocyanate, hexamethylene diisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, urethane prepolymer having an isocyanate group at the end, for example, Coronate (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) , Takenate (manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited)
Is used.

【0009】イソシアネート架橋剤を用いる場合のより
好ましい態様としては、皮膜形成樹脂に水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの活性水素を有する基を含有さ
せ架橋剤と直接反応硬化させる方法が挙げられる。エポ
キシ化合物による硬化は通常分子内に反応性エポキシ基
を2個以上含むモノマー、プレポリマーとこれらのエポ
キシ基と反応性のアミノ基などの活性水素をもつ化合物
及び必要ならば触媒化合物により行われる。エポキシ化
合物の例としては、ビスフェノールAのジグリシジルエ
ーテル、エポキシフェノールノボラック、エポキシクレ
ゾールノボラック、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ソ
ルビトールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイ
ソシアヌレート、アジピン酸ジグリシジルエステル、な
どがある。更に商品として上市されているものとしては
エピコートシリーズの化合物(油化シェルエポキシ株式
会社)、アデカレジンシリーズ(旭電化株式会社)、リ
カレジンシリーズ(新日本理化株式会社)、などがあ
る。エポキシ硬化剤として用いられる化合物はアミノ
基、水酸基、カルボキシル基、などの活性水素を有する
基を2個以上もった化合物ならばいずれも使用できる
が、アミン化合物がその硬化性の速さから好ましく使用
される。このようなアミン化合物としては上記のエポキ
シ化合物の商品シリーズにあわせてエピキュア(油化シ
ェルエポキシ株式会社)、アデカハードナー(旭電化株
式会社)、として多数市販されている。より好ましい態
様としては、多官能イソシアネート架橋剤を用いる場合
と同様に樹脂層を形成するポリマーバインダーに活性水
素を有する基を含有させ硬化する方法が挙げられる。
As a more preferred embodiment of using an isocyanate cross-linking agent, there is a method in which a film-forming resin contains a group having an active hydrogen such as a hydroxyl group, an amino group or a carboxyl group and is directly reacted and cured with the cross-linking agent. Curing with an epoxy compound is usually carried out with a monomer containing two or more reactive epoxy groups in the molecule, a prepolymer, a compound having active hydrogen such as an amino group reactive with these epoxy groups, and a catalyst compound if necessary. Examples of the epoxy compound include diglycidyl ether of bisphenol A, epoxyphenol novolac, epoxycresol novolac, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, adipic acid diglycidyl ester, and the like. There is. Further, the products marketed include Epicoat series compounds (Yukaka Shell Epoxy Co., Ltd.), Adeka Resin series (Asahi Denka Co., Ltd.), and Rikaresin series (Shin Nippon Rika Co., Ltd.). As the compound used as the epoxy curing agent, any compound can be used as long as it has two or more groups having active hydrogen such as amino group, hydroxyl group and carboxyl group, but amine compound is preferably used because of its rapid curability. To be done. Many such amine compounds are commercially available as Epicure (Yukaka Shell Epoxy Co., Ltd.) and ADEKA HARDNER (Asahi Denka Co., Ltd.) in accordance with the above-mentioned product series of epoxy compounds. As a more preferred embodiment, a method in which a polymer binder that forms a resin layer contains a group having active hydrogen and is cured, as in the case of using a polyfunctional isocyanate crosslinking agent, can be mentioned.

【0010】その他の架橋方法としては、メラミン樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、などのアミノ樹
脂を用いる架橋がある。アミノ樹脂を用いた架橋では、
皮膜形成性樹脂としては、アルキド樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂が好ましく用いられる。本発明に使用
されるシリカ粒子は、コールターカウンター法で測定し
た平均粒子径が1〜30μのものを用い、粒子サイズが
この範囲にあれば天然シリカの粉砕により形成されたも
のであっても、湿式法などによって合成したものであっ
ても構わない。また、シリカ表面を有機物で変性したタ
イプは塗膜形成用樹脂に対する分散性に優れる点から好
ましい。粒子サイズが1μmより小さい場合は真空密着
性の改良効果は不十分なものとなり、30μmより大き
い場合には調液後塗布までの間や塗布中にシリカ粒子の
沈降が発生し、所定量のシリカ粒子がカバーフィルム上
に塗布されず、従って真空密着性は不十分なものとなっ
てしまう。以上の点からシリカ粒子の好ましい粒子サイ
ズは2〜20μm、より好ましくは3〜15μmであ
る。また該粒子の添加量としては0.1mg/m2 〜100
mg/m2 であることが好ましく、より好ましくは1.0mg
/m2 〜50mg/m2 である。該シリカ粒子の樹脂層を
形成するポリマーバインダーに対する比率は0.1wt%〜
20wt%、好ましくは0.5wt%〜10wt%である。
Other cross-linking methods include cross-linking using amino resins such as melamine resins, benzoguanamine resins and urea resins. In the cross-linking using amino resin,
As the film-forming resin, alkyd resin, acrylic resin and epoxy resin are preferably used. As the silica particles used in the present invention, those having an average particle diameter of 1 to 30 μm measured by a Coulter counter method are used, and if the particle size is in this range, it may be formed by pulverizing natural silica, It may be synthesized by a wet method or the like. Further, a type in which the surface of silica is modified with an organic substance is preferable from the viewpoint of excellent dispersibility in a coating film forming resin. If the particle size is smaller than 1 μm, the effect of improving the vacuum adhesion becomes insufficient, and if it is larger than 30 μm, sedimentation of silica particles occurs during or after coating after the preparation of the solution and a predetermined amount of silica is produced. The particles are not coated on the cover film and thus the vacuum adhesion is insufficient. From the above points, the preferable particle size of the silica particles is 2 to 20 μm, and more preferably 3 to 15 μm. The amount of the particles added is 0.1 mg / m 2 to 100
It is preferably mg / m 2 , more preferably 1.0 mg
/ M 2 to 50 mg / m 2 . The ratio of the silica particles to the polymer binder forming the resin layer is 0.1 wt% to
It is 20 wt%, preferably 0.5 wt% to 10 wt%.

【0011】本発明のカバーフィルムは湿し水不要感光
性平版印刷版を露光するための光に対して透明であるこ
とが必須である。このようなフィルムとしては公知の透
明プラスチックフィルム、例えばポリエチレンテレフタ
レート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレンな
どがあげられる。これらのフィルムとこの上に設けるシ
リカを含有する樹脂層との密着性を向上させるためカバ
ーフィルム表面をあらかじめコロナ放電処理や火炎処理
によって活性化しておくことは好ましい。該フィルムの
厚みとしては、2〜20μm、好ましくは4〜15μm
が適当である。
It is essential that the cover film of the present invention is transparent to light for exposing the photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution. Examples of such a film include known transparent plastic films such as polyethylene terephthalate, polypropylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyamide, polyurethane and polystyrene. In order to improve the adhesion between these films and the resin layer containing silica provided thereon, it is preferable to activate the surface of the cover film in advance by corona discharge treatment or flame treatment. The thickness of the film is 2 to 20 μm, preferably 4 to 15 μm
Is appropriate.

【0012】更に、樹脂層には、必要により現像処理時
にカバーフィルムの除去が完全に行われていることを検
出しやすくする目的や安全光に対するかぶりの低減など
の目的で染料を添加しても良い。また、カバーフィルム
剥離時の帯電を防止するため、イオン性界面活性剤など
の帯電防止剤を添加しても良い。次に本発明の湿し水不
要平版印刷版について説明する。
Further, if necessary, a dye may be added to the resin layer for the purpose of facilitating detection of complete removal of the cover film during development processing and reducing fogging due to safety light. good. Further, an antistatic agent such as an ionic surfactant may be added in order to prevent electrification when the cover film is peeled off. The fountain solution-free lithographic printing plate of the present invention is described below.

【0013】本発明の湿し水不要平版印刷版は通常の印
刷機にセットできる程度のたわみ性を有し、同時に印刷
時にかかる荷重に耐えるものでなければならない。従っ
て、代表的な基板としては、コート紙、アルミニウムの
ような金属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプ
ラスチックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させた
ものを挙げることができる。これらの基板の表面にはハ
レーション防止及びその他の目的で更にプライマー層な
どをコーティングすることも可能である。
The lithographic printing plate requiring no fountain solution of the present invention must have flexibility so that it can be set in an ordinary printing machine and at the same time withstand the load applied during printing. Therefore, as a typical substrate, a coated paper, a metal plate such as aluminum, a plastic film such as polyethylene terephthalate, rubber or a combination thereof can be mentioned. The surface of these substrates may be further coated with a primer layer or the like for the purpose of preventing halation and other purposes.

【0014】プライマー層としては、基板と感光性樹脂
層間の接着性向上、ハレーション防止、画像の染色や印
刷特性向上のために種々のものを使用することができ
る。例えば、特開昭60-229031 号公報に開示されている
ような種々の感光性ポリマーを感光性樹脂層を積層する
前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62-50760号公報
に開示されているエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、
特開昭63−133151号公報に開示されているゼラチンを硬
膜せしめたもの、更に特開平3-200965号公報や特願平2-
79572 号明細書に開示されているウレタン樹脂を用いた
もの等を挙げることができる。この他、カゼインを硬膜
させたものも有効である。更に、プライマー層を柔軟化
させる目的で、前記のプライマー層中に、ガラス転移温
度が室温以下であるポリウレタン、ポリアミド、スチレ
ン/ブタジエンゴム、カルボキシ変性スチレン/ブタジ
エンゴム、アクリロニトリル/ブタジエンゴム、カルボ
キシ変性アクリロニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソ
プレン、アクリレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリ
エチレン、塩素化ポリプロピレン等のポリマーを添加し
ても良い。その添加割合は任意であり、フィルム層を形
成できる範囲内であれば、添加剤だけでプライマー層を
形成しても良い。また、これらのプライマー層には前記
の目的に沿って、染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合
開始剤、接着剤(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹
脂、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤
やアルミニウムカップリング剤)、顔料やシリカ粉末等
の添加物を含有させることもできる。一般に、プライマ
ー層の塗布量は乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が
適当であり、好ましくは1〜10g/m2 である。
As the primer layer, various types can be used for the purpose of improving the adhesion between the substrate and the photosensitive resin layer, preventing halation, dyeing an image and improving printing characteristics. For example, various photosensitive polymers as disclosed in JP-A-60-229031 are exposed and cured before laminating a photosensitive resin layer, and disclosed in JP-A-62-50760. Heat-cured epoxy resin,
The gelatin film disclosed in JP-A-63-133151, which is hardened, and further disclosed in JP-A-3-200965 and Japanese Patent Application No. 2-200965.
Examples thereof include those using the urethane resin disclosed in the specification of 79572. In addition, a casein-hardened casein is also effective. Further, for the purpose of softening the primer layer, polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber, carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile having a glass transition temperature of room temperature or lower is contained in the primer layer. Polymers such as / butadiene rubber, polyisoprene, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene may be added. The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additive as long as it is within the range in which the film layer can be formed. In addition, in accordance with the above-mentioned purpose, these primer layers have a dye, a pH indicator, a printout agent, a photopolymerization initiator, an adhesive (for example, a polymerizable monomer, a diazo resin, a silane coupling agent, a titanate coupling agent). And aluminum coupling agent), pigments, and additives such as silica powder can be included. Generally, the coating amount of the primer layer is appropriately in the range of 0.1 to 20 g / m 2 as dry weight, preferably 1 to 10 g / m 2 .

【0015】本発明で使用される感光層は一般的には露
光によって現像液に対する溶解性に差が生じるか、また
は上層の撥インキ層との界面で接着性に変化を生じるも
のであればいかなるものであっても使用することができ
る。画像形成は、ネガ型でもポジ型でも良い。このよう
な感光層を構成する化合物または組成物には、次のもの
が含まれる。
The photosensitive layer used in the present invention is generally any as long as it causes a difference in solubility in a developing solution upon exposure or a change in adhesiveness at the interface with the upper ink repellent layer. Even one can be used. The image formation may be negative or positive. The compound or composition constituting such a photosensitive layer includes the following.

【0016】(A)光重合型感光性樹脂層 (i)オレフィン性不飽和二重結合基を有するモノマー
またはオリゴマー、(ii) 必要に応じて使用される、フ
ィルム形成能を有する高分子化合物および(iii)光重合
開始剤からなる光重合性組成物。
(A) Photopolymerizable photosensitive resin layer (i) Monomer or oligomer having olefinically unsaturated double bond group, (ii) High molecular compound having film-forming ability, which is used as necessary (iii) A photopolymerizable composition comprising a photopolymerization initiator.

【0017】上記成分(i)〜 (iii)を含む感光性樹脂
組成物の中で成分(i)と(ii) が結合した高分子化合
物、即ち、側鎖に光重合可能または光架橋可能でかつオ
レフィン性の不飽和二重結合基を有するとともにフィル
ム形成能を有する高分子化合物を含む感光性樹脂組成物
も本発明に用いるのに好適である。また、成分(i)と
(ii) が結合した化合物に、更に成分(i)のモノマー
またはオリゴマーを添加した感光性樹脂組成物は更に好
適である。
In the photosensitive resin composition containing the above-mentioned components (i) to (iii), the polymer compound in which the components (i) and (ii) are bonded, that is, the side chain is photopolymerizable or photocrosslinkable. A photosensitive resin composition containing a polymer compound having an olefinically unsaturated double bond group and having a film-forming ability is also suitable for use in the present invention. Further, a photosensitive resin composition in which the monomer or oligomer of the component (i) is further added to the compound in which the components (i) and (ii) are bound is more preferable.

【0018】この様な感光性組成物の具体例としては特
公昭54-26923号、特開平1-214839号、特開平1-237663
号、特開平2-236550号、特開平3-155553号、特開平3-16
1753号、特願平3-19768 号明細書に示されたものをあげ
ることが出来る。 (B)光二量化型感光性組成物 重合体の主鎖または側鎖に桂皮酸及びそのエステル類、
アミド類を含むもの、側鎖に置換マレイミド基、カルコ
ン基を含む重合体、などからなる感光性組成物。この様
な感光性組成物の具体例としては、特開昭49−7005号、
特開平1-235955号、特開平1-235956号及び特開平1-2376
64号公報に示されたものをあげることが出来る。
Specific examples of such a photosensitive composition include JP-B No. 54-26923, JP-A No. 1-214839, and JP-A No. 1-237663.
No. 2, JP-A-2-236550, JP-A 3-155553, JP-A 3-16
1753 and Japanese Patent Application No. 3-19768 can be cited. (B) Photodimerization-type photosensitive composition In the main chain or side chain of a polymer, cinnamic acid and its ester,
A photosensitive composition comprising an amide, a polymer having a substituted maleimide group and a chalcone group in a side chain, and the like. Specific examples of such a photosensitive composition include JP-A-49-7005,
JP-A 1-235955, JP-A 1-235956 and JP-A 1-2376
The items shown in Japanese Patent No. 64 can be cited.

【0019】(C)光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド
樹脂と、必要ならば光増感剤と、若干の充填材添加物と
からなる組成物。 光硬化性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾジフェニルア
ミン、パラジアゾモノエチルアニリン、パラジアゾベン
ジルエチルアニリンなどのジアゾ系アミンとホルムアル
デヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩、六弗化燐酸塩を挙げ
ることができる。
(C) A composition comprising a photocurable diazo resin or azide resin, a photosensitizer if necessary, and some filler additives. Examples of the photocurable diazo resin include zinc chloride double salt of a condensation product of a diazo amine such as paradiazodiphenylamine, paradiazomonoethylaniline, and paradiazobenzylethylaniline with formaldehyde, and hexafluorophosphate. ..

【0020】この感光性樹脂組成物は光重合性不飽和二
重結合基を有する化合物を含有しない点で(A)で挙げ
た感光性樹脂組成物とは本質的に異なる。光硬化性アジ
ド樹脂としては、ポリビニルアルコールのアジドフタル
酸エステル、あるいはアジド安息香酸エステル、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体と、芳香族アジド系アルコ
ール、例えばβ−(4−アジドフェノール)エタノール
のエステルなどが挙げられる。
This photosensitive resin composition is essentially different from the photosensitive resin composition mentioned in (A) in that it does not contain a compound having a photopolymerizable unsaturated double bond group. Examples of the photo-curable azide resin include azidophthalic acid ester of polyvinyl alcohol, azidobenzoic acid ester, styrene-maleic anhydride copolymer and aromatic azide alcohol such as β- (4-azidophenol) ethanol ester. Is mentioned.

【0021】(D)ο−キノンジアジド化合物からなる
組成物 特に好ましいο−キノンジアジド化合物はο−ナフトキ
ノンジアジド化合物であり、例えば米国特許第 2,766,1
18号、同第 2,767,092号、同第 2,772,972号、同第 2,8
59,112号、同第 2,907,665号、同第 3,046,110号、同第
3,046,111号、同第 3,046,115号、同第 3,046,118号、
同第 3,046,119号、同第 3,046,120号、同第 3,046,121
号、同第 3,046,122号、同第 3,046,123号、同第 3,06
1,430号、同第 3,102,809号、同第 3,106,465号、同第
3,635,709号、同第 3,647,443号の各明細書をはじめ、
多数の刊行物に記されており、好適に使用することがで
きる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物の
ο−ナフトキノンジアジドスルホン酸のエステル、ポリ
エチレングリコールとナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−スルホン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸のエステル、重合体アミンとナフトキ
ノン−1,2ジアジド−4−スルホン酸又はナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のアミド、ポリ
メタクリル酸p−ヒドロキシアニリドとナフトキノン−
1,2−ジアジド−4−スルホン酸又はナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステル、天然樹
脂ロジンをアミン変性したものとナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸のアミド、ビスフェノール
Aとプロピレンオキシドからのエポキシ樹脂とナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステル、
(メタ)アクリル酸とジヒドロキシフェニルのモノエス
テルのポリマーとナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸のエステル、アミノイソフタル酸ジアリル
エステルとナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合物を
重合させたもの、ポリカルボナートのキノンジアジドス
ルホン酸エステル又はキノンジアジド類をイソシアネー
ト等で架橋したもの、ビスフェノールAとナフトキノン
−1,2ジアジド−4−スルホン酸又はナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステル、ナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフェノー
ル、p−クレゾールなどのフェノール類、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミルアルコールなどのアルコール類と
のエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸とアニリン、p−ヒドロキシアニリンなどのア
ミン類との酸アミドなどが挙げられる。
(D) Composition consisting of o-quinonediazide compound Particularly preferred o-quinonediazide compound is o-naphthoquinonediazide compound, for example, US Pat. No. 2,766,1
No. 18, No. 2,767,092, No. 2,772,972, No. 2,8
59,112, 2,907,665, 3,046,110, and
3,046,111, 3,046,115, 3,046,118,
No. 3,046,119, No. 3,046,120, No. 3,046,121
No. 3,046,122, No. 3,046,123, No. 3,06
No. 1,430, No. 3,102,809, No. 3,106,465, No. 3
Starting with the specifications of 3,635,709 and 3,647,443,
It is described in many publications and can be used preferably. Among these, particularly esters of aromatic hydroxy compounds ο-naphthoquinonediazide sulfonic acid, polyethylene glycol and naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester , Polymeric amines and amides of naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid, polymethacrylic acid p-hydroxyanilide and naphthoquinone-
1,2-diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-
1,2-diazido-5-sulfonic acid ester, amine-modified natural resin rosin, and naphthoquinone-1,2
An amide of diazide-5-sulfonic acid, an epoxy resin from bisphenol A and propylene oxide and an ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid,
Polymers of (meth) acrylic acid and dihydroxyphenyl monoester and naphthoquinone-1,2-diazide-4
-Sulfonic acid or naphthoquinone-1,2-diazide-5
-Sulfonic acid ester, polymer of condensation product of aminoisophthalic acid diallyl ester and naphthoquinone diazide sulfonic acid, polycarbonate of quinone diazide sulfonic acid ester of carbonate or quinone diazide crosslinked with isocyanate, etc., bisphenol A and naphthoquinone-1 , 2diazide-4-sulfonic acid or naphthoquinone-
1,2-diazide-5-sulfonic acid ester, naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid with phenol, phenols such as p-cresol, alcohols such as ethyl, propyl, butyl and amyl alcohol Examples thereof include esters and amides of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid with amines such as aniline and p-hydroxyaniline.

【0022】上述の如き感光性組成物は、更に必要に応
じて米国特許第 3,787,351号、同第4,487,823号、同第
4,822,713号などに記載されているような界面活性剤を
含有させた上、例えば2−メトキシエタノール、2−メ
トキシエチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、メタノール、
エタノール、メチルエチルケトン、水などの適当な溶剤
の単独又はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解し
て、支持体上に塗設される。その被覆量は乾燥後の重量
で約0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましく
は0.5〜10g/m2 である。
The photosensitive composition as described above can be further prepared by, if necessary, US Pat. Nos. 3,787,351, 4,487,823, and US Pat.
In addition to containing a surfactant as described in 4,822,713, etc., for example, 2-methoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, methanol,
A suitable solvent such as ethanol, methyl ethyl ketone, or water is dissolved alone or in a mixed solvent in which these are appropriately combined, and the solution is applied onto the support. The coating amount is suitably in the range of about 0.1 to 20 g / m 2 by dry weight, and preferably 0.5 to 10 g / m 2 .

【0023】本発明に用いられるインキ反発層として
は、主としてシリコーンゴム層が用いられるが、特開平
2-32355号公報などに示されるように含弗素樹脂層を用
いることもできる。本発明の好ましいシリコーンゴムと
しては線状、あるいはある程度架橋したポリオルガノシ
ロキサンが好ましい。
As the ink repellent layer used in the present invention, a silicone rubber layer is mainly used, but a fluorine-containing resin layer can also be used as shown in JP-A-2-32355. As the preferred silicone rubber of the present invention, linear or crosslinked polyorganosiloxane is preferred.

【0024】該ポリオルガノシロキサンは、分子量が通
常千ないし数十万のものであり、常温では液体ないしは
ワックスまたは餅状に適度に架橋されたものである。該
ポリオルガノシロキサンは架橋の方法により縮合型と付
加型に分けられる。縮合型は縮合反応によって架橋が行
なわれるもので反応によって水、アルコール、有機酸な
どが放出される。特に有用な縮合型のシリコーンゴムと
しては、両末端あるいは主鎖の一部に水酸基、アセトキ
シ基等を有する線状ポリオルガノシロキサンとシリコー
ン架橋剤の混合物か、水酸基にシリコーン架橋剤を反応
させたものが挙げられ、いずれも縮合触媒を加えた方が
架橋速度の点で有利である。
The polyorganosiloxane has a molecular weight of usually 1,000 to several hundreds of thousands, and is appropriately crosslinked in the form of a liquid, a wax or a dough at room temperature. The polyorganosiloxane is classified into a condensation type and an addition type depending on the method of crosslinking. In the condensation type, crosslinking is performed by a condensation reaction, and water, alcohol, organic acid, etc. are released by the reaction. As a particularly useful condensation type silicone rubber, a mixture of a linear polyorganosiloxane having a hydroxyl group, an acetoxy group or the like at both ends or a part of the main chain and a silicone crosslinking agent, or a compound obtained by reacting the hydroxyl group with a silicone crosslinking agent And the addition of a condensation catalyst is advantageous in terms of crosslinking speed.

【0025】上記ポリオルガノシロキサンの主鎖は、下
記の繰り返し単位を有する。 −Si(R1)(R2)−O− 式中、R1 及びR2 は各々置換基を有していても良いア
ルキル基、アリール基、アルケニル基またはその組み合
わせであり、メチル基、フェニル基、ビニル基、トリフ
ルオロプロピル基が好ましく、特にメチル基が好まし
い。
The main chain of the polyorganosiloxane has the following repeating units. —Si (R 1 ) (R 2 ) —O— In the formula, R 1 and R 2 are each an alkyl group which may have a substituent, an aryl group, an alkenyl group or a combination thereof, a methyl group, a phenyl group. A group, a vinyl group and a trifluoropropyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.

【0026】上記シリコーン架橋剤としては、−OCO
CH3 、−O−NR3 4 、−O−N=CR3 4 、−
OR、−NR3 4 、または−OH(式中、R3 とR4
はアルキル基である)で表わされる官能基を持つ、いわ
ゆる脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミ
ノ型、脱水型などの縮合型シリコーン架橋剤が挙げられ
る。このような架橋剤の例としては、テトラアセトキシ
シラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセ
トキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチ
ルジアセトキシシラン、ジエチルジアセトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、メチルトリス(アセトンオキシム)シラン、メチ
ルトリ(N−メチル、N−アセチルアミノ)シラン、ビ
ニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン、メチル
トリ(メチルエチルケトオキシム)シランまたはそのオ
リゴマーなどを挙げることができる。
As the above silicone crosslinking agent, --OCO
CH 3, -O-NR 3 R 4, -O-N = CR 3 R 4, -
OR, -NR 3 R 4 or -OH (wherein, R 3 and R 4,
Is a condensing type silicone cross-linking agent having a functional group represented by () is a so-called deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamino type, dehydration type and the like. Examples of such a cross-linking agent include tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diethyldiacetoxysilane,
Vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, methyltris (acetoneoxime) silane, methyltri (N-methyl, N-acetylamino) silane, vinyltri (methylethylketoxime) silane, methyltri (methylethylketoxime) ) Silane or its oligomer can be mentioned.

【0027】これらの架橋剤は、いずれもポリオルガノ
シロキサン100重量部に対して0.5〜30重量部の範
囲とするのがよい。前記縮合触媒としては、有機のカル
ボン酸、チタン酸エステル、アセチルアセトン金属錯
体、塩化白金酸、ナフテン酸等があげられる。付加型と
は、本体中の不飽和基、例えばビニル基(−CH=CH
2 )に架橋剤中の水素基が付加して架橋するようなもの
を言う。
The amount of each of these crosslinking agents is preferably 0.5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of polyorganosiloxane. Examples of the condensation catalyst include organic carboxylic acids, titanic acid esters, acetylacetone metal complexes, chloroplatinic acid, naphthenic acid and the like. The addition type means an unsaturated group in the main body, for example, a vinyl group (-CH = CH
2 ) refers to the one in which the hydrogen group in the cross-linking agent is added to cross-link.

【0028】具体的にはビニル基含有オルガノポリシロ
キサン、水素化オルガノポリシロキサン等に白金系触媒
(例えば塩化白金酸)等を混合させたものが挙げられ
る。該ポリオルガノシロキサンは主鎖に前記縮合型と同
様の繰り返し単位を有する。本発明のシリコーンゴム層
には、縮合型及び付加型シリコーンゴムのいずれかある
いは両方用いる事が可能である。
Specific examples include vinyl group-containing organopolysiloxane, hydrogenated organopolysiloxane and the like mixed with a platinum catalyst (eg chloroplatinic acid). The polyorganosiloxane has a repeating unit similar to the condensation type in the main chain. In the silicone rubber layer of the present invention, it is possible to use either or both of condensation type and addition type silicone rubbers.

【0029】また1つのポリオルガノシロキサンの中に
水酸基と不飽和基等を有する縮合かつ付加型のものを使
用する事も可能である。
It is also possible to use a condensation and addition type one having a hydroxyl group and an unsaturated group in one polyorganosiloxane.

【0030】[0030]

【発明の効果】画像露光時に原画フィルムとの真空密着
に要する時間が短く、製造時、輸送時及び版取扱い時に
カバーフィルム表面が他の版の裏面と摩擦したり、製版
台の表面などにこすられてもシリカ粒子の脱落が起こら
ず、このため製版条件によって真空密着時間が変化する
ことがない。 (実施例)以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
The time required for vacuum contact with the original film during image exposure is short, and the surface of the cover film rubs against the back surface of another plate or rubs against the surface of the plate making table during manufacturing, transportation and plate handling. Even if this is done, the silica particles do not fall off, and therefore the vacuum contact time does not change depending on the plate making conditions. (Examples) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0031】[0031]

【実施例−1】 (プライマー層)通常の方法で脱脂した0.3mm厚のJI
S A 1050材アルミ板をアミノシランカップリン
グ剤であるKBM603(信越化学(株)製)1%水溶
液に浸漬した後、室温で乾燥させた。このアルミ板上に
乾燥重量で4g/m2 となるように、下記のプライマー
層を塗布し、140℃、2分間加熱し乾燥硬膜させた。
Example-1 (Primer layer) 0.3 mm thick JI degreased by a conventional method
The S A 1050 aluminum plate was dipped in a 1% aqueous solution of KBM603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is an aminosilane coupling agent, and then dried at room temperature. The following primer layer was applied onto the aluminum plate so that the dry weight was 4 g / m 2, and the film was dried and hardened by heating at 140 ° C. for 2 minutes.

【0032】 サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 10重量部 タケネートD110N(武田薬品工業(株)製) 0.5重量部 TiO2 0.1重量部 ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 0.03重量部 (株)製) プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 乳酸メチル 20重量部 (感光層)上記プライマー層を塗設したアルミ板上に、
下記組成の光重合性感光液を、乾燥重量5g/m2 とな
るように塗布し、100℃、1分乾燥した。
Sampren IB1700D (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 10 parts by weight Takenate D110N (manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd.) 0.5 parts by weight TiO 2 0.1 parts by weight Defender MCF323 (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. 0.1. 03 parts by weight Propylene glycol methyl ether acetate 50 parts by weight Methyl lactate 20 parts by weight (photosensitive layer) On an aluminum plate coated with the primer layer,
A photopolymerizable photosensitive solution having the following composition was applied so as to have a dry weight of 5 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute.

【0033】 サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 5.0重量部 A−1000(新中村化学(株)製) 0.5重量部 キシリレンジアミン1モル/グリシジルメタクリレート 4モルの付加物 1.0重量部 エチルミヒラーズケトン 0.35重量部 2,4−ジエチルチオキサントン 0.10重量部 ビクトリアピュブルーBOHのナフタレンスルホン酸塩 0.01重量部 ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 0.03重量部 (株)製) メチルエチルケトン 10重量部 プロピレングリコールメチルエーテル 25重量部 (インキ反撥層)上記光重合性乾燥層上に、下記のシリ
コーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になるよう塗布
し、140℃、2分乾燥した。
Samprene IB1700D (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 5.0 parts by weight A-1000 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by weight Addition product of 1 mol of xylylenediamine / 1 mol of glycidyl methacrylate 1. 0 parts by weight Ethyl Michler's ketone 0.35 parts by weight 2,4-diethylthioxanthone 0.10 parts by weight Victoria Plublue BOH naphthalene sulfonate 0.01 parts by weight Defender MCF323 (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. 0.03 parts by weight) Part manufactured by Methyl ethyl ketone 10 parts by weight propylene glycol methyl ether 25 parts by weight (ink repellent layer) The following silicone rubber composition liquid was applied on the photopolymerizable dry layer to a dry weight of 2 g / m 2 . It was dried at 140 ° C. for 2 minutes.

【0034】 α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 (CH3)3-Si-O-(Si(CH3)2-O)30-(SiH(CH3)-O)10-Si(CH3)3 1.2重量部 ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 抑制剤 0.3重量部 アイソパーG(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記の様にして湿し水不要感光性平版印刷版原板を作成
した。
Α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (polymerization degree: about 700) 9 parts by weight (CH 3 ) 3 -Si-O- (Si (CH 3 ) 2- O) 30- (SiH (CH 3 ) -O ) 10- Si (CH 3 ) 3 1.2 parts by weight Polydimethylsiloxane (polymerization degree of about 8,000) 0.5 parts by weight Olefin-chloroplatinic acid 0.2 parts by weight Inhibitor 0.3 parts by weight Isopar G ( 140 parts by weight of Esso Chemical Co., Ltd. A dampening water-free photosensitive lithographic printing plate precursor was prepared as described above.

【0035】コロナ放電処理を施した、厚さ9μmの2
軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPPフィルム)上に
下記の組成の樹脂液をグラビアコーターで50m/分の
塗布スピードで塗布し、70℃の乾燥ゾーンを10秒間
通過させて乾燥し、巻きとった後、40℃の貯蔵庫に2
4時間保存して、充分架橋剤を反応硬化させて、1.0g
/m2 の実質的に均一な樹脂層を設けたカバーフィルム
を作成した。
2 with a thickness of 9 μm that has been subjected to corona discharge treatment
A resin solution having the following composition was applied onto an axially oriented polypropylene film (OPP film) with a gravure coater at a coating speed of 50 m / min, passed through a drying zone of 70 ° C. for 10 seconds to dry, and after winding, 40 2 in ℃ storage
Store for 4 hours, fully cure the crosslinking agent, 1.0g
A cover film provided with a substantially uniform resin layer of / m 2 was prepared.

【0036】 バイロン200(東洋紡(株)製ポリエステル樹脂) 30重量部 ミズカシルP−78F(水沢化学工業(株)製シリカ粒子) 2.0重量部 コロネートHL(日本ポリウレタン工業(株)製無黄変 2.0重量部 イソシアネート系架橋剤) トルエン 33重量部 メチルエチルケトン 33重量部 このカバーフィルムの樹脂層を塗布していない方の面が
前記の湿し水不要感光性平版印刷版原板のシリコーンゴ
ム層に接するようにラミネートし、実施例−1の湿し水
不要感光性平版印刷版を得た。
Byron 200 (polyester resin manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 30 parts by weight Mizukasil P-78F (silica particles manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.) 2.0 parts by weight Coronate HL (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. non-yellowing) 2.0 parts by weight Isocyanate-based cross-linking agent) Toluene 33 parts by weight Methyl ethyl ketone 33 parts by weight The surface of the cover film on which the resin layer is not applied is the silicone rubber layer of the photosensitive lithographic printing plate precursor which does not require the fountain solution. The layers were laminated so as to be in contact with each other to obtain a photosensitive lithographic printing plate of Example 1 which did not require fountain solution.

【0037】この版を670mm×560mmに裁断し、6
00mm×500mmのポジ画像を有するフィルム原稿を密
着し、大日本スクリーン製造(株)製水平型真空焼き付
け機TYPE P−802Gを用いて70カウントの密
着露光を行った。この時、真空密着に要した時間は16
秒間であった。次にこのプレートのカバーフィルムの表
面全体を布で拭いた後、再度、先ほどと同様な方法で真
空密着を行った。その結果真空密着に要した時間は16
秒間で、変化はなかった。
This plate was cut into 670 mm × 560 mm, and 6
A film original having a positive image of 00 mm × 500 mm was brought into close contact, and a contact exposure of 70 counts was performed using a horizontal vacuum printing machine TYPE P-802G manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. At this time, the time required for vacuum adhesion is 16
It was for a second. Next, after the entire surface of the cover film of this plate was wiped with a cloth, vacuum adhesion was performed again by the same method as above. As a result, the time required for vacuum adhesion is 16
There was no change in seconds.

【0038】露光後のプレートのカバーフィルムを剥離
した後、ジエチレングリコール20%水溶液の40℃の
液にプレートを1分間浸漬した後、水中で現像パッドに
よりこすって、未露光部のシリコーンゴム層を除去し
た。引き続き、下記組成の染色液にて染色し、画質を評
価したところ、ぼけのない良好な画像が再現されてい
た。 (染色液) クリスタルバイオレット 0.1重量部 ジエチレングリコール 15重量部 純水 85重量部
After peeling off the cover film of the plate after exposure, the plate was immersed in a 20% aqueous solution of diethylene glycol at 40 ° C. for 1 minute and then rubbed with a developing pad in water to remove the silicone rubber layer in the unexposed area. did. Subsequently, when dyeing with a dyeing solution having the following composition and evaluating the image quality, a good image without blur was reproduced. (Staining solution) Crystal violet 0.1 part by weight Diethylene glycol 15 parts by weight Pure water 85 parts by weight

【0039】[0039]

【比較例−1】実施例−1で用いたOPPフィルム上に
下記の組成の樹脂液をグラビアコーターを用いて実施例
−1と同方法で塗布、乾燥し、比較例−1のカバーフィ
ルムを作成した。 バイロン200(東洋紡(株)製ポリエステル樹脂) 30重量部 ミズカシルP−78F(水沢化学工業(株)製シリカ粒子) 2.0重量部 トルエン 34重量部 メチルエチルケトン 34重量部 比較例−1のカバーフィルムを実施例−1で作成した湿
し水不要感光性平版印刷版のシリコーンゴム層の表面に
ラミネートして比較例−1の湿し水不要感光性平版印刷
版を得た。
[Comparative Example-1] A resin solution having the following composition was applied onto the OPP film used in Example-1 in the same manner as in Example-1 using a gravure coater and dried to obtain a cover film of Comparative Example-1. Created. Byron 200 (Toyobo Co., Ltd. polyester resin) 30 parts by weight Mizukasil P-78F (Mizusawa Chemical Co., Ltd. silica particles) 2.0 parts by weight Toluene 34 parts by weight Methyl ethyl ketone 34 parts by weight The cover film of Comparative Example-1 was prepared. By laminating on the surface of the silicone rubber layer of the dampening water unnecessary photosensitive lithographic printing plate prepared in Example-1, a dampening water unnecessary photosensitive lithographic printing plate of Comparative Example-1 was obtained.

【0040】比較例−1のサンプルを実施例−1のサン
プルと同サイズに裁断し、実施例−1と同じ方法で密着
露光を行った。この時、真空密着に要した時間は19秒
であった。次にこのプレートのカバーフィルムの表面全
体を布で拭いた後、再度、先ほどと同様な方法で真空密
着を行った。その結果真空密着に要した時間は25秒間
で、布で拭く前に比較すると大幅に真空密着時間が長く
なった。布で拭いた後のカバーフィルムの表面を、顕微
鏡で100倍に拡大し観察したところ、シリカ粒子が脱
落したクレーター状の穴が多数生じていた。
The sample of Comparative Example-1 was cut into the same size as the sample of Example-1, and contact exposure was carried out in the same manner as in Example-1. At this time, the time required for vacuum adhesion was 19 seconds. Next, after the entire surface of the cover film of this plate was wiped with a cloth, vacuum adhesion was performed again by the same method as above. As a result, the time required for vacuum adhesion was 25 seconds, which was significantly longer than that before the cloth was wiped with a cloth. When the surface of the cover film after being wiped with a cloth was magnified 100 times and observed with a microscope, many crater-like holes in which silica particles had fallen were formed.

【0041】[0041]

【実施例−2】コロナ放電処理を施した、厚さ6μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィル
ム)上に下記の組成の樹脂液をグラビアコーターを用い
て30m/分の塗布スピードで塗布し、70℃の乾燥ゾ
ーンを16秒間通過させて乾燥し、巻きとった後、40
℃の貯蔵庫に24時間保存して、充分架橋剤を反応硬化
させて、0.7g/m2 の実質的に均一な樹脂層を設けた
実施例−2のカバーフィルムを作成した。
Example-2 A polyethylene terephthalate film (PET film) having a thickness of 6 μm and subjected to corona discharge treatment was coated with a resin solution having the following composition at a coating speed of 30 m / min using a gravure coater, and then at 70 ° C. After passing through the drying zone for 16 seconds to dry and wind,
The cover film of Example-2 provided with a substantially uniform resin layer of 0.7 g / m 2 was prepared by storing in a storage cabinet at 24 ° C for 24 hours and sufficiently curing the crosslinking agent.

【0042】 クリスボン4010(HV)(大日本インキ化学(株)製熱硬化性 60重量部 ポリウレタン樹脂:50%溶液) ミズカシルP−78E(水沢化学工業(株)製シリカ粒子) 2.0重量部 クリスボンNX(大日本インキ化学(株)製ポリイソシア 6.0重量部 ネート架橋剤) トルエン 19.2重量部 メチルエチルケトン 12.8重量部 実施例−2のカバーフィルムを実施例−1で作成した湿
し水不要感光性平版印刷版のシリコーンゴム層の表面に
ラミネートして実施例−2の湿し水不要感光性平版印刷
版を得た。
Crisbon 4010 (HV) (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., thermosetting 60 parts by weight Polyurethane resin: 50% solution) Mizukasil P-78E (silica particles, manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) 2.0 parts by weight Crisbon NX (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., 6.0 parts by weight polyisocyanate nate cross-linking agent) toluene 19.2 parts by weight methyl ethyl ketone 12.8 parts by weight The cover film of Example-2 was dampened as prepared in Example-1. A waterless photosensitive lithographic printing plate was laminated on the surface of the silicone rubber layer of the waterless photosensitive lithographic printing plate to obtain a dampening water-free photosensitive lithographic printing plate of Example-2.

【0043】実施例−2のサンプルを実施例−1のサン
プルと同サイズに裁断し、実施例−1と同じ方法で密着
露光を行った。この時、真空密着に要した時間は17秒
間であった。この印刷版を実施例−1と同様に現像処理
を行い、画質を評価したところぼけのない良好な画像が
再現されていた。
The sample of Example-2 was cut into the same size as the sample of Example-1, and contact exposure was carried out by the same method as in Example-1. At this time, the time required for vacuum adhesion was 17 seconds. This printing plate was subjected to a developing treatment in the same manner as in Example-1, and the image quality was evaluated. As a result, a good image without blur was reproduced.

【0044】次にこのプレートのカバーフィルムの表面
全体を布で拭いた後、再度、先ほどと同様な方法で真空
密着を行った。その結果真空密着に要した時間は17秒
間で、変化はなかった。
Next, after the entire surface of the cover film of this plate was wiped with a cloth, vacuum adhesion was performed again by the same method as above. As a result, the time required for vacuum adhesion was 17 seconds, and there was no change.

【0045】[0045]

【実施例−3】コロナ放電処理を施した、厚さ9μmの
2軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPPフィルム)上
に下記の組成の樹脂液をグラビアコーターで50m/分
の塗布スピードで塗布し、70℃の乾燥ゾーンを10秒
間通過させて乾燥し、巻きとった後、40℃の貯蔵庫に
48時間保存して、充分架橋剤を反応硬化させて、1.0
g/m2 の実質的に均一な樹脂層を設けたカバーフィル
ムを作成した。
Example-3 A biaxially stretched polypropylene film (OPP film) having a thickness of 9 μm and subjected to corona discharge treatment was coated with a resin solution having the following composition by a gravure coater at a coating speed of 50 m / min, and then at 70 ° C. After passing through the drying zone for 10 seconds to dry, and after winding, store in a storage at 40 ° C for 48 hours to sufficiently cure the cross-linking agent to 1.0.
A cover film provided with a substantially uniform resin layer of g / m 2 was prepared.

【0046】 バイロン200(東洋紡(株)製ポリエステル樹脂) 30重量部 ミズカシルP−78F(水沢化学工業(株)製シリカ粒子) 2.0重量部 エピコート807(油化シェルエポキシ(株)製エポキシ系 2.0重量部 架橋剤 エポキシ当量170) トルエン 33重量部 メチルエチルケトン 33重量部 実施例−3のカバーフィルムを実施例−1で作成した湿
し水不要感光性平版印刷版のシリコーンゴム層の表面に
ラミネートして実施例−3の湿し水不要感光性平版印刷
版を得た。
Byron 200 (polyester resin manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 30 parts by weight Mizukasil P-78F (silica particles manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.) 2.0 parts by weight Epicoat 807 (epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 2.0 parts by weight Crosslinking agent Epoxy equivalent 170) Toluene 33 parts by weight Methylethylketone 33 parts by weight The cover film of Example-3 was applied to the surface of the silicone rubber layer of the fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate prepared in Example-1. Lamination was carried out to obtain a photosensitive lithographic printing plate of Example-3 which did not require fountain solution.

【0047】実施例−3のサンプルを実施例−1のサン
プルと同サイズに裁断し、実施例−1と同じ方法で密着
露光を行った。この時、真空密着に要した時間は16秒
間であった。この印刷版を実施例−1と同様に現像処理
を行い、画質を評価したところぼけのない良好な画像が
再現されていた。
The sample of Example-3 was cut into the same size as the sample of Example-1, and contact exposure was carried out by the same method as in Example-1. At this time, the time required for vacuum adhesion was 16 seconds. This printing plate was subjected to a developing treatment in the same manner as in Example-1, and the image quality was evaluated. As a result, a good image without blur was reproduced.

【0048】次にこのプレートのカバーフィルムの表面
全体を布で拭いた後、再度、先ほどと同様な方法で真空
密着を行った。その結果真空密着に要した時間は16秒
間で、変化はなかった。
Next, after the entire surface of the cover film of this plate was wiped with a cloth, vacuum adhesion was performed again by the same method as above. As a result, the time required for vacuum adhesion was 16 seconds, and there was no change.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年10月30日[Submission date] October 30, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0033[Correction target item name] 0033

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0033】 サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 5.0重量 部 A−1000(新中村化学(株)製) 0.5重 量部 キシリレンジアミン1モル/グリシジルメタクリレート 4モルの付加物 1.0重量部 エチルミヒラーズケトン 0.35重量 部 2,4−ジエチルチオキサントン 0.10重 量部 ビクトリアピュブル−BOHのナフタレンスルホン酸塩 0.01 重量部 ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 0.0 3重量部 (株)製) メチルエチルケトン 10重量部 プロピレングリコールメチルエーテル 25重量部 (インキ反撥層)上記光重合性感光層上に、下記のシリ
コーンゴム組成液を乾燥重量2g/mになるよう塗布
し、140℃、2分乾燥した。
Samprene IB1700D (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 5.0 parts by weight A-1000 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by weight Adduct of 1 mol of xylylenediamine / 1 mol of glycidyl methacrylate 1 0.0 parts by weight Ethyl Michler's ketone 0.35 parts by weight 2,4-diethylthioxanthone 0.10 parts by weight Victoria Puble-BOH naphthalene sulfonate 0.01 parts by weight Defender MCF323 (Dainippon Ink and Chemicals Inc. 0 0.0 3 parts by weight Methyl ethyl ketone 10 parts by weight Propylene glycol methyl ether 25 parts by weight (ink repellent layer) The following silicone rubber composition liquid is dried on the photopolymerizable photosensitive layer to a dry weight of 2 g / m 2 . And then dried at 140 ° C. for 2 minutes.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0038[Correction target item name] 0038

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0038】露出後のプレートのカバーフィルムを剥離
した後、ジエチレングリコールモノエチルエーテル20
%水溶液の40℃の液にプレートを1分間浸漬した後、
水中で現像パッドによりこすって、未露出部のシリコー
ンゴム層を除去した。引き続き、下記組成の染色液にて
染色し、画質を評価したところ、ぼけのない良好な画像
が再現されていた。 (染色液) クリス夕ルバイオレット 0.1重量 部 ジエチレングリコールモノエチルエーテル 15重量部 純水 85重量部
After peeling off the cover film of the exposed plate, diethylene glycol monoethyl ether 20
After immersing the plate in a 40% aqueous solution of 40% for 1 minute,
The unexposed portion of the silicone rubber layer was removed by rubbing with a developing pad in water. Subsequently, when dyeing with a dyeing solution having the following composition and evaluating the image quality, a good image without blur was reproduced. (Staining solution) Chris violet 0.1 part by weight Diethylene glycol monoethyl ether 15 parts by weight Pure water 85 parts by weight

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に感光性樹脂層、インキ反発層
および表面に凹凸を有するカバーフィルムを積層してな
る湿し水不要感光性平版印刷版において、該カバーフィ
ルム表面の凹凸が、シリカ粒子および架橋剤を含む、皮
膜形成性の樹脂溶液をカバーフィルム上に塗布、乾燥
し、架橋硬化させたものであることを特徴とする湿し水
不要感光性平版印刷版。
1. A photosensitive lithographic printing plate that does not require fountain solution, which comprises a photosensitive resin layer, an ink repellent layer, and a cover film having irregularities on the surface of a support, and the irregularities on the surface of the cover film are silica. A photosensitive lithographic printing plate not requiring a fountain solution, which is obtained by applying a film-forming resin solution containing particles and a cross-linking agent onto a cover film, drying, and cross-linking and curing.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5555343A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Waterless lithographic printing original plate
JPS5825635A (en) * 1981-08-10 1983-02-15 Toray Ind Inc Lithographic original plate requiring no dampening water

Patent Citations (2)

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JPS5555343A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Waterless lithographic printing original plate
JPS5825635A (en) * 1981-08-10 1983-02-15 Toray Ind Inc Lithographic original plate requiring no dampening water

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