JPH0498147A - Double refraction measuring device - Google Patents

Double refraction measuring device

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JPH0498147A
JPH0498147A JP2216652A JP21665290A JPH0498147A JP H0498147 A JPH0498147 A JP H0498147A JP 2216652 A JP2216652 A JP 2216652A JP 21665290 A JP21665290 A JP 21665290A JP H0498147 A JPH0498147 A JP H0498147A
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JP
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substrate
light
phase shifter
measuring device
phase
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Application number
JP2216652A
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Japanese (ja)
Inventor
Jun Iwasaki
純 岩崎
Yasushi Oki
裕史 大木
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To eliminate need for a mechanism, for mechanically and accurately moving a phase compensating plate, by using a method in which a phase difference between pieces of polarization, transmitted a double refractional specimen and mutually orthogonal is measured, and the phase difference is electrically canceled with a phase shifter using an electro-optic effect. CONSTITUTION:Incident light from a semiconductor laser 1 to a light wave-guide passage 4 is made e.g. a TE mode. Applied voltage to the electrodes of a mode converter 3 and a phase shifter 5 is adjusted with a polarization control means in a base 2 so that a laser beam 7 incident to a specimen 8 can be made circularly polarized light. A phase difference between TE and TM modes produced by the double refraction of the specimen 8 is adjusted so that output current from a photodiode 16 can be made zero. The adjustment is made by making feedback to each applied voltage of the phase shifter 5 or a phase shifter 11. Because the relation between applied voltage to the phase shifter and a phase shift quantity is known, reversely a phase difference produced with the specimen 8, that is a double refraction quantity, can be learnt from the value of the applied voltage of the phase shifter as a result of adjusting so as to make output current from the diode 16 zero.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、透明材料の複屈折あるいは膜厚を測定する、
複屈折測定装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to measuring the birefringence or film thickness of a transparent material.
This invention relates to a birefringence measuring device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のこの種の装置は、次の様な構成であった。 A conventional device of this type had the following configuration.

試料の前にポラライザ、試料の後にアナライザを配置し
、ポラライザ及びアナライザの偏光の方位か互いに直交
する、いわゆるクロス二フルの状態で測定を行なう。試
料に複屈折か無い場合にはアナライザを透過する光量は
セロであるが、試料に複屈折かある場合には試料透過後
の光は一般的には楕円偏光となるため、光の一部がアナ
ライザを透過する。該複屈折を測定するには、該配置の
ポラライザとアナライザとの間で試料と前後して、バビ
ネソレイユ板(Babjnet−3oleil com
pensatar)等のような任意の位相差を与えるこ
とのできる位相補償板を配置するが、例えば該位相補償
板が試料とポラライザの間にあるときはポラライザの偏
光の方位と45°の角度に設定し、試料で生じた位相差
をキャンセルするべくアナライザを透過する光量かセロ
になるように該位相補償板を調節する。
A polarizer is placed in front of the sample, and an analyzer is placed after the sample, and measurements are performed in a so-called cross-direction state in which the polarization directions of the polarizer and analyzer are perpendicular to each other. If the sample has birefringence or no birefringence, the amount of light that passes through the analyzer is zero, but if the sample has birefringence, the light after passing through the sample is generally elliptically polarized, so some of the light is Transmit through the analyzer. To measure the birefringence, a Babinet-Soleil plate (Babjnet-3oleil com
For example, when the phase compensation plate is placed between the sample and the polarizer, it is set at an angle of 45° with the direction of polarization of the polarizer. Then, the phase compensation plate is adjusted so that the amount of light transmitted through the analyzer is zero in order to cancel the phase difference generated in the sample.

そして、該位相補償板の移動量を読み取れば、試料で生
じた複屈折による位相差を求めることができる。
Then, by reading the amount of movement of the phase compensation plate, the phase difference due to birefringence generated in the sample can be determined.

〔発明か解決しようとする課題〕[Invention or problem to be solved]

しかしなから上記の技術においては、バビネソレイユ板
等の位相補償板を使うことになり、該位相補償板は機械
的に精密に調節する機構か必要であるため、測定装置の
構成か複雑で、装置全体が高価なものとなり、又、機械
的な調節に時間を要するため測定の時間か長くなるとい
う問題点かあ・った。
However, in the above technique, a phase compensation plate such as a Babinet Soleil plate is used, and the phase compensation plate requires a mechanism to precisely adjust it mechanically, so the configuration of the measuring device is complicated. The entire device is expensive, and mechanical adjustment requires time, which increases the measurement time.

本発明はこれらの問題点に鑑みてなされたちのて、位相
補償板に相当する装置に機械的な調節機構かないため、
構成か簡単で、装置全体が安価に製作可能であり、さら
に測定時間の大幅な短縮か可能となる、新規な複屈折測
定装置を提供することを目的とする。
The present invention was made in view of these problems, and since the device corresponding to the phase compensation plate does not have a mechanical adjustment mechanism,
It is an object of the present invention to provide a new birefringence measurement device that has a simple configuration, can be manufactured at low cost as a whole, and can significantly shorten measurement time.

〔課題を解決する為の手段〕[Means to solve problems]

上記目的のために本発明では、ポラライザの代わりに導
波路及び導波光の偏光状態を電気光学効果を用いて制御
する偏光制御手段を含む第1の基板と、アナライザの代
わりに光導波路及び導波光の偏光状態を電気光学効果を
用いて制御する偏光制御手段及び異なる偏光を分離する
偏光分離手段を含む第2の基板と、第1の光導波路4か
ら出射したレーザ光7を試料8に投光するための投光手
段6と、試料を通過したレーザ光7を第2の光導波路1
2の入射端面に集束させるための集束手段9とて構成し
たことを特徴とする、複屈折測定装置によって、試料の
複屈折を測定する。
For the above purpose, the present invention includes a first substrate including a waveguide instead of a polarizer and a polarization control means for controlling the polarization state of guided light using an electro-optic effect, and an optical waveguide and a guided light instead of an analyzer. A second substrate including a polarization control means for controlling the polarization state of the light using an electro-optic effect and a polarization separation means for separating different polarized lights, and a laser beam 7 emitted from the first optical waveguide 4 is projected onto a sample 8. and a light projecting means 6 for transmitting the laser beam 7 that has passed through the sample to the second optical waveguide 1.
The birefringence of the sample is measured by a birefringence measuring device characterized by comprising a focusing means 9 for focusing the light onto the incident end face of the sample.

〔作用〕[Effect]

本発明においては、第1の基板及び第2の基板に含まれ
る電気光学効果を用いた偏光制御手段及び位相ソフタを
用いて、複屈折を有する試料を透過した互いに直交する
偏光間の位相差を電気的にキャンセルてきるため、従来
のように位相補償板を機械的に精密に移動させる機構は
全く不要にな〔実施例〕 第1図は本発明の第1の実施例で、2及び10はリチウ
ムナイオベート(L+Nb0s)或いはリチウムタンタ
レート(LiTa03)等の電気光学効果を存する誘電
体結晶から成る夫々第1の基板及び第2の基板、4及び
12は不純物拡散或いはイオン交換等の公知の方法によ
り形成された夫々第1の光導波路及び第2の光導波路、
3及びI3は夫々電気光学効果を用いた第1のモードコ
ンバータ及び第2のモードコンバータ、5及び11は夫
々電気光学効果を用いた第1の位相シフタ及び第2の位
相シフタである。
In the present invention, the phase difference between mutually orthogonal polarized lights transmitted through a sample having birefringence is reduced by using a polarization control means using an electro-optic effect and a phase softer included in the first substrate and the second substrate. Since it is electrically canceled, there is no need for a mechanism for precisely moving the phase compensation plate mechanically as in the past. [Embodiment] Figure 1 shows the first embodiment of the present invention. 4 and 12 are a first substrate and a second substrate respectively made of dielectric crystals having an electro-optic effect such as lithium niobate (L+Nb0s) or lithium tantalate (LiTa03), and 4 and 12 are made of known methods such as impurity diffusion or ion exchange a first optical waveguide and a second optical waveguide, respectively formed by the method;
3 and I3 are a first mode converter and a second mode converter using an electro-optic effect, respectively, and 5 and 11 are a first phase shifter and a second phase shifter using an electro-optic effect, respectively.

第1のモードコンバータ3と第1の位相シフタ5の組合
せか第1の基板2における偏光制御手段であり、第2の
位相シフタ11と第2のモードコンバータ13の組合せ
か第2の基板10における偏光制御手段である。第1の
モードコンバータ3、第1の位相シフタ5、第2の位相
ソフタ11及び第2のモードコンバータ13の夫々の斜
線部は、電極を示している。この電極構成には基板方位
或いは光の伝播方向に依存して種々の構成か公知であり
、ここてはXカットY伝播の例を示している。第1の基
板2における偏光制御手段の夫々の電極への印加電圧を
調整することにより、第1の光導波路4からの出射光の
偏光状態を任意に調整できる。同様に、第2の基板IO
における偏光制御手段の夫々の電極への印加電圧を調整
することにより、集束手段9から第2の光導波路12へ
入射した光の偏光状態を任意に調整できる。第1のモー
ドコンバータ3、第1の位相シフタ5、第2の位相シフ
タ11及び第2のモートコンバータ13の夫々の駆動回
路の部分は省略しである。14は互いに異なる偏光(T
IEモートとTMモート)を分離するためのモードスプ
リッタであり、ダブルモート領域とY分岐15により構
成されている。1は半導体レーザである。
The combination of the first mode converter 3 and the first phase shifter 5 is the polarization control means in the first substrate 2, and the combination of the second phase shifter 11 and the second mode converter 13 is the polarization control means in the second substrate 10. This is polarization control means. The hatched portions of each of the first mode converter 3, first phase shifter 5, second phase softer 11, and second mode converter 13 indicate electrodes. Various configurations are known for this electrode configuration depending on the substrate orientation or the propagation direction of light, and an example of X-cut Y propagation is shown here. By adjusting the voltage applied to each electrode of the polarization control means on the first substrate 2, the polarization state of the light emitted from the first optical waveguide 4 can be arbitrarily adjusted. Similarly, the second board IO
By adjusting the voltage applied to each electrode of the polarization control means in , the polarization state of the light incident on the second optical waveguide 12 from the focusing means 9 can be arbitrarily adjusted. The respective drive circuit portions of the first mode converter 3, first phase shifter 5, second phase shifter 11, and second motor converter 13 are omitted. 14 are different polarized lights (T
This is a mode splitter for separating IE mote and TM mote, and is composed of a double mote area and a Y branch 15. 1 is a semiconductor laser.

勿論半導体レーザに限らずガスレーザなとても良いが、
半導体レーザか望ましい。16及び17は夫々導波光の
強度を検出するための第1のフォトダイオ−1く及び第
2のフォI・ダイオードである。勿論光の強度を検出す
るための光検出器であればフ才l・マルチプライヤなど
の光検出管てもよいが、フォI・ダイオードか望ましい
。6は第1の光導波路4から出射したレーザ光7を試料
8に投光するための投光手段で、たとえば日本板硝子社
製のセルフォックレンズ等か用いられて平行光束のレザ
光7か作られる。9は試料を通過したレーザ光7を第2
の光導波路12の入射端面に集束させるための集束手段
でやはり前述のセルフォックレンズ等が用いられる。
Of course, not only semiconductor lasers but also gas lasers are very good.
Semiconductor laser is preferred. Reference numerals 16 and 17 are a first photodiode and a second photodiode for detecting the intensity of guided light, respectively. Of course, as long as the photodetector is for detecting the intensity of light, a photodetector tube such as a multiplier or the like may be used, but it is preferable to use a photodiode. Reference numeral 6 denotes a light projecting means for projecting the laser light 7 emitted from the first optical waveguide 4 onto the sample 8. For example, a selfoc lens manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. is used to create the parallel light beam 7. It will be done. 9 is a second laser beam 7 that has passed through the sample.
As a focusing means for focusing the light onto the incident end face of the optical waveguide 12, the above-mentioned Selfoc lens or the like is used.

第1図を用いて本発明による複屈折率測定の原理を説明
する。半導体レーザIから第1の光導波路4への入射光
を例えばTEモードとする。第1の基板2における偏光
制御手段は、例えばここでは試料8へ入射するレーザ光
7が円偏光になるように第1のモードコンバータ3と第
1の位相シフタ5の夫々の電極への印加電圧が調整され
ているものとする。そして、第2の基板IOにおける偏
光制御手段は、例えばここでは第2の光導波路12に円
偏光か入射した時にモードスプリッタ14に入射する光
がTBモードとなるように第2の位相シフタ11と第2
のモードコンバータ13の夫々の電極への印加電圧が調
整されているものとする。モードスプリッタ14は、例
えばTEモードをY分岐15の一方の光導波路18へ、
TMモードをY分岐I5の他方の光導波路19へ分離す
る。試料8かない場合には第2の光導波路12への入射
光は円偏光であり、この時モードスプリッタ14への入
射光はTEモードとなり導波光はすべて例えば一方の光
導波路18へ分岐される。従って、第2のフォトダイオ
ード17からは出力電流か得られるか第1のフォトダイ
オード16からの出力電流は七〇である。試料8に複屈
折かある場合には第2の導波路12への入射光は一般的
には楕円偏光となり、TE、 Th1両モードの位相差
は90°にはならない。従ってモードスプリッタ14へ
の入射光にはTE、 TM両酸成分含まれることになり
第1のフォトダイオード16の出力はゼロとはならない
The principle of birefringence measurement according to the present invention will be explained using FIG. The incident light from the semiconductor laser I to the first optical waveguide 4 is assumed to be in TE mode, for example. The polarization control means in the first substrate 2 includes, for example, applying voltages to the respective electrodes of the first mode converter 3 and the first phase shifter 5 so that the laser beam 7 incident on the sample 8 becomes circularly polarized light. is adjusted. The polarization control means in the second substrate IO includes, for example, a second phase shifter 11 so that when circularly polarized light is incident on the second optical waveguide 12, the light incident on the mode splitter 14 becomes the TB mode. Second
It is assumed that the voltage applied to each electrode of the mode converter 13 is adjusted. The mode splitter 14 transmits, for example, the TE mode to one optical waveguide 18 of the Y branch 15.
The TM mode is separated into the other optical waveguide 19 of the Y branch I5. When the sample 8 is not present, the light incident on the second optical waveguide 12 is circularly polarized light, and at this time, the light incident on the mode splitter 14 becomes the TE mode, and all the guided light is branched to, for example, one optical waveguide 18. Therefore, the output current from the first photodiode 16 is 70. If the sample 8 has birefringence, the light incident on the second waveguide 12 will generally be elliptically polarized light, and the phase difference between the TE and Th1 modes will not be 90°. Therefore, the light incident on the mode splitter 14 contains both TE and TM acid components, and the output of the first photodiode 16 does not become zero.

このとき、試料8の複屈折により生じるTEモード、T
Mモード間の位相差を、第1のフォトダイオード16か
らの出力電流かセロになるように調整することがてきる
が、それは、第1の位相シフタ5或いは第2の位相シフ
タ11の夫々の印加電圧にフィードバックして行なわれ
る。そして、位相ンフタへの印加電圧と位相シフト量の
関係は既知であるため、逆に前記のフォトダイオード1
6からの出力電流かセロになるように調節した結果の位
相シフタの印加電圧の値から試料8により生じた位相差
、すなわちこうして複屈折量を知ることかできる。
At this time, the TE mode caused by the birefringence of sample 8, T
The phase difference between the M modes can be adjusted so that the output current from the first photodiode 16 is zero, but this is done by adjusting the phase difference between the first phase shifter 5 and the second phase shifter 11, respectively. This is done by feeding back to the applied voltage. Since the relationship between the voltage applied to the phase shifter and the amount of phase shift is known, conversely, the relationship between the voltage applied to the phase shifter and the amount of phase shift is
The phase difference generated by the sample 8, that is, the amount of birefringence can be determined from the value of the voltage applied to the phase shifter as a result of adjusting the output current from the sample 6 to zero.

第2図は本発明の第2の実施例で、第1図と同符号は同
効物を表す。第1の基板2及び第2の基板IOの材料と
してガリウム砒素(GaAs)やインジウム燐(InP
)等の化合物半導体を用いることにより、半導体レーザ
lや第1のフすトダイオート16及び第2のフォトダイ
オード17を基板上にモノリシックに集積化できている
。3a及び13aは夫々電気光学効果を用いた第1のモ
ートコンバータ及び第2のモードコンバータ、5a及び
Ilaは夫々電気光学効果を用いた第1の位相シフタ及
び第2の位相シフタである。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention, in which the same symbols as in FIG. 1 represent the same effects. The materials for the first substrate 2 and the second substrate IO include gallium arsenide (GaAs) and indium phosphide (InP).
By using a compound semiconductor such as ), the semiconductor laser l, the first photodiode 16, and the second photodiode 17 can be monolithically integrated on the substrate. 3a and 13a are a first moat converter and a second mode converter using an electro-optic effect, respectively, and 5a and Ila are a first phase shifter and a second phase shifter using an electro-optic effect, respectively.

第1のモードコンバータ3a、第1の位相シフタ5a、
第2の位相ンフタlla或いは第2のモードコンバータ
13aの夫々の斜線部は電極を示しており、夫々の電極
構成には基板方位或いは光の伝播方向に依存して種々の
構成が公知であり、これらは、例えばガリウム砒素(G
aAs)の基板方位が<100>で伝播方向か<110
>方向である場合に対応した構造をしており、これらの
構造は第1実施例の作用と同様な作用をする。第2の実
施例における複屈折測定の原理は、第1の実施例におけ
るそれと同様である。
first mode converter 3a, first phase shifter 5a,
The hatched portions of the second phase shifter 11a or the second mode converter 13a indicate electrodes, and various configurations are known for each electrode configuration depending on the substrate orientation or the propagation direction of light. These are, for example, gallium arsenide (G
aAs) substrate orientation is <100> and propagation direction is <110>
> direction, and these structures operate in the same way as the first embodiment. The principle of birefringence measurement in the second embodiment is similar to that in the first embodiment.

尚Z第1の実施例及び第2の実施例において、第1の基
板2あるいは第2の基板IOのいずれかに位相シフタを
1つ付加すれば、試料により生ずる位相シフトをキャン
セルできる位相シフト量キャンセル専用の位相シフタと
して用いることが可能である。
In the first and second embodiments, if one phase shifter is added to either the first substrate 2 or the second substrate IO, the amount of phase shift that can cancel the phase shift caused by the sample can be increased. It can be used as a phase shifter exclusively for cancellation.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の様に本発明によれば、複屈折を有する試料を透過
した互いに直交する偏光間の位相差を測定し、試料で生
じた位相差を電気光学効果を用いた位相シフタにより電
気的にキャンセルする方法を用いているため、従来の様
に゛位相補償板を機械的に精密に移動させる機構は全く
不要となる。
As described above, according to the present invention, the phase difference between mutually orthogonal polarized lights transmitted through a sample having birefringence is measured, and the phase difference generated in the sample is electrically canceled by a phase shifter using an electro-optic effect. Since this method is used, there is no need for a mechanism for precisely moving the phase compensation plate mechanically as in the past.

従って、測定装置の構成が極めて簡単になり、装置全体
か安価に製作可能となる。さらに位相シックの駆動を電
気的に行なっているため、測定時間が大幅に短縮てきる
。更に本発明では装置全体を光集積回路を用いて構成し
ているため、従来の装置と較べて極めて小型・軽量とな
るためインライン計測にも応用可能となる。更に光集積
回路はバッチプロセスにより製作できるので、極めて安
価な複屈折測定装置か実現できる。
Therefore, the configuration of the measuring device becomes extremely simple, and the entire device can be manufactured at low cost. Furthermore, since the phase chic is driven electrically, the measurement time can be significantly shortened. Furthermore, in the present invention, since the entire device is constructed using an optical integrated circuit, it is extremely small and lightweight compared to conventional devices, and thus can be applied to in-line measurement. Furthermore, since the optical integrated circuit can be manufactured by a batch process, an extremely inexpensive birefringence measuring device can be realized.

特に、第1の基板2及び第2の基板10にリチウムナイ
オベー) (LiNbO3)或いはりチウムタンタレー
ト(LiTa03)等の大きな電気光学効果を有する誘
電体結晶を使う場合は、光集積回路自体か更に小型、軽
量になり、製作も容易である。
In particular, when using a dielectric crystal with a large electro-optic effect such as lithium niobe (LiNbO3) or lithium tantalate (LiTa03) for the first substrate 2 and the second substrate 10, the optical integrated circuit itself Furthermore, it is smaller, lighter, and easier to manufacture.

特に、第1め基板2及び第2の基板IOにガリウム砒素
(Ga’As)やインジウム燐(InP)等の化合物半
導体を使う場合は、第1の基板2上に半導体レーザIを
、第2の基板IO上に第1のフォトダイオード16及び
第2のフォトダイオード17をモノリシックに形成する
ことか可能であるため、半導体レーザ及びフォトダイオ
ードの基板への接続時の位置合わせか全く不要になり、
装置全体か安価に製作できる。
In particular, when a compound semiconductor such as gallium arsenide (Ga'As) or indium phosphide (InP) is used for the first substrate 2 and the second substrate IO, the semiconductor laser I is placed on the first substrate 2, Since it is possible to monolithically form the first photodiode 16 and the second photodiode 17 on the substrate IO, there is no need for alignment at all when connecting the semiconductor laser and the photodiode to the substrate.
The entire device can be manufactured at low cost.

特に、偏光制御手段がモードコンバータ3及び位相シフ
タ5から構成されているので、構成か簡単であり、又、
製作が容易である。
In particular, since the polarization control means is composed of the mode converter 3 and the phase shifter 5, the structure is simple, and
Easy to manufacture.

特に、第1の基板2或いは第2の基板10のいずれかに
、偏光制御手段とは別に独立の電気光学効果を用いた位
相シフタを備えていれば、位相シフト量キャンスル専用
の位相シフタとして用いることができ、測定値の校正が
容易になる。
In particular, if either the first substrate 2 or the second substrate 10 is provided with a phase shifter that uses an independent electro-optic effect in addition to the polarization control means, it can be used as a phase shifter exclusively for canceling the phase shift amount. This makes it easier to calibrate measured values.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明による装置の第1の実施例の平面図、
第2図は、本発明による装置の第2の実施例の平面図で
ある。 〔主要部分の符号の説明〕 ■は半導体レーザ、2及び10は夫々第1の基板及び第
2の基板、4及び12は夫々第1の光導波路及び第2の
光導波路、3及び13は夫々第1のモードコンバータ及
び第2のモードコンバータ、5及び11は夫々第1の位
相シフタ及び第2の位相シフタ、6は投光手段、7はレ
ーザ光、9は集束手段、14はモードスプリッタ、16
及び17は夫々第1のフォトダイオード及び第2のフォ
トダイオードである。
FIG. 1 is a plan view of a first embodiment of the device according to the invention;
FIG. 2 is a plan view of a second embodiment of the device according to the invention. [Explanation of symbols of main parts] 2 is a semiconductor laser, 2 and 10 are a first substrate and a second substrate, respectively, 4 and 12 are a first optical waveguide and a second optical waveguide, respectively, 3 and 13 are respectively A first mode converter and a second mode converter, 5 and 11 a first phase shifter and a second phase shifter, respectively, 6 a light projection means, 7 a laser beam, 9 a focusing means, 14 a mode splitter, 16
and 17 are a first photodiode and a second photodiode, respectively.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)レーザと、該レーザより発光されたレーザ光を伝
播させる光導波路・導波光の偏光状態を電気光学効果を
用いて制御する偏光制御手段を含む第1の基板と、該光
導波路からの出射光を試料に投光する投光手段と、該投
光手段により投光され試料を透過したレーザ光を集束さ
せる集束手段と、該集束手段により集束されたレーザ光
を伝播させる光導波路・導波光の偏光状態を電気光学効
果を用いて制御する偏光制御手段・導波する異なる偏光
を分離する偏光分離手段を含む第2の基板と、該第2の
基板に含まれる光導波路を伝播するレーザ光の強度を検
出する光検出器とを備えている事を特徴とする複屈折測
定装置。
(1) A first substrate including a laser, an optical waveguide for propagating the laser light emitted from the laser, and a polarization control means for controlling the polarization state of the guided light using an electro-optic effect; A light projection means for projecting the emitted light onto the sample, a focusing means for focusing the laser light projected by the light projection means and transmitted through the sample, and an optical waveguide/guide for propagating the laser light focused by the focusing means. A second substrate including polarization control means for controlling the polarization state of wave light using an electro-optic effect and polarization separation means for separating guided different polarized lights, and a laser that propagates through an optical waveguide included in the second substrate. A birefringence measuring device characterized by comprising a photodetector that detects the intensity of light.
(2)第1の基板及び第2の基板はリチウムナイオベー
ト(LiNbO_3)或いはリチウムタンタレート(L
iTaO_3)等の電気光学効果を有する誘電体結晶で
あることを特徴とする請求項第1項に記載の複屈折測定
装置。
(2) The first substrate and the second substrate are lithium niobate (LiNbO_3) or lithium tantalate (L
2. The birefringence measurement device according to claim 1, wherein the birefringence measuring device is a dielectric crystal having an electro-optic effect such as iTaO_3).
(3)第1の基板及び第2の基板はガリウム砒素(Ga
As)やインジウム燐(InP)等の化合物半導体であ
ることを特徴とする請求項第1項に記載の複屈折測定装
置。
(3) The first substrate and the second substrate are made of gallium arsenide (Ga
2. The birefringence measuring device according to claim 1, wherein the birefringence measuring device is a compound semiconductor such as As) or indium phosphide (InP).
(4)半導体レーザ1が第1の基板上にモノリシックに
集積化されたことを特徴とする請求項第1項及び第3項
に記載の複屈折測定装置。
(4) The birefringence measuring device according to claim 1 or 3, wherein the semiconductor laser 1 is monolithically integrated on the first substrate.
(5)光検出器が第2の基板上にモノリシックに集積化
されたことを特徴とする請求項第1項及び第3項に記載
の複屈折測定装置。
(5) The birefringence measuring device according to any one of claims 1 and 3, wherein the photodetector is monolithically integrated on the second substrate.
(6)偏光制御手段がモードコンバータ及び位相シフタ
から構成されていることを特徴とする請求項第1項から
請求項第5項に記載の複屈折測定装置。
(6) The birefringence measuring device according to any one of claims 1 to 5, wherein the polarization control means includes a mode converter and a phase shifter.
(7)第1の基板或いは第2の基板が、偏光制御手段と
は別に独立の電気光学効果を用いた位相シフタを備えて
いることを特徴とする請求項第1項から請求項第6項に
記載の複屈折測定装置。
(7) Claims 1 to 6, characterized in that the first substrate or the second substrate is provided with a phase shifter using an independent electro-optic effect, separate from the polarization control means. The birefringence measuring device described in .
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