JPH04933U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH04933U JPH04933U JP4011190U JP4011190U JPH04933U JP H04933 U JPH04933 U JP H04933U JP 4011190 U JP4011190 U JP 4011190U JP 4011190 U JP4011190 U JP 4011190U JP H04933 U JPH04933 U JP H04933U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- pipe
- valve
- gas supply
- gas introduction
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第1図は、本考案による実施例の一例を示す図
、第2図は、本考案による実施例の別の一例を示
す図、第3図は、従来の実施例を示す図である。 1……ガス供給源、2……ガス供給用配管、3
……弁、4……冷却手段、5……ガス導入用配管
、6……容器、7……ヒータ、8……排気用配管
、9……排気手段。
、第2図は、本考案による実施例の別の一例を示
す図、第3図は、従来の実施例を示す図である。 1……ガス供給源、2……ガス供給用配管、3
……弁、4……冷却手段、5……ガス導入用配管
、6……容器、7……ヒータ、8……排気用配管
、9……排気手段。
Claims (1)
- 容器と、前記容器に装着されたヒータと、前記
容器に排気用配管を介して接続された排気手段と
、前記容器に、ガス導入用配管と弁とガス供給用
配管とを介して接続されたガス供給源と、からな
る真空装置において、前記ガス導入用配管と弁と
のいずれか一方または両方に冷却手段を備えたこ
とを特徴とした真空装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4011190U JPH04933U (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4011190U JPH04933U (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04933U true JPH04933U (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=31549616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4011190U Pending JPH04933U (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04933U (ja) |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP4011190U patent/JPH04933U/ja active Pending