JPH047888Y2 - - Google Patents
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- JPH047888Y2 JPH047888Y2 JP1985135775U JP13577585U JPH047888Y2 JP H047888 Y2 JPH047888 Y2 JP H047888Y2 JP 1985135775 U JP1985135775 U JP 1985135775U JP 13577585 U JP13577585 U JP 13577585U JP H047888 Y2 JPH047888 Y2 JP H047888Y2
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- Japan
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- reference plate
- head shaft
- seal case
- alignment bearing
- seal
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Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は、半導体ウエハなどのワークの片面を
研摩する平面研摩装置において、ワークの保持に
用いられる研摩用ヘツドの改良に関するものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an improvement of a polishing head used to hold a workpiece in a flat surface polishing apparatus for polishing one side of a workpiece such as a semiconductor wafer.
[従来の技術]
例えば、ワークの片面を研摩するポリツシング
マシンやラツピングマシンなどの平面研摩装置に
おいては、従来より第2図に示すような研摩用ヘ
ツドが使用されていた。これは、プシユロツド1
に連結されるヘツド軸2に調芯軸受3を介してレ
フアレンスプレート4を回転且つ揺動自在に取付
け、該レフアレンスプレート4の下面にワーク保
持ブロツク5の取付面6を形成すると共に、該取
付面の背後に水冷室7を区画形成し、該水冷室7
にヘツド軸2内部の流路8,9を通じて冷却水を
循環的に供給しながら、上記保持ブロツク5に張
付けられたワーク10を定盤11に押付けて研摩
するものである。[Prior Art] For example, a polishing head as shown in FIG. 2 has been conventionally used in a flat surface polishing apparatus such as a polishing machine or a wrapping machine that polishes one side of a workpiece. This is pushrod 1
A reference plate 4 is rotatably and swingably attached to a head shaft 2 connected to a head shaft 2 via an alignment bearing 3, and a mounting surface 6 for a work holding block 5 is formed on the lower surface of the reference plate 4. A water cooling chamber 7 is defined behind the mounting surface, and the water cooling chamber 7 is divided into sections.
While cooling water is supplied cyclically through channels 8 and 9 inside the head shaft 2, the workpiece 10 attached to the holding block 5 is pressed against the surface plate 11 and polished.
しかしながら、上記従来の研摩用ヘツドにおい
ては、ヘツド軸2の先端部分とレフアレンスプレ
ート4との間に特殊構造のシール部材12を介在
させ、このシール部材によつて水冷室7と調芯軸
受3との間を液密に区画すると共に、レフアレン
スプレート4が調芯軸受3を支点として揺動運動
する際の変位を吸収させるようにしていたため、
該シール部材12にレフアレンスプレート4の変
位に伴う非常に大きな偏荷重が作用し、その摩耗
や破損が生じてシール不能に陥り易いという欠点
があつた。 However, in the conventional polishing head described above, a specially constructed seal member 12 is interposed between the tip of the head shaft 2 and the reference plate 4, and this seal member allows the water cooling chamber 7 and the alignment bearing 3 to be connected to each other. In addition to providing a liquid-tight partition between the
There is a drawback that a very large unbalanced load is applied to the sealing member 12 due to the displacement of the reference plate 4, causing wear and tear on the sealing member 12 and making sealing impossible.
[考案が解決しようとする問題点]
本考案の課題は、レフアレンスプレートの揺動
に伴う偏荷重がシール部材に直接作用しないよう
に構成することにより、シール部材の摩耗防止と
簡単な構造のシール部材の使用とを可能にした研
摩用ヘツドを提供することにある。[Problems to be solved by the invention] The problems of the invention are to prevent wear of the seal member and to simplify the structure by configuring the seal member so that the unbalanced load caused by the swinging of the reference plate does not directly act on the seal member. An object of the present invention is to provide a polishing head that allows the use of a sealing member.
[問題点を解決するための手段]
上記課題を解決するため、本考案においては、
ワークの保持ブロツクを取付けるための取付面と
冷却用の水冷室とを備えたレフアレンスプレート
を、調芯軸受を介してヘツド軸に回転且つ揺動自
在に取付け、該レフアレンスプレートの内部に形
成された空間部において、上記ヘツド軸に、水冷
室と調芯軸受との間に位置するシールケースをベ
アリング及びシール部材を介して回転自在に取付
け、該シールケースとレフアレンスプレートとを
相対的な揺動は可能であるが相対的な回転は規制
された状態に連結すると共に、それらの間にダイ
ヤフラムを張設したことを特徴とするものであ
る。[Means for solving the problems] In order to solve the above problems, in the present invention,
A reference plate equipped with a mounting surface for attaching a workpiece holding block and a water cooling chamber for cooling is rotatably and swingably attached to the head shaft via an alignment bearing, and is formed inside the reference plate. In this space, a seal case located between the water cooling chamber and the alignment bearing is rotatably attached to the head shaft via a bearing and a seal member, and the seal case and the reference plate are connected relative to each other. It is characterized in that they are connected so that they can swing but their relative rotation is restricted, and that a diaphragm is stretched between them.
[作用]
レフアレンスプレートの取付面にワーク保持ブ
ロツクを取付け、水冷室に冷却水を供給しなが
ら、上記保持ブロツクに張付けたワークを定盤に
押付けて研摩する。[Operation] A workpiece holding block is attached to the mounting surface of the reference plate, and while cooling water is supplied to the water cooling chamber, the workpiece attached to the holding block is pressed against the surface plate and polished.
このとき、水冷室内の冷却水は、シールケース
とヘツド軸との間のシール部材、及びシールケー
スとレフアレンスプレートとの間にダイヤフラム
によりシールされ、調芯軸受側へ漏出することが
ない。 At this time, the cooling water in the water cooling chamber is sealed by the seal member between the seal case and the head shaft and by the diaphragm between the seal case and the reference plate, and does not leak to the alignment bearing side.
また、レフアレンスプレートが調芯軸受を中心
にして揺動運動しても、その変位は上記ダイヤフ
ラムによつて吸収され、シールケースに伝達され
ることがない。従つて、上記レフアレンスプレー
トの変位に伴う偏荷重がシールケースを介して上
記シール部材に伝わることはなく、これによつて
該シール部材の摩耗や破損等が防止される。 Further, even if the reference plate swings about the alignment bearing, the displacement is absorbed by the diaphragm and is not transmitted to the seal case. Therefore, the unbalanced load caused by the displacement of the reference plate is not transmitted to the seal member via the seal case, thereby preventing wear and damage of the seal member.
[実施例]
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明すると、第1図において、20は研摩装置の
プツシユロツド(図示せず)に連結されるヘツド
軸、21は該ヘツド軸20に調芯軸受22を介し
て回転且つ揺動自在に付けられたレフアレンスプ
レートを示している。[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. In FIG. 1, 20 is a head shaft connected to a push rod (not shown) of a polishing device, and 21 is the head shaft 20. 2 shows a reference plate rotatably and swingably attached via an alignment bearing 22.
上記ヘツド軸20は、その側面に冷却水の入口
23及び出口24を有すると共に、その内部にこ
れらの入口及び出口に通じる供給流路25及び排
出流路26を有し、供給流路25はヘツド軸20
の下端面に、排出流路26は同下端部側面にそれ
ぞれ開口している。 The head shaft 20 has a cooling water inlet 23 and an outlet 24 on its side, and has a supply passage 25 and a discharge passage 26 inside thereof communicating with these inlets and outlets, and the supply passage 25 is connected to the head. axis 20
The discharge passages 26 are opened at the lower end side of the lower end.
一方、上記レフアレンスプレート21は、上記
調芯軸受22の取付部27aを有する筒状の基部
材27と、該基部材27にOリング30を介して
ねじ31で液密に固定された笠状の先部材28
と、該先部材28の下面にOリング32を介して
ねじ33で液密に固定された円板状のボトム部材
29とからなり、該ボトム部材29の下面には、
多数のワーク35を張付けたワーク保持ブロツク
34を取付けるための取付面36が形成され、該
ボトム部材29と先部材28との間には、ワーク
35の研摩時に冷却水を流すための円環状の水冷
室37が形成されている。この水冷室37は、通
孔40を通じてヘツド軸20内の供給流路25に
連通すると共に、バツフルプレート41を挟んで
開設された別の通孔42を通じて排出流路26に
連通し、供給流路25から流入した冷却水が、バ
ツフルプレート41を迂回するように水冷室37
内を流れたあと、上記排出流路26から外部に流
出するようになつている。 On the other hand, the reference plate 21 includes a cylindrical base member 27 having a mounting portion 27a for the alignment bearing 22, and a cap-shaped base member 27 liquid-tightly fixed to the base member 27 with screws 31 via an O-ring 30. tip member 28
and a disc-shaped bottom member 29 liquid-tightly fixed to the lower surface of the tip member 28 with a screw 33 via an O-ring 32.
A mounting surface 36 is formed for mounting a work holding block 34 to which a large number of works 35 are attached, and an annular mounting surface is provided between the bottom member 29 and the tip member 28 for flowing cooling water during polishing of the works 35. A water cooling chamber 37 is formed. This water cooling chamber 37 communicates with the supply channel 25 in the head shaft 20 through a through hole 40, and also communicates with the discharge channel 26 through another through hole 42 opened with a baffle plate 41 in between. The cooling water flowing in from the channel 25 flows into the water cooling chamber 37 so as to bypass the baffle plate 41.
After flowing inside, it flows out to the outside from the discharge flow path 26.
また、上記レフアレンスプレート21の内部に
形成された空間部44においては、水冷室37と
調芯軸受22との間に位置するシールケース45
が、レフアレンスプレート21との間に若干の間
隔をおいた状態で上記ヘツド軸20にベアリング
46及びシール部材47を介して回転自在に取付
けられ、該シールケース45とレフアレンスプレ
ート21における基部材27との間には、それら
を相対的な揺動は許容するが相対的な回転は規制
した状態に連結するピン49が溝45a,27b
内に嵌装されると共に、水冷室37と調芯軸受2
2との間を遮断するダイヤフラム48が張設され
ている。 In addition, in the space 44 formed inside the reference plate 21, a seal case 45 located between the water cooling chamber 37 and the alignment bearing 22 is provided.
is rotatably attached to the head shaft 20 via a bearing 46 and a seal member 47 with a slight distance between the seal case 45 and the base member of the reference plate 21. 27, a pin 49 connects the grooves 45a and 27b in a state that allows relative rocking but restricts relative rotation.
The water cooling chamber 37 and the alignment bearing 2
A diaphragm 48 is provided to cut off the gap between the two.
なお、図中50は、調芯軸受22に潤滑剤を供
給するためのニツプル、51はヘツド軸20とレ
フアレンスプレート21との連結部を覆うカバー
である。 In the figure, 50 is a nipple for supplying lubricant to the alignment bearing 22, and 51 is a cover that covers the connecting portion between the head shaft 20 and the reference plate 21.
上記構成を有する平面研摩用ヘツドの使用時に
は、ヘツド軸20を研摩装置におけるプツシユロ
ツドに連結し、多数のワーク35を張付けた保持
ブロツク34を取付面36に適宜手段により装着
する。そして、入口23を通じて水冷室37に冷
却水を供給しながら、上記ワーク35を定盤に押
付けて研摩する。 When using the flat surface polishing head having the above configuration, the head shaft 20 is connected to a push rod in a polishing device, and the holding block 34 to which a number of works 35 are attached is attached to the mounting surface 36 by appropriate means. Then, while supplying cooling water to the water cooling chamber 37 through the inlet 23, the workpiece 35 is pressed against the surface plate and polished.
ここで、上記水冷室37に供給された冷却水
は、シールケース45とヘツド軸20との間に介
在せしめられたシール部材47、及びシールケー
ス45とプレート21との間に張設されたダイヤ
フラム48により遮断され、調芯軸受22側に漏
出することがない。 Here, the cooling water supplied to the water cooling chamber 37 is supplied to the seal member 47 interposed between the seal case 45 and the head shaft 20 and the diaphragm stretched between the seal case 45 and the plate 21. 48 to prevent leakage to the alignment bearing 22 side.
また、レフアレンスプレート21が調芯軸受2
2を中心として揺動しても、その変位はダイヤフ
ラム48によつて吸収され、シールケース45に
伝達されることはない。従つて、レフアレンスプ
レート21の揺動に伴う偏荷重がシールケース4
5を介してシール部材47に作用することがな
く、これによつてその摩耗や破損等が防止され
る。 In addition, the reference plate 21 is aligned with the alignment bearing 2.
2, the displacement is absorbed by the diaphragm 48 and is not transmitted to the seal case 45. Therefore, the uneven load caused by the swinging of the reference plate 21 is applied to the seal case 4.
5 does not act on the sealing member 47, thereby preventing its wear and damage.
[考案の効果]
このように本考案によれば、レフアレンスプレ
ートの揺動に伴う変位を該レフアレンスプレート
とシールケースとの間に張設したダイヤフラムに
よつて吸収させるようにしたので、その変位即ち
揺動に伴う偏荷重がシールケースとヘツド軸との
間のシール部材に作用するのを防ぎ、該シール部
材の摩耗及び破損を確実に防止することができ、
これによつてこのシール部材として構造が簡単で
安価な汎用のものを使用することが可能となる。[Effects of the invention] As described above, according to the invention, the displacement caused by the rocking of the reference plate is absorbed by the diaphragm stretched between the reference plate and the seal case. It is possible to prevent unbalanced loads due to displacement, that is, rocking, from acting on the seal member between the seal case and the head shaft, and to reliably prevent wear and damage of the seal member,
This makes it possible to use a general-purpose sealing member that has a simple structure and is inexpensive.
第1図は本考案の一実施例の縦断面図、第2図
は従来例の縦断面図である。
20……ヘツド軸、21……レフアレンスプレ
ート、22……調芯軸受、34……保持ブロツ
ク、35……ワーク、36……取付面、37……
水冷室、44……空間部、45……シールケー
ス、46……ベアリング、47……シール部材、
48……ダイヤフラム。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view of a conventional example. 20...Head shaft, 21...Reference plate, 22...Alignment bearing, 34...Holding block, 35...Workpiece, 36...Mounting surface, 37...
Water cooling chamber, 44...Space, 45...Seal case, 46...Bearing, 47...Seal member,
48...Diaphragm.
Claims (1)
と冷却用の水令室とを備えたレフアレンスプレー
トを、調芯軸受を介してヘツド軸に回転且つ揺動
自在に取付け、該レフアレンスプレートの内部に
形成された空間部において、上記ヘツド軸に、水
令室と調芯軸受との間に位置するシールケースを
ベアリング及びシール部材を介して回転自在に取
付け、該シールケースとレフアレンスプレートと
を相対的な揺動は可能であるが相対的な回転は規
制された状態に連結すると共に、それらの間にダ
イヤフラムを張設したことを特徴とする平面研摩
用ヘツド。 A reference plate equipped with a mounting surface for attaching a workpiece holding block and a water chamber for cooling is rotatably and swingably attached to the head shaft via an alignment bearing, and a reference plate is provided inside the reference plate. In the space formed, a seal case located between the water control chamber and the alignment bearing is rotatably attached to the head shaft via the bearing and the seal member, and the seal case and the reference plate are moved relative to each other. 1. A surface polishing head characterized in that the heads are connected in such a manner that they can be oscillated but their relative rotation is restricted, and a diaphragm is stretched between them.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985135775U JPH047888Y2 (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985135775U JPH047888Y2 (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6242953U JPS6242953U (en) | 1987-03-14 |
JPH047888Y2 true JPH047888Y2 (en) | 1992-02-28 |
Family
ID=31038281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985135775U Expired JPH047888Y2 (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH047888Y2 (en) |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP1985135775U patent/JPH047888Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6242953U (en) | 1987-03-14 |
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