JPH0477485A - 2',3'-didehydro-2'.3'-dideoxyuridine derivative and its preparation - Google Patents

2',3'-didehydro-2'.3'-dideoxyuridine derivative and its preparation

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JPH0477485A
JPH0477485A JP19109990A JP19109990A JPH0477485A JP H0477485 A JPH0477485 A JP H0477485A JP 19109990 A JP19109990 A JP 19109990A JP 19109990 A JP19109990 A JP 19109990A JP H0477485 A JPH0477485 A JP H0477485A
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JP
Japan
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compound
group
hydrogen atom
didehydro
general formula
Prior art date
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Application number
JP19109990A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Haraguchi
原口 一広
Hiromichi Tanaka
博道 田中
Sada Miyasaka
宮坂 貞
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Yamasa Shoyu KK
Original Assignee
Yamasa Shoyu KK
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound of formula I [one of R<1>, R<2> is alkyl, alkenyl, alkinyl or halogen (excluding fluorine) and the other is H; R<3> is H, silyl; R<4> is H, lower alkyl]. EXAMPLE:A synthetic intermediate for antiviral agents. USE:A 2',3'-dehydro-2',3'-didehydrouridine derivative of formula II [one of R<11>, R<21> is halogen (excluding F) and the other is H; R<31> is silyl) is subjected to an alkylation, alkenylation or alkinylation reaction and, if necessary, subjected to a desilylation reaction to prepare a compound of formula III (one of R<12>, R<22> is alkyl, alkenyl or alkinyl and the other is H).

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は2′位または3′位に置換基としてアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基もしくはハロゲン原子(
ただし、フッ素を除く)を有する2’ 、3’ −ジデ
ヒドロ−2’ 、3’ −ジデオキシウリジン誘導体(
以下1本発明化合物ということもある)およびその製造
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention provides an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a halogen atom (
However, 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivatives (excluding fluorine)
(hereinafter also referred to as the compound of the present invention) and its production method.

上記置換基がハロゲン原子である場合1本発明化合物は
、抗ウィルス剤(抗レトロウィルス刑など)としての用
途が知られている2′、3″−ジデオキシウリジン誘導
体の合成中間体として有用である。
When the above substituent is a halogen atom, the compound of the present invention is useful as a synthetic intermediate for 2',3''-dideoxyuridine derivatives, which are known to be used as antiviral agents (antiretroviral drugs, etc.) .

また、上記置換基がアルキル基、アルケニル基またはア
ルキニル基である本発明化合物は抗ウィルス剤として有
用である。
Further, the compounds of the present invention in which the above-mentioned substituent is an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group are useful as antiviral agents.

[従来の技術および発明が解決しようとする課題]従来
、2′−ブロモ−2’ 、3’ −ジデヒドロ−2’ 
、3’ −ジデオキシシチジンが合成されており、この
化合物は2’ 、3’ −ジデオキシシチジンの合成中
間体として有用であることが知られている(特開昭64
−3194号公報)。
[Prior art and problems to be solved by the invention] Conventionally, 2'-bromo-2', 3'-didehydro-2'
, 3'-dideoxycytidine has been synthesized, and this compound is known to be useful as a synthetic intermediate for 2', 3'-dideoxycytidine (Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-1991).
-3194 publication).

また、2’ 、3’ −ジデヒドロ−2″、3′ジデオ
キシ−2″−フルオロヌクレオシド(特開平1−100
190号公報)、2’、3’−ジデヒドロ−2′、3”
−ジデオキシ−2′−〇−メシルー3−ベンジルウリジ
ン(J、Org、Chem、 。
In addition, 2',3'-didehydro-2'', 3'dideoxy-2''-fluoronucleoside (JP-A-1-100
190), 2',3'-didehydro-2',3''
-dideoxy-2'-〇-mesyl-3-benzyluridine (J, Org, Chem.

38.598 (1973))+ 2’−アジド−5′
−〇−ベンゾイルー2′3′−ジデヒドロ−2′3′−
ジデオキシウリジン(J、Org、Chem、、 41
 +3148 (1976))なども合成さハている。
38.598 (1973)) + 2'-Azide-5'
-〇-benzoyl-2'3'-didehydro-2'3'-
Dideoxyuridine (J, Org, Chem, 41
+3148 (1976)) are also synthesized.

近年、2’ 、3’ −ジデヒドロ−2’ 、3’ジデ
オキシピリミジンヌクレオシト類が、抗レトロウィルス
剤として有用であることが見出され(特開昭63−10
7924号、特開昭63−146822号、特開昭63
−215632号公報)、その各種誘導体の出現が待望
されている。
In recent years, it has been discovered that 2',3'-didehydro-2',3'dideoxypyrimidine nucleosites are useful as antiretroviral agents (Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-10
No. 7924, JP-A-63-146822, JP-A-63
-215632), and the emergence of various derivatives thereof is eagerly awaited.

しかしながら、前述の特定の誘導体以外に2′位または
3′位に置換基を有する化合物は知られていない。
However, other than the above-mentioned specific derivatives, no compound having a substituent at the 2' or 3' position is known.

本発明の課題は、抗ウィルス活性をはしめ種々の活性が
期待されている2’ 、3’ −ジデヒドロ−2’ 、
3’ −ジデオキシピリミジンヌクレオシド類の2′位
または3′位に置換基を有する有用な新規H導体を提供
することにある。
The object of the present invention is to use 2',3'-didehydro-2', which has antiviral activity and is expected to have various activities.
The object of the present invention is to provide a useful new H conductor having a substituent at the 2' or 3' position of a 3'-dideoxypyrimidine nucleoside.

[課題を解決するための手段] 本発明は、下記一般式[1] [式中、R1およびR2のいずれか一方は、アルキル基
、アルケニル基、アルキニル基またはハロゲン原子(た
だし、フッ素を除く)を、他方は水素原子を示し、R3
は水素原子またはシリル基を示し、R4は水素原子また
は低級アルキル基を示す。
[Means for Solving the Problems] The present invention is based on the following general formula [1] [wherein either R1 and R2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a halogen atom (excluding fluorine)] , the other represents a hydrogen atom, and R3
represents a hydrogen atom or a silyl group, and R4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.

コで表わされる2′  3′−ジデヒドロ−2′3′−
ジデオキシウリジン誘導体を提供するものである。
2'3'-didehydro-2'3'- represented by
The present invention provides dideoxyuridine derivatives.

また、本発明は、一般式[+]においで、R1およびR
2のいずれか一方がハロゲン原子で、R3がシリル基で
ある下記一般式Cm3 [式中、R”およびR”のいずれが一方はハロゲン原子
(ただし、フッ素を除く)を、他方は水素原子を示し、
Roはシリル基を示し、R4は水素原子または低級アル
キル基を示す、コで表ゎさ九る2’ 、3’ −ジデヒ
ドロ−2’ 、3’ −ジデオキシウリジン誘導体を提
供するものである。
Further, the present invention provides that in the general formula [+], R1 and R
The following general formula Cm3 in which either one of 2 is a halogen atom and R3 is a silyl group [In the formula, one of R'' and R'' is a halogen atom (excluding fluorine) and the other is a hydrogen atom show,
The present invention provides a 2', 3'-didehydro-2', 3'-dideoxyuridine derivative represented by the following formula, in which Ro represents a silyl group and R4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.

また、本発明は、一般式[11において、R1およびR
2のいずれが一方がアルキル基、アルケニル基またはア
ルキニル基である下記一般式[IV][式中、R”およ
びR”はいずれが一方はアルキル基、アルケニル基また
はアルキニル基を、他方は水素原子を示し、R3は水素
原子またはシリル基を示し、R4は水素原子または低級
アルキル基を示す。]で表わされる2’ 、3’ −ジ
デヒドロ−2’ 、3’ −ジデオキシウリジン誘導体
を提供するものである。
Further, the present invention provides a method for formula [11], in which R1 and R
2, one of which is an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group according to the following general formula [IV] [wherein R" and R" are one of which is an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, and the other is a hydrogen atom , R3 represents a hydrogen atom or a silyl group, and R4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivatives are provided.

さらに、本発明は、上記一般式[111]で表わされる
化合物をアルキル化、アルケニル化もしくはアルキニル
化反応に付し、必要に応じて脱シリル化反応に付すこと
を特徴とする上記一般式[rV]で表わされる2’ 、
3’ −ジデヒドロ−2’   3’−ジデオキシウリ
ジン誘導体の製造法を提供するものである。
Furthermore, the present invention provides a compound represented by the general formula [rV ] 2',
A method for producing a 3'-didehydro-2'3'-dideoxyuridine derivative is provided.

さらにまた、本発明は、下記一般式[II]上記一般弐
N]において、R1およびR2のいずれか一方がアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基またはハロゲン原子
(ただし、フッ素を除く)で、他方が水素原子であると
は具体的には下記一般式[1’:Iまたは[1” :]
の2種の一般式が包含されることを意味する。
Furthermore, in the following general formula [II] above General 2N], one of R1 and R2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a halogen atom (excluding fluorine), and the other is Specifically, a hydrogen atom has the following general formula [1':I or [1'':]
This means that two types of general formulas are included.

[式中、R”およびR21のいずれが一方はハロゲン原
子(ただし、フッ素を除く)を、他方は水素原子を示し
、R11がハロゲン原子であるとき、R5は水素原子を
、R6は5eR7(Seはセレン原子、R7はアリール
基をそれぞれ示す。)を示し、R21がハロゲン原子で
あるとき、RSは5eR7を、RCは水素原子を示し、
R31はシリル基を示し、R4は水素原子または低級ア
ルキル基を示す。]で表わされる化合物に過酸化物を作
用させることを特徴とする上記一般式[m]で表わされ
る2″3′−ジデヒドロ−2’ 、3’ −ジデオキシ
ウリジン誘導体の製造法を提供するものである。
[In the formula, one of R'' and R21 represents a halogen atom (excluding fluorine) and the other represents a hydrogen atom, and when R11 is a halogen atom, R5 represents a hydrogen atom, and R6 represents 5eR7 (Se represents a selenium atom, R7 represents an aryl group, respectively.), when R21 is a halogen atom, RS represents 5eR7, RC represents a hydrogen atom,
R31 represents a silyl group, and R4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] Provides a method for producing a 2″3′-didehydro-2′,3′-dideoxyuridine derivative represented by the above general formula [m], which comprises reacting a compound represented by the formula [m] with a peroxide. be.

一般式[11において、R1またはR2で表わされる水
素原子以外の置換基を具体的に例示すれば以下のとおり
である。
In general formula [11], specific examples of substituents other than hydrogen atoms represented by R1 or R2 are as follows.

[1]一般式[1]においてR1またはR2で表わされ
る置換基がハロゲン原子である場合(−般式[m]にお
けるR”またはR”に相当する) 具体例:臭素、ヨウ素、塩素 [2コ一般式[1]においてR1またはR2で表わされ
る置換基がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基で
ある場合(一般式[Ih’ ]におけるR”またはR”
に相当する) (1)アルキル基 戻素数 1〜10程度のアルキル基が好ましい。ここで
アルキル基とはアラルキル基も含むものとする。
[1] When the substituent represented by R1 or R2 in general formula [1] is a halogen atom (corresponds to R" or R" in -general formula [m]) Specific examples: bromine, iodine, chlorine [2 When the substituent represented by R1 or R2 in general formula [1] is an alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group (R" or R" in general formula [Ih']
(corresponds to) (1) Alkyl group return prime number An alkyl group having about 1 to 10 is preferable. Here, the alkyl group includes an aralkyl group.

具体例:メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、 tert−ブチル、ペンチル、イ
ンペンチル、 麿−5ss#JFI1.オクチル、ノニル、デシル、ベ
ンジル、フェネチル、ニ トロベンジルなど (2)アルケニル基 戻素数 2〜10程度の1−アルケニル基、2−アルケ
ニル基、3−アルケニル基など。
Specific examples: methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, impentyl, Maro-5ss#JFI1. Octyl, nonyl, decyl, benzyl, phenethyl, nitrobenzyl, etc. (2) Alkenyl group return prime number: 1-alkenyl group, 2-alkenyl group, 3-alkenyl group, etc. of about 2 to 10.

特に1−アルケニル基が好ましい、ここで、アルケニル
基とは末端に芳香族炭化水素を有するものも含むものと
する。
A 1-alkenyl group is particularly preferred, and the alkenyl group includes those having an aromatic hydrocarbon at the end.

具体例:エチニル(ビニル)、1−プロペニル、2−プ
ロペニル(アリル)、1 −ブテニル、1−ペンテニル、1− へキセニル、シンナミルなど (3)アルキニル基 炭凛数 2〜10程度の1−アルキニル基、2−アルキ
ニル基、3−アルキニル基など。
Specific examples: ethynyl (vinyl), 1-propenyl, 2-propenyl (allyl), 1-butenyl, 1-pentenyl, 1-hexenyl, cinnamyl, etc. (3) Alkynyl group 1-alkynyl having a carbon number of about 2 to 10 group, 2-alkynyl group, 3-alkynyl group, etc.

特に1−アルキニル基が好ましい。ここで、アルキニル
基とは末端にシリル基または芳香族炭化水素を有するも
のも含むものとする。
Particularly preferred is a 1-alkynyl group. Here, the alkynyl group includes those having a silyl group or aromatic hydrocarbon at the end.

なお、シリル基としてはトリアルキルシリル基が好まし
い。
Note that the silyl group is preferably a trialkylsilyl group.

具体例:エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、
1−ブチニル、2−ブテ ニル、1−ペンチニル、1−ヘキシ ニル、1−へブチニル、1−オクテ ニル、l−フェニル、1−デシニル。
Specific examples: ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl,
1-butynyl, 2-butenyl, 1-pentynyl, 1-hexynyl, 1-hebutynyl, 1-octenyl, l-phenyl, 1-decynyl.

フェニルエチニル、トリルエチニル、 トリメチルシリルエチニル、tert −ブチルジメチ
ルシリルエチニル、メ チルジーtert−プチルシリルエチールなど。
Phenylethynyl, tolylethynyl, trimethylsilylethynyl, tert-butyldimethylsilylethynyl, methyl di-tert-butylsilylethyl, and the like.

また、一般式[1コ、 [II]、[■コ、[Ih’ 
]においてR3またはR”で表わされるシリル基として
は、水酸基の保護基として常用されているものが例示さ
れる。このようなシリル基としては具体的には、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル。
In addition, the general formula [1, [II], [■, [Ih'
] Examples of the silyl group represented by R3 or R'' include those commonly used as protecting groups for hydroxyl groups.Specific examples of such silyl groups include trimethylsilyl and triethylsilyl.

イソプロピルジメチルシリル、tert−ブチルジフェ
ニルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、メチル
ジーtert−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル
などが例示される。
Examples include isopropyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, methyldi-tert-butylsilyl, and triisopropylsilyl.

また、一般式[■コ、[nl、[■コ、[■コにおいて
R4で表わされる低級アルキル基としては、炭素数1〜
5程度の直鎖または分枝を有するアルキル基が例示され
る。このようなアルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、 tert−ブチル
、ペンチルなどが例示される。
In addition, in the general formula [■co, [nl, [■co, [■co], the lower alkyl group represented by R4 has 1 to 1 carbon atoms.
An alkyl group having about 5 straight or branched chains is exemplified. Such alkyl groups include methyl, ethyl,
Examples include propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, and pentyl.

また、一般式[11]においてR&またはR’がSeR
’で表わされるアリールセレニル基である場合、R7で
表わされるアリール基としてはフェニル、p−ニトロフ
ェニル、0−ニトロフェニル、トリルなどが例示される
Furthermore, in general formula [11], R& or R' is SeR
In the case of an arylselenyl group represented by ', examples of the aryl group represented by R7 include phenyl, p-nitrophenyl, 0-nitrophenyl, and tolyl.

本発明化合物の合成経路をI!略的に示せば以下のとお
りである。
I! Synthetic route of the compound of the present invention! The outline is as follows.

[第1工程コ [第21程] [第4工程コ [第3工稈] (1)リチオ化剤 [第5工程] [、へ 工程コ [式中、Aはアシル基、Mは説離基を示し、およびR7
は前記と同意義。コ [B工程] C) また、上記第1工程の原料化合物である一般式[11]
で表わされる化合物は、公知の方法によって合成するこ
とができる。たとえば、以下のA〜C工程に示す方法が
例示される。
[1st step] [21st step] [4th step] [3rd step] (1) Lithiation agent [5th step] represents a group, and R7
has the same meaning as above. C [Step B] C) Also, general formula [11] which is the raw material compound in the first step
The compound represented by can be synthesized by a known method. For example, methods shown in steps A to C below are exemplified.

[式中、R”、R’およびR7は前記と同意義コ[C工
程コ 式 [■コ 六[nコ 以下、各工程について説明する。
[In the formula, R'', R' and R7 have the same meanings as above [C step (C) formula [■C6] [n] Each step will be explained below.

見よ工呈 原料化合物[■]は糖部2′位および3′位のいずれか
一方にハロゲン原子を、他方に5eR7で表わされるア
リールセレノ基を有するβ−ハロゲノアリールセレノ体
である。この化合物をジクロロメタン、クロロホルム等
の溶媒中、化合物[1]に対して1〜1.5当量程度の
過酸化物を用いて処理し、対応するセレノキシドのシン
型脱離(Syn elimination)反応に付す
ことによッテ化合物[■]を得ることができる。使用す
る過酸化物としてはm−クロロ過安息香酸、過安息香酸
、モノ過フタル酸、過ギ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢
酸などの過有機酸が例示される。反応は、好ましくは、
アルゴンなどの不活性ガスを通気させなから0〜50℃
、好ましくは室温付近の温度条件下、1〜24時間で実
施する。反応後、必要に応じて中和、濃縮等の操作を行
い、ヌクレオシドの通常の単離精製手段(たとえば、吸
着またはイオン交換などの各種クロマトグラフィー、溶
媒抽出、再結晶などの溶解度差を利用する方法など)を
用いて化合物[1[+1を単離精製することができる。
Behold, the starting material compound [■] is a β-halogenoarylseleno compound having a halogen atom at either the 2'- or 3'-position of the sugar moiety and an arylseleno group represented by 5eR7 at the other. This compound is treated in a solvent such as dichloromethane or chloroform using about 1 to 1.5 equivalents of peroxide relative to compound [1], and subjected to a syn elimination reaction of the corresponding selenoxide. In particular, the compound [■] can be obtained. Examples of peroxides used include perorganic acids such as m-chloroperbenzoic acid, perbenzoic acid, monoperphthalic acid, performic acid, peracetic acid, and trifluoroperacetic acid. The reaction is preferably
0 to 50℃ without passing inert gas such as argon
, preferably at a temperature around room temperature for 1 to 24 hours. After the reaction, operations such as neutralization and concentration are performed as necessary, and the nucleoside is isolated and purified using conventional means of isolation and purification (e.g., various chromatography methods such as adsorption or ion exchange, solvent extraction, recrystallization, etc.) The compound [1[+1] can be isolated and purified using methods such as

なお、化合物[mlは、一般式[11において、R”お
よびR2のいずれか一方がハロゲン原子(R11,R2
1)であり、R3がシリル基(R”)である化合物であ
る。
In addition, compound [ml] is the general formula [11, where either R'' or R2 is a halogen atom (R11, R2
1), and R3 is a silyl group (R'').

第2工程 第1工程で得られた化合物[mlをパラジウム触媒の存
在下、アルキル化剤、アルケニル化剤またはアルキニル
化剤(以下、第2工程において、これらをクロスカップ
リング剤ということもある。
Second Step: The compound [ml] obtained in the first step is treated in the presence of a palladium catalyst with an alkylating agent, an alkenylating agent, or an alkynylating agent (hereinafter, in the second step, these are sometimes referred to as cross-coupling agents).

)を作用させ、クロスカップリング反応を起こさせるこ
とによって化合物[■′]を得ることができる。パラジ
ウム触媒としては、ビストリフェニルホスフィンパラジ
ウムジクロリド、ビスアセトニトリルパラジウムジクロ
リド、ビスベンゾニトリルパラジウムジクロリドなどの
2価パラジウム触媒、テトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウムなどの0価パラジウム触媒を使用すること
ができる。クロスカップリング剤としては、目的とする
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を有し、クロ
スカップリング反応に通詔使用されるものを使用すれば
よい。たとえば、アルキル化剤としてはテトラアルキル
スズ ルキル基を有する有機金属化合物を使用することができ
る。アルケニル化剤としては、アルケニルトリアルキル
スズ(たとえば、アルケニルトリブチルスズ)などの目
的とするアルケニル基を有する有機金属化合物を使用す
ることができる。アルキニル化剤としては目的とするア
ルキニル基を有するアルキンまたはHCECR’ [R
”はシリル基を示す。]で表わされる末端にシリル基を
有するアルキンを使用することができる。また、クロス
カップリング反応を促進するために銅.化合物(たとえ
ば、ヨウ化第−銅、臭化第一銅などのハロゲン化銅)を
、生成する酸をトラップするために塩基類(トリエチル
アミン、トリブチルアミン、N。
) to cause a cross-coupling reaction, the compound [■'] can be obtained. As the palladium catalyst, divalent palladium catalysts such as bistriphenylphosphine palladium dichloride, bisacetonitrile palladium dichloride, bisbenzonitrile palladium dichloride, and zero-valent palladium catalysts such as tetrakistriphenylphosphine palladium can be used. As the cross-coupling agent, those having the desired alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group and commonly used in cross-coupling reactions may be used. For example, organometallic compounds having a tetraalkyl tin sulkyl group can be used as alkylating agents. As the alkenylating agent, an organometallic compound having a desired alkenyl group such as alkenyltrialkyltin (eg, alkenyltributyltin) can be used. As the alkynylating agent, an alkyne having the desired alkynyl group or HCECR' [R
An alkyne having a silyl group at the end represented by " indicates a silyl group" can be used. Also, to promote the cross-coupling reaction, a copper compound (for example, cupric iodide, bromide, etc.) can be used. Copper halides such as cuprous) and bases (triethylamine, tributylamine, N.

N−ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、
ジエチルアニリン、ピリジンなど)を反応液中に添加し
てもよい。使用する溶媒は,化合物[1[[]を溶解す
ることができ、カップリング反応に適した溶媒であれば
特に限定されない。たとえば、アセトニトリル、N,N
−ジメチルホルムアミド(DMF) 、ジメチルスルホ
キシド(DMSO)、N,N−ジメチルアセトアミド、
テトラヒドロフラン(THF)、1.4−ジオキサンな
どの非プロトン性極性溶媒を使用することができる。
N-diisopropylethylamine, dimethylaniline,
diethylaniline, pyridine, etc.) may be added to the reaction solution. The solvent used is not particularly limited as long as it can dissolve compound [1 [[] and is suitable for the coupling reaction. For example, acetonitrile, N,N
-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), N,N-dimethylacetamide,
Aprotic polar solvents such as tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane can be used.

反応は,好ましくはアルゴンなどの不活性ガスを通気さ
せながら、化合物[m]に対して1〜6当盆程度のクロ
スカップリング剤を使用し、0〜120℃の温度条件下
、1〜48時間で完結する。
The reaction is preferably carried out at a temperature of 0 to 120°C using a cross-coupling agent of 1 to 6 equivalents per compound [m] while aerating an inert gas such as argon. It will be completed in time.

反応後、ヌクレオシドの通常の単離精製手段を用いて化
合物[IV’ ]を単単離板することができる。
After the reaction, compound [IV'] can be isolated using a conventional means for isolating and purifying nucleosides.

なお、化合物[]V’ ]は、一般式[1]において、
R1およびR2のいずれか一方がアルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基(R12, R22)であり、
R3がシリル基( R 3 1 )である化合物である
In addition, the compound []V'] is represented by the general formula [1],
Either one of R1 and R2 is an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group (R12, R22),
This is a compound in which R3 is a silyl group (R 3 1 ).

第3工程 第1工程で得られた化合物[ Ill ]をリチオ化剤
の存在下、親電子性のアルキル化剤,アルケニル化剤、
アルキニル化剤(以下、これらを親電子剤ということも
ある。)と反応させ、ハロゲン−リチウム交換反応で化
合物[+111から生成したリチオ体と親電子剤を反応
させることによって化合物[■′]を得ることができる
Third step The compound [Ill] obtained in the first step is treated with an electrophilic alkylating agent, an alkenylating agent, and an electrophilic alkylating agent in the presence of a lithiation agent.
Compound [■'] is reacted with an alkynylating agent (hereinafter sometimes referred to as electrophilic agent), and the electrophilic agent is reacted with the lithio form of compound [+111] through a halogen-lithium exchange reaction. Obtainable.

リチオ化剤としてはメチルリチウム、n−ブチルリチウ
ム、 tert〜ブチルリチウム、フェニルリチウムな
どのアルキルリチウムを使用することができる。
As the lithiation agent, alkyllithiums such as methyllithium, n-butyllithium, tert-butyllithium, and phenyllithium can be used.

親電子剤としては、目的とするアルキル基,アルケニル
基、アルキニル基を有するハロゲン化アルキル(ヨウ化
メチルなど)、ハロゲン化アルケニル、ハロゲン化アル
キニルなどを使用することができる。
As the electrophilic agent, an alkyl halide (such as methyl iodide), an alkenyl halide, an alkynyl halide, etc. having the desired alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group can be used.

反応溶媒としては,第2工程と同様の溶媒(たとえば、
THF.DMF、アセトニトリルなど)を使用すること
ができる。
As the reaction solvent, the same solvent as in the second step (for example,
THF. DMF, acetonitrile, etc.) can be used.

反応は,好ましくはアルゴンなどの不活性ガスを通気さ
せながら、化合物[mコに対して1〜5崩量程度のリチ
オ化剤および1〜6当量程度の親電子剤を存在させて低
温条件下(−78〜−50℃)で15〜6o分程度で完
結する。反応後、ヌクレオシドの通常の単離精製手段を
用いて化合物[IV’コを単離精製することができる。
The reaction is preferably carried out under low temperature conditions in the presence of about 1 to 5 equivalents of a lithiation agent and about 1 to 6 equivalents of an electrophilic agent to the compound [m] while bubbling an inert gas such as argon. It is completed in about 15 to 6 minutes at (-78 to -50°C). After the reaction, compound [IV'co] can be isolated and purified using conventional means for isolating and purifying nucleosides.

第4工程 化合物[■′〕を脱シリル化反応に付すことによって5
′位のシリル基を除去し、化合物[■’″コを得ること
ができる。脱シリル化反応はヌクレオシドの糖部水酸基
のシリル保脛基の除去に通常用いられている方法が適用
される。たとえば、好ましくはアルゴンなどの不活性ガ
スを通気させながら,適当な溶媒(たとえば、THF、
アセトニトリル、1,4−ジオキサン、DMSOなど)
中、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化水素
、ピリジン塩、フッ化アンモニウム等を用い。
4th step By subjecting the compound [■'] to a desilylation reaction, 5
By removing the silyl group at the ' position, a compound [■''' can be obtained. For the desilylation reaction, a method commonly used for removing the silyl group of the hydroxyl group of the sugar moiety of a nucleoside is applied. For example, a suitable solvent (e.g., THF,
acetonitrile, 1,4-dioxane, DMSO, etc.)
Among them, tetrabutylammonium fluoride, hydrogen fluoride, pyridine salt, ammonium fluoride, etc. are used.

室温で1〜3時間程度反応させればよい。反応後、ヌレ
オシドの通常の単離精製手段を用いて化合物〔■”コを
単離精製することができる。
The reaction may be carried out at room temperature for about 1 to 3 hours. After the reaction, the compound [■'' can be isolated and purified using a conventional means for isolating and purifying nureoside.

男」≦L楯 第4工程と同様に化合物[mコを脱シリル化反応に付す
ことによって5′位のシリル基を除去し、化合物[m′
コを得ることができる9 A工程 化合物[V]にアリールセレン化合物を作用させること
によって化合・物[VI]を得ることができる。一般式
[V]においてAで表わされるアシノー/基は3′位お
よび5′位の水酸基を保護できるものであればよく、た
とえばピバロイル基が例示される。また、Mで表わされ
る脱離基としては、メタンスルホニルオキシ基(メシル
オキシ基)、P−トルエンスルホニルオキシ基(トシル
オキシ基)などのスルホニルオキシ基が例示される。ア
リールセレン化合物としてはジフェニルジセレニドなど
のジアリールジセレニドを使用することができる。ジア
リールジセレニドは、あらかじめ無水エタノールなどの
溶媒中、水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で処理し
、化合物[V ]と反応させる。このように前処理した
アリールセレン化合物と、THFなどの適当な溶媒に溶
解した化合物[V ]を、たとえば還流条件下 12〜
48時間反応させればよい。反応後、常法によって化合
物[■コを単離精製することができる。
Similarly to the fourth step, compound [m is subjected to a desilylation reaction to remove the 5'-position silyl group, and compound [m'
9 Step A Compound [VI] can be obtained by reacting compound [V] with an arylselenium compound. The acyno/group represented by A in the general formula [V] may be any type as long as it can protect the hydroxyl groups at the 3' and 5' positions, such as a pivaloyl group. Examples of the leaving group represented by M include sulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy group (mesyloxy group) and P-toluenesulfonyloxy group (tosyloxy group). As the aryl selenium compound, diaryl diselenide such as diphenyl diselenide can be used. The diaryldiselenide is treated in advance with a reducing agent such as sodium borohydride in a solvent such as anhydrous ethanol, and then reacted with the compound [V 2 ]. The aryl selenium compound thus pretreated and the compound [V] dissolved in a suitable solvent such as THF are heated under reflux conditions for example from 12 to
It is sufficient to react for 48 hours. After the reaction, compound [■] can be isolated and purified by a conventional method.

B工程 本工程は2段階の反応で行われる。すなわち。B process This process is carried out in a two-step reaction. Namely.

化合物[V[]のAで表わされるアシル基を除去し、次
いで5′位水vi基にシリル基を導入して化合物[■]
を得ることができる。
The acyl group represented by A of compound [V[] was removed, and then a silyl group was introduced into the 5'-position water vi group to form compound [■]
can be obtained.

アシル基の除去は常法によって行うことができ。Removal of the acyl group can be carried out by conventional methods.

たとえば適当な溶媒(含水エタノール、含水メタノール
など)中、水酸化ナトリウム、アンモニアなどのアルカ
リ触媒の存在下、室温で反応させればよい。
For example, the reaction may be carried out at room temperature in a suitable solvent (such as water-containing ethanol or water-containing methanol) in the presence of an alkali catalyst such as sodium hydroxide or ammonia.

シリル基の導入は、化合物[■〕のR1で表わされるシ
リル基に対応するシリル基を有するシリル化剤を使用し
、常法によって行うことができる。
Introduction of a silyl group can be carried out by a conventional method using a silylating agent having a silyl group corresponding to the silyl group represented by R1 in compound [■].

シリル化剤としては前記例示のシリル基を有するハロゲ
ン化シリル化合物(たとえば、塩化シリル化合物)を使
用することができる。たとえば、反応は、適当な溶媒(
たとえば、ピリジン)中、室温で12〜48時間で完結
する。反応後、常法によって化合物[■コを単離精製す
ることができる。
As the silylating agent, the halogenated silyl compounds (for example, chlorinated silyl compounds) having a silyl group as exemplified above can be used. For example, the reaction may be carried out in a suitable solvent (
(e.g., pyridine) at room temperature for 12 to 48 hours. After the reaction, compound [■] can be isolated and purified by a conventional method.

C工程 化合物[■]にハロゲン化剤を作用させて2′位または
3′位の水酸基をハロゲン原子に置換することによって
化合物[nlを得ることかできる。
Step C Compound [nl] can be obtained by reacting the compound [■] with a halogenating agent to replace the hydroxyl group at the 2' or 3' position with a halogen atom.

ハロゲン化剤としては一般式[II]のR”またはR”
に対応するハロゲン原子を有するハロゲン化チオニルを
使用することができる。
As the halogenating agent, R" or R" of general formula [II]
A thionyl halide having a halogen atom corresponding to can be used.

反応は、生成する酸のトラップ剤(たとえば。The reaction produces acid trapping agents (e.g.

イミダゾールなど)を適宜添加した適当な溶媒(たとえ
ば、四塩化炭素など)中、たとえば、化合物[■〕に対
して1〜5当量程度のハロゲン化剤を用い、0と〜室温
の温度条件下で1〜5時間で完結する。反応後、常法に
よって化合物[U]を単離MFtすることができる。得
られた化合物[11]は第1工程の原料化合物として使
用することができる。
For example, using a halogenating agent of about 1 to 5 equivalents to the compound [■] in a suitable solvent (for example, carbon tetrachloride, etc.) to which a compound (such as imidazole) has been appropriately added, under temperature conditions of 0 to room temperature. It can be completed in 1 to 5 hours. After the reaction, compound [U] can be isolated MFt by a conventional method. The obtained compound [11] can be used as a raw material compound in the first step.

[実施例] 以下、本発明を参考例および実施例によって具体的に説
明する。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically explained using reference examples and examples.

参考例 1一般式[VI]においてA=ピバロイル、R
4=水素、R7=フェニルであ る化合物の合成(A工8) ジフェニルジセレニド((PhSe)z)  (1、6
1g、 5. 15mmo1)の無水エタノール(20
mQ)溶液にアルゴン気流中で水素化ホウ素ナトリウム
(八!aB)1.)   (389,8mg、  10
. 30mmo1)  を加えて撹拌し、反応液の色が
黄色から無色に変わったのちに2’ 、5’ −ジピバ
ロイル−3′−メタンスルホニルオキシウリジン(一般
式[V]:A=ピバロイル、M=メタンスルホニルオキ
シ。
Reference example 1 In general formula [VI], A=pivaloyl, R
Synthesis of a compound where 4=hydrogen and R7=phenyl (A-technique 8) Diphenyl diselenide ((PhSe)z) (1, 6
1g, 5. 15 mmol of absolute ethanol (20
Sodium borohydride (8!aB) 1. mQ) solution in a stream of argon. ) (389.8mg, 10
.. After stirring, the color of the reaction solution changed from yellow to colorless, 2',5'-dipivaloyl-3'-methanesulfonyloxyuridine (general formula [V]: A=pivaloyl, M=methane) was added and stirred. Sulfonyloxy.

R’=H)のTHF (20d)溶液を加え、48時間
還流した。反応液を10%酢酸/メタノールで中和した
のち、シリカゲルカラム(16X2an)に付し、1%
エタノール/クロロホルムで溶比しテ目的化合物(2,
05g、収率SX、2%)を得た。
A solution of R'=H) in THF (20d) was added and refluxed for 48 hours. After neutralizing the reaction solution with 10% acetic acid/methanol, it was applied to a silica gel column (16X2an) and 1%
The target compound (2,
05g, yield SX, 2%) was obtained.

”H−NMR(cDcia) δppm:1.16゜1
.27 (18H,それぞれs、pivaloyl−t
Bu) 。
"H-NMR (cDcia) δppm: 1.16°1
.. 27 (18H, respectively s, pivaloyl-t
Bu).

3. 90  (IH,pseud−t、H−3’  
)、4.52(2H,m、H−5’  )、4. 65
  (1B、m。
3. 90 (IH, pseudo-t, H-3'
), 4.52 (2H, m, H-5'), 4. 65
(1B, m.

H−4’  )、5. 38  (IH,d d、H−
5)。
H-4'), 5. 38 (IH, d d, H-
5).

5、  93   (IH,d+  J、’、 2’=
4.  9Hz、   H−1’)、7.31−7.3
4  (3H,m、arom)。
5, 93 (IH, d+ J,', 2'=
4. 9Hz, H-1'), 7.31-7.3
4 (3H, m, arom).

7.51−7.68 (3H,dおよびm、H−6およ
びarom) 、 8 、46 (I H,br−s、
 NH)MS  (m/z)  :11.2  (B+
1)、  237(M−B −Pivalic aci
d  X 2)、552  (M)”参考例 2一般式
[■]においてR””tert −ブチルジフェニルシ
リル、R’=水 素、R’=フェニルである化合物の 合成(B工程) 参考例1で得た化合物(535,・7■、0.97mm
o1)にQ、5N水酸化ナトリウム/ニタノールー水(
9,OmQ)を加え、室温下24時間撹拌した。IN塩
酸溶液で中和後、シリカゲルカラム(9,5X1.3C
D)に付し、5%エタノール/クロロホルムで溶出した
6溶出液を減E下留去し。
7.51-7.68 (3H, d and m, H-6 and arom), 8, 46 (I H, br-s,
NH)MS (m/z): 11.2 (B+
1), 237 (M-B-Pivalic aci
d The obtained compound (535,・7■, 0.97mm
o1) to Q, 5N sodium hydroxide/nitanol-water (
9, OmQ) was added and stirred at room temperature for 24 hours. After neutralizing with IN hydrochloric acid solution, silica gel column (9,5X1.3C
D), and the 6 eluate eluted with 5% ethanol/chloroform was distilled off under reduced E.

残留物をピリジン(3,OmQ)に溶かし、te r 
’L−ブチルジフェニルシリルクロリド(T B D 
PS C1)(0,63mn、2 、42mmo1) 
k加え、室温下24時間撹拌した。反応液を減圧下留去
後、クロロホルムに溶かし、シリカゲルカラム(16X
2cxn)に付し、2.5%エタノール/クロロホルム
で溶出して目的化合物(576,2■、収率95.6%
)を得た。
The residue was dissolved in pyridine (3, OmQ) and ter
'L-Butyldiphenylsilyl chloride (T B D
PS C1) (0,63mn, 2,42mmo1)
and stirred at room temperature for 24 hours. After evaporating the reaction solution under reduced pressure, it was dissolved in chloroform and applied to a silica gel column (16X
2cxn) and eluted with 2.5% ethanol/chloroform to obtain the target compound (576.2cm, yield 95.6%).
) was obtained.

”H−NMR(CDCI、+D 20)   δ Pp
m  二 1.]](9H,s 、 TBDPS−tB
u) 、 3.81 (IH。
"H-NMR (CDCI, +D 20) δ Pp
m two 1. ]](9H,s, TBDPS-tB
u), 3.81 (IH.

pseud−t、 H−3’ ) 、 4.04  (
2H,d d d 。
pseudo-t, H-3'), 4.04 (
2H, d d d.

H−5’ )、4.44 (IH,dd、H−2’ )
H-5'), 4.44 (IH, dd, H-2')
.

4.62 (IH,m、H−4’ )、 5.40 (
IH,d、H−5)、5.69 (IH,d、J、’、
2=3.67Hz、’H−1’ )、7.23−7.2
4(2H,m、−5ePh)、7.39−7.51 (
9H。
4.62 (IH, m, H-4'), 5.40 (
IH, d, H-5), 5.69 (IH, d, J,',
2=3.67Hz, 'H-1'), 7.23-7.2
4 (2H, m, -5ePh), 7.39-7.51 (
9H.

m 、 TBDPS−aromおよび−5ePh) 、
 7.66−7.75 (5H,mおよびd 、 TB
DPS−aromおよびH−6) MS (yn/z):112 (B+1)、565(M
−tBu)−622(M)’ 参考例 3一般式[11]においてR11=臭素、R2
1=水素、R31= tert−ブチルジフェニルシリ
ル、R4==水素、R5 水素、R’=フェニルセレニルであ る化合物(A)およびR゛==水 素21=臭素、R31=ter−ブチルジフェニルシリ
ル、R’=水素、RS ==フェニルセレニル、R’=
水素であ る化合物(B)の合成(C工程) 参考例2で得た化合物(576,2mg、0.84mm
o1)およびイミダゾール(171、6y、、 2.5
0mmo1)の四塩化炭素(ccl、)(2,0mff
)溶液にアルゴン気流中、0℃で臭化チオニル(SOB
rz )を加え、3時間撹拌後、室温に戻し、1時間撹
拌した。反応液を飽和重曹水(sat 、NaHCO3
)−クロロホルムで分配(3回)後、クロロホルム層を
無水硫酸ナトリウム(Na2S04)で乾燥し、減圧上
留去した。残留物をシリカゲルカラム(10X2σ)に
付し、ヘキサン−酢酸エチル(3:1)で溶出して目的
化合物(A)および(B)の混合物(135,6■、収
率72.4%)を得たMS (m/ z)  : 62
6.628 (M −tFlu)”実施例 1一般式[
mlにおいてR1゛=臭索、R”=水i、R”=ter
t−ブチルジフェニルシリル、R4=水素である 化合物(C)およびR1゛=水素、R 21=臭素、R”=tert−ブチルジフェニルシリル
、R4=水素である化 合物(D)の合成(第1工程) 参考例3で得た化合物(A)および(B)の混合物(1
35,6■、0.20mmo1)のジクロロメタン(3
,OmQ)溶液にアルゴン気流中でm −クロロ過安息
香酸(mCPBA)(44,9K。
m, TBDPS-arom and -5ePh),
7.66-7.75 (5H, m and d, TB
DPS-arom and H-6) MS (yn/z): 112 (B+1), 565 (M
-tBu)-622(M)' Reference Example 3 In general formula [11], R11=bromine, R2
1 = hydrogen, R31 = tert-butyldiphenylsilyl, R4 = = hydrogen, R5 hydrogen, R' = phenylselenyl compound (A) and R' = = hydrogen 21 = bromine, R31 = tert-butyldiphenylsilyl, R'=hydrogen, RS==phenylselenyl, R'=
Synthesis of compound (B) which is hydrogen (C step) Compound obtained in Reference Example 2 (576.2 mg, 0.84 mm
o1) and imidazole (171,6y,, 2.5
0mmo1) of carbon tetrachloride (ccl,) (2,0mff
) solution with thionyl bromide (SOB) at 0°C in an argon stream.
After stirring for 3 hours, the mixture was warmed to room temperature and stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with saturated sodium bicarbonate solution (sat, NaHCO3
)-chloroform (3 times), the chloroform layer was dried over anhydrous sodium sulfate (Na2S04) and evaporated under reduced pressure. The residue was applied to a silica gel column (10×2σ) and eluted with hexane-ethyl acetate (3:1) to obtain a mixture of target compounds (A) and (B) (135.6μ, yield 72.4%). Obtained MS (m/z): 62
6.628 (M -tFlu)” Example 1 General formula [
In ml, R1゛=odor chord, R”=water i, R”=ter
Synthesis of compound (C) in which t-butyldiphenylsilyl, R4 = hydrogen, and compound (D) in which R1' = hydrogen, R21 = bromine, R'' = tert-butyldiphenylsilyl, R4 = hydrogen (first step ) Mixture of compounds (A) and (B) obtained in Reference Example 3 (1
35,6■, 0.20 mmol) of dichloromethane (3
, OmQ) solution in m-chloroperbenzoic acid (mCPBA) (44,9K) under an argon atmosphere.

0.26mmo1)を加え、室温で3時間桜拌した。0.26 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.

反応液をトリエチルアミンで中和後、減圧上留去し、フ
ロリジル(フロリジン社、商品名)カラム(18X1.
5σ)に付し、ヘキサン−酢酸エチル(3:1)で溶出
し、目的化合物(C)(15,2■、収率14.5%)
および目的化合物(D)(76,2■、収率72.9%
)を得た。
After neutralizing the reaction solution with triethylamine, it was evaporated under reduced pressure, and applied to a Florisil (trade name, manufactured by Florizin) column (18X1.
5σ) and eluted with hexane-ethyl acetate (3:1) to obtain the target compound (C) (15.2μ, yield 14.5%).
and target compound (D) (76.2■, yield 72.9%
) was obtained.

化合物(C) 1H−NMR(CDC1,)δppm: 1.09 (
9H,s、TBDPS−tBu)、3.91 (2H。
Compound (C) 1H-NMR (CDC1,) δppm: 1.09 (
9H,s, TBDPS-tBu), 3.91 (2H.

t、H−5’ )、4.84 (IH,rrl、H−4
’ C5,21(IH,dd、H−5)、6.35 (
IH,m、 H−3’ ) 、 6.39 (IH,I
TI、 H4F)、7.39−7.44 (6H,m、
TBDP S −arom) + 7−54 7 、8
1 (5H! m +H−6およびTBDPS −ar
om) 、 8.45 (LH+ br−s r NH
) MS (m/z):112 (B+1)、357゜35
9 (M−B −tBu)”、 469.471 (M
tBu)” 化合物(D) ”H−NMR(CDCI、)δPPm: 1.11  
(9H,s、TBDPS−tBu)、4.07 (2H
t, H-5'), 4.84 (IH, rrl, H-4
' C5, 21 (IH, dd, H-5), 6.35 (
IH, m, H-3'), 6.39 (IH, I
TI, H4F), 7.39-7.44 (6H, m,
TBDP S-arom) + 7-54 7, 8
1 (5H! m +H-6 and TBDPS -ar
om), 8.45 (LH+ br-s r NH
) MS (m/z): 112 (B+1), 357°35
9 (M-B-tBu)”, 469.471 (M
tBu)" Compound (D) "H-NMR (CDCI,) δPPm: 1.11
(9H,s, TBDPS-tBu), 4.07 (2H
.

m、H=5’ )、4.78 (IH,m、H−4’ 
)。
m, H=5'), 4.78 (IH, m, H-4'
).

4.83 (IH,dd、H−5)、6.05 (LH
,m、H−2’ )、6.” 99 (IH,m、H−
1’  )、7.36−7.41  (6H,m、T)
3DPS−arom)、7.54−7.81  (5H
,m。
4.83 (IH, dd, H-5), 6.05 (LH
, m, H-2'), 6. ” 99 (IH, m, H-
1'), 7.36-7.41 (6H, m, T)
3DPS-arom), 7.54-7.81 (5H
, m.

H−6およびTBDPS −arom) 、 8.45
 (]H、br−s、NH) MS (m/z):112 (B+1)、357゜35
9  (M −B−tBu)÷、469,471  (
M−tBu)” 実施例 2一般式[I〜!′]においてR12=フエニ
ルエチニル、R22=水素、R31=tert−ブチル
ジフェニルシリル。
H-6 and TBDPS-arom), 8.45
(]H, br-s, NH) MS (m/z): 112 (B+1), 357°35
9 (M-B-tBu)÷469,471 (
M-tBu)'' Example 2 In the general formula [I~!'], R12 = phenylethynyl, R22 = hydrogen, R31 = tert-butyldiphenylsilyl.

R4=水素である化合物の合成(第 2工程) 実施例1で得た化合物(C)(50,’7mQ。Synthesis of compounds where R4=hydrogen (No. 2 steps) Compound (C) obtained in Example 1 (50,'7mQ.

0.10mmo1)のDMF (1,5mf1)溶液に
アルゴン気流中、ビストリフェニルホスフィンパラジウ
ムジクロリド((PPh3)、Pc1C12)  (7
,○■。
Bistriphenylphosphine palladium dichloride ((PPh3), Pc1C12) (7
,○■.

0 、 O1mmo1) 、ヨウ化E (Cu1)  
(1、9<。
0, O1mmo1), iodide E (Cu1)
(1,9<.

0 、 O1mrno1) −フェニルアセチレン(0
,04mQ、0.40mmo1)およびトリエチルアミ
ン(0,1mQ)を加え、80℃で1時間撹拌した。反
応液を酢酸エチル−水で分配(3回)シ、酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で留去し、残留
物をフロリジルカラム(8x1.5■)に付し、10%
エタノール/クロロホルムで溶比した。
0, O1mrno1) -phenylacetylene (0
, 04 mQ, 0.40 mmol) and triethylamine (0.1 mQ) were added, and the mixture was stirred at 80°C for 1 hour. The reaction solution was partitioned between ethyl acetate and water (3 times), and the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then evaporated under reduced pressure.
Elution was carried out with ethanol/chloroform.

溶比液を減圧下留去後、プレパラティブ簿層クロマトグ
ラフィー(TLC)プレート(20X 20国)に付し
、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で展開して目的化合
物(38、0IIIg、収$72.1%)を得た。
After evaporating the solution solution under reduced pressure, it was applied to a preparative layer chromatography (TLC) plate (20X 20 countries) and developed with hexane-ethyl acetate (2:1) to obtain the target compound (38.0IIIg, yield). 72.1%).

1H−NMR(’CDC1,)  δppm: 1. 
09  (9H,s 、 TBDPS −tBu)  
、  3. 92  (2−H。
1H-NMR ('CDC1,) δppm: 1.
09 (9H,s, TBDPS-tBu)
, 3. 92 (2-H.

ddd、H−5’ )、5.00  (IH,m、H−
4’ L  5.25  (LH,d d、H−5)、
6.48(IH,m、H−3’ )、7.06  (I
H,m。
ddd, H-5'), 5.00 (IH, m, H-
4' L 5.25 (LH, dd, H-5),
6.48 (IH, m, H-3'), 7.06 (I
H, m.

H=1’ )、7.31−7.45  (IIH,m。H=1'), 7.31-7.45 (IIH, m.

arODおよびTBDPS−arom)、、7.56−
7゜66 (5H,m、H−6およびT B D P 
S −arom)、 9.32 (I H,br−s、
 NH)MS (m/z):112 (B+1)、37
9(M −tBu −B −1)、  380  (M
 −B −tBu)”。
arOD and TBDPS-arom), 7.56-
7゜66 (5H, m, H-6 and T B D P
S-arom), 9.32 (I H, br-s,
NH)MS (m/z): 112 (B+1), 37
9(M-tBu-B-1), 380(M
-B-tBu)”.

491  (M −tBu)” 実施例 3一般式[1〜!′コにおいてR12=水素。491 (M-tBu)” Example 3 General formula [1~! ′, R12=hydrogen.

R22=フエニルエチニル、R31= tert−ブチルジフェニルシリル。R22=phenylethynyl, R31= tert-butyldiphenylsilyl.

R’=水素である化合物の合成(第 2工程) 原料化合物として実施例1で得た化合物(D)27、 
5mQ(0,05mmo1)を使用し、ビストリフェニ
ルホスフィンパラジウムジクロリド3.5mg (0、
OO5mmo1) 、ヨウ化銅1.0mg(0、OO5
mmo1)およびフェニルアセチレン0 、02m12
 (0、20mmo1)を使用したほかは実施例2と同
様に反応させて精製し、目的化合物(19,4■、収率
67.8%)を得た。
Synthesis of a compound where R'=hydrogen (second step) Compound (D) 27 obtained in Example 1 as a raw material compound,
Using 5 mQ (0,05 mmol), 3.5 mg of bistriphenylphosphine palladium dichloride (0,
OO5mmo1), copper iodide 1.0mg (0, OO5
mmo1) and phenylacetylene 0,02m12
The reaction was conducted and purified in the same manner as in Example 2, except that (0.20 mmol) was used, and the target compound (19.4 mmol, yield 67.8%) was obtained.

1H−NMR(CDC1,)  δppm: 1.08
 (9H,s、TBDPS−tBu)、4.12 (2
H。
1H-NMR (CDC1,) δppm: 1.08
(9H,s, TBDPS-tBu), 4.12 (2
H.

cldd、H−5’ )、4.91 (LH,m、H−
4’ )、5.00 (LH,dd、H−5)、6.1
1(IH,m、H−2’ )、7.15 (IH,m。
cldd, H-5'), 4.91 (LH, m, H-
4'), 5.00 (LH, dd, H-5), 6.1
1 (IH, m, H-2'), 7.15 (IH, m.

H−1’ )、7.2577.45 (11H,m。H-1'), 7.2577.45 (11H, m.

aromおよびTBDPS −arom) 、 7.5
77、 66  (4H,m、TBDPS−arom)
、7.87(LH,dj  H−6)+  9.05 
 (LH!  br−8゜NH) MS  (m/z)  :  112  (B+1) 
 、  379(M −tBu−B −1)、  3 
80  (M −B −tau)十。
arom and TBDPS-arom), 7.5
77, 66 (4H, m, TBDPS-arom)
, 7.87 (LH, dj H-6) + 9.05
(LH! br-8°NH) MS (m/z): 112 (B+1)
, 379(M-tBu-B-1), 3
80 (M-B-tau) ten.

491  (M −tBu)” 実施例 4一般式[R”]においてR12=水素、R2
2=トリメチルシリルエチニル、 R” 1= tert−ブチルジフェニルシリル、R4
=水素である化合物の合成 (第2工程) 原料化合物として実施例1で得た化合物(D)43 、
 7mQ(0、08m+++o1)を使用し、ビストリ
フェニルホスフィンパラジウムジクロリド5.8mg(
○、 OO8mmo1) 、ヨウ化銅1.6■(○、 
OO8mmo1)およびフェニルアセチレンの代わりに
トリメチルシリルアセチレン0.05社(0、33mm
o1)を使用したほかは実施例2と同様に反応させて精
製し、目的化合物(19,3■。
491 (M -tBu)" Example 4 In the general formula [R"], R12=hydrogen, R2
2 = trimethylsilylethynyl, R'' 1 = tert-butyldiphenylsilyl, R4
Synthesis of a compound where = hydrogen (second step) Compound (D) 43 obtained in Example 1 as a raw material compound,
Using 7mQ(0,08m+++o1), 5.8mg of bistriphenylphosphine palladium dichloride (
○, OO8mmo1), copper iodide 1.6■ (○,
OO8mmo1) and trimethylsilylacetylene 0.05 (0.33mm) instead of phenylacetylene
o1) was used, but the reaction was carried out and purified in the same manner as in Example 2, and the target compound (19,3■) was obtained.

収率42.8%)を得た。A yield of 42.8%) was obtained.

iH−NMR(CDCI、)  δppm:  o、2
4  (9H,s、TMS   CH)、1.10  
(9H,s。
iH-NMR (CDCI,) δppm: o, 2
4 (9H,s, TMS CH), 1.10
(9H, s.

TBDPS−tBu)、4. 09  (2H,ddd
TBDPS-tBu), 4. 09 (2H, ddd
.

H−5’   )、   4.  77   (LH,
dd、   H−5)   。
H-5'), 4. 77 (LH,
dd, H-5).

4.82  (LH,m、H−4’  )、6.05 
 (IH,m、H−2’  )、7.08  (IH,
m、H−1’  )、7.34  7.44  (6H
,m、TBDPS−arom)、  7. 56−7、
 73  (4H,m。
4.82 (LH, m, H-4'), 6.05
(IH, m, H-2'), 7.08 (IH,
m, H-1'), 7.34 7.44 (6H
, m, TBDPS-arom), 7. 56-7,
73 (4H, m.

TBDPS−arom)、7.66  (LH,d、H
−6)、8.57  (LH,br−s、NH)MS 
(m/z):112 (B+1)、375゜(M−B−
tBu−1)、376  (ム4   B  tBu)
”。
TBDPS-arom), 7.66 (LH, d, H
-6), 8.57 (LH,br-s,NH)MS
(m/z): 112 (B+1), 375° (M-B-
tBu-1), 376 (Mu4 B tBu)
”.

4 8 7  (M −tBu)十 実施例 5一般式[IV’]においてR12=水素、R
22=ビニル、 R”=:tert−プチルジフニニル
シリル、R’=水索であ る化合物の合成(第2工程) 実施例1で得た化合物(D)(56,3mQ。
4 8 7 (M -tBu) 10 Example 5 In general formula [IV'], R12=hydrogen, R
Synthesis of a compound in which 22=vinyl, R''=: tert-butyldifninylsilyl, and R'=water cord (second step) Compound (D) obtained in Example 1 (56,3mQ.

0、11mmo1)のアセトニトリル(4,0mf1)
溶液にアルゴン気流中、ビストリフェニルホスフィンパ
ラジウムジクロリド(7,5rV:、 0.01+nl
l1o1) 、  ビニルトリブチルスズ(0,13+
nQ。
0.11mmol1) of acetonitrile (4.0mf1)
Add bistriphenylphosphine palladium dichloride (7,5 rV:, 0.01+nl) to the solution under a stream of argon.
l1o1), vinyltributyltin (0,13+
nQ.

0 、44++++++o1)を加え、60℃で24時
間撹拌した。反応液をクロロホルム−1%フン化カリウ
ム(XF)水溶液で分配(3回)し、クロロホルム層を
無水[酸ナトリウムで乾燥後、減圧下留去した。残留物
をフロリジルカラム(8X1.5an)に付し、10%
エタノール/クロロホルムで溶出した。溶出液を減圧下
留去後、プレパライブTLCプレート(20X 20■
)に付し、ヘキサン酢酸エチル(1: 1)で展開して
目的化合物(23,2■、収率41.2%)を得た。
0, 44++++++o1) was added thereto, and the mixture was stirred at 60°C for 24 hours. The reaction solution was partitioned (3 times) between chloroform and 1% potassium fluoride (XF) aqueous solution, and the chloroform layer was dried over anhydrous sodium fluoride and then evaporated under reduced pressure. The residue was applied to a Florisil column (8X1.5an) and 10%
Elution was done with ethanol/chloroform. After distilling off the eluate under reduced pressure, prepare a prepared TLC plate (20
) and developed with hexane-ethyl acetate (1:1) to obtain the target compound (23.2 mm, yield 41.2%).

’H−NMR(CDCI、) δppm: 1.05 
(9H,s、丁BDPS−tBu)、4.06 (2H
'H-NMR (CDCI,) δppm: 1.05
(9H,s, BDPS-tBu), 4.06 (2H
.

dcld、H−5’ )、5.O○−5,02(2H。dcld, H-5'), 5. O○-5,02 (2H.

mおよびd、H−4’およびvinyl−C)I2a)
 。
m and d, H-4' and vinyl-C) I2a)
.

5、31 (IH,d、 vinyl−CH2b)、 
5.34 (IH,d、H−5)、5.81  (IH
,m、H−2’ ) 、 6.50 (IH,d d、
 vinyl−CH) 。
5, 31 (IH, d, vinyl-CH2b),
5.34 (IH, d, H-5), 5.81 (IH
, m, H-2'), 6.50 (IH, dd,
vinyl-CH).

7.00  (IH,m、H−1’  )、7.34−
7.44  (6H,m、TBDPS−aro+n)、
7.54−7.63  (4H,m、TBDPS−ar
om)。
7.00 (IH, m, H-1'), 7.34-
7.44 (6H, m, TBDPS-aro+n),
7.54-7.63 (4H, m, TBDPS-ar
om).

7.82  (LH,d、H−6)、8.80  (I
H。
7.82 (LH, d, H-6), 8.80 (I
H.

br−s、NH) MS  (m/z)  :112  (B+1)、30
5(M −B −tBu −1)、  306  (M
 −B −tBu)”。
br-s, NH) MS (m/z): 112 (B+1), 30
5 (M −B −tBu −1), 306 (M
-B-tBu)”.

417  (M −tBu)÷ 実施例 6一般式[■″]においてR12=水素、R2
2=メチル、R” ” = tert−ブチルジフェニ
ルシリル、R’=水素であ る化合物の合成(第2工程) 実施例1で得た化合物(D)(54,3mQ。
417 (M - tBu) ÷ Example 6 In the general formula [■''], R12 = hydrogen, R2
Synthesis of a compound in which 2 = methyl, R"" = tert-butyldiphenylsilyl, R' = hydrogen (second step) Compound (D) obtained in Example 1 (54.3 mQ.

0 、10mmo1)のジオキサン(2,OmQ)溶液
にアルゴン気流中、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム((PPh、)、+Pd) (23、6mg
 、0.02mmo1) 、テトラメチルスズ(0,0
7mQ、 0.50+r1m01)を加え、封管中で1
20℃で48時間撹拌した9反応液をクロロホルム−1
%フッ化カリウム水溶液で分配(3回)し、クロロホル
ム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上留去した。
Tetrakistriphenylphosphinepalladium ((PPh, ), +Pd) (23,6 mg
, 0.02 mmol), tetramethyltin (0,0
7mQ, 0.50+r1m01) and 1
The 9 reaction mixture stirred at 20°C for 48 hours was diluted with chloroform-1.
% potassium fluoride aqueous solution (three times), and the chloroform layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then evaporated under reduced pressure.

残留物をフロリジルカラム(8X1.5an)に付し、
10%エタノール/クロロホルムで溶出した。溶出液を
減圧下留去後、プレパラティブTLCプレート(20X
20an)に付し、ヘキサン−酢酸エチル(1: 1)
で展開して目的化合物(6,7mg+収率]4.1%)
を得た。
The residue was applied to a Florisil column (8X1.5an),
Elution was with 10% ethanol/chloroform. After evaporating the eluate under reduced pressure, it was transferred to a preparative TLC plate (20X
Hexane-ethyl acetate (1:1)
Develop the target compound (6.7 mg + yield] 4.1%)
I got it.

”H−NMR(CDCI3)δpprrl:1.09(
9H,s、TBDPS−tBu)、i、91  (3H
"H-NMR (CDCI3) δpprrl: 1.09 (
9H,s, TBDPS-tBu), i, 91 (3H
.

s 、CH3)、3.89.4 、06 (2H7それ
ぞれs、H−5’aおよびH−5’ b)、4.65(
LH,m、H−4’)、4.93 (LH,d d。
s, CH3), 3.89.4, 06 (2H7 respectively s, H-5'a and H-5' b), 4.65 (
LH, m, H-4'), 4.93 (LH, d d.

H−5) 、 5.50 (IH,m、 H−2’)、
 6.93(IH,m、H−1’ )、7.30−7.
46(6H,m、TBDPS−arom)、7.54−
7.65 (5H,m、TBDPS−aromおよびH
−6)、8.02 (LH,br−s、NH)MS (
m/z):112 (B+1)、293(M −B  
tBu)” 実施例7一般式[■’]においてR12=メチル。
H-5), 5.50 (IH, m, H-2'),
6.93 (IH, m, H-1'), 7.30-7.
46 (6H, m, TBDPS-arom), 7.54-
7.65 (5H, m, TBDPS-arom and H
-6), 8.02 (LH,br-s,NH)MS (
m/z): 112 (B+1), 293 (M −B
tBu)'' Example 7 In the general formula [■'], R12=methyl.

R22=水素原子、 R1″1=tert−ブチルジフ
ェニルシリル、R’=水素で ある化合物の合成(第3工程) 実施例1で得た化合物(C)(25,8m(1゜0 、
05mmo1)のTHF (4,0d)溶液にアルゴン
気流中、−78℃でメチルリチウム(CHlL1)/エ
ーテル溶液(f=1.10)(0,2’7mQ。
Synthesis of a compound where R22=hydrogen atom, R1″1=tert-butyldiphenylsilyl, and R′=hydrogen (third step) Compound (C) obtained in Example 1 (25.8m (1°0,
Methyllithium (CHlL1)/ether solution (f=1.10) (0.2'7 mQ) in THF (4,0d) solution at -78°C in an argon stream.

0.25mmo1)を加え、直ちにヨウ化メチル(CH
3I)  (0、02mL 0 、29mmo1)を加
えた。
0.25 mmol) and immediately diluted with methyl iodide (CH
3I) (0.02 mL 0 , 29 mmol) was added.

15分後酢酸を加えて反応を停止させ、室温に戻したの
ち、クロロホルム−飽和重曹水で分配(3回)し、クロ
ロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上留去
した。残留物をフロリジルカラム(8x1..5G)に
付し、10%エタノール/クロロホルムで溶出した。溶
出液を留去後、プレパラティブTLCプレート(20x
20cm)によび5’ −tert−ブチルジフェニル
シリル−2′3′−ジデヒドロ−2′  3′−ジデオ
キシウリジン(化合物(F))(5,0■、収率22.
8%)を得た。
After 15 minutes, acetic acid was added to stop the reaction, and the temperature was returned to room temperature, followed by partitioning (three times) between chloroform and saturated sodium bicarbonate water, and the chloroform layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then evaporated under reduced pressure. The residue was applied to a Florisil column (8x1..5G) and eluted with 10% ethanol/chloroform. After distilling off the eluate, transfer to a preparative TLC plate (20x
20 cm) and 5'-tert-butyldiphenylsilyl-2'3'-didehydro-2'3'-dideoxyuridine (compound (F)) (5.0 cm, yield 22.
8%).

化合物(E) ”H−NMR(CDCI、) δpprn: 1.26
 (9H,s、TBDPS−tBu)、1.71 (3
H。
Compound (E) “H-NMR (CDCI,) δpprn: 1.26
(9H,s, TBDPS-tBu), 1.71 (3
H.

s、−C)1)、3.90 (2H,m、H−5’ )
s, -C) 1), 3.90 (2H, m, H-5')
.

4.83 (IH,m、H−4’)、5.18 (IH
’。
4.83 (IH, m, H-4'), 5.18 (IH
'.

dd、H−5)、5.84 (1H,m、H−3’)。dd, H-5), 5.84 (1H, m, H-3').

6.84 (LH,m、H−1’ )、7.29−7、
50 (6H,m、 TBDPS −arom) 、 
7.57−7.79  (5H,m、TBDPS−ar
omおよびH−6)、8.20 (LH,br−s、N
H)MS (m/z):112 (B+1)、293(
M −B −tBu)”、 405 (M −tBu)
”化合物(F) ”H−NMR(CDC13)δppm: i、 07 
(9H,S、TBDPS−tBu)、3.93 (2H
6.84 (LH, m, H-1'), 7.29-7,
50 (6H, m, TBDPS-arom),
7.57-7.79 (5H, m, TBDPS-ar
om and H-6), 8.20 (LH, br-s, N
H) MS (m/z): 112 (B+1), 293 (
M-B-tBu)”, 405 (M-tBu)
"Compound (F)" H-NMR (CDC13) δppm: i, 07
(9H,S, TBDPS-tBu), 3.93 (2H
.

dd、d、H−5’ b)、4.90 (IH,m、R
7,02(IH,m、H−1’  )、7.3”77、
 45  (6H,m、  TBDPS −aro+n
)  、 7.587.68  (5H,m、TBD]
’S−aromおよびH−6)、8.63 (IH,b
r−s、NH)MS  (m/z)   :  ]  
]  2  (B+1)  、  3 9 ユ(M−t
au)” 実施例 8一般式〔1〜1++1においてR12=フエ
ニルエチニル、R22=水素、R’= 水素である化合物の合成(第4工程) 実施例2で得た化合物(38,0mg、0.07mmo
1)のTHF (2,0mQ)溶液にアルゴン気流中、
室温下でテトラブチルアンモニウムフルオリト  (T
BAF)    (26,1mg 、   0.  0
8mmo1)   を加え、2時間撹拌した。反応液を
減圧上留去し。
dd, d, H-5' b), 4.90 (IH, m, R
7,02 (IH, m, H-1'), 7.3"77,
45 (6H, m, TBDPS -aro+n
), 7.587.68 (5H, m, TBD]
'S-arom and H-6), 8.63 (IH,b
rs, NH) MS (m/z): ]
] 2 (B+1), 3 9 Yu (M-t
au)" Example 8 Synthesis of a compound of the general formula [1 to 1++1, R12 = phenylethynyl, R22 = hydrogen, R' = hydrogen (4th step) Compound obtained in Example 2 (38.0 mg, 0 .07 mmo
1) in a THF (2,0 mQ) solution in an argon stream,
Tetrabutylammonium fluorite (T
BAF) (26.1mg, 0.0
8 mmol1) was added and stirred for 2 hours. The reaction solution was distilled off under reduced pressure.

残留物をフロリジルカラム(8X1.5cm)に付し、
30%エタノール/クロロホルムで溶出した。
The residue was applied to a Florisil column (8 x 1.5 cm),
Elution was with 30% ethanol/chloroform.

溶出液を減圧下て留去後、プレバラティブTLCプレー
ト(20X 20■)に付し、クロロホルム−エタノー
ル(15:1)で展開して目的化合物害閂 (14,9■、収率69% ”H−NMR(CDC+3)  δppm:  3. 
90  (2H,d d d、H−5’  )、5.0
6  (LH,m。
After the eluate was distilled off under reduced pressure, it was applied to a preparative TLC plate (20X 20cm) and developed with chloroform-ethanol (15:1) to obtain the target compound (14.9cm, yield 69%). -NMR (CDC+3) δppm: 3.
90 (2H, dd d, H-5'), 5.0
6 (LH, m.

H−41)、5.74  (IH,dd、H−5)16
.53  (IH,m、H−3’  )、6.99  
(IH,m、H1’)、7.30−7.41  (5H
H-41), 5.74 (IH, dd, H-5) 16
.. 53 (IH, m, H-3'), 6.99
(IH, m, H1'), 7.30-7.41 (5H
.

rn r arom)  +  7.6 ”  (l 
H+  d +  8  6 )  +8.04  (
1H,br−s、NH)実施例 9一般式[”]におい
てR12=水素、R22=エチニル、R4=水素である 化合物の合成(第4工程) 実施例4で得た化合物22.O■(0,04mmo1)
を原料化合物とし、TBAF30.3+ng (Q 、
 09mmo1)を使用して実施例8と同様に反応させ
て精製し、目的化合物(5,5■、収率58.1%)を
得た。
rn r arom) + 7.6 ” (l
H+ d + 8 6 ) +8.04 (
1H, br-s, NH) Example 9 Synthesis of a compound in the general formula [''] where R12 = hydrogen, R22 = ethynyl, R4 = hydrogen (4th step) Compound 22.O ( 0.04 mmo1)
is the raw material compound, TBAF30.3+ng (Q,
09mmol1) was reacted and purified in the same manner as in Example 8 to obtain the target compound (5.5mm, yield 58.1%).

”H−NMR(C’DC13)  δppm: 3.3
7 (IH,s、−C:CH)、3.98 (2H,m
"H-NMR (C'DC13) δppm: 3.3
7 (IH,s, -C:CH), 3.98 (2H,m
.

H−5’ )、4.85 (LH,m、H−4’ )。H-5'), 4.85 (LH, m, H-4').

5.70(1)(、dd、H−5)、6.11  (I
H+ 171.H2’ )+ 7.os (LH,m、
 H−1’)、7.78  (IH,d、H−6)、8
.53(I H,br−s、N)() MS  (m/z)   :  1 1 2  CB+
1)  、  ユ 22(M−B−1) 実施例 10一般式[IV ”コにおいてRI 7−水
素、R22=メチル、R4−水素であ る化合物の合成(第4工程) 実施例6で得た化合物9.5171[: (0,02m
mo1)を原料化合物とし、TBAF8.2■(0,0
3mmo1)を使用して実施例8と同様に反応させて精
製し、目的化合物(1,8■、収率39%)を得た。
5.70 (1) (, dd, H-5), 6.11 (I
H+ 171. H2')+7. os (LH, m,
H-1'), 7.78 (IH, d, H-6), 8
.. 53 (I H, br-s, N) () MS (m/z): 1 1 2 CB+
1), U 22 (MB-1) Example 10 Synthesis of a compound with the general formula [IV'' where RI 7-hydrogen, R22=methyl, R4-hydrogen (4th step) Obtained in Example 6 Compound 9.5171[: (0,02m
mo1) as the raw material compound, TBAF8.2■(0,0
3 mmol) was reacted and purified in the same manner as in Example 8 to obtain the target compound (1.8 mmol, yield 39%).

′″H−NMR(CDCI、) δppm: 1.93
 (3H,s、C)+3)、3.89 (28,d d
 d、H−5’ )、4.68 (LH,m、H−4’
 )、5.47(IH,d、H−2’ )、5.65 
(1B、d。
'''H-NMR (CDCI,) δppm: 1.93
(3H, s, C) + 3), 3.89 (28, d d
d, H-5'), 4.68 (LH, m, H-4'
), 5.47 (IH, d, H-2'), 5.65
(1B, d.

H−5)、  6.94  (ユH,m、H−1’ )
H-5), 6.94 (YH, m, H-1')
.

7.74  (IH,d、H−6)、8.37  (I
H。
7.74 (IH, d, H-6), 8.37 (I
H.

br−s、 NH) 実施例 11一般式[Ih’ ”コにおいてR12−メ
チル、R22−水素、R4=水素であ る化合物の合成(第4工程) 実施例7で得た化合物(E) 7.0rrc (0,0
2mm0])を原料化合物とし、実施例]Oと同り、方
法で目的化合物(1,0■、収率29.4%)を得た。
br-s, NH) Example 11 Synthesis of a compound of general formula [Ih''' where R12-methyl, R22-hydrogen, R4=hydrogen (4th step) Compound (E) obtained in Example 7 7. 0rrc (0,0
The desired compound (1.0 mm, yield 29.4%) was obtained in the same manner as in Example O using 2 mm0] as a starting compound.

”H−NMR(CDCI、)  δppm: 1.72
 (3H,s、C)+3)、3.83  (2H,d 
d d、H−5’  )、4.88  (LH,m、H
−4’  )、5.70(LH,dr3.H−5)、5
.92  (LH,d。
"H-NMR (CDCI,) δppm: 1.72
(3H, s, C) + 3), 3.83 (2H, d
d d, H-5'), 4.88 (LH, m, H
-4'), 5.70 (LH, dr3.H-5), 5
.. 92 (LH, d.

H−3’ )、6.84  (LH,m、H−1′)。H-3'), 6.84 (LH, m, H-1').

7.63  (LH,d、H−6)、8.34  (I
H。
7.63 (LH, d, H-6), 8.34 (I
H.

br−s 、  N H) 実施例 12一般式[■′]においてR″1=1=臭素
1=水素、R’=水素である 化合物の合成(第5工程) 実施例1で得た化合物(C) 45 、1 mg (0
,09mmol ) をf!に料化合物とし、TBAF
36.9゜(0、12mmo1)を使用して実施例8と
同様に反応させて精製し、目的化合物(22,7■、収
率92.4%)を得た。
br-s, N H) Example 12 Synthesis of a compound in the general formula [■'] where R″1=1=bromine1=hydrogen and R′=hydrogen (5th step) The compound obtained in Example 1 ( C) 45, 1 mg (0
,09mmol) f! As a chemical compound, TBAF
The product was reacted and purified in the same manner as in Example 8 using 36.9° (0.12 mmol) to obtain the target compound (22.7°, yield 92.4%).

’H−NMR(CDC1,)  δppm:  3. 
76  (2)(、d、H−5’  )、4. 86 
 (IH,m、1″。
'H-NMR (CDC1,) δppm: 3.
76 (2) (, d, H-5'), 4. 86
(IH, m, 1″.

−4’)、5゜70  (IH,d、H−5)、6.5
8(IH,S、H3’  )、6.88  (ユH,m
-4'), 5°70 (IH, d, H-5), 6.5
8 (IH, S, H3'), 6.88 (YH, m
.

H−1’  )、  7. 95  (LH,d、H−
6)MS  (m/z)  :112  (B+1)、
117゜179  (M−B)”、  176、 17
8  (M−B−1)実施例 13一般式[■′〕にお
いてR11=水素、R21=臭素、R4=水素である 化合物の合成(第5工程) 実施例1で得た化合物(D) 18.8■(0,04m
mo1)を原料化合物とし、TBAF16.4mg(0
、05mmo1)を使用して実施例8と同様に反応させ
て精製し、目的化合物(9,1■、収率88.3%)を
得た。
H-1'), 7. 95 (LH, d, H-
6) MS (m/z): 112 (B+1),
117°179 (MB)”, 176, 17
8 (M-B-1) Example 13 Synthesis of a compound in the general formula [■'] where R11 = hydrogen, R21 = bromine, and R4 = hydrogen (5th step) Compound (D) obtained in Example 1 18 .8■(0.04m
mo1) as the raw material compound, TBAF16.4mg (0
, 05 mmol) was reacted and purified in the same manner as in Example 8 to obtain the target compound (9.1 mmol, yield 88.3%).

1H−NMR(CDC1,)δppm: 3.98 (
2H,ddd、H−5’ )、4.79 (IH,m。
1H-NMR (CDC1,) δppm: 3.98 (
2H, ddd, H-5'), 4.79 (IH, m.

H−4’ )、5.69  (ユH,d df  H−
5)16.03 (LH,m、H−2’ )、6.97
 (IH,m、H−1’ )、7.84 (LH,d、
H−6)、8.88  (IH,br−s、HN)MS
  (m/z)  :  112  (B+1)、11
7゜179   (M−B)”、   1 76、  
178   (M−B−1)[発明の効果コ 本発明はそれ自体有用性を有する2′  3′ジデヒド
ロ−2’ 、3’ −ジデオキシウリジンの新規な誘導
体を提供するだけでなく、有用な化合物の合成中間体と
して利用できる化合物も提供するものである。
H-4'), 5.69 (Yu H, d df H-
5) 16.03 (LH, m, H-2'), 6.97
(IH, m, H-1'), 7.84 (LH, d,
H-6), 8.88 (IH, br-s, HN) MS
(m/z): 112 (B+1), 11
7゜179 (MB)", 1 76,
178 (M-B-1) [Effects of the Invention] The present invention not only provides novel derivatives of 2'3'didehydro-2',3'-dideoxyuridine that have utility in themselves, but also provides useful compounds. The present invention also provides compounds that can be used as synthetic intermediates.

すなわち、2′位または3′位に置換基としてアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基を有する化合物は抗ウ
ィルス剤として有用である。
That is, compounds having an alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group as a substituent at the 2' or 3' position are useful as antiviral agents.

また、2′位または3′位に置換基としてハロゲン原子
を有する化合物は抗ウィルス剤として有用な2’ 、3
’ −ジデオキシウリジン誘導体の合成中間体として利
用できるばかりでなく、2′位または3′位に炭素鎖(
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基など)を導入
するための鍵中間体としても利用できる。
In addition, compounds having a halogen atom as a substituent at the 2' or 3' position are useful as 2' or 3' antiviral agents.
It can not only be used as a synthetic intermediate for '-dideoxyuridine derivatives, but also have a carbon chain (
It can also be used as a key intermediate for introducing alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, etc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)下記一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、R^1およびR^2のいずれか一方はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基またはハロゲン原子(
ただし、フッ素を除く)を、他方は水素原子を示し、R
^3は水素原子またはシリル基を示し、R^4は水素原
子または低級アルキル基を示す。]で表わされる2’,
3’−ジデヒドロ−2’,3’−ジデオキシウリジン誘
導体。 2)一般式[ I ]において、R^1およびR^2のい
ずれか一方がハロゲン原子で、R^3がシリル基である
下記一般式[III] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] [式中、R^1^1およびR^2^1のいずれか一方は
ハロゲン原子(ただし、フッ索を除く)を、他方は水素
原子を示し、R^3^1はシリル基を示し、R^4は水
素原子または低級アルキル基を示す。]で表わされる請
求項1記載の2’,3’−ジデヒドロ−2’,3’−ジ
デオキシウリジン誘導体。 3)一般式[ I ]において、R^1およびR^2のい
ずれか一方がアルキル基、アルケニル基またはアルキニ
ル基である下記一般式[IV] ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] [式中、R^1^2およびR^2^2はいずれか一方は
アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を、他方
は水素原子を示し、R^3は水素原子またはシリル基を
示し、R^4は水素原子または低級アルキル基を示す。 ]で表わされる請求項1記載の2’,3’−ジデヒドロ
−2’,3’−ジデオキシウリジン誘導体。 4)請求項2記載の化合物をアルキル化、アルケニル化
もしくはアルキニル化反応に付し、必要に応じて脱シリ
ル化反応に付して請求項3記載の化合物を得ることを特
徴とする2’,3’−ジデヒドロ−2’,3’−ジデオ
キシウリジン誘導体の製造法。 5)アルキル化、アルケニル化もしくはアルキニル化反
応が、パラジウム触媒の存在下、アルキル化剤、アルケ
ニル化剤またはアルキニル化剤によって行われる請求項
4記載の2’,3’−ジデヒドロ−2’,3’−ジデオ
キシウリジン誘導体の製造法。 6)アルキル化、アルケニル化もしくはアルキニル化反
応が、リチオ化剤の存在下、アルキル化剤、アルニケル
化剤またはアルキニル化剤によって行われる請求項4記
載の2’,3’−ジデヒドロ−2’,3’−ジデオキシ
ウリジン誘導体の製造法。 7)下記一般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] [式中、R^1^1およびR^2^1のいずれか一方は
ハロゲン原子(ただし、フッ素を除く)を、他方は水素
原子を示し、R^1^1がハロゲン原子であるとき、R
^5は水素原子を、R^6はSeR^7(Seはセレン
原子、R^7はアリール基をそれぞれ示す)を示し、R
^2^1がハロゲン原子であるとき、R^5はSeR^
7を、R^6は水素原子を示し、R^3^1はシリル基
を示し、R^4は水素原子または低級アルキル基を示す
。]で表わされる化合物に過酸化物を作用させて請求項
2記載の化合物を得ることを特徴とする2’,3’−ジ
デヒドロ−2’,3’−ジデオキシウリジン誘導体の製
造法。
[Claims] 1) The following general formula [I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [I] [In the formula, either R^1 or R^2 is an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. group or halogen atom (
(excluding fluorine), the other represents a hydrogen atom, and R
^3 represents a hydrogen atom or a silyl group, and R^4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] 2',
3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivative. 2) In the general formula [I], either R^1 or R^2 is a halogen atom, and R^3 is a silyl group. The following general formula [III] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼[ III] [In the formula, one of R^1^1 and R^2^1 represents a halogen atom (excluding fluorocarbons), the other represents a hydrogen atom, and R^3^1 represents a silyl group. and R^4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] The 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivative according to claim 1. 3) In the general formula [I], one of R^1 and R^2 is an alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group [IV] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [IV] [In the formula, one of R^1^2 and R^2^2 represents an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, the other represents a hydrogen atom, R^3 represents a hydrogen atom or a silyl group, and R ^4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] The 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivative according to claim 1. 4) 2', characterized in that the compound according to claim 2 is subjected to an alkylation, alkenylation or alkynylation reaction, and optionally subjected to a desilylation reaction to obtain the compound according to claim 3; A method for producing a 3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivative. 5) 2',3'-didehydro-2',3 according to claim 4, wherein the alkylation, alkenylation or alkynylation reaction is carried out with an alkylating agent, alkenylating agent or alkynylating agent in the presence of a palladium catalyst. A method for producing a '-dideoxyuridine derivative. 6) 2',3'-didehydro-2' according to claim 4, wherein the alkylation, alkenylation or alkynylation reaction is carried out with an alkylating agent, an alnickelizing agent or an alkynylating agent in the presence of a lithiation agent; Method for producing a 3'-dideoxyuridine derivative. 7) The following general formula [II] ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [II] [In the formula, either R^1^1 or R^2^1 is a halogen atom (excluding fluorine) , the other one is a hydrogen atom, and when R^1^1 is a halogen atom, R
^5 represents a hydrogen atom, R^6 represents SeR^7 (Se represents a selenium atom, R^7 represents an aryl group, respectively), and R
When ^2^1 is a halogen atom, R^5 is SeR^
7, R^6 represents a hydrogen atom, R^3^1 represents a silyl group, and R^4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. A method for producing a 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxyuridine derivative, which comprises reacting a compound represented by the following with a peroxide to obtain the compound according to claim 2.
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