JPH0476486A - 微少重力実験用落下孔 - Google Patents

微少重力実験用落下孔

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JPH0476486A
JPH0476486A JP2190303A JP19030390A JPH0476486A JP H0476486 A JPH0476486 A JP H0476486A JP 2190303 A JP2190303 A JP 2190303A JP 19030390 A JP19030390 A JP 19030390A JP H0476486 A JPH0476486 A JP H0476486A
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JP
Japan
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capsule
drop hole
drop
section
free
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Application number
JP2190303A
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English (en)
Inventor
Masami Takahashi
正美 高橋
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は地上において微少重力を提供する手段に関し、
特に高層ビル（ビルディング）の内部の一部分に垂直方
向に連続して設けた微少重力実験用落下孔に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の微少重力を提供する手段としては、塔を
自由落下施設として用いる落下塔あるいは廃坑になった
炭鉱や鉱山の立技を利用した落下塔などが建設されたり
、計画されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の落下塔は微少重力を得ることのみを目的
にしているので立地場所の確保が難かしく、建設費の高
騰を招くという欠点がある。又、落下孔は炭鉱や鉱山の
廃坑を利用するので建設費は比較的安価ではあるが、そ
の立地場所は辺地に存在するものが多く、利用上の不便
は免れないという欠点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の微少重力実験用落下孔は、上部をカプセルが自
由落下できる自由落下部とし下部を前記カプセルの制動
部とする落下孔と、前記カプセルを前記落下孔にセット
するカプセルセツティング室とを有し、且つ前記落下孔
と前記カプセルセツティング室とは高層ビル内部の一部
分に地面と垂直方向に連続して設けられている。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図である。
１は地面６上に建設された高層ビルであり、一般に市街
地に建設される。２は高層ビル６の内部の一部分に地面
６の垂直方向に連続して設けられた落下孔である。落下
孔２の上部には自由落下部２ａが設けられ、そこにカプ
セル３を自由落下させることにより、カプセル３内の実
験用試料に微少重力を実現する。落下孔２の下部には、
内部に制動装置４を内蔵した制動部２ｂが設けられ、自
由落下してきたカプセル３の落下速度を減じ、停止させ
る。実験用のためにカプセル３を落下孔２にセラ１〜す
るための部屋て゛あるカプセルセッチング室５が、落下
孔２の上側に設けられる。
次に微少重力時間について考察する。自由落下部２ａと
制動部２ｂの長さの比は、７５対２５程度である。今、
高層ビル１の高さを２００ｍとすると自由落下部２ａの
長さは約１４８ｍとなり、実験用試料に生じる微少重力
時間ｔは下記の式で計算でき、約５．５秒となる。
ｔ＝　　２Ｘ１４８ｍ　　９．８ｍ５−２ミ５．５ｓ・
・・（１） この値は、西ドイツ・ブレーメン使に建設されているＢ
ＲＥＭＥＮと名付けられている落下基にぼぼ匹敵する値
であり、高層ビル内に落下孔を建設することが効果的で
あることが分かる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、市街地に建設される高層
ビルの内部の一部に付随的に設けるものであるから、建
設費は比較的安価であり、且つ交通上の利便性がよいと
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による微少重力落下孔の一実施例の縦断
面図である。 １・・高層ビル、２・・・落下孔、２ａ・・・自由落下
部、２ｂ・・制動部、３・・・カプセル、４・・・制動
装置、５・・・カプセルセツティング室、６・・・地面
。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上部をカプセルが自由落下できる自由落下部とし下部を
    前記カプセルの制動部とする落下孔と、前記カプセルを
    前記落下孔にセットするカプセルセッティング室とを有
    し、且つ前記落下孔と前記カプセルセッティング室とは
    高層ビル内部の一部分に地面と垂直方向に連続して設け
    られていることを特徴とする微少重力実験用落下孔。
JP2190303A 1990-07-18 1990-07-18 微少重力実験用落下孔 Pending JPH0476486A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7726928B2 (en) 2003-11-10 2010-06-01 Max Co., Ltd. Binding processing apparatus
US7744326B2 (en) 2003-08-12 2010-06-29 Max Co., Ltd. Bind processing method, bind processing device, and binder cartridge

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JPS6363261A (ja) * 1986-09-03 1988-03-19 Nec Corp デ−タ通信制御装置
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