JPH0473841A - マイクロ波電子管 - Google Patents

マイクロ波電子管

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Publication number
JPH0473841A
JPH0473841A JP18461990A JP18461990A JPH0473841A JP H0473841 A JPH0473841 A JP H0473841A JP 18461990 A JP18461990 A JP 18461990A JP 18461990 A JP18461990 A JP 18461990A JP H0473841 A JPH0473841 A JP H0473841A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sic
cavity wall
cavity
wall
resonant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18461990A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Sugiyama
杉山 務
Akio Kato
昭夫 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Electronic Engineering Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP18461990A priority Critical patent/JPH0473841A/ja
Publication of JPH0473841A publication Critical patent/JPH0473841A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明はマイクロ波電子管に係り、特にその共振空胴
の改良に関する。
(従来の技術) 一般に進行波管、クライストロン、マグネトロン、ジャ
イロトロンなどのようなマイクロ波電子管においては、
その内部の真空領域に高周波エネルギを吸収する減衰器
が装着されている。
1例として空胴結合型遅波回路を有する進行波管につい
て、説明することにする。即ち、20〜90個からなる
空胴共振器内には、回路整合を改善及び帯域内発振を防
止するために分布損失体を全共振空胴又は一部の共振空
胴内に挿入しているが、この分布損失体は、ニッケル、
タンタルなどの材料を蒸着したもの、あるいは炭化硅素
セラミックス(以下、SiCと記す)などのマイクロ波
損失体であり、空胴共振器の一部に挿入するか、複空胴
内に設けた空胴回路より構成されている。
この種の進行波管は、従来、第5図に概略を示すように
構成されている。即ち、電子銃部1、遅波回路部2、コ
レクタ部3が順次連結されており、遅波回路部2の両端
にはそれぞれ人力導波管4、出力導波管5が接続されて
いる。そして、遅波回路部2は高真空に保たれた多数の
共振空胴6からなり、この共振空胴6の一部にSiCか
らなるマイクロ波損失体である減衰器7が設けられてい
る。
尚、符号8は磁石である。
(発明が解決しようとする課題) 上記のような従来の進行波管においては、減衰器7は遅
波回路部2を伝播する高周波エネルギの一部を吸収する
。このため、進行波管の動作時にこの減衰器7は発熱し
て高温となるので、熱を進行波管の真空外囲器に効率良
く放出する必要がある。しかし、減衰器7は高真空領域
内に設置されているので、外への熱放出の効率か悪く、
減衰器7の温度が上昇して誘電率、比誘電体損失が変化
する。それに伴い、進行波管の出力特性も変化するとい
う不都合か生しる。
この発明は、共振空胴の温度上昇を抑制し、安定した動
作を行なうマイクロ波電子管を提供することを目的とす
る。
[発明の構成〕 (課題を解決するための手段) 二の発明は、共振空胴の空胴壁の一部又は全部がSiC
で構成され、必要に応じその一部又は内面の一部に導電
体壁又は導電体層が形成されて減衰量か所定値に設定さ
れてなるマイクロ波電子管である。
(作用) この発明によれば、高周波エネルギを吸収するSiCを
共振空胴壁の一部として用いることにより、共振空胴の
温度上昇を抑制して安定した特性を得ることが出来る。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
マイクロ波電子管として進行波管を例にとれば、この発
明による進行波管は第1図及び第2図に示すように構成
され、第2図は全体を示し、第1図はその要部を拡大し
て示している。即ち、進行波管は第2図に示すように、
電子銃部11、遅波回路部12、コレクタ部13が順次
連結されており、遅波回路部12の両端にはそれぞれ人
力導波管14、出力導波管15が接続されている。尚、
図中の符合17は減衰器、18は磁界発生装置である。
さて、遅波回路部12は高真空に保たれた多数の共振空
胴16からなり、この共振空胴16は第1図に示すよう
に隣り合う共振空胴を隔てる各空胴壁20と真空外囲器
を兼ねる円筒状の空胴壁21により形成されている。尚
、図中の符合19は高周波結合孔、22はドリフト管で
ある。
この場合、板状の空胴壁20は銅からなり、円筒状の空
胴壁21は高周波損失物質であるSiCからなっている
。更に、このSiCからなる空胴壁21の内面の一部に
は、導電体層23が形成されており、SiCと共に共振
空胴壁の一部を構成している。そして、各空胴のマイク
ロ波損失の必要量に応じて、銅とSiCの表面積比率を
異ならせて、減衰量かそれぞれ所定値に設定されている
表面積比率としては、例えば2〜50%の範囲が考えら
れる。尚、空胴壁20と空胴壁21の接合は、空胴壁2
1のSiCの表面にメタライズを施すことにより、空胴
壁20の銅とろう接することか出来、真空気密が得られ
る。
このように、高周波エネルギを吸収するSiCを共振空
胴16の空胴壁の一部として用いることにより、このS
iCが直接真空外に露出するため、放熱効率か上がる。
従って、温度上昇が低減され安定した動作特性が得られ
る。
(変形例) 第3図及び第4図はこの発明の変形例を示したもので、
上記実施例と同様効果が得られる。即ち、第3図の場合
は、銅製の空胴壁25.26及びSiCリング28によ
り各共振空胴16が構成されている。そして、空胴壁2
5.26とSiCリング28とは、接触面Bで気密ろう
接されている。
こうしてSiCが空胴壁の一部を構成している。
又、第4図の場合は、この発明をクライストロンに適用
したもので、銅製の板状空胴壁29とSiC製の有底円
筒状の空胴壁30とにより共振空胴16か構成されてい
る。そして、SiC製め空胴壁30の内面の一部には、
銅からなる導電体層32か被覆されている。
更に、図示していないが、空胴壁の全部をSiCで形成
し、その一部又は内面の一部に銅からなる導電体層を形
成するように構成しても良い。
[発明の効果] この発明によれば、共振空胴の壁の一部又は全部がSi
Cで構成され、必要に応じその一部又は内面の一部に導
電体壁又は導電体層が形成されているので、容易に所定
の減衰量に設定出来る。又、動作時においても、管外に
熱を直接、伝導放散することか出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係るマイクロ波電子管(
進行波管)における共振空胴を示す縦断面図、第2図は
この発明の一実施例に係るマイクロ波電子管(進行波管
)の全体を示す概略縦断面図、第3図及び第4図はこの
発明の変形例を示す縦断面図、第5図は従来のマイクロ
波電子管(進行波管)の全体を示す概略縦断面図である
。 16・・・共振空胴、20,21.30・・・空胴壁、
23.32・・・導電体層。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 共振空胴を有するマイクロ波電子管において、上記共振
    空胴の空胴壁の一部又は全部がSiCで構成され、必要
    に応じその一部又は内面の一部に導電体壁又は導電体層
    が形成されて減衰量が所定値に設定されてなることを特
    徴とするマイクロ波電子管。
JP18461990A 1990-07-12 1990-07-12 マイクロ波電子管 Pending JPH0473841A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18461990A JPH0473841A (ja) 1990-07-12 1990-07-12 マイクロ波電子管

Applications Claiming Priority (1)

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JP18461990A JPH0473841A (ja) 1990-07-12 1990-07-12 マイクロ波電子管

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Publication Number Publication Date
JPH0473841A true JPH0473841A (ja) 1992-03-09

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ID=16156404

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18461990A Pending JPH0473841A (ja) 1990-07-12 1990-07-12 マイクロ波電子管

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JP (1) JPH0473841A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07153382A (ja) * 1993-11-26 1995-06-16 Nec Corp 多空胴クライストロン
EP0658913A1 (de) * 1993-12-18 1995-06-21 Philips Patentverwaltung GmbH Elektronenstrahlröhre mit einem Eingangsresonatorhohlraum
US6815199B1 (en) 1999-10-19 2004-11-09 Sakura Finetechnical Co., Ltd. Specimen processing container, and container main body and cover body forming the specimen processing container
RU2738775C1 (ru) * 2020-07-10 2020-12-16 Акционерное общество "Плутон" Устройство настройки собственной добротности объемных резонаторов ЭВП

Cited By (5)

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