JPH0463880B2 - - Google Patents

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JPH0463880B2
JPH0463880B2 JP22604084A JP22604084A JPH0463880B2 JP H0463880 B2 JPH0463880 B2 JP H0463880B2 JP 22604084 A JP22604084 A JP 22604084A JP 22604084 A JP22604084 A JP 22604084A JP H0463880 B2 JPH0463880 B2 JP H0463880B2
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JP
Japan
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group
formula
substituted
lower alkyl
hydrogen
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Application number
JP22604084A
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Japanese (ja)
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JPS61103900A (en
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Kazuteru Hagita
Takeyo Fukuoka
Masaya Sato
Tetsuyuki Saino
Tokuji Nakatani
Akio Fujii
Hamao Umezawa
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔産業上の利用分野〕 本発明は、抗腫瘍作用を有し、制癌剤として期
待されている後記一般式()で表わされるアミ
ノプロピルアミノブレオマイシン誘導体の新規製
造法に関する。 〔従来の技術〕 後記一般式〔〕で表わされるアミノプロピル
アミノブレオマイシン誘導体の一部は特開昭58−
116497号などにより公知であり、後記一般式
〔〕で表わされるブレオマイシン類と後記一般
式〔〕で示されるカルボニル化合物をシアン化
水素化ホウ素ナトリウムの存在下還元的に縮合を
行う方法により製造されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、上記方法によると、構造不明の副生物
が5〜7%程度生成し、一方この副生物の除去が
比較的困難なため、精製工程が煩雑になり又、反
応中にシアン下水素ガスが発生するため作業環境
を悪化させるという欠点がある。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで本発明者らは副生物の生成が少なく、
又、作業環境を悪化させない下記一般式〔〕 〔BX〕−NH−(CH23−A−Y−B 〔〕 〔式中〔BX〕は次式 で表わされるブレオマイシン酸(含銅体の場合は
キレート銅を省略)のカルボキシル基から水酸基
を除いた残基を示し、Yは低級アルキレン基を示
し、Aは式
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a new method for producing an aminopropylaminobleomycin derivative represented by the general formula () below, which has antitumor activity and is expected to be an anticancer agent. [Prior art] Some of the aminopropylaminobleomycin derivatives represented by the general formula [] below are disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-
No. 116497, etc., and is produced by a method in which bleomycins represented by the general formula [] below are reductively condensed with a carbonyl compound represented by the general formula [] below in the presence of sodium cyanoborohydride. [Problems to be solved by the invention] However, according to the above method, about 5 to 7% of by-products of unknown structure are produced, and on the other hand, it is relatively difficult to remove these by-products, making the purification process complicated. In addition, there is a drawback that hydrogen gas under cyanide is generated during the reaction, which worsens the working environment. [Means for solving the problem] Therefore, the present inventors have developed a method that generates fewer by-products and
In addition, the following general formula [] [BX] -NH- (CH 2 ) 3 -A-Y-B [] [In the formula, [BX] is the following formula, which does not worsen the working environment. represents a residue obtained by removing the hydroxyl group from the carboxyl group of bleomycin acid (in the case of a copper-containing substance, chelate copper is omitted), Y represents a lower alkylene group, and A represents the formula

【式】【formula】 【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】 で示される基(ここで、R1は水素原子、低級ア
ルキル基またはベンジル基、R2は低級アルキル
基またはベンジル基、Rは低級アルキル基であ
る。)を示し、Bは
[Formula] represents a group (where R 1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group or a benzyl group, R 2 is a lower alkyl group or a benzyl group, and R is a lower alkyl group), and B is

【式】で示される基 (ここでR5、R6はそれぞれ、水素原子または
フエニル基、ナフチル基、フリル基、チオフエン
基、ノルボルネン基、シクロアルキル基で一つ以
上置換されていてもよい低級アルキル基(フエニ
ル基はさらにハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノメチル基、
シクロアルキル基、ベンジルオキシ基(ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基でベ
ンゼン環上の水素が置換されていてもよい)から
選ばれる一種または二種以上の置換基で置換され
ていてもよい。))を示す。ただしR5、R6のどち
らか少なくとも一方は水素原子以外の基である。〕
で表わされるアミノプロピルアミノブレオマイシ
ン誘導体の新規製法について種々検討した結果、
一般式〔〕 〔BX〕−NH−(CH23−A−Y−NH2 〔〕 〔式中〔BX〕、YおよびAは前記と同じ。〕で示
されるアミノプロピルブレオマイシン類と、一般
式〔〕 R3−CO−R4 〔〕 〔式中R3、R4はそれぞれ水素原子、シクロ
アルキル基、シクロアルキル基またはフエニル
基で一つ以上置換されていてもよい低級アルキル
基(フエニル基さらにハロゲン原子で置換されて
いてもよい。)、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、シクロアルキルオキシ
基、ベンジルオキシ基(ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環の水素
が置換されていてもよい。)、シアノ基、ハロゲノ
メチル基の一種または二種以上で置換されていて
もよいフエニル基、ナフチル基、チオフエン
基またはフリル基を示す。〕で表わされるカルボ
ニル化合物を溶媒中で、該溶媒中に不活性気体を
通気させながら、シアン化水素化ホウ素化合物に
より還元的に縮合させると構造不明の副生物の生
成が大巾に押さえられること及び発生するシアン
化水素ガスも除去できることを見い出した。 本発明は上記知見により完成されたものであ
る。 前記一般式〔〕、〔〕、〔〕における低級ア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロプル基、n−ブチル基、イ
ソブチル基等のC1〜C4のアルキル基が、ハロゲ
ンとしては、例えばフツ素、塩素、臭素等が、低
級アルキル基としては、例えばエチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基等のC2〜C6のアルキレン基が、シクロアルキ
ル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル
基、シクロデカニル基、シクロウンデカニル基等
のC5〜C12のシクロアルキル基が、低級アルコキ
シ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等のC1〜C4のアルコ
キシが、ハロゲノメチル基としては、例えばトリ
フルオロメチル基、トリクロロメチル基等が挙げ
られる。 上記Aにおける
A group represented by [Formula] (where R 5 and R 6 are each a hydrogen atom or a lower group optionally substituted with one or more phenyl, naphthyl, furyl, thiophene, norbornene, or cycloalkyl groups) Alkyl group (phenyl group further includes halogen atom, lower alkyl group, lower alkoxy group, cyano group, halogenomethyl group,
May be substituted with one or more substituents selected from cycloalkyl groups and benzyloxy groups (hydrogen on the benzene ring may be substituted with a halogen atom, lower alkoxy group, or benzyloxy group) . )). However, at least one of R 5 and R 6 is a group other than a hydrogen atom. ]
As a result of various studies on new methods for producing the aminopropylaminobleomycin derivative represented by
General formula [] [BX]-NH-( CH2 ) 3 -A-Y- NH2 [] [In the formula, [BX], Y and A are the same as above. ] Aminopropylbleomycins represented by the general formula [] R 3 -CO-R 4 [] [wherein R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, a cycloalkyl group, a cycloalkyl group, or one or more phenyl groups] Lower alkyl groups that may be substituted (phenyl groups, which may be further substituted with halogen atoms), halogen atoms, lower alkyl groups, lower alkoxy groups, cycloalkyloxy groups, benzyloxy groups (halogen atoms, lower alkoxy hydrogen of the benzene ring may be substituted with a benzyloxy group), a phenyl group, a naphthyl group, a thiophene group, or a furyl group, which may be substituted with one or more types of cyano group, halogenomethyl group. shows. ] When a carbonyl compound represented by the formula is reductively condensed with a boron cyanide compound in a solvent while an inert gas is passed through the solvent, the formation of structurally unknown by-products can be greatly suppressed and the generation thereof. It was also discovered that hydrogen cyanide gas can be removed. The present invention has been completed based on the above findings. Examples of the lower alkyl group in the general formulas [], [], [] include methyl group, ethyl group,
C1 to C4 alkyl groups such as propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, halogens include fluorine, chlorine, bromine, etc., lower alkyl groups include ethylene group, trimethylene group, etc. The C 2 - C 6 alkylene groups such as C, tetramethylene and hexamethylene groups are cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclodecanyl and cycloundecanyl groups. Examples of lower alkoxy groups include C5 to C12 cycloalkyl groups such as methoxy group, ethoxy group,
Examples of C 1 -C 4 alkoxy such as propoxy group and butoxy group and halogenomethyl group include trifluoromethyl group and trichloromethyl group. In A above

【式】としては例えばFor example, [formula] is

【式】【formula】 【式】【formula】 【式】【formula】

【式】 等が、【formula】 etc., but

【式】としては、例えばFor example, [formula] is

〔式中R1″は低級アルキルを、Xはハロゲン原子を示す。〕[In the formula, R 1 ″ represents lower alkyl, and X represents a halogen atom.]

で表わされるハライドを反応せしめて、一般式
〔〕 〔式中〔BX〕、Y、R1″、Zは前記に同じ。D
は酸の残基〕で表わされる四級塩とし、次いで公
知の方法を用いて、例えばZがtert−ブトキシカ
ルボニル基である場合には氷冷下で6規定塩酸を
用いてtert−ブチルオキシカルボニル基を除去
し、一般式〔〕の化合物を得ることができる。
この方法により得られる化合物としては例えば
A5MMHHが挙げられる。 次にR1とR2が異なる場合は前記の式〔〕の
化合物に一般式〔〕の化合物を還元的に縮合し
て一般式〔〕 〔式中Yは前記と同じ〕 とし、この化合物に一般式〔〕の化合物を反応
させ一般式〔〕 〔式中Y、R1″、R2、Z、D は前記に同じ〕 で示される四級塩とする。次いで前記の方法で保
護基を除去し一般式〔〕の化合物を得ることが
できる。この方法により得られる化合物としては
例えばA5MMHHが挙げられる。 また一般式〔〕で示されるカルボニル化合物
のうち、3,4−ジ(p−クロロベンジルオキ
シ)ベンズアルデヒド、3,4−ジ(3′,4′−ジ
クロロベンジルオキシ)ベンズアルデヒド、3,
4−(p−メトキシベンジルオキシ)ベンズアル
デヒド、4−(4′−ベンジルオキシベンジルオキ
シ)ベンジルアルデヒド)、4−シクロオクチル
メチルオキシベンズアルデヒドは新規化合物であ
り、以下に述べる方法で製造される。 〔式中R7はp−メトキシベンジル、3,4−ジ
クロロベンジル、p−クロロベンジル、p−ベン
ジルオキシベンジル、シクロオクチルメチルであ
り、Xはハロゲン、nは0又は1である〕 即ち、式〔〕で表わされる化合物と式〔〕
で表わされる化合物をアセトンなどの溶媒中で、
常温ないし溶媒の沸点までの温度で反応させれば
よい。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に水及び
クロロホルム、エーテルなどの有機溶媒を加える
とアルデビドは有機層に得られる。必要なら再結
晶又は粗生成物をシリカゲル又は吸着樹脂を用い
たカラムクロマトグラフイーで精製することによ
り純品が得られる。 又、シクロトリデカンカルボアルデヒドは、新
規化合物であり、以下に述べる方法で製造出来
る。即ち、亜鉛末、無水テトラヒドロフラン、ジ
ブロモメタンの混合物に四塩化チタンを加えこれ
にシクロトリデカノンを加え反応させるとメチレ
ンシクロトリデカンが得られる。ついでメタクロ
ロ過安息香酸でエポキシ化し、これを精製する。
これを無水ジクロロメタン中で三弗化硼素エーテ
ルコンプレツクスと反応させるとシクロトリデカ
ンカルボキサアルデヒドが得られる。 〔実施例〕 つぎに、実施例により本発明の製造法を説明す
る。 実施例 1 (A) 3−〔N−メキル−N−(3−アミノプロピ
ル)アミノ〕プロピルアミノブレオマイシン3
塩酸塩(以下BLM APMPと略記する。)の含
銅体0.500g(0.310mmol)を40mlのメタノー
ルに溶解し、3,4−ビス(ベンジルオキシ)
ベンズアルデヒド(以下BBBAと略記する。)
0.296g(0.93mmol)を加え、ついでシアン化
水素ホウ素ナトリウム39ml(0.62mmol)をメ
タノール5mlに溶解して添加する。40℃に昇温
後窒素ガスを20〜25ml/minで反応液中に通気
し、撹拌下48時間反応させる。反応後、室温ま
で冷却し、窒素ガスの通気を止める。 あらかじめメタノールを用いて充填したCM
−トヨパール 650M(東洋ソーダ社製)のカラ
ム(50ml容)に、反応液を注入して目的物を吸
着させる。吸着後150mlのメタノールを流し、
シアン化合物、ホウ素化合物およびBBBAを
除去する。ついで50%(v/v)メタノール水
に段階的に塩化ナトリウムを加えてナトリウム
濃度を0.30モルまで0.05モルづつ上昇させる遂
次的濃度勾配法により溶出を行う。(各濃度で
の溶出液を50mlづつ流す。)300mlの溶出液を流
し、ナトリウム濃度0.20モル前後で溶出する青
色の分画150mlを集める。高速液体クロマトグ
ラフイー定量法によるとこの分画の中には3−
{N−メチル−N−〔3′−(ビス(3″,4″−ビス
(ベンジルオキシ)ベンジル)アミノ)プロピ
ル〕アミノ}プロピルアミノブレオマイシン3
塩酸塩(以下BB−BLMと略記する。)の含銅
体が0.499g(0.225mmol)含まれている。収
率72.6%(BLM APMP含銅体より)。 この分画を、50%(v/v)メタノール水を
用いて充填したダイアイオンHP 20SSZ(三菱
化成社製)カラム(40ml容)に注入し、目的物
を吸着させる。つぎに、0.1%(v/v)酢酸
を含むメタノール水をメタノール濃度を50%よ
り90%まで10%づつ上昇させる逐次的濃度勾配
法により溶出させ精製を行う。(各濃度での溶
出液を60mlづつ流す。)300mlの溶出液を流し、
メタノール濃度80%前後で溶出する高速液体ク
ロマトグラフイー純度99.5%の青色の分画80ml
を集める。この中にはBB−BLMの含銅体
0.449g(0.203mmol)を含んでいる。 精製収率90.2%。 (B) (A)で得られる分画をメタノール濃度が10%
(v/v)になるまで濃縮し、脱銅のため蒸留
水で充填したアンバーライト XAD−2(ロー
ム・アンド・ハース社製)のカラム(50ml容)
に注入し吸着する。樹脂を塩化ナトリウムと5
%のEDTA・2Naからなる水溶液300mlで洗い
2%塩化ナトリウム100ml、蒸留水150mlの順序
で洗浄した後、最後に1/50規定塩酸水溶液−
メタノール(1:4v/v)で溶出し波長290n
m付近に吸収極大に示す分画を集める。ダウエ
ツクス 44(OH型;ザ・ダウ・ケミカル社製)
でPH6.0に調節した後、減圧下で濃縮し、凍結
乾燥したBB−BLMの脱銅体0.415g(0.193m
mol)を無色無定型粉末として得る。通算収率
62.3%(BLM APMP含銅体より)。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペク
トル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保
持値および高速液体クロマトグラフイーの保持
値において標品と一致する。 実施例 2 BLM APMPの含銅体0.500g(0.310mmol)
を40mlのメタノールに溶解し、シクロウンデカン
カルボキサアルデヒド0.11g(0.60mmol)を添
加し、ついでシアン化水素化ホウ素ナトリウム13
mg(0.21mmol)をメタノール5mlに溶解して添
加する。窒素ガスを35〜40ml/minで反応液中に
通気し、室温で撹拌下30時間反応させる。反応
後、実施例1と同様な操作を行う。 CM−トヨパール 650M処理により、3−{N
−メチル−N−〔3′−(シクロウンデカニルメチル
アミノ)プロピル〕アミノ}プロピルアミノブレ
オマイシン3塩酸塩(以下MCU−BLMと略記す
る。)の含銅体0.469g(0.264mmol)を含む分画
を得る。収率85.2%(BLM APMP含銅体より)。
ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
MCU−BLMの含銅体0.449g(0.252mmol)を
含む分画を得る。精製収率95.7%。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してMCU−BLMの脱銅体0.411g(0.240mmol)
を無色無定型粉末として得る。通算収率77.4%
(BLM APMP含銅体より)。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 実施例 3 3−{N,N−ジメチル−N−〔3′−(N,N−
ジメチル−N−(3″−アミノプロピルアミノ)プ
ロピル〕アミノ}プロピルアミノブレオマイシン
3塩酸塩2塩化物(以下BLM PP4Mと略記す
る。)の含銅体0.553g(0.310mmol)を40mlのメ
タノールに溶解し、ベンズアルデヒド0.099g
(0.93mmol)を加え、ついでシアン化水素化ホ
ウ素ナトリウム39mg(0.62mmol)をメタノール
5mlに溶解して添加し、実施例2と同様な操作を
行う。 CM−トヨパール 650M処理により、3−
{N,N−ジメチル−N−〔3′−N,N−ジメチル
−N−(3″−(ジベンジルアミノ)プロピル)アミ
ノ)プロピル〕アミノ}プロピルアミノブレオマ
イシン3塩酸塩2塩化物(以下PPDBZ−BLMと
略記する。)の含銅体0.493g(0.251mmol)を含
む分画を得る。収率81.0%(BLM PP4M含銅体
より)。 ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
PPDBZ−BLMの含銅体0.394g(0.201mmol)
を含む分画を得る。精製収率79.9%。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してPPDBZ−BLMの脱銅体0.363g(0.191m
mol)を無色無定型粉末として得る。通算収率
61.6%(BLM PP4M含銅体より)。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 実施例 4 実施例3において、BLM PP4Mの代わりに3
−〔4′−(3″−アミノプロピル)ピペラジリ−1−
イル〕プロピルアミノブレオマイシン4塩酸塩
(以下BLM PYと略記する。)の含銅体0.529g
(0.310mmol)、窒素ガスの代わりにヘリウムガ
スを使用し、同様な操作を行う。 CM−トヨパール 650M処理により、3−
{4′−〔3″−(ジベンジルアミノ)プロピル〕ピペ
リジル}プロピルアミノブレオマイシン4塩酸塩
(以下PYDBZ−BLMと略記する。)の含銅体
0.468g(0.248mmol)を含む分画を得る。収率
80.0%(BLM PY含銅体より)。 ついでダイアイオンHP 20SS精製により、
PYDBZ−BLMの含銅体0.422g(0.244mmol)
を含む分画を得る。精製収率90.2%。 この分画を脱銅し、減圧下で濃縮後、凍結乾燥
してPYDBZ−BLMの脱銅体0.386g(0.212m
mol)を無色無定型粉末として得る。 通算収率68.4%(BLM PY含銅体より)。 本品は紫外吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、含銅体での薄層クロマトグラフイーの保持値
および高速液体クロマトグラフイーの保持値にお
いて標品と一致する。 〔発明の効果〕 実施例1〜4の方法により生成する構造不明物
質及び前記一般式〔〕で表わされる化合物の生
成率及び反応液面上のシアン化水素濃度を表1に
示す。なお、不活性気体を通気しない方法による
それぞれの生成率及びシアン化水素濃度を対照例
として示した。
By reacting the halide represented by the general formula [] [In the formula, [BX], Y, R 1 ″, and Z are the same as above.D
is a tert-butyloxycarbonyl group using 6N hydrochloric acid under ice cooling using a known method. By removing the group, a compound of the general formula [] can be obtained.
Examples of compounds obtained by this method include
One example is A5MMHH. Next, when R 1 and R 2 are different, the compound of the general formula [] is reductively condensed with the compound of the above formula [] to form the general formula [] [In the formula, Y is the same as above], and this compound is reacted with a compound of the general formula [] to form the general formula [] [In the formula, Y, R 1 ″, R 2 , Z, and D are the same as above.] The protecting group is then removed by the above method to obtain a compound of the general formula [ ]. Examples of compounds obtained by this method include A5MMHH. Among the carbonyl compounds represented by the general formula [], 3,4-di(p-chlorobenzyloxy)benzaldehyde, 3,4-di(3',4'-dichlorobenzyloxy)benzaldehyde, 3,
4-(p-methoxybenzyloxy)benzaldehyde, 4-(4'-benzyloxybenzyloxy)benzaldehyde), 4-cyclooctylmethyloxybenzaldehyde is a new compound and is produced by the method described below. [In the formula, R 7 is p-methoxybenzyl, 3,4-dichlorobenzyl, p-chlorobenzyl, p-benzyloxybenzyl, cyclooctylmethyl, X is halogen, and n is 0 or 1] That is, the formula Compounds represented by [] and formula []
In a solvent such as acetone, a compound represented by
The reaction may be carried out at room temperature to the boiling point of the solvent. After the reaction is completed, the solvent is distilled off, and water and an organic solvent such as chloroform or ether are added to the residue to obtain aldebide in the organic layer. If necessary, a pure product can be obtained by recrystallization or by purifying the crude product by column chromatography using silica gel or adsorption resin. Furthermore, cyclotridecanecarbaldehyde is a new compound and can be produced by the method described below. That is, when titanium tetrachloride is added to a mixture of zinc dust, anhydrous tetrahydrofuran, and dibromomethane, and cyclotridecanone is added and reacted, methylene cyclotridecane is obtained. This is then purified by epoxidation with metachloroperbenzoic acid.
Reaction of this with boron trifluoride ether complex in anhydrous dichloromethane yields cyclotridecane carboxaldehyde. [Example] Next, the manufacturing method of the present invention will be explained with reference to Examples. Example 1 (A) 3-[N-Mekyl-N-(3-aminopropyl)amino]propylaminobleomycin 3
Dissolve 0.500 g (0.310 mmol) of copper-containing hydrochloride (hereinafter abbreviated as BLM APMP) in 40 ml of methanol, and dissolve 3,4-bis(benzyloxy).
Benzaldehyde (hereinafter abbreviated as BBBA)
0.296 g (0.93 mmol) is added, followed by 39 ml (0.62 mmol) of sodium borohydrocyanide dissolved in 5 ml of methanol. After raising the temperature to 40°C, nitrogen gas is bubbled into the reaction solution at a rate of 20 to 25 ml/min, and the reaction is allowed to proceed with stirring for 48 hours. After the reaction, cool to room temperature and stop supplying nitrogen gas. CM pre-filled with methanol
- Inject the reaction solution into a Toyopearl 650M (manufactured by Toyo Soda Co., Ltd.) column (50 ml volume) to adsorb the target substance. After adsorption, pour 150ml of methanol into the
Removes cyanide, boron compounds and BBBA. Elution is then carried out by a sequential concentration gradient method in which sodium chloride is added stepwise to 50% (v/v) methanol water to increase the sodium concentration by 0.05 mol to 0.30 mol. (Flow 50ml of the eluate at each concentration.) Run 300ml of the eluate and collect 150ml of the blue fraction that elutes at a sodium concentration of around 0.20M. According to high performance liquid chromatography quantitative method, this fraction contains 3-
{N-methyl-N-[3′-(bis(3″,4″-bis(benzyloxy)benzyl)amino)propyl]amino}propylaminobleomycin 3
Contains 0.499 g (0.225 mmol) of copper-containing hydrochloride (hereinafter abbreviated as BB-BLM). Yield 72.6% (from BLM APMP copper-containing body). This fraction is injected into a Diaion HP 20SSZ (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) column (40 ml volume) packed with 50% (v/v) methanol water to adsorb the target product. Next, purification is carried out by eluting methanol water containing 0.1% (v/v) acetic acid by a sequential concentration gradient method in which the methanol concentration is increased from 50% to 90% in 10% increments. (Flow 60ml of the eluate at each concentration.) Pour 300ml of the eluate,
80ml of blue fraction with high performance liquid chromatography purity of 99.5% eluting at methanol concentration of around 80%
Collect. Among these are copper-containing bodies of BB-BLM.
Contains 0.449g (0.203mmol). Purification yield 90.2%. (B) The fraction obtained in (A) with a methanol concentration of 10%
Amberlite XAD-2 (manufactured by Rohm and Haas) column (50 ml volume) concentrated to
inject into and absorb. Resin with sodium chloride 5
Wash with 300 ml of an aqueous solution of 2% EDTA/2Na, wash with 100 ml of 2% sodium chloride, then 150 ml of distilled water, and finally add 1/50 N hydrochloric acid aqueous solution.
Elute with methanol (1:4v/v) wavelength 290n
Collect the fraction showing the absorption maximum near m. Dowex 44 (OH type; manufactured by The Dow Chemical Company)
After adjusting the pH to 6.0, 0.415 g (0.193 m
mol) as a colorless amorphous powder. Total yield
62.3% (from BLM APMP copper-containing body). This product matches the standard product in terms of ultraviolet absorption spectrum, infrared absorption spectrum, retention value in thin layer chromatography on a copper-containing body, and retention value in high performance liquid chromatography. Example 2 BLM APMP copper-containing substance 0.500g (0.310mmol)
was dissolved in 40 ml of methanol, 0.11 g (0.60 mmol) of cycloundecanecarboxaldehyde was added, and then sodium cyanoborohydride 13
mg (0.21 mmol) dissolved in 5 ml of methanol is added. Nitrogen gas is bubbled into the reaction solution at a rate of 35 to 40 ml/min, and the reaction is allowed to proceed at room temperature with stirring for 30 hours. After the reaction, the same operation as in Example 1 is performed. CM-Toyopearl 650M treatment allows 3-{N
-Methyl-N-[3'-(cycloundecanylmethylamino)propyl]amino}propylaminobleomycin trihydrochloride (hereinafter abbreviated as MCU-BLM) containing 0.469 g (0.264 mmol) of copper-containing substance Get a picture. Yield 85.2% (from BLM APMP copper-containing body).
Then, by Diaion HP 20SS purification,
A fraction containing 0.449 g (0.252 mmol) of copper-containing MCU-BLM is obtained. Purification yield 95.7%. This fraction was decoppered, concentrated under reduced pressure, and then lyophilized to yield 0.411 g (0.240 mmol) of decoppered MCU-BLM.
is obtained as a colorless amorphous powder. Total yield 77.4%
(From BLM APMP copper-containing body). This product matches the standard product in terms of ultraviolet absorption spectrum, infrared absorption spectrum, retention value in thin layer chromatography on a copper-containing body, and retention value in high performance liquid chromatography. Example 3 3-{N,N-dimethyl-N-[3'-(N,N-
Dissolve 0.553 g (0.310 mmol) of the copper-containing substance of dimethyl-N-(3″-aminopropylamino)propyl]amino}propylaminobleomycin trihydrochloride dichloride (hereinafter abbreviated as BLM PP4M) in 40 ml of methanol. 0.099g of benzaldehyde
(0.93 mmol) and then 39 mg (0.62 mmol) of sodium cyanoborohydride dissolved in 5 ml of methanol are added, and the same operation as in Example 2 is carried out. By CM-Toyo Pearl 650M treatment, 3-
{N,N-dimethyl-N-[3′-N,N-dimethyl-N-(3″-(dibenzylamino)propyl)amino)propyl]amino}propylaminobleomycin trihydrochloride dichloride (hereinafter referred to as PPDBZ) A fraction containing 0.493 g (0.251 mmol) of copper-containing body of -BLM is obtained. Yield 81.0% (from BLM PP4M copper-containing body). Then, by Diaion HP 20SS purification,
Copper content of PPDBZ-BLM 0.394g (0.201mmol)
Obtain a fraction containing Purification yield 79.9%. This fraction was decoppered, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give 0.363 g (0.191 m
mol) as a colorless amorphous powder. Total yield
61.6% (from BLM PP4M copper-containing body). This product matches the standard product in terms of ultraviolet absorption spectrum, infrared absorption spectrum, retention value in thin layer chromatography on a copper-containing body, and retention value in high performance liquid chromatography. Example 4 In Example 3, 3 instead of BLM PP4M
-[4′-(3″-aminopropyl)piperazily-1-
0.529 g of copper-containing substance of propylaminobleomycin tetrahydrochloride (hereinafter abbreviated as BLM PY)
(0.310 mmol), and perform the same operation using helium gas instead of nitrogen gas. By CM-Toyopearl 650M treatment, 3-
Copper-containing compound of {4′-[3″-(dibenzylamino)propyl]piperidyl}propylaminobleomycin tetrahydrochloride (hereinafter abbreviated as PYDBZ-BLM)
A fraction containing 0.468 g (0.248 mmol) is obtained. yield
80.0% (from BLM PY copper-containing body). Then, by Diaion HP 20SS purification,
Copper content of PYDBZ-BLM 0.422g (0.244mmol)
Obtain a fraction containing Purification yield 90.2%. This fraction was decoppered, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give 0.386 g (0.212 m
mol) as a colorless amorphous powder. Total yield 68.4% (from BLM PY copper-containing body). This product matches the standard product in terms of ultraviolet absorption spectrum, infrared absorption spectrum, retention value in thin layer chromatography on a copper-containing body, and retention value in high performance liquid chromatography. [Effects of the Invention] Table 1 shows the production rates of the structurally unknown substance and the compound represented by the general formula [] and the hydrogen cyanide concentration on the reaction liquid surface produced by the methods of Examples 1 to 4. In addition, the respective production rates and hydrogen cyanide concentrations obtained by methods that do not pass inert gas are shown as control examples.

【表】 * 反応液の液体クロマトグラフイーによ
る測定値より算出した。
この表から明らかなように対照例では構造不明
物質が約4〜8%生成するのに対し、本発明方法
の実施例では約0.5〜1%程度とその生成が約1/5
〜1/8に大巾に減少し、それに応じ目的物である
一般式〔〕の化合物の収率が約4〜6%程度向
上している。 又、反応液面のシアン化水素濃度も300〜
360ppmから12〜15ppmへと大巾に低下してる。 以上から明らかなように本発明方法によると構
造不明の副反応生成物を従来法に比し約1/5〜1/8
と大巾に減少されることができ、目的物の収率も
向上する。又、シアン化水素濃度が大巾に低下す
るので、作業環境が大巾に改善される。
[Table] * Calculated from the values measured by liquid chromatography of the reaction solution.
As is clear from this table, in the control example, about 4 to 8% of substances with unknown structure are produced, whereas in the example of the method of the present invention, the production is about 0.5 to 1%, which is about 1/5.
The yield of the target compound of general formula [] has been improved by about 4 to 6%. In addition, the hydrogen cyanide concentration at the reaction liquid surface is 300~
It has dropped dramatically from 360ppm to 12-15ppm. As is clear from the above, the method of the present invention reduces side reaction products of unknown structure by approximately 1/5 to 1/8 compared to the conventional method.
The yield of the target product can also be improved. Furthermore, since the concentration of hydrogen cyanide is greatly reduced, the working environment is greatly improved.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 〔BX〕−NH−(CH23−A−Y−NH2 〔式中〔BX〕はブレオマイシン酸のカルボキシ
ル基から水酸基を除いた残基を示し、Aは式
【式】【式】【式】または 【式】で示される基 (ここで、R1は水素原子、低級アルキル基また
はベンジル基、R2は低級アルキル基またはベン
ジル基、Y、Rは低級アルキレン基である。)を
示す。〕で表わされるアミノプロピルアミノブレ
オマイシンと、一般式 R3−CO−R4 〔式中R3、R4はそれぞれ、水素原子、シク
ロアルキル基、シクロアルキル基またはフエニ
ル基で一つ以上置換されていてもよい低級アルキ
ル基(フエニル基はさらにハロゲン原子で置換さ
れていてもよい。)、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、シクロアルキルオキシ
基、ベンジルオキシ基(ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環の水素
が置換されていてもよい。)、シアノ基、ハロゲノ
メチル基の一種または二種以上で置換されていて
もよいフエニル基、ナフチル基、チオフエン
基またはフリル基を示す。〕で表わされるカルボ
ニル化合物を溶媒中で、該溶媒中に不活性気体を
通気させながら、シアン化水素化ホウ素化合物に
より、還元的に縮合することを特徴とする一般式 〔BX〕−NH−(CH23−A−Y−B 〔式中〔BX〕、YおよびAは前記と同じ。Bは
【式】で示される基(ここでR5、R6はそ れぞれ水素原子またはフエニル基、ナフチル
基、フリル基、チオフエン基、ノルボルネン基、
シクロアルキル基で一つ以上置換されていてもよ
い低級アルキル基(フエニル基はさらにハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シア
ノ基、ハロゲノメチル基、シクロアルキルオキシ
基、ベンジルオキシ基(ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、ベンジルオキシ基でベンゼン環上の水
素が置換されていてもよい)、から選ばれる一種
または二種以上の置換基で置換されていてもよ
い。))を示す。ただし、R5、R6のどちらか少な
くとも一方は水素原子以外の基である。〕で表わ
される、アミノプロピルアミノブレオマイシン誘
導体およびその塩の製造法。
[Claims] 1 General formula [BX]-NH-(CH 2 ) 3 -A-Y-NH 2 [In the formula, [BX] represents a residue obtained by removing the hydroxyl group from the carboxyl group of bleomycin acid, and A is a group represented by the formula [Formula] [Formula] [Formula] or [Formula] (where R 1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group or a benzyl group, R 2 is a lower alkyl group or a benzyl group, Y and R are (lower alkylene group). Aminopropylaminobleomycin represented by the general formula R 3 −CO−R 4 [wherein R 3 and R 4 are each substituted with one or more hydrogen atoms, cycloalkyl groups, cycloalkyl groups, or phenyl groups] a lower alkyl group (the phenyl group may be further substituted with a halogen atom), a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a cycloalkyloxy group, a benzyloxy group (a halogen atom, a lower alkoxy group, hydrogen of the benzene ring may be substituted with a benzyloxy group), a phenyl group, a naphthyl group, a thiophene group, or a furyl group that may be substituted with one or more types of cyano group, halogenomethyl group. . ] [BX]-NH-(CH 2 ) 3 -A-Y-B [In the formula, [BX], Y and A are the same as above. B is a group represented by the formula (where R 5 and R 6 are each a hydrogen atom or a phenyl group, a naphthyl group, a furyl group, a thiophene group, a norbornene group,
A lower alkyl group that may be substituted with one or more cycloalkyl groups (the phenyl group is further substituted with a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, a halogenomethyl group, a cycloalkyloxy group, a benzyloxy group (a halogen atom) The hydrogen on the benzene ring may be substituted with a lower alkoxy group, a benzyloxy group), and one or more substituents selected from the following. However, at least one of R 5 and R 6 is a group other than a hydrogen atom. ] A method for producing an aminopropylaminobleomycin derivative and a salt thereof.
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