JPH0461693A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0461693A
JPH0461693A JP2173542A JP17354290A JPH0461693A JP H0461693 A JPH0461693 A JP H0461693A JP 2173542 A JP2173542 A JP 2173542A JP 17354290 A JP17354290 A JP 17354290A JP H0461693 A JPH0461693 A JP H0461693A
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Shinichi Mori
森 真一
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Abstract

PURPOSE:To execute the page write to a large capacity EPROM by inputting a page write mode setting signal from an address signal or read-out/write control signal terminal, and using newly a part of a data pin as a signal input terminal. CONSTITUTION:When the device becomes a page write mode, a select gate 31 to which a data input/output terminal D8 is connected is closed by setting so that a control signal (a) becomes an L level, and the data input/output terminal D8 becomes a cut-off state. The connecting relation of input/output terminals of the remaining each memory array 21 and the select gate is also the same. That is, D8-D15 in the data input/output terminals D0-D15 become unnecessary, therefore, one piece of them is used as an address terminal A17, and other one piece is used newly as a -PGM signal terminal being one of read-out/write control signals. In such a way, the device of a large capacity whose write time is shortened is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、特にデータ書込み
時間を大幅に短縮することができる半導体記憶装置に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a semiconductor memory device that can significantly shorten data write time.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の半導体記憶装置に対するデータ書込みについて第
3図を参照して説明する。第3図中、lは例えばフロー
ティングゲート形メモリトランジスタを行方向および列
方向に配列して構成されたメモリアレイであり、このメ
モリアレイ1を16個(MO〜M15)配置して不揮発
性メモリを構成している。2はアドレス端子、3はアド
レスバッファ、4は行デコーダ、5は列デコーダ、6は
列選択ゲート、7は読出し/書込み制御信号端子、8は
読出し/書込み制御回路、9はデータ入出力バッファで
ある。00〜D15は各入出力バッファに結合された合
計16個のデータ入出力端子である。
Data writing to a conventional semiconductor memory device will be explained with reference to FIG. In FIG. 3, l is a memory array constructed by arranging, for example, floating gate type memory transistors in the row and column directions, and 16 memory arrays 1 (MO to M15) are arranged to form a non-volatile memory. It consists of 2 is an address terminal, 3 is an address buffer, 4 is a row decoder, 5 is a column decoder, 6 is a column selection gate, 7 is a read/write control signal terminal, 8 is a read/write control circuit, and 9 is a data input/output buffer. be. 00 to D15 are a total of 16 data input/output terminals coupled to each input/output buffer.

次に第3図の半導体記憶装置の動作について説明する。Next, the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 3 will be explained.

まずあるアドレスがアドレス端子2より入力されると、
その行アドレス成分、列アドレス成分がそれぞれ行デコ
ーダ4、列デコーダ5に供給される0行デコーダ4の出
力はメモリアレイ1に供給され、列デコーダ5の出力は
列選択ゲート6に入力され、これにより各々のメモリア
レイMO〜M15の所望の番地のメモリトランジスタを
選択することができる。このように、各メモリアレイM
O−M15には同じ行デコーダ4の出力および列選択ゲ
ート6の出力が並列に入力されるため、1つのアドレス
指定により16個のメモリアレイMO−M15の同じ番
地が同時に選択される。
First, when a certain address is input from address terminal 2,
The output of the 0 row decoder 4, whose row address component and column address component are supplied to the row decoder 4 and column decoder 5, respectively, is supplied to the memory array 1, and the output of the column decoder 5 is input to the column selection gate 6, which Accordingly, a memory transistor at a desired address in each memory array MO to M15 can be selected. In this way, each memory array M
Since the output of the same row decoder 4 and the output of the column selection gate 6 are inputted in parallel to O-M15, the same address of 16 memory arrays MO-M15 is simultaneously selected by one address specification.

次にこの不揮発性メモリから情報を読出すためには、読
出し/書込み制御信号端子7に読出し信号をセットしく
例えば汎用EFROMを例にとるならば、第4図のCE
=L、0E=L、PGM=H等)、読出しモードにする
。そして上述した通り所望のアドレス信号をアドレス端
子2より入力すると、指定されたアドレスに対応するメ
モリトランジスタが選択され、列選択ゲート6を通過し
たのちデータ入出力バッファ9で増幅されて、データ入
出力端子DO〜D15に並列に出力される。
Next, in order to read information from this nonvolatile memory, a read signal must be set to the read/write control signal terminal 7. For example, if we take a general-purpose EFROM, the CE shown in FIG.
=L, 0E=L, PGM=H, etc.), set to read mode. As described above, when a desired address signal is input from the address terminal 2, the memory transistor corresponding to the specified address is selected, passes through the column selection gate 6, is amplified by the data input/output buffer 9, and is input/output. It is output in parallel to terminals DO to D15.

この不揮発性メモリに情報を書込むためには。To write information to this non-volatile memory.

才ず読出し/書込み制御信号端子7に書込み信号をセッ
トしく同様に例えばCE=L、OE=H1PGM=H等
)、書込みモードにする。そして読出し時と同様に所望
のアドレス信号をアドレス端子2より入力して、メモリ
トランジスタを選択すると共に、データ入出力端子DO
〜D15に必要なデータを入力しておき、さらに読出し
/書込み制御信号端子から書込み信号(同様にPGMの
しパルス信号等)を入力することにより、所望の情報を
メモリトランジスタに書込むことができる。
Similarly, set a write signal to the read/write control signal terminal 7 (for example, CE=L, OE=H1PGM=H, etc.) to enter the write mode. Then, as in the case of reading, a desired address signal is input from the address terminal 2 to select the memory transistor, and the data input/output terminal DO
~ Desired information can be written into the memory transistor by inputting necessary data to D15 and further inputting a write signal (similarly a PGM pulse signal, etc.) from the read/write control signal terminal. .

PGM信号のLパルス部分に示したTpwが書込みパル
スと呼ばれるものである。
Tpw shown in the L pulse portion of the PGM signal is called a write pulse.

メモリアレイMO〜M15を構成するフローティングゲ
ート形メモリトランジスタ50を第5図に示す、同図に
おいて、10はP形半導体基板、11はソース、12は
ドレイン、13はコントロールゲート、14はフローテ
ィングゲートである。このフローティングゲート形メモ
リトランジスタ50では、フローティングゲート14に
電荷を蓄積することにより書込みが行なわれる。この場
合、情報が書込まれる以前はフローティングゲート14
には電荷は無くそのドレイン電流(Io )−コントロ
ールゲート電圧(Vc )特性は第6図の曲線Aに示す
ようになるが、ドレイン11およびコントロールゲート
13に高電圧が印加されるとドレイン11の近傍でアバ
ランシェブレイクダウン現象が生じ、エネルギーの高い
電子が発生されてフローティングゲート14にその電子
が注入される。このためメモリトランジスタ50のvl
J値は大きくなり、ドレイン電流(ID )−コントロ
ールゲート電圧(VG )特性は第6図の曲線Bに示す
ように変化し、書込み情報として保持される。この書込
み時にドレイン11、コントロールゲート14に印加さ
れる高電圧は書込みパルス入力PGMのTpwに同期し
たパルス電圧として印加されるため、第7図のメモリト
ランジスタ50の閾値電圧(VMT)−累積印加パルス
@(Tp)特性に示すように、パルスの累積印加幅に比
例してその閾値が変化する。十分な書込みを行なうため
には、通常数百1Lsec〜数十m5ec程度の書込み
パルス幅を必要とし、前出の第4図に示す信号タイミン
グ図において書込みパルスrpwが上記程度の時間必要
とされることになる。
Floating gate type memory transistors 50 constituting memory arrays MO to M15 are shown in FIG. 5. In the figure, 10 is a P-type semiconductor substrate, 11 is a source, 12 is a drain, 13 is a control gate, and 14 is a floating gate. be. In this floating gate type memory transistor 50, writing is performed by accumulating charges in the floating gate 14. In this case, before the information is written, the floating gate 14
There is no charge in the drain current (Io) vs. control gate voltage (Vc) characteristic as shown in curve A in FIG. An avalanche breakdown phenomenon occurs nearby, generating high-energy electrons and injecting them into the floating gate 14. Therefore, vl of the memory transistor 50
The J value increases, and the drain current (ID)-control gate voltage (VG) characteristic changes as shown by curve B in FIG. 6, and is held as written information. The high voltage applied to the drain 11 and control gate 14 during this write is applied as a pulse voltage synchronized with Tpw of the write pulse input PGM, so the threshold voltage (VMT) of the memory transistor 50 in FIG. 7 - cumulative applied pulse As shown in the @(Tp) characteristic, the threshold value changes in proportion to the cumulative pulse application width. In order to perform sufficient writing, a write pulse width of approximately several hundred 1Lsec to several tens of m5ec is normally required, and in the signal timing diagram shown in FIG. It turns out.

しかしながら、従来の半導体記憶装置において1例えば
メモリトランジスタが1メガビツトで、データ構成が×
16タイプの場合、つまりメモリアレイMO−M15を
持つものでは、1個のメモリアレイlに65,536ビ
ツトのメモリトランジスタが含まれており、これを全て
指定するためには65.536個のアドレスが必要であ
る。仮に書込みに必要なパルス幅を1.0腸Secと仮
定すると、全アドレスに対し書込みを行うとすると、書
込みに必要な時間は1.0m5ecX G5,5364
65secとなるが、メモリ容量がさらに大きくなると
書込みに要する時間はさらに長くなる。並列に書込みを
行うデータ数を増加する方法も、パッケージ端子数等で
強く制約を受けるために実現しにくい、このため、メモ
リトランジスタ自体の物理的特性を向上させて書込みパ
ルス幅を短縮する方法や、ページ書込み方式と呼ばれる
方法が考えられて来た。
However, in conventional semiconductor memory devices, one memory transistor is 1 megabit, and the data structure is
In the case of 16 types, that is, the one with memory array MO-M15, one memory array l includes 65,536 bits of memory transistors, and 65,536 addresses are required to specify all of them. is necessary. Assuming that the pulse width required for writing is 1.0sec, and writing to all addresses, the time required for writing is 1.0m5ecX G5,5364
This is 65 seconds, but as the memory capacity becomes larger, the time required for writing becomes even longer. Methods to increase the number of data that can be written in parallel are difficult to implement because they are strongly constrained by the number of package pins, etc. For this reason, methods such as shortening the write pulse width by improving the physical characteristics of the memory transistor itself and , a method called the page write method has been considered.

次に従来例としてページ書込み方式を採用した半導体記
憶装置について説明する。第8図にページ書込み方式に
基づいて構成された半導体記憶装置のブロック図を示す
、同図において、第3図と同一符号を用いて示した部分
については、同一または相当部分を表している。同図中
、1a−1dで示したのは、例えば第5図に示すような
フローティングゲート形メモリトランジスタを行方向お
よび列方向に配列したメモリアレイであり、これらメモ
リアレイ1a〜1dを合わせると、第3図のメモリアレ
イ1に相当する構成を想定している。 6a〜6dは上
記メモリアレイ1a−1dに対応して設けられたゲート
で、各メモリアレイ中のメモリトランジスタに書込むデ
ータをラッチする機能を具えた列選択ゲートである。1
5は各メモリアレイ1中のメモリトランジスタから読出
された情報を入出力バッファ9に伝達するバスである。
Next, a semiconductor memory device employing a page write method will be described as a conventional example. FIG. 8 shows a block diagram of a semiconductor memory device configured based on the page write method. In the figure, parts indicated using the same reference numerals as in FIG. 3 represent the same or equivalent parts. In the figure, reference numerals 1a to 1d indicate memory arrays in which floating gate type memory transistors, such as those shown in FIG. A configuration corresponding to the memory array 1 in FIG. 3 is assumed. Gates 6a to 6d are provided corresponding to the memory arrays 1a to 1d, and are column selection gates having a function of latching data to be written to the memory transistors in each memory array. 1
A bus 5 transmits information read from the memory transistors in each memory array 1 to the input/output buffer 9.

第8図中のメモリブロック20.20・・・・は上記の
メモリアレイl、列選択ゲート6a〜6d、データ入出
力バッファ9で構成されている。
The memory blocks 20, 20, . . . in FIG.

次に第8図のページ書込み方式を採用した半導体記憶装
置の動作について説明する。所望のメモリセルを選択す
る方法と読出す方法は第3図に示す従来の半導体記憶装
置と同様である。すなわち、所望のメモリセルを選択す
る場合は、あるアドレスがアドレス端子2に供給され、
その行アドレス成分は行デコーダ4を経てメモリアレイ
lに供給され、列アドレス成分は列デコーダ5を経て列
選択ゲート6a〜6dに入力される。これにより、各メ
モリブロック20中のメモリアレイlの所望の番地のメ
モリトランジスタを選択することができる。
Next, the operation of the semiconductor memory device employing the page write method shown in FIG. 8 will be explained. The method of selecting and reading a desired memory cell is the same as in the conventional semiconductor memory device shown in FIG. That is, when selecting a desired memory cell, a certain address is supplied to address terminal 2,
The row address component is supplied to the memory array l via the row decoder 4, and the column address component is input to the column selection gates 6a to 6d via the column decoder 5. Thereby, a memory transistor at a desired address of memory array l in each memory block 20 can be selected.

メモリトランジスタから情報を読出す場合は、読出し/
書込み制御信号端子7に読出し信号をセットして読出し
モードにする。そして、上述した通り所望のアドレス信
号をアドレス端子2より入力すると、指定されたアドレ
スに対応するメモリトランジスタが選択され、読出され
た情報は列選択ゲート6a〜6dを経てデータ入出力バ
ッファ9に供給され、該データ入出力バッファ9で適当
に増幅されてデータ入出力端子Do−015に並列的に
出力される。
When reading information from memory transistors, read/write
A read signal is set to the write control signal terminal 7 to set the read mode. Then, as described above, when a desired address signal is input from the address terminal 2, the memory transistor corresponding to the specified address is selected, and the read information is supplied to the data input/output buffer 9 via the column selection gates 6a to 6d. The data is appropriately amplified by the data input/output buffer 9 and output in parallel to the data input/output terminal Do-015.

ページ書込みを行うには、読出し/書込み制御信号端子
7に信号をセットすると共に一部のアドレス信号(通常
は列アドレスの一部を使う事が多い)を用いて列選択ゲ
ー)6a〜6dを動作させる様にする。さらに、所望の
メモリトランジスタ選択のだめのアドレス信号をアドレ
ス端子2より入力すると共にデータ入出力端子DO〜0
15より必要とされるデータを入力し、データラッチの
ための信号を読出し/書込み制御信号端子7より入力し
て1列選択ゲー)6a〜6dに順次、書込みデータをラ
ッチさせる。第9図に上述の各信号のタイミングを示す
、同図において、アドレス信号(AOlAI)及び読出
し/書込み制御信号(CE、OE、PGM)によって、
DATAO(=データ入出力端子DOよりの入力信号)
を列選択ゲート6a〜6dにラッチする状態を表してい
る(ラッチ1〜ラツチ4)図中のOEのLパルスをアド
レス信号(AO,AI)の4つの状態において発生させ
ることにより、その期間にDATAOに入力されている
データ(Dl、D2、D3.D4)を列選択ゲート(6
a〜6d)に取込んでおき、PGMの書込みパルスTp
wを印加することで、第8図のメモリアレイ1a−1d
に対し各々1個のメモリトランジスタ、つまり合計4個
のメモリトランジスタへ同時に書込むものである。この
時、データ入出力端子D1〜D15に対応する残りのメ
モリアレイに対しても同時に書込みを行なうことは言う
迄もない。
To perform page writing, a signal is set to the read/write control signal terminal 7, and a part of the address signal (usually a part of the column address is often used) is used to select the column selection gates) 6a to 6d. Make it work. Further, an address signal for selecting a desired memory transistor is input from address terminal 2, and data input/output terminals DO~0
15, and a signal for data latching is inputted from the read/write control signal terminal 7 to cause the column selection gates 6a to 6d to latch the write data in sequence. FIG. 9 shows the timing of each of the above-mentioned signals. In the same figure, the address signal (AOlAI) and the read/write control signals (CE, OE, PGM)
DATAO (=input signal from data input/output terminal DO)
By generating the L pulse of OE in the figure in the four states of the address signal (AO, AI) (latch 1 to latch 4), which represents the state in which the address signals (AO, AI) are latched to the column selection gates 6a to 6d, The data (Dl, D2, D3.D4) input to DATAO is sent to the column selection gate (6
a to 6d), and write the PGM write pulse Tp.
By applying w, memory arrays 1a-1d in FIG.
In this case, data is simultaneously written into one memory transistor for each memory transistor, that is, a total of four memory transistors. Needless to say, at this time, writing is also performed simultaneously on the remaining memory arrays corresponding to the data input/output terminals D1 to D15.

このページ書込みモードにより、従来の1メガピツ)E
PROM(X16タイプ)において前述のように約65
sec必要であった書込みパルス印加時〔発明が解決し
ようとする課題〕 しかしながら、前出したパッケージに起因する端子数の
制限により、さらに大容量の半導体記憶装置(例えば4
メガピツ)EFROMなど)では、ページ書込みが行な
えないという問題が出てきた。この理由を第10図を例
に説明する。第10図には、いずれも40本の端子を持
つパッケージに収納された、1メガビツト、2メガビツ
ト、4メガビツトのEFROMの例を示している(いず
れも、データ構成がX16タイプ)、同図から明らかな
ように、1メガビツト、2メガビットEFROMでは、
読出し/書込み制御信号の1つであるPGM信号用の端
子をとることができるから、ページ書込みが可能である
が、4メガビ、トEFROMではアドレスA17用端子
を必要とするため、上記PGM信号用端子を設けること
ができず、ページ書込みができない、このため、従来例
で示した仮定を用いると、書込み時間は1メガビツトで
1、Om5ecX 65,536″、65SeCである
から、4メガピツ)EFROMで全ビットの書込みに要
する時間は約260sec (= 4 X 65sec
 )となり、生産性、使い易さ等の面から見て大きな問
題となっている。
With this page write mode, the conventional 1 megapix) E
In PROM (X16 type), approximately 65
sec [Problem to be Solved by the Invention] However, due to the limitation on the number of terminals due to the package mentioned above, even larger capacity semiconductor memory devices (for example, 4
(Megapits) EFROM, etc.), a problem has arisen in that page writing cannot be performed. The reason for this will be explained using FIG. 10 as an example. Figure 10 shows examples of 1 megabit, 2 megabit, and 4 megabit EFROMs, all of which are housed in packages with 40 terminals (all data configurations are X16 type). As is clear, in 1 megabit and 2 megabit EFROM,
Since a terminal for the PGM signal, which is one of the read/write control signals, can be used, page writing is possible. However, since a 4-megabyte EFROM requires a terminal for the address A17, the terminal for the PGM signal mentioned above can be used. Therefore, using the assumptions shown in the conventional example, the write time is 1, Om5ec The time required to write all bits is approximately 260 seconds (= 4 x 65 seconds
), which is a big problem from the viewpoint of productivity, ease of use, etc.

この発明は上記の様な問題点を解消するためになされた
もので、大容量の半導体記憶装置の書込み時間を短縮す
ることを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to shorten the write time of a large capacity semiconductor memory device.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明に係る半導体記憶装置は、アドレス信号または
読出し/書込み制御信号端子のいずれか1本からページ
書込みモード設定用信号を入力し、データピンの一部を
アドレスあるいは読出し/書込み制御用信号入力端子と
して新たに使用することにより、大容量EFROMに対
するページ書込みを実現できる様にしたものである。
The semiconductor memory device according to the present invention inputs a page write mode setting signal from either the address signal or the read/write control signal terminal, and connects some of the data pins to the address or read/write control signal input terminal. By newly using it as a memory card, page writing to a large capacity EFROM can be realized.

よび端子数のままでありながら、書込み時間が短縮され
た大容量の半導体記憶装置が得られる。
A large-capacity semiconductor memory device with shortened write time can be obtained while maintaining the same number of terminals.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の半導体記憶装置を、そのページ書込み
モード設定方法と、データの入力方法とを含めて第1図
を参照して説明する。第1図中。
Hereinafter, the semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to FIG. 1, including its page write mode setting method and data input method. In Figure 1.

第3図または第8図に示す従来の半導体記憶装置と同一
符号を用いた部分については、同一または相当部分を表
わしている。
Portions using the same reference numerals as those in the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 3 or FIG. 8 represent the same or equivalent portions.

同図で、21.21・・・・はメモリアレイで、各メモ
リアレイ中にはメモリブロック20a 、 20bが含
まれている。各メモリアレイ21中には、データ入出力
端子Do、D8;Di、D9.・・・・D7、D15か
らのデータ入力を上記メモリブロック20a、20bに
伝達するか、あるいは遮断するための3個のセレクトゲ
ート31が設けられている。セレクトゲート31は、こ
れらの各セレクトゲート31に供給される制御信号a、
b、cがHレベルのときに導通し、Lレベルのときに遮
断する。32.33は各メモリブロックの読出しデータ
を伝達するパスである。34はデータ入力制御のために
必要な論理回路の一例を示し、35は前述のAI?信号
を利用したページ書込みモード設定信号発生回路である
In the figure, 21, 21, . . . are memory arrays, and each memory array includes memory blocks 20a and 20b. Each memory array 21 has data input/output terminals Do, D8; Di, D9 . Three select gates 31 are provided for transmitting or blocking data input from D7 and D15 to the memory blocks 20a and 20b. The select gate 31 receives control signals a, which are supplied to each of these select gates 31,
Conductive when b and c are at H level and cut off when they are at L level. 32 and 33 are paths for transmitting read data of each memory block. 34 shows an example of a logic circuit necessary for data input control, and 35 shows the above-mentioned AI? This is a page write mode setting signal generation circuit using signals.

次に第1図の半導体記憶装置の動作について説明する。Next, the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be explained.

各メモリアレイ21中の所望のメモリセルを選択する方
法と読出す方法は第3図に示す従来の半導体記憶装置と
同様で、所望のメモリセルを選択する場合は、あるアド
レスがアドレス端子2に供給され、その行アドレス成分
は行デコーダ4を経てメモリアレイ21の各メモリブロ
ック20a、20bに供給され、列アドレス成分は列デ
コーダ5を経て第3図の列選択ゲート6a〜6dと同様
なゲート(図示されていない)に入力される。これによ
り、各メモリブロック20a 、 2Ob中の所望の番
地のメモリトランジスタを選択することができる。
The method of selecting and reading a desired memory cell in each memory array 21 is the same as in the conventional semiconductor memory device shown in FIG. The row address component is supplied to each memory block 20a, 20b of the memory array 21 via the row decoder 4, and the column address component is supplied via the column decoder 5 to gates similar to column select gates 6a to 6d in FIG. (not shown). Thereby, a memory transistor at a desired address in each memory block 20a, 2Ob can be selected.

メモリトランジスタから情報を読出す場合は、読出し/
書込み制御信号端子7に読出し信号をセットして読出し
モードにする。そして、上述した通り所望のアドレス信
号をアドレス端子2より入力すると、指定されたアドレ
スに対応するメモリトランジスタが選択され、読出され
た情報は第3図の列選択ゲート6a〜6dと同様なゲー
ト、データ人出力バッファ、およびパス32.33を経
てデータ入出力端子DO,D8;Di、D9;・・・・
D7.015に並列的に出力される。
When reading information from memory transistors, read/write
A read signal is set to the write control signal terminal 7 to set the read mode. As described above, when a desired address signal is input from the address terminal 2, the memory transistor corresponding to the specified address is selected, and the read information is transferred to the column selection gates 6a to 6d in FIG. Data output buffer and data input/output terminals DO, D8; Di, D9;
It is output in parallel to D7.015.

第1図の半導体記憶装置において、ページ書込みを行な
うには、例えばアドレス端子2の中のいずれかの端子(
この例では第1O図のアドレス端子A17)に高電圧の
ページ書込みモード切換信号を印加することにより、ペ
ージ書込みモード設定信号発生回路35はHレベルのペ
ージ書込みモード設定信号Paを発生する。このページ
書込みモード設定信号PIが読出し/書込み制御回路8
に入力されることにより、当該半導体記憶装置はページ
書込みモードになる。
In the semiconductor memory device shown in FIG. 1, in order to perform page writing, for example, one of the address terminals 2 (
In this example, by applying a high voltage page write mode switching signal to the address terminal A17) in FIG. 1O, the page write mode setting signal generation circuit 35 generates the H level page write mode setting signal Pa. This page write mode setting signal PI is read/write control circuit 8
By inputting this, the semiconductor memory device enters the page write mode.

第1図の半導体記憶装置がページ書込みモードになると
、制御信号aがLレベルになるように設定すれば、デー
タ入出力端子D8が接続されたセレクトゲート31は閉
じて、該データ入出力端子D8は遮断状態になる。残る
各メモリアレイ21の入出力端子とセレクトゲートとの
接続関係も同じであるので、上記制御信号aがLレベル
になることによってデータ入出力端子D9〜D15が接
続されたセレクトゲートも閉じて、これらのデータ入出
力端子D9〜DI5は遮断状態になる。つまり。
When the semiconductor memory device shown in FIG. 1 enters the page write mode, if the control signal a is set to the L level, the select gate 31 to which the data input/output terminal D8 is connected is closed, and the data input/output terminal D8 is closed. becomes blocked. Since the connections between the input/output terminals and the select gates of the remaining memory arrays 21 are the same, when the control signal a becomes L level, the select gates to which the data input/output terminals D9 to D15 are connected are also closed. These data input/output terminals D9 to DI5 are cut off. In other words.

16本のデータ入出力端子Do−D15のうちのD8〜
D15は不要となる。そこで、これら8本のデータ入出
力端子D8〜D15のうちの1本をアドレス端子AI?
端子として使用し、他の1本を読出し/書込み制御信号
の1つであるPGM信号端子としてそれぞれ新たに使用
する0例として、第1図に示すように、データ入出力端
子D8をアドレスA17端子として使用し、データ入出
力端子D9をPGM端子として使用する。これによって
、従来と同じ40端子の装置を使用して、全体として。
D8~ of the 16 data input/output terminals Do-D15
D15 becomes unnecessary. Therefore, one of these eight data input/output terminals D8 to D15 is connected to the address terminal AI?
As an example of using one terminal as a terminal and the other one as a PGM signal terminal, which is one of the read/write control signals, as shown in Figure 1, data input/output terminal D8 is connected to address A17 terminal. The data input/output terminal D9 is used as a PGM terminal. This allows the use of the same 40-terminal device as before.

AO−A17のアドレス信号端子、DO〜D7のデータ
入出力端子、CE、OE、PGMの読出し/書込み制御
信号端子、および電源系端子が得られることになる。こ
れにより、メモリ容量に応じたアドレス入力と、ページ
書込み制御に応じた制御信号が入力可能となる。
Address signal terminals for AO-A17, data input/output terminals for DO to D7, read/write control signal terminals for CE, OE, and PGM, and power supply system terminals are obtained. This makes it possible to input an address according to the memory capacity and a control signal according to page write control.

第2図(a)および第2図(b)に、ページ書込みモー
ドで無い場合と、ページ書込みモードの場合の各制御信
号a、b、cとデータ入出力端子DO側のメモリブロッ
ク20a、データ入出力端子D8側のメモリブロック2
0bとに入出力されるデータについて示す、ページ書込
みモードで無い場合には、第2図(a)に示すように、
制御信号aをHレベル、制御信号す、cをLレベルにす
れば各メモリアレイ21のメモリブロック20a 、 
20bに対応するデータ入出力端子Do−D15を使っ
てデータの入力または出力が可能である。一方、ページ
書込みモードでは、第2図(b)に示すように、制御信
号aをLレベルとし、また制御信号す、cをアドレス信
号AO,Atと制御信号OEとを組み合わせることによ
り同図のように発生させる(第9図と同様の信号系を用
いれば、論理的にはb=OE・AO,C=OEφAOで
ある)、これらの各信号を用いることにより、各メモリ
アレイ21中の2っのメモリブロック20aと20bに
交互にデータ入力が可能になる。さらにメモリブロック
20aまたは20b内部では従来のページ書込み時の書
込みデータのラッチ動作を行うようにすれば良く、内部
回路とページ書込み制御回路8の内容は第8図の半導体
記憶装置と同様の従来のものが使用できる。
FIG. 2(a) and FIG. 2(b) show the control signals a, b, c, the memory block 20a on the data input/output terminal DO side, the data Memory block 2 on the input/output terminal D8 side
As shown in Fig. 2(a), when the page write mode is not set, the data input/output to/from 0b is shown.
If control signal a is set to H level and control signals S and C are set to L level, memory blocks 20a of each memory array 21,
Data can be input or output using the data input/output terminal Do-D15 corresponding to 20b. On the other hand, in the page write mode, as shown in FIG. 2(b), the control signal a is set to L level, and the control signals S and C are combined with the address signals AO, At and the control signal OE. (If a signal system similar to that shown in FIG. 9 is used, logically b=OE・AO, C=OEφAO). By using these signals, two in each memory array 21 Data can be input alternately to the memory blocks 20a and 20b. Furthermore, inside the memory block 20a or 20b, a conventional latching operation of write data during page write may be performed, and the contents of the internal circuit and page write control circuit 8 are the same as the conventional semiconductor memory device shown in FIG. Things can be used.

第1図のこの発明の半導体記憶装置で使用されるページ
書込みモード設定信号発生回路35としては例えばil
1図に示すような構造のものが使用される。同図で、4
0はアドレスA17入力端子、41は例えば5.Ovの
電源端子、42はPチャンネルトランジスタ、43はN
チャンネルトランジスタ、44は接地、45はPチャン
ネルトランジスタ46とNチャンネルトランジスタ47
とからなるインバータ回路である。
For example, the page write mode setting signal generation circuit 35 used in the semiconductor memory device of the present invention shown in FIG.
A structure as shown in Fig. 1 is used. In the same figure, 4
0 is the address A17 input terminal, 41 is, for example, 5. Ov power supply terminal, 42 is P channel transistor, 43 is N
Channel transistor, 44 is ground, 45 is P channel transistor 46 and N channel transistor 47
This is an inverter circuit consisting of.

第11図の回路で、アドレスA17入力端子40に印加
されるページ書込みモード切換信号Vl11の電圧V2
が電源端子41に供給される電源電圧V+  (例えば
5.OV )にPチャンネルトランジスタ42の閾値電
圧Vl11を加えた値以上になると(つまりVIN> 
5.OV+Vth)、Pチ+7ネルトランジスタ42は
オンになり、出力V。utがHレベルになる。出力Vo
uLはページ書込みモード検知信号Pg として第1図
の制御回路8に供給される。
In the circuit of FIG. 11, the voltage V2 of the page write mode switching signal Vl11 applied to the address A17 input terminal 40
becomes equal to or greater than the sum of the power supply voltage V+ (for example, 5.OV) supplied to the power supply terminal 41 and the threshold voltage Vl11 of the P-channel transistor 42 (that is, VIN>
5. OV+Vth), the P channel +7 channel transistor 42 is turned on and the output is V. ut becomes H level. Output Vo
uL is supplied to the control circuit 8 of FIG. 1 as a page write mode detection signal Pg.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明の半導体記憶装置によれば、実
施例として用いた4メガピツ)EFROMでは、従来は
書込みに約260秒必要としたが、ページ書込みを実現
したことにより、こ−に示した例では、1回の書込みパ
ルスの印加で4個のアドレスに対し同時に書込むことが
できるので、全込むことができる。これにより、生産性
、使い易さ共に大幅に向上する。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the 4 megapixel EFROM used in the embodiment conventionally required approximately 260 seconds to write, but by realizing page writing, this In the above example, it is possible to write to four addresses at the same time by applying one write pulse, so that all addresses can be written. This greatly improves both productivity and ease of use.

なお、上述の実施例では、データ入出力端子DO〜DI
5の変更方法としてデータ長を16ビフトから8ビツト
にするものとしたが、組合せ方法はこれに限定されるも
のではない、また、実施例では1回の書込みパルスの印
加で4アドレス分が同時に書込める構成としたが、ペー
ジラ・ンチの方法および何アドレス分を同時にラッチす
るかについても、その構成方法はこれに限定されるもの
ではなく、変更可能である。ページ書込みモード駿足用
信号発生回路35についても、第11図に示した実施例
以外の任意の構成のものを使用することができる。さら
に、メモリとしてフローティングゲート形トランジスタ
を使用するものとして説明したが、他の構造のメモリで
あっても本発明は同様の効果を奏する。
Note that in the above embodiment, the data input/output terminals DO to DI
5, the data length was changed from 16 bits to 8 bits, but the combination method is not limited to this. Also, in the embodiment, four addresses can be written simultaneously by applying one write pulse. Although the structure is configured to allow writing, the method of page launch and the number of addresses to be latched at the same time are not limited to this, and can be changed. As for the page write mode fast signal generation circuit 35, any configuration other than the embodiment shown in FIG. 11 can be used. Furthermore, although the description has been made assuming that a floating gate type transistor is used as the memory, the present invention can produce similar effects even if the memory has a different structure.

以上の様に、パッケージ上の制約などでページ書込みが
不可能であった半導体記憶装置にもページ書込みが行な
える様な回路構成にしたので、書込み時間の大幅な短縮
が実現できる。
As described above, the circuit configuration is such that page writing can be performed even in a semiconductor memory device in which page writing is not possible due to packaging restrictions, so that the writing time can be significantly shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明による半導体記憶装置の一実施例を示
すブロック図、第2図(a)および第2図(b)は第1
図の半導体記憶装置の通常モード、ページ書込みモード
の各動作を説明する制御信号のタイミング図、第3図は
従来の半導体記憶装置の一例を示すブロック図、第4図
は第3図の従来の半導体記憶装置の動作を説明する制御
信号のタイミング図、第5図はメモリアレイを構成する
フローティングゲート形メモリトランジスタの構造を説
明する概略断面図、第6図および第7図は第6図のフロ
ーティングゲート形メモリトランジスタの情報書込み原
理を説明する図、第8図はページ書込みモードで動作可
能な従来の半導体記憶装置の一例を示すブロック図、第
9図は第8図の半導体記憶装置の動作を説明する制御信
号のタイミング図、第10図は40ピンパツケージの端
子配置図、第11図は第1図に示すこの発明の半導体記
憶装置で使用されるページ書込み゛モード設定信号発生
回路の一例を示す回路図、第12図は第11図のページ
書込みモード設定信号発生回路の動作を説明する動作特
性図である。 2・・・・アドレス端子、7・・・・読出し/書込み制
御信号端子、 20a 、 20b・・・・メモリブロ
ック、21・・・・メモリアレイ、31・・・・セレク
トゲート、32゜33・・・・バス、34・・・・論理
ゲート、DOND15・・・・・・データ入出力端子。 代  理  人 大  岩  増  雄 弓 、0 く夫 口 爛 箆 兜]0 目 NC: No Comecion 手 続 補 正 書(自発)
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIGS.
3 is a block diagram illustrating an example of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating the structure of a floating gate type memory transistor forming a memory array; FIGS. 6 and 7 are timing diagrams of control signals to explain the operation of a semiconductor memory device; FIGS. 8 is a block diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device that can operate in page write mode. FIG. 9 is a diagram illustrating the operation of the semiconductor memory device of FIG. 8. FIG. 10 is a terminal arrangement diagram of a 40-pin package, and FIG. 11 is an example of a page write mode setting signal generation circuit used in the semiconductor memory device of the present invention shown in FIG. 1. The circuit diagram shown in FIG. 12 is an operation characteristic diagram illustrating the operation of the page write mode setting signal generation circuit of FIG. 11. 2... Address terminal, 7... Read/write control signal terminal, 20a, 20b... Memory block, 21... Memory array, 31... Select gate, 32°33. ...Bus, 34...Logic gate, DOND15...Data input/output terminal. Deputy Jindai Iwa Masu Yuyumi, 0 Kufuguchienshikabuto] 0th NC: No Comecion Procedural amendment (voluntary)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)番地を指定することにより、複数のメモリトラン
ジスタ群によって構成された複数のメモリブロックから
上記指定された番地の情報の並列読出し、外部からの情
報の並列書込みが可能な半導体記憶装置において、 アドレス端子および読出し/書込み制御信号端子を含む
複数の信号入力端子と、 上記複数のメモリブロックの各々に結合された複数のデ
ータ入出力端子と、 上記複数の信号入力端子のうちのいずれかの信号入力端
子に供給されたページ書込みモード切換信号に応答して
ページ書込みモード設定信号を発生するページ書込みモ
ード設定信号発生回路と、上記ページ書込みモード設定
信号が発生すると、上記複数のデータ入出力端子のうち
の必要な本数以外の入力を遮断すると同時に該遮断され
たデータ入出力端子に対して別の信号入力バスを形成す
る回路と、 上記必要な本数のデータ入出力端子と上記すべてのメモ
リトランジスタ群との接続経路およびその経路を制御す
る回路とを具え、 上記ページ書込みモード時においては、同一メモリブロ
ック中の複数のメモリトランジスタ群に対して書込みを
行なうために、複数の独立した書込み回路を設けたこと
により、複数のデータを同一メモリブロック中の複数の
メモリトランジスタ群に同時に書込み可能としたことを
特徴とする半導体記憶装置。
(1) In a semiconductor memory device in which, by specifying an address, information at the specified address can be read in parallel from a plurality of memory blocks constituted by a plurality of memory transistor groups, and information can be written in parallel from the outside, a plurality of signal input terminals including an address terminal and a read/write control signal terminal; a plurality of data input/output terminals coupled to each of the plurality of memory blocks; and a signal of any one of the plurality of signal input terminals. A page write mode setting signal generation circuit generates a page write mode setting signal in response to a page write mode switching signal supplied to an input terminal, and when the page write mode setting signal is generated, the plurality of data input/output terminals are A circuit that cuts off inputs other than the necessary number and at the same time forms another signal input bus for the cut off data input/output terminals, and the necessary number of data input/output terminals and all the memory transistor groups mentioned above. In the page write mode, a plurality of independent write circuits are provided in order to write to a plurality of memory transistor groups in the same memory block. 1. A semiconductor memory device characterized in that a plurality of data can be simultaneously written into a plurality of memory transistor groups in the same memory block.
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