JPH0454677B2 - - Google Patents

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JPH0454677B2
JPH0454677B2 JP58113565A JP11356583A JPH0454677B2 JP H0454677 B2 JPH0454677 B2 JP H0454677B2 JP 58113565 A JP58113565 A JP 58113565A JP 11356583 A JP11356583 A JP 11356583A JP H0454677 B2 JPH0454677 B2 JP H0454677B2
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JP
Japan
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group
formula
salts
acid
compound
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58113565A
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Japanese (ja)
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JPS604191A (en
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Hiroshi Sadaki
Hiroyuki Imaizumi
Takashi Nagai
Kenji Takeda
Isao Myokan
Takihiro Inaba
Yasuo Watanabe
Yoshikazu Fukuoka
Shinzaburo Minami
Isamu Saikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
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Publication of JPS604191A publication Critical patent/JPS604191A/en
Publication of JPH0454677B2 publication Critical patent/JPH0454677B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、新芏なセフアロスポリン類、具䜓的
には、 䞀般匏 「匏䞭、R1は、氎玠原子たたはカルボキシル保
護基を、R2は、匏
The present invention provides novel cephalosporins, specifically, the general formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is a formula

【匏】匏䞭、R6は、 氎玠原子たたはアルキル基を、R7は、アルキル
たたはハロゲン原子で眮換されおいおもよいプ
ニル基を瀺す。で衚わされる基たたはアルキル
基で眮換されおいおもよい−チアゞア
ゞン−−ゞオキシド−−むル、テトラヒ
ドロ−−チアゞン−−ゞオキシド−
−むルもしくはむ゜チアゟリゞン−−ゞ
オキシド−−むル基を、R3は、氎玠原子を、
R4は、氎玠原子を、R5は、保護されおいおもよ
いアミノ基を、−−は、匏−CH2−たたは匏
[Formula] (In the formula, R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 7 represents a phenyl group which may be substituted with an alkyl or halogen atom.) optional 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl, tetrahydro-1,2-thiazine-1,1-dioxide-
2-yl or isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group, R 3 is a hydrogen atom,
R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an optionally protected amino group, -A- is the formula -CH 2 - or the formula

【匏】匏䞭、R8は、保護されおいおも よいカルボキシル基で眮換されおいおもよいアル
キル基を瀺し、は、シンたたはアンチ異性䜓もし
くはそれらの混合物でもよいこずを瀺す。で衚
わされる基を瀺す。」 で衚わされるセフアロスポリンおよびその塩類に
関する。 而しお、本発明の目的ずするずころは、広範囲
な抗菌スペクトルを有し、グラム陜性菌、グラム
陰性菌に察し優れた抗菌掻性を瀺し、か぀バクテ
リアが産生するβ−ラクタマヌれに察しおも安定
な性質を有し、人ならびに動物の疟病に察し経口
および非経口で優れた治療効果を発揮する新芏な
セフアロスポリンおよびその塩類を提䟛するこず
にある。 本発明のセフアロスポリン類は、セプム環の
䜍゚キ゜メチレン基に、匏
[Formula] (wherein R 8 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) Indicates the group represented. ” Concerning cephalosporin and its salts. Therefore, the object of the present invention is to have a broad antibacterial spectrum, exhibit excellent antibacterial activity against Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and be stable against β-lactamases produced by bacteria. The object of the present invention is to provide a novel cephalosporin and its salts, which have excellent therapeutic properties for human and animal diseases both orally and parenterally. The cephalosporins of the present invention have the formula

【匏】匏 䞭、R6およびR7は前蚘した意味を有する。で衚
わされるスルホンアミド基たたはアルキル基で眮
換されおいおもよい−チアゞアゞン−
−ゞオキシド−−むル、テトラヒドロ−
−チアゞン−−ゞオキシド−−む
ルもしくはむ゜チアゟリゞン−−ゞオキシ
ド−−むル基が結合しおいるずころにその特城
がある。 以䞋、さらに本発明を詳现に説明する。 本明现曞においお、特にこずわらない限り、ア
ルキルずは、C1〜14アルキル、あずえば、メチル、
゚チル、−プロピル、む゜プロピル、−ブチ
ル、む゜ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデ
シルたたはラりリルなどをアルコキシずは、䞊
で定矩したアルキル基を有する−−アルキル
を䜎玚アルキルずは、C1〜5アルキル、たずえ
ば、メチル、゚チル、−プロピル、む゜プロピ
ル、−ブチル、む゜ブチル、sec−ブチル、
tert−ブチルたたはペンチルなどを䜎玚アルコ
キシずは、䞊で定矩した䜎玚アルキル基を有する
−−䜎玚アルキルをアシルずは、C1〜12アシ
ル、たずえば、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、ベンゟむル、ナフトむル、ペンタンカルボニ
ル、シクロヘキサンカルボニル、フロむルたたは
テノむルなどをアシルオキシずは、䞊で定矩し
たアシル基を有する−−アシルをアルキルチ
オずは、䞊で定矩したアルキル基を有する−−
アルキルをアルケニルずは、C2〜10アルケニル、
たずえば、ビニル、アリル、iso−プロペニル、
−ペンテニルたたはブテニルなどをアルキニ
ルずは、C2〜10アルキニル、たずえば、゚チニル
たたは−プロピニルなどをシクロアルキルず
は、C3〜7シクロアルキル、たずえば、シクロプロ
ピルシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルたたはシクロヘプチルなどをシクロアルケ
ニルずは、C5〜7シクロアルケニル、たずえば、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプ
テニルなどをアリヌルずは、たずえば、プニ
ル、ナフチルたたはむンダニルなどをアリヌル
オキシずは、䞊で定矩したアリヌル基を有する−
−アリヌルをアルアルキルずは、たずえば、
ベンゞル、プネチル、−メチルベンゞルたた
はナフチルメチルなどをアルアルキルオキシず
は、䞊で定矩したアルアルキル基を有する−−
アルアルキル基を耇玠環匏基ずは、酞玠、窒玠
および硫黄から遞択された少なくずも個の耇玠
原子を含む耇玠環匏基、たずえば、フリル、チ゚
ニル、ピロリル、ピラゟリル、むミダゟリル、チ
アゟリル、む゜チアゟリル、オキサゟリル、む゜
オキサゟリル、チアゞアゟリル、オキサゞアゟリ
ル、チアトリアゟリル、オキサトリアゟリル、ト
リアゟリル、テトラゟリル、ピリゞル、−
−メチル−−ピロリニル、−−ピロリニ
ル、−メチルピペリゞニル、ピリダゞニル、
キノリル、プナゞニリル、−ベンゟゞオ
キ゜ラニル、ベンゟフリル、ベンゟチ゚ニル、ベ
ンゟオキサゟリル、ベンゟチアゟリルたたはクマ
リニルなどを耇玠環アルキルずは、䞊で定矩し
た耇玠環匏基およびアルキル基から成る基をハ
ロゲン原子ずは、たずえば、フツ玠、塩玠、臭玠
たたはペり玠原子などをそれぞれ意味する。 本明现曞䞭の各䞀般匏におけるR1は、氎玠原
子たたはカルボキシル保護基であり、カルボキシ
ル保護基ずしおは、埓来ペニシリンおよびセフア
ロスポリン系化合物の分野で通垞䜿甚されおいる
ものが挙げられる。これらのカルボキシル保護基
ずしおは接觊還元、化孊的還元たたはその他の緩
和な条件䞋で凊理すれば脱離する゚ステル圢成
基、たたは生䜓内においお容易に脱離する゚ステ
ル圢成基、たたは氎もしくはアルコヌルで凊理す
れば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基も
しくは有機スズ基など、たたはその他の皮々の公
知゚ステル圢成基が挙げられる。 この皮の保護基のうち奜適な保護基ずしおは、
具䜓的に次のものが挙げられる。 (ã‚€) アルキル基。 (ロ) 眮換基の少なくずも぀がハロゲン、ニト
ロ、アシル、アルコキシ、オキ゜、シアノ、シ
クロアルキル、アリヌル、アルキルチオ、アル
キルスルフむニル、アルキルスルホニル、アル
コキシカルボニル、−アルキル−−オキ゜
−−ゞオキ゜ヌル−−むル、−むン
ダニル、−むンダニル、フリル、ピリゞル、
−むミダゟリル、フタルむミド、スクシンむ
ミド、アれチゞノ、アゞリゞノ、ピロリゞノ、
ピペリゞノ、モルホリノ、チオモルホリノ、
−䜎玚アルキルピペラゞノ、ピロリル、ピラゟ
リル、チアゟリル、む゜チアゟリル、オキサゟ
リル、む゜オキサゟリル、チアゞアゟリル、オ
キサゞアゟリル、チアトリアゟリル、オキサト
リアゟリル、トリアゟリル、テトラゟリル、キ
ノリル、プナゞニル、ベンゟフリル、ベンゟ
チ゚ニル、ベンゟオキサゟリル、ベンゟチアゟ
リル、クマリニル、−ゞメチルピロリゞ
ノ、−テトラヒドロピリミゞニ
ル、−メチルピペリゞノ、−ゞメチル
ピペリゞノ、−−メチル−−ピロリニ
ル、−−ピロリニル、−メチルピペ
リゞニル、−ベンゟゞオキ゜ラニル、
アルキルアミノ、ゞアルキルアミノ、アシルオ
キシ、アシルチオ、アシルアミノ、ゞアルキル
アミノカルボニル、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アルケニルオキシ、アリヌルオキシ、アル
アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、シク
ロアルケニルオキシ、耇玠環オキシ、アルコキ
シカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボ
ニルオキシ、アリヌルオキシカルボニルオキ
シ、アルアルキルオキシカルボニルオキシ、耇
玠環オキシカルボニルオキシ、アルケニルオキ
シカルボニル、アリヌルオキシカルボニル、ア
ルアルキルオキシカルボニル、シクロアルキル
オキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカ
ルボニル、耇玠環オキシカルボニル、アルキル
アニリノたたはハロゲン、䜎玚アルキルもしく
は䜎玚アルコキシで眮換されたアルキルアニリ
ノである眮換䜎玚アルキル基。 (ハ) シクロアルキル基䜎玚アルキル眮換シクロ
アルキルたたは−ゞ䜎玚アルキル−
−ゞオキ゜ヌル−−むルメチル基。 (ニ) アルケニル基。 (ホ) アルキニル基。 (ヘ) プニル基たたは眮換基が少なくずも぀の
前蚘(ロ)で䟋瀺した眮換基より任意に遞ばれた眮
換基である眮換プニル基、たたは匏 〔匏䞭、−Y1−は、−CHCH−−、−CH
CH−−、−CH2CH2S−、−CH−CH
−、−CHCH−CHCH−、−CO−CH
CH−CO−もしくは−CO−CO−CHCH−を
瀺す。〕 で瀺される基もしくはその眮換誘導䜓眮換基
は前蚘(ロ)で䟋瀺した眮換基より任意に遞ばれ
る、たたは匏 〔匏䞭、−Y2は−CH23−、−CH24−のよう
な䜎玚アルキレン基を瀺す。〕 で瀺される基もしくはその眮換誘導䜓眮換基
は前蚘(ロ)で䟋瀺した眮換基より任意に遞ばれ
るのようなアリヌル基。 (ト) ベンゞルたたは眮換基が少なくずも぀の前
蚘(ロ)で䟋瀺した眮換基より任意に遞ばれた眮換
基である眮換ベンゞルのようなアルアルキル
基。 (チ) 耇玠環匏基たたは眮換基が少なくずも぀の
前蚘(ロ)で䟋瀺した眮換基より任意に遞ばれた眮
換基である眮換された耇玠環匏基。 (リ) 脂環むンダニル、脂環フタリゞルたたは眮換
基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの眮
換誘導䜓、脂環テトラヒドロナフチルたたは眮
換基がメチルもしくはハロゲンであるその眮換
誘導䜓、トリチル、コレステリル、ビシクロ
〔〕デシルなど。 (ヌ) 脂環フタリゞリデン䜎玚アルキル基たたは眮
換基がハロゲンもしくは䜎玚アルキル基である
それらの眮換誘導䜓。 䞊で䟋瀺したカルボキシル保護基は代衚䟋であ
り、これら以倖にも、぀ぎの文献に蚘茉されおい
る保護基を任意に遞択するこずができる。 米囜特蚱3499909号、3573296号および3641018
号西独特蚱公開公報2301014号、2253287号およ
び2337105号。 これらの䞭で奜たしいカルボキシル保護基ずし
おは、たずえば、−䜎玚アルキル−−オキ゜
−−ゞオキ゜ヌル−−むル−䜎玚アルキ
ル基、アシルオキシアルキル基、アシルチオアル
キル基、フタリゞル基、むンダニル基、プニル
基、眮換基を有するかもしくは有しないフタリゞ
リデン䜎玚アルキル基たたは次の匏で衚わされる
基のように生䜓内で容易に脱離する基が挙げられ
る。
1,2,6-thiadiazine- which may be substituted with a sulfonamide group or an alkyl group represented by the formula: (wherein R 6 and R 7 have the above meanings)
1,1-dioxido-2-yl, tetrahydro-
It is characterized by the fact that a 1,2-thiazin-1,1-dioxido-2-yl or isothiazolidine-1,1-dioxido-2-yl group is bonded thereto. Hereinafter, the present invention will be explained in further detail. In this specification, unless otherwise specified, alkyl refers to C 1-14 alkyl, such as methyl,
Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl,
such as pentyl, hexyl, heptyl, octyl, dodecyl or lauryl; alkoxy refers to -O-alkyl having an alkyl group as defined above; lower alkyl refers to C 1-5 alkyl, such as methyl, ethyl, n -propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl,
tert-butyl or pentyl; lower alkoxy refers to -O-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above; acyl refers to C1-12 acyl, such as acetyl, propionyl, butyryl, benzoyl, naphthoyl , pentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, furoyl or thenoyl; acyloxy refers to -O-acyl having an acyl group as defined above; alkylthio refers to -s- having an alkyl group as defined above;
Alkyl; alkenyl is C 2-10 alkenyl,
For example, vinyl, allyl, iso-propenyl,
2-pentenyl or butenyl, etc.; alkynyl refers to C 2-10 alkynyl, such as ethynyl or 2-propynyl; cycloalkyl refers to C 3-7 cycloalkyl, such as cyclopropylcyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl; cycloalkenyl refers to C 5-7 cycloalkenyl, such as cyclopentenyl, cyclohexenyl, cycloheptenyl, etc.; aryl refers to, for example, phenyl, naphthyl or indanyl; aryloxy refers to Having an aryl group defined in −
O-aryl; aralkyl is, for example,
benzyl, phenethyl, 4-methylbenzyl or naphthylmethyl; aralkyloxy means -o- having an aralkyl group as defined above;
Aralkyl group; heterocyclic group refers to a heterocyclic group containing at least one heteroatom selected from oxygen, nitrogen and sulfur, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, Oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, 4-(5
-methyl-2-pyrrolinyl), 4-(2-pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl), pyridazinyl,
quinolyl, phenazinyl, 1,3-benzodioxolanyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl or coumarinyl; heterocyclic alkyl refers to a group consisting of a heterocyclic group and an alkyl group as defined above; ; The halogen atom means, for example, fluorine, chlorine, bromine or iodine atom, respectively. R 1 in each general formula herein is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, and examples of the carboxyl protecting group include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. These carboxyl-protecting groups include ester-forming groups that are eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or ester-forming groups that are easily eliminated in vivo, or treated with water or alcohol. Examples thereof include an organic silyl group, an organic phosphorus group, an organic tin group, etc., which are easily eliminated in this case, and various other known ester-forming groups. Among these types of protecting groups, suitable protecting groups include:
Specifically, the following can be mentioned. (a) Alkyl group. (b) At least one of the substituents is halogen, nitro, acyl, alkoxy, oxo, cyano, cycloalkyl, aryl, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl, 5-alkyl-2-oxo-1,3 -dioxol-4-yl, 1-indanyl, 2-indanyl, furyl, pyridyl,
4-imidazolyl, phthalimide, succinimide, azetidino, aziridino, pyrrolidino,
piperidino, morpholino, thiomorpholino, N
- lower alkylpiperazino, pyrrolyl, pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, quinolyl, phenazinyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, Coumarinyl, 2,5-dimethylpyrrolidino, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino, 2,6-dimethylpiperidino, 4-(5-methyl-2-pyrrolidino), 4-(2 -pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl), 1,3-benzodioxolanyl,
Alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylthio, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkenyloxy, aryloxy, aralkyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, heterocyclicoxy, alkoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyloxy , aryloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy, heterocyclicoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, cycloalkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, heterocyclicoxycarbonyl, alkylanilino or A substituted lower alkyl group which is an alkylanilino substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy. (c) Cycloalkyl group: lower alkyl-substituted cycloalkyl or (2,2-di-lower alkyl-
1,3-dioxol-4-yl)methyl group. (d) Alkenyl group. (e) Alkynyl group. (f) A substituted phenyl group or a substituted phenyl group in which the phenyl group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a substituent of the formula [In the formula, -Y 1 - is -CH=CH-O-, -CH=
CH−S−, −CH 2 CH 2 S−, −CH=N−CH=
N-, -CH=CH-CH=CH-, -CO-CH=
Indicates CH-CO- or -CO-CO-CH=CH-. ] A group represented by or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above), or a group represented by the formula [In the formula, -Y 2 represents a lower alkylene group such as -(CH 2 ) 3 - or -(CH 2 ) 4 -. ] An aryl group such as the group represented by the following or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above). (g) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (h) A substituted heterocyclic group in which the heterocyclic group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (li) Alicyclic indanyl, alicyclic phthalidyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, alicyclic tetrahydronaphthyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, trityl, cholesteryl, bicyclo[4,4 ,0] Decyl etc. (v) Alicyclic phthalidylidene lower alkyl group or substituted derivatives thereof whose substituent is a halogen or lower alkyl group. The carboxyl protecting groups exemplified above are representative examples, and in addition to these, protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected. U.S. Patents 3499909, 3573296 and 3641018
No.: West German Patent Publications No. 2301014, No. 2253287 and No. 2337105. Among these, preferred carboxyl protecting groups include, for example, 5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-lower alkyl group, acyloxyalkyl group, acylthioalkyl group, phthalidyl group, and indanyl group. , a phenyl group, a phthalidylidene lower alkyl group with or without a substituent, or a group that is easily eliminated in vivo, such as a group represented by the following formula.

【匏】【formula】

【匏】【formula】

〔匏䞭、R11は公知の眮換基を有するかもしくは有しないアルキル、アルケニル、アリヌル、アルアルキル、脂環匏たたは耇玠環匏基を、R12は氎玠原子たたは公知の眮換基を有するかもしくは有しないアルキル、アルケニル、アリヌル、アルアルキル、脂環匏たたは耇玠環匏基を、R13は氎玠原子、ハロゲン原子たたは公知の眮換基を有するかもしくは有しないアルキル、シクロアルキル、アリヌルたたは耇玠環匏基たたは−CH2oCOOR12ただし、R12は前蚘した意味を有し、はたたはを瀺す。を、はたたはを瀺す。〕[In the formula, R 11 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a known substituent, and R 12 is a hydrogen atom or a known substituent or R 13 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a hydrogen atom, a halogen atom or a known substituent; group or -(CH 2 ) o COOR 12 (wherein R 12 has the above-mentioned meaning, n represents 0, 1 or 2), and m represents 0, 1 or 2. ]

さらに、具䜓的には、たずえば、−メチル−
−オキ゜−−ゞオキ゜ヌル−−むル−
メチル、−゚チル−−オキ゜−−ゞオ
キ゜ヌル−−むル−メチル、−−プロピル
−−オキ゜−−ゞオキ゜ヌル−むル−
メチル基などの−䜎玚アルキル−−オキ゜−
−ゞオキ゜ヌル−−むル−メチル基ア
セトキシメチル、ピバロむルオキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、
む゜ブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチ
ル、−アセトキシ゚チル、−アセトキシ−
−プロピル、−ピバロむルオキシ゚チル、−
ピバロむルオキシ−−プロピル基などのアシル
オキシアルキル基アセチルチオメチル、ピバロ
むルチオメチル、ベンゟむルチオメチル、−ク
ロロベンゟむルチオメチル、−アセチルチオ゚
チル、−ピバロむルチオ゚チル、−ベンゟむ
ルチオ゚チル、−−クロロベンゟむルチオ
゚チル基などのアシルチオアルキル基メトキシ
メチル、゚トキシメチル、−プロポキシメチ
ル、む゜プロポキシメチル、−ブチルオキシメ
チル基などのアルコキシメチル基メトキシカル
ボニルオキシメチル、゚トキシカルボニルオキシ
メチル、−プロポキシカルボニルオキシメチ
ル、む゜プロポキシカルボニルオキシメチル、
−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、tert−
ブチルオキシカルボニルオキシメチル、−メト
キシカルボニルオキシ−゚チル、−゚トキシカ
ルボニルオキシ−゚チル、−−プロポキシカ
ルボニルオキシ−゚チル、−む゜プロポキシカ
ルボニルオキシ−゚チル、−−ブチルオキシ
カルボニルオキシ−゚チル基などのアルコキシカ
ルボニルオキシ−アルキル基メトキシカルボニ
ルメチル、゚トキシカルボニルメチル基などのア
ルコキシカルボニルメチル基フタリゞル基む
ンダニル基プニル基−フタリゞリデン
−゚チル、−−フルオロフタリゞリデン−
゚チル、−−クロロフタリゞリデン−゚チ
ル、−−メトキシフタリゞリデン−゚チル
基などのフタリゞリデンアルキル基などが挙げら
れる。 たた、R5の保護されおいおもよいアミノ基の
保護基ずしおは、通垞ペニシリンおよびセフアロ
スポリン系化合物の分野で通垞䜿甚されおいるも
のが挙げられ、たずえば、トリクロロ゚トキシカ
ルボニル、トリブロモ゚トキシカルボニル、ベン
ゞルオキシカルボニル、−トル゚ンスルホニ
ル、−ニトロベンゞルオキシカルボニル、−
ブロモベンゞルオキシカルボニル、モノ−、ゞ
−、トリ−クロロアセチル、トリフルオロアセ
チル、ホルミル、tert−アミルオキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、−メトキシベ
ンゞルオキシカルボニル、−ゞメトキシベ
ンゞルオキシカルボニル、−プニルアゟ
ベンゞルオキシカルボニル、−−メトキシ
プニルアゟベンゞルオキシカルボニル、ピリ
ゞン−−オキシド−−むル−メトキシカルボ
ニル、−フルフリルオキシカルボニル、ゞプ
ニルメトキシカルボニル、−ゞメチルプロ
ポキシカルボニル、む゜プロポキシカルボニル、
−シクロプロピル゚トキシカルボニル、フタロ
むル、スクシニル、−アダマンチルオキシカル
ボニル、−キノリルオキシカルボニルなどの脱
離しやすいアシル基トリチル、−ニトロプ
ニルスルプニル、−ゞニトロプニルス
ルプニル、−ヒドロキシベンゞリデン、−
ヒドロキシ−−クロロベンゞリデン、−ヒド
ロキシ−−ナフチルメチレン、−ヒドロキシ
−−ピリゞルメチレン、−メトキシカルボニ
ル−−プロピリデン、−゚トキシカルボニル
−−プロピリデン、−゚トキシカルボニル−
−ブチリデン、−アセチル−−プロピリデ
ン、−ベンゟむル−−プロピリデン、−
〔−−メトキシプニルカルバモむル〕−
−プロピリデン、−〔−−メトキシプ
ニルカルバモむル〕−−プロピリデン、−
゚トキシカルボニルシクロヘキシリデン、−゚
トキシカルボニルシクロペンチリデン、−アセ
チルシクロヘキシリデン、−ゞメチル−
−オキ゜シクロヘキシリデンなどの脱離しやすい
基およびゞ−もしくはトリ−アルキルシリル基な
どのアミノ基の保護基が挙げられる。 たた、−−は、匏−CH2−たたは匏
Furthermore, specifically, for example, 5-methyl-
2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
Methyl, 5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl, 5-n-propyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
5-lower alkyl-2-oxo- such as methyl group
1,3-dioxol-4-yl-methyl group; acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl,
Isobutyryloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-acetoxy-n
-propyl, 1-pivaloyloxyethyl, 1-
Acyloxyalkyl groups such as pivaloyloxy-n-propyl group; acetylthiomethyl, pivaloylthiomethyl, benzoylthiomethyl, p-chlorobenzoylthiomethyl, 1-acetylthioethyl, 1-pivaloylthioethyl, 1-benzoylthioethyl , 1-(p-chlorobenzoylthio)
Acylthioalkyl groups such as ethyl group; alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propoxymethyl, isopropoxymethyl, and n-butyloxymethyl groups; methoxycarbonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, n-propoxycarbonyl Oxymethyl, isopropoxycarbonyloxymethyl, n
-butyloxycarbonyloxymethyl, tert-
Butyloxycarbonyloxymethyl, 1-methoxycarbonyloxy-ethyl, 1-ethoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-propoxycarbonyloxy-ethyl, 1-isopropoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-butyloxycarbonyloxy- Alkoxycarbonyloxy-alkyl groups such as ethyl group; alkoxycarbonylmethyl groups such as methoxycarbonylmethyl and ethoxycarbonylmethyl groups; phthalidyl group; indanyl group; phenyl group; 2-(phthalidylidene)
-Ethyl, 2-(5-fluorophthalidylidene)-
Examples include phthalidylidene alkyl groups such as ethyl, 2-(6-chlorophthalidylidene)-ethyl, and 2-(6-methoxyphthalidylidene)-ethyl groups. In addition, as the protecting group for the amino group which may be protected for R5 , those commonly used in the field of penicillin and cephalosporin compounds are mentioned, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, benzyl oxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-
Bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-, tri-)chloroacetyl, trifluoroacetyl, formyl, tert-amyloxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl ,4-(phenylazo)
Benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl, pyridin-1-oxid-2-yl-methoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl , isopropoxycarbonyl,
Easily eliminated acyl groups such as 1-cyclopropylethoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl; trityl, o-nitrophenylsulfenyl, 2,4-dinitrophenylsulfenyl , 2-hydroxybenzylidene, 2-
Hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-
2-butylidene, 1-acetyl-2-propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-
[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-
2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2-
Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-dimethyl-5
Examples thereof include easily leaving groups such as -oxocyclohexylidene and protecting groups for amino groups such as di- or trialkylsilyl groups. -A- is the formula -CH 2 - or the formula

【匏】匏䞭、R8は、保護されおいおも よいカルボキシル基で眮換されおいおもよいアル
キル基を瀺し、〜は、シンたたはアンチ異性䜓も
しくはそれらの混合物でもよいこずを瀺す。で
衚される基を意味する。 R8における保護されおいおもよいカルボキシ
ル基の保護基ずしおは、R1で説明したず同様の
カルボキシル保護基が挙げられる。 ぀ぎに、
[Formula] (In the formula, R 8 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and ~ represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) means a group represented by Examples of the protecting group for the optionally protected carboxyl group in R 8 include the same carboxyl protecting groups as explained for R 1 . next,

【匏】で衚わされるオキシム䜓に は、シンおよびアンチ異性䜓䞊びにそれらの混合
物が存圚するが、それらのいずれも本発明に包含
される。 本発明の各䞀般匏の
The oxime represented by the formula includes syn and anti isomers and mixtures thereof, all of which are included in the present invention. Each general formula of the present invention

【匏】で衚わさ れる基においおは、぀ぎの平衡匏で瀺すように互
倉異性䜓が存圚するが、その互倉異性䜓も本発明
に包含される。 〔䞊蚘平衡匏䞭、R6およびR8は前蚘の意味を有
し、R5′は保護されおいおもよいむミノ基を瀺
す。〕 そしお、䞊の匏におけるR5′のむミノ基の保護
基ずしおは、通垞ペニシリン、セフアロスポリン
の分野で甚いられる基が挙げられ、具䜓的には、
R5に぀いお説明したアミノ基の保護基のうち
䟡基ず同様の基が挙げられる。 䞀般匏〔〕の化合物の塩類ずしおは、埓来ペ
ニシリン及びセフアロスポリン系化合物の分野で
呚知の塩基性基たたは酞性基における塩を挙げる
こずができる。そのような塩基性基における塩ず
しおは、たずえば、塩酞、硝酞たたは硫酞などの
鉱酞ずの塩シナり酞、コハク酞、ギ酞、トリク
ロロ酢酞たたはトリフルオロ酢酞などの有機カル
ボン酞ずの塩メタンスルホン酞、゚タンスルホ
ン酞、ベンれンスルホン酞、トル゚ン−−スル
ホン酞、トル゚ン−−スルホン酞、メシチレン
スルホン酞−トリメチルベンれンス
ルホン酞、ナフタレン−−スルホン酞、ナフ
タレン−−スルホン酞、プニルメタンスルホ
ン酞、ベンれン−−ゞスルホン酞、トル゚
ン−−ゞスルホン酞、ナフタレン−
−ゞスルホン酞、ナフタレン−−ゞスルホ
ン酞、ナフタレン−−ゞスルホン酞、ベン
れン−−トリスルホン酞、ベンれン−
−トリスルホン酞、ナフタレン−
−トリスルホン酞などのスルホン酞ずの塩
を、たた酞性基における塩ずしおは、たずえば、
ナトリりムたたはカリりムなどのアルカリ金属ず
の塩カルシりムたたはマグネシりムなどのアル
カリ土類金属ずの塩アンモニりム塩ブロカむ
ン、ゞベンゞルアミン、−ベンゞル−β−プ
ネチルアミン、−゚プナミン、−ゞベ
ンゞル゚チレンゞアミン、トリ゚チルアミン、ト
リメチルアミン、トリブチルアミン、ピリゞン、
ゞメチルアニリン、−メチルピペリゞン、−
メチルモルホリン、ゞ゚チルアミン、ゞシクロヘ
キシルアミンなどの含窒玠有機塩基ずの塩を挙げ
るこずができる。 たた、本発明は、䞀般匏〔〕のセフアロスポ
リン、その塩類のすべおの光孊異性䜓、およびラ
セミ䜓ならびにすべおの結晶圢および氎和物を包
含するものである。 さらに具䜓的に述べれば、䞀般匏〔〕の化合
物䞭、奜たしい䟋ずしおは、−−が匏
In the group represented by the formula, tautomers exist as shown in the following balanced formula, and these tautomers are also included in the present invention. [In the above balanced formula, R 6 and R 8 have the above-mentioned meanings, and R 5 ' represents an optionally protected imino group. ] As the protecting group for the imino group of R 5 ' in the above formula, groups usually used in the field of penicillin and cephalosporin can be mentioned, and specifically,
One of the amino protecting groups explained for R 5
Groups similar to the valence groups can be mentioned. Examples of the salts of the compound of general formula [] include salts with basic groups or acidic groups that are conventionally known in the field of penicillin and cephalosporin compounds. Salts on such basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methane; Sulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene- 2-sulfonic acid, phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-1,5
-Disulfonic acid, naphthalene-2,6-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene-1,3,5-trisulfonic acid, benzene-
1,2,4-trisulfonic acid, naphthalene-1,
Salts with sulfonic acids such as 3,5-trisulfonic acid, and salts with acidic groups include, for example,
Salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; brocaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine, N,N-di Benzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, pyridine,
Dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-
Examples include salts with nitrogen-containing organic bases such as methylmorpholine, diethylamine, and dicyclohexylamine. The present invention also encompasses all optical isomers and racemates of cephalosporin of the general formula [ ] and its salts, as well as all crystal forms and hydrates. More specifically, in the compound of the general formula [], as a preferable example, -A- is the formula

【匏】で衚わされるオキシム䜓が、その䞭で も、シン異性䜓が、さらには、R8がアルキル基、
特に、メチル基、゚チル基もしくは匏−
CH2COOR1匏䞭、R1は、前蚘した意味を有す
る。で衚わされる各々の基が挙げられる。 ぀ぎに、R2の奜たしいものの䟋ずしおは、匏
Among the oxime bodies represented by [Formula], there are syn isomers, and R 8 is an alkyl group,
In particular, a methyl group, an ethyl group or a formula -
Examples include each group represented by CH 2 COOR 1 (wherein R 1 has the meaning described above). Next, as a preferable example of R 2 , the formula

【匏】で衚わされる基の堎合、R6は氎玠 原子たたは䜎玚アルキル基が、R7は䜎玚アルキ
ル基が挙げられ、さらに、䜎玚アルキル基で眮換
されおいおもよい−チアゞアゞン−
−ゞオキシド−−むル基が挙げられる。 䞀般匏〔〕の化合物の䞭から、いく぀かの代
衚的化合物に぀いお抗菌䜜甚を瀺す。 抗菌䜜甚衚− 日本化孊療法孊䌚暙準法
〔CHEMOTHERAPY第23巻第〜頁
1975幎〕に埓い、Heart Infusion broth栄研
化孊瀟補で37℃、20時間培逊した菌液を薬剀を
含むHeart Infusion agar培地栄研化孊瀟補
に接皮し、37℃、20時間培逊埌、菌の発育の有無
を芳察し、菌の発育が阻止された最小濃床をも぀
おMICΌmlずした。ただし、接皮菌量は
104個プレヌト106個mlずした。 詊隓化合物は以䞋のずおりである。 (A) −〔−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミ
ド〕−−−ゞメチル−−チ
アゞアゞン−−ゞオキシド−−むル
メチル−Δ3−セプム−−カルボン酞のト
リフルオロ酢酞塩。 (B) −〔−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミ
ド〕−−メタンスルホンアミドメチル−
Δ3−セプム−−カルボン酞のトリフルオ
ロ酢酞塩 (C) −〔−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−カルボキシメトキシむミノ
アセトアミド〕−−−ゞメチル−
−チアゞアゞン−−ゞオキシド−
−むルメチル−Δ3−セプム−−カル
ボン酞のギ酞塩。
In the case of the group represented by the formula, R 6 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 7 is a lower alkyl group, and 1,2,6-thiadiazine which may be further substituted with a lower alkyl group. −
A 1,1-dioxido-2-yl group is mentioned. Among the compounds of the general formula [], some representative compounds exhibit antibacterial activity. Antibacterial activity (Table 1) Cultured at 37°C for 20 hours in Heart Infusion broth (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.) according to the standard method of the Japanese Society of Chemotherapy [(CHEMOTHERAPY) Vol. 23, pages 1-2 (1975)]. Heart Infusion agar medium containing bacterial solution and drug (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.)
After culturing at 37°C for 20 hours, the presence or absence of bacterial growth was observed, and the minimum concentration at which bacterial growth was inhibited was defined as the MIC (Όg/ml). However, the amount of inoculated bacteria is
10 4 pieces/plate (10 6 pieces/ml). The test compounds are as follows. (A) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1 -dioxide-2-yl)
Trifluoroacetate of methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid. (B) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(methanesulfonamido)methyl-
Δ 3 -Cefem-4-carboxylic acid trifluoroacetate (C) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-(3, 5-dimethyl-1,
2,6-thiadiazine-1,1-dioxide-
Formate salt of 2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid.

【衚】【table】

【衚】  セフアロポリネヌス生産菌
぀ぎに、本発明の化合物の補造法に぀いお説明
する。 本発明の化合物は、たずえば、䞋に瀺す方法に
よ぀お補造するこずができる。 〔䞊蚘匏䞭、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、
R8、、および〓は前蚘した意味を有し、R17
はアミノ基、匏
[Table] ** Cephaloporinase-producing bacteria Next, the method for producing the compound of the present invention will be explained. The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown below. [In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 , A, W and 〓 have the meanings given above; R 17
is an amino group, the formula

【匏】匏䞭、 R19、R20およびR21は同䞀たたは異な぀お、氎玠
原子たたは反応に関䞎しない有機残基を瀺す。 たたは匏
[Formula] (In the formula, R 19 , R 20 and R 21 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction.) or Formula

【匏】匏䞭、R22およびR23 は同䞀たたは異な぀お、氎玠原子たたは反応に関
䞎しない有機残基を瀺す。 で衚わされる基を、たた、R18は眮換基を有する
かもしくは有しないアシルオキシたたはカルバモ
むルオキシ基を、はハロゲン原子を、〓は〓
たたは〓→を、および環䞭の点線は〜
たたは〜䜍間が二重結合であるこずを各々意
味する。〕 以䞋、詳现に説明するず、R17はアミノ基、匏
[Formula] (wherein R 22 and R 23 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction), and R 18 has a substituent or acyloxy or carbamoyloxy group, X is a halogen atom, Z is
S or 〓S→O, and the dotted line in the ring is 2-3
Or each means that there is a double bond between the 3rd and 4th positions. ] Below, to explain in detail, R 17 is an amino group, the formula

【匏】たたは匏[expression] or expression

【匏】で 衚わされる基を瀺すが、匏[Formula] Indicates the group represented by the formula

【匏】 で衚わされる基には、その異性䜓である匏
The group represented by [Formula] has the isomer of the formula

【匏】で衚わされる基も本発明に 包含される。そしおR19、R20、R21、R22および
R23における反応に関䞎しない有機残基ずしお
は、圓該分野で知られおいる有機残基、たずえ
ば、眮換基を有するかもしくは有しない脂肪族残
基、脂環匏残基、芳銙族残基、芳銙脂肪族残基、
耇玠環残基、アシル基などが挙げられ、具䜓的に
は次のような基が䟋瀺できる。 (1) 脂肪族残基たずえば、メチル、゚チル、プ
ロピル、−ブチル、む゜ブチル、ペンチルな
どのアルキル基ビニル、プロペニル、ブテニ
ルなどのアルケニル基。 (2) 脂環匏残基たずえば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロア
ルキル基シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ルなどのシクロアルケニル基。 (3) 芳銙族残基たずえば、プニル、ナフチル
などのアリヌル基。 (4) 芳銙脂肪族残基たずえば、ベンゞル、プ
ネチルなどのアルアルキル基。 (5) 耇玠環残基たずえば、ピロリゞニル、ピペ
ラゞニル、フリル、チ゚ニル、ピロリル、ピラ
ゟリル、オキサゟリル、チアゟリル、ピリゞ
ル、むミダゟリル、キノリル、ベンゟチアゟリ
ル、オキサゞアゟリル、チアゞアゟリル、トリ
アゟリル、テトラゟリルなどの分子䞭にヘテロ
原子酞玠、窒玠たたは硫黄原子を任意に含
有する耇玠環匏基。 (6) アシル基有機カルボン酞から誘導されるア
シル基であり、このような有機カルボン酞ずし
おは、たずえば、脂肪族カルボン酞脂環匏カ
ルボン酞脂環匏脂肪族カルボン酞脂肪族カ
ルボン酞に酞玠たたは硫黄原子を介しおたたは
介さずに芳銙族残基もしくは耇玠環匏基が結合
した芳銙眮換脂肪族カルボン酞、芳銙族オキシ
脂肪族カルボン酞、芳銙族チオ脂肪族カルボン
酞、耇玠環眮換脂肪族カルボン酞、耇玠環オキ
シ脂肪族カルボン酞、耇玠環チオ脂肪族カルボ
ン酞カルボニル基に酞玠、窒玠たたは硫黄原
子を介しお芳銙族残基、脂肪族残基もしくは脂
環匏残基が結合した有機カルボン酞類芳銙族
カルボン酞耇玠環カルボン酞などの有機カル
ボン酞が挙げられる。 ここで脂肪族カルボン酞ずしおは、ギ酞、酢
酞、プロピオン酞、ブタン酞、む゜ブタン酞、ペ
ンタン酞、メトキシ酢酞、メチルチオ酢酞、アク
リル酞、クロトン酞などが挙げられ、脂環匏カル
ボン酞ずしおは、シクロヘキサン酞などが挙げら
れ、たた脂環匏脂肪族カルボン酞ずしおは、シク
ロペンタン酢酞、シクロヘキサン酢酞、シクロヘ
キサンプロピオン酞、シクロヘキサゞ゚ン酢酞な
どが挙げられる。 たた、䞊述の有機カルボン酞における芳銙族残
基ずしおは、プニル、ナフチルなどが挙げら
れ、さらに䞊述の耇玠環匏基ずしおは、フラン、
チオプン、ピロヌル、ピラゟヌル、むミダゟヌ
ル、トリアゟヌル、チアゟヌル、む゜チアゟヌ
ル、オキサゟヌル、む゜オキサゟヌル、チアゞア
ゟヌル、オキサゞアゟヌル、チアトリアゟヌル、
オキサトリアゟヌル、テトラゟヌル、ベンゟオキ
サゟヌル、ベンゟフランなどのヘテル原子を環䞭
に個以䞊含む耇玠環化合物の残基が挙げられ
る。 そしお、これらの有機カルボン酞を構成する各
基は、たずえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、保護されたヒドロキシル基、アルキル基、ア
ルコキシ基、アシル基、ニトロ基、アミノ基、保
護されたアミノ基、カルボキシル基、保護された
カルボキシル基などの眮換基でさらに眮換されお
いおもよい。 たた、R18のアシルオキシおよびカルバモむル
オキシ基ずしおは、たずえば、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシたたはブチリルオキシなどのアル
カノむルオキシ基アクリロむルオキシなどのア
ルケノむルオキシ基ベンゟむルオキシたたはナ
フトむルオキシなどのアロむルオキシ基および
カルバモむルオキシ基が挙げられ、これらはハロ
ゲン原子、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、
アシルアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、スルフアモむル基、カルバモむル基、カルボ
アルコキシカルバモむル基、アロむルカルバモむ
ル基、カルボアルコキシスルフアモむル基、アリ
ヌル基、カルバモむルオキシ基などの䞀皮以䞊の
眮換基で眮換されおいおもよい。 䞊述したR18の眮換基においお、ヒドロキシル
基、アミノ基およびカルボキシル基などは通垞甚
いられおいる保護基で保護されおいおもよい。 (ã‚€) 䞉䜍倉換反応 䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類に、酞
たたは酞の錯化合物の存圚䞋、䞀般匏〔〕
のスルホンアミド類たたはアルキル基で眮換さ
れおいおもよい−チアゞアゞン−
−ゞオキシド、テトラヒドロ−−
チアゞン−−ゞオキシドたたはむ゜チア
ゟリゞン−−ゞオキシドもしくはそれら
の塩類を反応させ、所望により、぀いで保護基
の脱離たたはカルボキシル基を保護たたは塩ず
するこずにより、䞀般匏〔〕の−眮換たた
は非眮換アミノ−−眮換メチルセプムカル
ボン酞類たたはその塩類を工業的に容易な操䜜
で、奜収率か぀高玔床に補造するこずができ
る。 さらに、所望により、䜍アミノ基の眮換基
を垞法により陀去し、−非眮換アミノ䜓ずす
るこずができる。この方法によれば、△3−セ
プム化合物のみならず△2−セプム化合物
も甚いるこずができ、△2−セプム化合物を
甚いた堎合、反応埌埗られた△2−セプム化
合物を△3−セプム化合物に倉換するこずが
できる。 たた〓が〓である化合物のみならず、〓
が〓→である化合物も出発原料ずしお甚
いるこずができ、その堎合、反応䞭たたは埌凊
理の段階で〓→を〓ずするこずができ
る。 たた、この反応における反応詊薬ずしお甚い
られる䞀般匏〔〕のスルホンアミド類たた
はアルキル基で眮換されおいおもよい
−チアゞアゞン−−ゞオキシド、テト
ラヒドロ−−チアゞン−−ゞオキ
シドたたはむ゜チアゟリゞン−−ゞオキ
シドにおいお、それらの眮換基に塩基性基たた
は酞性基を有する堎合は、必芁に応じ、それぞ
れの塩の圢で反応に䟛しおもよく、その堎合の
塩基性基における塩たたは酞性基における塩ず
しおは、䞀般匏〔〕の化合物の塩類に぀いお
説明したず同様の塩基性基たたは酞性基におけ
る塩が挙げられる。 たた、䞀般匏〔〕および〔〕の化合物の
塩類ずしおは、塩基性基たたは酞性基における
塩が挙げられ、それらの塩類は䞀般匏〔〕の
化合物の塩類に぀いお説明したず同様の塩基性
基たたは酞性基における塩が挙げられる。な
お、䞀般匏〔〕の化合物の塩類は予め単離し
お甚いおもよく、あるいは系内で調敎しおもよ
い。 この反応においお䜿甚される酞たたは酞の錯
化合物ずしおは、たずえば、プロトン酞、ルむ
ス酞たたはルむス酞の錯化合物が挙げられる。
プロトン酞ずしおは、たずえば、硫酞類、スル
ホン酞類たたは超匷酞類超匷酞ずは100硫
酞より匷い酞を意味し、前述の硫酞類およびス
ルホン酞類の䞀郚も含たれるが挙げられ、さ
らに具䜓的には、硫酞、クロロ硫酞、フルオロ
硫酞などの硫酞類メタンスルホン酞、トリフ
ルオロメタンスルホン酞などのアルキルモノ
−たたはゞ−スルホン酞、たたは−トル゚
ンスルホン酞などのアリヌルモノ−、ゞ−た
たはトリ−スルホン酞などのスルホン酞類
過塩玠酞、マゞツク酞FSO2H−SbF5、
FSO2H−AsF5、CF3SO3H−SbF5、HF−
BF3、H2SO4−SO3などの超匷酞が挙げられ
る。 たた、ルむス酞ずしおは、たずえば、䞉北化
硌玠などが挙げられる。たた、ルむス酞の錯化
合物ずしおは、たずえば、䞉北化硌玠ず、ゞ゚
チル゚ヌテル、ゞ−−プロピル゚ヌテル、ゞ
−−ブチル゚ヌテルなどずのゞアルキル゚ヌ
テル錯塩゚チルアミン、−プロピルアミ
ン、−ブチルアミン、トリ゚タノヌルアミン
などずのアミン錯塩ギ酞゚チル、酢酞゚チル
などずのカルボン酞゚ステル錯塩酢酞、プロ
ピオン酞などずの脂肪酞錯塩アセトニトリ
ル、プロピオニトリルなどずのニトリル錯塩な
どが挙げられる。 たた、この反応においおは有機溶媒を甚いた
堎合が奜たしく、甚いられる有機溶媒ずしお
は、反応に䞍掻性な党おの有機溶媒、たずえ
ば、ニトロメタン、ニトロ゚タン、ニトロプロ
パンなどのニトロアルカン類ギ酞、酢酞、ト
リフルオロ酢酞、ゞクロロ酢酞、プロピオン酞
などの有機カルボン酞類アセトン、メチル゚
チルケトン、メチルむ゜ブチルケトンなどのケ
トン類ゞ゚チル゚ヌテル、ゞむ゜プロピル゚
ヌテル、ゞオキサン、テトラヒドロフラン、゚
チレングリコヌルゞメチル゚ヌテル、アニ゜ヌ
ル、ゞメチルセロ゜ルブなどの゚ヌテル類ギ
酞゚チル、炭酞ゞ゚チル、酢酞メチル、酢酞゚
チル、クロロ酢酞゚チル、酢酞ブチルなどの゚
ステル類アセトニトリル、ブチロニトリルな
どのニトリル類塩化メチレン、クロロホル
ム、−ゞクロロ゚タンなどのハロゲン化
炭化氎玠類スルホランなどのスルホラン類な
どが挙げられ、これらの溶媒を二皮以䞊混合し
お甚いおもよい。たた、これらの有機溶媒ずル
むス酞ずで圢成される錯化合物を溶媒ずしお䜿
甚するこずもできる。 酞たたは酞の錯化合物の䜿甚量は、䞀般匏
〔〕の化合物たたはその塩類に察し圓モル以
䞊であればよく、個々の堎合に応じ適宜増枛さ
せるこずができる。特に、〜10倍モル量の䜿
甚が奜たしい。酞の錯化合物を甚いる堎合に
は、それ自䜓を溶媒ずしお甚いるこずができ、
二皮以䞊の錯化合物を混合しお甚いおもよい。 たた、この反応の反応詊薬ずしお甚いられる
䞀般匏〔〕のスルホンアミド類たたはアル
キル基で眮換されおいおもよい−チ
アゞアゞン−−ゞオキシド、テトラヒド
ロ−−チアゞン−−ゞオキシドた
たはむ゜チアゟリゞン−−ゞオキシドも
しくはそれらの塩類の䜿甚量は、䞀般匏〔〕
の化合物たたはその塩類に察し、圓モル以䞊で
あればよいが、特に1.0〜5.0倍モル量の䜿甚が
奜たしい。 この反応は、通垞〜80℃で行われ、数分〜
数十時間で完了する。 この反応の系内に氎分があるず原料たたは生
成物のラクトン化およびβ−ラクタム環の開裂
など奜たしくない副反応を惹起するこずがある
ので、反応系内を無氎の状態に保぀こずが望た
しい。この条件を満たすために、反応系内に適
圓な脱氎剀、たずえば、五酞化リン、ポリリン
酞、五塩化リン、䞉塩化リン、オキシ塩化リン
などのリン化合物−ビストリメチル
シリルアセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド、トリメチルクロロシラン、ゞメチル
ゞクロロシランなどの有機シリル化剀アセチ
ルクロリド、−トル゚ンスルホニルクロリド
などの有機酞クロリド無氎酢酞、無氎トリフ
ルオロ酢酞などの酞無氎物無氎硫酞マグネシ
りム、無氎塩化カルシりム、モレキナラヌシヌ
ブ、カルシりムカヌバむドなどの無機也燥剀な
どを添加しおもよい。 R1がカルボキシル保護基を瀺す䞀般匏〔〕
の化合物を原料ずしお䜿甚した堎合、反応埌の
凊理によりR1が氎玠原子である察応する䞀般
匏〔〕の化合物が埗られるこずもあるが、所
望により保護基を垞法で脱離させ、R1が氎玠
原子である䞀般匏〔〕の化合物を埗るこずも
できる。 この反応における反応詊薬ずしお甚いられる
䞀般匏〔〕のスルホンアミド類たたは䞀般
匏〔〕のアルキル基で眮換されおいおもよ
い−チアゞアゞン−−ゞオキ
シド、テトラヒドロ−−チアゞン
−ゞオキシドたたはむ゜チアゟリゞン−
ゞオキシドもしくはそれらの塩類においお、そ
れらの眮換基がヒドロキシル基、アミノ基、カ
ルボキシル基などで眮換されおいる堎合、この
反応を実斜するにあたり、これらの基を各々察
応する通垞䜿甚されおいる保護基で保護し、反
応終了埌、埓来の脱離反応に付すこずにより、
所望の化合物を埗るこずができる。 たた、䞀般匏〔〕の化合物は、所望によ
り、垞法に埓぀おカルボキシル基を保護たたは
塩類ずするこずができ、目的の化合物を埗るこ
ずもできる。たた、R17がアミノ基である䞀般
匏〔〕の化合物は、垞法により、埌述のよう
なアミノ基における反応性誘導䜓ずするこずが
できる。 (ロ) アシル化反応 叙䞊の方法で埗られた䞀般匏〔〕の化合物
たたはそのアミノ基における反応性誘導䜓もし
くはそれらの塩類に、䞀般匏〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕たたは〔〕の化合物たたはそ
のカルボキシル基における反応性誘導䜓もしく
はそれらの塩類を反応させれば、䞀般匏〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕たは〔〕の化合物もし
くはそれらの塩類が埗られる。 たた、䞀般匏〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕、〔〕、たたは〔〕の
化合物の塩類ずしおは、塩基性基たたは酞性基
における塩が挙げられ、それらの塩類は䞀般匏
〔〕の化合物の塩類に぀いお説明したず同様
の塩基性基たたは酞性基における塩が挙げられ
る。 䞀般匏、〔〕の化合物のアミノ基における
反応性誘導䜓ずしおは、たずえば、む゜シアネ
ヌト、䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類ず
ビストリメチルシリルアセトアミド、トリ
メチルシリルアセトアミド、トリメチルシリル
クロラむドなどのシリル化合物、䞉塩化燐、
A group represented by the formula is also included in the present invention. and R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and
Organic residues that do not participate in the reaction in R 23 include organic residues known in the art, such as aliphatic residues with or without substituents, alicyclic residues, aromatic residues, aromatic aliphatic residues,
Examples include heterocyclic residues and acyl groups, and specific examples include the following groups. (1) Aliphatic residues: for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, pentyl; alkenyl groups such as vinyl, propenyl, butenyl. (2) Alicyclic residues: For example, cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl; cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl and cyclohexenyl. (3) Aromatic residues: for example, aryl groups such as phenyl and naphthyl. (4) Aroaliphatic residues: for example, aralkyl groups such as benzyl and phenethyl. (5) Heterocyclic residues: For example, heteroatoms (oxygen , nitrogen or sulfur atoms). (6) Acyl group: An acyl group derived from an organic carboxylic acid. Examples of such organic carboxylic acids include aliphatic carboxylic acids; alicyclic carboxylic acids; alicyclic aliphatic carboxylic acids; Aromatic substituted aliphatic carboxylic acids, aromatic oxyaliphatic carboxylic acids, aromatic thioaliphatic carboxylic acids, heteroaromatics in which an aromatic residue or a heterocyclic group is bonded to a carboxylic acid with or without an oxygen or sulfur atom Ring-substituted aliphatic carboxylic acid, heterocyclic oxyaliphatic carboxylic acid, heterocyclic thioaliphatic carboxylic acid; aromatic residue, aliphatic residue or alicyclic residue via an oxygen, nitrogen or sulfur atom to the carbonyl group Organic carboxylic acids such as organic carboxylic acids bound to; aromatic carboxylic acids; and heterocyclic carboxylic acids can be mentioned. Here, examples of aliphatic carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, isobutanoic acid, pentanoic acid, methoxyacetic acid, methylthioacetic acid, acrylic acid, crotonic acid, etc., and examples of alicyclic carboxylic acids include cyclohexane. Examples of the alicyclic aliphatic carboxylic acids include cyclopentane acetic acid, cyclohexane acetic acid, cyclohexane propionic acid, and cyclohexadiene acetic acid. Further, aromatic residues in the above-mentioned organic carboxylic acids include phenyl, naphthyl, etc., and further examples of the above-mentioned heterocyclic groups include furan,
Thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, thiazole, isothiazole, oxazole, isoxazole, thiadiazole, oxadiazole, thiatriazole,
Examples include residues of heterocyclic compounds containing one or more hetero atoms in the ring, such as oxatriazole, tetrazole, benzoxazole, and benzofuran. The groups constituting these organic carboxylic acids include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a protected amino group, and a carboxyl group. It may be further substituted with a substituent such as a group or a protected carboxyl group. Examples of the acyloxy and carbamoyloxy groups of R 18 include alkanoyloxy groups such as acetoxy, propionyloxy or butyryloxy; alkenoyloxy groups such as acryloyloxy; aroyloxy groups such as benzoyloxy or naphthoyloxy; and carbamoyloxy These include halogen atoms, nitro groups, amino groups, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, acyloxy groups,
Even if it is substituted with one or more substituents such as acylamino group, hydroxyl group, carboxyl group, sulfamoyl group, carbamoyl group, carbalkoxycarbamoyl group, aroylcarbamoyl group, carbalkoxysulfamoyl group, aryl group, carbamoyloxy group, etc. good. Among the substituents for R 18 described above, the hydroxyl group, amino group, carboxyl group, etc. may be protected with a commonly used protecting group. (a) Three-position conversion reaction A compound of general formula [] or its salt is reacted with general formula [a] in the presence of an acid or an acid complex compound.
1,2,6-thiadiazine- which may be substituted with a sulfonamide or an alkyl group
1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-
By reacting thiazine-1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide or salts thereof, and optionally removing the protecting group or protecting or converting the carboxyl group into a salt, the compound of the general formula [] 7-Substituted or unsubstituted amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic acids or salts thereof can be produced with good yield and high purity through industrially easy operations. Furthermore, if desired, the substituent on the 7-position amino group can be removed by a conventional method to obtain a 7-unsubstituted amino compound. According to this method, not only the △ 3 -cephem compound but also the △ 2 -cepheme compound can be used, and when the △ 2 -cepheme compound is used, the △ 2 -cepheme compound obtained after the reaction is converted into △ 3 -cepheme compound. can be converted into compounds. Moreover, not only compounds where 〓Z is 〓S, but also 〓
Compounds in which Z is 〓S→O can also be used as starting materials, in which case 〓S→O can be converted to 〓S during the reaction or in the work-up step. In addition, 1,2,
When 6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-thiazine-1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide has a basic group or acidic group as a substituent, If necessary, each salt may be subjected to the reaction in the form of a salt, and in that case, the salt with a basic group or the salt with an acidic group may be the same basic group as explained for the salts of the compound of general formula []. Or a salt at an acidic group. In addition, salts of the compounds of general formulas [] and [] include salts with basic groups or acidic groups, and these salts include salts with basic groups or acidic groups similar to those explained for the salts of compounds of general formulas []. Mention may be made of salts at acidic groups. In addition, the salts of the compound of general formula [] may be isolated beforehand and used, or may be prepared in-system. The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex.
Protonic acids include, for example, sulfuric acids, sulfonic acids, or super strong acids (super strong acids mean acids stronger than 100% sulfuric acid, and also include some of the aforementioned sulfuric acids and sulfonic acids); Specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, chlorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di-)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid; or aryl (mono-)sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; , di- or tri-)sulfonic acids;
perchloric acid, magicic acid (FSO 2 H−SbF 5 ),
FSO 2 H−AsF 5 , CF 3 SO 3 H−SbF 5 , HF−
Examples include super strong acids such as BF 3 and H 2 SO 4 −SO 3 . Furthermore, examples of the Lewis acid include boron trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include dialkyl ether complex salts of boron trifluoride and diethyl ether, di-n-propyl ether, di-n-butyl ether, etc.; ethylamine, n-propylamine, n-butylamine; , triethanolamine, etc.; carboxylic acid ester complex salts with ethyl formate, ethyl acetate, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.; nitrile complex salts with acetonitrile, propionitrile, etc., and the like. In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; formic acid, acetic acid, Organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, and propionic acid; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, and dimethyl cellosolve; Esters such as ethyl formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl chloroacetate, and butyl acetate; Nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane; Sulfolane and the like, and two or more of these solvents may be used as a mixture. Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent. The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. In particular, it is preferable to use 2 to 10 times the molar amount. When using an acid complex compound, it can itself be used as a solvent,
A mixture of two or more types of complex compounds may be used. In addition, sulfonamides of general formula [a] or 1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-thiazine, which may be substituted with an alkyl group, are used as reaction reagents in this reaction. The amount of -1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide or salts thereof to be used is determined by the general formula []
The amount may be at least one equivalent molar amount, but it is particularly preferable to use an amount of 1.0 to 5.0 times the molar amount of the compound or its salt. This reaction is usually carried out at 0 to 80°C for several minutes to
It can be completed in a few dozen hours. If moisture is present in the reaction system, undesirable side reactions such as lactonization of the raw material or product and cleavage of the β-lactam ring may occur, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. In order to satisfy this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride; N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide. , trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane; organic acid chlorides such as acetyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride, trifluoroacetic anhydride; anhydrous magnesium sulfate, anhydrous chloride Inorganic desiccants such as calcium, molecular sieves, calcium carbide, etc. may be added. General formula in which R 1 represents a carboxyl protecting group []
When a compound of the formula [] is used as a raw material, the corresponding compound of the general formula [] in which R 1 is a hydrogen atom may be obtained by post-reaction treatment, but if desired, the protecting group can be removed by a conventional method, and R It is also possible to obtain compounds of the general formula [ ] where 1 is a hydrogen atom. 1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1, which may be substituted with a sulfonamide of general formula [a] or an alkyl group of general formula [b], used as a reaction reagent in this reaction. ,2-thiazine 1,1
-dioxide or isothiazolidine-1,1
When the substituents in the dioxide or their salts are substituted with a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, etc., in carrying out this reaction, each of these groups is replaced with a corresponding commonly used protecting group. After the reaction is completed, by subjecting it to a conventional elimination reaction,
A desired compound can be obtained. Further, in the compound of general formula [], the carboxyl group can be protected or salted according to a conventional method, if desired, and the desired compound can also be obtained. Further, the compound of the general formula [] in which R 17 is an amino group can be converted into a reactive derivative at the amino group as described below by a conventional method. (b) Acylation reaction The compound of the general formula [] obtained by the above method, or its reactive derivative at the amino group, or a salt thereof, is added to the compound of the general formula [], [],
If a compound of [], [] or [] or a reactive derivative thereof at the carboxyl group or a salt thereof is reacted, the general formula [],
Compounds of [ ], [ ], [XI] or [ ] or salts thereof are obtained. Also, the general formula [], [], [], [],
Salts of the compound of [], [], [XI], [], or [] include salts in basic or acidic groups, and these salts are the same as those described for the salts of the compound of general formula []. Examples include salts with basic or acidic groups similar to . Examples of reactive derivatives at the amino group of the compound of general formula [] include isocyanates, compounds of general formula [] or their salts, silyl compounds such as bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylsilyl chloride, and phosphorus trichloride. ,

【匏】【formula】

【匏】【formula】

【匏】CH3CH2O2PCl、 CH3CH22PClなどのリン化合物たたは
C4H93SnClなどのスズ化合物ずの反応により
生成するシリル誘導䜓、リン誘導䜓たたはスズ
誘導䜓など、アシル化反応においお繁甚される
ものはすべお含有される。 䞀般匏〔〕、〔〕、〔〕、〔〕たたは〔
〕の化合物のカルボキシル基における反応性
誘導䜓ずしおは、具䜓的には、酞ハロゲン化
物、酞無氎物、混合酞無氎物、掻性酞アミド、
掻性゚ステルならびに䞀般匏〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕たたは〔〕の化合物ずビルス
マむダヌ詊薬ずの反応性誘導䜓などが挙げられ
る。混合酞無氎物ずしおは、たずえば、炭酞モ
ノ゚チル゚ステル、炭酞モノむ゜ブチル゚ステ
ルなどの炭酞モノアルキル゚ステルずの混合酞
無氎物、ピバリン酞やトリクロロ酢酞などのハ
ロゲンで眮換されおいおもよい䜎玚アルカン酞
ずの混合酞無氎物などが甚いられる。掻性酞ア
ミドずしおは、たずえば、−アシルサツカリ
ン、−アシルむミダゟヌル、−アシルベン
ゟむルアミド、N′−ゞシクロヘキシル−
−アシル尿玠、−アシルスルホンアミドな
どが甚いられる。぀ぎに、掻性゚ステルずしお
は、たずえば、シアノメチル゚ステル、眮換フ
゚ニル゚ステル、眮換ベンゞル゚ステル、眮換
チ゚ニル゚ステルなどが甚いられる。 たた、ビルスマむダヌ詊薬ずの反応性誘導䜓
ずしおは、−ゞメチルホルムアミド、
−ゞメチルアセトアミドなどの酞アミド
に、ホスゲン、塩化チオニル、䞉塩化リン、䞉
臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリ
クロロメチルクロロホルメヌト、塩化オキサ
リルなどのハロゲン化剀を䜜甚させお埗られる
ビルスマむダヌ詊薬ずの反応性誘導䜓などが挙
げられる。 䞀般匏〔〕、〔〕、〔〕、〔〕たたは〔
〕の各々の化合物を遊離酞たたは塩の状態で
䜿甚する堎合は、適圓な瞮合剀を甚いる。この
ような瞮合剀ずおは、たずえば、N′−ゞ
シクロヘキシルカルボゞむミドのような
N′−ゞ眮換カルボゞむミドN′−チオニ
ルゞむミダゟヌルのようなアゟラむド化合物
−゚トキシカルボニル−−゚トキシ−
−ゞヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、ア
ルコキシアセチレンなどの脱氎剀−クロロ
ピリゞニりムメチルペヌゞド、−フルオロピ
リゞニりムメチルペヌゞドなどの−ハロゲノ
ピリゞニりム塩などが甚いられる。 このアシル化反応は、䞀般に適圓な溶媒䞭、
塩基の存圚䞋たたは䞍存圚䞋で実斜される。溶
媒ずしお、たずえば、クロロホルム、塩化メチ
レンなどのハロゲン化炭化氎玠類テトラヒド
ロフラン、ゞオキサンなどの゚ヌテル類
−ゞメチルホルムアミド、N′−ゞメチ
ルアセトアミド、アセトン、氎たたはこれらの
混合物などが䜿甚できる。たた、塩基ずしお
は、氎酞化アルカリ、炭酞氎玠アルカリ、炭酞
アルカリたたは酢酞アルカリなどの無機塩基
トリメチルアミン、トリ゚チルアミン、トリブ
チルアミン、ピリゞン、−メチルピペリゞ
ン、−メチルモリホリン、ルチゞン、コリゞ
ンなどの第玚アミンあるいはゞシクロヘキシ
ルアミン、ゞ゚チルアミンなどの第玚アミン
などの有機塩基が挙げられる。 なお、本発明の䞀般匏〔〕たたは〔
〕の化合物もしくはそれらの塩類に誘導する
こずができる䞀般匏〔〕の化合物たたはその
塩類は、次のようにしお補造するこずもでき
る。 䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類を䜿぀
お䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類を埗る
には、ゞケテンず塩玠、もしくは臭玠などのハ
ロゲンずの反応〔ゞダヌナル・オブ・ザ・ケミ
カル・゜サむ゚テむ、97、19871910〕により
埗られる−ハロゲノ−−オキ゜−ブチリル
ハラむドず、䞀般匏〔〕の化合物たたはその
塩類ずを垞法に埓぀お反応させればよい。この
反応条件及び操䜜は、圓該分野で知られた条件
および操䜜が適甚できる。たた、䞀般匏〔〕
の化合物の塩類は、垞法に埓぀お容易に埗るこ
ずができ、その塩類ずしおは、前述の䞀般匏
〔〕の化合物の塩類のずころで説明したず同
様の塩基性基たたは酞性基における塩が挙げら
れる。埗られる䞀般匏〔〕の化合物たたはそ
の塩類は、垞法によ぀お単離粟補しおもよい
が、単離するこずなく、次の反応に甚いるこず
もできる。 なお、䞀般匏〔〕、〔〕、〔〕、〔〕たた
は〔〕の化合物たたはそのカルボキシル基
における反応性誘導䜓もしくはそれらの塩類の
䜿甚量は䞀般匏〔〕の化合物たたはそのアミ
ノ基における反応性誘導䜓もしくはそれらの塩
類モルに察し、それぞれ通垞玄〜数モル皋
床が奜たしい。 これらの反応は、通垞−50〜40℃で行われ、
10分〜48時間で完了する。 たた、このアシル化反応においお、保護基の
導入および脱離ならびに塩類ぞの倉換は垞法に
埓぀お行い、察応する目的化合物に倉換するこ
ずができる。 以䞊のようにしお埗られた䞀般匏〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕たたは〔〕の化合物も
しくはそれらの塩類は、公知の手段により単離
粟補できるが、さらに䞀般匏〔〕、〔〕、
〔XI〕たたは〔〕の化合物もしくはそれら
の塩類は単離するこずなく次の反応の原料ずし
お甚いるこずもできる。 (ハ) ニトロ゜化反応 ぀ぎに䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類
から䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類を埗
るには、䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類
に、ニトロ゜化剀を反応させる。この反応は、
通垞溶媒䞭で行われ、溶媒ずしおは、氎、酢
酞、ベンれン、メタノヌル、゚タノヌル、テト
ラヒドロフラン、その他の反応に䞍掻性な溶媒
が䜿甚できる。ニトロ゜化剀の奜たしい䟋ずし
おは、硝酞およびその誘導䜓、たずえば、塩化
ニトロシル、臭化ニトロシルなどのハロゲン化
ニトロシル亜硝酞ナトルム、亜硝酞カリりム
などの亜硝酞アルカリ金属塩亜硝酞ブチル゚
ステル、亜硝酞ペンチル゚ステルなどの亜硝酞
アルキル゚スルなどが挙げられる。ニトロ゜化
剀ずしお亜硝酞の塩を䜿甚するずきには、塩
酞、硫酞、ギ酞、酢酞などの無機もしくは有機
の酞の存圚䞋に反応を行うのが奜たしい。亜硝
酞アルキル゚ステルをニトロ゜化剀ずしお䜿甚
する堎合には、アルカリ金属アルコキシドのよ
うな匷塩基の存圚䞋に行うのが奜たしい。 反応は䞀般に−15〜30℃で行われ、10分から
10時間で完了する。たた、䞀般匏〔〕の化合
物の塩類は垞法に埓぀お容易に埗るこずがで
き、その塩類ずしおは、䞀般匏〔〕の化合物
の塩類のずころで説明したず同様の塩基性基た
たは酞性基における塩が挙げられる。さらに、
保護基の導入および脱離は垞法に埓぀お行い、
察応する目的化合物に倉換するこずができる。 このようにしお埗られる䞀般匏〔〕の化合
物たたはその塩類は、垞法によ぀お単離粟補し
おもよいが、単離するこずなく次の反応に甚い
るこずもできる。 (ニ) ゚ヌテル化反応およびホスホリル化反応 ぀ぎに、䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩
類から䞀般匏〔XI〕の化合物たたはその塩類を
埗るには、䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩
類を゚ヌテル化反応たたはホスホリル化反応に
付す。 この゚ヌテル化反応およびホスホリル化反応
は特開昭53−137988号、特開昭55−105689号、
特開昭55−149295号などに蚘茉しおある゚ヌテ
ル化反応およびホスホリル化反応などの通垞の
方法で行うこずができる。 たずえば、アルキル化反応は垞法に埓぀お行
うこずができる。反応は䞀般に−20〜60℃で行
われ、分から10時間で完了する。 溶媒ずしおは本反応を阻害しない限りいかな
るものでもよく、たずえば、テトラヒドロフラ
ン、ゞオキサン、メタノヌル、゚タノヌル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、酢酞゚チル、酢酞
ブチル、−ゞメチルホルムアミド、
−ゞメチルアセトアミド、氎など、たたはこ
れらの混合物などが甚いられる。 アルキル化剀ずしおは、たずえば、ペり化メ
チル、臭化メチル、ペり化゚チル、臭化゚チル
などのハロゲン化䜎玚アルキル、硫酞ゞメチ
ル、硫酞ゞ゚チル、ゞアゟメタン、ゞアゟ゚タ
ンたたは−トル゚ンスルホン酞メチルなどが
甚いられる。ゞアゟメタン、ゞアゟ゚タン以倖
のアルキル化剀を甚いるずきは、炭酞ナトリり
ム、炭酞カリりムなどのアルカリ金属の炭酞
塩、氎酞化ナトリりム、氎酞化カリりムなどの
アルカリ金属の氎酞化物、トリ゚チルアミン、
ピリゞン、−ゞメチルアニリンなどの塩
基の存圚䞋に䞀般に行う。 たた、䞀般匏〔XI〕の化合物の塩類は垞法に
埓぀お容易に埗るこずができ、その塩類ずしお
は、䞀般匏〔〕の化合物の塩類のずころで説
明したず同様の塩基性基たたは酞性基における
塩が挙げられる。 さらに保護基の導入および脱離は垞法に埓぀
お行い、察応する目的化合物に倉換するこずが
できる。 このようにしお埗られる䞀般匏〔XI〕の化合
物たたはその塩類は、垞法によ぀お単離粟補し
おもよいが、単離するこずなく次の反応に甚い
るこずもできる。 (ホ) 閉環反応 ぀ぎに䞀般匏〔XI〕、〔〕たたは〔XI〕の各
化合物もしくはそれらの塩類に、䞀般匏〔XII〕
のチオホルムアミドたたはチオ尿玠類を反応さ
せれば、本発明の䞀般匏〔〕たたは〔
〕の化合物もしくはそれらの塩類が埗られ
る。 この反応は、通垞溶媒䞭で行われる。溶媒ず
しおは、本反応を阻害しない限りいかなるもの
でもよいが、たずえば、氎、メタノヌル、゚タ
ノヌル、アセトン、テトラヒドロフラン、ゞオ
キサン、−ゞメチルホルムアミド、
−ゞメチルアセトアミド、−メチルピリド
ンなど、たたはこれら二皮以䞊の混合溶媒が甚
いられる。 脱酞剀の添加は、特に必芁ずしないが、セフ
アロスポリン骚栌に倉化を䞎えない範囲の量の
脱酞剀を添加するず円滑に反応が進行するこず
もある。この反応に甚いられる脱酞剀ずしお
は、氎酞化アルカリ金属塩、炭酞氎玠アルカリ
金属塩、トリ゚チルアミン、ピリゞン、
−ゞメチルアニリンなどの無機たたは有機塩基
が挙げられる。反応は䞀般に〜100℃の範囲
で行われる。通垞、䞀般匏〔〕、〔〕たたは
〔XI〕の化合物もしくはそれらの塩類圓量に
察し、それぞれ〜数圓量のチオホルムアミド
たたはチオ尿玠類が甚いられる。反応時間は、
通垞〜48時間、奜たしくは〜10時間であ
る。 たた、この閉環反応においお、保護基の導入
および脱離ならびに塩類ぞの倉換は垞法に埓぀
お行い、察応する目的化合物に倉換するこずが
できる。 以䞊のようにしお埗られた本発明の䞀般匏
〔〕たたは〔〕の目的化合物もしくは
それらの塩類は、垞法によ぀お単離するこずが
できる。 (ヘ) オキシム化反応 䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類に、䞀
般匏〔〕の化合物たたはその塩類を反応させ
るこずによ぀お、䞀般匏〔〕の化合物たたは
その塩類が埗られる。 䞀般匏〔〕の化合物の塩類ずしおは、たず
えば、塩酞塩、臭化氎玠酞塩、硫酞塩などが挙げ
られる。そしお、この反応は、通垞、氎、アルコ
ヌルなどの溶媒のほかに、反応に䞍掻性な溶媒、
たたはこれらの混合溶媒䞭で行われ、反応は通
垞、〜100℃、奜たしくは10〜50℃の範囲で行
われ、10分〜48時間で完了する。 䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類圓量
に察しお、〜数圓量の䞀般匏〔〕の化合物
たたはその塩類が甚いられる。 尚䞀般匏〔〕の化合物の塩類はそのたた本
反応に甚いるこずができるが、たずえば、氎酞化
ナトリりム、氎酞化カリりムなどの氎酞化アルカ
リ金属氎酞化マグネシりム、氎酞化カルシりム
などの氎酞化アルカリ土類金属炭酞ナトリり
ム、炭酞カリりムなどの炭酞アルカリ金属炭酞
マグネシりム、炭酞カルシりムなどの炭酞アルカ
リ土類金属炭酞氎玠ナトリりム、炭酞氎玠カリ
りムなどの炭酞氎玠アルカリ金属リン酞マグネ
シりム、リン酞カルシりムなどのリン酞アルカリ
土類金属リン酞氎玠ナトリりム、リン酞氎玠
カリりムなどのリン酞氎玠アルカリ金属などの
無機塩基、たたは酢酞ナトリりム、酢酞カリりム
などの酢酞アルカリ金属トリメチルアミン、ト
リ゚チルアミンなどのトリアルキルアミンピコ
リン、−メチルピロリゞン、−メチルモルホ
リン、−ゞアザビシクロ〔〕−
−ノネン、−ゞアザビシクロ〔
〕オクタン、−ゞアザビシクロ〔
〕−−りンデセンなどの有機塩基などの
塩基の存圚䞋に反応させるこずもできる。 たた、このオキシム化反応においお、保護基の
導入および脱離ならびに塩類ぞの倉換は垞法に埓
぀お行い、察応する目的化合物に倉換するこずが
できる。以䞊のようにしお埗られた本発明の䞀般
匏〔〕の化合物たたはその塩類は垞法によ぀お
単離するこずができる。 以䞊のようにしお埗られた䞀般匏〔〕の化合
物たたはその塩類は、遊離酞の圢、非毒性塩たた
は生理的に蚱容される゚ステルの圢で现菌感染症
の治療および予防のために人および動物に投䞎す
るこずができ、遊離酞の圢もしくは非毒性塩の圢
で非経口的投䞎方法、たたは生理的に蚱容される
゚ステルの圢で経口的投䞎方法を適甚するこずが
奜たしい。その堎合、通垞セフアロスポリン系薬
剀に適甚されおいる剀圢、たずえば、錠剀、カプ
セル剀、散剀、顆粒剀、现粒剀、シロツプ剀、泚
射剀点滎剀も含む、坐薬などの圢に調補すれ
ばよい。䞊の薬剀を調補する際、必芁に応じ、た
ずえば、デンプン、乳糖、砂糖、リン酞カルシり
ム、炭酞カルシりムなどの賊圢剀アラビアゎ
ム、デンプン、結晶セルロヌス、カルボキシメチ
ルセルロヌス、ヒドロキシプロピルセルロヌスな
どの結合剀タルク、ステアリン酞マグネシりム
などの滑沢剀およびカルボキシメチルカルシり
ム、タルクなどの厩壊剀などの垌釈剀およびた
たは添加剀を甚いおもよい。 たた、䞀般匏〔〕の化合物たたはその塩類を
投䞎する堎合、症状によ぀お投䞎量、投䞎回数お
よび投䞎方法は適宜遞択できるが、䞀般に成人
人圓り、回量玄50〜5000mgを日〜回皋床
経口たたは非経口投䞎すればよい。 ぀ぎに、本発明を参考䟋および実斜䟋を挙げお
説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 参考䟋  䞉北化硌玠13.6を含むスルホラン溶液50ml
に−アミノセフアロスポラン酞以䞋、−
ACAず略蚘する。13.6およびメタンスルホン
アミド4.75を加えお溶解させた埌、宀枩で時
間反応させる。反応終了埌、反応液を氷冷䞋メタ
ノヌル250ml䞭ぞ導入し、぀いでピリゞン15.8
を滎䞋する。析出晶を取し、メタノヌルで十分
掗浄した埌也燥すれば、融点188〜191℃分解
を瀺す−アミノ−−メタンスルホンアミド
メチル−△3−セプム−−カルボン酞7.85
収率51.1を埗る。 IrKBrcm-1〓 1790、1610 NMRCF3COODΎ倀 3.263H、、−CH3、 3.902H、bs、C2−、 4.552H、bs、
[ Formula ] Silyl derivatives , phosphorus derivatives , or All compounds frequently used in acylation reactions, such as tin derivatives, are included. General formula [], [], [], [] or [
] Specifically, the reactive derivatives at the carboxyl group of the compound include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, activated acid amides,
Active ester and general formula [], [],
Examples include reactive derivatives of the compound of [], [] or [] and the Vilsmeier reagent. Examples of mixed acid anhydrides include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and lower alkanoic acids which may be substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixed acid anhydrides and the like are used. Examples of active acid amides include N-acyl saccharin, N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N,N'-dicyclohexyl-
N-acylurea, N-acylsulfonamide, etc. are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, substituted thienyl ester, etc. are used. In addition, examples of derivatives reactive with the Vilsmeier reagent include N,N-dimethylformamide,
Acid amides such as N,N-dimethylacetamide are treated with halogenating agents such as phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethyl chloroformate, and oxalyl chloride. Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by General formula [], [], [], [] or [
] When using each compound in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used. Such condensing agents include, for example, N,N'-dicyclohexylcarbodiimide,
N'-disubstituted carbodiimides; azolide compounds such as N,N'-thionyldiimidazole;
N-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,
Dehydrating agents such as 2-dihydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, and alkoxyacetylene; 2-halogenopyridinium salts such as 2-chloropyridinium methyl iodide and 2-fluoropyridinium methyl iodide are used. This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent.
It is carried out in the presence or absence of a base. Examples of solvents include halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; N,
N-dimethylformamide, N,N'-dimethylacetamide, acetone, water or a mixture thereof can be used. In addition, as a base, an inorganic base such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate or alkali acetate;
Examples include organic bases such as tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, lutidine, and collidine, and secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine. In addition, general formula [a] or [
The compound of the general formula [] or its salts which can be derived from the compound of b] or its salts can also be produced as follows. In order to obtain the compound of the general formula [] or its salts using the compound of the general formula [] or its salts, the reaction of diketene with a halogen such as chlorine or bromine [Journal of the Chemical Society, 97] , 1987 (1910)] and a compound of the general formula [] or a salt thereof may be reacted according to a conventional method. Conditions and operations known in the art can be applied to this reaction condition and operation. Also, general formula []
The salts of the compound of formula [] can be easily obtained according to conventional methods, and the salts include the same basic or acidic group salts as explained above for the salts of the compound of the general formula []. It will be done. The resulting compound of general formula [] or its salts may be isolated and purified by conventional methods, but may also be used in the next reaction without isolation. The amount of the compound of the general formula [], [], [], [], or [] or its reactive derivative at the carboxyl group or their salts is the same as the amount of the compound of the general formula [] or its reactive derivative at the amino group. Or each is preferably about 1 to several mol each per 1 mol of the salt. These reactions are usually carried out at -50 to 40°C,
Completes in 10 minutes to 48 hours. In addition, in this acylation reaction, introduction and removal of a protecting group and conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert the compound into the corresponding target compound. General formula obtained as above [],
Compounds of [], [], [XI] or [] or their salts can be isolated and purified by known means, but furthermore, compounds of the general formula [], [],
The compound [XI] or [] or a salt thereof can also be used as a raw material for the next reaction without being isolated. (c) Nitrosation reaction Next, to obtain a compound of general formula [] or a salt thereof from a compound of general formula [] or a salt thereof, the compound of general formula [] or a salt thereof is reacted with a nitrosation agent. This reaction is
The reaction is usually carried out in a solvent, and water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, and other solvents inert to the reaction can be used as the solvent. Preferred examples of nitrosating agents include nitric acid and its derivatives, such as nitrosyl halides such as nitrosyl chloride and nitrosyl bromide; alkali metal salts of nitrite such as sodium nitrite and potassium nitrite; butyl nitrite and pentyl nitrite. Examples include alkyl esters of nitrite such as esters. When using a salt of nitrous acid as a nitrosating agent, the reaction is preferably carried out in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid. When a nitrite alkyl ester is used as a nitrosating agent, it is preferably carried out in the presence of a strong base such as an alkali metal alkoxide. The reaction is generally carried out at -15 to 30°C and starts from 10 minutes.
Complete in 10 hours. In addition, the salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to the conventional method, and the salts can be prepared using the same basic or acidic groups as explained for the salts of the compound of general formula []. Salt is an example. moreover,
Introduction and removal of protecting groups are carried out according to conventional methods.
It can be converted into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated. (d) Etherification reaction and phosphorylation reaction Next, in order to obtain the compound of general formula [XI] or its salts from the compound of general formula [] or its salts, the compound of general formula [] or its salts is etherified. reaction or phosphorylation reaction. This etherification reaction and phosphorylation reaction are described in JP-A-53-137988, JP-A-55-105689,
It can be carried out by conventional methods such as etherification reaction and phosphorylation reaction described in JP-A-55-149295. For example, the alkylation reaction can be carried out according to a conventional method. The reaction is generally carried out at -20 to 60°C and is completed in 5 minutes to 10 hours. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, N,N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, water, or a mixture thereof is used. As the alkylating agent, for example, lower alkyl halides such as methyl iodide, methyl bromide, ethyl iodide, and ethyl bromide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, diazomethane, diazoethane, or methyl p-toluenesulfonate are used. . When using alkylating agents other than diazomethane and diazoethane, alkylating agents such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, triethylamine,
It is generally carried out in the presence of a base such as pyridine, N,N-dimethylaniline. In addition, the salts of the compound of general formula [XI] can be easily obtained according to a conventional method, and the salts can be prepared using the same basic group or acidic group as explained for the salts of the compound of general formula []. Examples include salt. Furthermore, the introduction and removal of a protecting group can be carried out according to a conventional method to convert the compound into the corresponding target compound. The compound of general formula [XI] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without isolation. (e) Ring-closing reaction Next, each compound of the general formula [XI], [] or [XI] or a salt thereof is combined with the general formula [XII].
If thioformamide or thiourea is reacted, the general formula [a] or [
b] or their salts are obtained. This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, but examples include water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, N-methylpyridone, or a mixed solvent of two or more of these is used. Although it is not particularly necessary to add a deoxidizing agent, the reaction may proceed smoothly if the deoxidizing agent is added in an amount within a range that does not change the cephalosporin skeleton. The deoxidizers used in this reaction include alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogen carbonate, triethylamine, pyridine, N,N
- Inorganic or organic bases such as dimethylaniline. The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C. Generally, one to several equivalents of thioformamide or thioureas are used per equivalent of the compound of general formula [], [] or [XI] or a salt thereof. The reaction time is
Usually 1 to 48 hours, preferably 1 to 10 hours. In addition, in this ring-closing reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The target compound of the general formula [a] or [b] of the present invention obtained as described above or a salt thereof can be isolated by a conventional method. (f) Oxime formation reaction A compound of general formula [b] or a salt thereof can be obtained by reacting a compound of general formula [] or a salt thereof with a compound of general formula [] or a salt thereof. Examples of the salts of the compound of general formula [] include hydrochloride, hydrobromide, and sulfate. This reaction is usually carried out using solvents such as water and alcohol, as well as solvents that are inert to the reaction.
Alternatively, the reaction is carried out in a mixed solvent thereof, and the reaction is usually carried out at a temperature of 0 to 100°C, preferably 10 to 50°C, and is completed in 10 minutes to 48 hours. One to several equivalents of the compound of general formula [] or a salt thereof is used per equivalent of the compound of general formula [] or a salt thereof. The salts of the compound of the general formula [] can be used as they are in this reaction; for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide. Metals; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate and calcium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkali phosphates such as magnesium phosphate and calcium phosphate Earth metals; inorganic bases such as alkali metal hydrogen phosphates such as disodium hydrogen phosphate and dipotassium hydrogen phosphate; or alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate; trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine; picoline; N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-
5-Nonene, 1,4-diazabicyclo[2,2,
2] Octane, 1,5-diazabicyclo[5,
The reaction can also be carried out in the presence of a base such as an organic base such as 4,0]-7-undecene. In addition, in this oximation reaction, introduction and removal of a protecting group and conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] of the present invention or its salts obtained as described above can be isolated by a conventional method. The compound of general formula [] or its salts obtained as described above can be used in the treatment and prevention of bacterial infections in humans and in the form of free acids, non-toxic salts or physiologically acceptable esters. Preference is given to applying parenteral administration methods, in the form of free acids or non-toxic salts, or oral administration methods, which can be administered to animals, in the form of physiologically acceptable esters. In that case, it should be prepared in the dosage forms normally applied to cephalosporin drugs, such as tablets, capsules, powders, granules, fine granules, syrups, injections (including infusions), and suppositories. Bye. When preparing the above drug, if necessary, excipients such as starch, lactose, sugar, calcium phosphate, calcium carbonate; binders such as gum arabic, starch, microcrystalline cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; talc Diluents and/or additives such as lubricants such as , magnesium stearate; and disintegrants such as carboxymethylcalcium, talc, etc. may also be used. In addition, when administering the compound of general formula [] or its salts, the dosage, frequency of administration, and administration method can be selected as appropriate depending on the symptoms, but in general, adults
A single dose of about 50 to 5000 mg per person may be administered orally or parenterally about 1 to 4 times a day. Next, the present invention will be explained with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto. Reference example 1 Sulfolane solution containing 13.6 g of boron trifluoride (50 ml)
7-aminocephalosporanic acid (hereinafter referred to as 7-
Abbreviated as ACA. ) and 4.75 g of methanesulfonamide were added and dissolved, and then reacted at room temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into 250 ml of methanol under ice cooling, and then 15.8 g of pyridine was added.
drip. If you remove the precipitated crystals, thoroughly wash them with methanol, and then dry them, the melting point is 188-191℃ (decomposition).
7-Amino-3-(methanesulfonamide)
Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid 7.85g
(yield 51.1%). Ir (KBr) cm -1 ; C=o 1790, 1610 NMR (CF 3 COOD) ÎŽ value; 3.26 (3H, a, -CH 3 ), 3.90 (2H, bs, C 2 -H), 4.55 (2H , bs,

【匏】、 5.492H、、C6−、C7− 同様にしお、次の化合物を埗た。 Γ−アミノ−−〔−クロロベンれンスルホ
ンアミドメチル〕−△3−セプム−−カル
ボン酞 融点197〜199℃分解 IRKBrcm-1Μ 1790、1610 NMRCF3COODΎ倀 3.802H、、C2−、 4.242H、bs、
[Formula]), 5.49 (2H, s, C 6 -H, C 7 -H) In the same manner, the following compound was obtained. Γ7-amino-3-[(p-chlorobenzenesulfonamido)methyl]-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point: 197-199°C (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; ÎœC=O 1790, 1610 NMR (CF 3 COOD) ÎŽ value; 3.80 (2H, s, C 2 −H), 4.24 (2H, bs,

【匏】、 5.352H、、C6−、C7−、 7.53、7.924H、ABq、Hz、
[Formula]), 5.35 (2H, s, C 6 -H, C 7 -H), 7.53, 7.92 (4H, ABq, J = 8Hz,

【匏】 参考䟋  (1) 䞉北化硌玠27.1を含むスルホラン溶液100
mlに−ACA27.2および−ゞメチル
−−チアゞアゞン−−ゞオキ
シド16.0を加えお溶解させた埌、宀枩で時
間反応させる。反応終了埌、反応液を氷冷䞋メ
タノヌル500ml䞭ぞ導入し、぀いでピリゞン
31.6を滎䞋する。析出晶を取し、メタノヌ
ルで十分掗浄した埌也燥すれば、−アミノ−
−−ゞメチル−−チアゞ
アゞン−−ゞオキシド−−むルメチ
ル−△3−セプム−−カルボン酞の粗結晶
30.5収率82.0を埗る。 同様にしお、次の化合物の粗結晶を埗た。 Γ−アミノ−−−メチルメタンスルホ
ンアミドメチル−△3−セプム−−カ
ルボン酞 Γ−アミノ−−−チアゞアゞ
ン−−ゞオキシド−−むルメチル
−△3−セプム−−カルボン酞 Γ−アミノ−−テトラヒドロ−−
チアゞン−−ゞオキシド−−むル
メチル−△3−セプム−−カルボン酞 Γ−アミノ−−−メチル−む゜チアゟ
リゞン−−ゞオキシド−−むルメ
チル−△3−セプム−−カルボン酞 (2) (1)で埗られた−アミノ−−−ゞ
メチル−−チアゞアゞン−−
ゞオキシド−−むルメチル−△3−セプ
ム−−カルボン酞の粗結晶30をメタノヌル
300mlに懞濁させ、これに−トル゚ンスルホ
ン酞・氎和物12.3を加える。぀いでゞプ
ニルゞアゟメタン46.9を埐々に加え、宀枩で
15分間反応させる。反応終了埌、枛圧䞋に溶媒
を留去し、埗られた残留物に酢酞゚チル300ml
および氎300mlを加え、炭酞氎玠ナトリりム加
えおPH7.0に調敎する。぀いで䞍溶物を別し
た埌、有機局を分取し、無氎硫酞マグネシりム
で也燥した埌、枛圧䞋に溶媒を留去する。残留
物をカラムクロマトグラフむヌ和光シリカゲ
ル200、溶離液ベンれン酢酞゚チル
で粟補すれば、融点97〜99℃分解を
瀺すゞプニルメチル−アミノ−−
−ゞメチル−−チアゞアゞン−
−ゞオキシド−−むルメチル−△3
−セプム−−カルボキシレヌト20.5収
率47.2を埗る。 IRKBrcm-1〓 1780、1720 NMRCDCl3Ύ倀 1.903H、、−CH2、 2.223H、、−CH2、 3.442H、bs、C2−、 4.751H、、Hz、C6−、 4.921H、、Hz、C7−、 5.012H、bs、
[Formula]) Reference example 2 (1) 100 sulfolane solution containing 27.1 g of boron trifluoride
27.2 g of 7-ACA and 16.0 g of 3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide were added to and dissolved in the resulting solution, and the mixture was allowed to react at room temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into 500ml of methanol under ice cooling, and then pyridine was added.
Drop 31.6g. 7-Amino-
Crude crystals of 3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl- Δ3 -cephem-4-carboxylic acid
Obtain 30.5 g (82.0% yield). In the same manner, crude crystals of the following compound were obtained. Γ7-amino-3-(N-methylmethanesulfonamido)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl) Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(tetrahydro-1,2-
thiazin-1,1-dioxide-2-yl)
Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(5-methyl-isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid (2) ( 7-amino-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-
30g of crude crystals of dioxide-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid were dissolved in methanol.
Suspend in 300 ml and add 12.3 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate. Then, 46.9 g of diphenyldiazomethane was gradually added and the mixture was heated at room temperature.
Incubate for 15 minutes. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 300 ml of ethyl acetate was added to the resulting residue.
Add 300ml of water and adjust the pH to 7.0 by adding sodium bicarbonate. After separating the insoluble matter, the organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C = 200, eluent: benzene: ethyl acetate =
3:1), diphenylmethyl 7-amino-3-(3,
5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-
1,1-dioxido-2-yl)methyl-△ 3
-Cefem-4-carboxylate 20.5 g (yield 47.2%) are obtained. IR (KBr) cm -1 ; C=O 1780, 1720 NMR (CDCl 3 ) ÎŽ value; 1.90 (3H, s, -CH 2 ), 2.22 (3H, s, -CH 2 ), 3.44 (2H, bs , C 2 -H), 4.75 (1H, d, J = 5Hz, C 6 -H), 4.92 (1H, d, J = 5Hz, C 7 -H), 5.01 (2H, bs,

【匏】、 5.731H、、【formula】), 5.73 (1H, s,

【匏】、 7.031H、、−CH、 7.23〜7.7010H、、【formula】), 7.03 (1H, s, -CH), 7.23~7.70 (10H, m,

【匏】 × 同様にしお、衚−の化合物を埗た。 [Formula] ×2) In the same manner, the compounds shown in Table 2 were obtained.

【衚】【table】

Claims (1)

【特蚱請求の範囲】  䞀般匏 「匏䞭、R1は、氎玠原子たたはカルボキシル保
護基を、R2は、匏【匏】匏䞭、R6は、 氎玠原子たたはアルキル基を、R7は、アルキル
たたはハロゲン原子で眮換されおいおもよいプ
ニル基を瀺す。で衚わされる基たたはアルキル
基で眮換されおいおもよい−チアゞア
ゞン−−ゞオキシド−−むル、テトラヒ
ドロ−−チアゞン−−ゞオキシド−
−むルもしくはむ゜チアゟリゞン−−ゞ
オキシド−−むル基を、R3は、氎玠原子を、
R4は、氎玠原子を、R5は、保護されおいおもよ
いアミノ基を、−−は、匏−CH2−たたは匏
【匏】匏䞭、R8は、保護されおいおも よいカルボキシル基で眮換されおいおもよいアル
キル基を瀺し、〜は、シンたたはアンチ異性䜓も
しくはそれらの混合物でもよいこずを瀺す。で
衚わされる基を瀺す。」 で衚わされるセフアロスポリンおよびその塩類。  R5が、アミノ基である特蚱請求の範囲第
項蚘茉のセフアロスポリンおよびその塩類。  −−が、匏【匏】匏䞭、R8およ び〜は、前蚘した意味を有する。で衚わされる
基である特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉
のセフアロスポリンおよびその塩類。  −−が、匏【匏】匏䞭、シン異 性䜓である。で衚わされる基である特蚱請求の
範囲第〜項いずれかの項蚘茉のセフアロスポ
リンおよびその塩類。  −−が、匏【匏】匏 䞭、シン異性䜓であり、R1は、前蚘した意味を
有する。で衚わされる基である特蚱請求の範囲
第〜項いずれかの項蚘茉のセフアロスポリン
およびその塩類。  R2が、匏【匏】匏䞭、R6および R7は、前蚘した意味を有する。で衚わされる基
である特蚱請求の範囲第第〜項いずれかの項
蚘茉のセフアロスポリンおよびその塩類。  R2が、アルキル基で眮換されおいおもよい
−チアゞアゞン−−ゞオキシド
−−むル基である特蚱請求の範囲第〜項い
ずれかの項蚘茉のセフアロスポリンおよびその塩
類。  R2が、アルキル基で眮換されおいおもよい
テトラヒドロ−−チアゞン−−ゞオ
キシド−−むル基である特蚱請求の範囲第〜
項いずれかの項項蚘茉のセフアロスポリンおよ
びその塩類。  R2が、アルキル基で眮換されおいおもよい
む゜チアゟリゞン−−ゞオキシド−−む
ル基である特蚱請求の範囲第〜項いずれかの
項蚘茉のセフアロスポリンおよびその塩類。  −−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミド
−−メタンスルホンアミドメチル−△3−セ
プム−−カルボン酞、その゚ステルたたはそ
れらの塩である特蚱請求の範囲第項蚘茉の化合
物。  −−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミド
−−−ゞメチル−−チアゞ
アゞン−−ゞオキシド−−むルメチル
−△3−セプム−−カルボン酞、その゚ステ
ルたたはそれらの塩である特蚱請求の範囲第項
蚘茉の化合物。  −−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミド
−−テトラヒドロ−−チアゞン−
−ゞオキシド−−むルメチル−△3−セフ
゚ム−−カルボン酞、その゚ステルたたはそれ
らの塩である特蚱請求の範囲第項蚘茉の化合
物。  −−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−メトキシむミノアセトアミド
−−−メチルむ゜チアゟリゞン−−
ゞオキシド−−むルメチル−△3−セプム
−−カルボン酞、その゚ステルたたはそれらの
塩である特蚱請求の範囲第項蚘茉の化合物。  −−−アミノチアゟヌル−−む
ル−−シン−カルボキシメトキシむミノア
セトアミド−−−ゞメチル−
−チアゞアゞン−−ゞオキシド−−む
ルメチル−△3−セプム−−カルボン酞、
その゚ステルたたはそれらの塩である特蚱請求の
範囲第項蚘茉の化合物。
[Claims] 1. General formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R 7 is an alkyl or halogen atom substituted. 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl, tetrahydro-1,2-thiazine-, which may be substituted with a group represented by (a phenyl group which may be substituted with a phenyl group) or an alkyl group. 1,1-dioxide-
2-yl or isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group, R 3 is a hydrogen atom,
R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an optionally protected amino group, -A- is the formula -CH 2 - or the formula [formula] (wherein R 8 is an optionally protected represents an alkyl group which may be substituted with a suitable carboxyl group, and represents a group represented by (- represents a syn or anti isomer or a mixture thereof). ” Cephalosporin and its salts. 2. Claim 1 in which R 5 is an amino group
Cephalosporin and its salts as described in Section. 3. The cephalosporin and its salts according to claim 1 or 2, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 8 and ~ have the above-mentioned meanings) . 4. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 3, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (in which it is a syn isomer). 5. Any one of claims 1 to 3, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (wherein is a syn isomer and R 1 has the meaning described above) Cephalosporin and its salts as described. 6. The cephalosporin according to any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 6 and R 7 have the above-mentioned meanings). and its salts. 7. The cephalosporin according to any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl group optionally substituted with an alkyl group. and its salts. 8 Claims 1 to 2 , wherein R 2 is a tetrahydro-1,2-thiazin-1,1-dioxide-2-yl group which may be substituted with an alkyl group.
Cephalosporin and its salts as described in any of Item 5. 9. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 5, wherein R2 is an isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group which may be substituted with an alkyl group. 10 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
7. The compound according to claim 6, which is -3-(methanesulfonamido)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 11 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid, its ester, or a salt thereof A compound according to item 7 within the scope of the invention. 12 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(tetrahydro-1,2-thiazine-1,
9. The compound according to claim 8, which is 1-dioxid-2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 13 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(5-methylisothiazolidine-1,1-
10. The compound according to claim 9, which is dioxido-2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 14 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,
6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl- Δ3 -cephem-4-carboxylic acid,
The compound according to claim 7, which is an ester thereof or a salt thereof.
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