JPH045370B2 - - Google Patents
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- JPH045370B2 JPH045370B2 JP12639584A JP12639584A JPH045370B2 JP H045370 B2 JPH045370 B2 JP H045370B2 JP 12639584 A JP12639584 A JP 12639584A JP 12639584 A JP12639584 A JP 12639584A JP H045370 B2 JPH045370 B2 JP H045370B2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はオフセツト印刷の原版を製版する製版
機に係り、時に同一原稿をマスターペーパー(原
版)に二面付けする場合に用いて好適な製版機の
露光制御装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a plate-making machine for making an original plate for offset printing, and is a plate-making machine suitable for use when sometimes printing two sides of the same original on a master paper (original plate). The present invention relates to an exposure control device.
従来、同一原稿をマスターペーパーに多面づけ
する場合、1回目の撮像では第1図aに示すとお
り、2回目に原稿を置く部分に黒紙001を置い
て露光し、2回目の撮像では同図bに示すとお
り、1回目の露光により形成した潜像002に光
をあてないように1回目の原稿部分に黒紙1を置
いて行うようにしている。なお、図中003は原
稿台、004は原稿、005,006は光学系を
構成するレンズおよびミラー、007は版材、0
08は露光部、009は未露光部、010は2回
目の露光で形成される潜像である。
Conventionally, when printing multiple copies of the same original on a master paper, the first time the image is taken, black paper 001 is placed in the area where the original is placed and exposed, as shown in Figure 1a, and the second time the image is taken, the black paper 001 is exposed. As shown in b, the black paper 1 is placed on the original portion of the first exposure so that the latent image 002 formed by the first exposure is not exposed to light. In the figure, 003 is a manuscript table, 004 is a manuscript, 005 and 006 are lenses and mirrors that constitute the optical system, 007 is a printing plate, and 0
08 is an exposed area, 009 is an unexposed area, and 010 is a latent image formed by the second exposure.
しかし、このような黒紙による遮光方式におい
ては、1回目と2回目の撮像時に原稿004を移
動させる必要があるため、その作業が面倒とな
り、かつ、位置精度が低下し、高精度により位置
決めするには時間を要する不都合があると共に、
原稿台003側に黒紙001を置いて遮光して
も、黒紙001が完全に光を吸収できないため1
回目撮像による未露光部(2回目撮像時の露光
部)009の電位が低下するばかりか、原稿00
4の交換に手間どると、暗減衰によつても電位が
低下するため、1回目の撮像と2回目の撮像とに
著しい画像差が生じる等の欠点を招来している。 However, in such a light shielding method using black paper, it is necessary to move the document 004 during the first and second imaging, which makes the work cumbersome and lowers the positioning accuracy. has the disadvantage of being time consuming, and
Even if black paper 001 is placed on the document table 003 side to block light, black paper 001 cannot completely absorb light, so 1
Not only does the potential of the unexposed area 009 (exposed area during the second imaging) decrease due to the second imaging, but also the potential of the original 009 decreases.
If it takes time to replace the sensor 4, the potential will also drop due to dark decay, resulting in drawbacks such as a significant image difference between the first and second imaging.
本発明は、従来のかかる欠点を完全に解決する
目的を有し、版材を露光部上に移送して停止させ
る板材移送手段と、前記露光部の両端部へロール
状に巻回され各個に配設された第1および第2の
遮光幕と、外遮光幕を前記露光部上へ繰出して展
張させる遮光幕駆動手段と、前記版材へ複数の原
稿像を形成するための設定手段と、該設定手段か
らの指令に基づき前記版材移送手段及び前記遮光
幕駆動手段を所定の関係により駆動する制御装置
とを備え、自動的に同一版材に複数面の原稿像を
形成できるものとした極めて効果的な、製版機の
露光制御装置を提供するものである。
The present invention has an object of completely solving such drawbacks of the conventional art, and includes a plate material transporting means for transporting and stopping a plate material onto an exposure section, and a plate material transporting means that is wound around both ends of the exposure section in a roll shape and is individually rolled. first and second light-shielding curtains arranged, a light-shielding curtain driving means for drawing out and extending the outer light-shielding curtain onto the exposure section, and a setting means for forming a plurality of original images on the plate material; and a control device that drives the plate material transporting means and the light-shielding curtain driving means in a predetermined relationship based on instructions from the setting means, and is capable of automatically forming document images on multiple sides on the same plate material. The present invention provides an extremely effective exposure control device for a plate making machine.
以下、実施例を示す図によつて本発明の詳細を
説明する。
Hereinafter, details of the present invention will be explained with reference to figures showing examples.
第2図は、製版機の側断面図であり、給紙台1
上へ載置されたシート状の版材2は、吸着機構3
により1枚ずつが取り出され、ローラ群により給
送される途上、荷電部4において高電圧の印加に
より帯電し、内部が排気されて負圧となつている
露光部5へ吸着されながら送られる。 Figure 2 is a side sectional view of the plate making machine, and shows the paper feed tray 1.
The sheet-like plate material 2 placed on top is moved by the suction mechanism 3
While the sheets are taken out one by one and fed by a group of rollers, they are charged by applying a high voltage in the charging section 4, and are then adsorbed and sent to the exposure section 5, whose interior is evacuated and has a negative pressure.
一方、側方へ引出し自在の原稿台6上へ載置さ
れた原稿7は、各周辺上方の照明灯8により照明
されたうえ、ミラー9を介して撮像レンズ10に
より撮像されて露光部5へ投影され、これによつ
て版材2に対する露光が行なわれる。 On the other hand, a document 7 placed on a document table 6 that can be freely pulled out to the side is illuminated by illumination lights 8 above each periphery, and is imaged by an imaging lens 10 via a mirror 9 and sent to an exposure section 5. The image is projected onto the plate material 2, thereby exposing the plate material 2 to light.
露光済の版材2は、ローラ群により現像部11
へ送られ、ここにおいて潜像の現像がなされてか
ら定着部12を通過し、これによつて定着および
乾燥が行なわれ、送出台1へ刷版となつて送出さ
れるものとなつている。 The exposed plate material 2 is transferred to the developing section 11 by a group of rollers.
After the latent image is developed there, it passes through a fixing section 12, where it is fixed and dried, and is sent to a delivery table 1 as a printing plate.
ここにおいて、給紙台1と露光部5との中間に
は、光電式の版材長センサ(以下、MLS)31
が設けられ、これによる版材2の検出とローラ1
4の回転数とにより版材2の全長を求めるものと
なつており、露光部5の光軸15と一致する中央
部には、光電式の停止センサ(以下、STS)3
2が設けてあり、これによつて、送られて来る版
材2の前縁を検出し、これ以降の版材2を移送す
る距離を定めている。 Here, a photoelectric plate length sensor (hereinafter referred to as MLS) 31 is located between the paper feed table 1 and the exposure section 5.
is provided, thereby detecting the plate material 2 and detecting the roller 1.
The total length of the plate material 2 is determined based on the number of revolutions 4, and a photoelectric stop sensor (hereinafter referred to as STS) 3 is installed at the center of the exposure section 5, which coincides with the optical axis 15.
2 is provided, which detects the leading edge of the plate material 2 being sent and determines the distance over which the plate material 2 will be transported thereafter.
一方、露光部5の通気孔を多数穿設した搬送ベ
ルト17およびチエーン18を介して各ローラ群
を駆動するステツプモータ(以下、SM1)41が
設けてあると共に、上方および下方の遮光膜(以
下、BDA,BDB)19a,19bを各々ワイヤー
20a,20bを介して駆動するステツプモータ
(以下、SM1,SM2)42,43が設けてあり、
これらへ与える駆動パルス数により、各々の回転
数を規制し、版材2の移送状況およびBDA19
a,BDB19bの繰出し状況を制御するものとな
つている。 On the other hand, a step motor (hereinafter referred to as SM 1 ) 41 is provided to drive each roller group via a conveyor belt 17 and a chain 18 having a large number of ventilation holes in the exposure section 5, and upper and lower light-shielding films ( Step motors (hereinafter referred to as SM 1 and SM 2 ) 42 and 43 are provided to drive the BD A and BD B ) 19a and 19b via wires 20a and 20b, respectively.
The number of driving pulses given to these controls the rotational speed of each, and the transfer status of the plate material 2 and the BD A 19
It is designed to control the feeding status of a, BD B 19b.
第3図は、同一版材の各々異なる部位へ同一原
稿像を各個に露光する二重製版を行なう場合の要
部側面図であり、同図Aのとおり、原稿台6上へ
原稿7の中心を光軸15と一致させて載置する一
方、1回目の露光部位中心が光軸15と一致する
関係として版材2の位置を露光部5において定め
ると共に、版材2の非露光部位をBDA19aによ
りマスクするまで、図上露光部5の上方に設けた
BDA19bの巻込み軸21aを基準とする繰出長
SAE1だけ、SM242により矢印方向へ駆動して
BDA19aを繰出したうえ、第1回の露光を行な
えば、版材2の前縁側に第1の原稿像が形成され
る。 FIG. 3 is a side view of the main parts when performing double plate making in which the same original image is exposed to different parts of the same plate material, and as shown in FIG. The plate material 2 is placed so that it coincides with the optical axis 15, and the position of the plate material 2 is determined in the exposure section 5 so that the center of the first exposed region coincides with the optical axis 15, and the unexposed region of the plate material 2 is placed on the BD. A 19a provided above the exposed area 5 in the figure until it is masked.
Feeding length based on the winding shaft 21a of BD A 19b
Only S AE1 is driven in the direction of the arrow by SM 2 42.
When the BD A 19a is fed out and a first exposure is performed, a first original image is formed on the front edge side of the plate material 2.
ついで、Bのとおり、原稿7をそのままとした
うえ、2回目の露光部位中心が光軸15と一致す
るまで版材2をSM141により図上下方へ移送す
ると共に、版材2の前回露光した部位をマスクす
るまで、図上露光部5の下方に設けたBDB19b
の巻込み軸21bを基準とする繰出長SBE1だけ、
SM343により矢印方向へ駆動してBDB19bを
繰出してから、第2回の露光を行なえば、版材2
の後縁側にも第2の原稿像が形成される。 Next, as shown in B, while leaving the original 7 as it is, the plate material 2 is moved upward and downward in the figure by the SM 1 41 until the center of the second exposure area coincides with the optical axis 15, and the previous exposure of the plate material 2 is BD B 19b provided below the exposed area 5 in the figure until the exposed area is masked.
Only the unwinding length S BE1 is based on the winding shaft 21b of
If the SM 3 43 is driven in the direction of the arrow to feed out the BD B 19b and then the second exposure is performed, the plate material 2
A second original image is also formed on the trailing edge side.
なお、BDA19a,BDB19bは、可撓性の遮
光材により製され、基部がスプリングにより巻込
み方向へ付勢された巻込み軸21a,21bへ巻
込まれたうえ、先端部が露光部5の両側方へ各個
に設けたワイヤー20a,20bに係止されてお
り、SM242,SM343の駆動に応じて繰出さ
れ、これらの直流励磁により所定位置へ停止し、
これらの停止解除に応じて巻込み軸21a,21
bへ巻込まれ、自動的に復帰するものとなつてい
る。 Note that BD A 19a and BD B 19b are made of a flexible light-shielding material, and their bases are wound around winding shafts 21a and 21b that are biased in the winding direction by springs, and their tips are formed into exposed parts. The wires 20a and 20b are attached to wires 20a and 20b provided on both sides of the wire 5, and are fed out in response to the drive of SM 2 42 and SM 3 43, and stopped at a predetermined position by DC excitation of these.
In response to the release of these stops, the winding shafts 21a, 21
b, and automatically returns to its original position.
したがつて、原稿7を移動させることなく多重
製版が行なわれると共に、BDA19a,BDB19
bにより不要な散乱光による露光が阻止される。 Therefore, multiple plate making is performed without moving the original 7, and BD A 19a, BD B 19
b prevents exposure due to unnecessary scattered light.
第4図は、光軸15と版材2の中心とを一致さ
せて露光を行なうセンサ露光の場合、原稿7と版
材2との関係を示す図であり、Aに示すとおり光
軸15と原稿7の中心とを一致させる一方、Bの
とおり、版材2の全長LMを求めたうえ、矢印方
向へ移送される版材2の前縁2aが露光部5の光
軸15へ一致してから、更にLM/2を移送のう
え版材2を停止させて露光を行なえば、実際の全
長LMに基づき正確に版材2の中心部へ原稿像5
1が形成される。 FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the original 7 and the plate material 2 in the case of sensor exposure in which the optical axis 15 and the center of the plate material 2 are aligned, and as shown in A, the optical axis 15 and the center of the plate material 2 are aligned. While aligning the center of the original 7, as shown in B, the total length L M of the plate material 2 is determined, and the front edge 2a of the plate material 2 being transferred in the direction of the arrow is aligned with the optical axis 15 of the exposure section 5. After that, if L M /2 is further transferred, the plate material 2 is stopped, and exposure is performed, the original image 5 is accurately placed in the center of the plate material 2 based on the actual total length L M.
1 is formed.
すなわち、SM141へ与える1パルスに応じ、
ローラ14により版材2の給送される移動長を
LSRとし、MLS31が検出出力を生じている期間
においてSM141へ与えたパルス数をNとすれ
ば、次式により版材2の全長LMが求められる。 That is, depending on one pulse given to SM 1 41,
The moving length of the plate material 2 fed by the roller 14 is
If L SR is the number of pulses given to the SM 1 41 during the period when the MLS 31 is producing a detection output, then the total length L M of the plate material 2 can be obtained from the following equation.
LM=N×LSR ……(1)
また、SM141へ与える1パルスに応じ、ベル
ト17により版材2の移送される移動長をLPSと
し、STS32の取付状況およびこれの感度偏差
等によつて生ずる誤差を修正するオフセツト値を
OFSとすれば、版材2の前縁2aが光軸15と一
致してからの移送長Z1、および、この移送に要す
るSM141へ与えねばならないパルス数M1は、
次式により示される。 L M = N × L SR ...(1) Also, let L PS be the moving length of the plate material 2 transported by the belt 17 according to one pulse applied to the SM 1 41, and calculate the mounting situation of the STS 32 and its sensitivity deviation. The offset value that corrects the error caused by
If OFS , the transport length Z 1 after the leading edge 2a of the plate material 2 coincides with the optical axis 15 and the number of pulses M 1 required to be applied to the SM 1 41 for this transport are:
It is shown by the following formula.
Z1=LM/2+OFS ……(2)
M1=Z1/LPS ……(3)
したがつて、STS32により版材2の前縁2
aを検出した後、SM141へ(3)式のパルス数のみ
を与えたうえ、SM141を停止させればよいもの
となる。 Z 1 =L M /2+O FS ...(2) M 1 =Z 1 /L PS ...(3) Therefore, by STS32, the leading edge 2 of the plate material 2
After detecting a, it is sufficient to apply only the number of pulses in equation (3) to the SM 1 41 and then stop the SM 1 41.
第5図は、版材2の前縁2aからグリツパと称
する余白を設け、このグリツパ幅GRを介して原
稿像51を形成するサイド露光の場合を示す第4
図と同様な図であり、まず、Aのとおり、原稿台
6上に定めた基準位置52へ原稿7の一側方を一
致させる一方、Bのとおり、矢印方向へ移送され
る版材2の前縁2aが光軸15と一致してから、
グリツパ幅GRおよび光軸15と基準位置52と
の距離DODを更に移送のうえ、版材2を停止させ
て露光を行なえば、所望の部位に原稿像51が形
成される。 FIG. 5 shows a fourth side exposure case in which a margin called a gripper is provided from the front edge 2a of the plate material 2 and a document image 51 is formed via this gripper width G R.
This is a diagram similar to the one shown in the figure. First, as shown in A, one side of the original 7 is aligned with the reference position 52 set on the original platen 6, and as shown in B, the plate material 2 is moved in the direction of the arrow. After the leading edge 2a coincides with the optical axis 15,
After further moving the gripper width G R and the distance D OD between the optical axis 15 and the reference position 52, the plate material 2 is stopped and exposure is performed to form the original image 51 at a desired location.
したがつて、この場合には、版材2の前縁2a
がSTS32により検出された後に、SM141へ
与えるパルス数M1は、次式により与えられる。 Therefore, in this case, the front edge 2a of the plate material 2
The number of pulses M 1 given to SM 1 41 after M 1 is detected by the STS 32 is given by the following equation.
M1=DOD+GR+OFS/LPS ……(4)
第6図は、版材2の中心53を基準とし、これ
から対称な部位へ同一原稿像の反復露光を行なう
センタ二重露光を示す第4図と同様な図であり、
Aのとおり原稿7の中心と光軸15と一致させる
一方、B1のとおり、BDA19aの収容される巻
込み軸21aを基準とした繰出長SAE1だけBDA1
9aを繰出した後、版材2の前縁2aが光軸15
と一致してから、第1の原稿像51aの中心が光
軸15と一致するまで版材2を移送のうえ停止さ
せ、1回目の露光を行なえば第1の原稿像51a
が形成される。 M 1 =D OD +G R +O FS /L PS ...(4) Figure 6 shows center double exposure in which the same document image is repeatedly exposed to symmetrical areas using the center 53 of plate material 2 as a reference. It is a diagram similar to FIG. 4 shown in FIG.
As shown in A, the center of the original 7 is aligned with the optical axis 15, and as shown in B1, the BD A 1 is fed out by the length S AE1 based on the winding shaft 21a in which the BD A 19a is accommodated.
After feeding out the plate 9a, the front edge 2a of the plate material 2 is aligned with the optical axis 15.
After the center of the first original image 51a coincides with the optical axis 15, the plate material 2 is transported and stopped, and when the first exposure is performed, the first original image 51a
is formed.
このため、B2に示す原稿像51aと51bと
の中心間隔をFIG,BDA19aとBDB19bとの
繰出し誤差により生ずる重複遮光帯に基づき、現
像後の版材2へ有色帯が現わるのを阻止するため
に設ける重複遮光防止幅をDEF,SM242へ与え
る1パルスに応じ、BDA19aが繰出される繰出
長をLPA、巻込み軸21a光軸15との距離をSAD
とすれば、BDA19aの前縁と光軸15との距離
BCK、および、SM4242へ与えねばならないパル
ス数SAは、次式により示される。 Therefore, based on the central distance between the original images 51a and 51b shown in B2 as F IG , and the overlapping light-shielding band caused by the feeding error between BD A 19a and BD B 19b, a colored band appears on the plate material 2 after development. In response to one pulse given to the SM 2 42, the length of the BD A 19a to be fed out is L PA , and the distance from the winding axis 21a to the optical axis 15 is S A.D.
Then, the distance between the leading edge of BD A 19a and the optical axis 15 is
B CK and the number of pulses S A that must be applied to SM 42 42 are expressed by the following equation.
BCK=FIG/2+DEF ……(5)
SA=SAD−BCK/LPA ……(6)
また、版材2が、したときの前縁2aと光軸1
5との距離Z0、および、STS32が前縁2aを
検出してからSM141へ与えるパルス数M1は、
次式により与えられる。 B CK = F IG /2 + D EF ...... (5) S A = S AD - B CK /L PA ... (6) Also, when the plate material 2 is
5 and the number of pulses M 1 given to SM 1 41 after the STS 32 detects the leading edge 2a are:
It is given by the following equation.
Z0=LM/2−FIG/2+OFS=LM−FIG/2+OFS ……(7)
M1=Z0/LPS ……(8)
ついで、B2のとおり、BDA19aを復帰させ
ると共に、BDB19bの巻込み軸21bを基準と
した繰出長SBE1だBDB19bを繰出した後、版材
2をFIG分更に移送のうえ停止させ、2回目の露
光を行なえば第2の原稿像51bが形成される。Z 0 =L M /2-F IG /2+O FS =L M -F IG /2+O FS ...(7) M 1 =Z 0 /L PS ...(8) Then, as shown in B2, BD A 19a After the BD B 19b has been fed out, the plate material 2 is further transported by F IG and stopped, and the second exposure is performed. A second original image 51b is formed.
したがつて、BCKは(5)式により与えられると共
に、SM343へ与えるべきパルス数SBは、巻込み
軸21b光軸15との距離をSBD,SM343へ与
える1パルスに応じ、BDB19bが繰出される繰
出長をLPBとしたとき、次式により示される。 Therefore, B CK is given by equation (5), and the number of pulses S B to be given to the SM 3 43 is calculated by dividing the distance between the winding axis 21 b and the optical axis 15 by S BD , one pulse given to the SM 3 43 Accordingly, when the length at which the BD B 19b is fed out is LPB , it is expressed by the following equation.
SB=SBD−BCK/LPB ……(9)
また、FIG分の移送を版材2に対して行なうの
に要するSM141へ与えるべきパルス数M2は、
次式により示される。 S B = S BD - B CK / L PB ...(9) Also, the number of pulses M 2 to be applied to the SM 1 41 required to transfer F IG to the plate material 2 is:
It is shown by the following formula.
M2=FIG/LPS ……(10)
第7図は、第5図と同様の条件により反復露光
を行なうサイド二重露光を示す第4図と同様の図
であり、Aのとおり、原稿台6上の基準位置52
へ一側方を一致させて原稿7を載置する一方、B
1のとおり、巻込み軸21aを基準とする繰出長
SAE2を定め、BDA19aをこれにしたがつて繰出
した後、版材2の前縁2aが光軸15と一致して
から、グリツパ幅GRおよび光軸15と基準位置
52との距離DODの分だけ版材2を更に移送のう
え停止させ、1回目の露光を行なうことにより、
第1の原稿像51a形成される。 M 2 =F IG /L PS ...(10) Figure 7 is a diagram similar to Figure 4 showing side double exposure in which repeated exposure is performed under the same conditions as Figure 5, and as shown in A, Reference position 52 on document table 6
Place the document 7 with one side aligned with B.
1, the unwinding length based on the winding shaft 21a
After determining S AE2 and feeding out BD A 19a according to this, the gripper width G R and the distance between the optical axis 15 and the reference position 52 are determined after the front edge 2a of the plate material 2 coincides with the optical axis 15. By further transporting the plate material 2 by the amount of D OD and stopping it, and performing the first exposure,
A first original image 51a is formed.
ここにおいて、繰出長SAE2を求めるには、原稿
像51aの幅Wが不特定なため、B2において仮
想線によりBDA19aを示して考察すれば、原稿
像51aと51bとの間の余白幅をMNFとしたと
き、BDA19aの前縁と光軸15と距離Xは次式
により示される。 Here, in order to obtain the feeding length S AE2 , since the width W of the original image 51a is unspecified, if BD A 19a is indicated by an imaginary line in B2 and considered, the margin width between the original images 51a and 51b is calculated. When is MNF , the distance X between the leading edge of BD A 19a and the optical axis 15 is expressed by the following equation.
X=DOD+MNF/2−DEF ……(11)
また、B1とB2とにおいては、下記の移送に
よりFIGの相対的な移動を生じており、各BDA1
9aの前縁距離はFIGであるため、繰出長SAE2に
応ずるSM242へのパルス数SAは、次式により
与えられる。 X=D OD +M NF /2-D EF ...(11) Also, in B1 and B2, the following transfer causes relative movement of F IG , and each BD A 1
Since the leading edge distance of 9a is F IG , the number of pulses S A to SM 2 42 corresponding to the delivery length S AE 2 is given by the following equation.
SA=SAD+X−FIG/LPA ……(12)
ついで、第6図と同様に、BDA19aを復帰さ
せると共に、BDB19bを繰出長SBE2の繰出しを
行なつた後、版材2をFIG分だけ更に移送し、2
回目の露光を行なうことにより、第2の原稿像5
1bが形成される。 S A = S AD + _ Transfer plate material 2 further by F IG , and
By performing the second exposure, the second original image 5
1b is formed.
すなわち、光軸15とBDB19bの前縁との距
離Y、および、繰出長SBE2に応じてSM343へ与
えるパルス数SBは、次式により示される。 That is, the distance Y between the optical axis 15 and the front edge of the BD B 19b and the number of pulses S B given to the SM 3 43 according to the delivery length S BE2 are expressed by the following equation.
Y=DOD+MNF/2+DEF ……(13)
SB=SBD−Y/LPB ……(14)
なお、版材2を移送するためのSM141へ与え
るパルス数M2は(10)式により示されるとおりであ
る。 Y = D OD + M NF /2 + D EF ... (13) S B = S BD - Y / L PB ... (14) The number of pulses M 2 given to SM 1 41 to transport the plate material 2 is ( 10) as shown by formula.
ただし、(3)〜(14)式中のLPS,SAD,SBDは、
ベルト17、および、これの張架されたローラの
寸法ならびに取付状況等により、あるいは、巻込
み時21a,21bの取付状況等により誤差を生
じていると共に、STS32の取付状況も光軸1
5と完全に一致しているとは限らず、版材2およ
びBDA19,BDB19b等の移動体に対し、SM1
41〜SM343により位置制御を行なうには、各
誤差を修正により消去するものとしなければなら
ない。 However, L PS , S AD , and S BD in formulas (3) to (14) are
Errors may occur due to the dimensions and mounting conditions of the belt 17 and its stretched rollers, or due to the mounting conditions of 21a and 21b at the time of winding, and the mounting condition of the STS 32 may also differ from the optical axis 1.
5, and for plate material 2 and moving bodies such as BD A 19 and BD B 19b, SM 1
In order to perform position control using 41 to SM 3 43, each error must be eliminated by correction.
したがつて、最初に試験動作を行ない、これに
よつて特定の条件により製版を行なつたうえ、あ
らかじめ設計上の予測により定めた仮定値と対応
する実測値を求め、これによつて(2)〜(4)式の演算
を修正すれば、特に機構的な調整を行なわずと
も、制御上の誤差を調整することができる。 Therefore, we first perform a test operation, perform plate making under specific conditions, and then obtain measured values that correspond to the assumed values determined in advance based on design predictions. ) to (4), control errors can be adjusted without any particular mechanical adjustment.
すなわち、LPSが動作上の基本となつているた
め、最初にLPSの修正を行なうのが得策であり、
例えば、二重露光状態において、FIGを修正時用
に定められた値とし版材2上に原稿像51a,5
1bを形成して現像し、両画像の間隔を実測して
実測値STIを求め、次式により修正したLPSを求め
る。 In other words, since L PS is the basis of operation, it is a good idea to modify L PS first.
For example, in a double exposure state, the original images 51a and 5 are placed on the plate material 2 with F IG set to a value determined for correction.
1b is formed and developed, the distance between both images is actually measured to obtain the measured value S TI , and the corrected L PS is obtained using the following equation.
LPS=STI/M2 ……(21)
ただし、M2は(10)式のとおり、FIGを移送するた
めにSM141へ与えたパルス数である。 L PS =S TI /M 2 (21) However, as shown in equation (10), M 2 is the number of pulses given to SM 1 41 to transfer FIG .
ついで、STS32の位置に応じた修正を行な
う必要があり、第7図にサイド二重露光状態と
し、前述と同様かつGR=0の条件により原稿像
51a,51bを形成して現像のうえ、原稿像5
1aと対応する画像の基準位置52と前縁2aと
の間隔を実測して実測値SCIを求め、次式により
オフセツト値OFSを求める。 Next, it is necessary to make corrections according to the position of the STS 32, and the side double exposure state shown in FIG. Manuscript image 5
The distance between the reference position 52 of the image corresponding to 1a and the leading edge 2a is actually measured to determine the actual measurement value S CI , and the offset value OFS is determined using the following equation.
OFS=SCI−DOB ……(22)
ただし、DOBは、設計上の基準により定めた光
軸15とSTS32との間隔基準値である。 OFS = S CI - D OB (22) However, D OB is the standard value of the distance between the optical axis 15 and the STS 32 determined by design standards.
つぎに、BDA19aのSADを修正するため、第
6図の状態により、CR,FIGを修正時用に定めら
れた値とし、1回目の露光のみを行ない、第1の
原稿像51a側のみを感光させて現像し、前縁2
aからの感光範囲幅SAIを実測して求め、設計上
の予測により定めた標準値SASを用い、次式によ
つて修正したSADを求める。 Next, in order to correct S AD of BD A 19a, according to the state shown in Fig. 6, C R and F IG are set to the values determined for correction, only the first exposure is performed, and the first original image is Only the 51a side is exposed and developed, and the leading edge 2
Determine the photosensitive range width S AI from a by actually measuring it, use the standard value S AS determined by the design prediction, and determine the corrected S AD using the following formula.
SAD=SADS+(SAI−SAS) ……(23) ただし、SADSは修正前のSADである。 S AD = S ADS + (S AI − S AS ) ... (23) However, S ADS is S AD before correction.
また、BDB19bのSBDを修正するには、前述
と同様に修正時用に定められた状態かつ条件とし
て2回目の露光のみを行ない、第2の原稿像51
b側のみを感光させて現像し、前縁2aからの非
感光範囲幅SBIを実測して求め、前述と同様の標
準値SBSおよび修正前のSBDであるSBDSを用い、次
式により修正したSBDを求める。 In addition, in order to correct the S BD of BD B 19b, only the second exposure is performed in the state and conditions determined for correction as described above, and the second original image 51
Only the b side is exposed and developed, and the unexposed range width S BI from the leading edge 2a is actually measured and determined. Using the same standard value S BS as mentioned above and the S BD before correction, S BDS , the following formula is calculated. Find the modified S BD by .
SBD=SBDS+(SBS−SBI) ……(24)
したがつて、以上の修正を行なつたうえ、これ
によつて求めた値を用いる(3)〜(14)式の演算に
基づき制御を行なえば、各移動体の位置制御が正
確に行なわれる。 S BD = S BDS + (S BS − S BI ) ...(24) Therefore, after making the above corrections, use the values obtained thereby to calculate equations (3) to (14). If control is performed based on this, the position control of each moving body can be performed accurately.
第8図は電気的構成のブロツク図であり、マイ
クロプロセツサ等のプロセツサ(以下、CPU)
61を中心とし、インターフエイス(以下、I/
F)62〜64、ROM(Read Only Memory.)
65、RAM(Random Access Memory.)66、
分周器等のパルス発生器(以下、PG1,PG2)6
7,68および、プリセツタプルカウンタ(以
下、CT1〜CT5)71〜75を周辺に配し、これ
らを母線76,78により接続しており、I/F
62には、キーボード(以下、KB)79および
文字表示器等の表示器(以下、DP)80が接続
されている。 Figure 8 is a block diagram of the electrical configuration of a processor such as a microprocessor (hereinafter referred to as CPU).
61, the interface (hereinafter referred to as I/
F) 62-64, ROM (Read Only Memory)
65, RAM (Random Access Memory) 66,
Pulse generators such as frequency dividers (hereinafter referred to as PG 1 and PG 2 ) 6
7, 68 and preset pull counters (hereinafter referred to as CT 1 to CT 5 ) 71 to 75 are arranged around them, and these are connected by bus bars 76 and 78, and the I/F
A keyboard (hereinafter referred to as KB) 79 and a display device (hereinafter referred to as DP) 80 such as a character display are connected to 62 .
また、I/F63には、MLS31、STS32
および調整に際して操作されるスイツチ(以下、
TSW)33が接続されており、このスイツチに
よつて機器の調整モードが設定され、調整が終了
すれば、このモードを解除し、容易に調整した数
値を変更できないように保護すると共に、I/F
64には、ドライバ(以下、DR1〜DR4)81〜
84が接続され、これらを介して露光時に点灯す
る照明灯8およびSM141〜SM343が各個に駆
動されるものとなつている。 In addition, I/F63 has MLS31, STS32
and the switch operated during adjustment (hereinafter referred to as
TSW) 33 is connected, and this switch sets the adjustment mode of the equipment, and when the adjustment is completed, this mode is canceled, and the adjusted value is protected from being easily changed, and the I/ F
64 includes drivers (hereinafter referred to as DR 1 to DR 4 ) 81 to 64;
84 are connected, and the illumination lamps 8 and SM 1 41 to SM 3 43, which are turned on during exposure, are individually driven through these.
一方、PG167,PG68は、CPU61の制御
に応じてクロツクパルスを分周し、所定周期の駆
動用パルスを送出し、これをDR282〜DR484
を介してSM141〜SM343へ与え、これによつ
て各々を駆動すると共に、CT171〜CT474へ
与え、これらにカウントを行なわせるものとなつ
ている。 On the other hand, PG 1 67 and PG 68 divide the clock pulses according to the control of the CPU 61, send out driving pulses with a predetermined period, and send them to DR 2 82 to DR 4 84.
The signal is supplied to SM 1 41 to SM 3 43 via the 1000 to drive each of them, and is also supplied to CT 1 71 to CT 4 74 to cause them to perform counting.
なお、制御部としてのCPU61は、ROM65
中へ格納された命令を実行し、I/F62,63
を介する各入力データに応じ、必要とするデータ
をRAM66へアクセスしながら制御上の判断お
よび演算を行ない、I/F64を介して制御信号
を送出し、DR181〜DR4〜84を制御するもの
となつている一方、KB79の操作にしたがつて
DP80へ表示データを送出し、これによつて表
示を行なうものとなつている。 Note that the CPU 61 as a control unit uses the ROM 65
Execute the instructions stored in the I/F 62, 63
According to each input data via I/F 64, it performs control decisions and calculations while accessing the necessary data to RAM 66, and sends control signals via I/F 64 to control DR 1 81 to DR 4 to 84. While it has become a thing, according to the operation of KB79
The display data is sent to the DP 80 and displayed accordingly.
このほか、CPU61は、KB79からのデータ
に応じてカウント値をCT171〜CT474へプリ
セツトし、これらの減算カウントによるカウント
値を監視すると共に、CT575の登算カウントに
よるカウント値も監視し、かつ、これらに対する
カウント動作のスタートおよびストツプならびに
クリヤを制御しており、RAM66に電池85が
接続され、電源切断時にはこれによつてバツクア
ツプを行ない、RAM66中のデータを保持する
ものとなつている。 In addition, the CPU 61 presets count values to CT 1 71 to CT 4 74 according to data from KB 79, monitors the count values based on these subtraction counts, and also monitors the count values based on the registered counts of CT 5 75. A battery 85 is connected to the RAM 66, which backs up the data in the RAM 66 and retains it when the power is turned off. ing.
第9図は、CPU61にる制御状況のフローチ
ヤートであり、“スタート”につぐ“イニシヤラ
イズ”101によりCT171〜CT575のクリア
等を行なう、なお、前述のSADS,SBDS等の如く修
正前のデータが必要な場合には、ROM65内へ
設計上予想された実測値の仮定値を格納してお
き、イニシヤライズの際にROM65内へ転送
し、修正前のデータを、RAM66内に格納して
おく必要がある。ただし、この操作は、RAM6
6がバツクアツプされているため、はじめて、
RAM66を、アクセスする場合にのみ行えばよ
い。ついでKB79の操作に応じ“製版開始?”
102を判断し、これがY(YES)となればDR2
82を制御してパルスの送出を開始し“SM1オ
ン”103を行ない、ステツプ102と同様に“二
重露光?”111を判断し、これがYであれば
“BDAのSA計算”112を行なつたうえ、“SAを
CT1にセツト”113を行ない、かつ、DR383
の制御によりSM242へパルスの送出を行なつて
“SM2オン”114の状況とし、このパルスに応
ずるCT171の減算カウントにより“CT1=
0?”115がYとなれば、DR383を制御して
SM242を直流励磁状態とし“SM2ブレーキ”1
16を行ない、BDA19aの繰出しを終了する。 FIG. 9 is a flowchart of the control status by the CPU 61, in which CT 1 71 to CT 5 75 are cleared by "initialize" 101 following "start", and the above-mentioned S ADS , S BDS , etc. If uncorrected data is required, store the assumed value of the actual measured value predicted in the design in the ROM 65, transfer it to the ROM 65 at the time of initialization, and store the uncorrected data in the RAM 66. It needs to be stored. However, this operation requires RAM6
6 has been backed up, so for the first time,
This need only be done when accessing the RAM 66. Then, in response to the operation of KB79, “Start plate making?”
Judge 102, and if this is Y (YES), DR 2
82 to start sending out pulses, perform "SM 1 ON" 103, determine "Double exposure?" 111 in the same way as step 102, and if this is Y, "BD A S A calculation" 112 In addition, “S A
Set "113" to CT 1 , and DR 3 83
A pulse is sent to SM 2 42 under the control of SM 2 42 to set the state of "SM 2 ON" 114, and by the subtraction count of CT 1 71 in response to this pulse, "CT 1 =
0? "If 115 becomes Y, control DR 3 83 and
SM 2 42 is in DC excitation state and "SM 2 brake" 1
16, and the feeding of BD A 19a is completed.
ついで、KB79の操作に応じ“センタ製
版?”121がYであれば、“LM計算”122を
行なつてから“M1計算”123を行ない、版材
2の前縁2aを検出して“STSオン?”124
がYなれば、“M1をCT2にセツトしてスタート”
125を行ない、CT272がSM141用のパルス
を減算カウントして“CT2=0?”126がYに
なると、DR282の制御によりパルスの送出を停
止させ“SM1オフ”127を行ない、これによつ
て版材2を所定位置へ停止させる。 Next, in response to the operation of KB79, if "Center plate making?" 121 is Y, "L M calculation" 122 is performed and then "M 1 calculation" 123 is performed to detect the leading edge 2a of plate material 2. “STS on?”124
If it becomes Y, “set M 1 to CT 2 and start”
125, the CT 2 72 subtracts and counts the pulses for the SM 1 41, and when the ``CT 2 = 0?'' 126 becomes Y, the pulse transmission is stopped under the control of the DR 2 82, and the ``SM 1 off'' 127 is executed. The plate material 2 is thereby stopped at a predetermined position.
すると、TSW33の操作およびKB79の操
作に応じ、“1回目露光中止?”131がYとな
つておらず、N(NO)であれば、CPU61内へ
ソフト的に構成した“露光タイマースタート”1
32を行なうと共に、DR181を制御して照明灯
8に対し“露光ランプオン”133を行ない、
“露光タイマー・タイムアツプ?”134がYと
なれば、DR181の制御により“露光ランプオ
フ”135を行なう。 Then, in response to the operation of TSW33 and KB79, if "Cancel first exposure?" 131 is not Y but is N (NO), "Start exposure timer" 1 configured in software in CPU 61 is sent.
32, and also controls the DR 1 81 to turn on the exposure lamp 133 for the illumination lamp 8.
When "Exposure timer time up?" 134 becomes Y, "Exposure lamp off" 135 is performed under the control of DR 1 81.
また、再度、ステツプ111と同様に“二重露
光?”141が判断され、これがYであればDR3
83を制御してSM242の直流励磁をオフとし
“BDA復帰”42を行ない、“BDBのSB計算”14
3を行なつたうえ、“SBをCT3にセツト”144
を行なつてから、DR484を制御してSM343へ
パルスを送出し“SM3オン”145を行ない、こ
のパルスの減算カウントにより“CT3=0?”1
46がYとなれば直流励磁によつて“SM3ブレー
キ”147を行ない、BDB19bの繰出しを終了
する。 Also, in the same way as step 111, "double exposure?" 141 is determined again, and if this is Y, DR 3
83 to turn off the DC excitation of SM 2 42, perform "BD A return" 42, and perform " SB calculation of BD B " 14.
After performing step 3, “Set S B to CT 3 ” 144
After performing this, the DR 4 84 is controlled to send a pulse to the SM 3 43 to perform "SM 3 ON" 145, and by counting the subtraction of this pulse, "CT 3 = 0?" 1
When 46 becomes Y, "SM 3 brake" 147 is performed by DC excitation, and the feeding of BD B 19b is completed.
ついで、(10)式のとおり“M2=FIG/LPS”15
1の演算を、KB73から与えられRAM66中
へ格納されたFIGのデータ、および、RAM66中
へあらかじめ格納されているLPSのデータに応じ
て行ない、”M2をCT4にセツト”152を行なつ
てから、再度“SM1オン”153を行ない、これ
のパルスに応じて減算カウントを行なうCT474
のカウント値が“CT4=0?”154のYとなれ
ば“SM1オフ”155により、版材2を2回目の
露光位置へ停止させる。 Then, as shown in equation (10), “M 2 =F IG /L PS ”15
1 is performed according to the F IG data given from the KB73 and stored in the RAM 66, and the L PS data previously stored in the RAM 66, and "Set M 2 to CT 4 " 152 is executed. After that, perform "SM 1 on" 153 again and perform subtraction count according to the pulse of this CT 4 74
When the count value of "CT 4 = 0?" 154 becomes Y, "SM 1 off" 155 is executed to stop the plate material 2 at the second exposure position.
すると、ステツプ131と同様に“2回目露光中
止?”161が判断され、これがNであればステ
ツプ132〜135と同様、“露光タイマースタート”
162乃至”露光ランプオフ”165が反復され
たうえ、DR484に対する制御によりステツプ
142と同様に“BDB復帰“171を行なつてから、
DR282の制御により“SM1オン”172がなさ
れ、現像、定着等の“露光後処理”171へ移行
し、ステツプ102以降を反復する。 Then, as in step 131, "Cancel second exposure?" 161 is determined, and if this is N, as in steps 132 to 135, "Start exposure timer" is determined.
162 to "Exposure lamp off" 165 are repeated, and the control for DR 4 84 causes the step to turn off.
After performing “BD B return” 171 in the same way as 142,
"SM 1 ON" 172 is performed under the control of the DR 2 82, and the process moves to "post-exposure processing" 171 such as development and fixing, and steps 102 and subsequent steps are repeated.
第10図は、ステツプ112の詳細を示すフロー
チヤートであり、RAM66中へ後述の調整操作
に応じて格納されている実測値SAIの新旧両デー
タ比較により“SAIに変化があり?”201を判
断し、これがYであれば、(23)式によれRAM
66中のデータに応じかつ新しい実測値のSAIを
用いて“SAD=SADS+(SAI−SAS)”202の演算
し、ステツプ121と同じく“センサ製版?”20
3を判断し、これのYに応じてはRAM66中の
データに応じ、(5)式の“BCK=(FIG/2)+DEF”
211、および、(6)式の“SA=(SAD−BCK)/
LPA”212を演算し、SAを求めてRAM66中
へ格納する。 FIG. 10 is a flowchart showing the details of step 112, in which the old and new data of the actual measured value S AI stored in the RAM 66 according to the adjustment operation described later are compared to ask "Is there a change in S AI ?" 201 If this is Y, RAM is determined according to equation (23).
According to the data in step 66 and using the new measured value S AI , calculate “S AD = S ADS + (S AI − S AS )” 202, and as in step 121, “sensor plate making?” 20
3, and depending on Y of this, according to the data in RAM66, "B CK = (F IG / 2) + D EF " of formula (5)
211, and “S A = (S AD −B CK )/ in equation (6)
LPA''212 is calculated to obtain S A and stored in the RAM 66.
また、ステツプ203がNのときは(11)式の
“X=DOD+(MNF/2)−DEF”221、および、
(12)式の“SA=(SAD+X−FIG)/LPA”222
を演算し、SAをRAM66中へ格納する。 Moreover, when step 203 is N, "X=D OD + (M NF /2) - D EF " 221 of equation (11), and
(12) "S A = (S AD + X-F IG )/L PA "222
is calculated and S A is stored in the RAM 66.
なお、SADS,LPA等はあらかじめRAM66へ、
SAS、DEF、DOD、MNF等は同様にROM65へ格納
されていると共に、SAI,SIG等は、KB79から
与えられたうえRAM66中に格納されている。 In addition, S ADS , L PA , etc. are sent to RAM66 in advance.
S AS , D EF , D OD , M NF , etc. are similarly stored in the ROM 65, and S AI , S IG , etc. are given from the KB79 and stored in the RAM 66.
第11図は、ステツプ122の詳細を示すフロー
チヤートであり、給送される版材2の前縁2aを
検出すれば“MLSオン?”301がYとなり、
これに応じて“CT5スタート”302がなされ、
SM141へ与えられるパルス数をCT575が登算
カウントを行ない、版材2の通過終了に応じて
“MLSオフ?303がYとなれば、“CT5ストツ
プ”304を行なつてから、これの“カウント値
Nよみとり”311を行なつたうえ、(1)式のとお
り“LM=N×LSR”312の演算によりLMを求
め、これをRAM66へ格納する。 FIG. 11 is a flowchart showing the details of step 122. When the leading edge 2a of the plate material 2 being fed is detected, "MLS ON?" 301 becomes Y.
In response to this, “CT 5 start” 302 is performed,
The CT 5 75 registers and counts the number of pulses given to the SM 1 41, and if the "MLS off?" , performs "read count value N" 311 of this, calculates L M by calculating "L M =N×L SR " 312 as shown in equation (1), and stores this in the RAM 66.
なお、LSRはRAM66中へ格納されているデー
タが用いられる。 Note that data stored in the RAM 66 is used for the LSR .
第12図は、ステツプ123の詳細を示すフロー
チヤートであり、調整操作に応じてRAM66へ
格納されている実測値STIの新旧データ比較によ
り、“STIに変化あり?”401が判断され、これ
がYであれば新しい実測値STIを用い(21)式に
より“LPS=STI/M2”402の演算を行ない、
ステツプ401と同様に“SCIに変化あり?”411
を判断し、これのYに応じて(22)式の“OFS=
SCI−DOB”412の演算を行なう。 FIG. 12 is a flowchart showing the details of step 123, in which a comparison of the old and new data of the actual measured value STI stored in the RAM 66 according to the adjustment operation determines "Is there a change in STI ?"401; If this is Y, use the new measured value S TI and calculate “L PS = S TI /M 2 ”402 using equation (21),
Similar to step 401, “Is there a change in S CI ?” 411
, and depending on Y of this, “O FS =
S CI −D OB ” 412 calculation is performed.
ついで、ステツプ121および111と同様にセンタ
製版?”421および“二重露光?”422を判
断し、いずれもがYであれば、(7)式の“Z0=
〔(LM−FIG)/2〕+OFS”431、および、(8)式
の“M1=Z0/LPS”432を演算する一方、ステ
ツプ422のNに応じては、(2)式の“Z1=(LM/2)
+OFS”441、および、(3)式の“M1=Z1/LPS”
422を演算し、ステツプ421がNのときは、(4)
式による“M1=(DOD+GR+OFS)/LPS”451
を演算のうえ、M1をRAM66へ格納する。 Then, do center plate making like steps 121 and 111? "421" and "double exposure?" ”422, and if both are Y, “Z 0 =
[(L M −F IG )/2]+O FS ”431 and “M 1 =Z 0 /L PS ”432 in equation (8) are calculated, while depending on N in step 422, (2 ) equation “Z 1 = (L M /2)
+O FS ”441, and “M 1 = Z 1 /L PS ” in equation (3)
422 and when step 421 is N, (4)
“M 1 = (D OD + G R + O FS ) / L PS ” according to the formula 451
After calculating, M 1 is stored in the RAM 66.
なお、M2,LM,LPS等はRAM66中に、DOB,
DOD等はROM65内に格納されていると共に、
STI,SCI,SIG,GR等は、KB79の操作に応じ
RAM66へ格納されている。 In addition, M 2 , L M , L PS , etc. are stored in the RAM 66, and D OB , L PS, etc.
D OD, etc. are stored in the ROM65, and
S TI , S CI , S IG , G R etc. are changed according to the operation of KB79.
Stored in RAM66.
第13図は、ステツプ143の詳細を示すフロー
チヤートであり、調整操作に応じてRAM66中
へ格納されている実測値SBIの新旧両データ比較
により“SBIに変化あり?”501を判断し、こ
れがYであれば、(24)式により“SBD=SBDS+
(SBS−SBI)”502を演算し、ステツプ121と同
じく“センタ製版?”503を判断し、これのY
に応じては(5)式の“BCK=(FIG/2)+DEF”51
1、および、(9)式の“SB=(SBD−BCK)/LPB”5
12を演算する一方、ステツプ503がNのときは、
(13)式により“Y=DOC+(MNF/2)+DEF”5
21、および、(14)式による“SB=(SBD−
Y)/LPB”522を演算し、SBを求めてRAM
66へ格納する。 FIG. 13 is a flowchart showing the details of step 143, in which it is determined whether there is a change in S BI by comparing the old and new data of the actual measured value S BI stored in the RAM 66 according to the adjustment operation. , if this is Y, then “S BD = S BDS +
(S BS - S BI )" 502 is calculated, and as in step 121, "Center plate making? ”503 and this Y
According to equation (5), “B CK = (F IG /2) + D EF ”51
1, and “S B = (S BD − B CK )/L PB ”5 in equation (9)
12, and when step 503 is N,
According to formula (13), “Y=D OC + (M NF /2) + D EF ”5
21, and “S B = (S BD −
Y)/L PB ”522 is calculated, S B is calculated, and RAM is calculated.
66.
なお、各データのRAM6における格納状況は
第10図と同様である。 Note that the storage status of each data in the RAM 6 is the same as that shown in FIG.
第14図は、調整時のフローチヤートであり、
TSW33のオンに応じて“調整モード”となり、
KB79の選択キーにより調整の“項目設定”6
01をコードとして行なうと、DP80の項目表
示部により“項目表示”602が対応したコード
によりなされると共に、DP80の数字表示部に
より対応した“仮定値表示”603がRAM66
からの読み出しにより行なわれる。 FIG. 14 is a flowchart during adjustment,
When TSW33 is turned on, it becomes “adjustment mode”.
“Item setting” 6 for adjustment using the selection key of KB79
01 as a code, the item display section of the DP80 will display "item display" 602 using the corresponding code, and the number display section of the DP80 will display the corresponding "hypothetical value display" 603 in the RAM 66.
This is done by reading from.
ついで、第9図のとおり“試験製版”611を
行ない、上述のとおり、ステツプ603により表示
された仮定値と対応する実測値を求め、これに応
じKB79の数字キーにより“実測値入力”62
1を行なうと、“仮定値=実測値?”622のY
を前提としてステツプ603の表示が“実測値表示
へ更新”623されるものとなり、この“実測値
をRAMへ格納”624が行なわれたうえ、
“TSWオフ?”631のNを介してステツプ601
以降を反復する。 Next, as shown in FIG. 9, "test plate making" 611 is performed, and as described above, the actual measured value corresponding to the assumed value displayed in step 603 is obtained, and in response to this, "actual value input" 62 is performed using the numerical keys of KB79.
1, “Assumed value = Actual value?” 622 Y
Assuming that, the display in step 603 will be “updated to actual measured value display” 623, and this “store measured value to RAM” 624 will be performed,
“TSW Off?” Step 601 via N of 631
Repeat the following.
なお、LPSの調整は、コード「STP」の設定に
より2860〜3060m/m、0.1m/mステツプ、
STS32の位置調整は、コード「CNT」の設定
により、0〜400m/m、0.1m/mステツプ、
LPAおよびLPBの調整は、コード「SDU」および
「SDD」の設定により、189〜199m/mおよび
185〜195m/m、1.0m/mステツプの範囲およ
び精度により各々が行なわれるものとなつてい
る。 In addition, the L PS adjustment is from 2860 to 3060 m/m, in 0.1 m/m steps, depending on the code "STP" setting.
The position adjustment of STS32 is from 0 to 400m/m, in 0.1m/m steps, by setting the code “CNT”.
Adjustment of L PA and L PB is from 189 to 199 m/m and by setting the code “SDU” and “SDD”.
Each is to be carried out within a range and accuracy of 185 to 195 m/m and 1.0 m/m steps.
また、表示された仮定値と実測値とが一致する
場合は、ステツプ621を省略することができる。 Furthermore, if the displayed hypothetical value and the actual measured value match, step 621 can be omitted.
このほか、STS32の位置調整は、中心値を
200m/mと、実測値から中心値を基準として正
および負の偏差を求めるものとなつており、KB
79から「+」、「−」のキーを省略してある。 In addition, when adjusting the position of STS32, adjust the center value.
200m/m, and the positive and negative deviations are calculated from the actual measured value using the center value as a reference, and KB
79, the keys "+" and "-" are omitted.
このほか、仮定値が表示されるため、これが実
測上の目安として用いられる。 In addition, assumed values are displayed, which can be used as a guideline for actual measurements.
したがつて、機構上の誤差を簡単に修正できる
と共に、特別の修正値設定用スイツチ等を必要と
せず、構成の簡略化および調整精度の向上が実現
する。 Therefore, mechanical errors can be easily corrected, and there is no need for a special correction value setting switch, thereby simplifying the configuration and improving adjustment accuracy.
また、版材2に対する露光部位の規制が正確と
なり、版材2の寸法偏差があつても、確実に所定
部位へ原稿像の形成ができると共に、二重露光が
容易かつ正確に行なわれ、かつ、BDA19a,
BDB19bにより不要な数乱光の入射が阻止さ
れ、コントラストの良好な版材が得られるうえ、
製版速度が全般的に向上する。 Further, the exposure area on the plate material 2 can be precisely regulated, and even if there is a dimensional deviation of the plate material 2, the original image can be reliably formed on the predetermined area, and double exposure can be easily and accurately performed. , BD A 19a,
BD B 19b prevents unnecessary random light from entering, producing a plate material with good contrast, and
The plate making speed is generally improved.
ただし、LMの演算上、ローラ14に寸法偏差
があれば誤差を生ずるため、この場合はローラ1
4の寸法を高精度とし、誤差の発生を阻止してい
るが、状況に応じてローラ14の寸法偏差も前述
と同様の手段により調整することができる。 However, in calculating L M , if there is a dimensional deviation in roller 14, an error will occur, so in this case, roller 1
Although the dimensions of roller 14 are made highly accurate to prevent errors from occurring, the dimensional deviation of roller 14 can also be adjusted by the same means as described above, depending on the situation.
また、MLS31,STS32としては、光電式
のほか他のセンサを用いてもよく、BDA19a,
BDB19bを単一のものとし、露光部5の周囲を
周回移動させ、所定位置へ停止させてマスクを行
なうものとしても同様であり、CPU61の代り
に各種の論理回路を組み合せた専用のものを用い
てもよく、PG167,PG268,CT171〜CT5
75をソフト的に構成することも任意である。 Furthermore, as MLS31 and STS32, other sensors besides photoelectric type may be used, and BD A 19a,
The same applies to a single BD B 19b that moves around the exposure section 5 and stops at a predetermined position to perform masking, and a dedicated one that combines various logic circuits instead of the CPU 61. may be used, PG 1 67, PG 2 68, CT 1 71 to CT 5
It is also optional to configure 75 in software.
なお、第9図乃至第14図においては、状況に
応じ、ステツプを入れ替え、あるいは、不要のス
テツプを省略してもよい等、種々の変形が自在で
ある。 In addition, in FIGS. 9 to 14, various modifications can be made, such as replacing the steps or omitting unnecessary steps, depending on the situation.
以上の説明により明らかなとおり本発明によれ
ば、原稿台上の原稿を何ら移動させる必要がな
く、そのため原稿のセツト操作が簡単かつ容易と
なり、短時間により行うことができると共に、原
稿を移動させないため、製版速度が速やかとなる
うえ、画像位置精度が良く、しかも、1回目の撮
像と2回目の撮像との画像差が少なく、高品質の
原版を製作することができる。
As is clear from the above explanation, according to the present invention, there is no need to move the original on the original table, and therefore the operation of setting the original is simple and easy, and can be done in a short time, and the original does not need to be moved. Therefore, the plate-making speed is fast, the image position accuracy is good, and there is little difference in the images between the first and second imaging, and a high-quality original plate can be manufactured.
また、原稿面に黒紙を置く方法と異なり、版材
の非露光面を遮光幕により直接遮光しているた
め、2回目の露光部分は1回目の露光時による影
響を受けず、二重製版を行なう各種の製版機にお
いて顕著な効果が得られる。 Also, unlike the method of placing black paper on the original surface, the non-exposed side of the plate material is directly shielded from light by a light-shielding curtain, so the second exposed area is not affected by the first exposure, and double plate making Remarkable effects can be obtained in various plate-making machines that perform this process.
第1図は従来の製版状況を示す斜視図、第2図
以降は本発明の実施例を示し、第2図は製版機の
側断面図、第3図は要部側面図、第4図乃至第7
図は原稿と版材との露光関係を示す図、第8図は
電気的構成のブロツク図、第9図乃至第14図は
制御状況を示すフローチヤートである。
2……版材、2a……前縁、4……荷電部、5
……露光部、6……原稿台、7……原稿、8……
照明灯、9……ミラー、10……レンズ、11…
…現像部、12……定着部、14……ローラ、1
5……光軸、17……ベルト、18……チエー
ン、19a……BDA(遮光膜)、19b……BDB
(遮光膜)、20a,20b……ワイヤ、21a,
21b……巻込み軸、31……MLS(版材長セン
サ)、32……STS(停止センサ)、33……TSW
(スイツチ)、41……SM1(ステツプモータ)、4
2……SM2(ステツプモータ)、43……SM3(ス
テツプモータ)、51,51a,51b……原稿
像、52……基準位置、53……中心、61……
CPU(プロセツサ)、65……ROM、66…
RAM(メモリ)、67,68……PG1,PG2(パル
ス発生器)、71〜75……CT1〜CT5(カウン
タ)、79……KB(キーボード)、80……DP
(表示器)、81〜84……DR1〜DR4(ドライ
バ)。
FIG. 1 is a perspective view showing a conventional plate-making situation, FIG. 7th
The figure shows the exposure relationship between the original and the plate material, FIG. 8 is a block diagram of the electrical configuration, and FIGS. 9 to 14 are flowcharts showing the control situation. 2... Plate material, 2a... Leading edge, 4... Charged part, 5
...Exposure section, 6...Original table, 7...Original, 8...
Lighting lamp, 9...mirror, 10...lens, 11...
...Developing section, 12... Fixing section, 14... Roller, 1
5...Optical axis, 17...Belt, 18...Chain, 19a...BD A (light shielding film), 19b...BD B
(light shielding film), 20a, 20b...wire, 21a,
21b... Winding shaft, 31... MLS (plate material length sensor), 32... STS (stop sensor), 33... TSW
(switch), 41...SM 1 (step motor), 4
2...SM 2 (step motor), 43... SM 3 (step motor), 51, 51a, 51b... original image, 52... reference position, 53... center, 61...
CPU (processor), 65...ROM, 66...
RAM (memory), 67, 68...PG 1 , PG 2 (pulse generator), 71 to 75...CT 1 to CT 5 (counter), 79...KB (keyboard), 80...DP
(display), 81 to 84...DR 1 to DR 4 (driver).
Claims (1)
送手段と、 前記露光部の両端部へロール状に巻回され各個
に配設された第1および第2の遮光膜と、 前記第1および第2の遮光膜を選択的に引き出
す第1および第2の遮光膜駆動手段と、 前記露光部に配設された版材センサと、 二面付け条件を設定するための設定手段と、 その設定手段の設定に基づき第1および第2の
露光位置および前記第1および第2の遮光膜の繰
り出しさを演算する演算手段と、 前記版材センサが移送される前記版材の前縁を
検出した後、前記第1の露光位置まで前記版材を
移送し停止させると共に前記第1の遮光膜をその
繰り出し長さだけ繰り出し前記版材の前記第2の
露光位置を遮光して第1の露光を行い、その後、
前記第1の遮光膜を戻し前記版材を前記第2の露
光位置に移送して停止させると共に前記第2の遮
光膜をその繰り出し長さだけ繰り出し前記版材の
前記第1の露光位置を遮光し第2の露光を行わせ
る制御手段とを備え、 原稿を停止させた状態で同一版材に原稿像を二
面付けすることを特徴とする製版機の露光制御装
置。[Scope of Claims] 1. Plate material transport means for transporting and stopping a plate material onto an exposure section; and first and second plate material wound around both ends of the exposure section and disposed individually. a light-shielding film; first and second light-shielding film driving means for selectively drawing out the first and second light-shielding films; a plate sensor disposed in the exposure section; and setting conditions for two-imposition. a calculation means for calculating the first and second exposure positions and the extension heights of the first and second light-shielding films based on the settings of the setting means; After detecting the leading edge of the plate material, the plate material is transported to the first exposure position and stopped, and the first light shielding film is fed out by the length of the first light shielding film, and the second exposure position of the plate material is moved. A first exposure is performed with light shielded, and then
Returning the first light-shielding film and transporting the plate material to the second exposure position and stopping it, and also feeding out the second light-shielding film by the length of the feed-out length to shield the first exposure position of the plate material from light. 1. An exposure control device for a plate-making machine, comprising a control means for performing a second exposure, and for applying two original images to the same plate material while the original is stopped.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12639584A JPS616632A (en) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | Exposure controller of plate making machine |
US06/732,473 US4602866A (en) | 1984-06-19 | 1985-05-09 | Exposure device for platemaking apparatus |
DE19853519306 DE3519306A1 (en) | 1984-06-19 | 1985-05-30 | EXPOSURE DEVICE FOR A DEVICE FOR PRODUCING PRINTING PLATES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12639584A JPS616632A (en) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | Exposure controller of plate making machine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS616632A JPS616632A (en) | 1986-01-13 |
JPH045370B2 true JPH045370B2 (en) | 1992-01-31 |
Family
ID=14934080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12639584A Granted JPS616632A (en) | 1984-06-19 | 1984-06-21 | Exposure controller of plate making machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS616632A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2508820B2 (en) * | 1988-10-29 | 1996-06-19 | 岩崎通信機株式会社 | Electrophotographic plate making machine |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS516720A (en) * | 1974-07-05 | 1976-01-20 | Fuiruminyachua Shisutemuzu Inc | SHASHIN FUKUSHASOCHI |
JPS5416207A (en) * | 1977-07-07 | 1979-02-06 | Yoshio Shimada | Original holder for plate making machine |
JPS5622448A (en) * | 1978-09-05 | 1981-03-03 | Mita Ind Co Ltd | Electronic copying machine |
JPS5655953A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-16 | Yamatoya Shokai:Kk | Original holder for photocomposer |
JPS5680071A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Ricoh Co Ltd | Test printing device of electrophotographic copier |
JPS56161548A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-11 | Yamatoya Shokai:Kk | Improvement of original holder for typesetting machine |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP12639584A patent/JPS616632A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS616632A (en) | 1986-01-13 |
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