JPH0451422A - Fluorescent-film forming transfer material and manufacture thereof, and fluorescent-film forming method using said transfer material - Google Patents
Fluorescent-film forming transfer material and manufacture thereof, and fluorescent-film forming method using said transfer materialInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 109
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 83
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 83
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 8
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims description 3
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 243
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000009527 percussion Methods 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業−■−の利用分野
この発明は、陰極線管のフェースプレート上に、粗面で
なく、膨れやクラックやピンホールなどのない平滑性に
優れた蛍光膜を形成する蛍光膜形成用転写材、その製造
方法及び該転写材を用いた蛍光膜形成方法に関する。[Detailed Description of the Invention] Field of Application in Industry -■- This invention forms a phosphor film on the face plate of a cathode ray tube that is not rough and has excellent smoothness without blisters, cracks, or pinholes. The present invention relates to a transfer material for forming a fluorescent film, a method for manufacturing the same, and a method for forming a fluorescent film using the transfer material.
鎗米例麩−吋
従来、光源用陰極線管の蛍光膜の製造方法として(J、
基体ノート上に剥離層・アルミニウム層・蛍光体層の順
に積層形成された転写材の蛍光体層側表面をガラス基板
−Lに圧着したのち、上記剥離層から基体シートを剥離
して、ガラス堰板上に蛍光体層及びアルミニウム層から
なる積層体を転写する方法が知られている(例えば、特
開昭6012637号参照)。この方法に用いられる転
写材は、プラスヂックン−1・からなる基体ンート上に
基体シートを離型するための剥離層とアルミニウム層と
蛍光体層とが順次形成されたものである。Traditionally, as a method for manufacturing fluorescent films for cathode ray tubes for light sources (J,
After pressing the phosphor layer side surface of the transfer material, in which a release layer, an aluminum layer, and a phosphor layer are laminated in this order on the base notebook, to the glass substrate-L, the base sheet is peeled off from the release layer, and the glass weir is formed. A method of transferring a laminate consisting of a phosphor layer and an aluminum layer onto a plate is known (for example, see Japanese Patent Laid-Open No. 6012637). The transfer material used in this method is one in which a release layer for releasing the base sheet, an aluminum layer, and a phosphor layer are sequentially formed on a base sheet made of Plastique-1.
−上記蛍光体層は、蛍光体と接着性を有する樹脂とから
構成されている。−1−記方法において、上記転写材を
ガラス基板と圧着させたのち、基体ノートを剥離するど
、ガラス基板上に蛍光体層とアルミニウム層と剥離層と
が残る。このとき、ガラス基板上に転写された積層体の
アルミニウム層表面に残存する剥離層及び蛍光体層の蛍
光体顔料以外の不要な有機成分は、焼成工程により熱分
解処理して除去するようにしている。- The phosphor layer is composed of a phosphor and an adhesive resin. In the method described in -1-, after the transfer material is pressure-bonded to the glass substrate and the base notebook is peeled off, the phosphor layer, the aluminum layer, and the peeling layer remain on the glass substrate. At this time, unnecessary organic components other than the release layer and the phosphor pigment of the phosphor layer remaining on the surface of the aluminum layer of the laminate transferred onto the glass substrate are removed by thermal decomposition treatment in the baking process. There is.
発明が解決しようとする課題
しかし、1−記構造の転写材においては、上記転写十イ
をフェースプレートずなイっちガラス堰板」二に転写し
、次いで、焼成工程によってアルミニウム層(メタルバ
ンク層)の金属及び蛍光体層の蛍光体顔料以外の不要な
有機成分、例えば上記剥離層や蛍光体中のバインダ樹脂
など、を昇華させるとき、この際に発生する打機ガスが
部分的にアルミニウム層を押し一トげたり突き抜けたり
して飛散し、アルミニウム層に膨れやクラックやピンホ
ールなどが生じるといった問題があった。Problems to be Solved by the Invention However, in the transfer material having the structure described in 1-1, the above-mentioned transfer material is transferred onto the face plate and the glass dam plate, and then an aluminum layer (metal bank) is formed by a firing process. When sublimating unnecessary organic components other than the metal in the layer) and the phosphor pigment in the phosphor layer, such as the release layer and the binder resin in the phosphor, the percussion gas generated at this time partially sublimates the aluminum. There was a problem in that the aluminum layer was pushed or punched through and scattered, causing blisters, cracks, and pinholes in the aluminum layer.
従って、本発明の1]的は、上記問題を解決することに
あって、陰極線管のフェースプレート」二に、粗面でな
く、膨れやクラックやピンポールなどのない平滑性に優
れた蛍光膜を形成することができる蛍光膜形成用転写材
、その製造方法及び該転写材を用いた蛍光膜形成方法を
提供することにある。Therefore, the first object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a phosphor film on the face plate of a cathode ray tube that is not rough and has excellent smoothness without blisters, cracks, or pinholes. An object of the present invention is to provide a transfer material for forming a fluorescent film that can be formed, a method for manufacturing the same, and a method for forming a fluorescent film using the transfer material.
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために、本発明は、メタルハック層
にガス抜き用微細孔を形成するように構成ずろ。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention is configured such that fine holes for degassing are formed in the metal hack layer.
すなわち、本発明にかかる蛍光膜形成用転写材は、剥離
層を有するベースフィルム上に、少なくとも、ガス抜き
用微細孔を有するメタルバック層と蛍光体層とを備える
ように構成する。That is, the transfer material for forming a fluorescent film according to the present invention is configured to include at least a metal back layer having micropores for degassing and a phosphor layer on a base film having a peeling layer.
上記構成においては、上記蛍光体層は、カーボン層を有
するように構成することもできる。In the above configuration, the phosphor layer can also be configured to include a carbon layer.
また、本発明にかかる蛍光膜形成用転写材の製造方法は
、ベースフィルム上に剥離層を形成し、該剥離層上に、
メタルバック層と蛍光体層とをこの順序又はこれとは逆
の順序で形成する一方、上記メタルバック層を形成した
のちすぐに又は上記メタルバック層の一4二に上記蛍光
体層を形成したのち、上記メクルバック層にレーザー光
線を当てることにより上記メタルバック層にガス抜き用
微細孔を設けるように構成する。Further, the method for manufacturing a transfer material for forming a fluorescent film according to the present invention includes forming a release layer on a base film, and on the release layer,
The metal back layer and the phosphor layer are formed in this order or in the reverse order, while the phosphor layer is formed immediately after forming the metal back layer or on one side of the metal back layer. Thereafter, the meckle back layer is irradiated with a laser beam to form micropores for gas venting in the metal back layer.
一ヒ記構成においては、上記蛍光体層は、カーボン層を
有するように構成することもできる。In the configuration described above, the phosphor layer can also be configured to include a carbon layer.
また、上記構成においては、上記ベースフィルムに対し
て各層が印刷により形成されるように構成することもで
きる。Moreover, in the said structure, it can also be comprised so that each layer may be formed by printing on the said base film.
さらに、本発明にかかる蛍光膜形成方法は、上記転写材
をフェースブレートドに重ね合わせ、加熱、加圧し、次
いて上記転写材の上記ベースフィルムを剥離“七ろこと
によって−に記フェースプレートーにに上記転写伺の上
記剥離層と上記メタルバック層と土足蛍光体層どを転写
し、次いで焼成することによって−1−記フエースプレ
ー1・にに上記メタルハック層と上記蛍光体層とを有す
る蛍光膜を形成するように構成する。Furthermore, the method for forming a fluorescent film according to the present invention includes stacking the transfer material on a face plate, heating and pressurizing the transfer material, and then peeling off the base film of the transfer material. The peeling layer, the metal back layer, and the phosphor layer of the transfer layer are transferred onto the surface of the surface spray 1, and the metal hack layer and the phosphor layer are then baked. The structure is configured to form a fluorescent film having a phosphor layer.
発明の作用・効果
一+−配貨光膜形成用転写材を使用して蛍光膜を形成す
れば、メタルバック層に微細孔を有するので、転11了
後の焼成工程で発生ずる有機ガスが微細孔を通してスム
ーズに抜けるため、メタルバック層に膨れやクラックや
ピンホールなどが生じることがない。従って、陰極線管
のフェースプレート」二に、粗面でなく、膨れやクラッ
クやピンポールなどのない平滑性に優れた蛍光膜を形成
することができる。Effects and Effects of the Invention 1+- If a fluorescent film is formed using the transfer material for forming a distribution light film, the metal back layer has micropores, so organic gas generated in the firing process after the transfer is completed. Because it passes through the microscopic holes smoothly, there is no bulge, crack, or pinhole in the metal back layer. Therefore, it is possible to form a phosphor film on the face plate of the cathode ray tube that is not rough and has excellent smoothness without blisters, cracks, or pinholes.
また、1−記製造方法により製造される転写材は、ベー
スフィルム上に剥離層とメタルバンク層と少なくとも蛍
光体層を形成する一方、レーザー光線を当てることによ
りメタルバック層の金属に微細な微細孔を設けることが
できる。よって、この製造方法により得られた転写材を
使用して蛍光膜を形成するとき、転写後の焼成工程で発
生ずる有機ガスが微細孔を通してスムーズに抜+3るた
め、メタルバック層に膨れやクラックやピンホールなど
が生じることがない。In addition, in the transfer material manufactured by the manufacturing method described in 1-, a release layer, a metal bank layer, and at least a phosphor layer are formed on the base film, and fine micropores are formed in the metal of the metal back layer by applying a laser beam. can be provided. Therefore, when a fluorescent film is formed using the transfer material obtained by this manufacturing method, the organic gas generated in the post-transfer firing process is smoothly extracted through the micropores, which prevents blisters and cracks from forming in the metal back layer. No pinholes or pinholes occur.
」−配貨光膜形成方法によれば、」−起転写祠のメタル
バック層に微細孔を有するので、転写後の焼成工程で発
生ずる有機ガスが微細孔を通してスムーズに抜けるため
、メタルバック層に膨れやクラックやピンホールなどが
生じることがない。従って、陰極線管のフェースプレー
ト上に、粗面でなく、膨れやクラックやピンポールなど
のない平滑性に優れた蛍光膜を形成することができる。``-According to the distribution light film forming method, ``-Since the metal back layer of the transfer transfer shrine has micropores, the organic gas generated in the firing process after transfer escapes smoothly through the micropores, so that the metal back layer No blisters, cracks, or pinholes will occur. Therefore, it is possible to form a phosphor film on the face plate of a cathode ray tube with excellent smoothness without a rough surface, bulges, cracks, pinholes, etc.
害顛
以下に、本発明にかかる実施例を第1〜20図に基づい
て詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 20.
本実施例にかかる蛍光膜形成用転写t、I’l+は、第
1図に示すように、剥離層2を有するペースフィフ
ルノ−311−に、少なくとも、ガス抜き用微細孔4a
4 aを有するメタルバック層4と蛍光体層5と接着層
6を何4−ろように構成している。As shown in FIG. 1, the transfer t, I'l+ for forming a fluorescent film according to the present embodiment is provided with at least fine holes 4a for degassing in the spacer fifurno-311- having a peeling layer 2.
The metal back layer 4 having 4a, the phosphor layer 5, and the adhesive layer 6 are configured in any number of ways.
上記転写材11は次のように製造される。すなわら、ペ
ースノイルムI上に剥離層2を全面に形成し、さらにそ
の全面にメタルバック層4と蛍光体層5とを夫々積層し
たのち、その全面に接着層6を形成する。その後、レー
ザー光線を当てることにより1−記メタルバック層4に
ガス抜き用微細孔4aを多数設けて、転写材11を完成
する。The transfer material 11 is manufactured as follows. That is, a release layer 2 is formed on the entire surface of the paste noilum I, a metal back layer 4 and a phosphor layer 5 are laminated on the entire surface, and then an adhesive layer 6 is formed on the entire surface. Thereafter, a large number of fine holes 4a for degassing are provided in the metal back layer 4 described in 1-1 by applying a laser beam to complete the transfer material 11.
上記ベースフィルム1としては、ポリエチレンテレフタ
レートやポリエステル・ポリプロピレン・ポリエチレン
・ナイロン・セハロンなどのプラスデックフィルム、あ
るいはこれらと紙との複合フィルムなど通常の転写材の
ベースフィルムとして用いられるものを使用する。ベー
スフィルム1に剥離性を付与するためには、このベース
フィルムlにノリニ】ンコートやワソクスコートヲ施し
たり、剥離層2を設けるとよい。As the base film 1, a film used as a base film for ordinary transfer materials, such as a plus deck film made of polyethylene terephthalate, polyester, polypropylene, polyethylene, nylon, or Cehalon, or a composite film of these and paper, is used. In order to impart releasability to the base film 1, it is preferable to apply a glue coating or a wax coat to the base film 1, or to provide a release layer 2 on the base film 1.
−1−記剥離層2としては、熱可塑性樹脂や天然ゴム又
は合成ゴムなどを用い、グラビア印刷法、スクリーン印
刷法、又は、ロールコート法などの通常の印刷法などで
形成する。-1- The release layer 2 is made of thermoplastic resin, natural rubber, synthetic rubber, or the like, and is formed by a conventional printing method such as a gravure printing method, a screen printing method, or a roll coating method.
」−配貨光体層5としては、蛍光体にZnS:AgやS
nS:Cu、AI、Y、0.S:Euなど従来から陰極
線管に使用されている蛍光体を用い、熱可塑性樹脂をバ
インダーとしてインキ化したものを使用する。その形成
方法としては、必要とする膜厚および蛍光体の粒径を考
慮するとスクリーン印刷法にて印刷するのが望ましい。”-As the distribution light layer 5, ZnS:Ag or S is used as the phosphor.
nS: Cu, AI, Y, 0. S: A phosphor conventionally used in cathode ray tubes, such as Eu, is used, and an ink made of thermoplastic resin as a binder is used. As for the formation method, it is preferable to print by screen printing in consideration of the required film thickness and the particle size of the phosphor.
上記蛍光体層5は、平滑性に優れたベースフィルム1上
または剥離層2上に形成されるので、そのベースフィル
ムI 側の面も平滑性に優れたものである。また、カラ
ー用陰極線管の場合は、蛍光体層5は赤・青・緑の3色
の蛍光体を互いに接触しないようにストライプ状または
ドツト状に規則正しく配列して形成すればよい。Since the phosphor layer 5 is formed on the base film 1 or the release layer 2, which has excellent smoothness, the surface on the base film I side also has excellent smoothness. In the case of a color cathode ray tube, the phosphor layer 5 may be formed by regularly arranging phosphors of three colors, red, blue, and green, in a stripe or dot shape so that they do not come into contact with each other.
」−配接着層6としては、陰極線管のフェースプレー1
・に用いられるガラス材料に接着性のよいポリアミド又
はアクリルなどの樹脂を用い、感熱感圧型の接着層とす
るとよい。その形成方法は、グラビア印刷法、スクリー
ン印刷法、又は、ロールコ−1・法なとの通常の印刷法
を用いるとよい。”-As the distribution adhesive layer 6, the face plate 1 of the cathode ray tube is used.
・It is preferable to use a resin such as polyamide or acrylic with good adhesive properties as the glass material used for the heat-sensitive and pressure-sensitive adhesive layer. The formation method may be a conventional printing method such as a gravure printing method, a screen printing method, or a roll coat 1 method.
また、上記メタルバック層4としては、アルミニウムな
どの金属を真空蒸着法、スパッタリング法、エレクトロ
ンビーム蒸着法、又は、イオンブレーティング法などで
形成した金属層である。メタルバック層4か形成される
のは、陰極線管が通常型である場合は蛍光体層5と接着
層6との間に形成され(第13.16図参照)、陰極線
管が偏平タイプの背面観視型である場合はベースフィル
ム1と蛍光体層5との間に形成する(第1.4.7.1
0図参照)。また、メタルバック層4を形成する際に、
メタルバック層4の密着性を向」ニさせるために必要な
らばアンカー層(図示せず)を形成してもよい。該アン
カー層としては、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、ポ
リアミド系、又は、ビニル系などの樹脂で通常の転写材
においてアンカー層として用いられるものでよい。Further, the metal back layer 4 is a metal layer formed of a metal such as aluminum by a vacuum evaporation method, a sputtering method, an electron beam evaporation method, an ion blating method, or the like. The metal back layer 4 is formed between the phosphor layer 5 and the adhesive layer 6 when the cathode ray tube is a normal type (see Figure 13.16), and when the cathode ray tube is a flat type, the metal back layer 4 is formed between the phosphor layer 5 and the adhesive layer 6. If it is a visual type, it is formed between the base film 1 and the phosphor layer 5 (No. 1.4.7.1).
(See figure 0). Furthermore, when forming the metal back layer 4,
An anchor layer (not shown) may be formed if necessary to improve the adhesion of the metal back layer 4. The anchor layer may be an acrylic, rubber, urethane, polyamide, or vinyl resin that is used as an anchor layer in ordinary transfer materials.
以−に述べたような層構成の転写材11を用い、以下の
ようにして陰極線管のフェースプレート7」二に蛍光膜
IOを形成する。Using the transfer material 11 having the layered structure described above, a fluorescent film IO is formed on the face plate 7'' of the cathode ray tube in the following manner.
上記転写材1.1は、第2図に示すように、その接着層
6を陰極線管のフェースプレート7」二に重ね合わせ、
加熱、加圧し、接着層6をフェースプレート7に融着さ
せる。このときの温度は130〜230℃、圧力は3〜
200 kg/ cm’が適当である。次いでベースフ
ィルムlを剥離することによってフェースプレート7上
に剥離層2、メタルバック層4、蛍光体層5を転写し、
次いで焼成することによって剥離層2を除去するととも
に蛍光体層5内の蛍光顔料を相互に接着するバインダー
樹脂及び溶剤などを除去して、第3図に示すように、フ
ェースプレート7上に蛍光顔料を主として含む層8と上
記メタルバック層4とからなる蛍光膜10を形成する。As shown in FIG. 2, the transfer material 1.1 has its adhesive layer 6 superimposed on the face plate 7'' of the cathode ray tube.
The adhesive layer 6 is fused to the face plate 7 by heating and pressurizing. At this time, the temperature is 130~230℃, and the pressure is 3~
200 kg/cm' is suitable. Next, by peeling off the base film l, the release layer 2, metal back layer 4, and phosphor layer 5 are transferred onto the face plate 7,
Next, by firing, the release layer 2 is removed, and the binder resin and solvent that bond the fluorescent pigments in the phosphor layer 5 to each other are removed, and the fluorescent pigments are deposited on the face plate 7, as shown in FIG. A fluorescent film 10 consisting of a layer 8 mainly containing and the metal back layer 4 is formed.
上記転写後の焼成工程では、核工程で発生ずる有機ガス
すなわち剥離層2やバインダー樹脂や溶剤などが昇華し
て発生したガスが微細孔4aを通して円滑に抜けるため
、メタルバック層4に膨れやクラックやピンホールなど
が生しることがない。上記レーザー光線を当てる面はベ
ースフィルム面からでも蛍光体面からでもどちらからで
もよいが、作業効率面からは蛍光体面からの方が良い。In the post-transfer firing process, the organic gas generated in the core process, that is, the gas generated by sublimation of the release layer 2, binder resin, solvent, etc., smoothly escapes through the micropores 4a, causing blisters and cracks in the metal back layer 4. No pinholes or pinholes occur. The surface to which the laser beam is irradiated may be from either the base film surface or the phosphor surface, but it is better to apply the laser beam from the phosphor surface in terms of work efficiency.
上記微細通気孔4aの大きさ及びピンチは、焼成時の通
気効果と陰極線管としての視覚効果及びレーザー作業効
率の面から孔径20〜100μ、ピッチ2〜10mm位
が望ましい。上記微細孔4aをレーザー光線で形成する
のは以下の理由による。すなわち、転写材の少なくとも
メタルバック層4の所定位置に所定の口径で穿孔するこ
とが必要であるが、機械的な方法や化学的な方法では生
産効率が悪くかつ肉眼では認識できない程度の微細な孔
を明けることは不可能であるからである。従って、レー
ザー光線によれば、微細孔4aの穿孔位置、穿孔強度、
孔径の寸法制御が容易に行える。The size and pinch of the fine ventilation holes 4a are preferably about 20 to 100 μm in diameter and 2 to 10 mm in pitch from the viewpoint of ventilation effect during firing, visual effect as a cathode ray tube, and laser work efficiency. The reason why the fine holes 4a are formed using a laser beam is as follows. In other words, it is necessary to make holes with a predetermined diameter at a predetermined position in at least the metal back layer 4 of the transfer material, but mechanical or chemical methods have low production efficiency and can produce holes so minute that they cannot be recognized with the naked eye. This is because it is impossible to drill holes. Therefore, according to the laser beam, the perforation position of the microhole 4a, the perforation strength,
Pore size can be easily controlled.
上記実施例にかかるより具体的な例を次に示す。A more specific example of the above embodiment will be shown below.
肛
厚さ25μmのポリエステルフィルム上全面に、下記組
成Iからなるインキを用いてグラビア印刷法にて膜厚I
μmの剥離層を設け、ついで上記剥離層」二の全面にア
ルミニウムにて膜厚800人のメタルバック層を真空蒸
着法にて設け、その上の全面に下記組成2からなるイン
キを用いてスクリーン印刷法にて膜厚10μmの蛍光体
層を設置−11さらにその」二の全面に下記組成3から
なるインキを用いてスクリーン印刷法にて膜厚5μmの
接着層を設けた。A film thickness of I was printed on the entire surface of a polyester film with a thickness of 25 μm using an ink having the following composition I using a gravure printing method.
A release layer with a thickness of μm is provided, and then a metal back layer of aluminum with a thickness of 800 μm is provided on the entire surface of the release layer 2 using a vacuum evaporation method. A phosphor layer with a thickness of 10 μm was provided by a printing method, and an adhesive layer with a thickness of 5 μm was provided on the entire surface of the substrate by a screen printing method using an ink having the composition 3 below.
このようにして得られた転写材に平均発振出力6 W(
at 20 K Hz)のYAG(イツトリウム・アル
ミニウム・ガーネット)レーザを接着層側から照射し、
メタルバック層に孔径10μmの微細孔が5mmのピッ
チで第19図に示すように格子点状に形成された転写材
とした。The transfer material thus obtained had an average oscillation output of 6 W (
At 20 KHz) YAG (yttrium aluminum garnet) laser is irradiated from the adhesive layer side,
A transfer material was prepared in which fine holes with a diameter of 10 μm were formed in the metal back layer in the form of lattice points at a pitch of 5 mm as shown in FIG.
(以下余白)
組成I (重量部)アクリ
ル樹脂 lOトルエン
45メヂルエヂルケトン
45組成2 (重量部)アク
リル樹脂 20蛍光体粉末(Y2
O,S:Tb) 4..0ツルペツツI 00
40組成3
(重量部)ポリアミド樹口旨
30エチルセルソルブ 30ンクロヘ
キザン 40このようにして得られた
転写材をフェースプレート上に200℃、5kg/am
’にて転写し、次いで、450℃で30分間焼成するこ
とにより転写材中の有機成分を除去し、メタルバック層
が積層された蛍光膜を形成したところ、メタルバック層
とフェースプレートとの間の蛍光体層および接着層の有
機成分はメタルバック層の微細孔から揮散し、メタルバ
ック層の表面は全く平滑性を失っていなかった。(Left below) Composition I (Parts by weight) Acrylic resin lO toluene
45 medyl edil ketone
45 Composition 2 (Parts by weight) Acrylic resin 20 Phosphor powder (Y2
O, S: Tb) 4. .. 0 Tsurupetutsu I 00
40 composition 3
(Parts by weight) Polyamide resin
30 Ethyl cellosolve 30 Nchlorohexane 40 The transfer material thus obtained was placed on the face plate at 200°C at 5 kg/am.
The organic components in the transfer material were removed by baking at 450°C for 30 minutes, and a fluorescent film with a metal back layer laminated was formed. The organic components of the phosphor layer and the adhesive layer were volatilized from the micropores of the metal back layer, and the surface of the metal back layer did not lose its smoothness at all.
上記実施例によれば、上記転写材11を使用して蛍光膜
10を形成すれば、メタルバック層4に微細孔4a、・
、4aを有するので、転写後の焼成工程で発生する有機
ガスがこの微細孔4a、・、4aを通してスムーズに抜
番プるため、メタルバ・ツク層4に膨れやクラックやピ
ンホールなどが生じることがない。従って、陰極線管の
フェースプレート7」二に、粗面でなく、膨れやクラッ
クやピンホールなどのない平滑性に優れた蛍光膜10を
形成することができる。According to the above embodiment, if the fluorescent film 10 is formed using the transfer material 11, the fine holes 4a,
, 4a, the organic gas generated in the post-transfer firing process smoothly passes through the micropores 4a, . There is no. Therefore, it is possible to form the phosphor film 10 on the face plate 7'' of the cathode ray tube, which does not have a rough surface and has excellent smoothness without any bulges, cracks, or pinholes.
また、上記実施例にかかる転写+iの製造方法により製
造される転写材11(」、ベースフィルムl上に剥離層
2とメタルバック層4と少なくとも蛍光体層5を形成し
た後、レーザー光線を当てることによりメタルバック層
4の金属に微細な微細孔4a、・・・、4aを設(づる
ことができる。よって、この製造方法により得られた転
写材11を使用して蛍光膜IOを形成するとき、転写後
の焼成工程で発生ずる有機ガスが微細孔4a、−,4a
を通してスム−ズに抜けるため、メタルバック層4に膨
れやクラックやピンポールなどが生じることがない。Furthermore, after forming the release layer 2, the metal back layer 4, and at least the phosphor layer 5 on the base film l, applying a laser beam to the transfer material 11 ('' manufactured by the method of manufacturing Transfer+i according to the above embodiment). By this method, it is possible to form fine micropores 4a, . , the organic gas generated during the post-transfer firing process is absorbed into the micropores 4a, -, 4a.
Since the metal back layer 4 is smoothly passed through, no bulges, cracks, pin poles, etc. occur in the metal back layer 4.
−1−記実施例にかかる蛍光膜形成方法によれば、上記
転写+N’l+のメタルバック層4に微細孔4a。According to the method for forming a fluorescent film according to the embodiment -1-, micro holes 4a are formed in the metal back layer 4 of the transfer+N'l+.
・、4aを有するので、転写後の焼成工程で発生ずる有
機ガスが微細孔4a、−,4aを通してスムーズに抜(
Jるため、メタルバック層4に膨れやクラックやピンポ
ールなどが生しることがない。従って、陰極線管のフェ
ースプレート7上に、粗面でなく、膨れやクラックやピ
ンポールなどのない平滑性に優れた蛍光膜IOを形成す
ることができる。・Since it has 4a, organic gas generated in the baking process after transfer is smoothly extracted through the micropores 4a, -, 4a (
Therefore, no bulges, cracks, pin poles, etc. occur in the metal back layer 4. Therefore, it is possible to form the fluorescent film IO on the face plate 7 of the cathode ray tube, which is not rough and has excellent smoothness without any bulges, cracks, or pinholes.
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
以下に示すように、その他種々の態様で実施できる。Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
As shown below, it can be implemented in various other ways.
第2実施例を第4〜6図に示す。第4図に示すように、
ベースフィルムl上の全面に剥離層2を形成し、その全
面にメタルバック層4を形成し、さらにその全面に赤色
蛍光体層5r、・・、5rと緑色蛍光体層5g、・、5
gと青色蛍光体層5b、・、5bを夫々所定のピンチ、
膜厚、幅でストライプ状に形成し、かつ、これらの蛍光
体層5r、・、5r;5g・、5g:5b・・・、5b
間にカーボン層9をストライブ状に形成して蛍光体層5
を形成する。その後、レーザー光線を当てることにより
上記メタルバック層4にガス抜き用微細孔4aを多数設
けて、第2実施例としての転写拐15を完成する。上記
カーボン層9は、画像のコントラストを高め、緻密で均
一な画像を得るため及び各蛍光体層の間隔のズレを補正
するための黒色の層である。カーボン層9のインキとし
ては、カーボングラファイトを熱可塑性樹脂などをバイ
ンダーとしたもので、形成方法としてはスクリーン印刷
法が望ましい。A second embodiment is shown in FIGS. 4-6. As shown in Figure 4,
A release layer 2 is formed on the entire surface of the base film l, a metal back layer 4 is formed on the entire surface, and red phosphor layers 5r, . . . , 5r and green phosphor layers 5g, .
g and the blue phosphor layers 5b, . . . , 5b by a predetermined pinch,
These phosphor layers 5r, 5r; 5g, 5g: 5b, 5b are formed in stripes in thickness and width.
A carbon layer 9 is formed in a stripe shape between the phosphor layers 5 and 5.
form. Thereafter, a large number of fine holes 4a for degassing are provided in the metal back layer 4 by applying a laser beam to complete the transfer layer 15 as the second embodiment. The carbon layer 9 is a black layer for increasing the contrast of the image, obtaining a dense and uniform image, and correcting the gap between the phosphor layers. The ink for the carbon layer 9 is carbon graphite using a thermoplastic resin as a binder, and the screen printing method is preferable as the forming method.
上記転写材15は、第5図に示すように、その蛍光体層
5を陰極線管のフェースプレート7」二に重ね合わせ、
加熱、加圧し、次いでベースフィルムlを剥離すること
によってフェースプレート7上に剥離層2、メタルバッ
ク層4、蛍光体層5を転写し、次いで焼成することによ
って剥離層2及び蛍光体層5内のバインダー樹脂及び溶
剤を除去して、第6図に示すように、フェースプレー1
−7−にに蛍光体層5 r、 5 g、 5 bを主と
して含む層8と上記メタルバンク層4とからなる蛍光膜
16を形成ずろ。As shown in FIG. 5, the transfer material 15 has its phosphor layer 5 superimposed on the face plate 7'' of the cathode ray tube.
The release layer 2, metal back layer 4, and phosphor layer 5 are transferred onto the face plate 7 by heating, pressurizing, and then peeling off the base film 1, and then baking to remove the inside of the release layer 2 and the phosphor layer 5. After removing the binder resin and solvent, the face spray 1 was prepared as shown in FIG.
-7- Formation of the fluorescent film 16 consisting of the metal bank layer 4 and the layer 8 mainly containing the fluorescent layers 5r, 5g, 5b.
この第2実施例では、各層や部材の材質などは第1実施
例と同様なものが使用される。次に、第2実施例にかか
るより具体的な例を次に示す。In this second embodiment, the same materials as in the first embodiment are used for each layer and member. Next, a more specific example of the second embodiment will be shown below.
例−4
厚さ25μmのポリエステルフィルム上全面に、下記組
成1からなるインキを用いてクラビア印刷法にて膜厚1
μmの剥離層を設(Jた。その上の全面にアルミニウム
にて膜厚600人のメタルバJり層を真空蒸着法にて設
け、その上に下記組成2からなろインキを用いてスクリ
ーン印刷法にて膜厚1071m、幅]00μm、ピッチ
54071mで赤色の蛍光体層を設けた。ついて上記赤
色の蛍光体層と80μmの間隔をあIJて隣に下記組成
3からなるインキを用いて上記赤色の蛍光体層と同様の
印刷法、膜厚、幅、ピッチで緑色の蛍光体層を設けた。Example-4 A film thickness of 1 is printed on the entire surface of a 25 μm thick polyester film using the Clavia printing method using an ink consisting of the following composition 1.
A 600 μm release layer was provided on the entire surface of the layer, and a metal barrier layer of 600 μm thick was formed using vacuum evaporation, and screen printing was performed using Naro ink having the following composition 2. A red phosphor layer was provided with a film thickness of 1071 m, a width of 00 μm, and a pitch of 54071 m. Next, an ink having the composition 3 below was used to form the red phosphor layer next to the red phosphor layer with an interval of 80 μm. A green phosphor layer was provided using the same printing method, film thickness, width, and pitch as the phosphor layer.
ついで前記緑色の蛍光体層と807zmの間隔をあIJ
て隣に下記組成4からなるインキを用いて上記と同様の
印刷法、膜厚、幅、ピッチで青色の蛍光体層を設けた。Next, the distance between the green phosphor layer and the 807 zm is set to IJ.
Next, a blue phosphor layer was provided using an ink having the following composition 4 using the same printing method, film thickness, width, and pitch as above.
各色の蛍光体層を80μmの間隔でスI・ライブ状に設
けた。つぎに、上記各色の蛍光体層の間を埋めるように
下記組成5のカーボン層を設+:l、各蛍光体層の間隔
のズレを補正し、線幅を8Q71mと一定に12、各色
の蛍光体層がストライプ状に設iノられた転写材とした
。The phosphor layers of each color were provided in the form of a strip at intervals of 80 μm. Next, a carbon layer with the following composition 5 was installed so as to fill the space between the phosphor layers of each color, and the gap between the phosphor layers was corrected, and the line width was kept constant at 8×71 m. The transfer material had a phosphor layer arranged in stripes.
このようにして得られた転写材に平均発振出力6 W(
at 20 K Hz)のY A G l/−ザを蛍光
体層側から照射し、メタルバック層に孔径IOμmの微
細孔力用00μmのピッチで第20図に示すように各色
の蛍光体層及びカーボン層をまたぐ各直線上に並ぶよう
に形成された転写材とした。The transfer material thus obtained had an average oscillation output of 6 W (
At 20 KHz), YA G l/- laser was irradiated from the phosphor layer side, and the phosphor layers of each color and The transfer material was formed so as to be lined up on each straight line across the carbon layer.
(以下余白)
組成1
アクリル樹脂
トルエン
メヂルエヂルケトン
組成2
アクリル樹脂
蛍光体粉末(Y、02S:Ell)
ソルヘソソ100
組成3
アクリル祐■旨
蛍光体粉末
(7,nS:Cu、AI)
ソルヘッソ100
組成4
アクリル樹脂
蛍光体粉末
(ZnS +Ag、 Cu、 Ga、 Aりソルヘソソ
100
組成5
アクリル樹脂
クラファイトカーボン
ソルヘツソ100
(重量部)
(重量部)
(重量部)
このようにして得られた転写材を表面が50°Cに予熱
されたフェースプレー1・上に200℃、5kg/Cm
2にて転写し、次いで450℃で30分間焼成すること
により転写材中の有機成分を除去し、メタルバック層が
形成された蛍光膜を形成したところ、メタルバック層と
フェースプレートとの間の蛍光体層およびカーボン層の
有機成分はメタルバック層の微細孔から揮散し、メタル
バック層の表面は全く平滑性を失っていなかった。(Left below) Composition 1 Acrylic resin toluene methyl edyl ketone Composition 2 Acrylic resin phosphor powder (Y, 02S: Ell) Solhesoso 100 Composition 3 Acrylic Yuji phosphor powder (7, nS: Cu, AI) Solheso 100 Composition 4: Acrylic resin phosphor powder (ZnS + Ag, Cu, Ga, A) 100% Composition 5: Acrylic resin graphite carbon sol: 100% (parts by weight) (parts by weight) (parts by weight) Transfer thus obtained The surface of the material was preheated to 50°C on face spray 1 and 200°C, 5 kg/cm.
2, and then baked at 450°C for 30 minutes to remove the organic components in the transfer material and form a fluorescent film with a metal back layer. The organic components of the phosphor layer and the carbon layer were volatilized from the fine pores of the metal back layer, and the surface of the metal back layer did not lose its smoothness at all.
また、第3実施例を第7〜9図に示す。第7図に示すよ
うに、ベースフィルムI上の全面に剥離層2を形成し、
その全面にメタルバック層4を形成し、さらに接着性を
有する蛍光体層5を例えば幅1cm、間隔5mmで部分
的に形成するとともに、該蛍光体層5」二に接着層6を
形成する。その後、レーザー光線を当てることにより上
記メタルバック層4に例えば、2mmのピッチでガス抜
き用微細孔4aを多数設けて、第3実施例としての転写
材19を完成する。Further, a third embodiment is shown in FIGS. 7-9. As shown in FIG. 7, a release layer 2 is formed on the entire surface of the base film I,
A metal back layer 4 is formed on the entire surface, and a phosphor layer 5 having adhesive properties is partially formed, for example, with a width of 1 cm and an interval of 5 mm, and an adhesive layer 6 is formed on the phosphor layer 5''. Thereafter, a large number of fine holes 4a for degassing are provided in the metal back layer 4 at a pitch of, for example, 2 mm by applying a laser beam, thereby completing the transfer material 19 as the third embodiment.
上記転写材I9は、第8図に示すように、その接着層6
を陰極線管のフェースプレート7」二に重ね合わせ、加
熱、加圧し、次いでベースフィルムIを剥離することに
よってフェースプレート7上に剥離層2、メタルバック
層4、蛍光体層5を転写し、次いて焼成するごとによっ
て剥離層2、蛍光体層5内のバインダー樹脂や溶剤、及
び、接着層6を除去して、第9図に示すように、フェー
スプレート7上に蛍光顔料を主として含む層8と上Ae
:l ’l )L’バック層4とからなる蛍光膜20を
形成する。この第3実施例では、蛍光膜20は一ト記蛍
光体層5が形成された部分にのみ形成される。The transfer material I9 has an adhesive layer 6 as shown in FIG.
The peeling layer 2, the metal back layer 4, and the phosphor layer 5 are transferred onto the faceplate 7 by superimposing them on the faceplate 7'' of the cathode ray tube, heating and pressurizing them, and then peeling off the base film I. The release layer 2, the binder resin and solvent in the phosphor layer 5, and the adhesive layer 6 are removed by each baking step to form a layer 8 mainly containing fluorescent pigments on the face plate 7, as shown in FIG. and upper Ae
:l'l) A fluorescent film 20 consisting of an L' back layer 4 is formed. In this third embodiment, the phosphor film 20 is formed only in the portion where the phosphor layer 5 is formed.
この第3実施例では、各層や部材の材質などは第1実施
例と同様なものが使用される。In this third embodiment, the same materials as in the first embodiment are used for each layer and member.
また、第4実施例を第10〜12図に示す。第10図に
示すように、ベースフィルム1上の全面に剥離層2を形
成し、その全面にメタルツク・ツク層4を形成し、さら
に接着性を有する蛍光体層5を例えば幅Icm、間隔5
mmで部分的に形成するとともに、接着層6を全面にす
なわち蛍光体層5及び隣接する蛍光体層5.5間のメタ
ルノ<・ツク層4に形成する。その後、レーザー光線を
当てるごとにより上記メタルバック層4に例えば、2m
mのピッチでガス抜き用微細孔4aを多数設置Jて、第
4実施例としての転写材23を完成する。Further, a fourth embodiment is shown in FIGS. 10 to 12. As shown in FIG. 10, a release layer 2 is formed on the entire surface of the base film 1, a metal-tack layer 4 is formed on the entire surface, and a phosphor layer 5 having adhesive properties is formed, for example, with a width of I cm and an interval of 5.
At the same time, the adhesive layer 6 is formed on the entire surface, that is, on the phosphor layer 5 and the metal layer 4 between the adjacent phosphor layers 5.5. Thereafter, each time the laser beam is applied, the metal back layer 4 is covered by, for example, 2 m.
A large number of fine holes 4a for degassing are provided at a pitch of m to complete a transfer material 23 as a fourth embodiment.
上記転写材23は、第11図に示すように、その接着層
6を陰極線管のフェースプレート7上に重ね合わ且、加
熱、加圧し、次いでベースフィルム1を剥離することに
よってフェースプレー1・7上に剥離層2、メタルバッ
ク層4、蛍光体層5を転写し、次いで焼成することによ
って剥離層2、蛍光体層5内のバインダー樹脂や溶剤、
及び、接着層6を除去して、第12図に示すように、フ
ェースプレー1・7上に蛍光顔料を主として含む層8と
上記メタルバック層4とからなる蛍光膜24を形成する
。この第4実施例では、蛍光顔料を主として含む層8が
無い部分ではメタルバック層4がフェースプレート7に
直接形成される。この第4実施例で(」、各層や部材の
材質などは第1実施例と同様なものが使用される。As shown in FIG. 11, the transfer material 23 is applied onto the face plates 1 and 7 by overlapping the adhesive layer 6 on the face plate 7 of the cathode ray tube, applying heat and pressure, and then peeling off the base film 1. By transferring the release layer 2, metal back layer 4, and phosphor layer 5 to the surface and then baking, the binder resin and solvent in the release layer 2 and the phosphor layer 5 are removed.
Then, the adhesive layer 6 is removed, and a fluorescent film 24 consisting of a layer 8 mainly containing a fluorescent pigment and the metal back layer 4 is formed on the face plates 1 and 7, as shown in FIG. In this fourth embodiment, the metal back layer 4 is directly formed on the face plate 7 in areas where the layer 8 mainly containing fluorescent pigment is not present. In this fourth embodiment, the same materials as in the first embodiment are used for each layer and member.
また、第5実施例を第13〜15図に示す。第13図に
示すように、ベースフィルムl上の全面に剥離層2を形
成し、その全面に蛍光体層5を形成し、さらにその全面
にメタルバック層4を形成するとともに、さらに接着層
6を全面に形成する。Further, a fifth embodiment is shown in FIGS. 13 to 15. As shown in FIG. 13, a release layer 2 is formed on the entire surface of the base film l, a phosphor layer 5 is formed on the entire surface, a metal back layer 4 is further formed on the entire surface, and an adhesive layer 6 is further formed on the entire surface. is formed on the entire surface.
その後、レーザー光線を当てるこ七により上記メタルバ
ンク層4に例えば、8mmのピンチでガス抜き用微細孔
4aを多数設けて、第5実施例としての転写材27を完
成する。Thereafter, a large number of fine holes 4a for degassing are formed in the metal bank layer 4 with a pinch of 8 mm, for example, by applying a laser beam, thereby completing the transfer material 27 as the fifth embodiment.
−1−起転写祠27は、第14図に示すように、その接
着層6を陰極線管のフェースプレート7上に重ね合わ且
、加熱、加圧し、次いでベースフィルム1を剥離するこ
とによってフェースプレート7」二に剥離層2、蛍光体
層5、メタルバック層4を転写し、次いで焼成すること
によって剥離層2、蛍光体層5内のバインダー樹脂や溶
剤、及び、接着層6を除去して、第15図に示すように
、フェースプレー1・7上に蛍光顔料を主として含む層
8と上記メタルバック層4とからなる蛍光膜28を形成
する。この第5実施例では、蛍光顔料を主として含む層
8とフェースプレート7との間にメタルパック層4が形
成される。この第5実施例で(J1各層や部材の材質な
どは第1実施例と同様なものが使用される。-1- As shown in FIG. 14, the transfer plate 27 is constructed by overlapping the adhesive layer 6 on the face plate 7 of the cathode ray tube, applying heat and pressure, and then peeling off the base film 1. ``Secondly, the release layer 2, the phosphor layer 5, and the metal back layer 4 are transferred, and then the binder resin and solvent in the release layer 2 and the phosphor layer 5 are removed by baking, and the adhesive layer 6 is removed. As shown in FIG. 15, a fluorescent film 28 consisting of a layer 8 mainly containing a fluorescent pigment and the metal back layer 4 is formed on the face plates 1 and 7. As shown in FIG. In this fifth embodiment, a metal pack layer 4 is formed between a layer 8 mainly containing a fluorescent pigment and a face plate 7. In this fifth embodiment (J1), the same materials as in the first embodiment are used for each layer and member.
また、第6実施例を第16〜18図に示す。第16図に
示すように、ベースフィルム1」−の全面に剥離層2を
形成し、その全面に蛍光体層5を例えば幅1cm、間隔
5mmで部分的に形成し、さらにその全面にメタルバッ
ク層4を形成するとともに、さらに接着層6を上記蛍光
体層5が形成された部分にのみ形成する。その後、レー
ザー光線を当てることにより上記メタルバック層4に例
えば、4mmのピッチでガス抜き用微細孔4aを多数設
(ジて、第6実施例としての転写材31を完成する。Further, a sixth embodiment is shown in FIGS. 16 to 18. As shown in FIG. 16, a release layer 2 is formed on the entire surface of the base film 1'', a phosphor layer 5 is partially formed on the entire surface with a width of 1 cm and an interval of 5 mm, and a metal backing is further formed on the entire surface. While forming the layer 4, an adhesive layer 6 is further formed only on the portion where the phosphor layer 5 is formed. Thereafter, by applying a laser beam, a large number of fine holes 4a for degassing are formed in the metal back layer 4 at a pitch of, for example, 4 mm (thus, the transfer material 31 as the sixth embodiment is completed).
上記転写材31は、第17図に示すように、その接着層
6を陰極線管のフェースプレー1−74:に重ね合わせ
、加熱、加圧し、次いでベースフィルム1を剥離するこ
とによってフェースプレー1−7上に剥離層2、蛍光体
層5、メタルバック層4を転写し、次いで焼成すること
によって剥離層2、蛍光体層5内のバインダー樹脂や溶
剤、及び、接着層6を除去して、第18図に示すように
、フェースプレー1・7上に蛍光顔料を主として含む層
8と上記メタルバック層4とからなる蛍光膜32を形成
する。この第6実施例では、蛍光膜20は上記蛍光体層
5が形成された部分にのみ形成されるとともに、蛍光顔
料を主として含む層8とフェースプレート7との間にメ
タルバンク層4が形成される。この第6実施例では、各
層や部材の材質などは第1実施例と同様なものが使用さ
れる。As shown in FIG. 17, the transfer material 31 is produced by overlapping the adhesive layer 6 on the face plate 1-74 of the cathode ray tube, heating and pressurizing it, and then peeling off the base film 1. The release layer 2, phosphor layer 5, and metal back layer 4 are transferred onto 7, and then baked to remove the binder resin and solvent in the release layer 2 and phosphor layer 5, and the adhesive layer 6. As shown in FIG. 18, a fluorescent film 32 consisting of a layer 8 mainly containing a fluorescent pigment and the metal back layer 4 is formed on the face plates 1 and 7. As shown in FIG. In this sixth embodiment, the fluorescent film 20 is formed only on the portion where the phosphor layer 5 is formed, and the metal bank layer 4 is formed between the layer 8 mainly containing fluorescent pigment and the face plate 7. Ru. In this sixth embodiment, the same materials as in the first embodiment are used for each layer and member.
尚、上記各実施例において、メタルバンク層4の微細孔
4aは必ずしも等間隔に設ける必要はないとともに、上
記微細孔4aは接着層6にも設けてもよい。In each of the above embodiments, the fine holes 4a of the metal bank layer 4 do not necessarily need to be provided at equal intervals, and the fine holes 4a may also be provided in the adhesive layer 6.
また、各実施例においては、メタルバック層4とフェー
スプレート7との間に位置する樹脂がメタルバック層4
のフェースプレー1−7とは反対側に位置する樹脂より
も熱分解開始温度が高くなるように構成するのが好まし
い。このように構成すれば、前者の樹脂は、後者の樹脂
が熱分解を開始する以前に熱分解を開始し、微細孔が形
成されたような状態となり、後者の樹脂が熱分解したと
きには、その有機ガスをメタルバック層4の微細孔4a
より同等邪魔されることなく外部へ逃がすことができる
。なお、前者の樹脂が複数の場合における複数の樹脂の
分解する順序は特に限定されない。Further, in each embodiment, the resin located between the metal back layer 4 and the face plate 7
It is preferable that the structure is such that the thermal decomposition start temperature is higher than that of the resin located on the opposite side of the face plate 1-7. With this configuration, the former resin will start thermal decomposition before the latter resin starts thermal decomposition, and will be in a state where micropores are formed, and when the latter resin thermally decomposes, The organic gas is passed through the micropores 4a of the metal back layer 4.
It is possible to escape to the outside without being disturbed. In addition, in the case where there is a plurality of resins in the former case, the order in which the plurality of resins are decomposed is not particularly limited.
上記2〜6実施例においても上記第1実施例と同様な作
用・効果を奏することができる。In the second to sixth embodiments described above, the same functions and effects as in the first embodiment can be achieved.
第1〜3図は夫々本発明の一実施例にかかる転写材の縦
断面図、該転写材をフェースプレートに転写する状態を
示す縦断面図及び転写後に蛍光膜がフェースプレー1・
に形成された状態を示す縦断面図、第4〜6図は夫々本
発明の第2実施例にかかる転写材の縦断面図、該転写材
をフェースプレートに転写する状態を示す縦断面図及び
転写後に蛍光膜がフェースプレートに形成された状態を
示す縦断面図、第7〜9図は夫々本発明の第3実施例に
かかる転写材の縦断面図、該転写材をフェースプレート
に転写する状態を示す縦断面図及び転写後に蛍光膜がフ
ェースプレートに形成された状態を示す縦断面図、第1
O〜12図は夫々本発明の第4実施例にかかる転写材の
縦断面図、該転写材をフェースプレートに転写する状態
を示す縦断面図及び転写後に蛍光膜がフェースプレート
に形成された状態を示す縦断面図、第13〜15図は夫
々本発明の第5実施例にかかる転写材の縦断面図、該転
写材をフェースプレートに転写する状態を示す縦断面図
及び転写後に蛍光膜がフェースプレートに形成された状
態を示ず縦断面図、第16〜18図は夫々本発明の第6
実施例にかかる転写材の縦断面図、該転写材をフェース
プレートに転写する状態を示す縦断面図及び転写後に蛍
光膜がフェースプレー1・に形成された状態を示す縦断
面図、第19.20図は夫々例1.2にかかる微細孔の
配置を示す要部斜視図である。
1・・ベースフィルム、2・・・剥離層、4・・メタル
バック層、5 ・蛍光体層、5b・青色蛍光体層、5g
・・緑色蛍光体層、5r・赤色蛍光体層、6・・接着層
、7 フェースプレート、8 ・蛍光顔料を主として含
む層、9・・カーボン層、+0.16.2024.2B
、32・蛍光膜、I 1.15.19.2327.31
・・・転写材。
特許出願人 日本写真印刷株式会社
代理人 弁理士 前出 葆 ほか2名1 to 3 are a vertical cross-sectional view of a transfer material according to an embodiment of the present invention, a vertical cross-sectional view showing a state in which the transfer material is transferred to a face plate, and a fluorescent film on a face plate 1 after transfer.
FIGS. 4 to 6 are a vertical cross-sectional view of a transfer material according to a second embodiment of the present invention, a vertical cross-sectional view showing a state in which the transfer material is transferred to a face plate, and FIGS. A vertical cross-sectional view showing a state in which a fluorescent film is formed on a face plate after transfer, and FIGS. 7 to 9 are vertical cross-sectional views of a transfer material according to a third embodiment of the present invention, and the transfer material is transferred to a face plate. A vertical cross-sectional view showing the state and a vertical cross-sectional view showing the state in which the fluorescent film is formed on the face plate after transfer, 1st
Figures 0 to 12 are a longitudinal cross-sectional view of a transfer material according to a fourth embodiment of the present invention, a longitudinal cross-sectional view showing a state in which the transfer material is transferred to a face plate, and a state in which a fluorescent film is formed on the face plate after transfer. FIGS. 13 to 15 are a vertical cross-sectional view of a transfer material according to a fifth embodiment of the present invention, a vertical cross-sectional view showing a state in which the transfer material is transferred to a face plate, and a state in which the fluorescent film is removed after transfer. The vertical cross-sectional view and FIGS.
19. A vertical cross-sectional view of the transfer material according to the example, a vertical cross-sectional view showing a state in which the transfer material is transferred to a face plate, and a vertical cross-sectional view showing a state in which a fluorescent film is formed on the face plate 1 after the transfer. FIG. 20 is a perspective view of a main part showing the arrangement of micropores according to Examples 1 and 2, respectively. 1. Base film, 2. Release layer, 4. Metal back layer, 5. Phosphor layer, 5b. Blue phosphor layer, 5g
・Green phosphor layer, 5r・Red phosphor layer, 6 ・Adhesive layer, 7 Face plate, 8 ・Layer mainly containing fluorescent pigment, 9 ・Carbon layer, +0.16.2024.2B
, 32・Fluorescent film, I 1.15.19.2327.31
...Transfer material. Patent applicant Nissha Printing Co., Ltd. Agent Patent attorney Maeda Ao and 2 others
Claims (1)
、少なくとも、ガス抜き用微細孔(4a)を有するメタ
ルバック層(4)と蛍光体層(5)とを備えるようにし
たことを特徴とする蛍光膜形成用転写材。 [2]上記蛍光体層(5)は、カーボン層(9)を有す
るようにした請求項1に記載の蛍光膜形成用転写材。 [3]ベースフィルム(1)上に剥離層(2)を形成し
、該剥離層(2)上に、メタルバック層(4)と蛍光体
層(5)とをこの順序又はこれとは逆の順序で形成する
一方、上記メタルバック層(4)を形成したのちすぐに
又は上記メタルバック層(4)の上に上記蛍光体層(5
)を形成したのち、上記メタルバック層(4)にレーザ
ー光線を当てることにより上記メタルバック層(4)に
ガス抜き用微細孔(4a)を設けるようにしたことを特
徴とする蛍光膜形成用転写材の製造方法。 [4]上記蛍光体層(5)は、カーボン層(9)を有す
るようにした請求項3に記載の蛍光膜形成用転写材の製
造方法。 [5]上記ベースフィルム(1)に対して各層が印刷に
より形成されるようにした請求項3に記載の蛍光膜形成
用転写材の製造方法。 [6]請求項1記載の転写材(11、15、19、23
、27、31)をフェースプレート(7)上に重ね合わ
せ、加熱、加圧し、次いで上記転写材(11、15、1
9、23、27、31)の上記ベースフィルム(1)を
剥離することによって上記フェースプレート(7)上に
上記転写材の上記剥離層(2)と上記メタルバック層(
4)と上記蛍光体層(5)とを転写し、次いで焼成する
ことによって上記フェースプレート(7)上に上記メタ
ルバック層(4)と上記蛍光体層(5)とを有する蛍光
膜(10、20、24、28、32)を形成するように
したことを特徴とする蛍光膜形成方法。 [7]請求項2記載の転写材(15)をフェースプレー
ト(7)上に重ね合わせ、加熱、加圧し、次いで上記転
写材(15)の上記ベースフィルム(1)を剥離するこ
とによって上記フェースプレート(7)上に上記転写材
の上記剥離層(2)と上記メタルバック層(4)と上記
蛍光体層(5)とを転写し、次いで焼成することによっ
て上記フェースプレート(7)上に上記メタルバック層
(4)と上記蛍光体層(5)とを有する蛍光膜(16)
を形成するようにしたことを特徴とする蛍光膜形成方法
。[Scope of Claims] [1] On a base film (1) having a release layer (2), at least a metal back layer (4) having gas venting micropores (4a) and a phosphor layer (5). A transfer material for forming a fluorescent film, comprising: [2] The transfer material for forming a fluorescent film according to claim 1, wherein the fluorescent layer (5) has a carbon layer (9). [3] A release layer (2) is formed on the base film (1), and a metal back layer (4) and a phosphor layer (5) are formed on the release layer (2) in this order or in the reverse order. On the other hand, the phosphor layer (5) is formed immediately after forming the metal back layer (4) or on the metal back layer (4).
) is formed, and then the metal back layer (4) is irradiated with a laser beam to form micropores (4a) for gas venting in the metal back layer (4). Method of manufacturing wood. [4] The method for manufacturing a transfer material for forming a fluorescent film according to claim 3, wherein the phosphor layer (5) has a carbon layer (9). [5] The method for producing a transfer material for forming a fluorescent film according to claim 3, wherein each layer is formed on the base film (1) by printing. [6] The transfer material according to claim 1 (11, 15, 19, 23
, 27, 31) on the face plate (7), heated and pressurized, and then the transfer material (11, 15, 1)
By peeling off the base film (1) of the transfer material (9, 23, 27, 31), the release layer (2) of the transfer material and the metal back layer (
A phosphor film (10) having the metal back layer (4) and the phosphor layer (5) on the face plate (7) is obtained by transferring the metal back layer (4) and the phosphor layer (5) and then baking it. , 20, 24, 28, 32). [7] The transfer material (15) according to claim 2 is superimposed on the face plate (7), heated and pressurized, and then the base film (1) of the transfer material (15) is peeled off. The peeling layer (2), the metal back layer (4), and the phosphor layer (5) of the transfer material are transferred onto the plate (7), and then baked to form the transfer material onto the face plate (7). A phosphor film (16) comprising the metal back layer (4) and the phosphor layer (5)
A method for forming a fluorescent film, characterized in that it forms a fluorescent film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15896390A JPH0451422A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Fluorescent-film forming transfer material and manufacture thereof, and fluorescent-film forming method using said transfer material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP15896390A JPH0451422A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Fluorescent-film forming transfer material and manufacture thereof, and fluorescent-film forming method using said transfer material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0451422A true JPH0451422A (en) | 1992-02-19 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP15896390A Pending JPH0451422A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Fluorescent-film forming transfer material and manufacture thereof, and fluorescent-film forming method using said transfer material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0451422A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023551566A (en) * | 2020-12-04 | 2023-12-08 | ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | Downconverter layer transfer device and method of using the downconverter layer transfer device |
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-
1990
- 1990-06-18 JP JP15896390A patent/JPH0451422A/en active Pending
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