JPH04504326A - 正確な質量測定のための多重ターゲツト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 正確な質量測定のための多重ターゲット本発明は、質量分析法、特に、高速原子 衝突（ＦＡＢ）質量分析法、高速イオン衝突、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ ）　、プラズマ脱着質量分析法及び以下に“ＦＡＢ“と呼ばれる同様な方法に関 する。

正確な質量測定は、質量分析法においては第一に重要である。これを行うべき通 常の方法は、“ピークマツチング（ｐｐ＊−■ａｔｃｈｉｎｇ）又は“コンピュ ーター処理された走査法″（ｃｏｍｐｕｔｅｒｉｚｅｄ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｍ ｅｔｈｏｄｓ）による。質量分析法分野の当業者には周知の両方法は、試料（正 確な質量が望まれる）及び基準化合物（正確な質量が知られているピークを有す る）が、質量分析計で同時にイオンを生成すべきであるということを要求する。

更に、質量分析計の高い分解能もまた要求される。しばしば１０．０００分解峻 は、満足な結果を与えるが、ときにはより高い分解能が必要である。最も高い分 解能（フーリエ変換したものを計数するのではない）を有する商業的に入手可能 な機器の１つであるクラトス（Ｋｒａｔｏｓ）　ＭＳ　５０１量分析計は、“低 フィールドモート“　（約１２００ダルトン以下）で１５０．０００として特定 されそして“高フィールドモード”で５０，０００として特定された最高分解能 （ｕｌｔｉｇ＋ａｔｅ　ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）を有する。

高速原子衝突（ＦＡＢ）に於ける第１の問題は、慣用のターゲットを使用すると 、分解能が、機器について特定された値（電子衝撃を使用して）より有意に小さ いということである。これは、特に、正確な質量測定のための、ＦＡＢにおける 質量分析法の適用を限定する。

更に他のより複雑な問題は、“ＦＡＢ”においては、試料（しばしば液体マトリ ックス中の）は、固体支持体（ターゲット）上に装着され（ｌｏａｄｅｄ）、そ してこれは、液体相中の相互作用により主として引き起こされる多くの困難を生 じることがある。

事実、試料、基準化合物及びもし存在するならばマトリックスを混合する場合に 、それらはお互いに干渉することがあり、また非常にしばしば干渉して、分析を 妨害する。この欠点は、ターゲットが中央で切断されているスプリットプローブ を使用し、かくして２つの側を、−側は試料のためにそして他の側は基準化合物 のために、別々にして保つことにより回避することができた。

しかしながら、この解決は有用ではない。何故ならば、切断されたターゲット上 への液体試料の付着が実際の問題となり、中でも、質量分析法イオン源中の電磁 界は、分解能及び感度を制限しそして２つの側に異なった方法で影響を与えるこ とがあるからである。

従来の単一のより大きいターゲット（約２ｍｍ直径又はそれより大きい直径を有 する）の代わりに、イオンを発生する区域の特定の寸法及び質量分析計中の特定 の位置の組み合わせを有する互いに近接している２つのターゲットを使用して、 ＦＡＢにおける分解能は有意に改良することができ、２つのターゲットに対する 電磁界の効果を同様にすることができる。例えば、“高フィールドモード”、Ｆ ＡＢ、８ｋｖ加速電圧において、Ｃｓｌにおけるｍ／ｚ９１２ピークを観測する クラトス（Ｋｒａｔ。

ｓ）Ｍ−５０機器の最高の分解能は、特定の場合には、“慣用の“２．５ｍｍ直 径のプローブを使用して２２，０００であったが、これに対して本発明に従う１ ．０ｍｍ直径のプローブを使用して７３．０００　（電子衝撃における規格化さ れた分解能：５０．０００）であった。他の場合に同様な差が見いだされた。

故に、本発明の目的は、質量分析法用のツインターゲットであって、イオンを発 生する２つのターゲラ；・区域を結ぶ線は、質量分析計のソーススリットと平行 であり、該区域は、該ソーススリットに垂直な方向において約０．３ｍｍ乃至２ ｍｍの範囲に限定されていることを特徴とするツインターゲット及びその使用で ある。事実、２つのターゲット区域を結ぶ線がソーススリットと平行である［即 ち、それが、セクターフィールド質量分析計の非収束（ｎｏｎｆｏｃｕｓｓｉｎ ｇ）又は２方向と平行である］場合には、２つのターゲットから生じるイオンは 、同調制御装置（ｔｕｎｉｎｇ　ｃｏｎｔｒｏｌｓ）の効果に同様に応答しそし てこれらの制御装置の最適設定は同様であり、故に、両側から生じるイオンにつ いての良好な感度及び分解能を与える機器設定を達成することが可能である。

反対に、２つのターゲット区域を結ぶ線がソーススリットに垂直である場合には 、同調制御装置は、２つのターゲット区域から生じるイオンに対して異なった方 法で（しばしば反対の）影響を与え、両ターゲットについて合理的な感度及び／ 又は分解能を同時に得ることは可能ではない。例えば、感度が１つのターゲット について同調されるならば、この感度は他のターゲットに対しては１０００倍又 はそれ以上減少することがあり、ピーク形状及び分解能もはるかに悪い。

更に、本発明に従えば、高い分解能を得るために、各ターゲットの寸法をソース スリットに垂直な方向においてできる限り小さく保つこと、例えば約０．３ｍｍ 乃至２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍ乃至１．３ｍｍの範囲に保つことも必要であ る。本発明では、各個々のターゲットについて、最も重要なことは、ターゲット の区域を制限するのではなくて、ソーススリットに垂直な方向におけるその寸法 を制限することである。

本明細書で使用した用語“ソーススリット”とは、断面寸法が異なることができ るスリットを意味する。それがソーススリットに対して“平行な方向において“ 又は“垂直な”と述べられている場合には、この方向はスリットの最も長い寸法 に関することは明らかである。

ツインターゲットにおけるターゲット区域の形状は、極めて重要であるという訳 ではなく、それらは、単一の慣用のターゲットと同様に最適化することができる 。より大きいターゲット区域はより良好な感度を与え、より小さなターゲット区 域はより良好な分解能を与える。ターゲットの方向は、上記の如く、特に高い分 解能において重要である。

質量分析計のターゲット区域のソーススリットからの距離は、単−又は多重ター ゲットが使用されるかどうかに無関係に、ＦＡＢ分析法においては重要なパラメ ーターである。質量分析計のデザインがこの距離の最適化を容易に許容する（例 えばクラトスＭＳ−５９機器）ならば、ターゲットの高さは本発明を実施するの には重要ではない。他方、ターゲット区域とソーススリットとの距離を最適化す るのが可能ではないか又は困難である場合［例えば、バキューム・ジエネレイタ ーズＺＡＢ質量分析計（ＪａｃｕｕＩＩＧｅｎｅｒａｔｏｒｓ　ＺＡＢ　ｍａｓ ｓ　ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）の場合］には、支持体は質量分析計のターゲッ ト区域（イオンを発生する）のソーススリット・からの最適距離を与えるように デザインされなければならない。

我々が見いだしたターゲットの方位とターゲット区域の寸法との組み合わせは、 ＦＡＢ分析法において高分解能の正確な質量測定の問題を解決することを可能と するが、これに対して寸法と方位の問題は、低分解能においてはあまり重要でな いか又は存在しない。必要ならば、例えば、実験において１つより多（の基準化 合物を有するために２つより多くのターゲット区域を使用することもできる。例 えば、基準化合物が定量的測定のための標準として使用される場合には、池の適 用もありうる。３つのターゲットを使用する例は、１つのターゲットには試料を 、他のターゲットには質量決定のための基準化合物を、そして第３のターゲット には定量のための標準をつける場合である。

本発明に従えば、上記の性質を有する多重ターゲットを使用することも可能であ る。

多重ターゲットの使用は、多分余り重要ではないけれども、異なる問題、即ち、 高速原子（粒子）ガンの整列をいかにして試験するかを解決することができる。

現在では、この問題を解決するための可能な方法は、紫外線感受性紙の小さなピ ースをターゲット区域に置き、装置のスイッチをオンにし、次いでこの紙の燃焼 又は脱色の位置をチェックすることである。これは簡単で有用なチェックである が、定量的な結果を与えず、紙を正しく位置付けることが困難なことがあり、す べての実験室が手元に紫外線紙を有するとは限らない。本発明の多重ターゲット を使用すると、我々はＦＡＢの整列を試験するか又はプローブ位置を修正して僅 かな不整列を相殺することができる。これは、幾つかのターゲットを含むプロー ブにより、又はターゲット区域の位置をプローブシャフトに垂直な面内で変える ことができるプローブにより又は種々の中心から外れた位置にターゲット区域を 有するプローブの組により都合良く達成することができる。

いずれかの方法を用いて、種々の空間的位置から生じる多量のイオンは、定量的 に決定することができ、従って、ＦＡＢにおける高速粒子ビームの整列をチェッ クすることができる。小さなターゲットの使用は、空間的分解能を増加させるの に好適である。現在までのところ、ターゲット位置の最適化はプローブシャフト の方向においてのみルーチンになされうるが、大抵の市販の機器について、プロ ーブシャフトに垂直な方向においてはそれは可能ではなかった。

種々の多重ターゲットの図面及び特性をいくらかの用途と共に下記に示す。正確 なデザイン特徴よりもむしろ実施例が与えられる。その理由は、主として、これ らの多重ターゲットはそれらを使用する質量分析計に採用されなければならずそ してこれらは実質的に変わることがあるからである。デザインも又用途によって 変わることができ、そして最適値は種々の目的により異なるであろう。しかしな がら、これらの概念に基づいて、要求される役割のために多重ターゲットを修正 又はデザインすることは容易であろう。本実施例の大部分は、クラトス質量分析 計及びＦＡＢに関するが、それらは他の質量分析計及び他の技術（例えば、ＳＩ ＭＳ、液体ＩＭＳ、プラズマ脱着等）にも容易に適用可能である。

“慣用の”　（単一）ターゲットに好適な材料であればいずれの材料でも、本発 明の多重ターゲットを製造するのに使用することができる（例えば、銅、ステン レス鋼等）。

図面において、 第１図は、本発明のツインターゲットを有する基部を示す。

第２図は、第１図と同じものの９０″移動させた図を示す。

第３図は、第１図及び第２図の記載のターゲットの頂面図を示す。

第４図は、基部に挿入されるべきねじ山を有するターゲットを示す。

第５図は、異なる寸法の２つのターゲット区域を示す。

第６図は、対称に配置された４つのターゲットを示す。

好ましい態様の説明 第１図は、円形基部■及び互いに近接して配置された２つのターゲット■により 形成された単一ピースを備えて成る本発明のプローブ（クラトスＭＳ−５０機器 に適用された）の略図である。各単一ターゲットの長さは、本発明を実施するた めには重要ではないが、便利には約４ｍｍとすることができ、該２つのターゲッ ト間の距離は１ｍｍより太き（ないことが好ましい。ターゲットの最も重要な要 素はイオンが発生する区域■である。ソーススリットに垂直な方向における好ま しい寸法は、約１ｍｍであり、他の寸法は誰の要求にも合わせることができる。

第２図では、第１図に示された同じピースが示されているが、９０゜回転させた ものである。このターゲットが慣用のターゲットと同様にどのように斜めに切ら れているか（ｂｅｖｅｌｌｅｄ）に気付くことができる。

第３図は、頂部から見た前記のピースを示す。それはソーススリリット■に平行 に配置されなければならないことに気付くことができる。このような場合に、非 常に高い分解能が両ターゲット区域で同時に得られる（同じ機器同調を使用して ）。同調の便利な方法は、１つのターゲット上にＣｓＩを置きそして他のターゲ ット上にＮａｌを置き、Ｃｓｌのｍ／ｚ９１２ピークをオシロスコープに集中さ せ（ｆｏｃｕｓ）、高質量においてＮａｌのｍ／ｚ９２２ピークを示すようにデ チードボックスを設定して、そして２つのピーク間で交互させながら機器を同調 させることである。

第４図は、実際のターゲットである２つの小さな口・ソドが配置されている（ね じ山■を使用して又は他の手段により正確な機械的嵌合を必要として）”基部゛ ■を備えた本発明の更に好ましい態様を示す。

本発明の更に好ましい態様では、第５図に示されたように、２つのターゲット区 域■及び■は、異なる寸法を有する。検討されるべき２つの化合物（通常は試料 ）の１つが他方よりも有意に低い感度を有する場合に、これらを使用するのが有 利である。感度の小さい化合物を大きい方の側■の上に置くことにより、この効 果を補償する。高い分解能を保つために、ソーススリットに垂直な方向の寸法は 、小さく保たれ、好ましくは約１ｍｍに保たれる。このようにして、両側につい て良好な同調を同時に得ることが可能である。この第５図は、ターゲットの円形 断面が重要な要素ではないことも示す。

前記の如く、第６図は、対称に配置された４つのタープ・ソトを示す。

ターゲットのカップル（ＡとＢ）の外側点間の距離は、好ましくは約３ｍｍであ るが、各ターゲット間の空の空間は好ましくはＱ、５ｍｍ　■である。

それらは、２つより多くの化合物が同時に検討されるべき場合又は粒子ビームに より生じたイオンの角度分布（例えば、粒子ガンの整列）を測定するために使用 することができる。粒子ビーム分布を検討するためには、幾つかのターゲットが 異なる位置を有するいくつかのプローブを使用することができる。

より一般的なバージョンは、小さなターゲラ（例えばロッド）を入れることがで きる穴（多分ねじ山を持った）を有する基部から成る。ターゲットの数は、ター ゲットの寸法と丁度同じく、用途に依存して変えることができる。

粒子ガンを試験するために、基準化合物をその上に有している１つのターゲット のみを使用しそしてターゲット（ロッド）を基部中の１つの位置（穴）から他の 位置に移動させるのが便利である。重要なことは、ターゲット位置をプローブシ ャフトに垂直な場所において容易に変えることができるということである。

このバージョンは、穴が正しく配置されている状態では、粒子ビームの僅かな不 整列を相殺するのに使用することができる。

補正書の写しく翻訳文）提出書　（特許法第１８４条の８）平成３年９月３０日 特許庁長官　深　沢　亘　殿　圃 １、特許出願の表示 ＰＣＴ／ＥＰ９０１００３６３ ２、発明の名称 正確な質量測定のための多重ターゲット３、特許出願人 住　所　イタリー国アイー２０１５９ミラノ・ビアシームラド２３名　称　グル ポ・レベチット・ニス・ピー・エイ４、代理人　〒１０７ ５、補正書の提出年月日 １９９１年１月２２日 ６、添付書類の目録 （１）　補正書の写しく翻訳文）　１週明　細　書 正確な質量測定のためのツインターゲットを有する質量分析計本発明は、質量分 析法、特に、高速原子衝突（ＦＡＢ）質量分析法、高速イオン衝突、二次イオン 質量分析法（Ｓ　ＦＭＳ）　、プラズマ脱着質量分析法及び以下に“ＦＡＢ”と 呼ばれる同様な方法に関する。

正確な質量測定は、質量分析法においては第一に重要である。これを行うべき通 常の方法は、“ピークマツチング（ｐｅａｋ　ｍａｔｃｈｉｎｇ）又は“コンピ ューター処理された走査法”　（ｃｏｍｐｕｔｅｒｉｚｅｄ　ｓｃａｎｎｉｎｇ 　＋＊ｅｔｈｏｄｓ）による。質量分析法分野の当業者には周知の両方法は、試 料（正確な質量が望まれる）及び基準化合物（正確な質量が知られているピーク を有する）が、質量分析計で同時にイオンを生成すべきであるということを要求 する。更に、質量分析計の高い分解能もまた要求される。しばしば１０．０００ 分解能は、満足な結果を与えるが、ときにはより高い分解能が必要である。最も 高い分解能（フーリエ変換したものを計数するのではない）を有する商業的に入 手可能な機器の１つであるクラトス（Ｋｒａｔｏｓ）　ＭＳ−５０質量分析計は 、“低フィールドモード”　（約１２００ダルトン以下）で１５０．０００とし て特定されそして“高フィールドモード”で５０，０００として特定された最高 分解能を有する。質量分析法に使用するためのい（つかの装置、例えば、ＥＰ２ １１６４５及び英国特許第２２０２３６８号に記載の装置が開示されている。

高速原子衝突（ＦＡＢ）に於ける第１の問題は、慣用のターゲットを使用すると 、分解能が、機器について特定された値（電子衝撃を使用して）より有意に小さ いということである。これは、特に、正確な質量測定のための、ＦＡＢにおける 質量分析法の適用を限定する。

故に、本発明の目的は、ツインターゲットを備えた質量分析計であって、イオン を発生する２つのターゲット区域を結ぶ線は、質量分析計のソーススリットと平 行であり、該区域の寸法（又は直径）が、該ソーススリットに垂直な方向におい て約Ｑ、３ｍｍ乃至２ｍｍの範囲に限定されていることを特徴とする質量分析計 及びその使用である。事実、２つのターゲット区域を結ぶ線がソーススリットと 平行である［即ち、それが、セクターフィールド質量分析計の非収束（ｎｏｎｆ ｏｃｕｓｓｉｎｇ）又は２方向と平行である］場合には、２つのターゲットから 生じるイオンは、同調制御装置（ｔｕｎｉｎｇ　ｃｏｎｔｒｏｌｓ）の効果に同 様に応答しそしてこれらの制御装置の最適設定は同様であり、故に、両側から生 じるイオンについての良好な感度及び分解能を与える機器設定を達成することが 可能である。

反対に、２つのターゲット区域を結ぶ線がソーススリットに垂直である場合には 、同調制御装置は、２つのターゲット区域から生じるイオンに対して異なった方 法で（しばしば反対の）影響を与え、両ターゲットについて合理的な感度及び／ 又は分解能を同時に得ることは可能ではない。例えば、感度が１つのターゲット について同調されるならば、この感度は他のターゲットに対しては１０００倍又 はそれ以上減少することがあり、ピーク形状及び分解能もはるかに悪い。

更に、本発明に従えば、高い分解能を得るために、各ターゲットの寸法をソース スリットに垂直な方向においてできる限り小さく保つこと、例えば約Ｑ、３ｍｍ 乃至２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍ乃至１．３ｍｍの範囲に保つことも必要であ る。

図面において、 第１図は、本発明のツインターゲットを有する基部を示す。

第２図は、第１図と同じものの９０＠回転させた図を示す。

第３図は、第１図及び第２図の記載のターゲットの頂面図を示す。

第４図は、基部に挿入されるべきねじ山を有するターゲットを示す。

第５図は、異なる寸法の２つのターゲット区域を示す。

第６図は、対称に配置された４つのターゲットを示す。

好ましい態様の説明 第１図は、円形基部１及び互いに近接して配置された２つのターゲット２により 形成された単一ピースを備えて成る本発明のプローブ（クラトスＭＳ−５０機器 に適用された）の略図である。各単一ターゲットの長さは、本発明を実施するた めには重要ではないが、便利には約４ｍｍとすることができ、該２つのターゲッ ト間の距離は１ｍｍより太き（ないことが好ましい。ターゲットの最も重要な要 素はイオンが発生する区域３である。ソーススリットに垂直な方向における好ま しい寸法は、約１ｍｍであり、他の寸法は誰の要求にも合わせることができる。

第２図では、第１図に示された同じピースが示されているが、９０″回転させた ものである。このターゲットが慣用のターゲットと同様にどのように斜めに切ら れているか（ｂｅｖｅｌｌｅｄ）に気付くことができる。

第３図は、頂部から見た前記のピースを示す。それはソーススリット４に平行に 配置されなければならないことに気付くことができる。このような場合に、非常 に高い分解能が両ターゲット区域で同時に得られる（同じ機器同調を使用して） 。同調の便利な方法は、１つのターゲット上にＣｓｌを置きそして他のターゲッ ト上にＮａＩを置き、Ｃｓｌのｍ／ｚ９１２ピークをオシロスコープに集中させ （ｆｏｃｕｓ）、デチードボックスを高質量においてＮａｌのｍ／ｚ９２２ビー クを示すように設定し、そして２つのピーク間で交互させながら機器を同調させ ことである。

第４図は、実際のターゲットである２つの小さなロッドがその中に配置されてい る（ねじ山５を使用して又は他の手段により正確な機械的嵌合を必要として）と ころの“基部”　１を備えた本発明の更に好ましい態様を示す。

本発明の更に好ましい態様では、第５図に示されたように、２つのターゲット区 域６及び７は、異なる寸法を有する。検討されるべき２つの化合物（通常は試料 ）の１つが他方よりも有意に低い感度を有する場合に、これらを使用するのが有 利である。感度の小さい化合物を大きい方の側７の上に置（ことにより、この効 果を補償する。高い分解能を保つために、ソーススリットに垂直な方向の寸法は 、小さく保たれ、すましくは約１ｍｍに保たれる。このようにして、両側につい て良好な同調を同時に達成することが可能である。この第５図は、ターゲットの 円形断面が重要な要素ではないことも示す。

前記の如く、第６図は、対称に配置された４つのターゲットを示す。

ターゲットのカップル（ＡとＢ）の外側点間の距離は、好ましくは約３ｍｍであ るが、各ターゲット間の空の空間は好ましくは０．６ｍｍ　８である。

それらは、２つより多くの化合物が同時に検討されるべき場合又は粒子ビームに より生じたイオンの角度分布（例えば、粒子ガンの整列）を測定するために使用 することができる。粒子ビーム分布を検討するためには、幾つかのターゲットが 異なる位置を有するいくつかのプローブを使用することができる。

より一般的なバージョンは、小さなターゲット（例えばロッド）を入れることが できる穴（多分ねじ山を持った）を有する基部から成る。ターゲットの下図は、 ターゲットの寸法と丁度同じ（、用途に依存して変えることができる。

請求の範囲 １．ツインターゲットを備えた質量分析計であって、イオンを生じる２つのター ゲット区域を結ぶ線がソーススリットと平行であり、該区域の前記ソーススリッ トの長手方向軸線に垂直な方向における寸法（又は直径）は約０．３ｍｍ乃至２ ｍｍの範囲にあることを特徴とする、質量分析計。

２、前記ソーススリットの長手方向軸線に垂直な方向における前記寸法（又は直 径）が、０．５ｍｍ乃至１．３ｍｍの範囲にある、請求の範囲第１項記載の質量 分析計。

３、高速原子衝突、高速イオン衝突、二次イオン質量分析法及びプラズマ脱着質 量分析法のための請求の範囲第１項又は２項記載の分析計の使用。

補正音の写しく翻訳文）提出書　（特許法第１８４条の８）平成３年９月３０日 ＰＣＴ／ＥＰ９０１００３６３ ２、発明の名称 正確な質量測定のための多重ターゲット３、特許出願人 住　所　イタリー国アイー２０１５９ミラノ・ビアシームラド２３名　称　グル ポ・レベチット・ニス・ピー・エイ４、代理人　〒１０７ 電話　３５８５−２２５６ ５、補正音の提出年月日 １９９１年５月７日 ６、添付書類の目録 （１）　補正音の写しく翻訳文）　１通請求の範囲 １．１つの面内でイオンを発生するターゲット区域（３）を有するツインターゲ ット（２）とソーススリット（４）を備えた質量分析計において、２つのターゲ ット区域（３）の中心を結ぶ線が、ソーススリット（４）の長手方向軸線と平行 であり、該軸線に垂直な方向における該区域（３）の直径が約０．３ｍｍ乃至２ ｍｍの範囲内にあることを特徴とする、質量分析計。

２、前記ソーススリット（４）の長手方向軸線に垂直な方向における寸法が、０ ．５ｍｍ乃至１．３ｍｍ内にある、請求の範囲第１項記載の質量分析計。

３、高速原子衝突、高速イオン衝突、二次イオン質量分析法及びプラズマ脱着質 量分析法のための請求の範囲第１項及び２項記載の分析計の使用。

国際調査報告 国際調査報告 ＥＰ　９０００３６３ Ｓ＾　３４９５５

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．イオンを生じる２つのターゲット区域を結ぶ線がソーススリットと平行であ り、該区域は、ソーススリットに垂直な方向において約０．３ｍｍ乃至２ｍｍの 範囲内に限定されていることを特徴とする、質量分析法のためのツイン又は多重 ターゲット。
2. ２．前記ターゲットの前記ソースに垂直な方向が、０．５ｍｍ乃至１．３ｍｍ内 にある、請求の範囲第１項記載の質量分析法のためのツイン又は多重ターゲット
3. ３．高速原子衝突、高速イオン衝突、二次イオン質量分析法及びプラズマ脱着質 量分析法のための請求の範囲第１項又は２項記載のツイン又は多重ターゲット。
4. ４．高速原子衝突、二次イオン衝突及びプラズマ脱着分析法において、正確な質 量測定における高い分解能を改良するための、請求の範囲第１項又は２項記載の ツイン又は多重ターゲットの使用。
5. ５．高速原子衝突、高速イオン衝突、二次イオン質量分析法及びプラズマ脱着質 量分析法において粒子ガンの整列を試験するための、請求の範囲第１項、２項又 は３項に記載のツイン又は多重ターゲットの使用。