JPH04503027A - catalyst - Google Patents

catalyst

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JPH04503027A
JPH04503027A JP2502187A JP50218790A JPH04503027A JP H04503027 A JPH04503027 A JP H04503027A JP 2502187 A JP2502187 A JP 2502187A JP 50218790 A JP50218790 A JP 50218790A JP H04503027 A JPH04503027 A JP H04503027A
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ハリソン,ジョージ,エドウィン
デニス,アラン,ジェイムズ
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デイヴィ・マッキー・(ロンドン)・リミテッド
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 触 媒 本発明は触媒に関する。特に、本発明は第1層の金属触媒に関するものである。[Detailed description of the invention] catalyst The present invention relates to catalysts. In particular, the present invention relates to a first layer metal catalyst.

本発明によれば、担体に支持された還元された第1層の金属からなる触媒であっ て、担体と、約10重量%までの第1層の金属からなり、−酸化炭素の吸着によ り測定して触媒中に存在する第■族金属が少なくとも約t5rd/gという第■ 族金属の表面積によって特徴付けられるものが提供される。According to the present invention, a catalyst consisting of a reduced first layer metal supported on a carrier. the support and up to about 10% by weight of the first layer of metal; The Group I metal present in the catalyst is determined to be at least about t5rd/g. A group metal surface area is provided.

第■族金属の表面積を測定するに当たって本発明者らは、吸着された一酸化炭素 の1分子が占める面積が16.8X10−”d C16,8λ3)であると仮定 した。In measuring the surface area of group Ⅰ metals, the present inventors determined that the adsorbed carbon monoxide Assuming that the area occupied by one molecule of is 16.8X10-”d C16,8λ3) did.

本発明者らは、触媒中に存在する第1層の金属が少なくとも約45rrr/gと いう第■族金属の表面積によって特徴付けられる本発明の触媒とは対照的に、同 じ触媒前駆体から従来の予還元技術によって調製される、担体に支持された第1 層の金属触媒は、触媒中に存在する第1層の金属が約45d1gよりもずっと少 ない露出された第■族金属表面積を有することを見いだした。The inventors have determined that the first layer of metal present in the catalyst is at least about 45 rrr/g. In contrast to the catalysts of the present invention, which are characterized by a surface area of Group I metals, The first catalyst supported on a carrier is prepared by conventional pre-reduction techniques from the same catalyst precursor. The layer metal catalyst has much less than about 45 d1 g of first layer metal present in the catalyst. It was found that the metal had no exposed Group I metal surface area.

文献によれば、第1層の金属の水素化触媒の触媒活性は、予還元の後に存在する 還元された金属粒子によるものであることが示唆されている。従って結果的に、 触媒活性は多かれ少なかれ、還元された金属の露出されている表面積に直接の関 係を有する傾向を持つことになる。According to the literature, the catalytic activity of the first layer metal hydrogenation catalyst exists after pre-reduction. It has been suggested that this is due to reduced metal particles. Therefore, as a result, Catalytic activity is more or less directly related to the exposed surface area of the reduced metal. They tend to have a relationship with each other.

よって露出された還元金属の表面積が大きくなれば、触媒の活性も大きくなる。Therefore, the greater the surface area of the exposed reduced metal, the greater the activity of the catalyst.

極限においては、第1層の金属は担体上で個々の金属原子の形状を持つことにな る。In the limit, the first layer of metal will have the shape of individual metal atoms on the support. Ru.

本発明による触媒の好ましい形態においては、第1層の金属含有量の実質的に全 でが還元金属の微粒子として存在する。In a preferred form of the catalyst according to the invention, substantially all of the metal content of the first layer is exists as fine particles of reduced metal.

触媒前駆体は、第1層の金属酸化物又は塩と担体とからなる。好適な前駆体は、 担体を第1層の金属塩の溶液に含浸し、次いで所望に応じて発火することにより 得ることができる。適切な場合には、共沈も用いることができる。適切な触媒前 駆体を製造する方法は、触媒製造の当業者には周知である。これらの触媒前駆体 は、担体上にほぼ均一に分散した還元可能な形態の第1層の金属の微結晶からな るものと考えられている。これらの微結晶の大きさは、触媒前駆体の調製に際し て支配的な条件に依存している。これらの微結晶が小さくなればなるほど、還元 された触媒中の金属の表面積は太き(なりうる、と前提することができる。従っ て触媒前駆体の製造方法は、使用される触媒の還元方法と同様に、還元された触 媒中の第1層の金属の最終的な表面積に影響を及ぼす。The catalyst precursor consists of a first layer of metal oxide or salt and a carrier. A suitable precursor is by impregnating the support with a solution of the metal salt of the first layer and then optionally igniting. Obtainable. Co-precipitation can also be used if appropriate. Before suitable catalyst Methods for producing precursors are well known to those skilled in the art of catalyst production. These catalyst precursors The first layer consists of microcrystals of the metal in reducible form dispersed almost uniformly on the support. It is considered that The size of these microcrystals is determined during the preparation of the catalyst precursor. depends on prevailing conditions. The smaller these microcrystals are, the more reduced they are. It can be assumed that the surface area of the metal in the catalyst is large. The method for producing the catalyst precursor is the same as the method for reducing the catalyst used. Affects the final surface area of the first layer of metal in the medium.

第1層の金属は、担体に支持された触媒の製造に従来から用いられてきたどのよ うなものでもよいが、特に、第1層の金属水素化触媒の製造に用いられるもので ある。その例としては、プラチナ、パラジウム、ロジウム及びルテニウムがある 。The metal in the first layer can be any of the metals traditionally used in the production of carrier-supported catalysts. In particular, those used for producing the first layer metal hydrogenation catalyst may be used. be. Examples include platinum, palladium, rhodium and ruthenium. .

どのような適切な担体も使用することができるが、その例としてはアルミナ、シ リカ−アルミナ、トリア、炭化珪素、チタニア、クロミア、ジルコニア、または カーボンがある。触媒前駆体中の第1層の金属の含有量は約0.01重量%から 約10重量%の範囲にあるのが通常であり、典型的には触媒前駆体の約5重量% まで、例えば約0.5重量%である。Any suitable carrier can be used, examples include alumina, silicon, etc. Lika-alumina, thoria, silicon carbide, titania, chromia, zirconia, or There is carbon. The content of the first layer metal in the catalyst precursor is from about 0.01% by weight Usually in the range of about 10% by weight, typically about 5% by weight of the catalyst precursor. up to, for example about 0.5% by weight.

触媒前駆体は典型的には、約100μmよりも大きくない粒径を有する粉体の形 状を持つ。このような粉体は従来法によりどのような在来の触媒形状、例えば円 筒形のベレット、リング、サドルその他へも、通常の結合剤とダイ潤滑剤を用い て成形することができ、かくしてこの物質を固定ベッドによる操作にも使用する ことが可能となる。The catalyst precursor is typically in the form of a powder with a particle size of no greater than about 100 μm. have a condition. Such powders can be conventionally prepared into any conventional catalyst shape, e.g. round. For cylindrical pellets, rings, saddles, etc., use standard bonding agents and die lubricants. This material can also be used for fixed-bed operations. becomes possible.

本発明はまた、触媒の製造方法をも提供する。該方法において、担体に支持され た第1層の金属触媒前駆体は水素含有雰囲気中において触媒のかなりの予還元が 検出可能な予還元温度で加熱することにより予還元処理される。そこでの特徴は 、この予還元処理を実行する前に、触媒前駆体を水素欠乏条件下において、上記 予還元温度よりも低い温度で多量の不活性気体と少量のみの水素からなる雰囲気 中にソーキングすることにより、触媒前駆体が前予還元処理されるということで ある。好ましくは、周囲温度から予還元温度への加熱はこの雰囲気において行わ れる。水素欠乏条件は、本発明の方法の前予還元ステップの間じゅうずっと維持 される。即ち触媒前駆体は常に水素に飢えており、従って第1層の金属酸化物又 は塩の還元速度は触媒前駆体表面における水素の入手可能性によって制限される ことになる。このようにして第1層の金属への還元の速さは制御された速度にお いて実行される。The present invention also provides a method for making a catalyst. In the method, supported by a carrier, The metal catalyst precursor in the first layer shows significant pre-reduction of the catalyst in a hydrogen-containing atmosphere. The pre-reduction process is carried out by heating at a detectable pre-reduction temperature. The characteristics there are , before performing this pre-reduction treatment, the catalyst precursor was subjected to the above-mentioned conditions under hydrogen-deficient conditions. Atmosphere consisting of a large amount of inert gas and only a small amount of hydrogen at a temperature below the pre-reduction temperature The catalyst precursor is pre-reduced by soaking during the process. be. Preferably, heating from ambient temperature to the pre-reduction temperature takes place in this atmosphere. It will be done. Hydrogen deficient conditions are maintained throughout the pre-reduction step of the process of the invention. be done. That is, the catalyst precursor is always hungry for hydrogen, and therefore the first layer of metal oxide or The rate of salt reduction is limited by the availability of hydrogen at the catalyst precursor surface. It turns out. In this way, the rate of reduction of the first layer to metal is controlled at a controlled rate. and executed.

この手順は、周囲温度から約140℃までの加熱が、従来の手法におけるように 100%水素雰囲気下というのではなく、少量のみの還元気体を含有している気 体混合物の存在下で最初から終わりまで行われるという点で、かかる触媒前駆体 の製造業者により従来推奨されていた手順とは異なる。触媒前駆体から活性な第 1層の金属触媒を作り出すについてどのような機構が関与しているのかは正確に は知られていない。しかしこの機構には、担体上に存在している第1層の金属酸 化物又は塩の少なくとも一部の対応する第1層の金属への還元が関わっている。This procedure requires heating from ambient temperature to approximately 140°C, as in conventional methods. It is not a 100% hydrogen atmosphere, but a gas containing only a small amount of reducing gas. Such a catalyst precursor in that it is carried out from beginning to end in the presence of a mixture of This differs from the procedure previously recommended by the manufacturer. active phase from the catalyst precursor It is unclear exactly what mechanism is involved in creating a single-layer metal catalyst. is not known. However, this mechanism is dependent on the first layer of metal acid present on the carrier. involves the reduction of at least a portion of the compound or salt to the corresponding first layer metal.

予還元温度(典型的には約140℃)より低い温度においては触媒前駆体と水素 含有気体との間には識別可能な反応は検出されないが、第1層の金属酸化物又は 塩のいくらかの僅かな量は実際に還元されており、それによって第1層の金属原 子の極微小の核生成が、ちょうどカメラのフィルムを露光した場合に生ずる銀原 子の極微小の核生成と同様にして生じている。露光されたフィルムの潜像は視覚 的には検出できないが、これは還元剤へ晒すことによる在来の現像処理の結果、 目に見えるものとすることができる。同様の仕方で、本発明の前予還元ステップ は第1層の金属原子の非常に多くの極微小の核生成からなる「潜像」を作りだし 、これらが個々に生長して非常に多数の第1層の金属微粒子を形成し、か(して 結果的に得られる第1層の金属触媒がこれに応じて第1層の金属の大きな露出表 面積を宵するようになると考えられる。これに対して従来の予還元技術が使用さ れ、それにより水素含有気体の存在下で約180℃又はそれ以上の温度への迅速 な予加熱が行われる場合、或いは触媒前駆体が水素含有気体と接触する前に不活 性気体雰囲気下で少な(とも約180℃の温度へと予加熱される場合には、最初 の比較的値かな核生成で形成される第1層の金属原子は、その後の第1族の金属 酸化物又は塩の金属への還元についての焦点として働き、その結果第■族の金属 の比較的大きな微結晶が形成され、かくして第1族の金属の露出表面積はより小 さくなり、水素化反応における触媒活性はより低くなる。At temperatures below the pre-reduction temperature (typically about 140°C) the catalyst precursor and hydrogen Although no discernible reaction is detected between the contained gas and the metal oxide in the first layer or Some small amount of the salt is actually reduced, thereby reducing the metal source in the first layer. The microscopic nucleation of particles is similar to that produced when camera film is exposed to light. It occurs in the same way as the microscopic nucleation of children. The latent image on exposed film is visible Although not detectable, this is the result of conventional processing by exposure to reducing agents. It can be made visible. In a similar manner, the pre-reduction step of the present invention creates a "latent image" consisting of a large number of microscopic nucleations of metal atoms in the first layer. , these grow individually to form a very large number of first layer metal particles, The resulting first layer metal catalyst has a correspondingly large exposed surface area of the first layer metal. It is thought that the area will become larger in the evening. Conventional pre-reduction techniques are used for this purpose. 180° C. or higher in the presence of a hydrogen-containing gas. If preheating is carried out or the catalyst precursor is inert before it comes into contact with the hydrogen-containing gas. When preheated to a temperature of about 180°C under a gaseous atmosphere, the The first layer of metal atoms formed by nucleation with a relatively low value of Serves as a focal point for the reduction of oxides or salts to metals, resulting in group II metals. relatively large crystallites are formed, thus the exposed surface area of the Group 1 metal is smaller. The catalytic activity in the hydrogenation reaction becomes lower.

適切な温度一時間プロフィールを採用し、予還元ゾーンへの流入気体及び予還元 ゾーンからの流出気体の組成をモニターすることにより、前予還元ステップ又は ソーキックステップに関与するどのような反応も常に可能な限り低い温度におい て生じ、且つ温度を再度太き(上昇させる前に可能な限り完全に生じることがで きるようになっていることを確かめることができる。また、発熱性の前予還元反 応の結果として生成されるいかなる熱も水素含有気体によって除去され、触媒に 対する熱的なダメージのリスクは最小限になる。Adopting an appropriate temperature one-hour profile, the inflow gas to the pre-reduction zone and the pre-reduction The pre-reduction step or Any reactions involved in the saw kick step are always carried out at the lowest temperature possible. to occur as completely as possible before increasing the temperature again. You can check that it is ready. Also, the exothermic pre-reduction reaction Any heat produced as a result of the reaction is removed by the hydrogen-containing gas and transferred to the catalyst. The risk of thermal damage is minimized.

本発明の方法は、気体ソーキックステップの使用を含む。この気体ソーキックス テップにおいては液体は全く存在しないが、気体は触媒前駆体に完全に浸透する ことができ、これと平衡することができる。The method of the invention includes the use of a gas saw kick step. This gas saw kicks In the step, there is no liquid present, but the gas completely penetrates the catalyst precursor. and can be balanced with this.

本発明の好ましい方法による気体ソーキックステップでは、第1族の金属触媒前 駆体は、周囲温度(例えば約15℃から約25°C1典型的には約20°C)と 予還元温度(典型的には約180°C)の中間の温度において、水素含有雰囲気 に維持される。気体ソーキングは周囲温度以下の温度、例えば0℃若しくはそれ 以下においても開始することができる。この気体ソーキックステップにおいて、 水素含有雰囲気は典型的には、窒素、ヘリウム又はアルゴンのような不活性気体 に加えて、水素を少量のみ、典型的には約1容積%より少なく、好ましくは0. 5容積%又はそれ以下だけ含んでいる。気体ソーキックステップに際しては、触 媒前駆体を最初から最後まで水素含有雰囲気において周囲温度から予還元温度ま で加熱することが好ましいが、別の場合には加熱を不活性気体雰囲気下で開始し 、周囲温度(周囲温度以下からの加熱が行われている場合)又は適当に上昇され た温度(例えば約40℃から約50℃)の水素含有雰囲気を導入することも可能 である。しかしながら本方法の本質的な特徴は、気体ソーキックステップ中の温 度が予還元温度に近づくほど、触媒前駆体が常に水素含有気体雰囲気と接触して はいるが、該触媒前駆体が依然として水素欠乏状態にあることがより重要になる ということである。The gas saw kick step according to the preferred method of the invention includes The precursor is at ambient temperature (e.g., about 15°C to about 25°C, typically about 20°C). At a temperature intermediate to the pre-reduction temperature (typically about 180°C), a hydrogen-containing atmosphere will be maintained. Gas soaking is performed at a temperature below ambient temperature, e.g. 0°C or below. You can also start with: In this gas saw kick step, The hydrogen-containing atmosphere is typically an inert gas such as nitrogen, helium or argon. In addition to hydrogen, only small amounts, typically less than about 1% by volume, preferably 0. Contains only 5% by volume or less. Do not touch the gas saw kick step. The solvent precursor is heated from start to finish in a hydrogen-containing atmosphere from ambient temperature to pre-reduction temperature. heating is preferred, but in other cases heating may be initiated under an inert gas atmosphere. , ambient temperature (if heating is performed from below ambient temperature) or appropriately increased. It is also possible to introduce a hydrogen-containing atmosphere at a temperature (for example, about 40°C to about 50°C). It is. However, the essential feature of the method is that the temperature during the gas saw kick step is The closer the temperature is to the pre-reduction temperature, the more the catalyst precursor is constantly in contact with the hydrogen-containing gas atmosphere. However, it is more important that the catalyst precursor is still hydrogen deficient. That's what it means.

本発明の好ましい方法の気体ソーキックステップでは、触媒前駆体は制御された 条件下に適切な毎時の気体空間速度、例えば約500/時から約60007時の 水素含有気体流中において、周囲温度(例えば約20℃)から加熱される。水素 含有気体は好ましくは、少量の水素(典型的には約1容積%未満)と多量の1以 上の不活性気体、例えば窒素、アルゴン、ネオン、メタン、エタン、ブタン、又 はこれらの2つ以上のものの混合物からなる。特に好ましい方法では、還元気体 は少量の水素(好ましくは約0.5容積%未満の水素、例えば約0.2容積%) と多量の窒素、好ましくは実質的に酸素を含まない窒素の混合物である。In the gas saw kick step of the preferred method of the invention, the catalyst precursor is a gas hourly space velocity appropriate to the conditions, e.g., from about 500/hour to about 60,007 hours; It is heated from ambient temperature (eg, about 20° C.) in a hydrogen-containing gas stream. hydrogen The containing gas preferably includes a small amount of hydrogen (typically less than about 1% by volume) and a large amount of one or more inert gases such as nitrogen, argon, neon, methane, ethane, butane, or consists of a mixture of two or more of these. In a particularly preferred method, reducing gas is a small amount of hydrogen (preferably less than about 0.5% hydrogen, such as about 0.2% by volume) and a large amount of nitrogen, preferably substantially oxygen-free nitrogen.

本発明の方法の気体ソーキックステップは常圧又は減圧においても行うことがで きるが、好ましくは約1バールから約20バール、好ましくは約2バールから約 10バールの範囲の昇圧において行われる。The gas saw kick step of the method of the invention can also be carried out at normal or reduced pressure. preferably from about 1 bar to about 20 bar, preferably from about 2 bar to about It is carried out at an elevated pressure in the range of 10 bar.

水素の分圧は約0.01バールより大きい必要はなく、気体ソーキックステップ に際して約o、 ooosバールから約o、 oosパールの範囲の値をとるこ とができる。The partial pressure of hydrogen need not be greater than about 0.01 bar, and the gas saw kick step The value can range from approximately o, ooos bar to approximately o, oos pearl. I can do it.

本発明の特に好ましい方法においては、触媒前駆体は周囲温度から約140℃ま で、少量の水素を含有する還元雰囲気において加熱される。In particularly preferred methods of the invention, the catalyst precursor is heated from ambient temperature to about 140°C. and heated in a reducing atmosphere containing a small amount of hydrogen.

周囲温度から約140°Cまでの触媒前駆体の予備加熱は、制御された速度で実 行されるのが好ましい。典型的にはこの予備加熱ステップは、約12時間から約 48時間もしくはそれ以上を要するが、例えば24時間である。温度はソーキッ クステップの間に実質的に直線的な割合で上昇させることができ、又はほぼ段階 的な仕方で、例えば約5℃から約10°Cの段階をもって上昇させることができ る。この場合、各段階の後に温度を実質的に一定に維持する時間を置いてから、 温度を再び上昇させる。約140℃から約180°Cの範囲にわたっては、触媒 前駆体がいかなる時も還元条件下に維持されており予還元ゾーンの流入及び流出 気体の組成が実質的に相互に同一であるようにして加熱が行われるならば、加熱 はどのような温度一時間曲線を辿ることもできる。好ましくは、温度は約140 °Cから約180°Cまでほぼ直線的な仕方で上昇される。手順の一例によれば 、加熱は一連の段階でもって、都合層(は約10℃の段階でもって実行され、予 還元ゾーンに対する流入及び流出気体の組成の慎重なチェックが各加熱段階の最 中及び前後に行われる。典型的な作動条件の下では、約140°Cから約180 °Cの温度範囲にわたる温度の増加割合は約り℃/時から約り5℃/時、例えば 10℃/時である。Preheating of the catalyst precursor from ambient temperature to approximately 140°C is carried out at a controlled rate. It is preferable to do so. Typically this preheating step lasts from about 12 hours to about It takes 48 hours or more, for example 24 hours. The temperature is so can be raised at a substantially linear rate between steps, or approximately stepwise. For example, the temperature can be raised in steps of about 5°C to about 10°C. Ru. In this case, each step is followed by a period of time during which the temperature is maintained substantially constant; Raise the temperature again. Over the range of about 140°C to about 180°C, the catalyst Precursor is maintained under reducing conditions at all times and the inflow and outflow of the pre-reduction zone Heating if the heating is done in such a way that the compositions of the gases are substantially the same as each other. can follow any temperature-hour curve. Preferably the temperature is about 140 °C to approximately 180 °C in an approximately linear manner. According to an example of the procedure , the heating is carried out in a series of steps, the temperature being approximately 10°C, and the predetermined A careful check of the composition of the inlet and outlet gases to the reduction zone is carried out at the end of each heating stage. It is done during and before and after. Under typical operating conditions, from about 140°C to about 180°C The rate of increase in temperature over a temperature range of °C is about 5 °C/hour to about 5 °C/hour, e.g. The temperature is 10°C/hour.

約140°Cから約180°Cへのこの加熱ステップにおいて、気体の流量は約 400/時から約6000/時又はそれ以上の毎時の気体空間速度(0℃及び1 バールで測定)、例えば約3000/時に大体相当する。In this heating step from about 140°C to about 180°C, the gas flow rate is about Hourly gas hourly space velocities from 400/hour to about 6000/hour or more (0°C and 1 (measured in bar), for example approximately corresponds to approximately 3000/hour.

水素含有気体の組成は作動圧力に依存している。合計の圧力が高いほど、最大限 許容される水素の濃度は低(なる。逆に合計の圧力が低いほど、還元気体中にお ける水素の濃度を高くすることができる。典型的にはH3濃度は好ましい作動条 件下において約0.01%v/vから約1%v/vまで、例えば約0.2%v/ vである。The composition of the hydrogen-containing gas depends on the operating pressure. The higher the total pressure, the maximum The lower the concentration of hydrogen that can be tolerated, the lower the total pressure. The concentration of hydrogen can be increased. Typically the H3 concentration is determined by the preferred operating conditions. from about 0.01% v/v to about 1% v/v, for example about 0.2% v/v It is v.

触媒前駆体が約180℃の最終温度に到達したならば、水素の分圧は徐々に高め られる。しかしながらこの触媒活性化段階の間、予還元ゾーンに対する流入及び 流出気体の組成は依然として綿密にモニターすべきであり、これらの2つの組成 が常時実質的に同一であるようにする。Once the catalyst precursor reaches a final temperature of approximately 180°C, the partial pressure of hydrogen is gradually increased. It will be done. However, during this catalyst activation phase, the inflow and The composition of the effluent gas should still be closely monitored, and these two compositions are substantially the same at all times.

所望の場合には、約210°Cまで又はそれ以上への更なる加熱を実行すること ができる。If desired, further heating to about 210° C. or higher can be carried out. Can be done.

触媒前駆体が予還元温度に到達した場合、実質的に過剰の水素が存在しておらず 、かくして発熱性の触媒予還元ステ・ノブに基づく熱的な暴走により触媒が損傷 される危険性が最小限となることを確かなものとすることが重要である。When the catalyst precursor reaches the pre-reduction temperature, there is virtually no excess hydrogen present. , thus the catalyst is damaged due to thermal runaway due to the exothermic catalyst pre-reduction step knob. It is important to ensure that the risk of being exposed is minimized.

本発明の教示に従って製造される予還元された触媒は、恐らくは第1族の金属微 粒子の幾らかの再酸化の故に、酸化に鋭敏である。従ってこの予還元された触媒 は、製造の後は不活性気体又は水素含有雰囲気の下に保存することが好ましい。Prereduced catalysts prepared in accordance with the teachings of the present invention are likely to contain Group 1 metal fines. Sensitive to oxidation due to some re-oxidation of the particles. Therefore this pre-reduced catalyst is preferably stored under an inert gas or hydrogen-containing atmosphere after production.

本発明の触媒は、不飽和有機化合物を水素化して少なくとも一つのその水素化生 成物を得るための、多種多様の反応に用いることができる。The catalyst of the present invention hydrogenates an unsaturated organic compound to produce at least one of its hydrogenated compounds. It can be used in a wide variety of reactions to obtain products.

以下の実施例により本発明をさらに説明する。The invention is further illustrated by the following examples.

罠嵐匠上天延1 3、OX3.Ommのペレットの形状を持ち、アルミナ担体上の0.5%ルテニ ウムからなるPG 88/10触媒前駆体の2つのサンプル(イギリス国ロンド ンW148Y!ハマースミスロード68デイヴイハウス所在のデイヴイマッキ− (ロンドン)リミテッドから入手可能)を、それぞれの場合毎に反応容器内に装 填した。触媒前駆体の量はそれぞれの場合について2.5gから2.6gの間で あり、注意深く秤量した。酸素を含まない窒素を、4.45バールの流出圧力で もって200リットル/時(0℃及び1バールで測定)の流量で室温(20℃) において30分間反応容器に通した。Trap Arashi Takumi Kami Tennobu 1 3.OX3. 0.5% rutheni on alumina support in the form of pellets of 0.0 mm Two samples of PG 88/10 catalyst precursor consisting of NW148Y! Davey Mackie, 68 Hammersmith Road Davey House (available from London) Limited) in each case in the reaction vessel. Filled. The amount of catalyst precursor is in each case between 2.5 g and 2.6 g. Yes, I weighed it carefully. Oxygen-free nitrogen at an outlet pressure of 4.45 bar at room temperature (20°C) with a flow rate of 200 l/h (measured at 0°C and 1 bar) was passed through the reaction vessel for 30 minutes.

同じ総流量において窒素流中における水素が0.2%となるようにして、水素を 窒素流中に導入した。反応容器の温度は毎時5℃の割合で徐々に140℃まで上 昇させ、窒素中0.2%の水素流は同じ流量に維持した。At the same total flow rate, hydrogen is added at 0.2% hydrogen in the nitrogen stream. introduced into a nitrogen stream. The temperature of the reaction vessel was gradually increased to 140°C at a rate of 5°C per hour. The flow of 0.2% hydrogen in nitrogen was maintained at the same flow rate.

熱伝導率により、流入及び流出気体を継続的にモニターした。次いで、大体24 時間かけて気体流中の水素レベルを1%まで少しずつ徐々に上昇させた。水素の 吸収がもはや検出されなくなった場合に、温度を毎時15℃の割合で160℃ま で上昇させ、流入気体の組成が流出気体の組成と同じになり、かくして水素の吸 収が終了したことが示されるまでその温度を維持した。次いで触媒の温度を2時 間かけて180℃まで上昇させた。次に触媒の温度を依然として180℃に保ち ながら水素レベルを徐々に上昇させて100%とし、系の状態を18時間にわた って維持した。水素気体流が100%となった時点で温度を200℃まで上昇さ せ、触媒を使用する前にこのレベルを1時間保った。Incoming and outgoing gases were continuously monitored by thermal conductivity. Next, approximately 24 The hydrogen level in the gas stream was gradually increased to 1% over time. of hydrogen When absorption is no longer detectable, increase the temperature to 160°C at a rate of 15°C per hour. the composition of the incoming gas is the same as that of the outgoing gas, thus absorbing hydrogen. The temperature was maintained until harvest was indicated to be complete. Then the temperature of the catalyst was increased to 2 o'clock. The temperature was raised to 180°C over a period of time. Next, keep the catalyst temperature still at 180℃ While increasing the hydrogen level to 100%, the system condition was maintained for 18 hours. I maintained it. When the hydrogen gas flow reached 100%, the temperature was increased to 200°C. This level was maintained for 1 hour before using the catalyst.

この還元手順の後に、酸素を含まないヘリウム流中において触媒を20℃まで冷 却し、還元されたルテニウム表面の一酸化炭素との反応によってルテニウムの表 面積を測定した。−酸化炭素の1分子が16.8 X1G−”rr? (16, 8入りの表面を占めると仮定して、反応がもはや検出されなくなるまで一酸化炭 素をヘリウム流中に連続的に注入することにより、反応の程度、シたがう′でル テニウム表面に吸着された一酸化炭素分子の数を測定した。このようにして、還 元された触媒の露出された金属ルテニウムの面積を計算した。After this reduction procedure, the catalyst is cooled to 20°C in an oxygen-free helium stream. However, the surface of ruthenium is reduced by the reaction with carbon monoxide on the reduced ruthenium surface. The area was measured. -One molecule of carbon oxide is 16.8X1G-"rr? (16, carbon monoxide until the reaction is no longer detectable, assuming that it occupies a surface of 8. By continuously injecting the element into a helium stream, the extent of the reaction can be controlled by The number of carbon monoxide molecules adsorbed on the thenium surface was measured. In this way, the return The area of exposed metallic ruthenium of the recovered catalyst was calculated.

以下の吸着量、及びこれに対応するルテニウムの金属表面積が記録実施例1及び 2で使用したのと同じ触媒前駆体を用いた比較実験を次の手法により実行した。The following adsorption amount and the corresponding metal surface area of ruthenium are recorded in Example 1 and A comparative experiment using the same catalyst precursor used in Example 2 was carried out in the following manner.

各々の場合について反応容器に別の3dの触媒前駆体ペレットのサンプルを装填 した。この触媒前駆体を4.45バールの流出圧力でもって100%水素流中に おいて30007時の気体の毎時空間速度で1.5時間にわたり210℃に加熱 し、特性測定の前にこの温度に30分間維持した。Load another 3d sample of catalyst precursor pellets into the reaction vessel for each case. did. This catalyst precursor was placed in a 100% hydrogen stream with an outlet pressure of 4.45 bar. heated to 210°C for 1.5 hours at a gas hourly space velocity of 30,007 hours. and maintained at this temperature for 30 minutes before characterization.

実施例1及び2の一酸化炭素との反応技法を用いて、次の結果が得られた。Using the carbon monoxide reaction technique of Examples 1 and 2, the following results were obtained.

これらの結果を比較すると、実施例1及び2の気体ソーキックステップが、比較 例A及びBのそれぞれ対応するものについて得られた結果と比較して、太き(増 加したルテニウム表面積をもたらすことが示される。Comparing these results, it can be seen that the gas saw kick steps of Examples 1 and 2 Compared to the results obtained for their respective counterparts in Examples A and B, It is shown that this results in increased ruthenium surface area.

寒裏鳳1L立1 これらの実施例においては、触媒のサンプルはそれぞれの場合について実施例1 の反応容器中に装填し、以下のステップにより処理した。Kanuraho 1L standing 1 In these examples, the catalyst sample was in each case Example 1. was loaded into a reaction vessel and processed according to the following steps.

1.0.を含まない4.45バールの窒素を室温において18007時の気体の 毎時の空間速度で反応容器を通過させた。この毎時の気体空間速度は実験の最初 から最後まで維持した。1.0. 4.45 bar of nitrogen without containing gas at room temperature of 18007 hours It passed through the reaction vessel at a space velocity per hour. This hourly gas space velocity is at the beginning of the experiment. It was maintained until the end.

2、N、中0.2%のH8を20℃で24時間にわたり触媒上を流した。2, 0.2% H8 in N, was flowed over the catalyst for 24 hours at 20°C.

3、温度を毎分5℃で140℃まで上昇させ、同時に流入及び流出気体の4、流 入及び流出気体の組成が等しくなった時に、H1含有量を24時間かけて1%ま でゆっくりと増加させた。3. Raise the temperature to 140℃ at 5℃ per minute, and simultaneously increase the flow of inflow and outflow gas. When the composition of the incoming and outgoing gases is equal, the H1 content is reduced to 1% over 24 hours. was slowly increased.

5、温度を毎分0.25℃で160℃まで上昇させて160’Cに4時間保持し た後、流入及び流出気体の組成が等しくなった。5. Raise the temperature to 160°C at 0.25°C per minute and hold at 160'C for 4 hours. After that, the compositions of the incoming and outgoing gases were equal.

6、H8含有量を4時間かけて5%までゆっくりと増加させ、気体流をこの濃度 においてさらに4時間維持した。6. Slowly increase the H8 content to 5% over 4 hours and reduce the gas flow to this concentration. The temperature was maintained for an additional 4 hours.

7、温度を毎分0.25℃で180℃まで上昇させ、この温度にさらに4時間保 った。7. Raise the temperature to 180°C at 0.25°C per minute and keep at this temperature for an additional 4 hours. It was.

8、温度を毎分0.25℃で200℃までさらに上昇させ、次いでその後6時間 から8時間かけてH1含有量を100%まで徐々に増加させた。8. The temperature was further increased to 200°C at 0.25°C per minute, then for the next 6 hours. The H1 content was gradually increased to 100% over 8 hours.

9.100%のH3気体流を200℃においてさらに最低8時間維持した。9. 100% H3 gas flow was maintained at 200° C. for a minimum of 8 additional hours.

10、系に100%N、を20G℃でフラッシングし、続いての吸着調査のため に次いでN8下に25℃まで冷却した。10. Flush the system with 100% N at 20G℃ for subsequent adsorption investigation. It was then cooled to 25° C. under N8.

次いで触媒サンプルを、以下の実験技術を用いて脈流動的モードにおける一酸化 炭素の不可逆的な化学吸着能力により特徴付けた。The catalyst sample was then subjected to monoxidation in a pulsatile mode using the following experimental technique: It was characterized by its irreversible chemisorption ability of carbon.

11、1800/時の毎時の気体空間速度において系を2S℃で純粋なヘリウム によりフラッシングした。11. Pure helium at 2 S °C at a gas hourly space velocity of 1800/hr. Flushing was performed.

12、ヘリウム中5%の一酸化炭素の500μ2のパルスを流動している気体流 中に注入し、反応容器から流出する一酸化炭素の量を熱伝導度検出器により測定 した。次いで触媒サンプルにより吸着されたパルス中の一酸化炭素の量を、50 0μ2の5%の一酸化炭素の標準パルスから得られたピーク値の面積と、吸着後 の流出したものについて得られたピーク値の面積との間の差として計算した。12. Gas stream flowing through 500 μ2 pulses of 5% carbon monoxide in helium The amount of carbon monoxide injected into the reactor and flowing out from the reaction vessel is measured using a thermal conductivity detector. did. The amount of carbon monoxide in the pulse adsorbed by the catalyst sample was then determined by 50 Area of peak value obtained from standard pulse of 5% carbon monoxide at 0μ2 and after adsorption It was calculated as the difference between the area of the peak value obtained for the effluent.

13、吸着がもはや生じていないことが明らかとなるまでステップ12を繰り返 した。得られた結果から、不可逆的に吸着された一酸化炭素の総量を決定した。13. Repeat step 12 until it is clear that adsorption is no longer occurring. did. From the results obtained, the total amount of irreversibly adsorbed carbon monoxide was determined.

吸着の動的脈流モードは不可逆的に吸着された一酸化炭素の量のみを与えるもの であるから、触媒の金属表面積を決定するためには吸着された一酸化炭素の総量 を判定することが重要である。このことは放射性トレーサー法を用いて25℃に おいて、即ち動的脈流実験で用いたのと同じ温度において、静的条件下で1“C −酸化炭素の吸着等墨線を定めることによって達成された。不可逆的に吸着され た一酸化炭素の画分は、触媒サンプルにヘリウム流をフラッシングし、可逆的に 吸着された化学種の除去による表面カウント率の減少を測定することによってめ られた。実験したすべてのサンプルについて、不可逆的に吸着された一酸化炭素 の量は、触媒の総吸着能力の50±2%を示していた。The dynamic pulsatile mode of adsorption gives only the amount of irreversibly adsorbed carbon monoxide. Therefore, to determine the metal surface area of the catalyst, the total amount of carbon monoxide adsorbed is It is important to determine the This was demonstrated using the radioactive tracer method at 25°C. 1 “C under static conditions, i.e. at the same temperature used in the dynamic pulsating flow experiments. -Achieved by determining the adsorption contours of carbon oxide. irreversibly adsorbed The carbon monoxide fraction is reversibly removed by flushing the catalyst sample with a helium stream. This is done by measuring the decrease in surface count rate due to the removal of adsorbed species. It was done. For all samples tested, irreversibly adsorbed carbon monoxide The amount represented 50±2% of the total adsorption capacity of the catalyst.

次いで、上述した動的脈流手法を用いて不可逆的に吸着された一酸化炭素の絶対 量から、還元された触媒における篩出された金属の表面積をめた。各々の場合に ついて、不可逆的に吸着された一酸化炭素のjiハ触媒の一酸化炭素吸着の総能 力の50%であると仮定した。赤外スペクトルにより確認されたところにより一 酸化炭素が線形に吸着されるものとして、また吸着された一酸化炭素の1分子の 面積がが16.8xlO−”n? (16,8人8)であると仮定して、金属の 総表面積を計算した。The absolute value of irreversibly adsorbed carbon monoxide is then determined using the dynamic pulsating flow technique described above. From the amount, the surface area of the sieved metal on the reduced catalyst was calculated. in each case Therefore, the total capacity of carbon monoxide adsorption of the catalyst for irreversibly adsorbed carbon monoxide is Assumed to be 50% of the force. As confirmed by infrared spectrum, Assuming that carbon oxide is adsorbed linearly, and one molecule of adsorbed carbon monoxide Assuming that the area is 16.8xlO-”n? (16,8 people 8), the metal The total surface area was calculated.

2つの異なるバッチから取り出したアルミナ担体の0.5%ルテニウム触媒前駆 体P088/10の4つの部分を実施例3から6において使用した。0.5% Ruthenium Catalyst Precursor on Alumina Support from Two Different Batches Four parts of the body P088/10 were used in Examples 3 to 6.

これらのバッチをサンプルA及びBとして区別する。実施例3及び5に用いた2 つの部分はそれぞれサンプルA及びBからの未還元形態のものであり、他の2つ の実施例4及び6に用いた2つの部分はそれぞれサンプルA及びBからの部分で あって、在来の予還元技術に従い処理した後に空気中に露出しておいたものであ る。得られた結果を以下の表3に示す。These batches are distinguished as Samples A and B. 2 used in Examples 3 and 5 two portions are in unreduced form from samples A and B, respectively; The two parts used in Examples 4 and 6 were from samples A and B, respectively. However, it has been exposed to the air after being treated according to conventional pre-reduction techniques. Ru. The results obtained are shown in Table 3 below.

実施例4の触媒が既に予還元されているという事実を別にすれば同一である実施 例3及び4の結果の比較から、最初の還元ステップを行うところの本発明の方法 が、還元された触媒における露出された金属表面積に対して重要な影響を有する ことが看取される。即ち従来の予還元は恐らくは触媒前駆体における還元可能な ルテニウム含有微結晶の幾らかの凝集を導くものであり、他方本発明の方法はか かる凝集を生ずることはない。実施例6の触媒が在来の予還元ステップを経てい るという事実を別にすれば同一である実施例5及び6からも、同様の結果が観察 される。(実施例3及び5は本発明の範囲に含まれる触媒を例示しているが、実 施例4及び6はそうではない。)比較例CからG この比較例においては、触媒サンプルA及びBのさらに別の部分を実施例1の反 応容器中において従来技術による予還元により処理した。A run that is identical apart from the fact that the catalyst of Example 4 is already prereduced. Comparison of the results of Examples 3 and 4 shows that the method of the invention where the first reduction step is carried out has an important influence on the exposed metal surface area in the reduced catalyst. It is observed that. That is, conventional pre-reduction is probably due to the reducible This leads to some agglomeration of the ruthenium-containing microcrystals, whereas the method of the present invention No such agglomeration occurs. The catalyst of Example 6 was subjected to a conventional pre-reduction step. Similar results were observed from Examples 5 and 6, which are identical apart from the fact that be done. (Examples 3 and 5 illustrate catalysts within the scope of the present invention; Examples 4 and 6 are not. ) Comparative examples C to G In this comparative example, further portions of catalyst samples A and B were added to the reaction mixture of Example 1. The treatment was carried out by pre-reduction according to conventional techniques in a reaction vessel.

この予還元形態は次のステップからなるものであった。This form of pre-reduction consisted of the following steps.

1、4.45バールの水素を1800/時の毎時の気体空間速度において25° Cで反応容器を介して通過させた。1, 4.45 bar hydrogen at 25° at a gas hourly space velocity of 1800/hour C through the reaction vessel.

2、水素の流量を維持したままで、毎分10℃の割合で温度を200℃まで上昇 させた。2. Raise the temperature to 200°C at a rate of 10°C per minute while maintaining the hydrogen flow rate. I let it happen.

3、触媒を最低11時間、これらの条件の下に維持した。3. The catalyst was maintained under these conditions for a minimum of 11 hours.

4、反応容器を100%のN、で200℃においてフラッシングし、このN2流 を維持しながら25℃まで冷却した。4. Flush the reaction vessel with 100% N at 200°C and remove this N2 flow. The mixture was cooled to 25° C. while maintaining the temperature.

5、次いで実施例3から6において説明したCO吸着方法を用いて、金属の表面 積をめた。5. Then, using the CO adsorption method described in Examples 3 to 6, the surface of the metal was Accumulated.

得られた結果を以下の表4に示す。The results obtained are shown in Table 4 below.

実施例3から6の結果とは対照的に、これらの比較例の従来の予還元技術による 処理の後に測定した金属の表面積は、未還元のサンプルと予還元されたサンプル との間で大きな変化を示さなかったことが注目される。これに対して実施例3か ら6において示した本発明の方法を用いると、未還元の触媒前駆体から得られる 金属表面積は予還元されたサンプルからのもののほぼ2倍になる。In contrast to the results of Examples 3 to 6, the conventional pre-reduction techniques of these comparative examples The surface area of the metal measured after treatment is the same for unreduced and pre-reduced samples. It is noteworthy that there was no significant change between the two. On the other hand, Example 3? Using the method of the present invention shown in et al. The metal surface area is almost double that from the pre-reduced sample.

寒亘匠り 実施例3から6に示した一般的な手順に従って以下の触媒サンプルを処理したと ころ、同様に良好な結果が得られた。Takumi Kanwata The following catalyst samples were treated according to the general procedure set forth in Examples 3 to 6. Similar good results were obtained.

アルミナ担体上の0.1%プラチナ アルミナ担体上の0.1%ロジウム アルミナ担体上の0.1%パラジウム カーボン担体上の0.1%ルテニウム カーボン担体上の0.1%プラチナ カーボン担体上の0.1%ロジウム カーボン担体上の0.1%パラジウム 国際調査報告 1−一嘲一−1内4し曹−em−^・崗1−雷φや1PCT/GB901001 30国際調査報告0.1% platinum on alumina support 0.1% rhodium on alumina support 0.1% palladium on alumina support 0.1% ruthenium on carbon support 0.1% platinum on carbon support 0.1% rhodium on carbon support 0.1% palladium on carbon support international search report 1-Ichimoichi-14shi Cao-em-^・Gang 1-Raiφya 1PCT/GB901001 30 International Search Report

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.担体と、約10重量%までの第VIII族の金属からなり、触媒上への一酸 化炭素の吸着により測定して触媒中に存在する第VIII族の金属が少なくとも 約45m2/グラムの第VIII族金属表面積を有することを特徴とする、担体 に支持され促進され還元された第VIII族の金属からなる触媒。1. a support, up to about 10% by weight of a Group VIII metal, and a monoacid on the catalyst. The Group VIII metal present in the catalyst as determined by carbon adsorption is at least A support characterized in that it has a Group VIII metal surface area of about 45 m2/gram. Catalyst consisting of a Group VIII metal supported, promoted and reduced. 2.触媒中の実質的に全ての第VIII族金属含有量が還元された第VIII族 の金属微粒子として存在する、請求項1の触媒。2. Group VIII in which substantially all of the Group VIII metal content in the catalyst has been reduced 2. The catalyst of claim 1, wherein the catalyst is present as fine metal particles. 3.第VIII族の金属がルテニウムからなる、請求項1又は2の触媒。3. 3. A catalyst according to claim 1 or 2, wherein the Group VIII metal comprises ruthenium. 4.担体がアルミナである、請求項1から4の何れか1つの触媒。4. A catalyst according to any one of claims 1 to 4, wherein the support is alumina. 5.触媒のかなりの予還元が検出可能な予還元温度において水素含有雰囲気中で 加熱することにより担体に支持された第VIII族の金属触媒前駆体を予還元処 理する触媒の製造方法であって、前記予還元処理を実行するに先立って、水素欠 乏条件下に触媒前駆体を前記予還元温度よりも低い温度において多量の不活性気 体と少量のみの水素からなる雰囲気中にソーキングすることにより、触媒前駆体 を前予還元処理することを特徴とする方法。5. in a hydrogen-containing atmosphere at a pre-reduction temperature where significant pre-reduction of the catalyst is detectable. The Group VIII metal catalyst precursor supported on the carrier is pre-reduced by heating. 2. A method for producing a catalyst for treating a hydrogen-deficient catalyst prior to performing the pre-reduction treatment. The catalyst precursor is heated under lean conditions with a large amount of inert gas at a temperature below the pre-reduction temperature. catalyst precursor by soaking in an atmosphere consisting of hydrogen and only a small amount of hydrogen. A method characterized by performing a pre-reduction process. 6.周囲温度から前記予還元温度への加熱は水素含有雰囲気中で行われる、請求 項5の方法。6. Heating from ambient temperature to said pre-reduction temperature is carried out in a hydrogen-containing atmosphere. Method of Section 5. 7.予還元温度が約140℃である、請求項5又は6の方法。7. 7. The method of claim 5 or 6, wherein the pre-reduction temperature is about 140<0>C. 8.周囲温度と予還元温度の中間の温度において触媒前駆体が水素含有雰囲気中 に維持される、請求項5から7の何れか1つの方法。8. The catalyst precursor is placed in a hydrogen-containing atmosphere at a temperature intermediate between ambient and pre-reduction temperatures. 8. The method of any one of claims 5 to 7, wherein: 9.触媒前駆体が制御された条件下に、少量のみの水素と多量の1以上の不活性 気体の混合物からなる水素含有気体流中において周囲温度から加熱される、請求 項5から8の何れか1つの方法。9. Under controlled conditions, the catalyst precursor contains only a small amount of hydrogen and a large amount of one or more inerts. claims heated from ambient temperature in a hydrogen-containing gas stream consisting of a mixture of gases; Any one method from items 5 to 8. 10.水素含有気体が少量の水素と多量の窒素からなる実質的に酸素を含まない 混合物である、請求項9の方法。10. The hydrogen-containing gas is essentially oxygen-free and consists of a small amount of hydrogen and a large amount of nitrogen. 10. The method of claim 9, which is a mixture. 11.ソーキングステップが約2バールから約10バールの範囲の圧力で実行さ れる、請求項5から10の何れか1つの方法。11. The soaking step is carried out at a pressure ranging from about 2 bar to about 10 bar. 11. The method of any one of claims 5 to 10. 12.ソーキングステップの間における水素の分圧が約0.0005バールから 約0.0005バールまでの範囲にある、請求項5から11の何れか1つの方法 。12. The partial pressure of hydrogen during the soaking step is from about 0.0005 bar The method according to any one of claims 5 to 11, in the range up to about 0.0005 bar. . 13.触媒前駆体が少量の水素を含有する雰囲気中において周囲温度から約14 0℃まで制御された割合で加熱される、請求項5から12の何れか1つの方法。13. The catalyst precursor is heated from ambient temperature to about 14°C in an atmosphere containing a small amount of hydrogen. 13. A method as claimed in any one of claims 5 to 12, characterized in that it is heated at a controlled rate to 0<0>C. 14.触媒前駆体が常時還元条件下に維持され且つ予還元ゾーンに対する流入及 び流出気体の組成が相互に実質的に同一であるような加熱割合の温度一時間曲線 に従うようにして、触媒前駆体が約140℃から約180℃の範囲にわたって加 熱される、請求項5から13の何れか1つの方法。14. The catalyst precursor is maintained under reducing conditions at all times and there is no flow into the pre-reduction zone. Temperature hourly curves of heating rates such that the compositions of the gases and the effluent gas are substantially the same The catalyst precursor is heated over a temperature range of about 140°C to about 180°C. 14. The method of any one of claims 5 to 13, wherein the method is heated. 15.触媒前駆体を約120℃から約170℃へと加熱するに際して気体の流量 が約400/時から約6000/時の毎時の気体空間速度(0℃及び1バールで 測定)に対応する、請求項5から14の何れか1つの方法。15. Gas flow rate when heating the catalyst precursor from about 120°C to about 170°C is about 400/h to about 6000/h gas hourly space velocity (at 0°C and 1 bar) 15. The method according to any one of claims 5 to 14, corresponding to (measurement). 16.触媒前駆体がルテニウムを含有する、請求項5から15の何れか1つの方 法。16. Any one of claims 5 to 15, wherein the catalyst precursor contains ruthenium. Law. 17.担体がアルミナである、請求項5から16の何れか1つの方法。17. 17. A method according to any one of claims 5 to 16, wherein the support is alumina.
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