JPH0448492A - Semiconductor memory - Google Patents
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- JPH0448492A JPH0448492A JP2152679A JP15267990A JPH0448492A JP H0448492 A JPH0448492 A JP H0448492A JP 2152679 A JP2152679 A JP 2152679A JP 15267990 A JP15267990 A JP 15267990A JP H0448492 A JPH0448492 A JP H0448492A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明はメモリーのビット線のプリチャージ部分を改良
した半導体メモリーに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory in which the precharging portion of the bit line of the memory is improved.
(従来の技術)
従来のそれぞれRAM、ROMの回路例を第13図、第
14図に示す。それぞれのメモリーのビット線には、ビ
ット線をプリチャージする回路11が接続されている。(Prior Art) Examples of conventional RAM and ROM circuits are shown in FIGS. 13 and 14, respectively. A circuit 11 for precharging the bit line is connected to the bit line of each memory.
12〜14はメモリセル内のNチャネルトランジスタで
ある。また従来ては、プリチャージ回路11には、第1
5図のものが使用されている。以下に、上記のメモリー
の読み出し時の動作について説明する。12 to 14 are N-channel transistors within the memory cell. Further, conventionally, the precharge circuit 11 includes a first
The one shown in Figure 5 is used. The operation at the time of reading from the above memory will be explained below.
まず、第14図、第15図の信号゛Bを“L”(低)レ
ベルとし、Pチャネルトランジスタ21をオン、Nチャ
ネルトランジスタ13をオフにする。この時カラムデコ
ーダからの列選択信号入力端子Cか“H” (高)レ
ベルであれば、列選択トランジスタ22かオンし、ビッ
ト線Aは電源VDD近くの電圧(VD D −Vthn
) (Vthnはトランジスタ22のしきい値電圧
)にプリチャージされる。次に、端子Bを“H”レベル
にし、Pチャネルトランジスタ21をオフ、Nチャネル
トランジスタ13をオンにする。ローデコーダにより選
択されたメモリーセルの記憶内容が“H″の時は、ビッ
ト線の電位は変化せず、出力バッファ16から“H”レ
ベルの信号が出力される。そのメモリーセルの記憶内容
が′L”の時には、プリチャージによってrVo D−
vthn Jに充電されたビット線Aの電荷がメモリー
セルを介して放電され、ビット線の電位が出力バッファ
のインバータ15の回路しきい値よりも低くなった時に
、前記記憶内容“L”が出力バッフ716がら出力され
る。第13図に示したRAMにおいてもNチャネルトラ
ンジスタ12が上記Nチャネルトランジスタ13の働き
をすること以外は全く同じ動作をする。First, the signal "B" shown in FIGS. 14 and 15 is set to "L" (low) level, and the P-channel transistor 21 is turned on and the N-channel transistor 13 is turned off. At this time, if the column selection signal input terminal C from the column decoder is at "H" (high) level, the column selection transistor 22 is turned on, and the bit line A is set to a voltage near the power supply VDD (VDD - Vthn
) (Vthn is the threshold voltage of the transistor 22). Next, terminal B is set to "H" level, P channel transistor 21 is turned off, and N channel transistor 13 is turned on. When the stored content of the memory cell selected by the row decoder is "H", the potential of the bit line does not change, and the output buffer 16 outputs a signal at the "H" level. When the memory content of the memory cell is 'L', rVo D-
When the charge on the bit line A charged in vthn J is discharged through the memory cell and the potential of the bit line becomes lower than the circuit threshold of the inverter 15 of the output buffer, the memory content "L" is output. The buffer 716 is output. The RAM shown in FIG. 13 operates in exactly the same way except that the N-channel transistor 12 functions as the N-channel transistor 13 described above.
従って、このようなメモリーの動作速度は、選択された
メモリーセルの記憶内容がLmの時に、プリチャージ後
、ビット線がプリチャージ電圧rVDv −Vthn
Jからインバータ15の回路しきい値vthまで放電さ
れるので時間によって制限される。Therefore, the operating speed of such a memory is such that when the stored content of the selected memory cell is Lm, after precharging, the bit line is at the precharge voltage rVDv -Vthn.
Since it is discharged from J to the circuit threshold value vth of the inverter 15, it is limited by time.
(発明が解決しようとする課題)
メモリー内の記憶内容“L”を読み出す場合、従来では
ビット線AをVDD付近の電圧「VDDVthnJにプ
リチャージしていたため、ビット線Aに蓄積されている
電荷が放電し始めてから、出力バッファのインバータ1
5の回路しきい値よりも低い電圧にその電圧が下がるま
で、多大な時間を要していた。この様子を第12図の破
線で示す。このため動作が低速であった。(Problem to be Solved by the Invention) When reading the stored content "L" in the memory, conventionally the bit line A was precharged to a voltage "VDDVthnJ" near VDD, so the charge accumulated in the bit line A was After starting to discharge, the output buffer inverter 1
It took a long time for the voltage to drop to a voltage lower than the circuit threshold of No. 5. This state is shown by the broken line in FIG. Therefore, the operation speed was slow.
そこで本発明は、メモリーの読み出し動作の高速化を目
的とする。Therefore, an object of the present invention is to speed up the read operation of a memory.
(課題を解決するための手段と作用)
本発明は、ビット線と、前記ビット線の電位を検出して
その論理レベルを判定する出力回路と、プリチャージ用
電圧源と、前記プリチャージ用電圧源からの電圧を列選
択トランジスタを介して伝達してプリチャージ動作を行
うスイッチ手段とを具備し、前記ビット線に与えられる
プリチャージ電位は、メモリー回路の電源電位から前記
列選択トランジスタのしきい値を引いた値よりも低いこ
とを特徴とする半導体メモリーである。(Means and effects for solving the problems) The present invention includes a bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, a precharge voltage source, and the precharge voltage source. switch means for performing a precharge operation by transmitting a voltage from a source via a column selection transistor, and the precharge potential applied to the bit line varies from the power supply potential of the memory circuit to the threshold of the column selection transistor. It is a semiconductor memory characterized by a value lower than the value obtained by subtracting the value.
即ち本発明は、ビット線のプリチャージ電圧を従来の電
圧よりも低い電圧にすることによってメモリーの動作速
度を高速化した。That is, the present invention increases the operating speed of the memory by setting the precharge voltage of the bit line to a voltage lower than the conventional voltage.
(実施例)
前記した様にメモリーの動作速度は、ビット線のプリチ
ャージされた電圧の放電時間に依存しているため、ビッ
ト線へのプリチャージ電圧を低くすれば、動作速度が速
くなることがわかる。第1図はプリチャージ用の電源と
してメモリーの電源電圧VDDから列選択トランジスタ
22のしきい値V thnを引いた電圧よりも低い電圧
源31を接続している。この電[31の電圧をEとすれ
ばrE−Vthn J (<VD o Vthn
)の電圧がビット線Aにプリチャージされることになり
、電源電圧VDDをプリチャージ電源として用いた場合
よりも動作速度が速くなる。(Example) As mentioned above, the operating speed of a memory depends on the discharge time of the precharged voltage on the bit line, so lowering the precharge voltage on the bit line will increase the operating speed. I understand. In FIG. 1, a voltage source 31 lower than the voltage obtained by subtracting the threshold value V thn of the column selection transistor 22 from the memory power supply voltage VDD is connected as a precharge power source. If the voltage of this voltage [31 is E, then rE-Vthn J (<VD o Vthn
) is precharged to the bit line A, and the operating speed becomes faster than when the power supply voltage VDD is used as the precharge power supply.
次に本発明の実施例を第2図に示す。ここではPチャネ
ルトランジスタ21の代わりとして、電源VDDのCM
OSインバータ41とトランスミッションゲート42を
組合わせた回路を用いている。又、CMOSインバータ
43にインバータ41とトランスミッションゲート42
を組合わせた回路を介して帰還をがけている。従ってト
ランスミッションゲート42が導通している時は、イン
バータ43の入力に、これを構成するP、N両トランジ
スタのデイメンジョン比に応した電圧(<VDD)が得
られ、これをプリチャージ電源31に対応するものとし
て用いている。インバータ43のデイメンジョンにより
ビット線Aに「Vo 0−Vthn −aJ ((2
はインバータ43のフィードバックループで降下した分
)の電位を与えることができ、かつプロセスによるイン
バータ15のしきい値のばらつきはインバータ43のし
きい値のばらつきと相殺することができる。Next, an embodiment of the present invention is shown in FIG. Here, as a substitute for the P-channel transistor 21, a CM of the power supply VDD is used.
A circuit combining an OS inverter 41 and a transmission gate 42 is used. In addition, an inverter 41 and a transmission gate 42 are connected to the CMOS inverter 43.
Feedback is provided through a circuit that combines the two. Therefore, when the transmission gate 42 is conductive, a voltage (<VDD) corresponding to the dimension ratio of the P and N transistors constituting the inverter 43 is obtained at the input of the inverter 43, and this is applied to the precharge power supply 31. It is used as a corresponding one. Due to the dimensioning of the inverter 43, the voltage on the bit line A is “Vo 0−Vthn −aJ ((2
(dropped in the feedback loop of the inverter 43), and variations in the threshold value of the inverter 15 due to processes can be offset by variations in the threshold value of the inverter 43.
本発明の別の実施例を第3図に示す。ここでは第2図で
用いた信号Bを制御人力とするトランスミッションゲー
ト42とインバータ43の代わりに信号Bを入力とする
インバータ51と、φ、岡をクロックとするクロックド
インバータ52を、用いている。クロックドインバータ
52には帰還がかけられており、このクロックドインバ
ータ52がオンしている時は、cMosクロックドイン
バータ52を構成するP、N両トランジスタのデイメン
ジョンの比に応じた電圧(<VDD)が得られ、これを
第1図のプリチャージ電源31として用いている。クロ
ックドインバータ52のデイメンジョンによりビット線
に第2図の場合と同様の低電圧を与えることができる。Another embodiment of the invention is shown in FIG. Here, in place of the transmission gate 42 and inverter 43 which are controlled manually using signal B used in FIG. 2, an inverter 51 which receives signal B as input and a clocked inverter 52 whose clock is φ and . Feedback is applied to the clocked inverter 52, and when the clocked inverter 52 is on, a voltage ( <VDD), which is used as the precharge power supply 31 in FIG. The dimension of clocked inverter 52 allows a low voltage to be applied to the bit line as in the case of FIG.
又、プロセスによるインバータ15のしきい値のばらつ
きはインバータ52のしきい値のばらつきと相殺するこ
とができる。Further, variations in the threshold value of the inverter 15 due to the process can be offset with variations in the threshold value of the inverter 52.
次に本発明の別の実施例を第4図に示す。この第4図で
は電源電圧VDDをプリチャージ電源として用いている
。これは、従来用いていた第15図のPチャネルトラン
ジスタ21のドレイン側にダイオード61を順方向接続
し電圧降下させるものである。もし、Nチャネルトラン
ジスタ22がオンしていれば、電圧rVDo VF
VthnJをビット線Aに与えることができる。ここ
で、VFはダイオード61の順方向電圧降下である。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG. In FIG. 4, power supply voltage VDD is used as a precharge power supply. In this case, a diode 61 is forwardly connected to the drain side of the conventionally used P-channel transistor 21 shown in FIG. 15 to lower the voltage. If the N-channel transistor 22 is on, the voltage rVDo VF
VthnJ can be applied to bit line A. Here, VF is the forward voltage drop of the diode 61.
次に、本発明の別の実施例を第5図に示す。ここでは第
4図で用いたダイオード61の代わりに、Nチャネルト
ランジスタ71〜73を直列接続したものであり、これ
らトランジスタのゲートはそれぞれのトランジスタのド
レインと接続されている。この回路により、r V o
D−V thn −V thnVthnjのプリチャ
ージ電源電圧を得ることができ、もしNチャネルトイラ
ンジスタフ2が導通しテイレばヒツト線AにrVDD
4VthnJの電圧を与えることができる。この場合直
列に接続するNチャネルトランジスタは3個とは限らな
い。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG. Here, instead of the diode 61 used in FIG. 4, N-channel transistors 71 to 73 are connected in series, and the gates of these transistors are connected to the drains of the respective transistors. With this circuit, r V o
A precharge power supply voltage of D-V thn -V thnVthnj can be obtained, and if the N-channel toy transistor 2 becomes conductive, rVDD is applied to the human line A.
A voltage of 4VthnJ can be applied. In this case, the number of N-channel transistors connected in series is not limited to three.
次に、本発明の別の実施例を第6図に示す。この回路で
はビット線まで従来使用していた第15図を用いてビッ
ト線入上にrV+:+ D −Vthn jの電圧を与
え、ビット線にダイオード81を順方向接続している。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG. In this circuit, a voltage of rV+:+D-Vthnj is applied to the input of the bit line using the circuit shown in FIG. 15, which has been conventionally used up to the bit line, and a diode 81 is connected to the bit line in the forward direction.
つまり、ダイオード81のアノードにrVDv Vt
hnJの電圧を印加することにヨッテ、fyソー Fl
: rVo D−Vthn −Vp Jの電圧を得るも
のである。ここで、VFはダイオード81の順方向接続
の電圧降下である。従って、ヒツト線Aに[Vp p
−Vthn −VF jの電圧を与えることができる。In other words, rVDv Vt is applied to the anode of the diode 81.
Applying a voltage of hnJ, fyso Fl
: A voltage of rVo D-Vthn -Vp J is obtained. Here, VF is the voltage drop of the forward connection of the diode 81. Therefore, the human line A has [Vp p
A voltage of -Vthn -VF j can be applied.
次に、本発明の別の実施例を第7図に示す。ここでは、
第6図で用いたダイオード81の代わりに、Nチャネル
トランジスタ91,92.93を直列接続している。N
チャネルトランジスタ91〜93のゲートはそれぞれの
Nチャネルトランジスタのトレインに接続されている。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG. here,
In place of the diode 81 used in FIG. 6, N-channel transistors 91, 92, and 93 are connected in series. N
The gates of channel transistors 91-93 are connected to a respective train of N-channel transistors.
ここでは、Nチャネルトランジスタ93の入力に、「V
DDVthnJの電圧を与え、ビット線Aに「■DDV
thn −3Vthn Jの電圧を与えている。又、こ
の場合、直列接続するNチャネルトランジスタは3個と
は限らない。Here, “V” is applied to the input of the N-channel transistor 93.
Apply a voltage of DDVthnJ to bit line A and
A voltage of thn -3Vthn J is applied. Further, in this case, the number of N-channel transistors connected in series is not limited to three.
第8図に別の実施例を示す。ここでは直列トランジスタ
101,102でインバータ103の出力にVDDを与
える。CMOSインバータ103、及びトランスミッシ
ョンゲート104のフィードバックでインバータ103
の入力に「VDD−α」の電圧を得る。これを、トラン
ジスタ22を介して[Vp O−a−Vthn Jとし
、この電圧をビット線Aに与えるものである。Another embodiment is shown in FIG. Here, VDD is applied to the output of an inverter 103 by series transistors 101 and 102. Inverter 103 with feedback of CMOS inverter 103 and transmission gate 104
A voltage of "VDD-α" is obtained at the input of. This voltage is set to [Vp O-a-Vthn J via the transistor 22, and this voltage is applied to the bit line A.
第9図は更に別の実施例で、ここではトランジスタ11
1を介してインバータ103の出力にVDDを与える。FIG. 9 shows yet another embodiment, in which the transistor 11
1 to the output of the inverter 103.
インバータ104、及びトランスミッションゲート10
4のフィードバックループでインバータ103の入力に
rVD D−α」の電圧を得る。これをトランジスタ2
2を介して「VDD−(、−Vthn Jとし、これを
ビット線Aに与えるものである。Inverter 104 and transmission gate 10
A voltage of ``rVD D-α'' is obtained at the input of the inverter 103 through the feedback loop of 4. Transistor 2
2 to "VDD-(, -Vthn J"), and this is applied to the bit line A.
第10図は更に別の実施例で、ここではトランジスタ1
21を介してインバータ103の入力にVDDを与え、
インバータ103の入力を該インバータ103、トラン
スミッションゲート104を介してrVD D〜α」と
し、トランジスタ22を介してビット線AにrVDD
−a−Vthn Jを与えるものである。FIG. 10 shows yet another embodiment, in which transistor 1
Applying VDD to the input of the inverter 103 via 21,
The input of the inverter 103 is connected to rVDD D~α through the inverter 103 and the transmission gate 104, and rVDD is connected to the bit line A through the transistor 22.
-a-Vthn J.
第11図は本発明の更に別の実施例で、ここでは電源V
DDからNチャネルトランジスタ131を介してrVD
o VthnJを得、これをNチャネルトランジスタ
22を介してビット線Aに「VD(、−2Vthn J
を得るもノテアル。FIG. 11 shows yet another embodiment of the invention, in which the power supply V
rVD from DD via N-channel transistor 131
o VthnJ is obtained, and it is applied to the bit line A via the N-channel transistor 22 as "VD(, -2Vthn J
You will also get Noteal.
上記のような各実施例によれば、メモリーのビット線の
プリチャージ状態から論理レベル“0゜までの放電時間
を短くすることによって読み出し速度が速くなる。According to each of the embodiments described above, the read speed is increased by shortening the discharge time from the precharged state of the memory bit line to the logic level "0.degree.".
第12図にビット線の充放電の様子を示す。破線は従来
例、実線は本発明例を示すものである。FIG. 12 shows how the bit line is charged and discharged. The broken line shows the conventional example, and the solid line shows the example of the present invention.
ビット線をrVDo VthnJの電圧にすると放電
時間はτ1となり、本発明例によりビット線に従来より
低い電圧(< VD D −Vthn )を与えれば放
電時間がτ2となり、高速動作となることかわかる。It can be seen that when the bit line is set at a voltage of rVDo VthnJ, the discharge time becomes τ1, and according to the example of the present invention, when a voltage lower than the conventional voltage (< VDD - Vthn) is applied to the bit line, the discharge time becomes τ2, resulting in high-speed operation.
なお本発明は上記実施例のみに限られず種々の応用が可
能である。例えば電位の高低を正方向で考えたが、負方
向で考えてもよい。Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be applied in various ways. For example, although the potential level has been considered in the positive direction, it may also be considered in the negative direction.
以上説明した如く本発明によれば、メモリの読み出し速
度の高速化が図れるものである。As explained above, according to the present invention, it is possible to increase the read speed of the memory.
第1図ないし第11図は本発明の各実施例のトランジス
タ、31・・・低電圧電源、41.4B。
51.103・・・インバータ、42,104・・・ト
ランスミッションゲート、52・・・クロックドインバ
ータ、61.81・・・ダイオード、71〜73゜91
〜93・・・トランジスタ、111,121.131・
・・スイッチングトランジスタ、VDD・・・電源、A
・・・ビット線。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
は同一部詳細図である。
11・・・プリチャージ回路、15・・・インバータ、
16・・・出力バッファ、21.22・・・スイッチン
グD
第
図
Δ
第
図
り
第
図
Δ
第
図
第14図1 to 11 show transistors 31, low voltage power supply, 41.4B of each embodiment of the present invention. 51.103... Inverter, 42,104... Transmission gate, 52... Clocked inverter, 61.81... Diode, 71~73°91
〜93...transistor, 111,121.131・
...Switching transistor, VDD...Power supply, A
...Bit line. The applicant's representative, patent attorney Takehiko Suzue, shows a detailed drawing of the same part. 11... Precharge circuit, 15... Inverter,
16...Output buffer, 21.22...Switching D Fig. Δ Fig. Δ Fig. 14
Claims (1)
論理レベルを判定する出力回路と、プリチャージ用電圧
源と、前記プリチャージ用電圧源からの電圧を列選択ト
ランジスタを介して伝達してプリチャージ動作を行うス
イッチ手段とを具備し前記ビット線に与えられるプリチ
ャージ電位は、メモリー回路の電源電位から前記列選択
トランジスタのしきい値を引いた値よりも低いことを特
徴とする半導体メモリー。 (2)前記プリチャージ用電圧源の電位は前記メモリー
回路の電源電位よりも低いことを特徴とする請求項1に
記載の半導体メモリー。 (3)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してその
論理レベルを判定する出力回路と、前記ビット線に対し
入力端子が接続されたインバータ及びこのインバータの
入力端子と出力端子とを短絡して前記ビット線に、メモ
リー回路の電源電位から列選択トランジスタのしきい値
を引いた値より低いプリチャージを行うスイッチ手段と
を具備したことを特徴とする半導体メモリー。 (4)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してその
論理レベルを判定する出力回路と、前記ビット線に入力
端子が接続され且つその入力端子と出力端子が短絡され
てなり前記ビット線に、メモリー回路の電源電圧から列
選択トランジスタのしきい値を引いた値より低いプリチ
ャージを行うクロックドインバータとを具備したことを
特徴とする半導体メモリー。 (5)前記スイッチ手段にはトランスミッションゲート
を用いたことを特徴とする請求項3記載の半導体メモリ
ー。 (6)前記プリチャージ用電圧源には、メモリー回路の
電源電圧を下げる分圧手段を用いたことを特徴とする請
求項1に記載の半導体メモリー。 (7)前記分圧手段にはPN接合ダイオードを用いたこ
とを特徴とする請求項6に記載の半導体メモリー。 (8)前記分圧手段にはMOSトランジスタを用いたこ
とを特徴とする請求項6に記載の半導体メモリー。 (9)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してその
論理レベルを判定する出力回路と、前記ビット線と出力
回路との間に設けられたダイオードと、メモリー回路の
電源電圧を前記ダイオードと出力回路との間に伝達して
プリチャージ動作を行うスイッチ手段とを具備したこと
を特徴とする半導体メモリー。 (10)前記ダイオードの代わりに、ドレインとゲート
とが短絡されたMOSトランジスタを用いたことを特徴
とする請求項9に記載の半導体メモリ(11)ビット線
と、前記ビット線の電位を検出してその論理レベルを判
定する出力回路を設け、前記ビット線をゲート入力とす
る第1のPチャネルトランジスタと、前記Pチャネルト
ランジスタの制御信号をゲート入力とする第2のPチャ
ネルトランジスタとを、前記ビット線を入力とするイン
バータの出力とメモリー回路の電源との間に直列接続し
、前記インバータの出力を、トランスミッションゲート
を介して前記インバータの入力に帰還をかけたことを特
徴とする半導体メモリー。 (12)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してそ
の論理レベルを判定する出力回路と、前記ビット線をゲ
ート入力とするインバータと、制御信号をゲート入力と
しプリチャージ用電源と前記インバータの出力との間に
接続されたPチャネルトランジスタと、前記インバータ
の出力をトランスミッションゲートを介して前記インバ
ータの入力に帰還をかけた回路とを具備することを特徴
とする半導体メモリー。 (13)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してそ
の論理レベルを判定する出力回路と、前記ビット線を入
力とするインバータと、制御信号をゲート入力としプリ
チャージ用電源と前記インバータの入力との間に接続さ
れたPチャネルトランジスタと、前記インバータの出力
をトランスミッションゲートを介して前記インバータの
入力に帰還をかけた回路とを具備することを特徴とする
半導体メモリー。 (14)ビット線と、前記ビット線の電位を検出してそ
の論理レベルを判定する出力回路と、前記出力回路とプ
リチャージ用電源との間に接続され列選択トランジスタ
と同一チャネル型のトランジスタとを具備することを特
徴とする半導体メモリー。[Scope of Claims] (1) A bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, a precharge voltage source, and a series of voltages from the precharge voltage source. switch means for performing a precharge operation by transmitting the signal through the selection transistor, and the precharge potential applied to the bit line is lower than the value obtained by subtracting the threshold value of the column selection transistor from the power supply potential of the memory circuit. Semiconductor memory characterized by low performance. (2) The semiconductor memory according to claim 1, wherein the potential of the precharge voltage source is lower than the power supply potential of the memory circuit. (3) Short-circuiting a bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, an inverter whose input terminal is connected to the bit line, and the input terminal and output terminal of this inverter. and a switch means for precharging the bit line to a value lower than a value obtained by subtracting a threshold value of a column selection transistor from a power supply potential of a memory circuit. (4) a bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level; an input terminal is connected to the bit line, and the input terminal and output terminal are short-circuited to form the bit line; and a clocked inverter that performs precharging lower than the value obtained by subtracting the threshold value of the column selection transistor from the power supply voltage of the memory circuit. (5) The semiconductor memory according to claim 3, wherein a transmission gate is used as the switch means. (6) The semiconductor memory according to claim 1, wherein the precharge voltage source includes voltage dividing means for lowering the power supply voltage of the memory circuit. (7) The semiconductor memory according to claim 6, wherein a PN junction diode is used for the voltage dividing means. (8) The semiconductor memory according to claim 6, wherein a MOS transistor is used for the voltage dividing means. (9) A bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, a diode provided between the bit line and the output circuit, and a power supply voltage of the memory circuit connected to the diode. What is claimed is: 1. A semiconductor memory comprising switch means for performing a precharge operation by transmitting information between the output circuit and the output circuit. (10) The semiconductor memory according to claim 9, characterized in that a MOS transistor whose drain and gate are short-circuited is used instead of the diode (11) A bit line and a potential of the bit line are detected. a first P-channel transistor whose gate input is the bit line, and a second P-channel transistor whose gate input is a control signal of the P-channel transistor; A semiconductor memory, characterized in that the output of an inverter that receives a bit line as an input is connected in series between the power supply of a memory circuit, and the output of the inverter is fed back to the input of the inverter via a transmission gate. (12) A bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, an inverter that uses the bit line as a gate input, a precharge power source that uses a control signal as a gate input, and the inverter. A semiconductor memory comprising: a P-channel transistor connected between the output of the inverter; and a circuit that feeds back the output of the inverter to the input of the inverter via a transmission gate. (13) A bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, an inverter that receives the bit line as an input, a precharge power supply that uses a control signal as a gate input, and a precharge power supply and the inverter. A semiconductor memory comprising: a P-channel transistor connected to an input; and a circuit that feeds back the output of the inverter to the input of the inverter via a transmission gate. (14) A bit line, an output circuit that detects the potential of the bit line and determines its logic level, and a transistor of the same channel type as the column selection transistor connected between the output circuit and the precharge power supply. A semiconductor memory characterized by comprising:
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