JPH0446312B2 - - Google Patents

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JPH0446312B2
JPH0446312B2 JP59158826A JP15882684A JPH0446312B2 JP H0446312 B2 JPH0446312 B2 JP H0446312B2 JP 59158826 A JP59158826 A JP 59158826A JP 15882684 A JP15882684 A JP 15882684A JP H0446312 B2 JPH0446312 B2 JP H0446312B2
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Takeshi Eguchi
Harunori Kawada
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔技術分野〕 本発明は、電界発光を行なう電界発光素子[エ
レクトロルミネツセンス(EL)素子]に関し、
くわしくは、独立した2つの発光層を有し、これ
らのそれぞれを個々に制御することにより、発光
の色調や強度等を自由に制御することができ、し
かも、十分な輝度を有する3端子EL素子に関す
る。 〔従来技術〕 EL素子は、一般にEL機能を有する材料、すな
わち電界内に置かれた際に光を発する機能を有す
る材料を含む発光層を2つの電極間に配置した構
造を有し、これら電極間に電圧を印加することに
より電界を発生させて電気エネルギーを直接光に
変換して光を発生する発光素子であり、例えば白
熱電球のようにフイラメントを白熱させて発光さ
せる、あるいは蛍光灯のように電気的に励起した
気体が蛍光体にエネルギーを付与して発光させる
などの従来の発光方式とは異なり、薄型のパネル
状、ベルト状、円筒状等の種々の形状の例えば、
ランプや線、図、画像等の表示に用いる表示媒体
の構成部材として、あるいは大面積のパネルラン
プ等の発光体を実現化できる可能性を有するもの
として注目されている。 EL素子に用いられるEL機能を有する材料とし
ては、従来、Mn、CuまたはReF3(Reは希土類を
表わす)等を賦活剤として含むZnS等の無機金属
材料が主に使用されてきており、また、最近で
は、特開昭58−172891公報により、アントラセ
ン、ピレン若しくはペリレンまたはこれらの誘導
体を発光層用材料として用いたEL素子が知られ
ているように、種々の薄膜形成法により精度良い
薄膜の形成が可能である有機化合物材料がEL素
子用の材料として注目されている。 このようなEL素子の発する光の色は、主に、
発光層に使用する材料を適宜選択して組合わせた
り、電界の強度を変化させたりして制御すること
が可能である。 しかしながら、現在知られているEL素子の発
光層を形成することのできる材料を用いてEL素
子を形成した場合、発光の色や強度がある程度限
られてしまい、しかも1つのEL素子に於いて、
発光色を大きく変化させたり、色調を微妙に調節
したり、発光の強弱を自由に制御することはほぼ
困難であつた。 一方、上記のZnSを主体とする無機金属材料を
用いて蒸着法等の薄膜形成法により薄膜の発光層
を形成し、いわゆる薄膜型のEL素子を製造した
場合、製造コストが非常に高くなつてしまうとい
う問題があり、また大面積の均一な薄膜からなる
発光層の形成が非常に困難であるため、品質の良
い大面積のEL素子を量産性良く製造することは
できなかつた。 これに対して、量産性に富み、コスト的に有利
であるEL素子として、上記のZnSを主体とする
EL無機材料を有機バインダー中に分散して発光
層を形成した真性EL方式の有機粉末型EL素子が
知られている。 ところが、この粉末型のEL素子に於いては、
層厚を薄く形成すると、その発光層にピンホール
等の欠陥が生じ易く、発光特性を十分に高めるた
めに、発光層の層厚を一定以上薄くするには構造
上の限界があり、十分な発光、特に高い輝度を得
ることができず、また層厚が比較的厚くなるの
で、より強い電界を発生させるために、電力消費
が多くなるなどの問題点を有していた。この粉末
型のEL素子の有する発光層内に、より強い電界
を発生させるためにフツ化ビニリデン系重合体か
らなる中間誘電体層を設けた改良型の粉末型EL
素子が、特開昭58−172891公報によつて知られて
いるが、輝度、電力消費等に於いて満足のいく性
能が得られていないのが現状である。 前記のアントラセン等の有機材料を用いた、こ
のEL素子に於いても、発光層が精度良い薄膜と
して形成されてはいるものの、キヤリアーである
電子あるいはホールの密度が非常に小さく、キヤ
リアーの移動や再結合等による機能分子の励起確
率が低く、効率の良い発光が得られず、特に電力
消費や輝度の点で満足できるものとなつていない
のが現状である。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、1つのEL素子に於いて発光
色を大きく変化させたり、色調を微妙に調節した
り、発光の強弱を自由に制御することが可能な構
造を有する新規なEL素子を提供することにある。 本発明の他の目的は、EL素子用の種々の材料
を適宣選択し、その材料に最適な薄膜形成法を組
合わせて形成することができ、発光効率が良好で
あり、低電圧駆動でも十分な輝度が得られ、安価
でかつ製造容易な構造を有する新規なEL素子を
提供することにある。 〔発明の構成〕 すなわち、本発明の電界発光素子は、少なくと
も一方が透明である2つの電極層と、これら2つ
の電極層間に設けられた、2つの発光層と、これ
ら2つの発光層間に設けられた透明または半透明
な電極層とを有してなる3端子電界発光素子であ
つて、前記発光層の少なくともいずれか一方が、
相対的に電子受容性を示す有機化合物を含む第1
の層と、相対的に電子供与性を示す有機化合物を
含む第2の層と、電気絶縁性を有する第3の層と
を有し、これらの層が、前記電極層の一方から他
方に向かつて前記第3の層上に前記第1の層、第
2の層及び第3の層がこの順に2回以上繰り返さ
れて積層されてなり、更にこれら第1の層、第2
の層及び第3の層の少なくともいずれか一層が、
単分子膜または単分子累積膜からなるものである
ことを特徴とする。 本発明の3端子電界発光素子(以下、単にEL
素子という)は、一対の電極層間に設けられた2
つの独立した発光層が積層された構造を有し、そ
れぞれの発光層を個々に制御して発光の色や強度
を所望に応じて変化させることが可能であり、ま
た十分な輝度を有する発光を行なうことのできる
ものである。 以下、図面を用いて本発明のEL素子の一例を
詳細に説明する。 第1図は、本発明のEL素子の模式的断面図で
ある。 1,2及び3は電圧が印加されることによつて
電界を発生させるための電極層であり、1は発光
層4と発光層5とで発生した光が合成されて取り
出される透明な電極層である。4及び5は、EL
機能を有する発光層であり、発光層4は、電極層
1と3によつて発生した電界により発光し、発光
層5は電極層2と3によつて発生した電界により
発光する。従つて、電極層3は発光層4と5とに
対して共通電極となつており、発光層5で発生し
た光を発光層4側へ透過させる機能を有し、透明
でも、主に発光層4側へのみ光を透過させるよう
に半透明な層でも良い。 なお、第1図に示した本発明のEL素子の一例
に於いては、電極層1及び電極層2のうち電極層
1が透明電極として設けられているが、電極層2
のみが、あるいはこれら両方が透明であつても良
い。電極層2のみが透明である場合には、電極層
3は、少なくとも発光層4から発光層5側へ光を
透過させる機能を有するように設けられ、また電
極層1及び電極層2の両方が透明である場合に
は、電極層3は発光層4から発光層5側へ光を透
過させるとともに、これと逆芳香にも光を透過で
きるように設けられる。 発光層4と発光層5は、それぞれが同様の機能
を有するものであつても良く、例えば発光色や輝
度が異なるように、それぞれが異なる機能を有す
るものであつても良い。 以下、本発明のEL素子の有する発光層4及び
発光層5の基本的構造について説明する。 発光層4,5は、主に相対的に電子受容性を示
す有機化合物を含む第1の層と、主に相対的に電
子供与性を示す有機化合物を含む第2の層と、電
気絶縁性を有する第3の層とを有し、これらの層
が、前記第3の層上に前記第1の層、第2の層及
び第3の層がこの順に2回以上繰り返されて積層
された基本的構造を有するものである。そして、
発光層4及び発光層5のいずれか一方の有する第
1の層、第2の層及び第3の層のうち少なくとも
1つの層が、該層を形成することのできる有機化
合物の単分子膜または単分子累積膜から形成され
ているものである。 すなわち本発明のEL素子の有する発光層は、
相対的に電子受容性を示す有機化合物(以後EA
化合物と略称する)と、相対的に電子供与性を示
す有機化合物(以後ED化合物と略称する)が互
いに接触する位置に配置された構造を有し、これ
ら化合物が電界中に置かれた時のこれら化合物間
の電子の授受に伴なう励起錯体の形成に基づく発
光作用を主な発光源として有するものであり、し
かもこのような励起錯体が電界の発生とともに効
率良く形成されるのに好適な構造を有するもので
ある。 このような構造の発光層4,5の一例を第2図
の模式的断面図に示す。 25,26は電圧が印加されることによつて電
界を発生させるための電極層であり、20はEL
機能を有する発光層である。第2図に示された電
極層のうち、電極層25は、第1図に示した本発
明のEL素子の電極層3に、また電極層26は該
EL素子の電極層1または2にそれぞれ相当する。 発光層20は、上下両端に積層された絶縁層と
して機能する第3の層23−1,23−3の間
に、第1の層21−1,21−2、第2の層22
−1,22−2及び第3の層23−2が交互に繰
返されて積層された多層構造となつている。な
お、単分子膜または単分子累積膜を有する発光層
の場合には、第1の層21−1,21−2、第2
の層22−1,22−2及び第3の層23−1,
23−2,23−3のうちの少なくとも1つの層
が、該層を形成することのできる有機化合物の単
分子膜あるいはその累積膜から形成されている。 発光層の有する第1の層21−1は、第2の層
22−1に主に含まれる前述したED化合物に対
してEA化合物となり得る化合物を含み、この第
1の層21−1に直接接して積層された第2の層
22−1は、第1の層21−1に主に含まれた
EA化合物に対してED化合物となり得る化合物を
含み、これら第1の層21−1と第2層22−1
の界面24−1がEA化合物とED化合物との接触
面となつている。第1の層21−2と第2の層2
2−2の関係もこれと同様であり、これらの層に
よつて界面24−2が独自に形成されている。 これらの界面24−1,24−2に於いて、電
極1,2に電圧が印加されて発光層3に電界がか
けられたときに、EA化合物とED化合物が励起状
態にある錯体を形成し、この励起錯体が基底状態
に戻る際に、励起状態にある錯体、EA化合物及
び/またはED化合物から励起エネルギーが光と
して発生される。このように、本発明のEL素子
に於ける発光は、この界面24−1,24−2に
於ける発光を主な発光源とするものである。 本発明のEL素子の有する発光層を構成する第
1の層21−1,21−2及び第2の層22−
1,22−2は、以下に示すような電界励起錯体
の形成に直接関与する化合物分子を、または該化
合物分子の少なくとも1つの機能性部分として有
する化合物分子を含有している。 このような電界励起錯体の形成に直接関与する
化合物分子の発光層20内の配置としては、以下
のような組み合わせを代表的なものとして挙げる
ことができる。 (a) 第1の層21−1,21−2と第2の層22
−1,22−2のそれぞれに励起錯体形成に基
づくEL機能を有する(主に発光を行なう)化
合物分子が配置されている。 (b) 第1の層21−1,21−2に励起錯体形成
に基づくEL機能を有する化合物分子が配置さ
れ、これら化合物分子に対して電子供与体とな
り得る化合物(ED化合物)分子がそれぞれ第
2の層22−1,22−2に配置されている。 (c) 第2の層22−1,22−2に励起錯体形成
に基づくEL機能を有する化合物分子が配置さ
れ、これら化合物に対して電子受容体となり得
る化合物(EA化合物)分子がそれぞれ第1の
層21−1,21−2に配置されている。 上記の励起錯体形成に基づくEL機能を有する
化合物としては、高い発光量子効率を持ち、外部
摂動を受け易いπ電子系を有し、容易に電界励起
する有機化合物が好適に用いられる。 このような化合物としては、例えば縮合多環芳
香族炭化水素、p−ターフエニル、2,5−ジフ
エニルオキサゾール、1,4−bis−(2−メチル
スチリル)−ベンゼン、キサンチン、クマリン、
アクリジン、シアニン色素、ベンゾフエノン、フ
タロシアニン、フタロシアニンの金属錯体、ポリ
フイリン、ポルフイリンの金属錯体、8−ヒドロ
キシキノリン、8−ヒドロキシキノリンの金属錯
体、ルテニウム錯体、稀土類錯体及びこれらの化
合物の誘導体、並びに上記以外の複素環式化合物
及びその誘導体、芳香族アミン、芳香族ポリアミ
ン及びキノン構造を有する化合物のなかで励起錯
体形成に基づくEL機能を有する化合物を挙げる
ことができ、これら化合物の中から、相対的に
EA化合物となり得るもの1種以上と、ED化合物
となり得るもの1種以上とを所望に応じて選択し
て組み合わせ、蒸着法、CVD法や後に述べる単
分子累積法等の薄膜形成法を適宣適用して、前記
した第1の層と第2の層の構成(a)を有する発光層
を形成することができる。 更に、上記の励起錯体形成に基づくEL機能を
有する化合物に対して電子受容体または電子供与
体となり得る化合物としては、上記した化合物以
外の複素環式化合物及びその誘導体、芳香族アミ
ン、芳香族ポリアミン、キノン構造を有する化合
物、テトラシアノキノジメタン並びにテトラシア
ノエチレン等を挙げることができ、先に挙げた化
合物とこれら化合物とを適宣選択して組み合わせ
て、前記した第1の層と第2の層の構成(b)または
(c)を有する発光層を形成することができる。 なお、これまで挙げた機能性部分を形成するこ
とのできる化合物は、励起錯体形成に基づかない
発光を行なう機能を備えた化合物であつても良
く、本発明のEL素子に於ける発光は、第1の層
と第2の層の界面24−1,24−2に於ける発
光のみに限定されるものではなく、第1の層21
−1,21−2及び/または第2の層22−1,
22−2内に於いて発光が行なわれる場合をも含
むものであつても良い。 また、第1の層21−1,21−2にはEA化
合物の他に、該EA化合物との電気化学的相互作
用によりEA化合物の電界励起効率を高めたり、
発光色等を制御したり、あるいは第1の層の強度
を高めたり、他の層との接着性を向上させるなど
のための他の成分を含有させても良く、第2の層
についてもこれと同様にED化合物以外の化合物
を含有したものであつても良い。これらのEA化
合物及びED化合物以外の化合物自身もまた、EL
機能を有するものであつても良い。 EA化合物あるいはED化合物との電気化学的相
互作用によりEA化合物の電界励起効率を高める
ことのできるものとしては、EA化合物に対して
電子受容体または電子供与体となり得る化合物、
ED化合物に体して電子受容体または電子供与体
となり得る化合物等を挙げることができる。 このような、化合物としては前記した励起錯体
の形成に基づくEL機能を有する(主に発光を行
なう)化合物、該化合物に対して電子供与体若し
くは電子受容体となり得る化合物、励起エネルギ
ーの移動により、発光体となり得る化合物及びこ
れら化合物分子を機能性部分として少なくとも1
つ有する化合物等を挙げることができ、第1の層
及び第2の層を形成する際には、これらの化合物
の1種以上を、第1の層及び第2の層の主成分と
して用いられる化合物(EA化合物及びED化合
物)に応じて適宣選択して用いることができる。 このような化合物を第1の層及び/または第2
の層に含有させる場合の混合量は、第1の層及び
第2の層に用いられる化合物に応じて異なり、一
概には規定できないが、通常、EA化合物に対し
て電子受容体または電子供与体となり得る第1の
層に含まれる化合物については、EA化合物に対
して、10モル%〜0.1モル%、またED化合物に対
して電子受容体または電子供与体となり得る第2
の層に含まれる化合物については、10モル%〜
0.1モル%程度とされる。 第1の層21−1,21−2及び第2の層22
−1,22−2のうちの少なくとも1つの層を、
該層を構成することのできる化合物の単分子膜ま
たは単分子累積膜として形成する場合には、高秩
序の分子配向と配列を可能とし、超薄膜層を簡易
に形成できる、いわゆる単分子累積法を好適に適
用することができる。 この単分子累積法は、以下のような原理に基づ
くものである。すなわち、例えば分子内に親水性
部分と疎水性部分を有する分子に於いて、両者の
バランス(両親媒性のバランス)が適度に保たれ
ているとき、このような分子の多数が水面上で親
水性部分を下に向けて単分子の層を形成する。こ
の単分子層は二次元系の特徴を有し、これら分子
がまばらに散開しているときは、一分子当たりの
面積Aと表面圧Πとの間に二次元理想気体の式;
ΠA=kT(k;ボルツマン定数、T;絶対温度)
が成り立ち、これら分子は“気体膜”を形成する
が、Aを十分に小さくすると分子間相互作用が強
まりこれら分子は二次元固体の“凝縮膜(または
固体膜)”を形成する。この凝縮膜はガラス等の
基板の表面に移し取ることができ、基板上に超薄
膜の単分子膜またはその累積膜を形成することが
できる。 この方法によれば、単分子膜を形成する分子の
配列される向きは、例えば構成分子の親水性部分
のほぼ全てが基板側に高秩序で配向されるなど、
1つの単分子膜内で一様とすることができる。従
つて、本発明のEL素子の第1の層及び/または
第2の層を単分子膜また単分子累積膜とすること
によつて、単分子膜または単分子累積膜として形
成された層に含まれる励起錯体形成に直接関与す
る化合物分子からなる機能性部分を第1の層と第
2の層の界面に高密度に配置することが可能とな
る。 この単分子累積法に於ける単分子形成用の溶液
としては、種々の溶液を使用することができ、こ
の使用される溶液に応じて、該溶液に対する親媒
性の異なる部分をバランス良く有する単分子膜形
成用化合物を適宣選択して単分子膜を形成するこ
とができる。このような単分子膜形成用の溶液の
中では、安価であり、取り扱いも容易であり、安
全である等の点から水または水を主成分とした溶
液が好適に用いられている。 以下、水または水を主成分とした溶液を用いた
単分子累積法を適用した場合を一例として、本発
明のEL素子の単分子膜を有する発光層の構成に
ついて説明する。 基本的に、本発明のEL素子の発光層の有する
第1の層及び第2の層を形成することのできる化
合物は、前述した機能性部分を形成することので
きる化合物若しくは該化合物分子を機能性部分と
して少なくとも1つ有する化合物である。これら
の化合物のうち単分子膜あるいは単分子累積膜を
形成できる化合物は、例えば機能性部分を1つ有
する単分子膜形成用化合物を例に取ると、機能性
部分を有する分子内の位置によつて、第3図の分
子構造の模式図に示すように、 (a) 機能性部分31が親水性部分32側にある、
−第3図a (b) 機能性部分31が疎水性部分33側にある、
−第3図b (c) 機能性部分31が疎水性部分33と親水性部
分32とのほぼ中間にある −第3図c の3つのタイプに大きく分類される。 これらの化合物の親水性部分32の構成要素と
しては、例えばカルボキシル基及びその金属塩、
アミン塩並びにエステル、スルホン酸基及びその
金属塩並びにアミン塩、スルホンアミド基、アミ
ド基、アミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、4
級アミノ基、オキシアミノ基、オキシイミノ基、
ジアゾニウム基、グアニジン基、ヒドラジン基、
リン酸基、ケイ酸基、アルミン酸基等が挙げら
れ、各々が単独でまたは組み合わされて上記化合
物中の親水性部分32を構成することができる。 また、疎水性部分33の構成要素としては、直
鎖状のまたは分枝を有するアルキル基、ビニレ
ン、ビニリデン、アセチレン等のオレフイン系炭
化水素、フエニル、ナフチル、アントラニル等の
縮合多環フエニル基、ビフエニル等の鎖状多環フ
エニル基等の疎水性を示す基を挙げることがで
き、これらもまた各々が単独でまたは組み合わさ
れて上記化合物中の疎水性部分33を構成するこ
とができる。 一方、本発明のEL素子の単分子膜または単分
子累積膜を有する方の発光層の第1の層と第2の
層の界面24−1,24−2(主に発光が行なわ
れる部分)に於ける単分子膜の配向及び配列は、
第4図は界面24−1付近の模式的断面部分図
(この図の場合第1の層及び第2の層がともに機
能性部分を有する化合物のみからなる単分子膜か
ら形成されている)に示すように、 (1) 第1の層21−1の単分子膜を形成する分子
の機能性部分31を有する親水性部分32と、
第2の層32−1の単分子膜を形成する分子の
機能性部分31′を有する親水性部分32′とが
界面24−1に配向されている。 −第4図a (2) 第1の層21−1の単分子膜を形成する分子
の機能性部分31を有する疎水性部分33と、
第2の層22−1の単分子膜を形成する分子の
機能性部分31′を有する疎水性部分33′とが
界面24−1に配向されている。 −第4図b (3) 第1の層21−1の単分子膜を形成する分子
の機能性部分31を有する疎水性部分33と、
第2の層22−1の単分子膜を形成する分子の
機能性部分31′を有する親水性部分32′とが
界面24−1に配向されている。 −第4図c (4) 第1の層21−1の単分子膜を形成する分子
の機能性部分31を有する親水性部分32と、
第2の層6−1の単分子膜を形成する分子の機
能性部分31′を有する疎水性部分33′とが界
面24−1に配向されている。 −第4図d の4つのパターンに基本的に分けられる。 なお、第4図に示した例は単分子膜を有する方
の発光層の有する第1の層及び第2の層がともに
単分子膜からなるものであるが、もちろん先に述
べたように第1の層のみが、あるいは第2の層の
みが単分子膜から構成されたものであつても良
く、そのような場合、単分子膜でない層は、蒸着
法、CVD法等の薄膜形成法によつて形成された
薄膜層として設けられる。 第4図に示したような発光層の有する界面のパ
ターンを形成するには、先に挙げた単分子膜形成
用化合物のタイプa及びbに属する化合物が好適
に用いられる。また、上記界面のパターン(1)を形
成するには、第1の層及び第2の層に前記タイプ
aに属する化合物を用いるのが、また上記界面の
パターン(2)を形成するには、第1の層及び第2の
層に前記タイプbに属する化合物を用いるのが好
適である。更に、上記界面のパターン(3)を形成す
るには、第1の層に前記タイプaを、第2の層に
前記タイプbに属する化合物をそれぞれ用いるの
が好適であり、上記界面のパターン(4)を形成する
には、第1の層に前記タイプbを、第2の層に前
記タイプaに属する化合物をそれぞれ用いるのが
好適である。 以上説明した例は、第1の層及び第2の層が単
分子膜から形成されている場合であるが、第1の
層5−1,5−2及び/または第2の層6−1,
6−2が単分子累積膜からなる場合に於いても、
第1の層と第2の層の界面が上記のようなパター
ンを取るように、第1の層と第2の層の界面7−
1,7−2を構成する単分子膜を形成すれば良
い。 なお、第1の層5−1,5−2及び/または第
2の層6−1,6−2が単分子累積膜からなる場
合には、累積膜を構成する各単分子膜は、それぞ
れが同一のものであつても良く、また単分子膜の
1つ以上が他の単分子膜と異なるものであつても
良い。更に、単分子累積膜の各単分子膜を形成す
る分子の配向状態による構造は、いわゆるY型
(各膜間に於いて親水性部分と親水性部分または
疎水性部分と疎水性部分とが互いに向きあつた構
造)、X型(各膜の基板側に疎水性部分が向いた
構造)、Z型(各膜の基板側に親水性部分が向い
た構造)及びこれらの変形構造等の種々の構造と
することができる。更に、本発明のEL素子の有
する発光層の第1の層または第2の層に含まれる
単分子膜は、2種以上の化合物によつて形成され
た多成分系単分子膜でも良い。そのような場合、
先に発光層の構成について説明したように、機能
性部分を有する化合物の2種以上を組み合わせ
て、あるいは機能性部分を有する化合物と、機能
性部分を有するものではないが機能性部分を有す
る化合物との相互作用により発光層の、例えば電
気陰性度等の電気化学的特性を制御できるような
化合物との組み合わせであつても良いし、更には
発光層を構成する単分子層の強度を増したり、各
層間の接着性を良くするための他の成分を加えた
ものであつても良い。 このような単分子膜または単分子累積膜の構造
は、所望とする第1の層または第2の層の電気的
特性に応じて、すなわち第1の層または第2の層
を形成する化合物または化合物の組み合わせに応
じて適宣選択すれば良く、例えば前記単分子膜形
成用化合物のタイプa、bまたはcに属する化合
物からなる単分子膜を組み合わせて累積して単分
子膜の面方向に垂直な方向でのπ電子のポテンシ
ヤル曲線を制御すること等ができる。 上記の第1の層21−1,21−2及び/また
は第2の層22−1,22−2を単分子膜若しく
は単分子累積膜として形成するのに用いることの
できる化合物としては、機能性部分を形成するこ
とのできる先に挙げた化合物、若しくは該化合物
の1つ以上を有する化合物の中で、親水性部分と
疎水性部分をバランス良く有している化合物はそ
のまま単分子膜形成用として用いることができ、
そうでないものは、先に挙げたような親水基及
び/または疎水基を新たに分子内に導入し、単分
子膜形成用化合物とすることができる。そのよう
な化合物としては、以下のような構造式で示され
た化合物を挙げることができる。 なお、以下に示す構造式に於いて、X及びY
は、先に挙げたような親水基を表すが、1分子内
にこれらが両方存在する時は、どちらか一方が親
水基であれば良く、そのような場合は他の一方は
水素となる。また、Rは炭素数4〜30程度、好ま
しくは10〜25程度の直鎖状若しくは側鎖を有する
アルキル基を表わす。 これらの化合物の中でNo.1〜No.35の構造式の化
合物は、先に挙げた機能性部分を形成できる化合
物のうち励起錯体の形成に基づくEL機能を有す
る化合物を疎水基及び/または親水基によつて修
飾し、単分子膜形成用化合物としたものである。
なお、No.42〜No.54及びNo.85〜No.86の構造式の化合
物は、機能性部分にアルキル鎖が直接結合した構
造を有するものであるが、アルキル鎖の機能性部
分への結合は、例えばエーテル結合、カルボニル
基を介した結合等によるものであつても良い。 本発明のEL素子の有する発光層のもう1つの
層である第3の層23−1,23−2,23−3
は、絶縁性を有する層であり、特に第3の層23
−1,23−3は本発明のEL素子のコンデンサ
ー構造の絶縁性を高める機能を有し、第3の層2
3−2は、電子の移動を必要最小限の領域内に閉
じ込め、効率良い電子の授受による発光を行なわ
せる機能を有する。これら第3の層もまた蒸着
法、CVD法等の薄膜形成法あるいは単分子累積
法によつて形成することができる。この第3の層
を単分子累積法によつて形成する場合には、精度
良い均一な絶縁性を有する単分子膜からなる層を
形成することのできる一般式; CH3−(CH2o−X、 または (上記式中に於いてnは、10≦n≦30であり、X
は−COOH、−CONH2、−COOR、−N+(CH33
Cl-
[Technical Field] The present invention relates to an electroluminescent device (electroluminescent (EL) device) that performs electroluminescence.
In detail, it is a three-terminal EL element that has two independent light-emitting layers, and by controlling each of these layers individually, the color tone and intensity of light emission can be freely controlled, and also has sufficient brightness. Regarding. [Prior Art] EL devices generally have a structure in which a light-emitting layer containing a material with an EL function, that is, a material that emits light when placed in an electric field, is placed between two electrodes. A light-emitting element that generates light by applying a voltage between them to generate an electric field and converting electrical energy directly into light. Unlike conventional light emitting methods in which a gas electrically excited gives energy to a phosphor and causes it to emit light, it can be used in various shapes such as a thin panel shape, belt shape, cylindrical shape, etc.
It is attracting attention as a component of display media used to display lamps, lines, diagrams, images, etc., or as a material that has the potential to realize light-emitting bodies such as large-area panel lamps. Conventionally, inorganic metal materials such as ZnS containing Mn, Cu, or ReF 3 (Re represents a rare earth) as an activator have been mainly used as materials with an EL function used in EL elements. Recently, EL devices using anthracene, pyrene, perylene, or their derivatives as materials for the light-emitting layer have been disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-172891, and various thin film forming methods have been used to form thin films with high precision. Organic compound materials that can be formed are attracting attention as materials for EL devices. The color of the light emitted by such an EL element is mainly
It is possible to control by appropriately selecting and combining the materials used for the light-emitting layer or by changing the intensity of the electric field. However, when an EL element is formed using materials that can form the light-emitting layer of currently known EL elements, the color and intensity of the emitted light are limited to some extent, and furthermore, in one EL element,
It has been almost difficult to greatly change the color of the emitted light, to subtly adjust the color tone, or to freely control the intensity of the emitted light. On the other hand, when a so-called thin film type EL element is manufactured by forming a thin film emitting layer using a thin film forming method such as vapor deposition using the above-mentioned inorganic metal material mainly composed of ZnS, the manufacturing cost becomes extremely high. There is a problem of storage, and it is extremely difficult to form a light-emitting layer made of a uniform thin film over a large area, so it has not been possible to mass-produce high-quality, large-area EL elements. On the other hand, as an EL element that is easy to mass-produce and is advantageous in terms of cost, the above-mentioned ZnS is mainly used.
An organic powder type EL element of an intrinsic EL type is known, in which a light-emitting layer is formed by dispersing an EL inorganic material in an organic binder. However, in this powder type EL element,
If the layer thickness is thin, defects such as pinholes are likely to occur in the light-emitting layer.There are structural limits to reducing the layer thickness of the light-emitting layer beyond a certain level in order to sufficiently improve the light-emitting characteristics. It is not possible to emit light, especially high brightness, and since the layer thickness is relatively thick, there have been problems such as increased power consumption in order to generate a stronger electric field. This is an improved powder type EL device with an intermediate dielectric layer made of vinylidene fluoride polymer in the light emitting layer of this powder type EL element to generate a stronger electric field.
Although a device is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. 172891/1989, the device currently does not have satisfactory performance in terms of brightness, power consumption, etc. Even in this EL device using organic materials such as anthracene mentioned above, although the emissive layer is formed as a thin film with high precision, the density of carrier electrons or holes is very low, and carrier movement and At present, the probability of excitation of functional molecules due to recombination and the like is low, making it difficult to obtain efficient light emission, and the current situation is that it is not particularly satisfactory in terms of power consumption and brightness. [Objective of the Invention] The object of the present invention is to provide a novel structure that allows a single EL element to greatly change the color of emitted light, finely adjust the color tone, and freely control the intensity of emitted light. The purpose of this invention is to provide an EL device with a high quality. Another object of the present invention is to be able to appropriately select various materials for EL elements and combine them with the optimal thin film formation method to form a thin film, which has good luminous efficiency and can be driven at low voltage. The object of the present invention is to provide a novel EL element that provides sufficient brightness, is inexpensive, and has a structure that is easy to manufacture. [Structure of the Invention] That is, the electroluminescent device of the present invention comprises two electrode layers, at least one of which is transparent, two light-emitting layers provided between these two electrode layers, and a light-emitting layer provided between these two light-emitting layers. A three-terminal electroluminescent device comprising a transparent or semi-transparent electrode layer, at least one of the luminescent layers comprising:
A first compound containing an organic compound that is relatively electron-accepting.
a second layer containing an organic compound relatively exhibiting electron-donating properties, and a third layer having electrically insulating properties, and these layers are arranged in a direction from one of the electrode layers to the other. Once, the first layer, the second layer, and the third layer were repeatedly stacked in this order twice or more on the third layer, and then the first layer, the second layer
At least one of the layer and the third layer is
It is characterized by being composed of a monomolecular film or a monomolecular cumulative film. The three-terminal electroluminescent device (hereinafter simply EL) of the present invention
(referred to as an element) is a two-electrode element provided between a pair of electrode layers.
It has a structure in which two independent light-emitting layers are stacked, and each light-emitting layer can be individually controlled to change the color and intensity of the light emission as desired, and it is also possible to emit light with sufficient brightness. It is something that can be done. Hereinafter, an example of the EL element of the present invention will be explained in detail using the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the EL element of the present invention. 1, 2, and 3 are electrode layers for generating an electric field by applying a voltage, and 1 is a transparent electrode layer from which light generated in the light emitting layer 4 and the light emitting layer 5 is combined and extracted. It is. 4 and 5 are EL
The light emitting layer 4 emits light due to the electric field generated by the electrode layers 1 and 3, and the light emitting layer 5 emits light due to the electric field generated by the electrode layers 2 and 3. Therefore, the electrode layer 3 serves as a common electrode for the light-emitting layers 4 and 5, and has the function of transmitting the light generated in the light-emitting layer 5 to the light-emitting layer 4 side. A semi-transparent layer may be used so that light is transmitted only to the fourth side. In the example of the EL device of the present invention shown in FIG. 1, the electrode layer 1 is provided as a transparent electrode among the electrode layer 1 and the electrode layer 2;
Only or both of these may be transparent. When only the electrode layer 2 is transparent, the electrode layer 3 is provided so as to have the function of transmitting at least light from the light emitting layer 4 to the light emitting layer 5 side, and both the electrode layer 1 and the electrode layer 2 are transparent. When transparent, the electrode layer 3 is provided so as to transmit light from the light-emitting layer 4 to the light-emitting layer 5 side, and also to transmit light to the opposite aroma. The light-emitting layer 4 and the light-emitting layer 5 may each have the same function, or may have different functions, such as emitting different colors and brightness. The basic structures of the light-emitting layer 4 and the light-emitting layer 5 included in the EL element of the present invention will be explained below. The light-emitting layers 4 and 5 consist of a first layer mainly containing an organic compound relatively exhibiting electron-accepting properties, a second layer mainly containing an organic compound relatively exhibiting electron-donating properties, and an electrically insulating layer. and a third layer having the following properties, and these layers are stacked by repeating the first layer, second layer, and third layer in this order two or more times on the third layer. It has a basic structure. and,
At least one layer among the first layer, second layer, and third layer of either the light-emitting layer 4 or the light-emitting layer 5 is a monomolecular film of an organic compound capable of forming the layer, or It is formed from a monomolecular cumulative film. That is, the light emitting layer of the EL element of the present invention is
Organic compounds that exhibit relative electron-accepting properties (hereinafter referred to as EA)
It has a structure in which a relatively electron-donating organic compound (hereinafter referred to as an ED compound) is placed in contact with each other, and when these compounds are placed in an electric field, These compounds have a luminescence effect based on the formation of an exciplex associated with the exchange of electrons between these compounds as a main luminescence source, and are suitable for efficiently forming such an exciplex with the generation of an electric field. It has a structure. An example of the light emitting layers 4 and 5 having such a structure is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 25 and 26 are electrode layers for generating an electric field by applying a voltage, and 20 is an EL layer.
It is a light-emitting layer that has a function. Among the electrode layers shown in FIG. 2, the electrode layer 25 corresponds to the electrode layer 3 of the EL element of the present invention shown in FIG.
This corresponds to electrode layer 1 or 2 of the EL element, respectively. The light-emitting layer 20 includes a first layer 21-1, 21-2, a second layer 22, and a third layer 23-1, 23-3 laminated on both the upper and lower ends and functioning as an insulating layer.
-1, 22-2 and the third layer 23-2 are alternately stacked to form a multilayer structure. In addition, in the case of a light-emitting layer having a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, the first layer 21-1, 21-2, the second layer
layers 22-1, 22-2 and a third layer 23-1,
At least one of the layers 23-2 and 23-3 is formed from a monomolecular film of an organic compound capable of forming the layer or a cumulative film thereof. The first layer 21-1 of the light-emitting layer contains a compound that can be an EA compound with respect to the above-mentioned ED compound mainly contained in the second layer 22-1, and directly The second layer 22-1 stacked in contact with each other was mainly contained in the first layer 21-1.
These first layer 21-1 and second layer 22-1 contain a compound that can be an ED compound with respect to an EA compound.
The interface 24-1 serves as a contact surface between the EA compound and the ED compound. First layer 21-2 and second layer 2
The relationship 2-2 is similar to this, and an interface 24-2 is uniquely formed by these layers. At these interfaces 24-1 and 24-2, when a voltage is applied to the electrodes 1 and 2 and an electric field is applied to the light emitting layer 3, the EA compound and the ED compound form a complex in an excited state. , when this exciplex returns to the ground state, excitation energy is generated as light from the complex, EA compound, and/or ED compound in the excited state. As described above, the main source of light emission in the EL element of the present invention is light emission at the interfaces 24-1 and 24-2. First layers 21-1, 21-2 and second layer 22- constituting the light emitting layer of the EL element of the present invention
1,22-2 contains a compound molecule that directly participates in the formation of a field-excited complex as shown below, or a compound molecule having as at least one functional part of the compound molecule. As for the arrangement of compound molecules directly involved in the formation of such an electric field excited complex in the light emitting layer 20, the following combinations can be cited as typical examples. (a) First layer 21-1, 21-2 and second layer 22
A compound molecule having an EL function (mainly emitting light) based on exciplex formation is arranged at each of -1 and 22-2. (b) Compound molecules having an EL function based on exciplex formation are arranged in the first layers 21-1 and 21-2, and molecules of compounds (ED compounds) that can serve as electron donors for these compound molecules are arranged in the first layers 21-1 and 21-2, respectively. 2 layers 22-1 and 22-2. (c) Compound molecules having an EL function based on exciplex formation are arranged in the second layers 22-1 and 22-2, and molecules of a compound (EA compound) that can act as an electron acceptor for these compounds are placed in the first layer 22-1 and 22-2, respectively. It is arranged in the layers 21-1 and 21-2. As the compound having the EL function based on the formation of an exciplex, an organic compound that has a high luminescence quantum efficiency, has a π-electron system that is susceptible to external perturbation, and is easily excited by an electric field is suitably used. Examples of such compounds include fused polycyclic aromatic hydrocarbons, p-terphenyl, 2,5-diphenyloxazole, 1,4-bis-(2-methylstyryl)-benzene, xanthine, coumarin,
Acridine, cyanine dye, benzophenone, phthalocyanine, metal complex of phthalocyanine, polyphyrin, metal complex of porphyrin, 8-hydroxyquinoline, metal complex of 8-hydroxyquinoline, ruthenium complex, rare earth complex, and derivatives of these compounds, and other than the above Among the heterocyclic compounds and their derivatives, aromatic amines, aromatic polyamines, and compounds with a quinone structure, compounds having an EL function based on exciplex formation can be mentioned.
One or more compounds that can become EA compounds and one or more kinds that can become ED compounds are selected and combined as desired, and thin film formation methods such as vapor deposition, CVD, and single-molecule accumulation methods described later are applied appropriately. In this way, a light-emitting layer having the above-described structure (a) of the first layer and the second layer can be formed. Furthermore, compounds that can serve as electron acceptors or electron donors for the above-mentioned compounds having an EL function based on exciplex formation include heterocyclic compounds other than the above-mentioned compounds and their derivatives, aromatic amines, and aromatic polyamines. , a compound having a quinone structure, tetracyanoquinodimethane, tetracyanoethylene, etc., and by appropriately selecting and combining the above-mentioned compounds and these compounds, the above-mentioned first layer and second layer can be formed. Layer composition (b) or
A light emitting layer having (c) can be formed. Note that the compounds that can form the functional moieties mentioned above may be compounds that have a function of emitting light that is not based on exciplex formation, and the light emission in the EL element of the present invention is caused by the The light emission is not limited to only at the interfaces 24-1 and 24-2 between the first layer 21 and the second layer.
-1, 21-2 and/or second layer 22-1,
It may also include a case where light is emitted within 22-2. In addition to the EA compound, the first layers 21-1 and 21-2 also contain EA compounds that increase the electric field excitation efficiency of the EA compound through electrochemical interaction with the EA compound.
Other components may be included to control the luminescent color, increase the strength of the first layer, improve adhesion with other layers, etc., and the second layer may also contain other components. Similarly, it may contain compounds other than ED compounds. Compounds other than these EA compounds and ED compounds also have EL
It may be something that has a function. Compounds that can increase the field excitation efficiency of EA compounds through electrochemical interaction with EA compounds or ED compounds include compounds that can act as electron acceptors or electron donors for EA compounds;
Compounds that can be incorporated into the ED compound and serve as electron acceptors or electron donors can be mentioned. Such compounds include compounds that have an EL function (mainly emit light) based on the formation of an exciplex described above, compounds that can act as electron donors or acceptors for the compound, and compounds that can act as electron donors or acceptors for the compound, and by transfer of excitation energy, At least one compound that can be a light emitter and a functional moiety of these compound molecules
When forming the first layer and the second layer, one or more of these compounds can be used as the main component of the first layer and the second layer. It can be appropriately selected and used depending on the compound (EA compound and ED compound). Such a compound may be added to the first layer and/or the second layer.
The amount to be mixed in the EA layer varies depending on the compounds used in the first layer and the second layer, and cannot be unconditionally specified, but usually, the amount of the EA compound added to the EA compound is an electron acceptor or an electron donor. Regarding the compound contained in the first layer that can act as an electron acceptor or electron donor for the EA compound, the amount is 10 mol% to 0.1 mol% for the EA compound, and the second layer that can act as an electron acceptor or electron donor for the ED compound
For compounds contained in the layer, 10 mol%~
It is estimated to be around 0.1 mol%. First layer 21-1, 21-2 and second layer 22
-1, 22-2 at least one layer,
When forming the layer as a monomolecular film or a monomolecular cumulative film of a compound capable of forming the layer, the so-called single-molecule cumulative method enables highly ordered molecular orientation and arrangement and easily forms an ultra-thin film layer. can be suitably applied. This single molecule accumulation method is based on the following principle. In other words, for example, in a molecule that has a hydrophilic part and a hydrophobic part, when the balance between the two (amphipathic balance) is maintained appropriately, many of these molecules will be hydrophilic and hydrophobic on the water surface. Form a monomolecular layer with the sexual part facing down. This monomolecular layer has the characteristics of a two-dimensional system, and when these molecules are sparsely dispersed, the two-dimensional ideal gas equation is expressed between the area A per molecule and the surface pressure Π.
ΠA=kT (k: Boltzmann constant, T: absolute temperature)
holds true, and these molecules form a "gas film." However, when A is made sufficiently small, the intermolecular interaction becomes stronger, and these molecules form a two-dimensional solid "condensation film (or solid film)." This condensed film can be transferred to the surface of a substrate such as glass, and an ultra-thin monomolecular film or a cumulative film thereof can be formed on the substrate. According to this method, the molecules forming the monolayer are arranged in such a way that, for example, almost all of the hydrophilic parts of the constituent molecules are oriented toward the substrate in a highly ordered manner.
It can be made uniform within one monolayer. Therefore, by making the first layer and/or the second layer of the EL element of the present invention a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, the layer formed as a monomolecular film or a monomolecular cumulative film can be It becomes possible to arrange the functional portion, which is comprised of compound molecules directly involved in the formation of an exciplex, at a high density at the interface between the first layer and the second layer. Various solutions can be used as a solution for forming a single molecule in this single molecule accumulation method, and depending on the solution used, a well-balanced number of molecules having different affinity for the solution can be used. A monomolecular film can be formed by appropriately selecting a compound for forming a molecular film. Among such solutions for forming a monomolecular film, water or a solution containing water as a main component is preferably used because it is inexpensive, easy to handle, and safe. The structure of the light-emitting layer having a monomolecular film of the EL element of the present invention will be described below, taking as an example the case where a monomolecular accumulation method using water or a solution containing water as a main component is applied. Basically, the compound that can form the first layer and the second layer of the light-emitting layer of the EL device of the present invention is a compound that can form the above-mentioned functional portion or a compound that can function as a compound molecule. A compound having at least one sexual moiety. Among these compounds, compounds that can form a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, for example, take a compound for forming a monomolecular film that has one functional moiety, depending on the position within the molecule that has the functional moiety. Therefore, as shown in the schematic diagram of the molecular structure in FIG. 3, (a) the functional part 31 is on the hydrophilic part 32 side,
- Figure 3a (b) The functional part 31 is on the hydrophobic part 33 side,
- Fig. 3b (c) Functional part 31 is located approximately midway between hydrophobic part 33 and hydrophilic part 32 - Broadly classified into three types as shown in Fig. 3c. Components of the hydrophilic portion 32 of these compounds include, for example, carboxyl groups and metal salts thereof;
Amine salts and esters, sulfonic acid groups and their metal salts and amine salts, sulfonamide groups, amide groups, amino groups, imino groups, hydroxyl groups, 4
grade amino group, oxyamino group, oxyimino group,
Diazonium group, guanidine group, hydrazine group,
Examples include a phosphoric acid group, a silicic acid group, and an aluminate group, and each of them can be used alone or in combination to constitute the hydrophilic portion 32 in the above compound. Further, as the constituent elements of the hydrophobic portion 33, linear or branched alkyl groups, olefinic hydrocarbons such as vinylene, vinylidene, and acetylene, fused polycyclic phenyl groups such as phenyl, naphthyl, and anthranyl, and biphenyl Hydrophobic groups such as chain polycyclic phenyl groups can be mentioned, and these can also constitute the hydrophobic moiety 33 in the above compound either alone or in combination. On the other hand, interfaces 24-1 and 24-2 between the first layer and the second layer of the light-emitting layer having a monomolecular film or a monomolecular cumulative film of the EL element of the present invention (portions where light is mainly emitted) The orientation and arrangement of the monolayer in
FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of the vicinity of the interface 24-1 (in this figure, both the first layer and the second layer are formed from a monomolecular film consisting only of a compound having a functional portion). As shown, (1) a hydrophilic portion 32 having a functional portion 31 of molecules forming a monolayer of the first layer 21-1;
A hydrophilic portion 32' having a functional portion 31' of molecules forming a monolayer of the second layer 32-1 is oriented at the interface 24-1. - FIG. 4a (2) A hydrophobic portion 33 having a functional portion 31 of molecules forming a monolayer of the first layer 21-1;
A hydrophobic portion 33' having a functional portion 31' of molecules forming a monolayer of the second layer 22-1 is oriented at the interface 24-1. - FIG. 4b (3) a hydrophobic portion 33 having a functional portion 31 of molecules forming a monolayer of the first layer 21-1;
A hydrophilic portion 32' having a functional portion 31' of molecules forming a monolayer of the second layer 22-1 is oriented at the interface 24-1. - FIG. 4c (4) A hydrophilic portion 32 having a functional portion 31 of molecules forming a monomolecular film of the first layer 21-1;
Hydrophobic portions 33' having functional portions 31' of molecules forming a monolayer of the second layer 6-1 are oriented at the interface 24-1. - It can be basically divided into four patterns as shown in Figure 4d. Incidentally, in the example shown in FIG. 4, both the first layer and the second layer of the light-emitting layer having a monomolecular film are made of a monomolecular film, but as mentioned earlier, of course, Only one layer or only the second layer may be composed of a monomolecular film, and in such a case, the layer that is not a monomolecular film cannot be formed by a thin film forming method such as vapor deposition or CVD. It is provided as a thin film layer formed in this way. In order to form the interface pattern of the light-emitting layer as shown in FIG. 4, compounds belonging to types a and b of the monomolecular film forming compounds listed above are preferably used. Further, in order to form the above-mentioned interface pattern (1), it is preferable to use a compound belonging to the above-mentioned type a in the first layer and the second layer, and to form the above-mentioned interface pattern (2), It is preferable to use a compound belonging to type b in the first layer and the second layer. Furthermore, in order to form the above-mentioned interface pattern (3), it is preferable to use the compound belonging to the type a in the first layer and the compound belonging to the type b in the second layer, and form the above-mentioned interface pattern (3). In order to form 4), it is preferable to use a compound belonging to type b in the first layer and a compound belonging to type a in the second layer. In the example explained above, the first layer and the second layer are formed from a monomolecular film, but the first layer 5-1, 5-2 and/or the second layer 6-1 ,
Even when 6-2 is composed of a monomolecular cumulative film,
The interface between the first layer and the second layer 7-
What is necessary is to form a monomolecular film constituting 1 and 7-2. In addition, when the first layer 5-1, 5-2 and/or the second layer 6-1, 6-2 consists of a monomolecular cumulative film, each monomolecular film constituting the cumulative film is may be the same, or one or more of the monolayers may be different from the other monolayers. Furthermore, the structure of the monomolecular cumulative film due to the orientation state of the molecules forming each monolayer is the so-called Y type (between each film, a hydrophilic part and a hydrophilic part or a hydrophobic part and a hydrophobic part are mutually separated). Various types of structures are available, such as the X-type (a structure in which the hydrophobic part of each film faces the substrate side), the Z-type (a structure in which the hydrophilic part of each film faces the substrate side), and variations thereof. It can be a structure. Further, the monomolecular film included in the first layer or the second layer of the light emitting layer of the EL element of the present invention may be a multicomponent monomolecular film formed of two or more kinds of compounds. In such a case,
As explained above about the structure of the light emitting layer, a combination of two or more types of compounds having a functional moiety, or a compound having a functional moiety and a compound having a functional moiety but not having a functional moiety. It may be a combination with a compound that can control the electrochemical properties of the light-emitting layer, such as electronegativity, by interaction with the light-emitting layer, or it may further increase the strength of the monomolecular layer that makes up the light-emitting layer. , other components may be added to improve adhesion between each layer. The structure of such a monomolecular film or a monomolecular cumulative film depends on the desired electrical properties of the first layer or the second layer, that is, the structure of the compound forming the first layer or the second layer or An appropriate selection may be made depending on the combination of compounds, for example, monolayers made of compounds belonging to type a, b, or c of the monolayer-forming compounds are combined and accumulated to form a layer perpendicular to the surface direction of the monolayer. It is possible to control the potential curve of π electrons in various directions. Compounds that can be used to form the first layers 21-1, 21-2 and/or the second layers 22-1, 22-2 as a monomolecular film or a monomolecular cumulative film include Among the above-mentioned compounds capable of forming a hydrophilic moiety or compounds having one or more of these compounds, compounds having a good balance of hydrophilic moieties and hydrophobic moieties can be used as is for monolayer formation. It can be used as
If this is not the case, a hydrophilic group and/or a hydrophobic group such as those mentioned above can be newly introduced into the molecule to form a compound for forming a monomolecular film. Examples of such compounds include compounds represented by the following structural formulas. In addition, in the structural formula shown below, X and Y
represents a hydrophilic group as mentioned above, but when both of these exist in one molecule, it is sufficient that one of them is a hydrophilic group, and in such a case, the other one is hydrogen. Further, R represents a linear or side chain alkyl group having about 4 to 30 carbon atoms, preferably about 10 to 25 carbon atoms. Among these compounds, the compounds with structural formulas No. 1 to No. 35 are compounds that have an EL function based on the formation of an exciplex among the compounds that can form the functional moiety listed above, by combining them with hydrophobic groups and/or It is modified with a hydrophilic group to form a monomolecular film-forming compound.
The compounds with structural formulas No. 42 to No. 54 and No. 85 to No. 86 have a structure in which an alkyl chain is directly bonded to a functional moiety; The bond may be, for example, an ether bond, a bond via a carbonyl group, or the like. Third layer 23-1, 23-2, 23-3 which is another layer of the light emitting layer of the EL element of the present invention
is a layer having insulating properties, especially the third layer 23
-1 and 23-3 have the function of increasing the insulation of the capacitor structure of the EL element of the present invention, and the third layer 2
3-2 has a function of confining the movement of electrons within a necessary minimum area and emitting light by efficient exchange of electrons. These third layers can also be formed by a thin film formation method such as a vapor deposition method or a CVD method, or a single molecule accumulation method. When this third layer is formed by the monomolecular accumulation method, the general formula that allows formation of a monomolecular film with precise and uniform insulation properties is: CH 3 − (CH 2 ) o -X, or (In the above formula, n is 10≦n≦30, and
are −COOH, −CONH 2 , −COOR, −N + (CH 3 ) 3
Cl- ,

【式】【formula】

【式】 等の基を表わす)で示される化合物等の1種以上
を第3の層形成用材料として用いることができ
る。 また、蒸着法によつて形成する場合には、上記
の化合物またはSiO2等の無機化合物の1種以上
を第3の層形成用材料として用いることができ
る。 第3の層を単分子累積膜として形成した場合に
は、各単分子膜が同一であるものでも、各単分子
膜のうち1つ以上が他の単分子膜と異なるもので
あつても良い。 なお、これまで第2図及び第3図を用いて第1
の層と第2の層によつて形成された界面を2つ有
する本発明のEL素子について説明してきたが、
本発明のEL素子の有する発光層20の界面の数
は、これに限定されることなく、3つ以上であつ
ても良い。 以上のような構造の本発明のEL素子の発光層
20を形成する各層の層厚は、EL素子の有する
界面の数や各層自身の構成によつても各々異なる
が、第1の層については、500Å以下、好ましく
は200Å以下、第2の層については、500Å以下、
好ましくは200Å以下、第3の層については、500
Å以下、好ましくは200Å以下、更に発光層全体
の層厚としては、5000μm以下、好ましくは3000
Å以下とするのが低電圧駆動に於いても良好な発
光状態を得るために望ましい。 以上、第2図及び第3図を用いて説明した構造
の発光層20から、本発明EL素子が所望のEL機
能を有するように、同一の機能を有するものを2
つ、あるいは発光色や輝度が異なるような、異な
る機能を有するものを2つ選択し、発光層4及び
発光層5として、本発明のEL素子を形成するこ
とができる。 本発明のEL素子の有する2つの電極層1,2
は、前述したように少なくともどちらか一方が、
光を取り出すための透明電極として設けられる。 透明電極として電極層を形成する場合には、
PMMA、ポリエステル等のフイルムまたはシー
ト、あるいはガラス板等の透明な基板上にInO2
SnO2、インジユウムテインオキサイド(I.T.O)
等を蒸着法等によつて積層して、あるいはこれら
の材料を発光層に直接積層して形成することがで
きる。 電極層3は、透明電極として、あるいは電極層
の厚さ方向の一方向のみに光を透過する半透明電
極として設けられる。電極層3が透明電極として
設けられる場合には、前記した透明電極形成用材
料を用いて、形成された発光層4または発光層5
上に形成すれば良い。電極層3が半透明電極とし
て設けられる場合には、光の透過方向を考慮し
て、I.T.O、Au、InO2、SnO2等の材料を用いて、
形成された発光層4または発光層5上に形成すれ
ば良い。 また、透明でない電極層は、十分な導電性を有
する通常の電極を形成することのできる材料から
なる薄板や、適当な基板上に若しくは形成された
発光層上に直接Al、Ag、Au等を蒸着法等によつ
て積層して形成することができる。 これら電極層の厚さは、0.01μm〜0.3μm程度、
好ましくは0.05μm〜0.2μm程度とされる。 なお、本発明のEL素子の形状及び大きさは、
所望により種々の形状とすることができ、例えば
透明電極を形成するときの基板を発光層形成用基
板とし、この基板として板状、ベルト状、円筒状
のものを用いる等して所望の形状及び大きさとす
ることができる。また、3つの電極層1,2,3
は、所望により、種々の形状にパターンニングさ
れたものであつても良い。 以上のような構成の本発明EL素子に於いては、
例えば、該EL素子の2つの電極1,3間及び電
極2,3間に、例えば発光層4,5のそれぞれに
1×105〜3×106程度の電界がかかるように、直
流または交流、あるいはパルス電圧を印加するこ
とにより、良好な発光を透明電極1を通じて得る
ことができる。また、発光層4と発光層5に発光
色や輝度の異なる2つの発光層用いて、電極1,
3間の電圧と電極2,3間の電圧をそれぞれ独自
に制御して透明電極1からの光の色及び強度を広
範囲にわたつて変化させることもできる。 以下、本発明のEL素子の発光層を有する単分
子膜または単分子累積膜の形成に適用するラング
ミユーア・ブロジエツト法(LB法)に代表され
る単分子累積法の代表的な操作を説明する。 単分子膜を形成させるための水相を水槽中に設
け、該水相内に洗浄な基板を浸漬さておく。次
に、単分子膜形成用化合物の適当な溶剤に溶解ま
たは分散した溶液の所定量を、水相中に展開し、
この化合物を水相表面に膜状に析出させる。この
時、この析出物が水相上を自由に拡散して広がり
すぎないように、仕切り板(または浮子)を設け
て展開面積を制限して膜物質の集合状態を制御
し、その集合状態に比例した表面圧Πを得る。そ
して、仕切り板を作動させ、展開面積を縮少し、
表面圧Πを徐々に上昇させ、単分子膜の形成に適
した表面圧Πに設定する。ここで、この表面圧Π
を維持させながら静かにすでに浸漬しておいた基
板を、水相面に垂直な方向に上下させると、基板
の上方への移動と下方への移動ごとに単分子膜が
基板上に移し取られ、単分子累積膜が形成され
る。 単分子膜を基板上に移し取るには、上述した垂
直浸漬法の他に、基板を水相面とを平行に保ちな
がら水平に接触させる水平付着法、円筒型の基体
を水面上を回転させて単分子膜を基体表面に移し
取る回転円筒法、あるいは基板ロールから水相中
に基板を押し出してゆく方法などの種々の方法が
適用できる。上記垂直浸漬法では、通常基板の引
上げ工程と浸漬工程とで成膜分子の配向が逆にな
るので、いわゆるY型膜が形成される。また、水
平付着法によれば、疎水基が基板側に向いた単分
子膜が形成され、累積膜とした場合、いわゆるX
型膜が形成される。しかしながら、このような親
水基や疎水基の向きは、基板の表面処理等によつ
て変化させることも可能である。 更に単分子累積法によつて単分子膜を形成する
際の水相のPH、水相のPH等を調整するための添加
剤の種類及びその量、水相の温度、基板の上げ下
げ速度または表面圧等の操作条件は、使用される
単分子膜形成用化合物の種類、形成しようとする
膜の特性等に応じて適宣選択すれば良い。 以上のような単分子累積法と他の蒸着法等の薄
膜形成法とによつて、例えば以下のようにして本
発明のEL素子を形成することができる。 まず、前述したような透明電極層の設けられて
いる基板上に前記した第3の層形成用材料を用い
て所望の構成のらなる第3の層を形成させ、更に
前記した第1の層、第2の層を形成することので
きる材料を用いて所望の構成を第1の層、第2の
層をこの順に先に形成した第3の層上に積層す
る。つぎにこの第2の層上に第3の層を積層し、
所望とする第1の層と第2の層の界面の数に応じ
て、この第1の層〜第3の層の形成操作を2回以
上繰返して発光層4を形成する。 このように発光層4が形成されたところで、発
光層4の最上部に位置する第3の層上に、Au等
の金属を蒸着法等によつて積層して、半透明の電
極層3を形成する。 更に、電極層3上に、発光層4の形成と同様に
して、発光層4と同一の材料を、あるいは異なる
材料を用いて発光層5を形成し、最後に発光層5
の有する第3の層上に、Al、Ag、Au等の金属を
蒸着法等によつて積層して、本発明のEL素子を
形成することができる。 なお、2つの電極がともに透明である場合に
は、発光層4,5形成用の透明基板に上述の材料
によつて透明電極層を形成し、発光層5の形成が
終了した後に透明電極層を積層すれば良い。 以上のようにして本発明のEL素子を形成する
際に、発光層4及び発光層5の有する第1の層、
第2の層及び第3の層の各層は、これらの層を形
成するための材料と、これら材料に適応した薄膜
形成法によつて形成され、かつ発光層4及び発光
層5のいずれか一方が、単分子累積法によつて形
成された単分子膜または単分子累積膜を有する多
層構造として形成される。その際、上記の操作に
於いて、発光層4及び発光層5のいずれか一方の
有する第1の層、第2の層及び第3の層のうちの
少なくとも1つの層を単分子累積法を用いて形成
すれば良い。 また、本発明のEL素子の発光層を有する複数
の第1の層は、それぞれが同一の構成を有するも
のでも良く、複数の第1の層のうち1つ以上の第
1の層の構成が他の第1の層の構成と異なるもの
であつても良く、これは第2の層及び第3の層に
ついても同様である。また、本発明のEL素子を
構成する各層間には、各層の接着性を高めるため
に、接着層を設けることもできる。更に本発明の
EL素子には、空気中の湿気や酸素による影響か
ら素子を保護するための保護構造を設けることが
望ましい。 以上のような本発明のEL素子は、それぞれ独
立して制御可能な2つの発光層を有し、これら発
光層を個々に制御して、発光色を変化させたり、
色調を微妙に調節したり、発光の強弱を自由に制
御することが可能となつた。 更に、本発明のEL素子の有する発光層は、電
気化学的性質の異なる2つの層の界面で主に発光
を行ない、しかもそのような界面がEL素子の光
の取り出し方向に対して複数設けられた構造を有
し、光の取り出し面の単位あたりの発光量が従来
のEL素子に比べて非常に増大したものとなつた。 また、本発明のEL素子に於いては、主に発光
を行なう複数の界面について、該界面を構成する
2つの層の構成を界面ごとに変え、これらを組合
わせて、発光色等を所望に応じて制御することも
可能となつた。 これらに加えて、本発明のEL素子の有する発
光層は、主に有機化合物材料と、その材料に適し
た薄膜形成とが組み合わせて形成され、上記のよ
うに発光を行なう界面を複数有した多層構造とな
つているにもかかわらず、発光層全体の層厚がよ
り薄く形成されており、低電圧駆動でも効率良い
発光状態が得られ、十分な輝度が得られるものと
なつた。 特に、単分子膜を有する発光層に於いては、発
光層を構成する各層の少なくとも1つの層を単分
子膜または単分子累積膜として形成したことによ
つて発光層全体の層厚を更により薄く形成されて
おり、また、発光層を単分子累積膜として形成し
た場合には発光層の層厚を非常に薄くすることが
でき、上記の効果を更に高めることができた。 しかも、本発明のEL素子の有する発光層に於
いては、単分子膜または単分子累積膜によつて第
1の層及び/または第2の層を形成した場合に
は、発光に直接関与する化合物の機能性部分が、
高い秩序を持つて精度良く、第1の層と第2の層
の界面に向いて配向、配列され、より効率良い電
子の授受に伴なう励起錯体の形成に基づく発光が
更に、本発明のEL素子の発光層の各層は、主に
種々の有機化合物材料によつて精度良い薄膜とし
て簡易に形成可能であり、特に単分子膜または単
分子累積膜として形成された場合の第1の層、第
2の層または第3の層は、ほぼ常温、常圧で形成
することができ、これらの層の形成には、蒸着法
等に使用することのできない熱に弱い材料化合物
をも使用することができ、本発明のEL素子は安
価で量産性のあるEL素子となつた。 また、本発明のEL素子は、大面積のEL素子と
して形成した場合でも、発光層が精度良く形成さ
れたものとなり、大面積のEL素子としても良好
な機能を有するものとなつた。 以下、参考例及び実施例を用いて本発明のEL
素子を更に詳細に説明する。 参考例 1 〔発光層No.1及びNo.2の形成〕 50mm角のガラス表面上にスパツタリング法によ
り膜厚1500ÅのI.T.O層を形成し、これを発光層
形成用基板とした。この基板をJoyce−Loebel社
製のLangmuir−Trough4内の、4×10-4mol/
のCdCl2を含有することによりPHが6.5に調整さ
れた水相中に浸漬した。 次に、アラキジン酸をクロロホルムに1×
10-3mol/の濃度で溶解した溶液の0.5mlを、前
記水相上に展開させた。クロロホルムを水相表面
から蒸発除去した後、水相表面圧を30dyne/cm
に調整し、膜状のアラキジン酸を水相面に析出さ
せた。 更に、表面圧を一定に保ちながら、基板を水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに引上
げ、第3の層としてのアラキジン酸分子からなる
単分子膜絶縁層を基板の電極層上に形成し、これ
を水相外へ引上げ、30分以上室温で放置して乾燥
させた。 ここで、水相表面に残つたアラギジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、アラキジン酸から
なる単分子絶縁層の形成された基板を再び水相中
に浸漬させた後、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで基板を水面を横
切る方向に2cm/minの速度で静かに引上げ、上
記化合物分子からなる単分子膜を第2の層として
絶縁層上に形成した。次に、この基板を水相外に
引出し、再び30分以上室温で放置して乾燥させ
た。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、基板を水相内に浸漬し、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで基板を水面を横
切る方向に2cm/minの速度で静かに引上げ、上
記化合物分子からなる単分子膜を第1の層として
第2の層上に形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を16回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を16個有する発光層No.
1(層厚;約1600Å)を形成した。 更に、第3の層から第2の層までの形成操作を
12回繰返す以外は上記の操作と同様にして第1の
層と第2の層との界面を12個有する発光層No.2
(層厚;約1200Å)を形成した。 参考例 2 〔発光層No.3の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を、参考例1
で用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸
漬した。 次に、アラキジン酸をクロロホルムに1×
10-3mol/の濃度で溶解した溶液の0.5mlを、前
記水相上に展開させた。クロロホルムを水相表面
から蒸発除去した後、水相表面圧を30dyne/cm
に調整し、膜状のアラキジン酸を水相面に析出さ
せた。 更に、表面圧を一定に保ちながら、基板を水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに上下方
向に2往復させ、アラキジン酸からなる単分子膜
が4層累積された絶縁層としての第3の層を基板
の電極層上に形成し、これを水相外へ引上げ、30
分以上室温で放置して乾燥させた。 ここで、水相表面に残つたアラキジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、アラキジン酸から
なる単分子絶縁層の形成された基板を再たび水相
中に浸漬させた後、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlを外水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで基板を水面を横
切る方向に2cm/minの速度で静かに引き上げ、
更に引き下げと引き上げを一回づつ行ない、上記
化合物からなる単分子膜が3層累積した第1の層
を絶縁層上に形成した。次に、この基板を水相外
に引出し、再び30分以上室温で放置して乾燥させ
た。 次に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、基板を水相内に浸漬し、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlを該水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで基板を水面を横
切る方向に2cm/minの速度で静かに引き上げ、
更に引き下げと引き上げを一回づつ行ない、上記
化合物からなる単分子膜が3層累積した第2層を
先に形成した第1の層上に形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を4回繰返し、最後に更に第3の層を積層
して第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光
層No.3(層厚;約1100Å)を形成した。 参考例 3 〔発光層No.4の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、アラキジン酸をクロロホルムに1×
10-3mol/の濃度で溶解した溶液の0.5mlを、前
記水相上に展開させた。クロロホルムを水相表面
から蒸発除去した後、水相表面圧を30dyne/cm
に調整し、膜状のアラキジン酸を水相面に析出さ
せた。 更に、表面圧を一定に保ちながら、基板を水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに引上
げ、アラキジン酸分子からなる単分子膜を基板の
電極層上に形成し、これを水相外へ引上げ、30分
以上室温で放置して乾燥させた。この操作をもう
一度繰り返して、第3の層としてのアラキジン酸
単分子膜を2層累積した絶縁層を形成した。 ここで、水相表面に残つたアラキジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、新たにクロロホル
ムに
One or more compounds represented by the following formula can be used as the material for forming the third layer. Furthermore, when forming by vapor deposition, one or more of the above compounds or inorganic compounds such as SiO 2 can be used as the third layer forming material. When the third layer is formed as a monomolecular cumulative film, each monomolecular film may be the same, or one or more of each monomolecular film may be different from other monomolecular films. . In addition, until now, using Figures 2 and 3,
The EL element of the present invention having two interfaces formed by the layer and the second layer has been described.
The number of interfaces in the light emitting layer 20 of the EL element of the present invention is not limited to this, and may be three or more. The thickness of each layer forming the light-emitting layer 20 of the EL device of the present invention having the above structure varies depending on the number of interfaces the EL device has and the configuration of each layer itself. , 500 Å or less, preferably 200 Å or less, for the second layer, 500 Å or less,
Preferably less than 200 Å, for the third layer 500 Å
Å or less, preferably 200 Å or less, and the total layer thickness of the light emitting layer is 5000 μm or less, preferably 3000 μm or less
It is desirable that the thickness be Å or less in order to obtain a good light emission state even in low voltage driving. As described above, two layers having the same function are selected from the light emitting layer 20 having the structure explained using FIGS. 2 and 3 so that the EL element of the present invention has the desired EL function.
Alternatively, the EL element of the present invention can be formed by selecting two layers having different functions such as different emission colors and brightness as the light-emitting layer 4 and the light-emitting layer 5. Two electrode layers 1 and 2 of the EL element of the present invention
As mentioned above, at least one of the
It is provided as a transparent electrode for extracting light. When forming an electrode layer as a transparent electrode,
InO 2 on a film or sheet such as PMMA, polyester, or a transparent substrate such as a glass plate.
SnO 2 , indium tein oxide (ITO)
The light emitting layer can be formed by laminating these materials by a vapor deposition method or the like, or by directly laminating these materials on the light emitting layer. The electrode layer 3 is provided as a transparent electrode or as a translucent electrode that transmits light only in one direction in the thickness direction of the electrode layer. When the electrode layer 3 is provided as a transparent electrode, the light emitting layer 4 or the light emitting layer 5 formed using the transparent electrode forming material described above.
It should be formed on top. When the electrode layer 3 is provided as a semi-transparent electrode, a material such as ITO, Au, InO 2 , SnO 2 or the like is used, taking into account the direction of light transmission.
What is necessary is just to form it on the formed light emitting layer 4 or the light emitting layer 5. In addition, non-transparent electrode layers can be formed by thin plates made of materials that can form normal electrodes with sufficient conductivity, or by directly depositing Al, Ag, Au, etc. on a suitable substrate or on a light-emitting layer formed. It can be formed by laminating layers by a vapor deposition method or the like. The thickness of these electrode layers is approximately 0.01 μm to 0.3 μm,
Preferably it is about 0.05 μm to 0.2 μm. Note that the shape and size of the EL element of the present invention are as follows:
Various shapes can be formed as desired. For example, the substrate for forming the transparent electrode is used as a substrate for forming a light-emitting layer, and this substrate can be shaped like a plate, a belt, or a cylinder to form the desired shape. It can be the size. In addition, three electrode layers 1, 2, 3
may be patterned into various shapes as desired. In the EL element of the present invention having the above configuration,
For example, a direct current or an alternating current is applied between the two electrodes 1 and 3 and between the electrodes 2 and 3 of the EL element so that an electric field of about 1×10 5 to 3×10 6 is applied to each of the light emitting layers 4 and 5, for example. Alternatively, good light emission can be obtained through the transparent electrode 1 by applying a pulse voltage. In addition, two light emitting layers having different luminescent colors and brightness are used as the light emitting layer 4 and the light emitting layer 5, and the electrode 1,
The color and intensity of the light from the transparent electrode 1 can be varied over a wide range by independently controlling the voltage between the transparent electrode 1 and the voltage between the electrodes 2 and 3. Hereinafter, typical operations of the monomolecular accumulation method, typified by the Langmuir-Blodget method (LB method), applied to the formation of a monomolecular film or a monomolecular cumulative film having a light-emitting layer of the EL device of the present invention will be explained. An aqueous phase for forming a monomolecular film is provided in a water tank, and a clean substrate is immersed in the aqueous phase. Next, a predetermined amount of a solution of a monomolecular film-forming compound dissolved or dispersed in an appropriate solvent is spread into the aqueous phase,
This compound is deposited in the form of a film on the surface of the aqueous phase. At this time, in order to prevent this precipitate from freely diffusing on the water phase and spreading too much, a partition plate (or float) is provided to limit the area of development and control the state of aggregation of the membrane substance. Obtain a proportional surface pressure Π. Then, activate the partition plate to reduce the expansion area,
The surface pressure Π is gradually increased and set to a surface pressure Π suitable for forming a monomolecular film. Here, this surface pressure Π
When the previously immersed substrate is gently moved up and down in a direction perpendicular to the aqueous phase surface while maintaining the temperature, the monomolecular film is transferred onto the substrate as the substrate moves upward and downward. , a monomolecular cumulative film is formed. To transfer a monomolecular film onto a substrate, in addition to the vertical immersion method mentioned above, there are also horizontal attachment methods in which the substrate is brought into contact with the water phase horizontally while keeping it parallel to the surface, and a cylindrical substrate is rotated on the water surface. Various methods can be applied, such as a rotating cylinder method in which a monomolecular film is transferred to the surface of a substrate using a rotating cylinder method, or a method in which the substrate is extruded from a substrate roll into an aqueous phase. In the vertical dipping method, the orientation of the film-forming molecules is usually reversed between the substrate pulling process and the dipping process, so that a so-called Y-shaped film is formed. In addition, according to the horizontal deposition method, a monomolecular film with the hydrophobic groups facing the substrate side is formed, and when it is made into a cumulative film, the so-called
A mold film is formed. However, the orientation of such hydrophilic groups and hydrophobic groups can also be changed by surface treatment of the substrate. Furthermore, the PH of the aqueous phase when forming a monomolecular film by the monomolecular accumulation method, the type and amount of additives for adjusting the PH of the aqueous phase, the temperature of the aqueous phase, the rate of raising and lowering the substrate, or the surface. Operating conditions such as pressure may be appropriately selected depending on the type of monomolecular film-forming compound used, the characteristics of the film to be formed, and the like. The EL element of the present invention can be formed, for example, in the following manner using the single molecule accumulation method as described above and other thin film forming methods such as vapor deposition. First, a third layer having a desired configuration is formed using the third layer forming material described above on the substrate on which the transparent electrode layer is provided, and then the third layer is further formed on the substrate provided with the transparent electrode layer described above. Using a material capable of forming the second layer, a desired structure is laminated in this order on the first layer and the second layer on the previously formed third layer. Next, a third layer is laminated on this second layer,
Depending on the desired number of interfaces between the first layer and the second layer, the operation for forming the first layer to the third layer is repeated two or more times to form the light emitting layer 4. After the light-emitting layer 4 is formed in this way, a metal such as Au is laminated on the third layer located at the top of the light-emitting layer 4 by vapor deposition or the like to form a semi-transparent electrode layer 3. Form. Furthermore, a light emitting layer 5 is formed on the electrode layer 3 using the same material as the light emitting layer 4 or a different material in the same manner as in the formation of the light emitting layer 4, and finally, the light emitting layer 5 is
The EL element of the present invention can be formed by laminating a metal such as Al, Ag, or Au on the third layer by a vapor deposition method or the like. In addition, when the two electrodes are both transparent, the transparent electrode layer is formed using the above-mentioned material on the transparent substrate for forming the light emitting layers 4 and 5, and the transparent electrode layer is formed after the formation of the light emitting layer 5 is completed. All you have to do is laminate them. When forming the EL device of the present invention as described above, the first layer of the light emitting layer 4 and the light emitting layer 5,
Each layer of the second layer and the third layer is formed by a material for forming these layers and a thin film forming method adapted to these materials, and either one of the light emitting layer 4 and the light emitting layer 5 is formed as a monomolecular film formed by a monomolecular accumulation method or a multilayer structure having a monomolecular accumulation film. At that time, in the above operation, at least one of the first layer, second layer, and third layer of either the light-emitting layer 4 or the light-emitting layer 5 is processed by a single-molecule accumulation method. It can be formed using Further, the plurality of first layers having a light emitting layer of the EL element of the present invention may each have the same structure, and the structure of one or more of the plurality of first layers may be different from each other. The structure may be different from that of other first layers, and the same applies to the second and third layers. Further, an adhesive layer may be provided between each layer constituting the EL element of the present invention in order to improve the adhesiveness of each layer. Furthermore, the present invention
It is desirable that the EL element be provided with a protective structure to protect the element from the effects of moisture and oxygen in the air. The EL device of the present invention as described above has two light-emitting layers that can be controlled independently, and these light-emitting layers can be individually controlled to change the color of the emitted light,
It has become possible to subtly adjust the color tone and freely control the intensity of light emission. Furthermore, the light-emitting layer of the EL element of the present invention mainly emits light at the interface between two layers having different electrochemical properties, and moreover, a plurality of such interfaces are provided in the light extraction direction of the EL element. The device has a structure that allows the amount of light emitted per unit of light extraction surface to be significantly increased compared to conventional EL devices. In addition, in the EL element of the present invention, the composition of the two layers constituting the interface is changed for each interface with respect to the plurality of interfaces that mainly emit light, and these are combined to adjust the emitted light color etc. as desired. It has also become possible to control it accordingly. In addition to these, the light-emitting layer of the EL device of the present invention is mainly formed by combining an organic compound material and a thin film suitable for the material, and is a multilayer layer having a plurality of interfaces that emit light as described above. Despite the structure, the overall thickness of the light emitting layer is thinner, and an efficient light emitting state can be obtained even when driven at a low voltage, and sufficient brightness can be obtained. In particular, in a light emitting layer having a monomolecular film, the thickness of the entire light emitting layer can be further increased by forming at least one of the layers constituting the light emitting layer as a monomolecular film or a monomolecular cumulative film. Furthermore, when the light-emitting layer is formed as a monomolecular cumulative film, the layer thickness of the light-emitting layer can be made very thin, and the above effects can be further enhanced. Moreover, in the light-emitting layer of the EL element of the present invention, when the first layer and/or the second layer is formed of a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, the light-emitting layer is directly involved in light emission. The functional part of the compound is
The present invention further provides light emission based on the formation of an exciplex that is highly ordered and precisely oriented and arranged toward the interface between the first layer and the second layer, and accompanied by more efficient transfer of electrons. Each layer of the light-emitting layer of an EL element can be easily formed as a thin film with high precision mainly from various organic compound materials, and in particular, the first layer when formed as a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, The second layer or the third layer can be formed at approximately normal temperature and normal pressure, and heat-sensitive material compounds that cannot be used in vapor deposition methods etc. may also be used to form these layers. As a result, the EL device of the present invention has become an inexpensive and mass-producible EL device. In addition, even when the EL device of the present invention is formed as a large-area EL device, the light-emitting layer is formed with high accuracy, and it has good functionality even as a large-area EL device. The EL of the present invention will be described below using reference examples and examples.
The device will be explained in more detail. Reference Example 1 [Formation of Light Emitting Layers No. 1 and No. 2] An ITO layer with a thickness of 1500 Å was formed on a 50 mm square glass surface by sputtering, and this was used as a substrate for forming a light emitting layer. This substrate was placed in Langmuir-Trough4 manufactured by Joyce-Loebel at 4×10 -4 mol/
of CdCl 2 in an aqueous phase whose pH was adjusted to 6.5. Next, add arachidic acid to chloroform 1x
0.5 ml of the solution dissolved at a concentration of 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase. After evaporating chloroform from the surface of the water phase, the surface pressure of the water phase was reduced to 30dyne/cm.
arachidic acid in the form of a film was precipitated on the surface of the aqueous phase. Furthermore, while keeping the surface pressure constant, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min across the water surface, and a third layer, a monomolecular insulating layer made of arachidic acid molecules, was placed on the electrode layer of the substrate. formed, which was pulled out of the aqueous phase and left to dry at room temperature for more than 30 minutes. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and the substrate on which the monomolecular insulating layer made of arachidic acid has been formed is again immersed in the aqueous phase, and then a new 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased.
After adjusting to 30 dyne/cm, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and a monomolecular film made of the above compound molecules was formed as a second layer on the insulating layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Furthermore, the above compounds left on the surface of the water phase are completely removed, the substrate is immersed in the water phase, and a new one is added. 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased.
After adjusting to 30 dyne/cm, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and a monomolecular film made of the above compound molecules was formed as a first layer on the second layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated 16 times, and finally the third layer is laminated to form a light emitting layer No. 1 having 16 interfaces between the first layer and the second layer. .
1 (layer thickness: approximately 1600 Å). Furthermore, the formation operation from the third layer to the second layer is
Light-emitting layer No. 2 having 12 interfaces between the first layer and the second layer was prepared in the same manner as above except that the procedure was repeated 12 times.
(layer thickness: about 1200 Å) was formed. Reference Example 2 [Formation of Light Emitting Layer No. 3] The same substrate as that used in Reference Example 1 was used in Reference Example 1.
It was immersed in the same aqueous phase for forming a monolayer as used in . Next, add arachidic acid to chloroform 1x
0.5 ml of the solution dissolved at a concentration of 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase. After evaporating chloroform from the surface of the water phase, the surface pressure of the water phase was reduced to 30dyne/cm.
arachidic acid in the form of a film was precipitated on the surface of the aqueous phase. Furthermore, while keeping the surface pressure constant, the substrate was gently reciprocated vertically twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface. A layer of 3 was formed on the electrode layer of the substrate, and this was pulled out of the aqueous phase.
It was left to dry at room temperature for more than a minute. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and the substrate on which the monomolecular insulating layer made of arachidic acid has been formed is again immersed in the aqueous phase. 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was spread on the external aqueous phase, and the surface pressure was
After adjusting to 30dyne/cm, gently pull the board across the water surface at a speed of 2cm/min.
Furthermore, pulling down and pulling up was performed once each to form a first layer of three accumulated monomolecular films made of the above compound on the insulating layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Next, the above compounds left on the surface of the aqueous phase are completely removed, the substrate is immersed in the aqueous phase, and a new one is added. 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase, and the surface pressure was increased.
After adjusting to 30dyne/cm, gently pull the board across the water surface at a speed of 2cm/min.
Furthermore, pulling down and pulling up was performed once each, and a second layer consisting of three monomolecular films of the above compound was formed on the previously formed first layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated four times, and finally the third layer is further laminated to form a light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer. No. 3 (layer thickness: about 1100 Å) was formed. Reference Example 3 [Formation of Light Emitting Layer No. 4] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, add arachidic acid to chloroform 1x
0.5 ml of the solution dissolved at a concentration of 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase. After evaporating chloroform from the surface of the water phase, the surface pressure of the water phase was reduced to 30dyne/cm.
was adjusted to precipitate a film of arachidic acid on the surface of the aqueous phase. Furthermore, while keeping the surface pressure constant, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min across the water surface to form a monomolecular film of arachidic acid molecules on the electrode layer of the substrate, and this was removed from the water phase. It was pulled up to a room temperature and left to dry at room temperature for 30 minutes or more. This operation was repeated once again to form an insulating layer in which two arachidic acid monomolecular films were accumulated as a third layer. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and freshly added to chloroform. and

【式】 を100mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところでアラキジン酸か
らなる絶縁層の形成された基板を再たび水相中
に、該水相の水面を横切る方向に2cm/minの速
度で静かに浸漬させて、上記2種の化合物分子か
らなる単分子膜を第1の層として絶縁層上に形成
した。次に、この基板を水相外に引出し、再び30
分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、新たにクロロホルムに
[Formula] at a ratio of 100mol:1mol, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
Spread 0.5 ml on this aqueous phase and increase the surface pressure.
After adjusting the temperature to 30 dyne/cm, the substrate on which the insulating layer made of arachidic acid was formed was gently immersed in the water phase again at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface of the water phase, and the above two types were added. A monomolecular film consisting of compound molecules was formed as a first layer on the insulating layer. Next, this substrate was pulled out of the water phase and again
It was left to dry at room temperature for more than a minute. Furthermore, the above compounds left on the surface of the aqueous phase were completely removed and freshly added to chloroform.

【式】と[Formula] and

【式】 を100nol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで、前記第1の層
の形成操作を繰り返して、先に形成した第1の層
上に上記の2種の化合物からなる単分子膜を第2
の層として形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を15回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を15個有する発光層No.
4(層厚;約1500Å)を形成した。 参考例 4 〔発光層No.5の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例3に於けるアラキジン酸からなる
単分子膜の形成操作を5回繰返して第3の層とし
ての5層のアラキジン酸単分子累積膜からなる絶
縁層を形成した。 ここで、水相表面に残つたアラキジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、新たにクロロホル
ムに
[Formula] at a ratio of 100nol:1mol, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
Spread 0.5 ml on this aqueous phase and increase the surface pressure.
After adjusting to 30 dyne/cm, repeat the above first layer forming operation to form a second monomolecular film consisting of the above two types of compounds on the previously formed first layer.
Formed as a layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated 15 times, and finally the third layer is laminated to form a light emitting layer No. 1 having 15 interfaces between the first layer and the second layer. .
4 (layer thickness: about 1500 Å) was formed. Reference Example 4 [Formation of Light Emitting Layer No. 5] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, the operation for forming a monomolecular film made of arachidic acid in Reference Example 3 was repeated five times to form an insulating layer made of a five-layer cumulative film of monomolecular arachidic acid as a third layer. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and freshly added to chloroform. and

【式】 を100モル:1モルの割合で、これらの総量が1
×10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液
の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところでアラキジン酸か
らなる単分子累積膜絶縁層の形成された基板を再
たび水相中に、該水相の水面を横切る方向に2
cm/minの速度で静かに浸漬させ、更に上下させ
て上記2種の化合物分子からなる単分子膜を3層
累積した第1の層を先に形成した絶縁層上に形成
した。次に、この基板を水相外に引出し、再び30
分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、新たにクロロホルムに
[Formula] at a ratio of 100 mol: 1 mol, the total amount of these is 1
0.5 ml of the solution dissolved at a concentration of ×10 -3 mol/was spread on this aqueous phase, and the surface pressure was
After adjusting the concentration to 30 dyne/cm, the substrate on which the monomolecular cumulative film insulating layer made of arachidic acid was formed was again placed in the water phase for 2 minutes in a direction across the water surface of the water phase.
It was gently immersed at a speed of cm/min, and further moved up and down to form a first layer, which was a stack of three monomolecular films made of the above two types of compound molecules, on the previously formed insulating layer. Next, pull this substrate out of the water phase and again for 30 minutes.
It was left to dry at room temperature for more than a minute. Furthermore, the above compounds left on the surface of the aqueous phase were completely removed and freshly added to chloroform. and

【式】 を10モル:1モルの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで、前記第1の層
の形成操作と同様にして、先に形成した第1の層
上に上記の2種の化合物からなる単分子膜が3層
累積された単分子累積膜を第2の層として形成し
た。 次に、参考例3に於けるアラキジン酸からなる
単分子膜の形成操作を4回繰返して第3の層とし
ての4層のアラキジン酸単分子累積膜からなる絶
縁膜を先に形成した第2の層上に形成し、以後上
記した第1の層から第3の層(4層のアラキジン
酸単分子累積膜)までの形成操作を4回繰返し、
第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層No.
5(層厚;約1100Å)を形成した。 参考例 5 〔発光層No.6の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を、参考例1
で用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸
漬し、参考例3に於けるアラキジン酸からなる単
分子膜の形成操作を2回繰返して第3の層として
のアラキジン酸単分子膜を2層累積した絶縁層を
前記基板の電極層上に形成した。 ここで、水相表面に残つたアラキジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、新たにクロロホル
ムに を10mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところでアラキジン酸か
らなる絶縁層の形成された基板を再たび水相中
に、該水相の水面を横切る方向に2cm/minの速
度で静かに浸漬させて、上記2種の化合物分子か
らなる単分子膜を第1の層として絶縁層上に形成
した。次に、この基板を水相外に引出し、再び30
分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、新たにクロロホルムに
[Formula] at a ratio of 10 moles: 1 mole, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
Spread 0.5 ml on this aqueous phase and increase the surface pressure.
After adjusting to 30 dyne/cm, a monomolecular film consisting of three monolayers of the above two types of compounds was deposited on the previously formed first layer in the same manner as the formation of the first layer. A cumulative film was formed as the second layer. Next, the operation of forming a monomolecular film made of arachidic acid in Reference Example 3 was repeated four times to form a second insulating film made of four layers of cumulative monomolecular arachidic acid films as the third layer. After that, the above-described formation operation from the first layer to the third layer (four layers of arachidic acid monomolecular cumulative film) was repeated four times,
Light-emitting layer No. with four interfaces between the first layer and the second layer.
5 (layer thickness: approximately 1100 Å). Reference Example 5 [Formation of Light Emitting Layer No. 6] The same substrate as that used in Reference Example 1 was used in Reference Example 1.
The arachidic acid monolayer as the third layer was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 3, and the operation for forming a monomolecular film consisting of arachidic acid in Reference Example 3 was repeated twice. An insulating layer consisting of two stacked molecular films was formed on the electrode layer of the substrate. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and freshly added to chloroform. and at a ratio of 10mol:1mol, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
Spread 0.5 ml on this aqueous phase and increase the surface pressure.
After adjusting the temperature to 30 dyne/cm, the substrate on which the insulating layer made of arachidic acid was formed was gently immersed in the water phase again at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface of the water phase, and the above two types were added. A monomolecular film consisting of compound molecules was formed as a first layer on the insulating layer. Next, this substrate was pulled out of the water phase and again
It was left to dry at room temperature for more than a minute. Furthermore, the above compounds left on the surface of the aqueous phase were completely removed and freshly added to chloroform.

【式】と[Formula] and

【式】 を10mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整したところで、前記第1の層
の形成操作を繰り返して、先に形成した第1の層
上に上記の2種の化合物からなる単分子膜を第2
の層として形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を15回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を15個有する発光層No.
6(層厚;約1500Å)を形成した。 参考例 6 〔発光層No.7の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を、参考例1
で用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸
漬した。 次に、参考例3に於けるアラキジン酸からなる
単分子膜の形成操作を5回繰返して、第3の層と
しての5層のアラキジン酸単分子累積膜からなる
絶縁層を形成した。 ここで、水相表面に残つたアラキジン酸を該水
相表面上から完全に取り除き、新たにクロロホル
ムに
[Formula] at a ratio of 10mol:1mol, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
Spread 0.5 ml on this aqueous phase and increase the surface pressure.
After adjusting to 30 dyne/cm, repeat the above first layer forming operation to form a second monomolecular film made of the above two types of compounds on the previously formed first layer.
Formed as a layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated 15 times, and finally the third layer is laminated to form a light emitting layer No. 1 having 15 interfaces between the first layer and the second layer. .
6 (layer thickness: about 1500 Å) was formed. Reference Example 6 [Formation of Light Emitting Layer No. 7] The same substrate as that used in Reference Example 1 was used in Reference Example 1.
It was immersed in the same aqueous phase for forming a monolayer as used in . Next, the operation for forming a monomolecular film made of arachidic acid in Reference Example 3 was repeated five times to form an insulating layer made of a five-layer cumulative film of monomolecular arachidic acid as the third layer. Here, the arachidic acid remaining on the surface of the aqueous phase is completely removed from the surface of the aqueous phase, and freshly added to chloroform.

【式】と[Formula] and

【式】をを10モル:1モルの割 合で、これらの総量が1×10-3mol/の濃度と
なるように溶解した溶液の0.5mlをこの水相上に
展開させ、表面圧を30dyne/cmに調整したとこ
ろでアラキジン酸からなる単分子累積膜絶縁層の
形成された基板を再たび水相中に、該水相の水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに浸漬さ
せ、更に上下させて上記2種の化合物分子からな
る単分子膜を3層累積した第1の層を先に形成し
た絶縁層上に形成した。次に、この基板を水相外
に引出し、再び30分以上室温で放置して乾燥させ
た。 更に、これまで使用した水相とは別に、[Eu
(BFA)4]Kを飽和させた水相を用意し、この水
相表面にクロロホルムに
0.5 ml of a solution containing [Formula] dissolved in a ratio of 10 mol: 1 mol so that the total amount thereof has a concentration of 1 × 10 -3 mol / was spread on this aqueous phase, and the surface pressure was adjusted to 30 dyne. /cm, the substrate on which the monomolecular cumulative film insulating layer made of arachidic acid was formed was again gently immersed in the aqueous phase at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface of the aqueous phase, and then A first layer in which three monomolecular films made of the two types of compound molecules were stacked vertically was formed on the previously formed insulating layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Furthermore, apart from the aqueous phase used so far, [Eu
(BFA) 4 ] Prepare an aqueous phase saturated with K, and add chloroform to the surface of this aqueous phase. and

【式】 を10モル:1モルの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるように溶解した溶液の
0.5mlを展開させ、表面圧を30dyne/cmに調整し
たところで、前記第1の層の形成操作と同様にし
て、先に形成した第1の層上に上記の2種の化合
物からなる単分子膜が3層累積された単分子累積
膜を第2の層として形成した。 次に、参考例3に於けるアラキジン酸からなる
単分子膜の形成操作を4回繰返して第3の層とし
ての4層のアラキジン酸単分子累積膜からなる絶
縁膜を先に形成した第2の層上に形成し、以後上
記した第1の層から第3の層(4層のアラキジン
酸単分子累積膜)までの形成操作を4回繰返し、
第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層No.
7(層厚;約1100Å)を形成した。 参考例 7 〔発光層No.8の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を、抵抗加熱
蒸着装置の蒸着槽内の所定の位置にセツトし、更
に抵抗加熱ボート内にステアリン酸メチル
(mp.38℃)を入れ、該槽内をまず10-6Torrの真
空度まで減圧した後、蒸着速度が2Å/secとな
るようにボートに流れる電流を調整し、200Åの
ステアリン酸メチル層からなる蒸着層を第3の層
として前記基板の透明電極層上に形成した。な
お、蒸着時の槽内の真空度を9×10-6Torrに維
持し、基板ホルダーの温度は20℃とした。 更に、この基板を、参考例1で用いたのと同様
の単分子膜形成用の水相中に浸漬した。 次に、
[Formula] at a ratio of 10 moles: 1 mole, the total amount of these is 1×
of the solution dissolved to a concentration of 10 -3 mol/
After 0.5 ml was developed and the surface pressure was adjusted to 30 dyne/cm, a single molecule consisting of the above two types of compounds was placed on the previously formed first layer in the same manner as the formation of the first layer. A monomolecular cumulative film consisting of three film layers was formed as the second layer. Next, the operation of forming a monomolecular film made of arachidic acid in Reference Example 3 was repeated four times to form a second insulating film made of four layers of cumulative monomolecular arachidic acid films as the third layer. After that, the above-described formation operation from the first layer to the third layer (four layers of arachidic acid monomolecular cumulative film) was repeated four times,
Light-emitting layer No. with four interfaces between the first layer and the second layer.
7 (layer thickness: about 1100 Å) was formed. Reference Example 7 [Formation of Light Emitting Layer No. 8] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was set at a predetermined position in a vapor deposition tank of a resistance heating vapor deposition apparatus, and methyl stearate was further placed in a resistance heating boat. (mp. 38°C), and after first reducing the pressure in the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr, the current flowing through the boat was adjusted so that the deposition rate was 2 Å/sec, and a 200 Å methyl stearate layer was deposited. A vapor deposited layer consisting of the following was formed as a third layer on the transparent electrode layer of the substrate. The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was 20°C. Furthermore, this substrate was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as that used in Reference Example 1. next,

【式】と[Formula] and

【式】 を1mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/となるようにクロロホルムに溶解し
た溶液0.5mlを前記水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整し、上記の2つ化合物からな
る多成分系単分子膜を該水相表面に析出させたと
ころで基板を水面を横切る方向に2cm/minの速
度で静かに上下に2往復させ、上記化合物の混合
物からなる単分子膜を4層累積した第1の層とし
ての単分子累積膜を先に形成した第3の層上に形
成した。ここで、この基板を水相外に引出し、30
分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、基板を水相内に浸漬し、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整し、この化合物からなる単分
子膜を該水相上に析出させ、基板を水面に横切る
方向に2cm/minの速度で静かに引上げ、更に浸
漬と引上げを一度づつ行ない上記化合物分子から
なる単分子膜を3層累積した単分子累積膜を第2
の層として先に形成した第1の層上に形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を4回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層No.
8(層厚;約1800Å)を形成した。 参考例 8 〔発光層No.9の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を、参考例1
で用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸
漬した。 次に、ステアリン酸をクロロホルム溶液に1×
10-3mol/の濃度で溶解した溶液の0.5mlを、前
記水相上に展開させた。クロロホルムを水相表面
から蒸発除去した後、水相表面圧を30dyne/cm
に調整し、膜状のステアリン酸を水相面に析出さ
せた。 更に、表面圧を一定に保ちながら、基板を水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに引上
げ、第3の層としてのステアリン酸分子からなる
単分子膜を基板の前記電極層上に形成し、これを
水相外へ引上げ、30分以上室温で放置して乾燥さ
せた。更に、この操作をもう二度繰返して、前記
基板の電極層上にステアリン酸分子からなる単分
子膜が3層に積層された単分子累積膜を第3の層
として形成させた。なお、水相表面に残つたステ
アリン酸は、該水相表面から完全に取り除いた。 次に、この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内
の所定の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボート内
にアントラセン(mp.216℃)を入れ、該槽内を
まず10-6Torrの真空度まで減圧した後、蒸着速
度が2Å/secとなるようにボートに流れる電流
を調整し、200Åのアントラセンからなる蒸着層
を第1の層として先に形成した第3の層としての
絶縁層上に形成した。なお、蒸着時に於ける槽内
の真空度を9×10-6Torrに維持し、基板ホルダ
ーの温度は、20℃とした。 このようにして第1の層を形成した後、電極基
板を、再び残つたステアリン酸が完全に取り除か
れた先に第3の層の形成に使用した水相中に浸漬
させた後、新たに を1×10-3mol/の濃度で含むクロロホルム溶
液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整し、上記化合物の単分子膜を
水相上に形成させたところで基板を水面を横切る
方向に2cm/minの速度で静かに引上げ、更に浸
漬と引上げを1回づつ行ない上記化合物分子から
なる単分子膜が3層累積された単分子累積膜を第
2の層として先に形成した第1の層上に形成し
た。次に、この基板を水相外に引出し、再び30分
以上室温で放置して乾燥させた。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
2回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が2
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.9(層厚;約1500Å)を形成した。 参考例 9 〔発光層No.10の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例8に於けるステアリン酸からなる
単分子膜の形成操作を3回繰返して前記基板の電
極層上にステアリン酸分子からなる単分子膜が3
層に積層された単分子累積膜を第3の層として形
成させた。なお、水相表面に残つたステアリン酸
は、該水相表面から完全に取り除いた。 次に、このようにして第3の層が形成された基
板を、残つたステアリン酸が完全に取り除かれた
水相中に再び浸漬された後、新たに
[Formula] at a ratio of 1mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform at a concentration of 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase, and the surface pressure was adjusted.
After the multi-component monomolecular film consisting of the above two compounds was deposited on the surface of the aqueous phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min across the water surface. A monomolecular cumulative film as a first layer in which four monomolecular films made of a mixture of the above compounds were stacked was formed on the previously formed third layer. Now, pull this substrate out of the aqueous phase and
It was left to dry at room temperature for more than a minute. Furthermore, the above compounds left on the surface of the water phase are completely removed, the substrate is immersed in the water phase, and a new one is added. 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased.
30 dyne/cm, a monomolecular film made of this compound was deposited on the aqueous phase, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and the above compound was further immersed and pulled up once. A second monomolecular film consisting of three layers of monomolecular films
The second layer was formed on the previously formed first layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated four times, and finally the third layer is laminated to form a light-emitting layer No. 1 having four interfaces between the first layer and the second layer. .
8 (layer thickness: approximately 1800 Å). Reference Example 8 [Formation of Light Emitting Layer No. 9] The same substrate as that used in Reference Example 1 was used in Reference Example 1.
It was immersed in the same aqueous phase for forming a monolayer as used in . Next, add stearic acid to the chloroform solution 1x
0.5 ml of the solution dissolved at a concentration of 10 -3 mol/was developed on the aqueous phase. After evaporating chloroform from the surface of the water phase, the surface pressure of the water phase was reduced to 30dyne/cm.
A film of stearic acid was precipitated on the surface of the aqueous phase. Furthermore, while keeping the surface pressure constant, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a monomolecular film made of stearic acid molecules as a third layer on the electrode layer of the substrate. This was then pulled out of the aqueous phase and allowed to stand at room temperature for 30 minutes or more to dry. Furthermore, this operation was repeated twice to form a monomolecular cumulative film in which three monomolecular films made of stearic acid molecules were laminated as a third layer on the electrode layer of the substrate. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. Next, this substrate was set in a predetermined position in the deposition tank of the resistance heating evaporation equipment, and anthracene (mp. 216°C) was placed in the resistance heating boat, and the tank was first heated to a vacuum of 10 -6 Torr. After reducing the pressure to 200 Å, the current flowing through the boat was adjusted so that the deposition rate was 2 Å/sec, and a 200 Å deposited layer of anthracene was deposited as the first layer on the insulating layer as the third layer. Formed. The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was 20°C. After forming the first layer in this way, the electrode substrate is again immersed in the aqueous phase used previously to form the third layer, from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then a new layer is added. 0.5 ml of a chloroform solution containing a concentration of 1 x 10 -3 mol/was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased.
30 dyne/cm, and after forming a monomolecular film of the above compound on the aqueous phase, the substrate was gently pulled up at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and further dipping and pulling were performed once each to form a monomolecular film of the above compound on the water phase. A monomolecular cumulative film consisting of three monomolecular films was formed as a second layer on the previously formed first layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Thereafter, on the second layer formed in this way, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid is repeated twice to form two monomolecular films made of stearic acid.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 9 (layer thickness: about 1500 Å) was formed. Reference Example 9 [Formation of Light Emitting Layer No. 10] The same substrate as that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as that used in Reference Example 1. Next, the operation for forming a monomolecular film made of stearic acid in Reference Example 8 was repeated three times to form a monomolecular film made of stearic acid molecules on the electrode layer of the substrate.
A monomolecular cumulative film stacked in layers was formed as the third layer. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. Next, the substrate on which the third layer was formed in this way is immersed again in the aqueous phase from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then a new layer is added.

【式】と[Formula] and

【式】 を1mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度となるようにクロロホルムに
溶解した溶液の0.5mlをこの水相上に展開させ、
表面圧を30dyne/cmに調整し、上記化合物の単
分子膜を水相上に形成させたところで基板を水面
を横切る方向に2cm/minの速度で静かに上下に
2往復させ上記化合物分子からなる単分子膜が4
層累積された単分子累積膜を第1の層として先に
形成した第3の層上に形成した。次に、この基板
を水相外に引出し、再び30分以上室温で放置して
乾燥させた。 次に、この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内
の所定の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボート内
に2,5−ジフエニルオキサゾールを入れ、該槽
内をまず10-6Torrの真空度まで減圧した後、蒸
着速度が2Å/secとなるように抵抗加熱ボート
に流れる電流を調整し、200Åの2,5−ジフエ
ニルオキサゾールからなる蒸着層を第2の層とし
て先に形成した第1の層上に形成した。なお、蒸
着時に於ける槽内の真空度を9×10-6Torrに維
持し、基板ホルダーの温度は、20℃とした。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
2回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が2
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.10(層厚;約2200Å)を形成した。 参考例 10 〔発光層No.11の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板上に、参考例
7に於いて形成したのと同様の200Åのステアリ
ン酸メチル層からなる蒸着層を第3の層として、
参考例7に於ける方法と同様にして形成した。 この第3の層が形成された基板を参考例1で用
いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬し
た。 次に、
[Formula] at a ratio of 1mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform to a concentration of 10 -3 mol/was developed on this aqueous phase,
After adjusting the surface pressure to 30 dyne/cm and forming a monomolecular film of the above compound on the aqueous phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a film composed of molecules of the above compound. Monolayer is 4
The monomolecular stacked film was formed as a first layer on the previously formed third layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Next, this substrate was set at a predetermined position in the deposition tank of the resistance heating evaporation apparatus, and 2,5-diphenyloxazole was placed in the resistance heating boat, and the tank was first kept under a vacuum of 10 -6 Torr. After the pressure was reduced to 200 Å, the current flowing through the resistance heating boat was adjusted so that the deposition rate was 2 Å/sec. formed on a layer of The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was 20°C. Thereafter, on the second layer formed in this way, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid is repeated twice to form two monomolecular films made of stearic acid.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 10 (layer thickness: approximately 2200 Å) was formed. Reference Example 10 [Formation of Light Emitting Layer No. 11] On the same substrate as that used in Reference Example 1, a vapor deposition layer consisting of a 200 Å methyl stearate layer similar to that formed in Reference Example 7 was formed. As the third layer,
It was formed in the same manner as in Reference Example 7. The substrate on which the third layer was formed was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as that used in Reference Example 1. next,

【式】と[Formula] and

【式】 及び【formula】 as well as

【式】 を50mol:50mol:1molの割合で、これらの総量
が1×10-3mol/となるようにクロロホルムに
溶解した溶液0.5mlを前記水相上に展開させ、表
面圧を30dyne/cmに調整し、上記の2つの化合
物からなる多成分系単分子膜を該水相表面に析出
させたところで基板を水面を横切る方向に2cm/
minの速度で静かに上下に2往復させ、上記化合
物の混合物からなる単分子膜を4層累積した第1
の層としての単分子累積膜を先に形成した第3の
層上に形成した。ここで、この基板を水相外に引
出し、30分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、基板を水相内に浸漬し、新たに
[Formula] was dissolved in chloroform at a ratio of 50 mol: 50 mol: 1 mol, the total amount of which was 1 x 10 -3 mol/, and 0.5 ml of a solution was developed on the aqueous phase, and the surface pressure was adjusted to 30 dyne/cm. After the multicomponent monomolecular film consisting of the above two compounds was deposited on the surface of the aqueous phase, the substrate was moved 2 cm/2 cm in the direction across the water surface.
The first film, which had four layers of monomolecular film made of the mixture of the above compounds accumulated, was
A monomolecular cumulative film as a layer was formed on the previously formed third layer. Here, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry at room temperature for 30 minutes or more. Furthermore, the above compounds left on the water phase surface are completely removed, the substrate is immersed in the water phase, and a new one is added.

【式】と[Formula] and

【式】 を100mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/となるようにクロロホルムに溶解し
た溶液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧
を30dyne/cmに調整し、上記化合物からなる単
分子膜を該水相上に析出させ、基板を水面を横切
る方向に2cm/minの速度で静かに上下に2往復
させ、上記化合物分子からなる単分子膜を3層累
積した単分子累積膜を第2の層として先に形成し
た第1の層上に形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を4回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層No.
12(層厚;約1600Å)を形成した。 参考例 11 〔発光層No.12の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例8に於けるステアリン酸からなる
単分子膜の形成操作を3回繰返して、前記基板の
電極層上にステアリン酸分子からなる単分子膜が
3層に積層された単分子累積膜を第3の層として
形成させた。なお、水相表面に残つたステアリン
酸は、該水相表面から完全に取り除いた。 次に、この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内
の所定の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボートの
1つにアントラセン(mp.216℃)を入れ、他の
1つにアントラキノン(mp.286℃)を入れ、該
槽内をまず10-6Torrの真空度まで減圧した後、
アントラキノンの蒸着速度が0.1Å/sec程度にな
るようにアントラキノンの入つたボートに流れる
電流を一定とし、かつアントラセンとアントラキ
ノンの混合物からなる蒸着層全体の蒸着速度が2
Å/secとなるようにアントラセンの入つたボー
トに流れる電流を調整し、200Åのアントラセン
とアントラキノンの混合物からなる蒸着層を第1
の層として先に形成した第3の層としての絶縁層
上に形成した。なお、蒸着時に於ける槽内の真空
度を9×10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温
度は、20℃とした。 このようにして第1の層を形成した後、基板
を、残つたステアリン酸が完全に取り除かれた前
記水相中に浸漬させた後、新たに
[Formula] at a ratio of 100mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform at a concentration of 10 -3 mol/cm was spread on this aqueous phase, the surface pressure was adjusted to 30 dyne/cm, and a monomolecular film consisting of the above compound was deposited on the aqueous phase. Then, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and a monomolecular cumulative film consisting of three monomolecular films made of the above compound molecules was first formed as the second layer. formed on the first layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated four times, and finally the third layer is laminated to form a light-emitting layer No. 1 having four interfaces between the first layer and the second layer. .
12 (layer thickness: approximately 1600 Å). Reference Example 11 [Formation of Light Emitting Layer No. 12] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, the operation for forming a monomolecular film made of stearic acid in Reference Example 8 was repeated three times to form a monomolecular stack in which three monomolecular films made of stearic acid molecules were laminated on the electrode layer of the substrate. A membrane was formed as the third layer. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. Next, this substrate was set at a predetermined position in the evaporation tank of the resistance heating evaporation apparatus, and anthracene (mp. 216°C) was placed in one of the resistance heating boats, and anthraquinone (mp. 286°C) was placed in the other one. ℃), and after first reducing the pressure inside the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr,
The current flowing through the boat containing anthraquinone is kept constant so that the deposition rate of anthraquinone is approximately 0.1 Å/sec, and the deposition rate of the entire deposited layer consisting of a mixture of anthracene and anthraquinone is 2.
The current flowing through the boat containing anthracene was adjusted so that the current was
This layer was formed on the insulating layer as the third layer formed previously. The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was 20°C. After forming the first layer in this way, the substrate is immersed in the aqueous phase from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then a new layer is added.

【式】と[Formula] and

【式】 を100mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度でクロロホルムに溶解した溶
液0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整し、上記化合物の単分子膜を
水相上に形成させたところで基板を水面を横切る
方向に2cm/minの速度で静かに上下に2往復さ
せ、上記化合物分子からなる単分子膜が4層累積
された単分子累積膜を第2の層として先に形成し
た第1の層上に形成した。次に、この基板を水相
外に引出し、再び30分以上室温で放置して乾燥さ
せた。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
4回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が4
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.12(層厚;約1600Å)を形成した。 参考例 12 〔発光層No.13の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例8に於けるステアリン酸からなる
単分子膜の形成操作を4回繰返して、前記基板の
電極層上にステアリン酸分子からなる単分子膜が
4層に積層された単分子累積膜を第3の層として
形成させた。なお、水相表面に残つたステアリン
酸は、該水相表面から完全に取り除いた。 次に、このようにして第3の層が形成された電
極基板を、残つたステアリン酸が完全に取り除か
れた水相中に再び浸漬させた後、新たに
[Formula] at a ratio of 100mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform at a concentration of 10 -3 mol/was spread on this aqueous phase, and the surface pressure was
30 dyne/cm, and after forming a monomolecular film of the above compound on the water phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a monomolecular film of the above compound molecules. A monomolecular cumulative film consisting of four films was formed as a second layer on the previously formed first layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Thereafter, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid was repeated four times on the second layer formed in this way, so that four monomolecular films made of stearic acid were formed.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 12 (layer thickness: approximately 1600 Å) was formed. Reference Example 12 [Formation of Light Emitting Layer No. 13] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, the operation of forming a monomolecular film made of stearic acid in Reference Example 8 was repeated four times to form a monomolecular stack in which four monomolecular films made of stearic acid molecules were laminated on the electrode layer of the substrate. A membrane was formed as the third layer. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. Next, the electrode substrate on which the third layer was formed in this way is immersed again in the aqueous phase from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then the electrode substrate is re-immersed.

【式】と[Formula] and

【式】及び[Formula] and

【式】 を50mol:50mol:1molの割合で、これらの総量
が1×10-3mol/の濃度となるようにクロロホ
ルムに溶解した溶液の0.5mlこの水相上に展開さ
せ、表面圧を30dyne/cmに調整し、上記化合物
の単分子膜を水相上に形成させたところで基板を
水面を横切る方向に2cm/minの速度で静かに上
下に2往復させ上記化合物分子からなる単分子膜
が4層累積された単分子累積膜を第1の層として
先に形成した第3の層上に形成した。次に、この
基板を水相外に引出し、再び30分以上室温で放置
して乾燥させた。 次に、この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内
の所定の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボートの
1つにカルバゾール(mp.245℃)を入れ、他の
1つに2,5−ジフエニルオキサゾールを入れ、
該槽内をまず10-6Torrの真空度まで減圧した後、
カルバゾールの蒸着速度が0.4Å/sec程度になる
ようにカルバゾールの入つた抵抗加熱ボートに流
れる電流を一定とし、かつカルバゾールと2,5
−ジフエニルオキサゾールの混合物からなる蒸着
層全体の蒸着速度が2Å/secとなるように2,
5−ジフエニルオキサゾールの入つたボートに流
れる電流を調整し、200Åのカルバゾールと2,
5−ジフエニルオキサゾールの混合物からなる蒸
着層を第2の層として先に形成した第1の層上に
形成した。なお、蒸着時に於ける槽内の真空度を
9×10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度は、
20℃とした。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
2回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が2
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.13(層厚;約1600Å)を形成した。 参考例 13 〔発光層No.14の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板の電極層上
に、参考例7に於いて形成したのと同様の200Å
のステアリン酸メチル層からなる蒸着層を第3の
層として、参考例7に於ける方法と同様にして形
成し、この第3の層の形成された基板を、参考例
1で用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に
浸漬した。 次に、
[Formula] was dissolved in chloroform at a ratio of 50 mol: 50 mol: 1 mol so that the total concentration was 1 x 10 -3 mol/, and 0.5 ml of the solution was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased to 30 dyne. /cm, and after forming a monomolecular film of the above compound on the aqueous phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a monomolecular film of the above compound molecules. A monomolecular cumulative film consisting of four layers was formed as a first layer on the previously formed third layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Next, this substrate was set in a predetermined position in the vapor deposition tank of the resistance heating vapor deposition apparatus, and carbazole (mp. 245°C) was placed in one of the resistance heating boats, and 2,5-difluoride was added to the other one. Add enyloxazole,
After first reducing the pressure inside the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr,
The current flowing through the resistance heating boat containing carbazole was kept constant so that the vapor deposition rate of carbazole was about 0.4 Å/sec, and the
-2, so that the deposition rate of the entire deposited layer consisting of the mixture of diphenyloxazole is 2 Å/sec,
The current flowing through the boat containing 5-diphenyloxazole was adjusted, and 200 Å of carbazole and 2,
A vapor deposited layer of a mixture of 5-diphenyloxazole was formed as a second layer on the previously formed first layer. The degree of vacuum in the tank during deposition was maintained at 9 × 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was
The temperature was 20℃. Thereafter, on the second layer formed in this way, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid is repeated twice to form two monomolecular films made of stearic acid.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 13 (layer thickness: approximately 1600 Å) was formed. Reference Example 13 [Formation of light-emitting layer No. 14] On the electrode layer of the same substrate as that used in Reference Example 1, a 200 Å layer similar to that formed in Reference Example 7 was formed.
A vapor deposited layer consisting of a methyl stearate layer was formed as the third layer in the same manner as in Reference Example 7, and the substrate on which this third layer was formed was used in the same manner as that used in Reference Example 1. It was immersed in a similar aqueous phase for monolayer formation. next,

【式】と[Formula] and

【式】及び[Formula] and

【式】 を50mol:50mol:1molの割合で、これらの総量
が1×10-3mol/となるようにクロロホルムに
溶解した溶液0.5mlを前記水相上に展開させ、表
面圧を30dyne/cmに調整し、上記の2つ化合物
からなる多成分系単分子膜を該水相表面に析出さ
せたところで基板を水面を横切る方向に2cm/
minの速度で静かに上下に2往復させ、上記化合
物の混合物からなる単分子膜を4層累積した第1
の層としての単分子累積膜を先に形成した第3の
層上に形成した。ここで、この基板を水相外に引
出し、30分以上室温で放置して乾燥させた。 更に、水相表面に残された上記化合物を完全に
取り除き、基板を水相内に浸漬し、新たに
[Formula] was dissolved in chloroform at a ratio of 50 mol: 50 mol: 1 mol, the total amount of which was 1 x 10 -3 mol/, and 0.5 ml of a solution was developed on the aqueous phase, and the surface pressure was adjusted to 30 dyne/cm. After the multi-component monomolecular film consisting of the above two compounds was deposited on the surface of the aqueous phase, the substrate was moved 2 cm/2 cm in the direction across the water surface.
The first film was made by gently moving it up and down twice at a speed of
A monomolecular cumulative film as a layer was formed on the previously formed third layer. Here, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry at room temperature for 30 minutes or more. Furthermore, the above compounds left on the surface of the water phase are completely removed, the substrate is immersed in the water phase, and a new one is added.

【式】と[Formula] and

【式】 を100mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/となるようにクロロホルムに溶解し
た溶液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧
を30dyne/cmに調整し、上記化合物からなる単
分子膜を該水相上に析出させ、基板を水面を横切
る方向に2cm/minの速度で静かに上下に2往復
させ、上記化合物分子からなる単分子膜を4層累
積した単分子累積膜を第2の層として先に形成し
た第1の層上に形成した。 以後、上記した第3の層から第2の層までの形
成操作を4回繰返し、最後に第3の層を積層して
第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層No.
14(層厚;約1800Å)を形成した。 参考例 14 〔発光層No.15の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例8に於けるステアリン酸からなる
単分子膜の形成操作を3回繰返して、前記基板の
電極層上にステアリン酸分子からなる単分子膜が
3層に積層された単分子累積膜を第3の層として
形成させた。なお、水相表面に残つたステアリン
酸は、該水相表面から完全に取り除いた。 この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内の所定
の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボートの1つに
アントラセン(mp.216℃)を入れ、他の1つに
インダゾール(mp.145℃)を入れ、該槽内をま
ず10-6Torrの真空度まで減圧した後、インダゾ
ールの蒸着速度が0.2Å/sec程度になるようにイ
ンダゾールの入つたボートに流れる電流を一定と
し、かつアントラセンとインダゾールの混合物か
らなる蒸着層全体の蒸着速度が2Å/secとなる
ようにアントラセンの入つたボートに流れる電流
を調整し、200Åのアントラセンとインダゾール
の混合物からなる蒸着層を第1の層として先に形
成した第3の層としての絶縁層上に形成した。な
お、蒸着時に於ける槽内の真空度を9×
10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度は、20
℃とした。 このようにして第1の層を形成した後、電極基
板を、残つたステアリン酸が完全に取り除かれた
前記水相中に浸漬させた後、新たに
[Formula] at a ratio of 100mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform at a concentration of 10 -3 mol/cm was spread on this aqueous phase, the surface pressure was adjusted to 30 dyne/cm, and a monomolecular film consisting of the above compound was deposited on the aqueous phase. Then, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface, and a monomolecular cumulative film consisting of four monomolecular films made of the above compound molecules was first formed as the second layer. formed on the first layer. Thereafter, the above-described formation operation from the third layer to the second layer is repeated four times, and finally the third layer is laminated to form a light-emitting layer No. 1 having four interfaces between the first layer and the second layer. .
14 (layer thickness: approximately 1800 Å) was formed. Reference Example 14 [Formation of Light Emitting Layer No. 15] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, the operation for forming a monomolecular film made of stearic acid in Reference Example 8 was repeated three times to form a monomolecular stack in which three monomolecular films made of stearic acid molecules were laminated on the electrode layer of the substrate. A membrane was formed as the third layer. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. This substrate was set in a predetermined position in the evaporation tank of the resistance heating evaporation equipment, and anthracene (mp. 216°C) was placed in one of the resistance heating boats, and indazole (mp. 145°C) was placed in the other one. After first reducing the pressure in the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr, the current flowing through the boat containing indazole was kept constant so that the indazole evaporation rate was about 0.2 Å/sec, and the anthracene and indazole were The current flowing through the boat containing anthracene was adjusted so that the entire vapor deposition rate of the mixture was 2 Å/sec, and a 200 Å vapor deposition layer consisting of a mixture of anthracene and indazole was first formed as the first layer. It was formed on the insulating layer as the third layer. In addition, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition is 9×
Maintain the temperature of the substrate holder at 10-6 Torr, 20
℃. After forming the first layer in this way, the electrode substrate is immersed in the aqueous phase from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then a new layer is added.

【式】と[Formula] and

【式】 を100mol:1molの割合で、これらの総量が1×
10-3mol/の濃度でクロロホルムに溶解した溶
液の0.5mlをこの水相上に展開させ、表面圧を
30dyne/cmに調整し、上記化合物の単分子膜を
水相上に形成させたところで基板を水面を横切る
方向に2cm/minの速度で静かに上下に2往復さ
せ、上記化合物分子からなる単分子膜が4層累積
された単分子累積膜を第2の層として先に形成し
た第1の層上に形成した。次に、この基板を水相
外に引出し、再び30分以上室温で放置して乾燥さ
せた。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
2回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が2
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.15(層厚;約1500Å)を形成した。 参考例 15 〔発光層No.16の形成〕 参考例1で用いたのと同様の基板を参考例1で
用いたのと同様の単分子膜形成用の水相中に浸漬
した。 次に、参考例8に於けるステアリン酸からなる
単分子膜の形成操作を3回繰返して前記基板の電
極層上にステアリン酸分子からなる単分子膜が3
層に積層された単分子累積膜を第3の層として形
成させた。なお、水相表面に残つたステアリン酸
は、該水相表面から完全に取り除いた。 次に、このようにして第3の層が形成された電
極基板を、残つたステアリン酸が完全に取り除か
れた水相中に再び浸漬させた後、新たに
[Formula] at a ratio of 100mol:1mol, the total amount of these is 1×
0.5 ml of a solution dissolved in chloroform at a concentration of 10 -3 mol/was spread on this aqueous phase, and the surface pressure was
30 dyne/cm, and after forming a monomolecular film of the above compound on the water phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a monomolecular film of the above compound molecules. A monomolecular cumulative film consisting of four films was formed as a second layer on the previously formed first layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Thereafter, on the second layer formed in this way, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid is repeated twice to form two monomolecular films made of stearic acid.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 15 (layer thickness: approximately 1500 Å) was formed. Reference Example 15 [Formation of Light Emitting Layer No. 16] A substrate similar to that used in Reference Example 1 was immersed in the same aqueous phase for forming a monomolecular film as used in Reference Example 1. Next, the operation for forming a monomolecular film made of stearic acid in Reference Example 8 was repeated three times to form a monomolecular film made of stearic acid molecules on the electrode layer of the substrate.
A monomolecular cumulative film stacked in layers was formed as the third layer. Note that the stearic acid remaining on the surface of the water phase was completely removed from the surface of the water phase. Next, the electrode substrate on which the third layer was formed in this way is immersed again in the aqueous phase from which the remaining stearic acid has been completely removed, and then the electrode substrate is re-immersed.

【式】と[Formula] and

【式】及び[Formula] and

【式】 を50mol:50mol:1molの割合で、これらの総量
が1×10-3mol/の濃度となるようにクロロホ
ルムに溶解した溶液の0.5mlをこの水相上に展開
させ、表面圧を30dyne/cmに調整し、上記化合
物の単分子膜を水相上に形成させたところで基板
を水面を横切る方向に2cm/minの速度で静かに
上下に2往復させ上記化合物分子からなる単分子
膜が4層累積された単分子累積膜を第1の層とし
て先に形成した第3の層上に形成した。次に、こ
の基板を水相外に引出し、再び30分以上室温で放
置して乾燥させた。 次に、この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内
の所定の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボートの
1つにカルバゾール(mp.245℃)を入れ、他の
1つにアントラキノン(mp.286℃)を入れ、該
槽内をまず10-6Torrの真空度まで減圧した後、
アントラキノンの蒸着速度が0.1Å/sec程度にな
るようにアントラキノンの入つたボートに流れる
電流を一定とし、かつカルバゾールとアントラキ
ノンの混合物からなる蒸着層全体の蒸着速度が2
Å/secとなるようにカルバゾールの入つたボー
トに流れる電流を調整し、200Åのカルバゾール
とアントラキノンの混合物からなる蒸着層を第2
の層として先に形成した第1の層上に形成した。
なお、蒸着時に於ける槽内の真空度を9×
10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度は、20
℃とした。 以後、このように形成された第2層上に、前記
したステアリン酸からなる単分子膜の形成操作を
2回繰返してステアリン酸からなる単分子膜が2
層累積した第3の層を形成し、更にこれまでの第
1の層から第3の層までの形成操作を4回繰返し
て第1の層と第2の層の界面を4つ有する発光層
No.16(層厚;約1500Å)を形成した。 参考例 16 〔発光層No.17の形成〕 50mm角のガラス表面上にスパツタリング法によ
り膜厚1500ÅのI.T.O層を形成して透明電極層を
有する発光層形成用の基板とし、更に該層上に膜
厚1000ÅのSiO2膜をスパツタリング法により積
層し第3の層としての絶縁層とした。 この基板を抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内の所定
の位置にセツトし、更に抵抗加熱ボート内にトリ
フエニルアミン(mp.127℃)を入れ、該槽内を
まず10-6Torrの真空度まで減圧した後、蒸着速
度が2Å/secとなるように抵抗加熱ボートに流
れる電流を調整し、200Åのトリフエニルアミン
からなる蒸着層を第1の層として、先に基板の透
明電極層上に形成した第3の層上に形成した。な
お、蒸着時に於ける槽内の真空度を9×
10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度は、20
℃とした。 次に、トリフエニルアミンの代りに、アントラ
セン(mp.216℃)を使用し、先の第1の層の形
成と同様にして300Åのアントラセンからなる蒸
着層を第2の層として先に形成した第1の層上に
形成した。 更に、アントラセンの代りに、ステアリン酸メ
チル(mp.38℃)を使用し、先の第1の層の形成
と同様にして300Åのステアリン酸メチルからな
る蒸着層を新たな第3の層として先に形成した第
2の層上に形成した。 以後、上記したトリフエニルアミンからなる第
1の層からステアリン酸メチルからなる第3の層
までの形成操作をもう一度繰返し、第1の層と第
2の層の界面を2つ有する発光層No.17(層厚;約
1800Å)を形成した。 参考例 17 〔発光層No.18の形成〕 参考例1に於いて用いたのと同様の基板の電極
層上に、参考例1と同様にして膜厚1000Åの
SiO2膜をスパツタリング法により積層し第3の
層としての絶縁層とした。 このようにして第3の層を形成した後、電極基
板を、蒸着槽内にセツトしておき、更にアントラ
セン(mp.216℃)の入つたものとアントラキノ
ン(mp.286℃)の入つたものの2つの抵抗加熱
ボートを蒸着槽内にセツトし、該槽内をまず
10-6Torrの真空度まで減圧した後、アントラキ
ノンの蒸着速度が0.1Å/sec程度になるように抵
抗加熱ボートの電流を設定し、かつアントラセン
とアントラキンの混合物からなる蒸着層全体の蒸
着速度が2Å/secとなるようにアントラセノン
の入つた抵抗加熱ボートに流れる電流を調整し、
アントラセンとアントラキノンの混合物からなる
蒸着層を第1の層として先に形成した第3の層と
しての絶縁層上に形成した。なお、蒸着時に於け
る槽内の真空度を9×10-6Torrに維持し、基板
ホルダーの温度は、20℃とした。 更に抵抗加熱ボートの1つをトリフエニルアミ
ン(mp.245℃)の入つたものと交換し、他の1
つもインダゾール(mp.145℃)の入つたものと
交換し、該槽内をまず10-6Torrの真空度まで減
圧した後、インダゾールの蒸着速度が0.1Å/sec
程度になるように抵抗加熱ボートの電流を設定
し、かつトリフエニルアミンとインダゾールの混
合物からなる蒸着層全体の蒸着速度が2Å/sec
となるようにトリフエニルアミンの入つたボート
に流れる電流を調整し、200Åのトリフエニルア
ミンとインダゾールの混合物からなる蒸着層を第
2の層として先に形成した第3の層としての絶縁
層上に形成した。なお、蒸着時に於ける槽内の真
空度を9×10-6Torrに維持し、この場合の基板
ホルダーの温度も20℃とした。 引続き基板を蒸着槽内にセツトしておき、更に
抵抗加熱ボート内にステアリン酸メチル(mp.38
℃)を入れ、該槽内を10-6Torrの真空度まで減
圧した後、蒸着速度が2Å/secとなるように抵
抗加熱ボートに流れる電流を調整し、200Åのス
テアリン酸メチル層からなる蒸着層を第3の層と
して、先に形成した第2の層上に形成した。な
お、蒸着時に於ける槽内の真空度を9×
10-6Torrに維持し、この場合の基板ホルダーの
温度も20℃とした。 以後、上記した第1の層から第3の層までの形
成操作を4回繰返して第1の層と第2の層の界面
を4つ有する発光層No.18(層厚;約2400Å)を形
成した。 参考例 18 〔発光層No.19の形成〕 参考例1に於いて用いたのと同様の基板の電極
層上に、参考例1と同様にして膜厚1000Åの
SiO2膜をスパツタリング法により積層し第3の
層としての絶縁層とした。 このようにして第3の層を形成した後、電極基
板を、抵抗加熱蒸着装置の蒸着槽内にセツトし、
更にトリフエニルアミン(mp.127℃)の入つた
ものと、アントラキノン(mp.286℃)の入つた
ものの2つの抵抗加熱ボートを蒸着槽内にセツト
し、該槽内をまず10-6Torrの真空度まで減圧し
た後、アントラキノンの蒸着速度が0.1Å/sec程
度になるようにアントラキノンの入つたボートに
流れる電流を一定とし、かつトリフエニルアミン
とアントラキノンの混合物からなる蒸着層全体の
蒸着速度が2Å/secとなるようにトリフエニル
アミンの入つたボートに流れる電流を調整し、
200Åのトリフエニルアミンとアントラキノンの
混合物からなる蒸着層を第1の層として先に形成
した第3の層としての絶縁層上に形成した。な
お、蒸着時に於ける槽内の真空度を9×
10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度は、20
℃とした。 更に抵抗加熱ボートの1つをアントラセン
(mp.216℃)の入つたものと交換し、他の1つも
インダゾール(mp.145℃)の入つたものと交換
し、該槽内をまず10-6Torrの真空度まで減圧し
た後、インダゾールの蒸着速度が0.1Å/sec程度
になるようにイダルの入つた抵抗加熱ボートに流
れる電流を一定とし、かつアントラセンとインダ
ゾールの混合物からなる蒸着層全体の蒸着速度が
2Å/secとなるようにアントラセンの入つたボ
ートに流れる電流を調整し、200Åのアントラセ
ンとインダゾールの混合物からなる蒸着層を第2
の層として先に形成した第3の層としての絶縁層
上に形成した。なお、この場合も、蒸着時に於け
る槽内の真空度を9×10-6Torrに維持し、基板
ホルダーの温度も20℃とした。 引続き基板を蒸着槽内にセツトしておき、更に
抵抗加熱ボート内にステアリン酸メチル(mp.38
℃)を入れ、該槽内を10-6Torrの真空度まで減
圧した後、蒸着速度が2Å/secとなるように抵
抗加熱ボートに流れる電流を調整し、200Åのス
テアリン酸メチル層からなる蒸着層を第3の層と
して、先に形成した第2の層上に形成した。な
お、この場合も、蒸着時に於ける槽内の真空度を
9×10-6Torrに維持し、基板ホルダーの温度も
20℃とした。 以後、上記した第1の層から第3の層までの形
成操作を4回繰返して第1の層と第2の層の界面
を4つ有する発光層No.19(層厚;約2400Å)を形
成した。 実施例 第1図に示した構造の本発明のEL素子の形成
を以下のようにして実施した。 50mm角のガラス表面上にスパツタリング法によ
り膜厚1500ÅのI.T.O層を蒸着して透明電極層1
を形成した。 次に、この透明電極層1上に参考例16〜18に於
いて形成した発光層(No.17〜No.19)のいずれか1
つを発光層4として形成した後、この発光層4の
形成された基板を、真空蒸着装置の蒸着槽内の所
定の位置にセツトし、該槽内を一度1×
10-6Torrの真空度まで減圧した後、該槽内の真
空度を9×10-6Torrに調整し、蒸着速度5Å/
secで50Åの膜厚のAu層を発光層4の最上部に位
置する第3の層上に形成し、半透明電極層3とし
た。 更に、半透明電極層3上にに参考例1〜15に於
いて形成した発光層(No.1〜No.16)のいずれか1
つを単分子膜または単分子累積膜を有する発光層
5として形成した後、この発光層5の形成された
基板を、真空蒸着装置の蒸着槽内の所定の位置に
再びセツトし、該槽内を一度1×10-6Torrの真
空度まで減圧した後、今回は該槽内の真空度を1
×10-5Torrに調整し、蒸着速度20Å/secで1500
Åの膜厚のAl層を発光層5の最上部に位置する
第3の層上に形成し、透明でない背面電極層2と
して発光層No.1〜No.16から選ばれた1つと、発光
層No.17〜No.19から選ばれた1つとを、発光層4と
発光層5として組み合わせて本発明のEL素子を
計48個形成した。 これらの本発明のEL素子のそれぞれを第5図
に示すように、シールガラス51でシールした
後、常法に従つて精製、脱気及び脱水処理された
シリコンオイル52をシール中に注入して、EL
セル50を形成した。 このようなELセルのそれぞれについて、電極
層1,3間及び電極層2,3間に、交流電圧
(20V、400Hz)を印加して、発光させ、発光に於
ける輝度及び電流密度を測定したところ、0.08〜
0.13mA/cm2の範囲の電流密度及び20〜40ft−L
の範囲の輝度が測定された。
[Formula] was dissolved in chloroform at a ratio of 50 mol: 50 mol: 1 mol so that the total concentration was 1 x 10 -3 mol/, and 0.5 ml of the solution was developed on this aqueous phase, and the surface pressure was increased. 30 dyne/cm, and after forming a monomolecular film of the above compound on the aqueous phase, the substrate was gently moved up and down twice at a speed of 2 cm/min in the direction across the water surface to form a monomolecular film of the above compound molecules. A monomolecular cumulative film consisting of four layers was formed as a first layer on the previously formed third layer. Next, this substrate was taken out of the aqueous phase and left to dry again at room temperature for 30 minutes or more. Next, this substrate was set in a predetermined position in the evaporation tank of the resistance heating evaporation equipment, and carbazole (mp. 245°C) was placed in one of the resistance heating boats, and anthraquinone (mp. 286°C) was placed in the other one. ℃), and after first reducing the pressure inside the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr,
The current flowing through the boat containing anthraquinone is kept constant so that the deposition rate of anthraquinone is approximately 0.1 Å/sec, and the deposition rate of the entire deposited layer consisting of a mixture of carbazole and anthraquinone is 2.
The current flowing through the boat containing carbazole was adjusted so that the current was
The second layer was formed on the previously formed first layer.
In addition, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition was set to 9×
Maintain the temperature of the substrate holder at 10 -6 Torr, 20
℃. Thereafter, on the second layer formed in this way, the above-described operation for forming a monomolecular film made of stearic acid is repeated twice to form two monomolecular films made of stearic acid.
A light-emitting layer having four interfaces between the first layer and the second layer is formed by forming a third layer in which the layers are stacked, and repeating the forming operation from the first layer to the third layer four times.
No. 16 (layer thickness: approximately 1500 Å) was formed. Reference Example 16 [Formation of light-emitting layer No. 17] An ITO layer with a thickness of 1500 Å was formed on a 50 mm square glass surface by sputtering method to form a substrate for forming a light-emitting layer having a transparent electrode layer, and further on the layer. A SiO 2 film with a thickness of 1000 Å was laminated by sputtering to form an insulating layer as a third layer. This substrate was set in a predetermined position in the evaporation tank of the resistance heating evaporation equipment, and then triphenylamine (mp. 127°C) was placed in the resistance heating boat, and the tank was first brought to a vacuum level of 10 -6 Torr. After reducing the pressure, adjust the current flowing through the resistance heating boat so that the deposition rate is 2 Å/sec, and first form a 200 Å vapor deposition layer of triphenylamine on the transparent electrode layer of the substrate. was formed on the third layer. In addition, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition was set to 9×
Maintain the temperature of the substrate holder at 10 -6 Torr, 20
℃. Next, instead of triphenylamine, anthracene (mp. 216°C) was used, and a 300 Å vapor-deposited layer of anthracene was formed as the second layer in the same manner as in the formation of the first layer. formed on the first layer. Furthermore, methyl stearate (mp. 38°C) was used instead of anthracene, and a 300 Å deposited layer of methyl stearate was formed as a new third layer in the same manner as in the formation of the first layer. It was formed on the second layer formed in . Thereafter, the above-described formation operation from the first layer made of triphenylamine to the third layer made of methyl stearate is repeated once again to obtain light emitting layer No. 1 having two interfaces between the first layer and the second layer. 17 (layer thickness; approx.
1800 Å) was formed. Reference Example 17 [Formation of Light Emitting Layer No. 18] A film with a thickness of 1000 Å was formed in the same manner as in Reference Example 1 on the electrode layer of the same substrate as that used in Reference Example 1.
A SiO 2 film was laminated by sputtering to form an insulating layer as a third layer. After forming the third layer in this way, the electrode substrates were set in the vapor deposition tank, and the electrode substrates were further coated with one containing anthracene (mp. 216°C) and one containing anthraquinone (mp. 286°C). Two resistance heating boats are set in a deposition tank, and the inside of the tank is first heated.
After reducing the pressure to a vacuum level of 10 -6 Torr, the current of the resistance heating boat was set so that the deposition rate of anthraquinone was approximately 0.1 Å/sec, and the deposition rate of the entire deposited layer consisting of a mixture of anthracene and anthraquine was Adjust the current flowing through the resistance heating boat containing anthracenone so that it is 2 Å/sec,
A vapor deposited layer consisting of a mixture of anthracene and anthraquinone was formed on the insulating layer as the third layer, which was previously formed as the first layer. The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was 20°C. Furthermore, one of the resistance heating boats was replaced with one containing triphenylamine (mp. 245°C), and the other
The tank was replaced with one containing indazole (mp. 145°C), and the inside of the tank was first reduced to a vacuum level of 10 -6 Torr, and the indazole deposition rate was 0.1 Å/sec.
The current of the resistance heating boat was set so that the deposition rate of the entire deposited layer consisting of a mixture of triphenylamine and indazole was 2 Å/sec.
Adjust the current flowing through the boat containing triphenylamine so that was formed. The degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder in this case was also 20°C. Next, set the substrate in the vapor deposition tank, and then add methyl stearate (mp.38
After reducing the pressure in the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr, the current flowing through the resistance heating boat was adjusted so that the deposition rate was 2 Å/sec, and a 200 Å methyl stearate layer was deposited. A third layer was formed over the previously formed second layer. In addition, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition is 9×
The temperature was maintained at 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder in this case was also 20°C. Thereafter, the above-described formation operation from the first layer to the third layer was repeated four times to form light-emitting layer No. 18 (layer thickness: approximately 2400 Å) having four interfaces between the first layer and the second layer. Formed. Reference Example 18 [Formation of Light Emitting Layer No. 19] A film with a thickness of 1000 Å was formed in the same manner as in Reference Example 1 on the electrode layer of the same substrate as that used in Reference Example 1.
A SiO 2 film was laminated by sputtering to form an insulating layer as a third layer. After forming the third layer in this way, the electrode substrate is set in the vapor deposition tank of the resistance heating vapor deposition apparatus,
Furthermore, two resistance heating boats, one containing triphenylamine (mp. 127°C) and the other containing anthraquinone (mp. 286°C), were set in the vapor deposition tank, and the tank was first heated to 10 -6 Torr. After reducing the pressure to a vacuum level, the current flowing through the boat containing anthraquinone was kept constant so that the deposition rate of anthraquinone was approximately 0.1 Å/sec, and the deposition rate of the entire deposited layer consisting of a mixture of triphenylamine and anthraquinone was Adjust the current flowing through the boat containing triphenylamine so that it is 2 Å/sec,
A vapor deposited layer of 200 Å of a mixture of triphenylamine and anthraquinone was formed on the insulating layer as the third layer that had been previously formed as the first layer. In addition, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition was set to 9×
Maintain the temperature of the substrate holder at 10 -6 Torr, 20
℃. Furthermore, one of the resistance heating boats was replaced with one containing anthracene (mp. 216°C), and the other one was also replaced with one containing indazole (mp. 145°C), and the inside of the tank was first heated to 10 -6 After reducing the pressure to a vacuum level of Torr, the current flowing through the resistance heating boat containing Idal was kept constant so that the indazole deposition rate was approximately 0.1 Å/sec, and the entire deposited layer consisting of a mixture of anthracene and indazole was deposited. The current flowing through the boat containing anthracene was adjusted so that the speed was 2 Å/sec, and a second vapor-deposited layer consisting of a mixture of anthracene and indazole with a thickness of 200 Å was applied.
This layer was formed on the insulating layer as the third layer formed previously. In this case as well, the degree of vacuum in the tank during vapor deposition was maintained at 9 x 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was also set at 20°C. Next, set the substrate in the vapor deposition tank, and then add methyl stearate (mp.38
After reducing the pressure in the tank to a vacuum level of 10 -6 Torr, the current flowing through the resistance heating boat was adjusted so that the deposition rate was 2 Å/sec, and a 200 Å methyl stearate layer was deposited. A third layer was formed over the previously formed second layer. In this case as well, the degree of vacuum in the tank during deposition was maintained at 9 × 10 -6 Torr, and the temperature of the substrate holder was also controlled.
The temperature was 20℃. Thereafter, the above-described formation operation from the first layer to the third layer was repeated four times to form light-emitting layer No. 19 (layer thickness: approximately 2400 Å) having four interfaces between the first layer and the second layer. Formed. Example An EL element of the present invention having the structure shown in FIG. 1 was formed as follows. Transparent electrode layer 1 was formed by depositing an ITO layer with a thickness of 1500 Å on a 50 mm square glass surface by sputtering method.
was formed. Next, any one of the light emitting layers (No. 17 to No. 19) formed in Reference Examples 16 to 18 on this transparent electrode layer 1
After forming one light-emitting layer 4, the substrate on which the light-emitting layer 4 was formed was set at a predetermined position in a vapor deposition tank of a vacuum evaporation apparatus, and the inside of the tank was heated once by 1x.
After reducing the pressure to a vacuum level of 10 -6 Torr, the vacuum level in the tank was adjusted to 9 x 10 -6 Torr, and the deposition rate was 5 Å/
An Au layer with a thickness of 50 Å was formed on the third layer located at the top of the light-emitting layer 4 to form the semi-transparent electrode layer 3. Furthermore, any one of the light emitting layers (No. 1 to No. 16) formed in Reference Examples 1 to 15 on the semitransparent electrode layer 3
After forming one as a light-emitting layer 5 having a monomolecular film or a monomolecular cumulative film, the substrate on which this light-emitting layer 5 has been formed is again set at a predetermined position in the evaporation tank of the vacuum evaporation apparatus. After reducing the pressure to a vacuum level of 1 × 10 -6 Torr, this time the vacuum level inside the tank was reduced to 1 × 10 -6 Torr.
Adjusted to ×10 -5 Torr, 1500 at a deposition rate of 20 Å/sec
An Al layer with a thickness of 1.5 Å is formed on the third layer located at the top of the light-emitting layer 5, and one selected from light-emitting layers No. 1 to No. 16 as the non-transparent back electrode layer 2 and the light-emitting One selected from layers No. 17 to No. 19 was combined as the light emitting layer 4 and the light emitting layer 5 to form a total of 48 EL elements of the present invention. As shown in FIG. 5, each of these EL elements of the present invention is sealed with a sealing glass 51, and then silicone oil 52 that has been purified, degassed, and dehydrated according to a conventional method is injected into the seal. ,EL
A cell 50 was formed. For each of these EL cells, an AC voltage (20 V, 400 Hz) was applied between electrode layers 1 and 3 and between electrode layers 2 and 3 to cause them to emit light, and the brightness and current density of the light emission were measured. However, 0.08~
Current density in the range of 0.13mA/ cm2 and 20-40ft-L
A range of brightness was measured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のEL素子の模式的断面図、第
2図は本発明のEL素子の有する発光層の一例の
模式的断面図、第3図は単分子膜形成用化合物の
分子構造の模式図、第4図は本発明のEL素子の
有する第1の層と第2の層の界面に於ける分子の
配列の一例を示す模式図、第5図は本発明EL素
子の組み込まれたELセルの模式的断面図である。 1:透明電極層、3:透明または半透明な電極
層、2:電極層、4,5:発光層、21−1,2
1−2:第1の層、22−1,22−2:第2の
層、23−1,23−2,23−3:第3の層、
24−1,24−2:界面、31,31′:機能
性部分、32,32′:親水性部分、33,3
3′:疎水性部分、50:EL素子、51:ガラス
シール、52:シリコンオイル、53:ELセル。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an EL device of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a light-emitting layer included in an EL device of the present invention, and FIG. A schematic diagram, FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the arrangement of molecules at the interface between the first layer and the second layer of the EL device of the present invention, and FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an EL cell. 1: Transparent electrode layer, 3: Transparent or translucent electrode layer, 2: Electrode layer, 4, 5: Luminescent layer, 21-1, 2
1-2: first layer, 22-1, 22-2: second layer, 23-1, 23-2, 23-3: third layer,
24-1, 24-2: Interface, 31, 31': Functional part, 32, 32': Hydrophilic part, 33, 3
3': hydrophobic part, 50: EL element, 51: glass seal, 52: silicone oil, 53: EL cell.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 少なくとも一方が透明である2つの電極層
と、これら2つの電極層間に設けられた、2つの
発光層と、これら2つの発光層間に設けられた透
明または半透明な電極層とを有してなる3端子電
界発光素子であつて、前記発光層の少なくともい
ずれか一方が、相対的に電子受容性を示す有機化
合物を含む第1の層と、相対的に電子供与性を示
す有機化合物を含む第2の層と、電気絶縁性を有
する第3の層とを有し、これらの層が、前記電極
層の一方から他方に向かつて前記第3の層上に前
記第1の層、第2の層及び第3の層がこの順に2
回以上繰り返されて積層されており、更にこれら
第1の層、第2の層及び第3の層の少なくともい
ずれか一層が、単分子膜または単分子累積膜から
なるものであることを特徴とする3端子電界発光
素子。
1 Comprising two electrode layers, at least one of which is transparent, two light-emitting layers provided between these two electrode layers, and a transparent or translucent electrode layer provided between these two light-emitting layers. a three-terminal electroluminescent device, in which at least one of the light-emitting layers includes a first layer containing an organic compound relatively exhibiting electron-accepting property and an organic compound relatively exhibiting electron-donating property. a second layer and a third layer having electrically insulating properties, and these layers are arranged on the third layer from one side of the electrode layer to the other. and the third layer are 2 in this order.
The first layer, the second layer, and the third layer are laminated repeatedly at least one time, and at least one of the first layer, the second layer, and the third layer is composed of a monomolecular film or a monomolecular cumulative film. 3-terminal electroluminescent device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107230494A (en) * 2016-03-23 2017-10-03 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 The method and all solid state electronically written light for regulating and controlling fluorescent material luminescent properties under solid-state environment read memory cell

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6338908B1 (en) 1998-06-26 2002-01-15 Tdk Corporation Organic electroluminescent device
JP4142782B2 (en) 1998-06-26 2008-09-03 Tdk株式会社 Organic EL device
JP2000100575A (en) 1998-07-24 2000-04-07 Tdk Corp Organic el element
EP1683395A2 (en) * 2003-11-03 2006-07-26 Bayer (Schweiz) AG Electroluminescent system
EP1836001A4 (en) 2004-12-30 2009-08-05 Du Pont Organic electronic devices and methods

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5235587A (en) * 1975-08-18 1977-03-18 Ici Ltd Electric or electronic element
JPS5751781A (en) * 1980-07-17 1982-03-26 Eastman Kodak Co Organic electroluminiscent cell and method
JPS589190A (en) * 1981-07-10 1983-01-19 日本電信電話株式会社 Multicolor display electroluminescence element

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5235587A (en) * 1975-08-18 1977-03-18 Ici Ltd Electric or electronic element
JPS5751781A (en) * 1980-07-17 1982-03-26 Eastman Kodak Co Organic electroluminiscent cell and method
JPS589190A (en) * 1981-07-10 1983-01-19 日本電信電話株式会社 Multicolor display electroluminescence element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107230494A (en) * 2016-03-23 2017-10-03 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 The method and all solid state electronically written light for regulating and controlling fluorescent material luminescent properties under solid-state environment read memory cell
CN107230494B (en) * 2016-03-23 2020-05-08 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 Method for regulating and controlling luminescent property of fluorescent material in solid-state environment and all-solid-state electro-optical writing optical reading storage unit

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