JPH0445527U - - Google Patents

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JPH0445527U
JPH0445527U JP8558890U JP8558890U JPH0445527U JP H0445527 U JPH0445527 U JP H0445527U JP 8558890 U JP8558890 U JP 8558890U JP 8558890 U JP8558890 U JP 8558890U JP H0445527 U JPH0445527 U JP H0445527U
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ammonia gas
gas
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ammonia
exhaust gas
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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Pipeline Systems (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る排ガス配管構造の実施例
を示す説明図、第2図は従来の排ガス配管構造の
実施例を示す説明図である。 10……薄膜形成装置、18……ブースタポン
プ、20……ロータリポンプ、22……排ガス配
管、24……スプレー式除害装置、30……アン
モニアガス供給装置、38……ガスセンサ、40
……制御装置、44……pH計。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 酸性ガスが通過する排ガス配管内にアンモ
    ニアガスを供給するアンモニアガス供給装置を連
    通し、前記酸性ガスをアンモニアガス供給装置か
    らのアンモニアガスで中和反応させることを特徴
    とする排ガス配管構造。 (2) 前記アンモニアガス供給装置の後流側のガ
    ス配管内に取付けられると共に、酸性ガス濃度を
    検知してアンモニアガス供給装置からのアンモニ
    アガス供給量をフイードバツク制御する第1の制
    御手段を設けたことを特徴とする請求項(1)記載
    の排ガス配管構造。 (3) 前記排ガス配管に連結されたスプレー式除
    害装置のスプレー用水中に前記アンモニアガス供
    給装置からのアンモニアガス供給量をフイードバ
    ツク制御する第2の制御手段を設けたことを特徴
    とする請求項(1)記載の排ガス配管構造。
JP8558890U 1990-08-13 1990-08-13 Pending JPH0445527U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01176429A (ja) * 1987-12-28 1989-07-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 脱ハロゲンを伴う排煙脱硫法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01176429A (ja) * 1987-12-28 1989-07-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 脱ハロゲンを伴う排煙脱硫法

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