JPH0441671A - Device for replacing monitor glass of optical film thickness monitor - Google Patents

Device for replacing monitor glass of optical film thickness monitor

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JPH0441671A
JPH0441671A JP14814490A JP14814490A JPH0441671A JP H0441671 A JPH0441671 A JP H0441671A JP 14814490 A JP14814490 A JP 14814490A JP 14814490 A JP14814490 A JP 14814490A JP H0441671 A JPH0441671 A JP H0441671A
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glass
rotor
station
cartridge
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Shinichi Yamabe
真一 山辺
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Abstract

PURPOSE:To house many monitor glasses in a holder without enlarging the holder and to improve the precision and thickness controllability in forming a film by putting may monitor glasses on one another in a supply cartridge and controlling the monitor glass to the same temp. as a substrate to be film- formed. CONSTITUTION:Many monitor glasses GM are put on one another in a supply cartridge 21. A rotor 18 having plural glass holding parts 20 at the upper part of the periphery is repeatedly lifted up and down and intermittently turned to a specified angle each time. The glasses in the cartridge 21 are held by the holding part 20 one by one from the lowermost glass and discharged from a discharge part 35 by the ascent and descent of the rotor 18. The glass is supplied to the monitor position, and the used glass on the holding part 20 is returned into a return cartridge by the rotation and subsequent descent of the rotor. The glass is exposed in a vacuum vessel 1 and preheated before being used. The supply cartridge 21 and the return cartridge 32 are made detechable from a station and integrated.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、真空成膜装置により成膜される基板の膜厚を
モニタガラスによりリアルタイムでモニタするための光
学式膜厚モニタにおいて、そのモニタガラスを交換する
交換装置に関する。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to an optical film thickness monitor for monitoring in real time the film thickness of a substrate formed by a vacuum film forming apparatus using a monitor glass. The present invention relates to an exchange device for exchanging glass.

(従来の技術) 従来より、この種の光学式膜厚モニタとして、投光器、
ミラーボックス、モニタガラス、受光器、計測器本体等
からなり、モニタガラスを基板治具ドームの回転中心近
くで真空槽内の基板と同等の成膜条件が得られる位置に
配置しておき、そのモニタガラスに投光器からの検知光
を照射して反射させ、その反射光量の変化を受光器で検
知して膜厚を計測するようにしたものが公知である。
(Prior art) Conventionally, this type of optical film thickness monitor has been equipped with a projector,
It consists of a mirror box, monitor glass, light receiver, measuring instrument body, etc. The monitor glass is placed near the rotation center of the substrate jig dome in a position where the same film forming conditions as the substrate in the vacuum chamber can be obtained. It is known that a monitor glass is irradiated with detection light from a projector and reflected, and a change in the amount of reflected light is detected by a light receiver to measure the film thickness.

この膜厚モニタでは、モニタガラスからの反射光のうち
、フィルタを介して特定波長の単色光のみを受光器に導
入し、これを光電変換して膜厚の計測を行う。このとき
、単色光の反射率は、膜厚の増加に伴ってサインカーブ
状に連続して増減する。つまり、膜厚が単色光の半波長
の整数倍(0倍を含む)のときに反射率(反射光量)が
最大となり、膜厚が単色光の1/4波長の整数倍のとき
に最小の反射率となる。
In this film thickness monitor, of the light reflected from the monitor glass, only monochromatic light of a specific wavelength is introduced into a light receiver through a filter, and this is photoelectrically converted to measure the film thickness. At this time, the reflectance of monochromatic light continuously increases and decreases in a sine curve shape as the film thickness increases. In other words, the reflectance (reflected light amount) is maximum when the film thickness is an integral multiple (including 0 times) of a half wavelength of monochromatic light, and is minimum when the film thickness is an integral multiple of a quarter wavelength of monochromatic light. This is the reflectance.

ところで、上記基板に多数の成膜を層状に形成して多層
化する場合、例えば真空槽の上壁にそれを貫通して回転
可能に支持された円筒状ドーム回転軸の下端に基板治具
ドームを設けてなる吊下げ式ドーム回転機構に対し、そ
のドーム回転軸内に回転軸を回転可能に挿通支持し、こ
の回転軸の下端にガラスホルダを設け、該ガラスホルダ
の外周部に複数のモニタガラスを配設し、ガラスホルダ
を回転させてモニタガラスを逐次交換することにより、
各成膜の膜厚をモニタするようにしたモニタガラス交換
装置が知られている。
By the way, when forming multiple layers on the substrate to form a multilayer structure, for example, a substrate jig dome is attached to the lower end of a cylindrical dome rotating shaft that is rotatably supported by penetrating the upper wall of a vacuum chamber. A hanging dome rotating mechanism is provided with a dome rotating mechanism, a rotating shaft is rotatably inserted and supported within the dome rotating shaft, a glass holder is provided at the lower end of the rotating shaft, and a plurality of monitors are mounted on the outer periphery of the glass holder. By installing the glass and rotating the glass holder to replace the monitor glass one by one,
A monitor glass replacement device is known that monitors the thickness of each film formed.

(発明が解決しようとする課題) しかし、近年、成膜の数は多層化する傾向にあり、それ
に伴いモニタガラスの必要枚数が増加する。ところが、
上記従来のモニタガラス交換装置では、ガラスホルダに
モニタガラスを平面上に並べる構造であるので、ホルダ
を大きくすることなくモニタガラスの枚数を増加させる
ことは難しく、40枚程度が限度である。しかも、ガラ
スホルダが真空槽内上部に配置されるので、基板の成膜
の妨げになり易いという問題もある。
(Problem to be Solved by the Invention) However, in recent years, there has been a tendency for the number of layers to be formed to be multilayered, and the number of required monitor glasses has accordingly increased. However,
Since the conventional monitor glass replacement device described above has a structure in which the monitor glasses are arranged on a plane in a glass holder, it is difficult to increase the number of monitor glasses without increasing the size of the holder, and the number of monitor glasses is limited to about 40. Moreover, since the glass holder is disposed at the upper part of the vacuum chamber, there is a problem in that it tends to interfere with film formation on the substrate.

本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもので、その目的
は、モニタガラス交換装置に改良を加えることで、モニ
タガラスを基板と同等の成膜条件に温度管理をしながら
、限られたスペースであっても多数枚のモニタガラスを
収容できるようにし、各成膜の膜厚制御性や精度を向上
できるようにすることにある。
The present invention has been made in view of the above points, and its purpose is to improve the monitor glass replacement device so that it can be used in a limited space while controlling the temperature of the monitor glass to the same film forming conditions as the substrate. The purpose is to make it possible to accommodate a large number of monitor glasses, and to improve the controllability and accuracy of the film thickness of each film.

(課題を解決するための手段) このため、請求項(1)に係る発明の解決手段は、多数
枚のモニタガラスを供給カートリッジ内に積み重ねて保
持し、外周上部に複数のガラス保持部を有する回転子を
昇降を繰り返しながら所定角度ずつ間欠的に回動させ、
この回転子の上昇動作及びその後の回動により供給カー
トリッジ内のモニタガラスを最下端のものから1枚ずつ
ガラス保持部に保持して取出し口から取り出し、これを
モニタ位置に供給するとともに、その後、回転子の回動
及びその後の下降動作によりガラス保持部の使用済みの
モニタガラスを戻入れカートリッジ内に下部の戻入れ口
から戻すようにした。
(Means for Solving the Problem) Therefore, the solution of the invention according to claim (1) is to stack and hold a large number of monitor glasses in a supply cartridge, and to have a plurality of glass holding parts at the upper part of the outer periphery. The rotor is moved up and down intermittently by a predetermined angle,
By this upward movement and subsequent rotation of the rotor, the monitor glasses in the supply cartridge are held one by one in the glass holder starting from the lowest one and taken out from the take-out port, and are supplied to the monitor position, and then, The used monitor glass of the glass holder is returned to the cartridge through the return opening at the bottom by the rotation of the rotor and the subsequent downward movement.

具体的には、この発明では、真空槽内で成膜される基板
と同等の成膜条件となる位置に配設されたモニタガラス
へ検知光を照射し、その入射光と反射光との対比に基づ
いて上記基板への膜厚をモニタするようにした光学式膜
厚モニタが前提である。
Specifically, in this invention, detection light is irradiated onto a monitor glass placed at a position where film formation conditions are equivalent to those of a substrate to be formed into a film in a vacuum chamber, and the incident light and reflected light are compared. The premise is an optical film thickness monitor that monitors the film thickness on the substrate based on the above.

これに対し、まず、真空槽の上壁に回転可能にかつ摺動
可能に支持され、下端が真空槽内に臨む回転軸と、該回
転軸の下端に回転一体に取り付けられた回転子と、上記
回転子を駆動する駆動手段とを設ける。この駆動手段は
、回転子に対し、−定ストロークだけ上昇する上昇動作
と、該上昇動作と同じストロークだけ下降する下降動作
と、上記上昇及び下降動作の間に回転軸回りに一定の角
度だけ回動する動作とを繰り返して行わせるようにする
On the other hand, first, a rotating shaft is rotatably and slidably supported on the upper wall of the vacuum chamber, and the lower end faces into the vacuum chamber, and a rotor is rotatably attached to the lower end of the rotating shaft. and driving means for driving the rotor. This drive means moves the rotor upward by a fixed stroke, descends by the same stroke as the upward movement, and rotates the rotor by a fixed angle around the rotation axis between the upward and downward movements. Have the child perform the same motion repeatedly.

上記回転子について、回転中心から一定半径の円周上の
所定位置に上下に貫通する複数の開口を形成し、該各開
口の上縁部には、モニタガラスを略直径方向に対向する
周縁部て嵌合保持する1対の段部からなるガラス保持部
を設ける。
For the rotor, a plurality of openings are formed at predetermined positions on the circumference at a constant radius from the center of rotation, and the upper edge of each opening has a peripheral edge that faces the monitor glass in a substantially diametrical direction. A glass holding part is provided, which consists of a pair of stepped parts that fit and hold together.

上記回転子のガラス保持部が上昇又は下降動作するモニ
タステーションに、ガラス保持部により保持されたモニ
タガラスに対する入射光及び反射光を通過させる光路を
回転軸と平行にかつ中心が上記回転子の開口の周回軌跡
と交差するように配置する。
The optical path for passing the incident light and the reflected light from the monitor glass held by the glass holder is set to a monitor station where the glass holder of the rotor moves up or down, and the optical path is parallel to the rotation axis and the center is the aperture of the rotor. Place it so that it intersects the orbital trajectory of.

また、上記モニタステーションよりも回転方向前側で、
回転子のガラス保持部が上昇移動する供給ステーション
に、多数枚のモニタガラスを積み重ねて収容する筒状の
供給カートリッジを配置する。
Also, at the front side of the monitor station in the rotational direction,
A cylindrical supply cartridge that stores a large number of monitor glasses in a stacked manner is arranged at a supply station where a glass holding part of a rotor moves upward.

さらに、上記供給ステーションよりも回転方向前側かつ
モニタステーションよりも回転方向後側で、回転子のガ
ラス保持部が下降移動する戻入れステーションに、多数
枚のモニタガラスを積み重ねて収容可能な筒状の戻入れ
カートリッジを配置する。
Further, a return station, in which the glass holding part of the rotor moves downward, is located at the front side of the supply station in the rotational direction and the rear side of the monitor station in the rotational direction. Place the return cartridge.

上記供給カートリッジの底壁に、回転子のガラス保持部
が挿通可能な挿通孔を開口させ、同カートリッジにおけ
る回転子の回転方向後側に相当する側壁下部には、最下
段のモニタガラスのみを水平横方向に挿通可能な取出し
口を切欠形成する。
An insertion hole through which the glass holder of the rotor can be inserted is opened in the bottom wall of the supply cartridge, and only the lowest monitor glass is inserted horizontally at the bottom of the side wall of the cartridge, which corresponds to the rear side in the rotational direction of the rotor. A cutout is formed to allow insertion in the horizontal direction.

一方、戻入れカートリッジの底壁には、回転子のガラス
保持部が挿通可能な挿通孔を開口させる。
On the other hand, the bottom wall of the return cartridge has an insertion hole through which the glass holding portion of the rotor can be inserted.

また、同カートリッジにおける回転子の回転方向前側に
相当する側壁下部には、1枚のモニタガラスを水平横方
向にスライドさせて内部に挿入可能な戻入れ口を切欠形
成する。そして、上記取出し口と戻入れ口とは同じ高さ
位置に配置する。
Further, in the lower part of the side wall of the cartridge, which corresponds to the front side in the rotational direction of the rotor, a return opening is formed into which a piece of monitor glass can be inserted into the cartridge by sliding it in the horizontal and lateral directions. The take-out port and the return port are arranged at the same height.

そして、回転子のガラス保持部が供給ステーションで上
昇して供給カートリッジの最下端のモニタガラスを保持
し、回転子の回動によりモニタガラスを取出し口から取
り出す一方、上昇位置での回転子の回動によりガラス保
持部が戻入れステーションでモニタガラスを戻入れ口か
ら戻入れカートリッジの内底部に押し込み、回転子の下
降によりモニタガラスの保持を解除するように構成する
Then, the glass holding part of the rotor rises at the supply station to hold the monitor glass at the bottom of the supply cartridge, and the rotation of the rotor takes out the monitor glass from the outlet, while the rotor rotates in the raised position. The glass holder is configured to push the monitor glass from the return port into the inner bottom of the return cartridge at the return station by the movement, and release the monitor glass from being held by the lowering of the rotor.

請求項(2)1こ係る発明では、供給ステーションより
も回転方向後側でかつモニタステーションよりも回転方
向前側に、ガラス保持部のモニタガラスを真空槽内に晒
して予備加熱する加熱ステーションを設ける。
Claim (2) 1 In this invention, a heating station is provided at the rear of the supply station in the rotational direction and at the front of the monitor station in the rotational direction for preheating the monitor glass of the glass holder by exposing it to a vacuum chamber. .

また、請求項(3)に係る発明では、供給カートリッジ
と戻入れカートリッジとをそれぞれステーションから取
外し可能で、かつ互いに一体に結合する。
Further, in the invention according to claim (3), the supply cartridge and the return cartridge are respectively removable from the station and are integrally coupled to each other.

(作用) 上記の構成により、請求項(1)に係る発明では、駆動
手段により回転子が昇降動作と回動動作とを交互に繰り
返し、回転子の上昇動作により、その1つのガラス保持
部が供給ステーションで上昇して供給カートリッジの最
下端のモニタガラスヲ保持する。その後、引き続いて回
転子が上昇位置のまま回動すると、ガラス保持部に保持
されたモニタガラスはカートリッジの取出し口から取り
出される。この後の回転子の回動及び昇降動作の繰返し
によりモニタガラスは光路に対応するモニタステーショ
ンに位置付けられ、そこで基板の膜厚モニタのために使
用される。
(Function) With the above configuration, in the invention according to claim (1), the rotor alternately repeats the raising and lowering operation and the rotating operation by the driving means, and the raising operation of the rotor causes the one glass holder to move. It rises at the supply station to hold the monitor glass at the bottom of the supply cartridge. Thereafter, when the rotor continues to rotate while remaining in the raised position, the monitor glass held by the glass holder is taken out from the take-out opening of the cartridge. The monitor glass is then positioned at a monitor station corresponding to the optical path by repeating the rotating and raising/lowering operations of the rotor, and is used there for monitoring the film thickness of the substrate.

この使用後、モニタガラスは回転子の回動及び昇降動作
によりモニタステーションから排出され、回転子が上昇
位置にあるときに戻入れステーションの1つ前のステー
ションに位置付けられる。そして、回転子が上昇位置の
まま回動すると、モニタガラスは戻入れ口から戻入れカ
ートリッジの内底部に押し込まれ、引き続いて回転子が
下降すると、モニタガラスはガラス保持部から離れて戻
入れカートリッジ内に移載される。
After this use, the monitor glass is ejected from the monitor station by the rotating and raising/lowering motion of the rotor, and is positioned at the station immediately preceding the return station when the rotor is in the raised position. When the rotor rotates while remaining in the raised position, the monitor glass is pushed into the inner bottom of the returned cartridge through the return opening, and when the rotor continues to descend, the monitor glass is separated from the glass holder and removed from the returned cartridge. It will be transferred within.

以上の動作を回転子の各ガラス保持部について行わせる
ことにより、供給カートリッジ内の多数枚のモニタガラ
スを最下端のものがら順に取り出し、それを成膜モニタ
に供した後、戻入れカートリッジに戻すことができる。
By performing the above operation for each glass holding part of the rotor, a large number of monitor glasses in the supply cartridge are taken out in order from the lowest one, used for the film formation monitor, and then returned to the return cartridge. be able to.

従って、このように多数枚のモニタガラスを積み重ねて
収容し、使用後のモニタガラスについても積み重ねて取
り出すので、モニタガラスの必要枚数が増えても、モニ
タガラス交換装置はスペースが小さくて済み、その真空
槽での基板の加熱温度管理の妨げにならず、よって多層
膜の膜厚制御性や精度が向上する。
Therefore, since a large number of monitor glasses are stacked and stored in this way, and monitor glasses after use are also stacked and taken out, even if the required number of monitor glasses increases, the monitor glass replacement device only takes up a small space. This does not interfere with the heating temperature control of the substrate in the vacuum chamber, thus improving the film thickness controllability and accuracy of the multilayer film.

また、請求項(2)に係る発明では、供給ステーション
で供給カートリッジから回転子のガラス保持部で取り出
されたモニタガラスは、モニタステーションて成膜モニ
タのために使用される前に、加熱ステーションで真空槽
内に晒されて予備加熱される。すなわち、供給カートリ
ッジ内でモニタガラスは多数枚積み重ねられているので
、真空槽内で加熱され難く、基板よりも低い温度である
が、これをそのままモニタステーションに移動させず、
−旦、加熱ステーションで基板と同温度に加熱するため
、モニタガラスの成膜条件を基板と略同じにして、膜厚
の制御性や精度をさらに向上できる。
Further, in the invention according to claim (2), the monitor glass taken out from the supply cartridge by the glass holding part of the rotor at the supply station is heated at the heating station before being used for film formation monitoring at the monitor station. It is exposed to a vacuum chamber and preheated. In other words, since a large number of monitor glasses are stacked in the supply cartridge, they are difficult to heat up in the vacuum chamber and have a lower temperature than the substrate, but they are not directly transferred to the monitor station.
- Since the monitor glass is heated to the same temperature as the substrate at the heating station, the film forming conditions on the monitor glass can be made substantially the same as those on the substrate, and the controllability and accuracy of the film thickness can be further improved.

請求項(3)に係る発明では、供給カートリッジと戻入
れカートリッジとがステーションから取外し可能である
ので、成膜処理前後におけるモニタガラスの供給及び取
出しを容易にできる。また、両カートリッジは一体化さ
れているので、成膜処理についてのモニタガラスの管理
が容易であり、ステーションに対する位置決めも容易に
行うことができる。
In the invention according to claim (3), since the supply cartridge and the return cartridge are removable from the station, it is possible to easily supply and take out the monitor glass before and after the film forming process. Further, since both cartridges are integrated, it is easy to manage the monitor glass for film forming processing, and positioning with respect to the station can be easily performed.

(実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.

第1図〜第6図は本発明を成膜装置たるドーム型蒸着装
置に適用した実施例を示す。第1図及び第2図において
、1は真空槽である。そして、図示しないが、その内底
壁には電子銃及びるつぼからなる成膜材料供給源として
の蒸着源か配置されている。また、真空槽1内の上部に
は例えば4つの基板ホルダが、真空槽1中心の鉛直方向
の軸心回りに公転可能にかつ上記蒸着源と直交する傾斜
中心軸回りに自転可能に配設されている。各基板ホルダ
は、蒸着により成膜しようとする複数の基板を保持する
ものであり、この基板ホルダを自転かつ公転させながら
、その状態でるつぼから蒸発した蒸発材料を上方に飛翔
させて各ガラス基板に光学薄膜を形成するようにしてい
る。
FIGS. 1 to 6 show an embodiment in which the present invention is applied to a dome-type vapor deposition apparatus, which is a film forming apparatus. In FIGS. 1 and 2, 1 is a vacuum chamber. Although not shown in the drawings, an evaporation source consisting of an electron gun and a crucible as a source for supplying film-forming materials is arranged on the inner bottom wall. Further, in the upper part of the vacuum chamber 1, for example, four substrate holders are arranged so as to be able to revolve around a vertical axis at the center of the vacuum chamber 1 and to be able to rotate around an inclined central axis perpendicular to the vapor deposition source. ing. Each substrate holder holds a plurality of substrates on which a film is to be formed by vapor deposition, and while this substrate holder rotates and revolves, the evaporation material evaporated from the crucible is flown upward to each glass substrate. We are trying to form an optical thin film on it.

また、上記基板に形成される膜の膜厚をリアルタイムで
測定するための光学式膜厚モニタ50が具備されている
。この膜厚モニタ50は、第6図に詳細な構成を示すよ
うに、蒸発物質の飛翔領域に配置されるモニタガラスG
Mを基板と同等の試料とし、これに照射した検知光の反
射度合を計測して膜厚を判定する反射光式のモニタであ
り、モニタガラスGMに入射光Br  (検知光)を照
射する投光器51と、入射光Bl及びモニタガラスG門
からの反射光BR(計測光)を変向案内するミラーボッ
クス56と、反射光BRを受ける受光器61と、計測器
(図示せず)とを備え、投光器51と受光器61とはミ
ラーボックス56を挟んで対向配置されている。上記投
光器51はケース52内に光源53、ピンホール板54
、図外のチョッパ及び集光用のレンズ55を順に配置し
たものであり、ミラーボックス56内には、ピンホール
板54で適当径に絞られた検知光をモニタガラスGMに
向かって反射する第1反射ミラー57と、モニタガラス
GMからの反射光BRを受光器61に向けて反射する第
2反射ミラー58とが隣接して配置されている。このミ
ラーボックス56の下方にはモニタガラスGMへの入射
光B、及びその反射光BRの光路を形成する光路筒59
が配設され、該光路筒59の下側にはモニタガラスGM
が配置されている。
Further, an optical film thickness monitor 50 is provided for measuring the film thickness of the film formed on the substrate in real time. The film thickness monitor 50, as shown in detail in FIG.
This is a reflected light type monitor that uses M as a sample equivalent to the substrate and measures the degree of reflection of the detection light irradiated onto it to determine the film thickness.It is a floodlight that irradiates the monitor glass GM with incident light Br (detection light). 51, a mirror box 56 for changing and guiding the incident light Bl and the reflected light BR (measurement light) from the monitor glass G gate, a light receiver 61 for receiving the reflected light BR, and a measuring instrument (not shown). , the light emitter 51 and the light receiver 61 are arranged opposite to each other with the mirror box 56 in between. The floodlight 51 includes a light source 53 and a pinhole plate 54 inside the case 52.
, a chopper (not shown) and a condensing lens 55 are arranged in this order, and a mirror box 56 includes a mirror box 56 that reflects the detection light narrowed down to an appropriate diameter by the pinhole plate 54 toward the monitor glass GM. A first reflecting mirror 57 and a second reflecting mirror 58 that reflects reflected light BR from the monitor glass GM toward the light receiver 61 are arranged adjacent to each other. Below this mirror box 56 is an optical path tube 59 that forms an optical path for the incident light B to the monitor glass GM and its reflected light BR.
is arranged, and a monitor glass GM is disposed below the optical path tube 59.
is located.

上記受光器61は、上記第2反射ミラー58に対向して
ミラーボックス56に装着される光路筒62と、該光路
筒62にフィルタ63を介して接合された光電変換ユニ
ット65とを有する。上記フィルタ63は、光路筒62
に装着したフィルタ保持枠64に対し着脱可能に装填さ
れており、その光干渉作用によりモニタガラスGMから
の反射光BRの中から特定波長の単色光のみを通過させ
る。光電変換ユニット65は、図示しないが光電管やフ
ォトダイオード等の光電変換素子とその出力を増幅する
アンプとを内蔵しており、上記単色光による信号電流を
計測器に出力するようになっている。
The light receiver 61 includes an optical path tube 62 mounted on the mirror box 56 so as to face the second reflecting mirror 58, and a photoelectric conversion unit 65 joined to the optical path tube 62 via a filter 63. The filter 63 is connected to the optical path tube 62.
The filter holding frame 64 is removably mounted on the filter holding frame 64, and its optical interference allows only monochromatic light of a specific wavelength to pass through from among the reflected light BR from the monitor glass GM. Although not shown, the photoelectric conversion unit 65 includes a built-in photoelectric conversion element such as a phototube or a photodiode, and an amplifier that amplifies its output, and outputs a signal current based on the monochromatic light to a measuring instrument.

そして、第1図及び第2図に示す如く、真空槽1の上壁
1aには上壁1aを貫通する円形の貫通孔2が開口され
、この貫通孔2の周囲には円筒状のスペーサ3が立設さ
れ、このスペーサ3の上端開口は蓋部材4で気密状に閉
塞されている。この蓋部材4には蓋部材4を貫通する開
口5か形成されており、第2図では示していないか、上
記ミラーボックス56は、蓋部材4の上側に上記開口5
の内部をモニタガラスGMへの入射光Bl及び反射光B
Rか通過するように位置付けられて装着されている。6
6は開口5の上端開放部を閉塞するガラスである。また
、光路筒59は鉛直上下方向に延び、その上端が蓋部材
4の開口らと合致した状態で蓋部材4の下面にボルト6
7により締結固定されている。従って、上記蓋部材4の
開口5及び光路筒59により、モニタガラスGMへの入
射光B、及びその反射光BRの光路60が形成されてい
る。
As shown in FIGS. 1 and 2, a circular through hole 2 is opened in the upper wall 1a of the vacuum chamber 1, and a cylindrical spacer 3 is provided around the through hole 2. is erected, and the upper end opening of this spacer 3 is hermetically closed with a lid member 4. This lid member 4 has an opening 5 formed therein, which is not shown in FIG.
Incident light Bl and reflected light B to monitor glass GM
It is positioned and installed so that it passes through R. 6
A glass 6 closes the open upper end of the opening 5. The optical path tube 59 extends vertically in the vertical direction, and the bolt 6 is attached to the bottom surface of the lid member 4 with its upper end aligned with the opening of the lid member 4.
It is fastened and fixed by 7. Therefore, the opening 5 of the lid member 4 and the optical path tube 59 form an optical path 60 for the incident light B to the monitor glass GM and the reflected light BR thereof.

上記蓋部材4には蓋部材4を貫通する挿通孔6か上記光
路60形成用の開口5と所定の間隔をおいて形成され、
この挿通孔6にはそれと同心に配置した上側筒部材7の
下端が気密状に挿通され、この筒部材7は溶接により蓋
部材4に固定されている。蓋部材4の下面には挿通孔6
.従って上側筒部材7と同心に配置した下側筒部材8が
垂設され、この筒部材8は上端で挿通孔6の周囲にボル
ト締結されている。上側及び下側筒部材7.8には上記
光路60と平行に上下方向に延びる回転軸9が回転可能
にかつ所定ストロークだけ上下方向に摺動可能に挿通支
持されている。回転軸9の下端には回転子18かボルト
17により移動一体に取り付けられている。
The lid member 4 is formed with an insertion hole 6 passing through the lid member 4 at a predetermined distance from the opening 5 for forming the optical path 60,
The lower end of an upper cylindrical member 7 arranged concentrically with the insertion hole 6 is inserted in an airtight manner, and the cylindrical member 7 is fixed to the lid member 4 by welding. An insertion hole 6 is provided on the bottom surface of the lid member 4.
.. Therefore, a lower cylindrical member 8 is vertically disposed concentrically with the upper cylindrical member 7, and the upper end of the cylindrical member 8 is bolted around the insertion hole 6. A rotating shaft 9 extending vertically parallel to the optical path 60 is rotatably inserted into and supported by the upper and lower cylindrical members 7.8 so as to be slidable vertically by a predetermined stroke. A rotor 18 is movably attached to the lower end of the rotating shaft 9 by bolts 17.

一方、回転軸9の上端は上側筒部材7の上端開口から突
出し、この上端部にはギヤ12が回転−体にかつナツト
12aにより昇降一体に取り付けられている。上記ギヤ
12下側の回転軸9には昇降アーム10の先端か相対回
転可能にかつ昇降−体に係合され、このアーム10は駆
動装置11における昇降アクチュエータにカム機構(い
ずれも図示せず)を介して連結されており、昇降アーム
10によって回転軸9を落下不能に支持するとともに、
昇降アクチュエータの作動により回転軸9及び回転子1
8を一定ストローク(例えば3〜5mm)だけ昇降させ
るようにしている。
On the other hand, the upper end of the rotating shaft 9 protrudes from the upper end opening of the upper cylindrical member 7, and a gear 12 is attached to the upper end of the rotating body so that it can be raised and lowered integrally with a nut 12a. The tip of an elevating arm 10 is relatively rotatably connected to the rotating shaft 9 on the lower side of the gear 12 and is engaged with the elevating body, and this arm 10 is connected to an elevating actuator in the drive device 11 using a cam mechanism (none of which is shown). The rotating shaft 9 is supported by the lifting arm 10 so that it cannot fall, and
The rotating shaft 9 and rotor 1 are moved by the operation of the lifting actuator.
8 is raised and lowered by a certain stroke (for example, 3 to 5 mm).

また、上記ギヤ12にはそれと同じ歯数のギヤ13が噛
合され、このギヤ13には、円周方向に等間隔をあけて
配置された6つのカム溝14a。
Further, a gear 13 having the same number of teeth is meshed with the gear 12, and this gear 13 has six cam grooves 14a arranged at equal intervals in the circumferential direction.

14a、・・・を有する6分割ゼネバギヤ14が連結さ
れ、このゼネバギヤ14に噛み合うドライブビン15は
駆動装置11におけるモータ等の回転アクチュエータ1
6の出力軸に固定されており、アクチュエータ16の作
動によりゼネバギヤ14を1/6回転させて回転軸9を
60°だけ間欠的に回動させる。そして、上記昇降アク
チュエータ及び回転アクチュエータ16を交互に作動さ
せることで、回転子18を下降位置のまま回転軸9回り
に60″だけ回動させた後、一定ストロークだけ上昇さ
せ、次いで該上昇位置のまま回転軸9回りにさらに60
°だけ回動させた後、上記上昇動作と同じストロークだ
け下降させる動きを1サイクルとして、これを回転子1
8の1回転について3回反復させるようにしている。
14a, . . . is connected to the six-split Geneva gear 14, and the drive bin 15 that meshes with the Geneva gear 14 is connected to the rotary actuator 1 such as a motor in the drive device 11.
When the actuator 16 operates, the Geneva gear 14 is rotated by 1/6 of a turn, and the rotary shaft 9 is intermittently rotated by 60 degrees. Then, by alternately operating the lifting actuator and the rotary actuator 16, the rotor 18 is rotated by 60'' around the rotating shaft 9 while remaining in the lowered position, then raised by a certain stroke, and then moved to the raised position. 60 more around the rotation axis 9
One cycle consists of rotating the rotor by 1° and then lowering it by the same stroke as the upward movement.
Each revolution of 8 is repeated three times.

第4図に示すように、上記回転子18は略円板状の部材
で、その外周には、回転中心から上記蓋部材4における
挿通孔6と開口5との間の間隔と同じ距離だけ離れた一
定半径の円周上の所定位置に、上側に突出する一定幅の
突出部18aが形成され、この突出部18aの上面は平
面とされている。また、回転子18の外周には上記突出
部18a上面の幅方向中央位置を中心とする3つの円形
切欠き状の開口19,19.・・・が上下に貫通して形
成され、この各開口19の内径はモニタガラスGMの外
径(例えば24.8mm)よりも若干小さくされている
。各開口19の上縁部には、回転子18の円周方向に沿
った対向する上縁部をそれぞれ略モニタガラスGMの厚
さだけ段差状に切り欠いてなる1対の切欠段部からなる
ガラス保持部20が形成され、このガラス保持部20に
モニタガラスGMの対向する周縁部を嵌合することで、
モニタガラスGMをその上面を突出部18g上面と面一
にして回転子18で保持するようにしている。
As shown in FIG. 4, the rotor 18 is a substantially disk-shaped member, and a portion on its outer periphery is spaced from the center of rotation by the same distance as the distance between the insertion hole 6 and the opening 5 in the lid member 4. A protrusion 18a having a constant width and protruding upward is formed at a predetermined position on the circumference of a constant radius, and the upper surface of the protrusion 18a is flat. Further, on the outer periphery of the rotor 18, three circular notch-shaped openings 19, 19. ... are formed to penetrate vertically, and the inner diameter of each opening 19 is slightly smaller than the outer diameter (for example, 24.8 mm) of the monitor glass GM. The upper edge of each opening 19 is formed by a pair of notch steps formed by cutting out the opposing upper edges along the circumferential direction of the rotor 18 in a stepped shape by approximately the thickness of the monitor glass GM. A glass holding part 20 is formed, and by fitting the opposing peripheral part of the monitor glass GM into this glass holding part 20,
The monitor glass GM is held by the rotor 18 with its upper surface flush with the upper surface of the protrusion 18g.

また、上記下側筒部材8の下端には回転子18を覆うフ
ランジ状の上側及び下側カバー21,23が取付固定さ
れ、上側カバー21は回転子18の上方に、また下側カ
バー23は同下方にそれぞれ配置されている。上側カバ
ー21は本体21aとその下方に所定間隔をあけて配置
された中間デツキ部21. bとからなる2重構造に構
成されている。この本体21a及び中間デツキ部21b
は回転軸9と同心の略円板状のもので、各々の外周縁縁
は側壁21cにより一体に結合され、この側壁21cは
下方に延長されている。中間デツキ部21bには上記回
転子18の突出部18aとの干渉を避ける環状のガイド
溝22が形成され、突出部1、8 aは上面を中間デツ
キ部21bよりも上方に突出せしめて回動するようにな
っている。一方、下側カバー23は円板状のもので、そ
の外周縁が上方に折り曲げられ、この折曲げ部分が上記
上側カバ−21外周の側W21c延長部分に外嵌合され
て取付支持されている。さらに、上側カバー21の本体
21a及び中間デツキ部21bと下側カバー23とには
上記光路60に対応した位置にそれぞれモニタガラスG
Mと同径の開口24〜26が形成されている。
Further, flange-shaped upper and lower covers 21 and 23 that cover the rotor 18 are attached and fixed to the lower end of the lower cylindrical member 8, and the upper cover 21 is above the rotor 18, and the lower cover 23 is They are placed below each other. The upper cover 21 includes a main body 21a and an intermediate deck portion 21 disposed below the main body 21a at a predetermined interval. It has a double structure consisting of b. This main body 21a and intermediate deck portion 21b
is a substantially disk-shaped member concentric with the rotating shaft 9, and each outer peripheral edge is integrally joined by a side wall 21c, and this side wall 21c extends downward. An annular guide groove 22 is formed in the intermediate deck portion 21b to avoid interference with the protruding portion 18a of the rotor 18, and the protruding portions 1 and 8a rotate with their upper surfaces protruding above the intermediate deck portion 21b. It is supposed to be done. On the other hand, the lower cover 23 is disk-shaped, and its outer peripheral edge is bent upward, and this bent portion is externally fitted to the extended portion of the outer peripheral side W21c of the upper cover 21 and is mounted and supported. . Furthermore, the main body 21a and intermediate deck portion 21b of the upper cover 21 and the lower cover 23 each have a monitor glass G at a position corresponding to the optical path 60.
Openings 24 to 26 having the same diameter as M are formed.

そして、第1図に示すように、上記駆動装置11の作動
に伴う回転子18の昇降動作及び回動により、その3つ
のガラス保持部20,20.・・−が互いに120’ず
つ離れた3つの下降ステーションS+ 、S3.S5で
下降移動し、さらに、その各々から60″回転した3つ
の上昇ステーションS2.S4.S6で上昇移動するが
、上記3つの下降ステーションs、、s3.s5のうち
の1つがモニタステーションS5とされ、このモニタス
テーションS5に上記光路60が対応して配置されてい
る。よって、光路60の中心はモニタステーションS5
において回転子180開口19の周回軌跡と交差してい
る。
As shown in FIG. 1, the three glass holding parts 20, 20. ...- three descending stations S+, S3 .- separated by 120' from each other. There is a downward movement at S5 and an upward movement at three rising stations S2, S4, and S6 rotated 60'' from each of them, one of the three falling stations s, , s3, s5 being the monitor station S5. The optical path 60 is arranged corresponding to this monitor station S5.Therefore, the center of the optical path 60 is located at the monitor station S5.
The rotor 180 intersects with the orbital locus of the opening 19 at .

また、上記3つの上昇ステーションS2.s4゜S6の
うち、上記モニタステーションs5がら回転方向前側(
第1図で反時計回り方向)に1800の間隔をあけたス
テーションは供給ステーションS2とされ、このステー
ションS2に対応す石工側カバー21上面には例えば1
00枚程程度未使用のモニタガラスGM、GM、  ・
・を積み重ねて収容する有底円筒状の供給カートリッジ
31が配置されている。
In addition, the three rising stations S2. s4゜Of S6, the front side in the rotational direction from the monitor station s5 (
The stations spaced apart by 1800 degrees in the counterclockwise direction in FIG.
About 00 pieces of unused monitor glass GM, GM, ・
A cylindrical supply cartridge 31 with a bottom is arranged.

さらに、3つの下降ステーションSl+33+85のう
ち、上記供給ステーションS2の回転方向前側(図で反
時計回り方向)に隣接しかつモニタステーションS5か
ら回転方向後側(図で時計回り方向)に120°の間隔
をあけたステーションは戻入れステーションS1とされ
、このステーションS1に対応する上側カバ−21上面
には100枚程程度使用済みモニタガラスGM、GM。
Further, among the three descending stations Sl+33+85, one is adjacent to the front side in the rotational direction (counterclockwise direction in the figure) of the supply station S2 and is located at an interval of 120° from the monitor station S5 to the rear side in the rotational direction (clockwise direction in the figure). The station where the opening is made is called the return station S1, and about 100 pieces of used monitor glass GM and GM are placed on the upper surface of the upper cover 21 corresponding to this station S1.

・・・を積み重ねて収容可能な有底円筒状の戻入れカー
トリッジ32が配置されている。
A cylindrical return cartridge 32 with a bottom that can be stacked and accommodated is disposed.

上記供給及び戻入れカートリッジ31.32は、後述す
る各々の挿通孔34,36が一連の円弧形状に連続する
ように側壁で接合されて一体化されている。上記上側カ
バー21には、戻入れ及び供給ステーションS+、S、
+に対応する部分を本体21aから中間デツキ部21b
まで両カートリッジ31.32の底部形状に合わせて切
り欠いてなるカートリッジ装着部27が形成されており
、この装着部27に両カートリッジ31.32の底部を
装着するようにしている。また、上記下側筒部材8の側
面には上記戻入れ及び供給ステーションSl、S2に対
応してカートリッジ押え部材28がねじ29により着脱
可能に取り付けられ、この押え部材28の下面にはコイ
ルばね30の上端を嵌合可能なばね受溝28aが形成さ
れている。また、両カートリッジ31.32の上端は蓋
33により閉じられ、この蓋33の上面には上記コイル
ばね30の下端を嵌合可能なばね受溝33aが形成され
ている。そして、上記カートリッジ装着部27に装着さ
れた両カートリッジ31.32を押え部材28との間の
コイルばね30の伸長付勢力によりカートリッジ装着部
27に押し付けて保持するようにしている。
The supply and return cartridges 31 and 32 are joined together at the side walls so that the respective insertion holes 34 and 36, which will be described later, are continuous in a series of circular arc shapes. The upper cover 21 includes return and supply stations S+, S,
Connect the part corresponding to + from the main body 21a to the intermediate deck part 21b.
A cartridge mounting part 27 is formed by cutting out according to the shape of the bottoms of both cartridges 31 and 32, and the bottoms of both cartridges 31 and 32 are mounted to this mounting part 27. Further, a cartridge holding member 28 is removably attached to the side surface of the lower cylinder member 8 with a screw 29 in correspondence with the above-mentioned return and supply stations Sl and S2, and a coil spring 30 is attached to the lower surface of this holding member 28. A spring receiving groove 28a is formed into which the upper end of the spring receiving groove 28a can be fitted. Further, the upper ends of both cartridges 31 and 32 are closed by a lid 33, and a spring receiving groove 33a into which the lower end of the coil spring 30 can be fitted is formed on the upper surface of the lid 33. Both cartridges 31 and 32 mounted on the cartridge mounting section 27 are pressed against the cartridge mounting section 27 and held by the elastic biasing force of the coil spring 30 between the holding member 28 and the cartridge mounting section 27.

第5図にも示すように、上記供給カートリッジ31の底
壁には、回転子18の突出部18a(各ガラス保持部2
0)を挿通せしめる円弧状の挿通孔34が開口されてい
る。また、供給カートリッジ31には回転子18の回転
方向後側に相当する側壁下部に、カートリッジ31内の
最下段のモニタガラスGMのみを水平横方向に挿通可能
な取出し口35が切欠形成されている。同様に、戻入れ
カートリッジ32の底壁には、回転子18の突出部18
a(各ガラス保持部20)を挿通せしめる円弧状の挿通
孔36が開口され、戻入れカートリッジ32における回
転子18の回転方向前側に相当する側壁下部には上記供
給カートリッジ31の取出し口35と同じ高さ位置に、
1枚のモニタガラスGMを水平横方向にスライドさせて
戻入れカートリッジ32内部に挿入可能な戻入れ口37
か切欠形成されている。
As shown in FIG. 5, the bottom wall of the supply cartridge 31 is provided with a protruding portion 18a (each glass holding portion
A circular arc-shaped insertion hole 34 is opened through which the holder 0) is inserted. Further, the supply cartridge 31 has an ejection opening 35 formed in the lower part of the side wall corresponding to the rear side in the rotational direction of the rotor 18, through which only the lowest monitor glass GM in the cartridge 31 can be inserted horizontally and laterally. . Similarly, the bottom wall of the return cartridge 32 includes a protrusion 18 of the rotor 18.
A (each glass holder 20) is inserted into the arc-shaped insertion hole 36, and at the lower part of the side wall of the return cartridge 32 corresponding to the front side in the rotational direction of the rotor 18, there is a hole 36 which is the same as the ejection port 35 of the supply cartridge 31. At the height position
A return port 37 into which one monitor glass GM can be inserted into the return cartridge 32 by sliding it horizontally and laterally.
or a notch is formed.

そして、基板に対する蒸着時、基板に対する膜が変えら
れる都度、それに対応してモニタガラスGM+  GM
、・・・を交換する。このモニタガラスGM、GM、・
・・の交換の際は、駆動装置11による回転子18のサ
イクル動作により、第1図及び第5図に示すように、そ
の各ガラス保持部20を供給ステーションS2で下降位
置から上昇させて、供給カートリッジ31のモニタガラ
スGMの中から最下端のものをガラス保持部20に移し
て保持し、その後の回転子18の回動により該モニタガ
ラスGMを取出し口35から取り出し、このモニタガラ
スGMをステーションsa、s4を経てモニタステーシ
ョンS5に供給する。一方、使用後のモニタガラスGM
については、戻入れステーションS1よりも1つ前の上
昇ステーションS6から上昇位置のままで回転子18を
回動させることにより、戻入れステーションS1でガラ
ス保持部20のモニタガラスGMを戻入れ口37から戻
入れカートリッジ32の内底部に押し込み、その後の回
転子18の下降によりモニタガラスGMの保持を解除す
るように構成されている。
During vapor deposition on the substrate, each time the film on the substrate is changed, the monitor glass GM+GM is changed accordingly.
,... are exchanged. This monitor glass GM, GM,
When replacing the glass holders 20, each glass holder 20 is raised from the lowered position at the supply station S2 by the cyclic operation of the rotor 18 by the drive device 11, as shown in FIGS. 1 and 5. The lowest one of the monitor glasses GM in the supply cartridge 31 is transferred to the glass holding part 20 and held therein, and then the monitor glass GM is taken out from the take-out port 35 by the rotation of the rotor 18, and this monitor glass GM is It is supplied to a monitor station S5 via stations sa and s4. On the other hand, monitor glass GM after use
, the monitor glass GM of the glass holder 20 is moved to the return port 37 at the return station S1 by rotating the rotor 18 in the raised position from the raise station S6, which is one place before the return station S1. The monitor glass GM is pushed into the inner bottom of the return cartridge 32, and the monitor glass GM is released from being held by the subsequent lowering of the rotor 18.

さらに、上記3つの下降ステーションS、、S3、S5
のうち、上記供給ステーションS2の回転方向後側(第
1図で時計回り方向)に隣接したステーションは加熱ス
テーションS3とされ、このステーションS3に対応す
る上側カバー21の本体21a−にはモニタガラスGM
と同径の開口38か形成されており、加熱ステーション
S3でモニタガラスGMが停止しているときに、そのモ
ニタガラスGMを真空槽1内に晒して基板と同温度まで
予備加熱するようにしている。
Furthermore, the three descending stations S, , S3, S5
Among them, the station adjacent to the rear side in the rotational direction (clockwise direction in FIG. 1) of the supply station S2 is a heating station S3, and the main body 21a of the upper cover 21 corresponding to this station S3 is equipped with a monitor glass GM.
An opening 38 having the same diameter as the substrate is formed, and when the monitor glass GM is stopped at the heating station S3, the monitor glass GM is exposed to the vacuum chamber 1 and preheated to the same temperature as the substrate. There is.

尚、第1図の周辺部及び第5図の下部に記載した矢印は
、回転子18の動きを示し、「上昇」は上昇状態であり
、「下降」は下降状態である。また、白丸は停止位置を
示している。
Note that the arrows drawn around the periphery of FIG. 1 and at the bottom of FIG. 5 indicate the movement of the rotor 18, and "ascending" is a rising state, and "descending" is a descending state. Moreover, the white circle indicates the stop position.

次に、上記実施例の作用について説明する。Next, the operation of the above embodiment will be explained.

予め、蒸着処理の前に、蓋部材4を取り外して上下の筒
部材7,8、回転軸9、回転子18、カバー21.23
、供給カートリッジ31、戻入れカートリッジ32等を
真空槽1外に取り出す。この取り出した供給カートリッ
ジ31内に多数枚のモニタガラスGM、GM、・・・を
収容した後、このカートリッジ31及び戻入れカートリ
ッジ32を上側カバ−21上面のカートリッジ装着部2
7に装着し、それをコイルばね30の付勢力によって押
し付けて固定する。
Before the vapor deposition process, the lid member 4 is removed and the upper and lower cylinder members 7, 8, the rotating shaft 9, the rotor 18, and the covers 21 and 23 are removed.
, the supply cartridge 31, the return cartridge 32, etc. are taken out of the vacuum chamber 1. After accommodating a large number of monitor glasses GM, GM, .
7 and is pressed and fixed by the biasing force of the coil spring 30.

その際、供給及び戻入れカートリッジ31.32は互い
に一体化されているので、その底部をカートリッジ装着
部27に装着するだけで、底壁の挿通孔34.36が上
側カバー21の中間デツキ部21bにおけるの環状ガイ
ド溝22と合致するように位置決めしてセットされ、よ
ってカートリッジ31.32のステーションS2.S+
に対する位置決めを容易に行うことができる。
At this time, since the supply and return cartridges 31 and 32 are integrated with each other, the insertion holes 34 and 36 of the bottom wall can be inserted into the intermediate deck part 21b of the upper cover 21 by simply mounting the bottom part of the cartridge into the cartridge mounting part 27. is positioned and set to match the annular guide groove 22 of the cartridge 31.32 at the station S2. S+
positioning can be easily performed.

次いで、上記とは逆に、筒部材7,8、回転軸9、回転
子18、カバー21.23、供給カートリッジ31、戻
入れカートリッジ32等を真空槽1内に挿入して、蓋部
材4で真空槽1を密閉する。
Next, contrary to the above, the cylinder members 7 and 8, the rotating shaft 9, the rotor 18, the cover 21, 23, the supply cartridge 31, the return cartridge 32, etc. are inserted into the vacuum chamber 1, and the lid member 4 is inserted. Vacuum chamber 1 is sealed.

そして、真空槽1内に基板をセットした後、真空槽1内
を吸引排気して真空にするとともに、その内部を加熱し
、基板の蒸着処理のための待機状態とする。
After setting the substrate in the vacuum chamber 1, the inside of the vacuum chamber 1 is vacuumed by suction and exhaust, and the inside thereof is heated to be in a standby state for vapor deposition processing of the substrate.

このような待機状態で、膜厚モニタ50のモニタガラス
GMをモニタ位置にセットするために駆動装置11が作
動する。第1図及び第5図に示すように、初期の状態で
は、上記回転子18は下降位置にあり、その3つのガラ
ス保持部20,20゜・・・はいずれも下降ステーショ
ンS1.S3.S5に位置しており、その1つが戻入れ
ステーションS1に停止している。尚、3つのガラス保
持部20.20.・・・の動きはいずれも同じであるの
で、ここでは上記戻入れステーションS1を移動開始位
置とする1つのガラス保持部20の動きについて説明す
る。すなわち、駆動装置11の作動により回転子18が
1サイクルの動作を開始する。先ず、回転アクチュエー
タ16が作動して回転子18が下降位置のままで60″
回動し、上記ガラス保持部20は戻入れステーションS
1から供給ステーションS2に移動する。この後、昇降
アクチュエータの作動により回転軸9が回転子18と共
に上昇し、この回転子18の上昇によりガラス保持部2
0に供給カートリッジ31内の最下端のモニタガラスG
Mが回転子18の回転前後方向から嵌合する。この状態
で、回転アクチュエータ16の作動により回転子18が
上昇位置のままで600回動する。この回動により、上
記最下端のモニタガラスGMかガラス保持部20に嵌合
保持されたまま水平横方向に移動して、供給カートリッ
ジ31の取出し口35から取り出される。このモニタガ
ラスGMの取出しにより供給カートリッジ31内でモニ
タガラスGM、GM、・・・が1枚の厚さ分だけ落下移
動する。上記ガラス保持部20に保持されたモニタガラ
スGMが回転子]8の回動により加熱ステーションS3
に移動すると、昇降アクチュエータが作動して回転軸9
が回転子18と共に下降し、以上で回転子18の1サイ
クルの動作が終了する。この回転子18の移動停止によ
り、モニタガラスGMは所定時間加熱ステーションS3
に保持される。この加熱ステーションS3の上側カバー
21には開口38が形成されているので、この開口38
を通してモニタガラスGMが真空槽1内の熱源により加
熱され、その温度が基板と同程度に上昇する。尚、2番
目以降のモニタガラスGMは、それに先行するモニタガ
ラスGMがモニタステーンヨンS5で成膜モニタのため
に使用されている時間だけ回転子18の移動が停止する
ので、同時間だけ加熱ステーションS3に停止保持され
る。
In such a standby state, the drive device 11 operates to set the monitor glass GM of the film thickness monitor 50 at the monitor position. As shown in FIGS. 1 and 5, in the initial state, the rotor 18 is in the lowered position, and its three glass holders 20, 20°, . . . are all in the lowering station S1. S3. S5, one of which is stopped at the return station S1. In addition, three glass holding parts 20.20. . . . are all the same, so here we will explain the movement of one glass holder 20 with the return station S1 as the movement start position. That is, the rotor 18 starts one cycle of operation due to the operation of the drive device 11. First, the rotary actuator 16 is actuated and the rotor 18 remains in the lowered position until it reaches 60''.
The glass holding section 20 rotates, and the glass holding section 20 is moved to the return station S.
1 to supply station S2. Thereafter, the rotating shaft 9 rises together with the rotor 18 due to the operation of the elevating actuator, and as the rotor 18 rises, the glass holder 2
0 to the lowest monitor glass G in the cartridge 31
M fits into the rotor 18 from the front and rear rotational directions. In this state, the rotor 18 rotates 600 times while remaining in the raised position due to the operation of the rotary actuator 16. As a result of this rotation, the lowermost monitor glass GM is moved horizontally and laterally while being fitted and held in the glass holding part 20 and is taken out from the takeout port 35 of the supply cartridge 31. By taking out the monitor glass GM, the monitor glasses GM, GM, . . . fall and move by the thickness of one sheet within the supply cartridge 31. The monitor glass GM held by the glass holding part 20 is heated to the heating station S3 by rotation of the rotor ]8.
, the lifting actuator operates and the rotation axis 9
is lowered together with the rotor 18, and one cycle of operation of the rotor 18 is thus completed. By stopping the movement of the rotor 18, the monitor glass GM is heated at the heating station S3 for a predetermined period of time.
is maintained. Since an opening 38 is formed in the upper cover 21 of this heating station S3, this opening 38
Through this, the monitor glass GM is heated by the heat source in the vacuum chamber 1, and its temperature rises to the same degree as the substrate. In addition, since the movement of the rotor 18 for the second and subsequent monitor glasses GM is stopped for the time period during which the preceding monitor glass GM is used for monitoring the film formation in the monitor station S5, the movement of the rotor 18 is stopped for the same period of time when the monitor glass GM that precedes it is used for monitoring the film formation. It is stopped and held at S3.

この加熱ステーションS3での所定時間の停止後、駆動
装置11の作動により回転子18が上記と同様にして2
番目の1サイクルの動きを再開する。すなわち、回転子
18が下降位置のままで60″回動して、上記ガラス保
持部20に保持されたモニタガラスGMは加熱ステーシ
ョンS3から次の上昇ステーションS4に移動する。次
いで、回転子18が上昇した後、その上昇位置のままで
60°回動する。この回動によりモニタガラスG開がモ
ニタステーションS5に移動すると、回転子18が下降
し、以上で回転子18の2番目の1サイクル動作が終了
する。尚、このとき、2番目のモニタガラスGMは加熱
ステーションS3に供給される。
After the heating station S3 is stopped for a predetermined period of time, the rotor 18 is moved to the second position by the operation of the drive device 11 in the same manner as described above.
The movement of the first cycle is resumed. That is, the rotor 18 rotates 60'' while remaining in the lowered position, and the monitor glass GM held by the glass holder 20 moves from the heating station S3 to the next raising station S4. After rising, it rotates 60 degrees while remaining in the raised position.When the monitor glass G opens moves to the monitor station S5 due to this rotation, the rotor 18 descends, and this completes the second cycle of the rotor 18. The operation ends. At this time, the second monitor glass GM is supplied to the heating station S3.

上記回転子18のモニタステーションS5での下降移動
により、モニタガラスGMは下側カバー23の開口26
に近接配置され、その開口26を通して蒸着源からの蒸
着物質の飛翔領域に露出する。このことによってモニタ
ガラスGMのモニタ位置へのセットが完了する。このモ
ニタガラスG閂のセットの後、その状態で蒸着源を加熱
して各基板に最初の蒸着処理を行う。また、これと同時
に、膜厚モニタ50により、上記モニタガラス0口への
蒸着物質の付着量を監視し、その膜厚が適正になると蒸
着処理を終了する。
Due to the downward movement of the rotor 18 at the monitor station S5, the monitor glass GM opens the opening 26 of the lower cover 23.
The evaporation material is disposed close to the evaporation source and is exposed through the opening 26 to the region in which the evaporation material is ejected from the evaporation source. This completes setting the monitor glass GM to the monitor position. After the monitor glass G bar is set, the vapor deposition source is heated in this state to perform the first vapor deposition process on each substrate. At the same time, the film thickness monitor 50 monitors the amount of vapor deposition material deposited on the monitor glass 0, and when the film thickness becomes appropriate, the vapor deposition process is terminated.

この蒸着処理の際、上記モニタガラスGMは予め、加熱
ステーションS3で加熱されて、その温度は基板と同温
度まで上昇しているので、モニタガラスGMと基板との
特性を相似させることができ、このため、モニタガラス
GMに対する蒸着物質の付着特性を光学モニタで監視す
ることは、基板への同特性を監視することと同等になり
、基板の膜厚制御性やその精度を高めることができる。
During this vapor deposition process, the monitor glass GM is heated in advance at the heating station S3, and its temperature is raised to the same temperature as the substrate, so that the characteristics of the monitor glass GM and the substrate can be made similar, Therefore, monitoring the adhesion characteristics of the vapor deposition substance to the monitor glass GM with an optical monitor is equivalent to monitoring the same characteristics to the substrate, and it is possible to improve the controllability of the film thickness of the substrate and its accuracy.

こうして基板に対する最初の蒸着処理が終了すると、上
記使用済みのモニタガラスGMを次のものと交換する。
When the first vapor deposition process on the substrate is thus completed, the used monitor glass GM is replaced with the next one.

この交換は、回転子18が上記と同様にして3番目(最
後)の1サイクルの動きを再開することで行われる。す
なわち、駆動装置11の作動により回転子18が下降位
置のままで60°回動し、この動きにより上記ガラス保
持[20に保持された使用済みのモニタガラスGMはモ
ニタステーションS5から次の上昇ステーションS6に
移動する。次いで、回転子18は上昇した後、その上昇
位置のままで60°回動して元の戻入れステーションS
1に移動する。この回転子18の上昇位置を保ったまま
の上昇ステーションS6から戻入れステーションS1の
移動により、モニタガラスGMは戻入れ口37から戻入
れカートリッジ32内底部に水平方向にスライドして押
し込まれる。次いで、回転子18か下降し、以上で回転
子18の3番目の1サイクル動作が終了する。
This exchange is performed by the rotor 18 resuming the third (last) cycle of movement in the same manner as described above. That is, due to the operation of the drive device 11, the rotor 18 rotates 60 degrees while remaining in the lowered position, and this movement causes the used monitor glass GM held in the glass holder [20] to move from the monitor station S5 to the next ascending station. Move to S6. Next, after the rotor 18 rises, it rotates 60 degrees while remaining in the raised position and returns to the original return station S.
Move to 1. As the return station S1 moves from the raising station S6 while the rotor 18 is kept in the raised position, the monitor glass GM is horizontally slid and pushed into the inner bottom of the return cartridge 32 from the return port 37. Next, the rotor 18 descends, and the third one-cycle operation of the rotor 18 is thus completed.

そして、この回転子18の下降移動によりすると、ガラ
ス保持部20は下降移動するが、モニタガラスGMはカ
ートリッジ32に残り、このことでモニタガラスGMが
戻入れカートリッジ32内に移載されて収容される。尚
、このとき、2番目のモニタガラスGMはモニタステー
ションS5に、また3番目のモニタガラスGMは加熱ス
テーションS3にそれぞれ供給される。
Then, when the rotor 18 moves downward, the glass holding part 20 moves downward, but the monitor glass GM remains in the cartridge 32, so that the monitor glass GM is transferred and stored in the returned cartridge 32. Ru. At this time, the second monitor glass GM is supplied to the monitor station S5, and the third monitor glass GM is supplied to the heating station S3.

このようにしてモニタガラスGMを交換した後、上記と
同様にして、新しいモニタガラスGt1で膜厚をモニタ
しながら基板に対し2回目の蒸着処理を行う。以下、同
様にして供給カートリッジ31内のモニタガラスGM、
GM、・・・を順にモニタステーションS5に供給し、
かつ使用済みのモニタガラスGMを戻入れカートリッジ
32に収容しながら、基板に多層膜の蒸着処理を行う。
After replacing the monitor glass GM in this manner, the second vapor deposition process is performed on the substrate in the same manner as described above while monitoring the film thickness using the new monitor glass Gt1. Hereinafter, monitor glass GM in the supply cartridge 31,
GM, . . . are sequentially supplied to the monitor station S5,
Further, while the used monitor glass GM is being stored in the return cartridge 32, a multilayer film is vapor-deposited on the substrate.

そして、基板に対する多層膜の蒸着処理が全て終了した
後、冷却を待って、上記使用済みのモニタガラスGM、
GM、 ・・をカートリッジ32毎、真空槽1から取り
出せばよい。
After the multilayer film deposition process on the substrate is completed, wait for cooling, and then remove the used monitor glass GM.
GM, . . . can be taken out of the vacuum chamber 1 in each cartridge 32.

したがって、この実施例では、多数枚のモニタガラスG
M、GM、・・を順次交換できるので、各基板に蒸着さ
せる膜が多層化しても、それに十分に対処することがで
きる。
Therefore, in this embodiment, a large number of monitor glasses G
Since M, GM, . . . can be replaced sequentially, even if the number of films deposited on each substrate is multilayered, it can be adequately coped with.

しかも、多数枚のモニタガラスGM、GM、・・・を積
み重ねて供給カートリッジ31内に収容し、使用後のモ
ニタガラスGM、GM、・・・につぃても戻し入りか一
トリッジ32内に積み重ねて収容して取り出すので、モ
ニタガラスGMの必要枚数が増えても、モニタガラス交
換装置はスペースが小さくて済み、その真空槽1での基
板の加熱温度管理の妨げにならず、よって基板に対する
多層膜の膜厚制御性や精度をさらに向上できる。
Moreover, a large number of monitor glasses GM, GM, . . . are stacked and stored in the supply cartridge 31, and even when the monitor glasses GM, GM, . Because they are stacked, stored, and taken out, even if the required number of monitor glasses GM increases, the monitor glass replacement device only requires a small space and does not interfere with the heating temperature control of the substrates in the vacuum chamber 1. The thickness controllability and accuracy of multilayer films can be further improved.

また、供給カートリッジ31と戻入れカートリッジ32
とがステーション52.Slから取外し可能であるので
、成膜処理前前のモニタガラスGNの供給や処理後の使
用済みモニタガラスGMの取出しを容易に行うことがで
きる。また、供給及び戻入れカートリッジ31.32は
互いに一体化されているので、基板の多層膜の蒸着処理
毎に1つのカートリッジ31.32のベアを用意して、
その供給カートリッジ31内にモニタガラスGM。
In addition, a supply cartridge 31 and a return cartridge 32 are also provided.
Toga Station 52. Since it is removable from Sl, it is possible to easily supply the monitor glass GN before the film forming process and to take out the used monitor glass GM after the process. In addition, since the supply and return cartridges 31, 32 are integrated with each other, one bare cartridge 31, 32 is prepared for each multilayer film deposition process on the substrate.
In the supply cartridge 31 is a monitor glass GM.

GM、・・・を収容しておけばよく、蒸着処理について
のモニタガラスGMの管理を容易に行うことができる。
It is sufficient to store GM, . . . , and the monitor glass GM for vapor deposition processing can be easily managed.

尚、上記実施例では、回転子18のガラス保持部20の
数を3つとし、その昇降ステーション81〜S6の数を
6つとしたが、この他、例えばガラス保持部の数を4つ
とし、その昇降ステーションの数を8つとする等、それ
ぞれの数を変更することもできる。
In the above embodiment, the number of glass holding parts 20 of the rotor 18 is three, and the number of lifting stations 81 to S6 is six, but in addition, for example, the number of glass holding parts is four, The number of lifting stations can also be changed, such as eight.

また、上記実施例は本発明を蒸着装置に適用した実施例
であるが、本発明は蒸着装置以外の他の真空成膜装置に
対しても適用できるのは勿論である。
Moreover, although the above embodiment is an example in which the present invention is applied to a vapor deposition apparatus, it goes without saying that the present invention can be applied to other vacuum film forming apparatuses other than the vapor deposition apparatus.

(発明の効果) 以上説明したように、請求項(1)に係る発明の光学式
膜厚モニタのモニタガラス交換装置によると、多数枚の
モニタガラスを供給カートリッジ内に積み重ねて保持し
、外周上部に複数のガラス保持部を有する回転子を昇降
を繰り返しながら所定角度ずつ間欠的に回動させて、こ
の回転子の上昇動作及びその後の回動動作により供給カ
ートリッジ内のモニタガラスを最下端のものから1枚ず
つガラス保持部に保持して取出し口から取り出し、これ
をモニタ位置に供給するとともに、その後、回転子の回
動動作及びその後の下降動作によりガラス保持部の使用
済みのモニタガラスを戻入れカートリッジ内に下部の戻
入れ口から戻すようにしたことにより、モニタガラスの
必要枚数が増えても、モニタガラス交換装置はスペース
が小さくて済み、その真空槽での基板の加熱温度管理の
妨げにならないとともに、モニタガラスを多数枚連続し
て交換可能で、多層の成膜プロセスに対し1層ずつに対
応したモニタガラスを供給して、各層毎に独立した精度
でモニタすることができ、よって多層膜の膜厚制御性や
精度を向上させることができる。
(Effects of the Invention) As explained above, according to the monitor glass replacement device for an optical film thickness monitor of the invention according to claim (1), a large number of monitor glasses are stacked and held in the supply cartridge, and the upper part of the outer periphery is A rotor having a plurality of glass holding parts is intermittently rotated by a predetermined angle while repeatedly raising and lowering, and the lowermost monitor glass in the supply cartridge is moved by the upward movement and subsequent rotational movement of the rotor. The used monitor glasses are held one by one in the glass holder and taken out from the take-out port and supplied to the monitor position, and then the used monitor glasses are returned to the glass holder by the rotor's rotating action and subsequent descending action. By returning the monitor glass from the return port at the bottom of the cartridge, even if the number of required monitor glasses increases, the monitor glass replacement device only takes up a small space and does not interfere with the heating temperature control of the substrate in the vacuum chamber. In addition, it is possible to replace multiple pieces of monitor glass in succession, and it is possible to supply monitor glasses that correspond to each layer in a multilayer film formation process, allowing each layer to be monitored with independent accuracy. The controllability and accuracy of the film thickness of the multilayer film can be improved.

また、請求項(2)に係る発明によれば、供給カートリ
ッジから回転子のガラス保持部で取り出されたモニタガ
ラスを、成膜モニタのために使用される前に真空槽内に
晒して予備加熱するようにしたことにより、モニタガラ
スの成膜条件を基板と略同じにして、膜厚の制御性や精
度をさらに向上できる。
Further, according to the invention according to claim (2), the monitor glass taken out from the supply cartridge by the glass holding part of the rotor is exposed to a vacuum chamber and preheated before being used for monitoring film formation. By doing so, the film forming conditions for the monitor glass can be made substantially the same as for the substrate, and the controllability and accuracy of the film thickness can be further improved.

さらに、請求項(3)に係る発明によると、供給カート
リッジと戻入れカートリッジとをステーションから取外
し可能でかつ一体化したことにより、成膜工程における
モニタガラスの供給及び取出しの容易化を図ることがで
きるとともに、成膜処理についてのモニタガラスの管理
及びステーションに対する位置決めの容易化を図ること
ができる。
Furthermore, according to the invention according to claim (3), since the supply cartridge and the return cartridge are removable from the station and are integrated, it is possible to facilitate the supply and removal of the monitor glass in the film forming process. At the same time, it is possible to facilitate the management of the monitor glass for the film forming process and its positioning with respect to the station.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は本発明の実施例を示し、第1図はモニタガラス交
換装置の要部の水平方向に沿った断面図、第2図は第1
図の■−■線に沿った断面図、第3図は同m−m線に沿
った要部断面図、第4図は回転子の平面図、第5図は交
換装置の要部をモニタガラスの搬送中心に沿って展開し
た展開図、第6図は膜厚モニタの概略構造図である。 1・・真空槽 9・・・回転軸 11・・駆動装置 16・・回転アクチュエータ 18・・回転子 19・・・開口 20・・ガラス保持部 21・・・供給カートリッジ 32・・・戻入れカートリッジ 34.36・・・挿通孔 35・・・取出し口 37・・・戻入れ口 50・・・膜厚モニタ 51・・・投光器 56・・・ミラーボックス GM・・・モニタガラス 59・・・光路筒 60・・・光路 61・・・受光器 B、・・・入射光 BR・・・反射光 第4図
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a horizontal sectional view of the main parts of the monitor glass replacement device, and FIG.
Figure 3 is a cross-sectional view of the main parts along the line m-m in the figure, Figure 4 is a plan view of the rotor, and Figure 5 is a monitor of the main parts of the exchange device. FIG. 6, which is a developed view developed along the center of glass transport, is a schematic structural diagram of the film thickness monitor. 1...Vacuum chamber 9...Rotary shaft 11...Drive device 16...Rotary actuator 18...Rotor 19...Opening 20...Glass holder 21...Supply cartridge 32...Return cartridge 34.36...Insertion hole 35...Takeout port 37...Return port 50...Film thickness monitor 51...Floodlight 56...Mirror box GM...Monitor glass 59...Optical path Cylinder 60... Optical path 61... Light receiver B... Incident light BR... Reflected light Fig. 4

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)真空槽内で成膜される基板と同等の成膜条件とな
る位置に配設されたモニタガラスへ検知光を照射し、そ
の入射光と反射光との対比に基づいて上記基板への膜厚
をモニタするようにした光学式膜厚モニタにおいて、 真空槽の上壁に回転可能にかつ摺動可能に支持され、下
端が真空槽内に臨む回転軸と、 回転軸の下端に回転一体に取り付けられた回転子と、 上記回転子に、一定ストロークだけ上昇する上昇動作と
、該上昇動作と同じストロークだけ下降する下降動作と
、上記上昇及び下降動作の間に回転軸回りに一定の角度
だけ回動する動作とを繰り返して行わせる駆動手段とが
設けられ、上記回転子は、回転中心から一定半径の円周
上の所定位置に上下に貫通する複数の開口が形成され、
該各開口の上縁部にはモニタガラスを略直径方向に対向
する周縁部で嵌合保持する1対の段部からなるガラス保
持部が設けられ、上記回転子のガラス保持部が上昇又は
下降動作するモニタステーションに回転軸と平行にかつ
中心が上記回転子の開口の周回軌跡と交差するように配
置され、ガラス保持部により保持されたモニタガラスに
対する入射光及び反射光を通過させる光路と、 上記モニタステーションよりも回転方向前側で、回転子
のガラス保持部が上昇移動する供給ステーションに配置
され、多数枚のモニタガラスを積み重ねて収容する筒状
の供給カートリッジと、 上記供給ステーションよりも回転方向前側かつモニタス
テーションよりも回転方向後側で、回転子のガラス保持
部が下降移動する戻入れステーションに配置され、多数
枚のモニタガラスを積み重ねて収容可能な筒状の戻入れ
カートリッジとが設けられ、 上記供給カートリッジの底壁には、回転子のガラス保持
部を挿通可能な挿通孔が開口されているとともに、供給
カートリッジにおける回転子の回転方向後側に相当する
側壁下部に、最下段のモニタガラスのみを水平横方向に
挿通可能な取出し口が切欠形成されている一方、 戻入れカートリッジの底壁には、回転子のガラス保持部
が挿通可能な挿通孔が開口されているとともに、戻入れ
カートリッジにおける回転子の回転方向前側に相当する
側壁下部には上記供給カートリッジの取出し口と同じ高
さ位置に、1枚のモニタガラスを水平横方向にスライド
させて内部に挿入可能な戻入れ口が切欠形成されており
、 回転子のガラス保持部が供給ステーションで上昇して供
給カートリッジの最下端のモニタガラスを保持し、回転
子の回動によりモニタガラスを取出し口から取り出す一
方、上昇位置での回転子の回動によりガラス保持部が戻
入れステーションでモニタガラスを戻入れ口から戻入れ
カートリッジの内底部に押し込み、回転子の下降により
モニタガラスの保持を解除するように構成されているこ
とを特徴とする光学式膜厚モニタのモニタガラス交換装
置。
(1) Detection light is irradiated onto a monitor glass placed at a position where film formation conditions are equivalent to those of the substrate to be deposited in a vacuum chamber, and based on the comparison between the incident light and reflected light, the detection light is applied to the substrate. In an optical film thickness monitor that monitors the film thickness of A rotor is integrally attached to the rotor, and the rotor has a rising motion in which it ascends by a certain stroke, a descending motion in which it descends by the same stroke as the rising motion, and a constant movement around the rotation axis between the rising and descending motions. and a driving means for repeatedly performing an operation of rotating by an angle, and the rotor has a plurality of openings vertically penetrating formed at predetermined positions on a circumference at a constant radius from the rotation center,
A glass holding part is provided at the upper edge of each of the openings, and the glass holding part is made up of a pair of steps that fit and hold the monitor glass at peripheral edges facing each other in a substantially diametrical direction, and the glass holding part of the rotor is raised or lowered. an optical path that is arranged in an operating monitor station parallel to the rotation axis and such that its center intersects the orbit of the aperture of the rotor, and that passes incident light and reflected light to a monitor glass held by a glass holder; A cylindrical supply cartridge for stacking and accommodating a large number of monitor glasses, which is disposed at a supply station in which the glass holding part of the rotor moves upward in the forward direction of the rotation direction from the above-mentioned monitor station; A cylindrical return cartridge capable of stacking and accommodating a large number of monitor glasses is disposed at a return station in which the glass holder of the rotor moves downward at the front side and rearward of the monitor station in the rotational direction. The bottom wall of the supply cartridge has an insertion hole through which the glass holding part of the rotor can be inserted, and a lowermost monitor is provided at the bottom of the side wall of the supply cartridge corresponding to the rear side in the rotational direction of the rotor. A cut-out opening is formed through which only the glass can be inserted horizontally, while an insertion hole through which the glass holding part of the rotor can be inserted is opened in the bottom wall of the return cartridge. At the lower part of the side wall of the cartridge corresponding to the front side in the rotational direction of the rotor, there is a return port at the same height as the take-out port of the supply cartridge, into which a single monitor glass can be inserted by sliding it horizontally and laterally. The glass holding part of the rotor rises at the supply station to hold the monitor glass at the bottom of the supply cartridge, and as the rotor rotates, the monitor glass is taken out from the ejection port. The rotation of the rotor causes the glass holder to push the monitor glass from the return port into the inner bottom of the return cartridge at the return station, and the lowering of the rotor releases the monitor glass from being held. This is a monitor glass replacement device for optical film thickness monitors.
(2)供給ステーションよりも回転方向後側でかつモニ
タステーションよりも回転方向前側に、ガラス保持部の
モニタガラスを真空槽内に晒して予備加熱する加熱ステ
ーションが配設されていることを特徴とする請求項(1
)記載の光学式膜厚モニタのモニタガラス交換装置。
(2) A heating station is provided at the rear of the supply station in the rotational direction and at the front of the monitor station in the rotational direction for preheating the monitor glass of the glass holder by exposing it to a vacuum chamber. Claim (1)
) A monitor glass replacement device for the optical film thickness monitor described in ).
(3)供給カートリッジと戻入れカートリッジとはそれ
ぞれステーションから取外し可能で、かつ互いに一体に
結合されていることを特徴とする請求項(1)又は(2
)記載の光学式膜厚モニタのモニタガラス交換装置。
(3) The supply cartridge and the return cartridge are each removable from the station and are integrally connected to each other as claimed in claim (1) or (2).
) A monitor glass replacement device for the optical film thickness monitor described in ).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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