JPH04369187A - Ccd solid-state image pickup element - Google Patents

Ccd solid-state image pickup element

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JPH04369187A
JPH04369187A JP3144840A JP14484091A JPH04369187A JP H04369187 A JPH04369187 A JP H04369187A JP 3144840 A JP3144840 A JP 3144840A JP 14484091 A JP14484091 A JP 14484091A JP H04369187 A JPH04369187 A JP H04369187A
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floating diffusion
source follower
charge
follower circuit
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真城 康人
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Abstract

PURPOSE:To improve a charge-voltage conversion efficiency for a floating diffusion layer, to enhance the sensitivity of the CCD solid-state image pickup element and to improve the S/N by reducing a parasitic capacitance between the floating diffusion and an output gate. CONSTITUTION:This solid-state image pickup element is provided with an output section 1, in which a signal charge from a final stage of a charge transfer section 2 comprising a CCD is once stored in a floating diffusion FD via an output gate OG and a voltage change V based on the stored charge is fed to a source follower circuit 5 and an image pickup signal S is extracted from an output terminal phiout of the source follower circuit 5. The output of the source follower circuit 5 and the output gate OG are connected to feed back the image pickup signal S outputted from the source follower circuit 5 to the output gate OG.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、CCD固体撮像素子、
特にCCDで構成された電荷転送部からの信号電荷を出
力電圧に変換する所謂フローティング・ディフュージョ
ン・アンプを有するCCD固体撮像素子に関する。 【0002】 【従来の技術】従来のCCD固体撮像素子、特にその出
力部は、図4に示すように、CCDで構成された電荷転
送部21の次段に、出力ゲートOGを隔ててフローティ
ング・ディフュージョンFD、リセットゲートPG及び
ドレイン領域Dからなる放電用素子22と、更にこの放
電用素子22の後段に出力素子Q1 と負荷抵抗素子Q
2 からなるソースフォロア回路23を具備して構成さ
れている。 【0003】そして、上記電荷転送部21のうち、最終
段の転送電極TG下から転送される信号電荷を一旦フロ
ーティング・ディフュージョンFDに蓄積し、その蓄積
電荷に基づく電圧変化ΔVを後段のソースフォロア回路
23に供給することにより、ソースフォロア回路23の
出力端子φoutから出力電圧(撮像信号)Sとして取
り出す。 【0004】ソースフォロア回路23の出力端子φou
tから撮像信号Sを取り出した後は、リセットゲートP
GにリセットパルスφPGを供給してフローティング・
ディフュージョンFDを初期電圧Vddにリセットし、
フローティング・ディフュージョンFDに蓄積されてい
た電荷をドレイン領域D側に掃き出す。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】一般に、フローティン
グ・ディフュージョンFDにおける電荷−電圧変換効率
ηは、次の数1で表される。 【数1】η=ΔV/ΔQ=1/CFD 【0006】ここで、ΔVはフローティング・ディフュ
ージョンFDに蓄積された信号電荷量ΔQに基づく電圧
変化を示す。また、CFDはフローティング・ディフュ
ージョンに関する全容量であり、この全容量CFDは次
式で表される。 CFD=CB +COG+CPG+CL+CM 【00
07】ここで、各容量は、図5に示すように、CB が
フローティング・ディフュージョンFDと基板や隣接チ
ャンネル間の容量、COGがフローティング・ディフュ
ージョンFDと出力ゲートOG間の容量、CPGがフロ
ーティング・ディフュージョンFDとリセットゲートP
G間の容量、CL が配線容量、CM がソースフォロ
ア回路23における容量である。 【0008】そして、上記数1からもわかる通り、この
フローティング・ディフュージョンFDに関する全容量
CFDを低減化させることによってフローティング・デ
ィフュージョンFDでの電荷−電圧変換効率ηを高める
ことができる。 【0009】これを実現させるために従来では、フロー
ティング・ディフュージョンFDの面積を小さくするな
どの方法がとられているが、従来のCCD固体撮像素子
においては、出力ゲートOGにかかる電位Vogが固定
電位であるため、フローティング・ディフュージョンF
Dと出力ゲートOG間の寄生容量COGを下げることが
できず、上記電荷−電圧変換効率ηの向上の障害となっ
ている。 【0010】これは、信号電荷を非破壊的に検出するこ
とができるフローティング・ゲート出力方式のCCD固
体撮像素子においても同様である。 【0011】本発明は、このような課題に鑑み成された
もので、その目的とするところは、フローティング・デ
ィフュージョンと出力ゲート間の寄生容量を低減化でき
、フローティング・ディフュージョンにおける電荷−電
圧変換効率の向上を達成できると共に、CCD固体撮像
素子の感度の向上及びS/N比の向上を図ることができ
るCCD固体撮像素子を提供することにある。 【0012】 【課題を解決するための手段】本発明は、CCDで構成
された電荷転送部2の最終段からの信号電荷を出力ゲー
トOGを介して一旦フローティング・ディフュージョン
FDに蓄積し、その蓄積電荷に基づく電圧変化ΔVを出
力アンプ5に供給することによって、該出力アンプ5の
出力端子φoutから撮像信号Sとして取り出すように
した出力部1を有するCCD固体撮像素子において、出
力アンプ5からの出力(撮像信号S)を出力ゲートOG
に帰還させて構成する。 【0013】 【作用】上述の本発明の構成によれば、出力ゲートOG
にフローティング・ディフュージョンFDにおける電圧
変化ΔVと同相の撮像信号Sが供給されるため、フロー
ティング・ディフュージョンFDと出力ゲートOG間の
寄生容量COGが低減化される。実際には、出力アンプ
5の利得をGとすると、(1ーG)倍ほど低減化するこ
とができる。その結果、フローティング・ディフュージ
ョンFDに関する全容量CFDの低減化を実現させるこ
とができ、フローティング・ディフュージョンFDにお
ける電荷−電圧変換効率ηを向上させることができる。 これは、CCD固体撮像素子の感度の向上及びS/N比
の向上につながる。 【0014】 【実施例】以下、図1〜図3を参照しながら本発明の実
施例を説明する。図1は、本実施例に係るCCD固体撮
像素子の特にその出力部1の構成を概略的に示す等価回
路図である。 【0015】このCCD固体撮像素子の出力部1は、C
CDで構成された電荷転送部2からの信号電荷を出力電
圧に変換する所謂FDA(フローティング・ディフュー
ジョン・アンプ)3を有する。即ち、電荷転送部2の次
段に、出力ゲートOGを隔ててフローティング・ディフ
ュージョンFD、リセットゲートPG及びドレイン領域
Dからなる放電用素子4を有し、更にこの放電用素子4
の次段に少なくとも出力素子Q1 及び負荷抵抗素子Q
2 からなるソースフォロア回路5を具備して構成され
ている。上記出力素子Q1 及び負荷抵抗素子Q2 は
、例えばNチャンネル型MOSFET(MOS型電界効
果トランジスタ)で構成される。 【0016】電荷転送部2は、例えばP型のシリコン基
板6表面のN型の不純物拡散領域帯にて構成された水平
レジスタ7と、この水平レジスタ7上に絶縁膜8を介し
て形成された1層目及び2層目の多結晶シリコン層によ
る第1及び第2の水平転送電極9及び10とを有し、更
にこれら2枚の水平転送電極9及び10が夫々1組にな
って順次水平方向に配列、形成されて構成されている。 そして、互いに逆相である2相の駆動パルスφ1及びφ
2を1組毎に印加することにより、信号電荷を順次出力
部1側に転送する。 【0017】そして、上記電荷転送部2のうち、最終段
の転送電極9から転送される信号電荷を一旦フローティ
ング・ディフュージョンFDに蓄積し、その蓄積電荷に
基づく電圧変化ΔVを後段のソースフォロア回路5に供
給することにより、該ソースフォロア回路5の出力端子
φoutから出力信号(撮像信号)Sとして取り出す。 【0018】出力端子φoutから出力信号Sを取り出
した後は、リセットゲートPGにリセットパルスφPG
を供給することにより、フローティング・ディフュージ
ョンFDを初期電圧Vddにリセットし、フローティン
グ・ディフュージョンFDに蓄積されていた信号電荷を
ドレイン領域D側に掃き出す。尚、2相の駆動パルスφ
1及びφ2並びにリセットパルスφPGの出力タイミン
グを図2に示す。 【0019】従って、フローティング・ディフュージョ
ンFDからの電圧変化ΔVは図3の波形■に示すように
、プリチャージドレイン電圧Vddと蓄積電荷量に基づ
く信号成分が含まれた信号となる。また、ソースフォロ
ア回路5からの出力信号Sは、ソースフォロア回路5の
利得をG(0.7<G≦1)とすると、波形■に示すよ
うに、上記フローティング・ディフュージョンFDから
の電圧変化ΔVをG倍した信号となり、各信号(電圧変
化ΔV及び出力信号S)の関係は同相となる。 【0020】このとき、ソースフォロア回路5からの出
力信号Sにおいて、上記フローティング・ディフュージ
ョンFDからの電圧変化ΔVにおけるプリチャージドレ
イン電圧Vddと対応する電位はVoであり、その大小
関係はソースフォロア回路5の利得Gの関係からVdd
<Voである。 【0021】しかして、本例においては、ソースフォロ
ア回路5の出力側と出力ゲートOGとを接続して、ソー
スフォロア回路5から出力される出力信号(撮像信号)
Sを出力ゲートOGに帰還させる。この場合、出力ゲー
トOGにフローティング・ディフュージョンFDにおけ
る電圧変化ΔVと同相の信号が供給されることから、フ
ローティング・ディフュージョンFDと出力ゲートOG
間の寄生容量COGが低減化される。 【0022】現実的には、ソースフォロア回路5の利得
をGとすると、上記寄生容量COGを(1−G)倍ほど
低減化することができる。このことから、理想的には、
ソースフォロア回路5の負荷抵抗素子Q2 のゲートに
印加されるバイアス電位Vggを変化させることによっ
て、ソースフォロア回路5の利得Gを1に近づけて、フ
ローティング・ディフュージョンFDからの電圧変化Δ
Vとソースフォロア回路5からの出力信号Sとの間の電
位差(例えばVdd−Vo)を0に近づけるようにすれ
ば、フローティング・ディフュージョンFDと出力ゲー
トOG間の寄生容量COGを等価的に0にすることがで
きる。 【0023】上述のように、本例によれば、ソースフォ
ロア回路5からの出力(撮像信号S)を出力ゲートOG
に帰還させて構成するようにしたので、フローティング
・ディフュージョンFDと出力ゲートOG間の寄生容量
COGを低減化することができ、結果的に、フローティ
ング・ディフュージョンFDに関する全容量CFDの低
減化を実現させることができる。このことから、フロー
ティング・ディフュージョンFDにおける電荷−電圧変
換効率ηを向上させることができ、CCD固体撮像素子
の感度の向上及びS/N比の向上を図ることが可能とな
る。 【0024】尚、上記実施例では、フローティング・デ
ィフュージョンFDからの電圧変化ΔVを出力素子Q1
 及び負荷抵抗素子Q2 からなるソースフォロア回路
5にて増幅する出力部1について適用した例を示したが
、その他、上記ソースフォロア回路5に限らずボルテー
ジ・フォロア型アンプであればすべて適用可能である。 【0025】また、上記実施例では、電荷転送部2から
の信号電荷を電圧変換するものとしてフローティング・
ディフュージョンFDを用いたが、その他、このフロー
ティング・ディフュージョンFDに限らずフローティン
グ・ゲート出力方式のCCD固体撮像素子に対しても適
用可能である。この場合、電荷−電圧変換効率ηは上記
数1と異なるが、寄生容量を減らすことにより、電荷−
電圧変換効率ηの高効率化は達成される。 【0026】また、上記実施例では、電荷転送部2を構
成する不純物拡散領域としてN型を用いることにより、
信号電荷として取り扱うキャリアを電子とした場合につ
いて示したが、その他、電荷転送部2を構成する不純物
拡散領域をP型にして、信号電荷として取り扱うキャリ
アを正孔とした場合にも適用可能である。 【0027】 【発明の効果】本発明に係るCCD固体撮像素子によれ
ば、フローティング・ディフュージョンと出力ゲート間
の寄生容量を低減化できることから、フローティング・
ディフュージョンにおける電荷−電圧変換効率の向上を
達成できると共に、CCD固体撮像素子の感度の向上及
びS/N比の向上を図ることができる。
Detailed Description of the Invention [0001] [Industrial Application Field] The present invention relates to a CCD solid-state image sensor,
In particular, the present invention relates to a CCD solid-state image sensor having a so-called floating diffusion amplifier that converts signal charges from a charge transfer section configured with a CCD into an output voltage. 2. Description of the Related Art As shown in FIG. 4, a conventional CCD solid-state image pickup device, particularly its output section, is a floating charge transfer section 21 formed of a CCD, with an output gate OG in between. A discharging element 22 consisting of a diffusion FD, a reset gate PG, and a drain region D, and further downstream of this discharging element 22 an output element Q1 and a load resistance element Q.
The source follower circuit 23 includes a source follower circuit 23 consisting of 2 parts. In the charge transfer section 21, the signal charge transferred from below the transfer electrode TG at the final stage is temporarily accumulated in the floating diffusion FD, and the voltage change ΔV based on the accumulated charge is transferred to the source follower circuit at the subsequent stage. 23, it is taken out as an output voltage (imaging signal) S from the output terminal φout of the source follower circuit 23. Output terminal φou of source follower circuit 23
After taking out the imaging signal S from t, the reset gate P
Floating by supplying reset pulse φPG to
Reset the diffusion FD to the initial voltage Vdd,
The charges accumulated in the floating diffusion FD are swept out to the drain region D side. [0005] Generally, the charge-voltage conversion efficiency η in a floating diffusion FD is expressed by the following equation 1. [Equation 1] η=ΔV/ΔQ=1/CFD Here, ΔV represents a voltage change based on the amount of signal charge ΔQ accumulated in the floating diffusion FD. Further, CFD is the total capacitance related to the floating diffusion, and this total capacitance CFD is expressed by the following equation. CFD=CB +COG+CPG+CL+CM 00
[07] Here, each capacitance is as shown in FIG. 5. CB is the capacitance between the floating diffusion FD and the substrate or adjacent channel, COG is the capacitance between the floating diffusion FD and the output gate OG, and CPG is the floating diffusion capacitance. FD and reset gate P
CL is the wiring capacitance, and CM is the capacitance in the source follower circuit 23. As can be seen from Equation 1 above, the charge-voltage conversion efficiency η of the floating diffusion FD can be increased by reducing the total capacitance CFD of the floating diffusion FD. Conventionally, methods such as reducing the area of the floating diffusion FD have been used to achieve this, but in the conventional CCD solid-state image sensor, the potential Vog applied to the output gate OG is a fixed potential. Therefore, floating diffusion F
The parasitic capacitance COG between D and the output gate OG cannot be reduced, which is an obstacle to improving the charge-voltage conversion efficiency η. [0010] This also applies to a floating gate output type CCD solid-state imaging device that can detect signal charges non-destructively. [0011] The present invention was made in view of the above problems, and its purpose is to reduce the parasitic capacitance between the floating diffusion and the output gate, and to improve the charge-voltage conversion efficiency in the floating diffusion. It is an object of the present invention to provide a CCD solid-state image sensor that can improve the sensitivity and S/N ratio of the CCD solid-state image sensor. [Means for Solving the Problems] The present invention stores signal charges from the final stage of a charge transfer unit 2 composed of a CCD in a floating diffusion FD via an output gate OG, and In a CCD solid-state image sensing device having an output section 1, in which a voltage change ΔV based on the charge is supplied to an output amplifier 5, an image signal S is taken out from an output terminal φout of the output amplifier 5, and the output from the output amplifier 5 is Output gate OG (imaging signal S)
Return to and configure. [Operation] According to the configuration of the present invention described above, the output gate OG
Since the imaging signal S that is in phase with the voltage change ΔV in the floating diffusion FD is supplied to the floating diffusion FD, the parasitic capacitance COG between the floating diffusion FD and the output gate OG is reduced. In reality, if the gain of the output amplifier 5 is G, it can be reduced by a factor of (1-G). As a result, the total capacitance CFD of the floating diffusion FD can be reduced, and the charge-voltage conversion efficiency η of the floating diffusion FD can be improved. This leads to improved sensitivity and improved S/N ratio of the CCD solid-state image sensor. [Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 1 is an equivalent circuit diagram schematically showing the configuration of the CCD solid-state image sensor according to this embodiment, particularly the output section 1 thereof. [0015] The output section 1 of this CCD solid-state image sensor is
It has a so-called FDA (floating diffusion amplifier) 3 that converts signal charges from a charge transfer section 2 composed of a CD into an output voltage. That is, at the next stage of the charge transfer section 2, there is a discharging element 4 consisting of a floating diffusion FD, a reset gate PG, and a drain region D across the output gate OG, and further this discharging element 4
At the next stage, there is at least an output element Q1 and a load resistance element Q.
The source follower circuit 5 includes a source follower circuit 5 consisting of 2 parts. The output element Q1 and the load resistance element Q2 are constructed of, for example, an N-channel type MOSFET (MOS type field effect transistor). The charge transfer section 2 includes, for example, a horizontal resistor 7 composed of an N-type impurity diffusion region band on the surface of a P-type silicon substrate 6, and a horizontal resistor 7 formed on the horizontal resistor 7 with an insulating film 8 interposed therebetween. It has first and second horizontal transfer electrodes 9 and 10 made of first and second polycrystalline silicon layers, and furthermore, these two horizontal transfer electrodes 9 and 10 form a set and are sequentially horizontally transferred. It is arranged and formed in the direction. Then, two-phase driving pulses φ1 and φ having opposite phases to each other are generated.
2 is applied to each set, the signal charges are sequentially transferred to the output section 1 side. In the charge transfer section 2, the signal charge transferred from the transfer electrode 9 at the final stage is temporarily stored in the floating diffusion FD, and the voltage change ΔV based on the accumulated charge is transferred to the source follower circuit 5 at the subsequent stage. By supplying the signal to the output terminal φout of the source follower circuit 5, an output signal (imaging signal) S is taken out. After taking out the output signal S from the output terminal φout, a reset pulse φPG is applied to the reset gate PG.
By supplying , the floating diffusion FD is reset to the initial voltage Vdd, and the signal charges accumulated in the floating diffusion FD are swept out to the drain region D side. In addition, the two-phase drive pulse φ
1 and φ2 and the output timing of the reset pulse φPG are shown in FIG. Therefore, the voltage change ΔV from the floating diffusion FD becomes a signal containing a signal component based on the precharge drain voltage Vdd and the amount of accumulated charge, as shown in waveform (2) in FIG. In addition, the output signal S from the source follower circuit 5 has a voltage change ΔV from the floating diffusion FD, as shown in the waveform ■, assuming that the gain of the source follower circuit 5 is G (0.7<G≦1). The signal is multiplied by G, and the relationship between each signal (voltage change ΔV and output signal S) is in phase. At this time, in the output signal S from the source follower circuit 5, the potential corresponding to the precharged drain voltage Vdd in the voltage change ΔV from the floating diffusion FD is Vo, and the magnitude relationship is determined by the source follower circuit 5. From the relationship of gain G, Vdd
<Vo. In this example, the output side of the source follower circuit 5 and the output gate OG are connected, and the output signal (imaging signal) output from the source follower circuit 5 is
S is fed back to the output gate OG. In this case, since the output gate OG is supplied with a signal that is in phase with the voltage change ΔV in the floating diffusion FD, the floating diffusion FD and the output gate OG
The parasitic capacitance COG between the two is reduced. In reality, if the gain of the source follower circuit 5 is G, the parasitic capacitance COG can be reduced by a factor of (1-G). From this, ideally,
By changing the bias potential Vgg applied to the gate of the load resistance element Q2 of the source follower circuit 5, the gain G of the source follower circuit 5 is brought close to 1, and the voltage change Δ from the floating diffusion FD is
By making the potential difference (for example, Vdd-Vo) between V and the output signal S from the source follower circuit 5 close to 0, the parasitic capacitance COG between the floating diffusion FD and the output gate OG can be equivalently reduced to 0. can do. As described above, according to this example, the output from the source follower circuit 5 (imaging signal S) is sent to the output gate OG.
Since the configuration is such that the parasitic capacitance COG between the floating diffusion FD and the output gate OG can be reduced, the total capacitance CFD related to the floating diffusion FD can be reduced. be able to. From this, it is possible to improve the charge-voltage conversion efficiency η in the floating diffusion FD, and it is possible to improve the sensitivity and S/N ratio of the CCD solid-state image sensor. In the above embodiment, the voltage change ΔV from the floating diffusion FD is output to the output element Q1.
Although an example has been shown in which the output section 1 is amplified by the source follower circuit 5 consisting of the load resistance element Q2 and the source follower circuit 5, the application is applicable not only to the source follower circuit 5 but also to any voltage follower type amplifier. . In the above embodiment, the floating charger is used as a voltage converter for the signal charge from the charge transfer section 2.
Although a diffusion FD is used, the present invention is applicable not only to this floating diffusion FD but also to a floating gate output type CCD solid-state image sensor. In this case, the charge-voltage conversion efficiency η is different from Equation 1 above, but by reducing the parasitic capacitance, the charge-voltage conversion efficiency η is
A high voltage conversion efficiency η is achieved. Furthermore, in the above embodiment, by using N type as the impurity diffusion region constituting the charge transfer section 2,
Although the case where the carriers handled as signal charges are electrons is shown, it is also applicable to the case where the impurity diffusion region constituting the charge transfer section 2 is of P type and the carriers handled as signal charges are holes. . [0027] According to the CCD solid-state imaging device according to the present invention, the parasitic capacitance between the floating diffusion and the output gate can be reduced.
It is possible to improve the charge-voltage conversion efficiency in diffusion, and also to improve the sensitivity and S/N ratio of the CCD solid-state image sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本実施例に係るCCD固体撮像素子の出力部の
構成を示す等価回路図。
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing the configuration of an output section of a CCD solid-state image sensor according to the present embodiment.

【図2】2相の駆動パルス及びリセットパルスの出力タ
イミングを示す波形図。
FIG. 2 is a waveform diagram showing output timings of two-phase drive pulses and reset pulses.

【図3】フローティング・ディフュージョンからの電圧
変化とソースフォロア回路からの出力信号の関係を示す
波形図。
FIG. 3 is a waveform diagram showing the relationship between voltage changes from the floating diffusion and output signals from the source follower circuit.

【図4】従来例に係るCCD固体撮像素子の出力部の構
成を示す等価回路図。
FIG. 4 is an equivalent circuit diagram showing the configuration of an output section of a conventional CCD solid-state image sensor.

【図5】フローティング・ディフュージョンに関する全
容量を示す等価回路図。
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing the total capacitance related to floating diffusion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  出力部 2  電荷転送部 3  FDA 4  放電用素子 5  ソースフォロア回路 OG  出力ゲート FD  フローティング・ディフュージョンPG  リ
セットゲート D  ドレイン領域
1 Output section 2 Charge transfer section 3 FDA 4 Discharge element 5 Source follower circuit OG Output gate FD Floating diffusion PG Reset gate D Drain region

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  CCDで構成された電荷転送部の最終
段からの信号電荷を出力ゲートを介して一旦フローティ
ング・ディフュージョンに蓄積し、その蓄積電荷に基づ
く電圧変化を出力アンプに供給することによって、該出
力アンプの出力端子から撮像信号として取り出すように
した出力部を有するCCD固体撮像素子において、上記
出力アンプからの出力が上記出力ゲートに帰還されてい
ることを特徴とするCCD固体撮像素子。
Claim 1: By temporarily accumulating the signal charge from the final stage of the charge transfer section composed of a CCD in a floating diffusion via an output gate, and supplying a voltage change based on the accumulated charge to an output amplifier, A CCD solid-state image sensor having an output section configured to output an image signal from an output terminal of the output amplifier, wherein the output from the output amplifier is fed back to the output gate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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