JPH04357099A - Magnetic card having polishing properties - Google Patents

Magnetic card having polishing properties

Info

Publication number
JPH04357099A
JPH04357099A JP3072987A JP7298791A JPH04357099A JP H04357099 A JPH04357099 A JP H04357099A JP 3072987 A JP3072987 A JP 3072987A JP 7298791 A JP7298791 A JP 7298791A JP H04357099 A JPH04357099 A JP H04357099A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
parts
paint
magnetic card
polishing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3072987A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Morishima
森嶋 秀樹
Minoru Nakamura
穣 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP3072987A priority Critical patent/JPH04357099A/en
Publication of JPH04357099A publication Critical patent/JPH04357099A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To ensure that the magnetic head of a terminal device is not damaged and a contaminant is removed to prevent a write and read error occurrence by providing a polishing layer containing a metal oxide such as silica or alumina on a magnetic layer. CONSTITUTION:The subject magnetic card consists of a sheet-like or a plate-like base, a magnetic layer formed on the base and a polishing layer formed on the magnetic layer. Especially the polishing layer containing silica and a metal oxide selected from among alumina, titanium oxide, chromium oxide and ferric oxide is provided on the magnetic layer. The polishing layer has a film whose thickness ranges from 1 to 9mum. In addition, the blend ratio of silican and the metal oxide in the polishing layer ranges from 3 to 50wt.%. Subsequently, a contaminant sticking to a magnetic head can be removed without damaging the magnetic head. Further, the contaminant does not cause a space loss with the magnetic head and therefore, the output variation rate of the magnetic card does not deteriorate.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、研磨性を有する磁気カ
ードに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an abrasive magnetic card.

【0002】0002

【従来の技術】プリペイドカードは、使用される環境に
より、その表面が手垢、汚れ等で汚染される。このよう
なカードが端末機で使用された場合、端末機の磁気ヘッ
ドにその汚れが付着し、読み取り不良等の原因になる。 これを防止するためには、一定期間ごとに端末機磁気ヘ
ッドのメンテナンスを実施し、汚れを取り除く事が必要
である。しかしながら、広範囲に設置されたこれらの端
末機全てのメンテナンスを実施することは不可能であり
、何らかの方法で端末機磁気ヘッドのメンテナンスフリ
ーを可能とする必要がある。従来、このような端末機磁
気ヘッドの汚れを取り除く方法としては、磁気カード表
面に研磨層を設け、その研磨効果により汚れを取り除く
方法が知られている。
2. Description of the Related Art Depending on the environment in which prepaid cards are used, their surfaces become contaminated with dirt and grime. When such a card is used in a terminal device, the dirt adheres to the magnetic head of the terminal device, causing reading errors and the like. In order to prevent this, it is necessary to perform maintenance on the terminal magnetic head at regular intervals to remove dirt. However, it is impossible to perform maintenance on all of these terminals installed over a wide area, and it is necessary to make the terminal magnetic heads maintenance-free by some method. Conventionally, a known method for removing dirt from the magnetic head of a terminal device is to provide an abrasive layer on the surface of a magnetic card and use the abrasive effect of the abrasive layer to remove the dirt.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のカードは、非常に硬度の高い研磨性顔料を含有した
層をカード表面に有するため、研磨力が高く、汚れを取
り除く作用は大きいが、端末機磁気ヘッドをも研磨して
しまい、磁気ヘッドの寿命を短くする。また、研磨性顔
料が一般的に微粒子であり、研磨性表面が平滑になる。 この為、一度取り除かれた汚れがカード表面に付着して
残り、このカードを再度使用したときに、この汚れが端
末機磁気ヘッドとの間でスペースロスとして働き、カー
ドの出力変動率を大きくし、書き込み或いは読み取りエ
ラーを起こす問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned conventional cards have a layer containing an extremely hard abrasive pigment on the surface of the card, so they have a high abrasive power and have a great effect on removing dirt, but they do not work well with terminals. This also polishes the machine magnetic head, shortening its lifespan. Furthermore, the abrasive pigment is generally in the form of fine particles, resulting in a smooth abrasive surface. For this reason, once the dirt has been removed, it remains on the card surface, and when the card is used again, this dirt acts as a space loss between the card and the magnetic head of the terminal, increasing the card's output fluctuation rate. However, there is a problem that writing or reading errors may occur.

【0004】本発明が解決しようとする課題は、従来カ
ードのこのような欠点を解決し、端末機磁気ヘッドは傷
つけず、汚染物を取り除き、且つ、一度取り除いた汚れ
を表面の粗さの中に保持し、書き込み、読み取りエラー
を起こさない研磨層を有し、端末機磁気ヘッドのメンテ
ナンスフリーを可能とする磁気カードを提供するもので
ある。
The problem to be solved by the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of conventional cards, remove contaminants without damaging the magnetic head of the terminal, and remove the contaminants once removed from the rough surface. The purpose of the present invention is to provide a magnetic card that has a polishing layer that retains the magnetic head and prevents writing and reading errors, and enables maintenance-free maintenance of the magnetic head of a terminal device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、磁気記録層上に(1)シリカ及び(2)ア
ルミナ、酸化チタン、酸化クロム及び酸化第2鉄から成
る群から選ばれる金属酸化物を含有する研磨層を有する
ことを特徴とする磁気カードを提供する。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a magnetic recording layer containing a material selected from the group consisting of (1) silica and (2) alumina, titanium oxide, chromium oxide, and ferric oxide. Provided is a magnetic card characterized by having a polishing layer containing a metal oxide.

【0006】以下、本発明を図面に示した好ましい具体
例により説明する。本発明に係わる磁気カードAは、例
えば (a)第1図に示したように、シート状あるいは板状の
基体1とこの上に設けられた磁気層2とこの磁気層2の
上に設けられた研磨層3から構成される磁気カード。
[0006] The present invention will be explained below with reference to preferred embodiments shown in the drawings. A magnetic card A according to the present invention includes, for example, (a) a sheet-like or plate-like base 1, a magnetic layer 2 provided thereon, and a magnetic layer 2 provided on the magnetic layer 2, as shown in FIG. A magnetic card comprising a polished layer 3.

【0007】(b)第2図に示したように、シート状あ
るいは板状の基体1とこの上に設けられた磁気層2とこ
の磁気層2の上の一部に設けられた研磨層3から構成さ
れる磁気カード等が挙げられる。
(b) As shown in FIG. 2, a sheet-like or plate-like base 1, a magnetic layer 2 provided thereon, and a polishing layer 3 provided on a part of the magnetic layer 2. For example, a magnetic card consisting of:

【0008】基体1は、シート状あるいは板状をしてお
り、この基体1の材料としては、例えば、ナイロン、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポ
リスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエス
テル、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミドなどの
プラスチック類;銅、アルミニウムなどの金属;紙、含
浸紙等が挙げられ、これらの材料は単独あるいは組み合
わせて、複合体として用いることができる。強度、剛度
、隠蔽力、光不透過率などの基体として要求される物性
を考慮して、上記材料の中から好ましいものを適宜選択
すれば良い。尚、基体1の厚さは、0.005〜5mm
の範囲が好ましい。
The substrate 1 is in the form of a sheet or a plate, and examples of the material for the substrate 1 include nylon, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyester, polyethylene terephthalate, and polyimide. Examples include plastics; metals such as copper and aluminum; paper and impregnated paper; these materials can be used alone or in combination to form a composite. A preferable material may be selected as appropriate from among the above-mentioned materials, taking into consideration the physical properties required of the substrate, such as strength, rigidity, hiding power, and optical opacity. Note that the thickness of the base 1 is 0.005 to 5 mm.
A range of is preferred.

【0009】磁気層2は、例えば、γ−Fe2O3、C
o被着 γ− Fe2O3、Fe3O4、CrO2、F
e、Fe−Cr、Fe−Co、Co−Cr、Co−Ni
、MnAl、Baフェライト、Srフェライトなど公知
の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に
分散させてなる分散物をグラビア方式、リバース方式、
ナイフエッジ方式等の公知の塗布方法によって基体1上
に形成することができる。
The magnetic layer 2 is made of, for example, γ-Fe2O3, C
o Adhesion γ- Fe2O3, Fe3O4, CrO2, F
e, Fe-Cr, Fe-Co, Co-Cr, Co-Ni
, MnAl, Ba ferrite, Sr ferrite, and other known magnetic particles are dispersed in a suitable resin or ink vehicle using a gravure method, a reverse method,
It can be formed on the substrate 1 by a known coating method such as a knife edge method.

【0010】また、磁気層2は、Fe、Fe−Cr、F
e−Co、Co−Crなどの金属あるいは合金を用いて
、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法などによって基体
1上に形成することもできる。
[0010] Furthermore, the magnetic layer 2 is made of Fe, Fe-Cr, F
It can also be formed on the base 1 by vacuum evaporation, sputtering, plating, etc. using metals or alloys such as e-Co and Co-Cr.

【0011】塗布方法によって磁気層2を形成する場合
には、その膜厚が1〜100μmの範囲が好ましく、5
〜20μmの範囲が最も好ましい。
When the magnetic layer 2 is formed by a coating method, the film thickness is preferably in the range of 1 to 100 μm;
A range of ˜20 μm is most preferred.

【0012】また、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法
などによって磁気層2を形成する場合には、その膜厚が
100A〜1μmの範囲が好ましく、500〜2000
Aの範囲が特に好ましい。
[0012] When the magnetic layer 2 is formed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, a plating method, etc., the film thickness is preferably in the range of 100A to 1μm, and preferably in the range of 500 to 2000μm.
The range A is particularly preferred.

【0013】γ−Fe2O3などの磁性微粒子が分散さ
れるバインダー樹脂あるいはインキビヒクルとしては例
えばブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹
脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース系樹
脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合樹脂な
どがあげられる。またこれらの樹脂に必要に応じて、ニ
トリルゴムなどのゴム系樹脂、ウレタンエラストマーな
どを添加することもできる。また磁性微粒子が上記樹脂
中に分散されてなる分散物中に必要に応じて界面活性剤
、シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコン
オイル、カーボン、その他の顔料を添加することもでき
る。
Examples of the binder resin or ink vehicle in which magnetic fine particles such as γ-Fe2O3 are dispersed include butyral resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, urethane resin, polyester resin, cellulose resin, acrylic resin, and styrene-malein. Examples include acid copolymer resins. Further, rubber resins such as nitrile rubber, urethane elastomers, etc. can be added to these resins as necessary. Furthermore, surfactants, silane coupling agents, plasticizers, waxes, silicone oils, carbon, and other pigments may be added to the dispersion in which magnetic fine particles are dispersed in the resin, as required.

【0014】磁性微粒子を含有する分散物中の磁性微粒
子の割合は、65〜90重量%の範囲が望ましい。
The proportion of magnetic fine particles in the dispersion containing magnetic fine particles is preferably in the range of 65 to 90% by weight.

【0015】研磨層3は、(1)シリカ及び(2)アル
ミナ、酸化チタン、酸化クロム、酸化第2鉄から成る群
から選ばれる金属酸化物を適当なバインダーあるいはイ
ンキビヒクル中に分散させてなる分散物をグラビア方式
、リバース方式、ナイフエッジ方式、シルクスクリーン
方式など従来公知の塗布方法で磁気層2上に設けること
ができる。
The polishing layer 3 is made by dispersing (1) silica and (2) a metal oxide selected from the group consisting of alumina, titanium oxide, chromium oxide, and ferric oxide in a suitable binder or ink vehicle. The dispersion can be provided on the magnetic layer 2 by a conventionally known coating method such as a gravure method, a reverse method, a knife edge method, or a silk screen method.

【0016】本発明で使用するシリカとしては、例えば
、富士デビソン化学(株)製の「サイロイド63」、「
サイロイド65」、「サイロイド72」、「サイロイド
74」、「サイロイド105」、「サイロイド244」
、「サイロイド308」、「サイロホービック100」
、日本アエロジル(株)製の「アエロジルOX−50」
、「アエロジル1130」、「アエロジル200」、「
アエロジル300」、「アエロジル380」などが挙げ
られる。
Examples of the silica used in the present invention include "Syroid 63" and "Syroid 63" manufactured by Fuji Davison Chemical Co., Ltd.
Thyroid 65”, “Thyroid 72”, “Thyroid 74”, “Thyroid 105”, “Thyroid 244”
, "Thyroid 308", "Thyrophobic 100"
, "Aerosil OX-50" manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
, "Aerosil 1130", "Aerosil 200", "
Examples include "Aerosil 300" and "Aerosil 380."

【0017】本発明で使用するアルミナとしては、例え
ば、昭和軽金属(株)製の「UA−5025」、「UA
−5055」、「UA−5205」、村上工業(株)製
の「メカノックスUB−10」、住友化学工業(株)製
の「高純度アルミナAKP−18」、「高純度アルミナ
AKP−20」等が挙げられる。
Examples of the alumina used in the present invention include "UA-5025" and "UA
-5055'', ``UA-5205'', ``Mechanox UB-10'' manufactured by Murakami Industries, Ltd., ``High Purity Alumina AKP-18'' and ``High Purity Alumina AKP-20'' manufactured by Sumitomo Chemical Industries, Ltd. etc.

【0018】本発明で使用する酸化チタンとしては、例
えば、石原産業(株)製の「タイペークR−820」、
「タイペークR−830」、「タイペークCR−50」
、「タイペークCR−80」、「タイペークCR−85
]、「タイペークイエローTY−50」、「タイペーク
イエローTY−70」、(株)テイカ製の「テイカJR
−603」、「テイカJR−602」、「テイカJR−
701」、「テイカJR−801」等が挙げられる。
[0018] Examples of the titanium oxide used in the present invention include "Tiepeke R-820" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.
"Tiepeke R-830", "Tiepeke CR-50"
, "Tiepeke CR-80", "Tiepeke CR-85"
], "Typeke Yellow TY-50", "Typeke Yellow TY-70", "Typeke JR" manufactured by Teyka Co., Ltd.
-603", "Teika JR-602", "Teika JR-
701'' and ``Tayka JR-801''.

【0019】本発明で使用する酸化クロムとしては、例
えば、日本電工(株)の「酸化クロムND−801」、
「酸化クロムND−802」、「酸化クロムND−80
3」、日本化学工業(株)製の「研磨用酸化クロム」等
が挙げられる。
Examples of the chromium oxide used in the present invention include "chromium oxide ND-801" manufactured by Nippon Denko Co., Ltd.
"Chromium oxide ND-802", "Chromium oxide ND-80"
3", "Chromium oxide for polishing" manufactured by Nihon Kagaku Kogyo Co., Ltd., and the like.

【0020】本発明で使用する酸化第2鉄としては、例
えば、戸田工業(株)製の「トダカラー100ED」、
「トダカラー130ED」、「トダカラー160ED」
等が挙げられる。
[0020] Examples of the ferric oxide used in the present invention include "Toda Color 100ED" manufactured by Toda Kogyo Co., Ltd.;
"Todacolor 130ED", "Todacolor 160ED"
etc.

【0021】(1)シリカ及び(2)アルミナ、酸化第
ニ鉄、酸化クロム、酸化チタンから成る群から選ばれる
金属酸化物が分散される樹脂あるいはインキビヒクルと
しては、例えば、ブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、これら
の樹脂に、必要に応じて、ウレタンエラストマー等を添
加することもできる。またこの分散物の中には、(1)
シリカ及び(2)アルミナ、酸化チタン、酸化クロム、
酸化第2鉄から成る群から選ばれる金属酸化物のほかに
必要に応じて、アルミニウム系顔料、雲母系顔料、着色
用有機顔料等を添加することもできる。さらに必要に応
じて界面活性剤、シランカップリング剤、ワックス等も
添加することもできる。
Examples of the resin or ink vehicle in which (1) silica and (2) a metal oxide selected from the group consisting of alumina, ferrous oxide, chromium oxide, and titanium oxide are dispersed include butyral resin and vinyl chloride. -Vinyl acetate copolymers, urethane resins, polyester resins, acrylic resins, epoxy resins and the like. Moreover, urethane elastomer or the like can be added to these resins, if necessary. Also, in this dispersion, (1)
Silica and (2) alumina, titanium oxide, chromium oxide,
In addition to the metal oxide selected from the group consisting of ferric oxide, aluminum pigments, mica pigments, organic pigments for coloring, etc. can also be added as necessary. Furthermore, surfactants, silane coupling agents, wax, etc. can also be added as necessary.

【0022】研磨層3を塗布方法によって磁気層2上に
形成する場合、その膜厚は1〜9μmの範囲が好ましく
、2〜7μmの範囲が特に好ましい。膜厚が1μmより
薄い場合、端末機磁気ヘッドから取り除いた汚れを保持
することができない傾向にあり、また、膜厚が9μmよ
り厚い場合、磁気カードとしての磁気動特性、特に周波
数特性が低下し、読みとり不良を起こす等、磁気特性上
の問題点が発生する傾向にあるので、好ましくない。
When the polishing layer 3 is formed on the magnetic layer 2 by a coating method, its thickness is preferably in the range of 1 to 9 μm, particularly preferably in the range of 2 to 7 μm. If the film thickness is less than 1 μm, it tends to be unable to retain the dirt removed from the terminal magnetic head, and if the film thickness is more than 9 μm, the magnetic dynamic characteristics, especially the frequency characteristics, of the magnetic card will deteriorate. This is undesirable because it tends to cause problems with magnetic properties, such as poor reading.

【0023】塗布方法によって磁気層2上に形成した研
磨層3の表面粗さ(Ra)は、0.2〜1.6μmが望
ましく、0.4〜1.3μmの範囲が最も望ましい。表
面粗さが0.2μmより小さい場合、端末機磁気ヘッド
から取り除いた汚れを保持することができない傾向にあ
り、また、表面粗さが1.6μmより大きい場合、磁気
カードとしての磁気動特性、特に周波数特性が低下し、
読みとり不良を起こす等磁気特性上の問題点が発生する
傾向にあるので好ましくない。
The surface roughness (Ra) of the polishing layer 3 formed on the magnetic layer 2 by the coating method is preferably in the range of 0.2 to 1.6 μm, most preferably in the range of 0.4 to 1.3 μm. If the surface roughness is less than 0.2 μm, it tends to be unable to retain the dirt removed from the terminal magnetic head, and if the surface roughness is more than 1.6 μm, the magnetic dynamic characteristics of the magnetic card will deteriorate. In particular, the frequency characteristics deteriorate,
This is undesirable because it tends to cause problems with magnetic properties such as poor reading.

【0024】研磨層3中のシリカ及び酸化チタンの配合
割合は、3〜50重量%の範囲が好ましく、5〜30重
量%の範囲が特に好ましい。配合割合が3重量%より少
ない場合、端末機磁気ヘッドに付着した汚れを研磨する
作用が無くなる傾向にあり、また、配合割合が50重量
%より多い場合、研磨層の耐久性が低下し、走行時端末
機磁気ヘッドにより研磨層が逆に削り取られ、磁気ヘッ
ドを汚染する傾向にあるので好ましくない。
The blending ratio of silica and titanium oxide in the polishing layer 3 is preferably in the range of 3 to 50% by weight, particularly preferably in the range of 5 to 30% by weight. If the blending ratio is less than 3% by weight, the effect of polishing dirt adhering to the terminal magnetic head tends to disappear, and if the blending ratio is more than 50% by weight, the durability of the polishing layer decreases and the running This is undesirable because the polishing layer tends to be scraped away by the terminal magnetic head and contaminate the magnetic head.

【0025】研磨層3中のシリカ及び酸化チタンの使用
割合は、重量比で5:1〜1:5の範囲が好ましく、4
:1〜1:4の範囲が特に好ましい。酸化チタンの使用
割合が1:5より多い場合、研磨性が高過ぎ、端末機の
磁気ヘッドの寿命を短くする傾向にあり、さらに端末機
磁気ヘッドから取り除いた汚れを保持することができな
くなる傾向にあるので、好ましくない。また、シリカの
使用割合が5:1より多い場合、端末機の磁気ヘッドに
付着した汚れを研磨する作用が小さくなる傾向にあるの
で好ましくない。
The ratio of silica and titanium oxide used in the polishing layer 3 is preferably in the range of 5:1 to 1:5 by weight;
:1 to 1:4 is particularly preferred. If the ratio of titanium oxide used is more than 1:5, the abrasiveness is too high, which tends to shorten the life of the magnetic head of the terminal, and furthermore, it tends to be unable to retain the dirt removed from the magnetic head of the terminal. It is not desirable because it is in Further, if the ratio of silica used is more than 5:1, the effect of polishing dirt attached to the magnetic head of the terminal device tends to be reduced, which is not preferable.

【0026】[0026]

【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお
、実施例中の「%」及び「部」は、各々『重量%』及び
『重量部』を表わす。
[Examples] The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Note that "%" and "parts" in the examples represent "% by weight" and "parts by weight", respectively.

【0027】 (磁性塗料の調製)   「BOP−90」(日本弁柄工業社製バリュウムフ
ェライト磁性粉)       100部  「VAG
H」(米国UCC社製塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
)       20部  「クリスボン7209」(
大日本インキ化学工業(株)製ポリウレタン樹脂)45
部  オレイン酸                 
                         
            3部  メチルエチルケトン
                         
                     97部 
 トルエン                    
                         
           97部  シクロヘキサノン 
                         
                      49部
上記各組成をボールミルを用いて20時間混練して、磁
性塗料を調製した。
(Preparation of magnetic paint) "BOP-90" (barium ferrite magnetic powder manufactured by Nippon Bengara Kogyo Co., Ltd.) 100 parts "VAG
H” (vinyl chloride-vinyl acetate copolymer manufactured by UCC, USA) 20 parts “Crisbon 7209” (
Polyurethane resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 45
part oleic acid

Part 3 Methyl ethyl ketone
97 copies
toluene

Part 97 Cyclohexanone

49 parts of each of the above compositions were kneaded for 20 hours using a ball mill to prepare a magnetic paint.

【0028】 (アルミナ塗料の調製)   「メカノックUB−10」(村上工業(株)製アル
ミナ)                   100
部  「VAGH」                
                         
           100部  レシチン    
                         
                         
  1.5部  メチルエチルケトン        
                         
             187部  トルエン  
                         
                         
    187部上記各組成をボールミルを用いて23
時間混練して、アルミナ塗料を調製した。
(Preparation of alumina paint) "Mechanoc UB-10" (alumina manufactured by Murakami Industries Co., Ltd.) 100
Department “VAGH”

100 parts lecithin


1.5 parts methyl ethyl ketone

187 parts toluene


187 parts Each of the above compositions was mixed with 23 parts using a ball mill.
An alumina paint was prepared by kneading for hours.

【0029】 (研磨塗料Aの組成)   「サイロイド74」(富士デビソン化学(株)製シ
リカ)                1.6部  
「CR808CM」(旭化成メタルズ(株)製アルミペ
ースト、有効成分49%以上)           
                         
                         
     3.3部  上記アルミナ塗料      
                         
                 3.1部  「V
AGH」                     
                         
      5.6部  「パンデックスT−5260
−35MT」(大日本インキ化学工業(株)製ポリウレ
タン樹脂)                    
                         
                16.2部  ジブ
チルチンジラウレイト               
                        0
.01部  メチルエチルケトン          
                         
          35.1部  トルエン    
                         
                         
 35.1部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪
拌して、研磨塗料Aを調製した。
(Composition of polishing paint A) "Syroid 74" (silica manufactured by Fuji Davison Chemical Co., Ltd.) 1.6 parts
"CR808CM" (Asahi Kasei Metals Co., Ltd. aluminum paste, active ingredient 49% or more)


3.3 parts Above alumina paint

Part 3.1 “V
AGH”

Part 5.6 “Pandex T-5260
-35MT” (polyurethane resin manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.)

16.2 parts dibutyltin dilaurate
0
.. Part 01 Methyl ethyl ketone

35.1 parts toluene


35.1 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare polishing paint A.

【0030】 (弁柄塗料の調製)   「トダカラー160ED」(戸田工業社製酸化第2
鉄顔料)               100部  
「VAGH」                   
                         
        100部  レシチン       
                         
                        1
.5部  メチルエチルケトン           
                         
          187部  トルエン     
                         
                         
 187部上記各組成をボールミルを用いて23時間混
練して、弁柄塗料を調製した。
(Preparation of Bengara paint) “Todacolor 160ED” (oxidation No. 2 manufactured by Toda Kogyo Co., Ltd.)
iron pigment) 100 parts
"VAGH"

100 parts lecithin

1
.. 5 parts Methyl ethyl ketone

187 parts toluene


187 parts of each of the above compositions were kneaded for 23 hours using a ball mill to prepare a Bengara paint.

【0031】 (研磨塗料Bの組成)   「サイロイド74」              
                         
         1.6部  「CR808CM」 
                         
                         
  3.3部  上記弁柄塗料           
                         
                3.1部  「VA
GH」                      
                         
     5.6部  「パンデックスT−5260−
35MT」                    
                16.2部  ジブ
チルチンジラウレイト               
                        0
.01部  メチルエチルケトン          
                         
          35.1部  トルエン    
                         
                         
 35.1部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪
拌して研磨塗料Bを調製した。
(Composition of polishing paint B) "Syroid 74"

Part 1.6 “CR808CM”


3. Part 3 Bengara paint above

Part 3.1 “VA
GH”

Part 5.6 “Pandex T-5260-
35MT”
16.2 parts dibutyltin dilaurate
0
.. Part 01 Methyl ethyl ketone

35.1 parts toluene


35.1 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare polishing paint B.

【0032】 (酸化クロム塗料の組成)   「酸化クロムND−801」(日本電工(株)製酸
化クロム顔料)            100部  
「VAGH」                   
                         
        100部  レシチン       
                         
                        1
.5部  メチルエチルケトン           
                         
          187部  トルエン     
                         
                         
 187部上記各組成をボールミルを用いて30時間混
練して酸化クロム塗料を調製した。
(Composition of chromium oxide paint) "Chromium oxide ND-801" (chromium oxide pigment manufactured by Nippon Denko Co., Ltd.) 100 parts
"VAGH"

100 parts lecithin

1
.. 5 parts Methyl ethyl ketone

187 parts toluene


187 parts Each of the above compositions was kneaded for 30 hours using a ball mill to prepare a chromium oxide paint.

【0033】 (研磨塗料Cの組成)   「サイロイド74」              
                         
         1.6部  「CR808CM」 
                         
                         
  3.3部  上記酸化クロム塗料        
                         
             3.1部  「VAGH」
                         
                         
  5.6部  「パンデックスT−5260−35M
T」                       
             16.2部  ジブチルチ
ンジラウレイト                  
                     0.01
部  メチルエチルケトン             
                         
       35.1部  トルエン       
                         
                       35
.1部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌して
研磨塗料を調製した。
(Composition of polishing paint C) "Syroid 74"

Part 1.6 “CR808CM”


3.3 parts of the above chromium oxide paint

Part 3.1 “VAGH”


Part 5.6 “Pandex T-5260-35M
T”
16.2 parts dibutyltin dilaurate
0.01
Part Methyl ethyl ketone

35.1 parts toluene

35
.. One part of each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare an abrasive paint.

【0034】 (酸化チタン塗料の調製)   「タイペークR−830」(石原産業(株)製酸化
チタン顔料)             100部  
「VAGH」                   
                         
        100部  レシチン       
                         
                        1
.5部  メチルエチルケトン           
                         
          187部  トルエン     
                         
                         
 187部上記各組成をボールミルを用いて30時間混
練して酸化チタン塗料を調製した。
(Preparation of titanium oxide paint) "Tiepeke R-830" (titanium oxide pigment manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 100 parts
"VAGH"

100 parts lecithin

1
.. 5 parts Methyl ethyl ketone

187 parts toluene


187 parts Each of the above compositions was kneaded for 30 hours using a ball mill to prepare a titanium oxide paint.

【0035】 (研磨塗料Dの調製)   「サイロイド74」              
                         
         1.6部  「CR808CM」 
                         
                         
  3.3部  酸化チタン塗料          
                         
               3.1部  「VAG
H」                       
                         
    5.6部  「パンデックスT−5260−3
5MT」                     
               16.2部  ジブチ
ルチンジラウレイト                
                       0.
01部  メチルエチルケトン           
                         
         35.1部  トルエン     
                         
                         
35.1部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌
して研磨塗料を調製した。
(Preparation of polishing paint D) “Syroid 74”

Part 1.6 “CR808CM”


3.3 parts titanium oxide paint

Part 3.1 “VAG
H”

Part 5.6 “Pandex T-5260-3
5MT”
16.2 parts dibutyltin dilaurate
0.
Part 01 Methyl ethyl ketone

35.1 parts toluene


35.1 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare an abrasive paint.

【0036】 (研磨塗料Eの調製)   「サイロイド74」              
                         
        0.53部  「CR808CM」 
                         
                         
 5.50部  酸化チタン塗料          
                         
              3.10部  「VAG
H」                       
                         
   5.43部  「パンデックスT−5260−3
5MT」                     
              16.20部  ジブチ
ルチンジラウレイト                
                       0.
01部  「サゾールワックスSPN−3」(南アフリ
カ国・サゾール公社製ワックス)          
                         
                         
         0.40部  メチルエチルケトン
                         
                   34.60部
  トルエン                   
                         
          34.60部上記各組成を分散攪
拌機を用いて1時間攪拌して研磨塗料Eを調製した。
(Preparation of polishing paint E) “Syroid 74”

0.53 part “CR808CM”


5.50 parts titanium oxide paint

Part 3.10 “VAG
H”

5.43 part “Pandex T-5260-3
5MT”
16.20 parts dibutyltin dilaurate
0.
Part 01 “Sasol Wax SPN-3” (wax manufactured by Sasol Corporation, South Africa)


0.40 parts methyl ethyl ketone
34.60 parts toluene

34.60 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare polishing paint E.

【0037】 (研磨塗料Fの調製)   「サイロイド74」              
                         
        0.19部  「CR808CM」 
                         
                         
 1.94部  酸化チタン塗料          
                         
              1.08部  「VAG
H」                       
                         
   6.64部  「パンデックスT−5260−3
5MT」                     
              19.51部  ジブチ
ルチンジラウレイト                
                       0.
01部  メチルエチルケトン           
                         
        35.30部  トルエン     
                         
                        3
5.30部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌
して研磨塗料Fを調製した。
(Preparation of polishing paint F) “Syroid 74”

0.19 part “CR808CM”


1.94 parts titanium oxide paint

Part 1.08 “VAG
H”

Part 6.64 “Pandex T-5260-3
5MT”
19.51 parts dibutyltin dilaurate
0.
Part 01 Methyl ethyl ketone

35.30 parts toluene

3
Polishing paint F was prepared by stirring 5.30 parts of each of the above compositions for 1 hour using a dispersion stirrer.

【0038】 (研磨塗料Gの調製)   「サイロイド74」              
                         
        4.10部  酸化チタン塗料   
                         
                    23.60
部  「パンデックスT−5260−35MT」   
                         
        7.50部  ジブチルチンジラウレ
イト                       
                0.01部  メチ
ルエチルケトン                  
                         
 32.40部  トルエン            
                         
                 32.40部上記
各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌して研磨塗料G
を調製した。
(Preparation of polishing paint G) “Syroid 74”

4.10 parts titanium oxide paint

23.60
Section “Pandex T-5260-35MT”

7.50 parts dibutyltin dilaurate
0.01 part methyl ethyl ketone

32.40 parts toluene

32.40 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to obtain polishing paint G.
was prepared.

【0039】 (研磨塗料Hの調製)   「サイロイド74」              
                         
        1.86部  「CR808CM」 
                         
                         
  3.3部  酸化チタン塗料          
                         
              1.78部  「VAG
H」                       
                         
   5.83部  「パンデックスT−5260−3
5MT」                     
               16.2部  ジブチ
ルチンジラウレイト                
                       0.
01部  メチルエチルケトン           
                         
        35.51部  トルエン     
                         
                        3
5.51部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌
して研磨塗料Hを調製した。
(Preparation of polishing paint H) “Syroid 74”

1.86 copies “CR808CM”


3.3 parts titanium oxide paint

1.78 parts “VAG
H”

5.83 parts “Pandex T-5260-3
5MT”
16.2 parts dibutyltin dilaurate
0.
Part 01 Methyl ethyl ketone

35.51 parts toluene

3
5.51 parts Each of the above compositions was stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare polishing paint H.

【0040】 (研磨塗料Jの調製)   「サイロイド74」              
                         
        0.31部  「CR808CM」 
                         
                         
 3.30部  酸化チタン塗料          
                         
             10.70部  「VAG
H」                       
                         
   4.28部  「パンデックスT−5260−3
5MT」                     
              16.20部  ジブチ
ルチンジラウレイト                
                       0.
01部  メチルエチルケトン           
                         
        32.60部  トルエン     
                         
                        3
2.60部上記各組成を分散攪拌機を用いて1時間攪拌
して研磨塗料Jを調製した。
(Preparation of polishing paint J) “Syroid 74”

0.31 part “CR808CM”


3.30 parts titanium oxide paint

10.70 part “VAG
H”

Part 4.28 “Pandex T-5260-3
5MT”
16.20 parts dibutyltin dilaurate
0.
Part 01 Methyl ethyl ketone

32.60 parts toluene

3
2.60 parts of each of the above compositions were stirred for 1 hour using a dispersion stirrer to prepare polishing paint J.

【0041】(実施例1)厚さ188μmのポリエチレ
ンテレフタレートシート上に、上記磁性塗料100部及
び「バーノックD−750」(大日本インキ化学工業(
株)製ポリイソシアネート)3部から成る塗料をリバー
ス方式で乾燥塗膜が12μmとなるように塗布し、その
後、同様の方式で上記「研磨塗料A」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を乾燥膜厚が6
μmになるように塗布し、磁気カードを作製した。なお
、磁性塗料の乾燥膜厚及び研磨塗料の乾燥膜厚は、触針
式膜厚計を用いて測定した。
(Example 1) On a polyethylene terephthalate sheet with a thickness of 188 μm, 100 parts of the above magnetic paint and “Burnock D-750” (Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.)
A paint consisting of 3 parts of Polyisocyanate (manufactured by Co., Ltd.) was applied in a reverse manner so that the dry film was 12 μm, and then 100 parts of the above "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750" were applied in the same manner. The dry film thickness of the paint consisting of is 6
A magnetic card was produced by applying the solution to a thickness of μm. Note that the dry film thickness of the magnetic paint and the dry film thickness of the abrasive paint were measured using a stylus type film thickness meter.

【0042】また、研磨塗料の乾燥塗膜の表面粗さを(
株)東京精密製「サーフコム、モデルE−RC−S01
A」を用いて測定したところ、Raが0.98μmであ
った。
[0042] Furthermore, the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint is
Tokyo Seimitsu Co., Ltd. “Surfcom, Model E-RC-S01
When measured using "A", Ra was 0.98 μm.

【0043】(実施例2)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料B」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 2) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint B" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0044】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.94μ
mであった。
Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.94μ.
It was m.

【0045】(実施例3)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料C」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 3) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint C" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0046】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが1.03μ
mであった。
Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 1.03μ.
It was m.

【0047】(実施例4)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料D」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 4) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint D" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0048】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.89μ
mであった。
[0048] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.89μ.
It was m.

【0049】(実施例5)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料E」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 5) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint E" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0050】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.66μ
mであった。
[0050] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.66 μm.
It was m.

【0051】(実施例6)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料D」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を乾燥膜厚が0
.74μmになるように塗布した以外は、実施例1と同
様にして磁気カードを作製した。
(Example 6) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint D" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A paint consisting of 5 parts has a dry film thickness of 0.
.. A magnetic card was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating was applied to a thickness of 74 μm.

【0052】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.14μ
mであった。
[0052] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.14μ.
It was m.

【0053】(実施例7)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料D」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を乾燥膜厚が1
1μmになるように塗布した以外は、実施例1と同様に
して磁気カードを作製した。
(Example 7) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint D" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A paint consisting of 5 parts has a dry film thickness of 1
A magnetic card was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating was applied to a thickness of 1 μm.

【0054】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが1.93μ
mであった。
[0054] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 1.93μ.
It was m.

【0055】(実施例8)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料F」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 8) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint F" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0056】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.12μ
mであった。
[0056] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.12μ.
It was m.

【0057】(実施例9)実施例1において、「研磨塗
料A」100部及び「バーノックD−750」5部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料H」100部及び「バ
ーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外は
、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 9) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint H" and "Burnock D-750" were used instead of the paint consisting of 100 parts of "abrasive paint A" and 5 parts of "Burnock D-750". A magnetic card was prepared in the same manner as in Example 1, except that a 5-part paint was used.

【0058】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが1.12μ
mであった。
Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 1.12 μm.
It was m.

【0059】(実施例10)実施例1において、「研磨
塗料A」100部及び「バーノックD−750」5部か
ら成る塗料に代えて上記「研磨塗料J」100部及び「
バーノックD−750」5部から成る塗料を用いた以外
は、実施例1と同様にして磁気カードを作製した。
(Example 10) In Example 1, 100 parts of the above-mentioned "abrasive paint J" and "
A magnetic card was produced in the same manner as in Example 1, except that a paint consisting of 5 parts of "Burnock D-750" was used.

【0060】また、実施例1と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Raが0.21μ
mであった。
[0060] Furthermore, when the surface roughness of the dry coating film of the abrasive paint was measured in the same manner as in Example 1, the Ra was 0.21μ.
It was m.

【0061】(磁気カードの評価)各実施例で得た磁気
カードのヘッド付着物の除去性、汚染物保持性、ヘッド
研磨性及び周波数特性の評価を行い、その結果を第1表
に掲げた。尚、ヘッド付着物の除去性、再付着防止性、
ヘッド研磨性及び周波数特性の評価基準は次の通りであ
る。
(Evaluation of magnetic cards) The magnetic cards obtained in each example were evaluated for head removal properties, contaminant retention properties, head polishing properties, and frequency characteristics, and the results are listed in Table 1. . In addition, the removability of head deposits, re-adhesion prevention properties,
The evaluation criteria for head polishability and frequency characteristics are as follows.

【0062】(ヘッド付着物除去性)磁気ヘッドの表面
をコーラ液の中に1分間浸漬した後取り出し、室温で乾
燥させ、付着物皮膜を形成した。このヘッドを用いて、
ヘッド押し圧350g、走行速度190mm/秒で、各
実施例で得られた磁気カードを10回走行し、磁気ヘッ
ドの付着物の状態を観察した。
(Removal of deposits on the head) The surface of the magnetic head was immersed in a cola solution for 1 minute, taken out, and dried at room temperature to form a deposit film. Using this head,
The magnetic cards obtained in each example were run 10 times at a head pressing force of 350 g and a running speed of 190 mm/sec, and the state of deposits on the magnetic head was observed.

【0063】 ○:磁気ヘッドの付着物が完全に取り除かれている。 △:磁気ヘッドの付着物がほとんど取り除かれているが
、悪影響を及ぼさない範囲で付着物が見られる。
○: Adhesive matter on the magnetic head has been completely removed. Δ: Most of the deposits on the magnetic head have been removed, but some deposits can be seen within a range that does not have an adverse effect.

【0064】×:磁気ヘッドの付着物がまったく取り除
かれていない。
x: The deposits on the magnetic head were not removed at all.

【0065】(汚染物保持性)磁気ヘッド表面に綿棒を
用いてコーラ液を付着させ、室温で乾燥させた。各実施
例で得られた磁気カードを、ヘッド押し圧300g、走
行速度190mm/秒で各々100回走行させた後、下
記の計算式に従い、出力変動率を計算し、出力変動率の
大小により汚染物保持性の良否を表わす。
(Contaminant Retention Ability) Cola liquid was applied to the surface of the magnetic head using a cotton swab and dried at room temperature. After running the magnetic cards obtained in each example 100 times at a head pressing force of 300 g and a running speed of 190 mm/sec, the output fluctuation rate was calculated according to the formula below, and the amount of contamination was determined based on the magnitude of the output fluctuation rate. Indicates the quality of object retention.

【0066】[0066]

【数1】[Math 1]

【0067】(ヘッド研磨性)各実施例で得られた磁気
カードをヘッド押し圧350g、走行速度190mm/
秒で1000回走行させ磁気ヘッドの研磨状態を観察し
た。
(Head polishability) The magnetic cards obtained in each example were subjected to a head pressing force of 350 g and a running speed of 190 mm/
The polishing state of the magnetic head was observed by running it 1000 times in seconds.

【0068】○:磁気ヘッドが研磨されていない。 △:磁気ヘッドが、悪影響を及ぼさない程度に少々研磨
されている。 ×:磁気ヘッドがかなり研磨されている。
○: The magnetic head is not polished. Δ: The magnetic head is slightly polished to the extent that no adverse effects are caused. ×: The magnetic head is considerably polished.

【0069】(周波数特性)各実施例で得られた磁気カ
ードを、アポロメック社製磁気カード出力検査機で、ヘ
ッド押し圧300g、走行速度190mm/秒、記録密
度200FCI及び500FCI、記録電流値600m
Aで記録し、再生した時の500FCIと200FCI
の出力の比を以下の計算式に基づき求めた。
(Frequency characteristics) The magnetic cards obtained in each example were tested using a magnetic card output inspection machine manufactured by Apollo Mec at a head pressing force of 300 g, a running speed of 190 mm/sec, a recording density of 200 FCI and 500 FCI, and a recording current value of 600 m.
500FCI and 200FCI when recorded and played back with A
The output ratio was calculated based on the following formula.

【0070】[0070]

【数2】[Math 2]

【0071】[0071]

【表1】[Table 1]

【0072】第1表に掲げた結果から、各実施例で得ら
れた磁気カードは、当初の目的であった磁気ヘッドに付
着した汚染物を取り除き、且つ磁気ヘッドを傷つけず、
また除去した汚染物を研磨層の表面粗さの中に保持し、
磁気カードの出力変動率を劣化せず、また磁気カードの
実用上問題のない周波数特性を有するものである。
From the results listed in Table 1, it can be seen that the magnetic cards obtained in each example were able to remove contaminants attached to the magnetic head, which was the original purpose, and did not damage the magnetic head.
In addition, the removed contaminants are retained within the surface roughness of the polishing layer,
It does not degrade the output fluctuation rate of the magnetic card and has frequency characteristics that pose no problem in practical use of the magnetic card.

【0073】しかしながら、実施例1〜5の各磁気カー
ドと比較して、実施例6の磁気カードは、研磨層の膜厚
が薄いので、汚染物の保持性がやや低く、出力変動率が
やや高く、実施例7の磁気カードは、研磨層の膜厚が厚
いので、周波数特性がやや低い、実施例8の磁気カード
は、研磨層中のシリカ及び酸化チタンの配合割合を低く
したため、汚染物除去性がやや低い、実施例9の磁気カ
ードは、研磨層中のシリカ及び酸化チタンの使用割合が
シリカが多いため、汚染物除去性がやや低い、実施例1
0の磁気カードは、研磨層中の酸化チタンの使用割合が
多いため、研磨力がやや強すぎる傾向にあり、磁気ヘッ
ドを少々傷つけている。
However, compared to the magnetic cards of Examples 1 to 5, the magnetic card of Example 6 has a thinner polishing layer, so the retention of contaminants is slightly lower and the rate of output fluctuation is slightly lower. The magnetic card of Example 7 has a thick polishing layer, so the frequency characteristics are slightly low.The magnetic card of Example 8 has a low blending ratio of silica and titanium oxide in the polishing layer, so it is free from contaminants. The magnetic card of Example 9, which has a slightly lower removability, has a higher proportion of silica and titanium oxide in the polishing layer, so the magnetic card of Example 9 has a slightly lower contaminant removability.
0 magnetic cards use a large proportion of titanium oxide in the polishing layer, so the polishing force tends to be a little too strong, causing some damage to the magnetic head.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明による磁気カードは、磁気ヘッド
に付着した汚染物を、磁気ヘッドを傷つけず除去するこ
とができ、また、取り除いた汚染物を研磨層表面の粗さ
の中に保持することができるので、汚染物が磁気ヘッド
とのスペースロスとならず、磁気カードの出力変動率を
低下させない。また、磁気カードが端末機磁気ヘッドを
汚染しない効果を持つので、端末機メンテナンスが不要
となる。
[Effects of the Invention] The magnetic card according to the present invention can remove contaminants attached to the magnetic head without damaging the magnetic head, and retain the removed contaminants within the roughness of the surface of the polishing layer. Therefore, contaminants do not cause space loss with the magnetic head and do not reduce the output fluctuation rate of the magnetic card. Furthermore, since the magnetic card does not contaminate the magnetic head of the terminal, maintenance of the terminal becomes unnecessary.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】第1図は、本発明に関わる磁気カードの断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetic card according to the present invention.

【図2】第2図は、本発明に関わる磁気カードの断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view of a magnetic card according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  基体 2  磁気層 3  研磨層 1 Base 2 Magnetic layer 3 Polishing layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  磁気記録層上に(1)シリカ及び(2
)アルミナ、酸化チタン、酸化クロム及び酸化第2鉄か
ら成る群から選ばれる金属酸化物を含有する研磨層を有
することを特徴とする磁気カード。
Claim 1: On a magnetic recording layer, (1) silica and (2)
) A magnetic card comprising a polishing layer containing a metal oxide selected from the group consisting of alumina, titanium oxide, chromium oxide and ferric oxide.
【請求項2】  研磨層の膜厚が1〜9μmの範囲にあ
る請求項1記載の磁気カード。
2. The magnetic card according to claim 1, wherein the polishing layer has a thickness in the range of 1 to 9 μm.
【請求項3】  研磨層の表面粗さ(Ra)が0.2〜
1.6μmの範囲にある請求項1又は2記載の磁気カー
ド。
[Claim 3] The surface roughness (Ra) of the polishing layer is from 0.2 to
The magnetic card according to claim 1 or 2, wherein the magnetic card has a thickness in the range of 1.6 μm.
【請求項4】  研磨層中のシリカ及び金属酸化物の配
合割合が3〜50重量の範囲にある請求項1、2又は3
記載の磁気カード。
4. Claim 1, 2 or 3, wherein the blending ratio of silica and metal oxide in the polishing layer is in the range of 3 to 50% by weight.
Magnetic card as described.
【請求項5】  研磨層中のシリカ及び金属酸化物の使
用割合が重量比で5:1〜1:5の範囲にある請求項4
記載の磁気カード。
5. Claim 4, wherein the ratio of silica and metal oxide used in the polishing layer is in the range of 5:1 to 1:5 by weight.
Magnetic card as described.
JP3072987A 1991-04-05 1991-04-05 Magnetic card having polishing properties Pending JPH04357099A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3072987A JPH04357099A (en) 1991-04-05 1991-04-05 Magnetic card having polishing properties

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3072987A JPH04357099A (en) 1991-04-05 1991-04-05 Magnetic card having polishing properties

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04357099A true JPH04357099A (en) 1992-12-10

Family

ID=13505259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3072987A Pending JPH04357099A (en) 1991-04-05 1991-04-05 Magnetic card having polishing properties

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04357099A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6289225A (en) Magnetic recording tape
JPH0542735B2 (en)
US4379800A (en) Cleaning tape for magnetic recording apparatus
JPS6057530A (en) Magnetic recording medium
JPH04357099A (en) Magnetic card having polishing properties
JPH07176029A (en) Magnetic recording medium
JPS6238525A (en) Magnetic recording medium
JP2600787B2 (en) Magnetic recording media
US6805950B2 (en) Magnetic recording medium having a low molecular weight azo dye including an aryl group
JPH05314433A (en) Magnetic card
JPH0573550B2 (en)
JPH05274645A (en) Magnetic recording medium
JPS61265279A (en) Polishing tape for flexible magnetic disk
JPS6222170B2 (en)
JP2781004B2 (en) Magnetic recording media
JP2006147140A (en) Backside coating formulation for magnetic recording tape having residual compressibility
US20070020488A1 (en) Magnetic recording medium having a single, thin, high-coercivity magnetic recording layer
JP2695647B2 (en) Magnetic recording media
JP3353348B2 (en) Magnetic recording media
JPH0474770B2 (en)
JPH06162475A (en) Magnetic recording medium
JPS60171631A (en) Magnetic recording medium
JPH0533451B2 (en)
JPS61178728A (en) Magnetic recording medium
US20040191573A1 (en) Magnetic recording media exhibiting decreased tape dropout performance