JPH04341918A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH04341918A
JPH04341918A JP14118691A JP14118691A JPH04341918A JP H04341918 A JPH04341918 A JP H04341918A JP 14118691 A JP14118691 A JP 14118691A JP 14118691 A JP14118691 A JP 14118691A JP H04341918 A JPH04341918 A JP H04341918A
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film
top coat
plasma
recording medium
magnetic recording
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Kunihiro Ueda
国博 上田
Takanori Kobuke
古武家 隆敬
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Abstract

PURPOSE:To improve color resistance and durability by providing a substrate film and top coat film consisting of plasma-polymerized films contg. C and H and having a prescribed refractive index. CONSTITUTION:The substrate film, a ferromagnetic metallic thin film (magnetic layer) and the top coat film are successively provided on a nonmagnetic resin base body. The substrate film and the top coat film are formed of the plasma- polymerized films contg. the C and H and having >=1.8 refractive index. The content of the C and H in the film is specified preferably to >=85at.% and more preferably to >=95at.%. The atomic ratio of the H to the C is specified preferably to <=1.6H/C, more preferably to <=0.7. The content of the C in the film is set preferably to >=30at.%, more preferably to >=6Oat.% and the content of the H preferably to <=55at.%, more preferably to <=35at.%. 0, N, etc., in addition to the C and H may be incorporated at <=15at.% therein in some cases. The film thickness of the substrate film is specified to 100 to 500Angstrom and the film thickness of the top coat layer to 10 to 50Angstrom .

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は強磁性金属薄膜を有する
磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film.

【0002】0002

【従来の技術】近年磁気テープはますます高密度化して
おり、中でもCoを主体としNi等を添加した強磁性金
属薄膜を用いた磁気テープは、飽和磁束密度が大きくし
かも保磁力が高いので、盛んに研究されている。
[Prior Art] In recent years, magnetic tapes have become increasingly dense, and magnetic tapes using ferromagnetic metal thin films mainly composed of Co and added with Ni, etc. have a high saturation magnetic flux density and high coercive force. It is being actively researched.

【0003】この型の磁気テープは種々の方法で製造さ
れるが、特に優れた方法としては、非磁性基体上に斜め
蒸着法により強磁性金属薄膜を単層膜として形成したり
、2層以上積層して多層構造としたりすることが提案さ
れている。
This type of magnetic tape is manufactured by various methods, but particularly excellent methods include forming a single layer of a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic substrate by oblique evaporation, or forming a thin ferromagnetic metal film as a single layer on a non-magnetic substrate, or forming a thin film of two or more layers on a non-magnetic substrate. It has been proposed to stack them to form a multilayer structure.

【0004】磁気テープの非磁性基体としては、通常、
ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムが用いら
れている。
[0004] The non-magnetic substrate of magnetic tape is usually
A resin film such as polyethylene terephthalate is used.

【0005】このような樹脂フィルム上に蒸着により磁
性層を形成すると、樹脂フィルムを通して水分や空気が
進入し、磁性層が腐食して記録・再生時の電磁変換特性
等が劣化する。また、耐久性の点でも不十分である。
[0005] When a magnetic layer is formed on such a resin film by vapor deposition, moisture and air enter through the resin film, corrode the magnetic layer, and deteriorate electromagnetic conversion characteristics during recording and reproduction. It is also insufficient in terms of durability.

【0006】従来、各種プラズマ重合膜を、樹脂フィル
ムと磁性層との間に形成する下地膜や磁性層上に形成す
るトップコート膜として適用する旨の提案がなされてい
る。しかし、このような従来の下地膜やトップコート膜
では、水分や空気等の遮断が不十分で、耐食性や耐久性
の点で不十分である。特に、耐食性の低下が及ぼす走行
摩擦の経時劣化への影響は大きく、信頼性の点で問題が
ある。
Hitherto, proposals have been made to apply various plasma polymerized films as a base film formed between a resin film and a magnetic layer or a top coat film formed on a magnetic layer. However, such conventional base films and top coat films are insufficient in blocking moisture, air, etc., and are insufficient in terms of corrosion resistance and durability. In particular, a decrease in corrosion resistance has a large effect on the aging deterioration of running friction, which poses a problem in terms of reliability.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的は
、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体の耐食性
および耐久性を格段と向上させることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The main object of the present invention is to significantly improve the corrosion resistance and durability of a magnetic recording medium whose magnetic layer is a ferromagnetic metal thin film.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(4)の構成によって達成される。
[Means for Solving the Problems] Such objects are achieved by the following configurations (1) to (4).

【0009】(1)  非磁性の樹脂基体上に、下地膜
と強磁性金属薄膜とトップコート膜とを有する磁気記録
媒体において、前記下地膜およびトップコート膜は、そ
れぞれ、CとHとを含み、かつ屈折率が1.8以上のプ
ラズマ重合膜であることを特徴とする磁気記録媒体。
(1) In a magnetic recording medium having a base film, a ferromagnetic metal thin film, and a top coat film on a nonmagnetic resin substrate, the base film and the top coat film each contain C and H. , and a plasma polymerized film having a refractive index of 1.8 or more.

【0010】(2)  前記下地膜の膜厚が100〜5
00A である上記(1)に記載の磁気記録媒体。
(2) The thickness of the base film is 100 to 5.
00A, the magnetic recording medium according to (1) above.

【0011】(3)  前記トップコート膜の膜厚が1
0〜50A である上記(1)または(2)に記載の磁
気記録媒体。
(3) The thickness of the top coat film is 1
The magnetic recording medium according to (1) or (2) above, wherein the magnetic recording medium is 0 to 50A.

【0012】(4)  前記強磁性金属薄膜は、Coを
主成分とし、斜め蒸着法により形成されたものである上
記(1)ないし(3)のいずれかに記載の磁気記録媒体
(4) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (3) above, wherein the ferromagnetic metal thin film contains Co as a main component and is formed by an oblique evaporation method.

【0013】[0013]

【作用】本発明の磁気記録媒体は、磁気テープであり、
樹脂基体と磁性層である強磁性金属薄膜との間に下地膜
を有し、かつ磁性層上にトップコート膜を有する。
[Operation] The magnetic recording medium of the present invention is a magnetic tape,
A base film is provided between the resin base and the ferromagnetic metal thin film that is the magnetic layer, and a top coat film is provided on the magnetic layer.

【0014】このときの下地膜およびトップコート膜は
、いずれも、CとHとを含むプラズマ重合膜であるため
、耐水性、耐久性に優れる。また、その屈折率は1.8
以上であるため、緻密なものとなる。
[0014] Since both the base film and the top coat film are plasma polymerized films containing C and H, they have excellent water resistance and durability. Also, its refractive index is 1.8
Because of the above, it becomes precise.

【0015】このような下地膜およびトップコート膜を
、強磁性金属薄膜を上下から挟みこむ形で設けることに
よって、強磁性金属薄膜において基体側と磁性層表面側
の両面から進行する錆の発生を有効に防止することがで
きる。
[0015] By providing such an undercoat film and a top coat film in such a manner that they sandwich the ferromagnetic metal thin film from above and below, the occurrence of rust that progresses from both the base side and the magnetic layer surface side in the ferromagnetic metal thin film can be prevented. It can be effectively prevented.

【0016】このような効果は、上記のような膜を磁性
層両面に設置することによって、はじめて得られるもの
であり、下地膜のみ、あるいはトップコート膜のみでは
得られるものではない。
[0016] Such an effect can only be obtained by providing the above-mentioned films on both sides of the magnetic layer, and cannot be obtained only with the base film or the top coat film.

【0017】このように錆の発生が防止される結果、カ
ッピングが防止され、走行摩擦の経時変化が防止される
など、媒体としての電磁変換特性に優れたものとなる。
As a result of preventing the occurrence of rust in this manner, cupping is prevented and running friction is prevented from changing over time, resulting in excellent electromagnetic conversion characteristics as a medium.

【0018】[0018]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
[Specific Configuration] The specific configuration of the present invention will be explained in detail below.

【0019】本発明の磁気記録媒体は、具体的には磁気
テープである。
The magnetic recording medium of the present invention is specifically a magnetic tape.

【0020】<非磁性基体>本発明に用いる非磁性基体
の材質に特に制限はなく、強磁性金属薄膜蒸着時の熱に
耐える各種フィルム、例えばポリエチレンテレフタレー
ト等を用いることができる。また特開昭63−1031
5号公報に記載の各材料が使用可能である。
<Nonmagnetic Substrate> The material of the nonmagnetic substrate used in the present invention is not particularly limited, and various films that can withstand the heat during deposition of a ferromagnetic metal thin film, such as polyethylene terephthalate, can be used. Also, JP-A-63-1031
Each material described in Publication No. 5 can be used.

【0021】<下地膜およびトップコート膜>本発明に
おける下地膜およびトップコート膜は、それぞれ、Cと
Hとを含むプラズマ重合膜であり、その屈折率は1.8
以上である。このような膜とすることによって本発明の
効果が得られる。
<Base film and top coat film> The base film and top coat film in the present invention are plasma polymerized films containing C and H, respectively, and have a refractive index of 1.8.
That's all. By using such a film, the effects of the present invention can be obtained.

【0022】この場合、膜中におけるCとHの含有量は
合計で85at% 以上、好ましくは95at% 以上
とするのがよく、実質的にCとHのみを含有するもので
あることが好ましい。
In this case, the total content of C and H in the film is preferably 85 at % or more, preferably 95 at % or more, and it is preferable that the film contains substantially only C and H.

【0023】また、Cに対するHの原子比は、H/Cが
1.6以下、好ましくは0.7以下とするのがよく、膜
中のCの含有量は30at% 以上、好ましくは60a
t% 以上、一方Hの含有量は55at% 以下、好ま
しくは35at% 以下とするのがよい。また、場合に
よっては、C、Hのほかに、O、N等が15at% 以
下含有されていてもよい。
Further, the atomic ratio of H to C is preferably such that H/C is 1.6 or less, preferably 0.7 or less, and the C content in the film is 30 at% or more, preferably 60 at%.
t% or more, while the H content is preferably 55 at% or less, preferably 35 at% or less. Further, in some cases, in addition to C and H, O, N, etc. may be contained at 15 at% or less.

【0024】このように膜中のC、H等を規制すること
によって、本発明の効果が向上する。
By regulating C, H, etc. in the film in this manner, the effects of the present invention are improved.

【0025】なお、プラズマ重合膜中のC、Hおよびそ
の他の元素の含有量の分析は、SIMS(2次イオン質
量分析)やCHNコーダー等に従えばよい。
The content of C, H, and other elements in the plasma polymerized film may be analyzed using SIMS (secondary ion mass spectrometry), CHN coder, or the like.

【0026】SIMSを用いる場合、プラズマ重合膜表
面にてC、H等をカウントして算出すればよい。あるい
は、Ar等でイオンエッチングを行ないながら、C、H
等のプロファイルを測定して算出してもよい。SIMS
の測定については、表面科学基礎講座  第3巻(19
84)表面分析の基礎と応用(P70)”SIMSおよ
びLAMMA”の記載に従えばよい。
When SIMS is used, calculation can be made by counting C, H, etc. on the surface of the plasma polymerized film. Alternatively, while performing ion etching with Ar etc., C, H
It may also be calculated by measuring a profile such as SIMS
Regarding the measurement of
84) Basics and Applications of Surface Analysis (P70) Follow the description in "SIMS and LAMMA".

【0027】本発明においては、前述のように、プラズ
マ重合膜の屈折率を1.8以上とするが、好ましくは1
.9〜2.3とするのがよい。
In the present invention, as mentioned above, the refractive index of the plasma polymerized film is set to 1.8 or more, preferably 1.8 or more.
.. It is preferable to set it to 9-2.3.

【0028】このような屈折率の測定には、エリプソメ
ーターを用いればよい。
An ellipsometer may be used to measure the refractive index.

【0029】屈折率を上記範囲とすることにより重合膜
の密度が高まり、磁気記録媒体に高剛性が賦与され耐久
性が向上する。そして、屈折率が1.8未満となると、
このような効果が臨界的に低下する。
By setting the refractive index within the above range, the density of the polymer film increases, imparting high rigidity to the magnetic recording medium and improving durability. And when the refractive index becomes less than 1.8,
This effect is critically reduced.

【0030】このようなプラズマ重合膜を形成する原料
ソースとしては、炭素および水素を含有する種々のもの
を用いることができるが、通常操作性のよいことから、
常温で気体のメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペン
タン、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、ア
セチレン、メチルアセチレン、その他の飽和ないし不飽
和の炭化水素の1種以上を、CおよびH源として用いる
。また必要に応じて常温で液体の炭化水素を原料として
もよい。
Various materials containing carbon and hydrogen can be used as the raw material source for forming such a plasma polymerized film, but generally, from the viewpoint of ease of operation,
One or more of methane, ethane, propane, butane, pentane, ethylene, propylene, butene, butadiene, acetylene, methylacetylene, and other saturated or unsaturated hydrocarbons, which are gases at room temperature, are used as the C and H source. Further, if necessary, a hydrocarbon that is liquid at room temperature may be used as a raw material.

【0031】また、他の元素を含有させる場合は、上記
炭化水素の1種以上に、O2 、O3、H2 O、N2
 、NO、N2 O、NO2 などのNOx、H2 、
NH3 、CO、CO2 等の1種以上をNおよびO源
として加えたものを原料ガスとして用いてもよい。
[0031] When other elements are contained, O2, O3, H2O, N2
, NOx, such as NO, N2 O, NO2, H2,
A material gas to which one or more of NH3, CO, CO2, etc. is added as an N and O source may be used as the raw material gas.

【0032】このような原料を用いて形成されるプラズ
マ重合膜の膜厚は、下地膜とするときは、100〜50
0A 、より好ましくは400〜500Aとするのがよ
い。この範囲の膜厚では本発明の実効が極めて高い。膜
厚が100A 未満では本発明の実効がなく、また50
0A をこえると量産上不利である。そして、膜厚を大
きくした場合、効果の向上は見られず、むしろ、下地膜
にクラックが生じやすくなり、水や酸素等の遮断性が低
下してしまう。
The thickness of the plasma polymerized film formed using such raw materials is 100 to 50% when used as a base film.
0A, more preferably 400 to 500A. The effectiveness of the present invention is extremely high in film thicknesses within this range. If the film thickness is less than 100A, the present invention is not effective;
If it exceeds 0A, it is disadvantageous for mass production. When the film thickness is increased, no improvement in effectiveness is observed, and on the contrary, cracks tend to occur in the base film, resulting in a decrease in water, oxygen, and other barrier properties.

【0033】一方、トップコート膜とするときは、10
〜50A 、特に20〜30A とするのが好ましい。 この範囲の膜厚では本発明の実効が極めて高く、50A
 をこえると、応力が強く発生するため、この効果は臨
界的に低下し、さらにはスペーシングロスの問題が大き
くなる。また、膜厚を大きくするためには、高パワーで
または長時間、磁性層をプラズマにさらすことになるの
で、磁性層にダメージを与える。また、膜厚が10A 
未満では本発明の実効が少なくなる。
On the other hand, when used as a top coat film, 10
~50A, particularly preferably 20-30A. The effectiveness of the present invention is extremely high in this range of film thickness, and 50A
If this value is exceeded, stress will be generated strongly, and this effect will be critically reduced, further increasing the problem of spacing loss. Furthermore, in order to increase the film thickness, the magnetic layer must be exposed to plasma at high power or for a long time, which damages the magnetic layer. Also, the film thickness is 10A
If it is less than that, the effectiveness of the present invention will be reduced.

【0034】なお、膜厚の測定はエリプソメータ等を用
いればよい。このような膜厚の制御は、プラズマ重合膜
形成時の反応時間、原料ガス流量等を制限すればよい。
Note that an ellipsometer or the like may be used to measure the film thickness. Such film thickness can be controlled by limiting the reaction time, raw material gas flow rate, etc. during plasma polymerized film formation.

【0035】プラズマ重合膜は公知の方法に従い、前述
の原料ガスの放電プラズマを基体や磁性層に接触させる
ことにより重合膜を形成するものである。電極配置、印
加電流、処理時間、動作圧力等は通常の条件とすればよ
い。
The plasma polymerized film is formed by bringing discharge plasma of the above-mentioned raw material gas into contact with the substrate or magnetic layer according to a known method. Electrode arrangement, applied current, processing time, operating pressure, etc. may be set to normal conditions.

【0036】また処理条件はW/(F・M)[ここで、
Wはプラズマ投入電力(Joule/sec)であり、
Fは有機原料ガス流量、Mは原料ガス分子量でF・Mの
単位はkg/sec]値が108Joule/kg 以
上、特に5×108 〜1×1010Joule/kg
で行なわれることが好ましい。この値が108Joul
e/kg 未満であると、屈折率が低下し、プラズマ重
合膜の緻密さが不十分となる。
Furthermore, the processing conditions are W/(F・M) [where,
W is the plasma input power (Joule/sec),
F is the organic raw material gas flow rate, M is the molecular weight of the raw material gas, and the unit of F・M is kg/sec.
It is preferable that the process be carried out in This value is 108 Joul
If it is less than e/kg, the refractive index decreases and the density of the plasma polymerized film becomes insufficient.

【0037】実際の条件は、上記範囲を満足するように
設定すればよい。そのために、原料ガス流量がある条件
下で好適とされる値より大きくなったり、また、プラズ
マ出力が小さくなったりすると、本発明の効果は低下す
る。
The actual conditions may be set so as to satisfy the above range. Therefore, if the raw material gas flow rate becomes larger than a value suitable under certain conditions, or if the plasma output becomes smaller, the effects of the present invention will deteriorate.

【0038】なお、キャリアガスとして、Ar、N2 
、He、H2 などを使用してもよい。プラズマ発生源
としては、高周波放電の他に、マイクロ波放電、直流放
電、交流放電等いずれでも利用できる。
[0038] As the carrier gas, Ar, N2
, He, H2, etc. may also be used. As the plasma generation source, in addition to high frequency discharge, microwave discharge, direct current discharge, alternating current discharge, etc. can be used.

【0039】このようなプラズマ重合膜は、以下に述べ
る磁性層を上下に挟みこむ形、いわゆるサンドイッチ構
造で、基体と磁性層との間に下地膜として、また磁性層
上にトップコート膜として用いられるものである。この
ような形で用いることによって磁性層の防錆効果が格段
に向上し、本発明の効果が得られる。
Such a plasma polymerized film has a so-called sandwich structure in which the magnetic layers described below are sandwiched above and below, and is used as a base film between the substrate and the magnetic layer and as a top coat film on the magnetic layer. It is something that can be done. By using it in this form, the antirust effect of the magnetic layer is significantly improved, and the effects of the present invention can be obtained.

【0040】本発明において、下地膜やトップコート膜
とするとき、プラズマ重合膜は、基体や磁性層上、特に
プラズマ処理された基体や磁性層上に形成されることが
好ましい。基体や磁性層表面をプラズマ処理することに
よって、基体や磁性層との接着力が向上し、ひいてはこ
の基体や磁性層とプラズマ重合膜との接着力が向上する
。基体や磁性層表面のプラズマ処理法の原理、方法およ
び形成条件等は前述したプラズマ重合法のそれと基本的
にほぼ同一である。
In the present invention, when used as a base film or a top coat film, the plasma polymerized film is preferably formed on a substrate or magnetic layer, particularly on a plasma-treated substrate or magnetic layer. Plasma treatment of the surface of the substrate or magnetic layer improves the adhesion between the substrate and the magnetic layer, which in turn improves the adhesion between the substrate or magnetic layer and the plasma polymerized film. The principle, method, formation conditions, etc. of the plasma treatment method for the surface of the substrate and magnetic layer are basically almost the same as those of the plasma polymerization method described above.

【0041】ただし、プラズマ処理は原則として、無機
ガスを処理ガスとして用い、他方、前述したプラズマ重
合法による重合膜の形成には原則として、有機ガス(場
合によっては無機ガスを混入させてもよい)を原料ガス
として用いる。さらに、プラズマ処理電源の周波数につ
いては、特に制限はなく、直流、交流、マイクロ波等い
ずれであってもよい。
However, in principle, plasma treatment uses an inorganic gas as a processing gas, whereas in the formation of a polymer film by the above-mentioned plasma polymerization method, as a general rule, an organic gas (an inorganic gas may be mixed in) is used. ) is used as the raw material gas. Further, the frequency of the plasma processing power source is not particularly limited, and may be any of direct current, alternating current, microwave, etc.

【0042】本発明では、プラズマ重合膜を用いた下地
膜およびトップコート膜は、前述のようなサンドイッチ
構造で用いることにより、他の下地膜や保護膜は用いる
必要はないが、場合によっては、他のものと併用するこ
とができる。
In the present invention, the base film and top coat film using the plasma polymerized film are used in a sandwich structure as described above, so there is no need to use other base films or protective films. Can be used in combination with others.

【0043】<磁性層>本発明における磁性層は、Co
を主成分とし、斜め蒸着法により形成される1層または
2層以上の強磁性金属薄膜から構成されることが好まし
い。そして、このような磁性層において本発明の効果が
大きくなる。
<Magnetic layer> The magnetic layer in the present invention is made of Co
It is preferable that the ferromagnetic metal thin film is composed of one or more layers of ferromagnetic metal thin film formed by an oblique vapor deposition method. In such a magnetic layer, the effects of the present invention are enhanced.

【0044】斜め蒸着法は、例えば、供給ロールから繰
り出された長尺フィルム状の非磁性基体を回転する冷却
ドラムの表面に添わせて送りながら、一個以上の定置金
属源から斜め蒸着をし、巻き取りロールに巻き取るもの
である。
In the oblique vapor deposition method, for example, a long film-like nonmagnetic substrate unwound from a supply roll is fed along the surface of a rotating cooling drum, while oblique vapor deposition is performed from one or more stationary metal sources. It is wound onto a take-up roll.

【0045】この際、成膜時の強磁性金属成分の入射角
と基体法線との角度をθとしたとき、θは変化し、初期
のθmax から、最終のθmin の範囲で蒸着が行
なわれる。そして、強磁性薄膜蒸着時のθmax は8
0〜90度であることが好ましく、θminは10〜6
0度であることが好ましい。
At this time, when the angle between the incident angle of the ferromagnetic metal component during film formation and the normal to the substrate is θ, θ changes, and the deposition is performed in the range from the initial θmax to the final θmin. . And θmax during ferromagnetic thin film deposition is 8
It is preferably 0 to 90 degrees, and θmin is 10 to 6
Preferably it is 0 degrees.

【0046】磁性層を構成する各強磁性金属薄膜は、N
iを含有するCo−Ni合金であることが好ましく、特
にモル比でCoを約80%以上、Niを20%以下含有
する合金が好適である。
Each ferromagnetic metal thin film constituting the magnetic layer is made of N
A Co--Ni alloy containing i is preferable, and an alloy containing about 80% or more of Co and about 20% or less of Ni in molar ratio is particularly preferable.

【0047】また、必要に応じてCrを10%以下含有
していてもよく、特開昭63−10315号公報等に記
載されている各種金属やその他の金属成分を含有してい
てもよい。
[0047] Furthermore, if necessary, it may contain 10% or less of Cr, and may also contain various metals described in JP-A-63-10315 and other metal components.

【0048】さらに、必要に応じて少量の酸素を各層の
表面層に含有させたり、このほか非磁性層を介在させた
りして、耐食性等を向上させることができる。
Furthermore, if necessary, corrosion resistance etc. can be improved by incorporating a small amount of oxygen into the surface layer of each layer or by interposing a nonmagnetic layer.

【0049】磁性層全体の厚さは、1200〜3000
A 程度であることが好ましい。このとき出力を十分に
大きくすることができる。
[0049] The total thickness of the magnetic layer is 1200 to 3000 mm.
It is preferable that it is about A. At this time, the output can be made sufficiently large.

【0050】蒸着金属粒子の入射角は蒸着初期のθma
x から最終のθmin まで連続的に変化し、非磁性
基体表面にCoを主成分とする強磁性金属の柱状結晶粒
子を弧状一方向に成長させ、整列させるものである。磁
性層を多層構成とする場合は、この工程を繰り返し行な
う。
The incident angle of the vapor-deposited metal particles is θma at the initial stage of vapor deposition.
It changes continuously from x to the final θmin, and columnar crystal grains of ferromagnetic metal whose main component is Co are grown on the surface of a nonmagnetic substrate in one arcuate direction and aligned. If the magnetic layer has a multilayer structure, this step is repeated.

【0051】なお、本発明ではバックコート層等の種々
の構成を付加することもできる。
[0051] In the present invention, various structures such as a back coat layer can also be added.

【0052】[0052]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 実施例1 供給ロールから厚さ7μm のポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを繰り出して、回転する円筒状冷却ドラム
の周囲に添わせて移動させ、10−4Paの真空に引い
た後、CH4 を原料ガスとしてプラズマ重合を行ない
、下地膜を形成した。このときのプラズマ重合条件は、
前記と同義でW/(F・M)1.68×109 Jou
le/kg、流量50SCCM、動作圧力0.05To
rr、プラズマ出力1kW、プラズマ周波数100kH
z とした。
[Examples] The present invention will be specifically explained below with reference to Examples. Example 1 A polyethylene terephthalate film with a thickness of 7 μm was fed out from a supply roll, moved along the circumference of a rotating cylindrical cooling drum, and after being evacuated to 10 −4 Pa, plasma polymerization was performed using CH4 as a raw material gas. Then, a base film was formed. The plasma polymerization conditions at this time are:
Same as above, W/(F・M)1.68×109 Jou
le/kg, flow rate 50SCCM, operating pressure 0.05To
rr, plasma output 1kW, plasma frequency 100kHz
z.

【0053】得られた下地膜の膜厚は400A であっ
た。なお、プラズマ重合膜はエリプソメータにて測定し
た。また、エリプソメータにて測定して屈折率は1.9
5であった。
The thickness of the obtained base film was 400A. Note that the plasma polymerized film was measured using an ellipsometer. Also, the refractive index is 1.9 when measured with an ellipsometer.
It was 5.

【0054】この下地膜を成膜したポリエチレンテレフ
タレートフィルムを、10−4PaのAr雰囲気で、供
給ロールから繰り出して、回転する円筒状冷却ドラムの
周囲に添わさせて移動させ20at% Ni−Co合金
を斜め蒸着して強磁性金属薄膜を形成し、巻き取りロー
ルにて巻き取った。
[0054] The polyethylene terephthalate film on which the base film was formed was fed out from the supply roll in an Ar atmosphere of 10-4 Pa, and moved around a rotating cylindrical cooling drum to coat the 20 at% Ni-Co alloy. A ferromagnetic metal thin film was formed by oblique vapor deposition and wound up using a winding roll.

【0055】次いで、この巻き取りロールを供給ロール
とし、PETフィルム表面の法線方向を挟んで上記斜め
蒸着時の入射方向と交差する入射方向にて強磁性金属を
斜め蒸着して、2層構成の磁性層を設層した。
Next, using this winding roll as a supply roll, a ferromagnetic metal is obliquely vapor-deposited in an incident direction that intersects the incident direction during the above-mentioned oblique vapor deposition, with the normal direction of the PET film surface in between, to form a two-layer structure. A magnetic layer was provided.

【0056】さらに、磁性層上に、CH4 を原料ガス
としてプラズマ重合を行ない、トップコート膜を形成し
た。このときのプラズマ重合条件は、下地膜と同様に、
W/(F・M)1.68×109 Joule/kg、
流量50SCCM、動作圧力0.05Torr、プラズ
マ出力1kW、プラズマ周波数100kHz とした。 得られたトップコート膜の膜厚は30A で、屈折率は
1.95であった。
Furthermore, a top coat film was formed on the magnetic layer by plasma polymerization using CH4 as a raw material gas. The plasma polymerization conditions at this time were the same as for the base film.
W/(F・M)1.68×109 Joule/kg,
The flow rate was 50 SCCM, the operating pressure was 0.05 Torr, the plasma output was 1 kW, and the plasma frequency was 100 kHz. The resulting top coat film had a thickness of 30A and a refractive index of 1.95.

【0057】これを磁気記録媒体サンプルNo. 1と
する。
[0057] This was used as magnetic recording medium sample No. Set to 1.

【0058】また、サンプルNo. 1において、トッ
プコート膜を形成しないものとするほかは同様にして、
サンプルNo. 2を得た。
[0058] Also, sample No. 1, except that no top coat film is formed,
Sample No. I got 2.

【0059】さらに、サンプルNo. 1において、下
地膜を形成しないものとするほかは同様にして、サンプ
ルNo. 3を得た。
Furthermore, sample No. Sample No. 1 was prepared in the same manner as in Sample No. 1 except that the base film was not formed. I got 3.

【0060】また、下地膜およびトップコート膜を形成
しないものも作製し、サンプルNo.4を得た。
[0060] In addition, samples without the base film and top coat film were also prepared, and Sample No. I got 4.

【0061】さらに、サンプルNo. 1において、下
地膜およびトップコート膜を以下の条件でプラズマ重合
したものにかえて、サンプルNo. 5を得た。
Furthermore, sample No. Sample No. 1 was prepared by replacing the base film and top coat film with those obtained by plasma polymerization under the following conditions. Got 5.

【0062】下地膜は、プラズマ重合条件を、W/(F
・M)2.1×107 Joule/kg、流量200
SCCM、動作圧力0.05Torr、プラズマ出力5
0W、プラズマ周波数13.56MHz として設層し
た。膜厚は400A で、屈折率は1.7であった。
For the base film, the plasma polymerization conditions were changed to W/(F
・M) 2.1×107 Joule/kg, flow rate 200
SCCM, operating pressure 0.05 Torr, plasma output 5
The layer was set at 0 W and a plasma frequency of 13.56 MHz. The film thickness was 400A, and the refractive index was 1.7.

【0063】トップコート膜は、プラズマ重合条件を、
上記と同様に、W/(F・M)2.1×107 Jou
le/kg、流量200SCCM、動作圧力0.05T
orr、プラズマ出力50W、プラズマ周波数13.5
6MHz として設層した。膜厚は30A で、屈折率
は1.7であった。
[0063] The top coat film was prepared by changing the plasma polymerization conditions to
As above, W/(F・M)2.1×107 Jou
le/kg, flow rate 200SCCM, operating pressure 0.05T
orr, plasma output 50W, plasma frequency 13.5
It was installed as a 6MHz layer. The film thickness was 30A, and the refractive index was 1.7.

【0064】また、サンプルNo. 1において、トッ
プコート膜を、同一のプラズマ重合条件下で設層し、膜
厚を5A とするほかは、同様にしてサンプルNo. 
6を作製した。
[0064] Also, sample No. Sample No. 1 was prepared in the same manner as in Sample No. 1, except that the top coat film was applied under the same plasma polymerization conditions and the film thickness was changed to 5A.
6 was produced.

【0065】また、サンプルNo. 1において、下地
膜を、同一のプラズマ重合条件下で設層し、膜厚を50
A とするほかは、同様にしてサンプルNo. 7を作
製した。
[0065] Also, sample No. In 1, the base film was deposited under the same plasma polymerization conditions, and the film thickness was 50%.
Sample No. A was prepared in the same manner except that sample No. 7 was produced.

【0066】さらに、サンプルNo. 1において、原
料ガスをC2H2 にかえ、W/(F・M)1.68×
109 Joule/kg、流量30SCCM、動作圧
力0.05Torr、プラズマ出力1kW、プラズマ周
波数100kHz のプラズマ重合条件下で、膜厚30
A のトップコート膜を設層し、これと同じプラズマ重
合条件下で膜厚400A の下地膜を設層するほかは、
同様にしてサンプルNo. 8を作製した。このときの
トップコート膜、下地膜の屈折率はともに、1.95で
あった。
Furthermore, sample No. In 1, the raw material gas was changed to C2H2 and W/(F・M)1.68×
Under plasma polymerization conditions of 109 Joule/kg, flow rate 30 SCCM, operating pressure 0.05 Torr, plasma output 1 kW, and plasma frequency 100 kHz, the film thickness was 30
Except for depositing the top coat film A and depositing the base film with a thickness of 400A under the same plasma polymerization conditions.
Similarly, sample No. 8 was produced. At this time, the refractive index of both the top coat film and the base film was 1.95.

【0067】また、サンプルNo. 1において、原料
ガスをC3 F6 にかえ、W/(F・M)1.68×
109 Joule/kg、流量5SCCM、動作圧力
0.05Torr、プラズマ出力1kW、プラズマ周波
数100kHz のプラズマ重合条件下で膜厚30A 
のトップコート膜を設層し、これと同じプラズマ重合条
件下で膜厚400A の下地膜を設層するほかは、同様
にしてサンプルNo. 9を作製した。トップコート膜
、下地膜の屈折率はともに1.85であった。
[0067] Also, sample No. In 1, the raw material gas was changed to C3 F6 and W/(F・M)1.68×
The film thickness was 30A under plasma polymerization conditions of 109 Joule/kg, flow rate 5SCCM, operating pressure 0.05 Torr, plasma output 1kW, and plasma frequency 100kHz.
Sample No. 1 was prepared in the same manner, except that a top coat film of No. 1 was applied and a base film of 400 Å thick was applied under the same plasma polymerization conditions. 9 was produced. The refractive index of both the top coat film and the base film was 1.85.

【0068】これらの磁気記録媒体サンプルNo. 1
〜No. 9を、8mmビデオデッキ(ソニー社製S9
00)に装填し、下記の評価を行なった。
These magnetic recording medium sample No. 1
~No. 9, an 8mm video deck (Sony S9)
00), and the following evaluation was performed.

【0069】(1)Δφm 80℃、90%RHにて1週間保存後の最大磁束密度φ
mを測定し、初期のφmに対する増加分を求めた。
(1) Δφm Maximum magnetic flux density φ after storage for one week at 80°C and 90% RH
m was measured, and the increase with respect to the initial φm was determined.

【0070】(2)走行摩擦経時変化 80℃、90%RHにて1週間保存後の動摩擦係数μを
測定し、初期のμに対する増加率を求めた。
(2) Change in running friction over time The dynamic friction coefficient μ was measured after storage for one week at 80° C. and 90% RH, and the rate of increase with respect to the initial μ was determined.

【0071】(3)サイクルテスト 磁気記録媒体サンプルを各々9.5cm×8mmの大き
さに切り出し、以下の条件で保存した。 ■室温    24時間 ■70℃、80%RH    24時間■0℃    
24時間 ■〜■の保存を3週間くり返した。初期のφm と保存
後のφm の変化率Δφm(%)を求めて評価した。   Δφm (%)=[φm (初期)−φm (保存
後)]/φm (初期)×100
(3) Cycle test Each magnetic recording medium sample was cut into a size of 9.5 cm x 8 mm and stored under the following conditions. ■Room temperature 24 hours ■70℃, 80%RH 24 hours ■0℃
Storage for 24 hours ■ to ■ was repeated for 3 weeks. The rate of change Δφm (%) between the initial φm and the φm after storage was determined and evaluated. Δφm (%) = [φm (initial) - φm (after storage)] / φm (initial) x 100

【0072】結果を表
1に示す。表中には、膜厚、屈折率等を併記する。
The results are shown in Table 1. In the table, film thickness, refractive index, etc. are also listed.

【0073】[0073]

【表1】[Table 1]

【0074】表1より、本発明の効果は明らかである。From Table 1, the effects of the present invention are clear.

【0075】なお、サンプルNo. 1において、下地
膜の膜厚を、500A をこえるものとする他は同様に
してサンプルNo. 10を作製した。このものでは、
本発明の効果の向上は見られず、むしろ膜厚を大きくす
るために量産性に劣るばかりでなく、下地膜にクラック
が発生しやすくなり、水や酸素等の遮断性が悪化するこ
とがわかった。
Note that sample No. Sample No. 1 was prepared in the same manner as in Sample No. 1, except that the thickness of the base film was made to exceed 500 A. 10 were produced. In this one,
No improvement in the effects of the present invention was observed; rather, it was found that increasing the film thickness not only resulted in poor mass productivity, but also made the base film more prone to cracking, resulting in poor barrier properties against water, oxygen, etc. Ta.

【0076】また、サンプルNo. 1において、トッ
プコート膜の膜厚を50A をこえるものとする他は同
様にしてサンプルNo. 11を作製した。このもので
は、スペーシングロスの問題が大きくなるばかりでなく
、膜厚を大きくするために、磁性層が長時間プラズマに
さらされることになるので、磁性層にダメージを与える
ことがわかった。
[0076] Also, sample No. Sample No. 1 was prepared in the same manner as in Sample No. 1, except that the thickness of the top coat film was made to exceed 50A. 11 was produced. It was found that this method not only increases the problem of spacing loss, but also damages the magnetic layer because it is exposed to plasma for a long time in order to increase the film thickness.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明によれば、耐食性および耐久性が
格段と向上する。
[Effects of the Invention] According to the present invention, corrosion resistance and durability are significantly improved.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  非磁性の樹脂基体上に、下地膜と強磁
性金属薄膜とトップコート膜とを有する磁気記録媒体に
おいて、前記下地膜およびトップコート膜は、それぞれ
、CとHとを含み、かつ屈折率が1.8以上のプラズマ
重合膜であることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium having a base film, a ferromagnetic metal thin film, and a top coat film on a non-magnetic resin substrate, wherein the base film and the top coat film each contain C and H, A magnetic recording medium comprising a plasma polymerized film having a refractive index of 1.8 or more.
【請求項2】  前記下地膜の膜厚が100〜500A
 である請求項1に記載の磁気記録媒体。
2. The thickness of the base film is 100 to 500A.
The magnetic recording medium according to claim 1.
【請求項3】  前記トップコート膜の膜厚が10〜5
0A である請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
3. The top coat film has a thickness of 10 to 5.
The magnetic recording medium according to claim 1 or 2, wherein the magnetic recording medium is 0A.
【請求項4】  前記強磁性金属薄膜は、Coを主成分
とし、斜め蒸着法により形成されたものである請求項1
ないし3のいずれかに記載の磁気記録媒体。
4. The ferromagnetic metal thin film contains Co as a main component and is formed by an oblique evaporation method.
4. The magnetic recording medium according to any one of 3 to 3.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677051A (en) * 1993-11-30 1997-10-14 Tdk Corporation Magnetic recording medium having a specified plasma polymerized hydrogen containing carbon film and lubricant

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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