JPH04335226A - Apparatus for producing optical disk - Google Patents

Apparatus for producing optical disk

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JPH04335226A
JPH04335226A JP10607191A JP10607191A JPH04335226A JP H04335226 A JPH04335226 A JP H04335226A JP 10607191 A JP10607191 A JP 10607191A JP 10607191 A JP10607191 A JP 10607191A JP H04335226 A JPH04335226 A JP H04335226A
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JP
Japan
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cold cathode
electron beam
cathode emitter
master
optical disc
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Japanese (ja)
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Shinichi Yokozeki
横関 伸一
Teruo Toma
照夫 當摩
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Pioneer Electronic Corp
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the apparatus for producing optical disks which allows mastering at a high recording density in a short period of time. CONSTITUTION:This apparatus has a holding means for holding an optical master plate 10 having a recording surface subjected to an electron ray resist treatment within a housing where a vacuum space is formed, at least one cold cathode emitter elements 1' which irradiate the optical master plate 10 with the electron beams when driven, a magnetic field lens 21 which is disposed between the emitter elements 1' and the optical master plate 10 and focus the electron beams 23 emitted from the emitter elements 1', and a driving means for driving the emitter elements 1'. The irradiation of the optical master plate at the high recording density without generating the crosstalks between the cold cathode emitter elements is executed and the deflection of the electron beams is possible as well.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【技術分野】本発明は、情報記録用担体の製造装置に関
し、特に光ディスクの原盤を作製するマスタリング工程
において、記録ビ―ムをその表面に照射して情報の記録
を行なう光ディスクの製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing an information recording carrier, and more particularly to an apparatus for manufacturing an optical disc that records information by irradiating the surface of the carrier with a recording beam in a mastering process for producing an optical disc master.

【0002】0002

【背景技術】映像や音声情報をディスク(円盤)状の記
録媒体に記録する方式として例えばビデオディスクの原
盤へ光学的に記録する方式がある。この方式は、基板と
なるガラス円盤に厚さ1000ないし1500Åのフォ
トレジスト膜に微少な点に集光したレ―ザビ―ムを映像
や音声情報に応じて明滅させるいわゆるビットバイビッ
ト方式で照射感光させ、しかる後にこれを現像して得ら
れるピット(へこみ)の長さ及びその繰返し周期により
情報を記録するものである。
BACKGROUND ART As a method for recording video and audio information on a disc-shaped recording medium, for example, there is a method for optically recording on a master disc of a video disc. This method uses a so-called bit-by-bit method in which a laser beam focused on a minute point is blinked on a photoresist film with a thickness of 1000 to 1500 Å on a glass disk serving as a substrate, making it blink in response to video and audio information. This is then developed to record information based on the length of the pits (dents) obtained and their repetition period.

【0003】かかる光ディスクのマスタリングにおいて
は、フォトレジスト原盤を回転させ、レ―ザ光を1ない
し数本でトレ―スして記憶するものであるから、全周の
トラック長をトレ―スしなければならず、長い時間を要
する。また、フォトレジスト原盤をレ―ザ光で露光して
いるため、より小さな光スポットを得ることは、その光
学限界により難しく、該フォトレジスト原盤の高記録密
度化は容易ではない。
[0003] In mastering such an optical disc, the photoresist master is rotated and one or several laser beams are traced and stored, so the track length of the entire circumference must be traced. It takes a long time. Furthermore, since the photoresist master disk is exposed to laser light, it is difficult to obtain a smaller light spot due to its optical limitations, and it is not easy to increase the recording density of the photoresist master disk.

【0004】0004

【発明の目的】本発明は、上述した点に鑑みてなされた
もので、短時間でかつ記録密度の高いマスタリングを可
能とする光ディスク製造装置を提供することを目的とす
る。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and an object of the present invention is to provide an optical disc manufacturing apparatus that enables mastering with high recording density in a short time.

【0005】[0005]

【発明の構成】本発明による光ディスク製造装置は、真
空空間を形成する筐体と、前記筐体内において電子線レ
ジスト処理された記録面を有する光ディスク原盤を保持
する保持手段と、駆動されたとき前記光ディスク原盤に
向けて電子ビ―ムを照射する少なくとも1の冷陰極エミ
ッタ素子と、前記冷陰極エミッタ素子と前記光ディスク
原盤との間に配置され前記冷陰極エミッタ素子から出射
される電子ビ―ムを集束する磁界レンズと、前記冷陰極
エミッタ素子を駆動する駆動手段とを有することを特徴
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An optical disc manufacturing apparatus according to the present invention includes: a housing forming a vacuum space; a holding means for holding an optical disc master having a recording surface subjected to an electron beam resist treatment within the housing; at least one cold cathode emitter element that irradiates an electron beam toward an optical disc master, and an electron beam emitted from the cold cathode emitter element that is disposed between the cold cathode emitter element and the optical disc master. It is characterized by comprising a focusing magnetic field lens and a driving means for driving the cold cathode emitter element.

【0006】本発明による光ディスク製造装置は、真空
空間を形成する筐体と、前記筐体内において電子線レジ
スト処理された記録面を有する光ディスク原盤を保持す
る保持手段と、駆動されたとき前記光ディスク原盤に向
けて電子ビ―ムを照射する少なくとも1の冷陰極エミッ
タ素子と、前記光ディスク原盤に電圧を印加する電圧印
加手段と、前記冷陰極エミッタ素子を駆動する駆動手段
とを有することを特徴としている。
The optical disc manufacturing apparatus according to the present invention includes a housing forming a vacuum space, a holding means for holding an optical disc master having a recording surface subjected to an electron beam resist treatment in the housing, and a holding means for holding an optical disc master having a recording surface subjected to electron beam resist treatment within the housing, and when driven, the optical disc manufacturing apparatus It is characterized by comprising at least one cold cathode emitter element that irradiates an electron beam toward the optical disk, voltage application means that applies a voltage to the optical disc master, and drive means that drives the cold cathode emitter element. .

【0007】[0007]

【発明の作用】本発明による光ディスク製造装置は、真
空中の筐体内において、電子線レジスト処理された記録
面を有する光ディスク原盤を保持し、駆動手段によって
駆動される少なくとも1の冷陰極エミッタ素子から出射
される電子ビ―ムを、冷陰極エミッタ素子と光ディスク
原盤との間に配置される磁界レンズによって集束して光
ディスク原盤に照射する。
The optical disc manufacturing apparatus according to the present invention holds an optical disc master having a recording surface treated with electron beam resist in a vacuum housing, and includes at least one cold cathode emitter element driven by a driving means. The emitted electron beam is focused by a magnetic field lens placed between the cold cathode emitter element and the optical disk master, and is irradiated onto the optical disk master.

【0008】また、本発明による光ディスク製造装置は
、真空中の筐体内において、電子線レジスト処理された
記録面を有する光ディスク原盤を保持し、電圧印加手段
によって光ディスク原盤に電圧を印加し、駆動手段によ
って駆動される少なくとも1の冷陰極エミッタ素子から
出射される電子ビ―ムを、光ディスク原盤に照射する。
Further, the optical disc manufacturing apparatus according to the present invention holds an optical disc master having a recording surface subjected to electron beam resist treatment in a vacuum housing, applies a voltage to the optical disc master by a voltage applying means, and applies a voltage to the optical disc master by a driving means. An optical disc master is irradiated with an electron beam emitted from at least one cold cathode emitter element driven by.

【0009】[0009]

【実施例】図1に冷陰極エミッタ素子の概念図の一例を
示す。図において、冷陰極エミッタ素子1は、Si(1
00)基板2を異方性エッチングすることによって形成
した円錐形の電界放射エミッタ3を有し、その周りのS
i基板2の主面上に例えばSiO2等の絶縁層4が円柱
状に積層された構造となっている。絶縁層4における積
層の間には、エミッタ3に対してゲ―トを担う電極層5
が積層されており、さらに、その上部にはアノ―ドを担
う電極層6が積層されている。これら電極層5及び6は
、Mo,W,Ta等からなり、絶縁層4に比し内径の若
干小なる円柱状に形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an example of a conceptual diagram of a cold cathode emitter element. In the figure, the cold cathode emitter element 1 is composed of Si(1
00) It has a conical field emission emitter 3 formed by anisotropically etching the substrate 2, and the surrounding S
It has a structure in which an insulating layer 4 made of, for example, SiO2 is laminated in a cylindrical shape on the main surface of the i-substrate 2. Between the laminated layers in the insulating layer 4, an electrode layer 5 serving as a gate for the emitter 3 is provided.
are laminated, and an electrode layer 6 serving as an anode is further laminated on top of the electrode layer 6. These electrode layers 5 and 6 are made of Mo, W, Ta, etc., and are formed into a cylindrical shape with an inner diameter slightly smaller than that of the insulating layer 4.

【0010】このような開放キャビティ構造のエミッタ
素子1は、少なくともそのエミッタ3−アノ―ド6間に
おいて真空状態を保ち、アノ―ド6に高い電位が加わる
と陰極であるエミッタ3からアノ―ド6に向けて電子e
− が放出される一方、電子e− はゲ―ト5により制
御され、その一部がゲ―ト5に入り他の大部分がゲ―ト
5を通過しさらにアノ―ド6を通過する。こうして、冷
陰極エミッタ素子1は、真空三極管素子の如く動作する
The emitter element 1 having such an open cavity structure maintains a vacuum state at least between the emitter 3 and the anode 6, and when a high potential is applied to the anode 6, the emitter element 1 is discharged from the emitter 3, which is a cathode, to the anode. electronic e towards 6
- is emitted, while electrons e- are controlled by the gate 5, a part of which enters the gate 5, and a large part of which passes through the gate 5 and further passes through the anode 6. In this way, the cold cathode emitter device 1 operates like a vacuum triode device.

【0011】かかるエミッタ素子1から電子ビ―ムを得
るには、外部空間を真空状態に保ち、放射された電子e
− を誘発するが如き出射先の構成を施し、微小電子銃
の如く動作させることによりなされる。また、エミッタ
素子1はそのアノ―ド6の内径が1um以下に小さく形
成することが可能であり、放射される電子の走行時間を
極めて短くできる、という特長を持つ。
In order to obtain an electron beam from such an emitter element 1, the external space is kept in a vacuum state and the emitted electrons e.
This is done by configuring the emission destination to induce - and operating it like a microelectron gun. Further, the emitter element 1 has the feature that the inner diameter of the anode 6 thereof can be formed as small as 1 um or less, and the transit time of emitted electrons can be extremely shortened.

【0012】図2は、この冷陰極エミッタ素子1を用い
て光ディスク原盤をカッティングする場合の概略図を示
したものである。図において、図示せぬ真空空間を有す
る筐体内に、冷陰極エミッタ素子1に相対し、原盤10
が配され、放射される電子ビ―ム11が原盤10の記録
面上の任意位置に照射されるように構成されている。定
電圧源12はエミッタ3及びアノ―ド6にそれぞれ負及
び正の電位を与えるものであり、入力端子13からゲ―
ト5に供給される記録信号に応じてエミッタ3から放出
する電子を供給する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the case where the cold cathode emitter element 1 is used to cut an optical disk master. In the figure, a master 10 is placed opposite a cold cathode emitter element 1 in a housing having a vacuum space (not shown).
is arranged so that the emitted electron beam 11 is irradiated onto any position on the recording surface of the master 10. The constant voltage source 12 provides negative and positive potentials to the emitter 3 and anode 6, respectively, and supplies the gate voltage from the input terminal 13.
The emitter 3 supplies electrons emitted from the emitter 3 in response to a recording signal supplied to the emitter 5.

【0013】一方、原盤10は、その記録面上に、電子
ビ―ムに感応する例えばPMMA(ポリメチルメタアク
リレ―ト)等の電子線レジスト剤が塗布されている。ま
た、原盤10に電極層を有するか、もしくは原盤10を
固定する支持台を電極として、定電圧源14によりかか
る電極部15へ所定の正電圧が印加されており、電極部
15は冷陰極エミッタ素子1に対して、電子を吸収する
が如きいわゆるコレクタとしての役目を担っている。
On the other hand, the recording surface of the master 10 is coated with an electron beam resist agent such as PMMA (polymethyl methacrylate), which is sensitive to electron beams. In addition, a predetermined positive voltage is applied to the electrode section 15 by a constant voltage source 14 using an electrode layer on the master disk 10 or a support base for fixing the master disk 10 as an electrode, and the electrode section 15 is a cold cathode emitter. It plays a role as a so-called collector for the element 1, which absorbs electrons.

【0014】冷陰極エミッタ素子1は、ゲ―ト5が所定
電圧を保持する限りエミッタ3からはほとんど電子が放
出されないので、記録信号のいわゆる2値信号によって
電子の放射をオンオフ制御できる一方、出射先である原
盤10側ではコレクタとして電子を収集し誘い込む作用
を伴うので、原盤10へ向けて照射軸の略直線的な電子
ビ―ムを発生させることができ、かつ原盤10上にピッ
トを形成するための電子スポットを明滅させることがで
きる。
Since almost no electrons are emitted from the emitter 3 of the cold cathode emitter element 1 as long as the gate 5 maintains a predetermined voltage, the emission of electrons can be controlled on and off by the so-called binary signal of the recording signal. Since the master 10 side, which is the tip, acts as a collector to collect and attract electrons, it is possible to generate an electron beam with a substantially straight irradiation axis toward the master 10, and to form pits on the master 10. The electronic spot can be made to blink.

【0015】こうした光ディスク原盤のカッティングに
おいて、冷陰極エミッタ素子1からの電子ビ―ムは、収
束せずに発散するので、原盤10上に大きな電子スポッ
トとなり、記録密度の高い光ディスクが得られないとと
もに、冷陰極エミッタ素子1を複数個用いてカッティン
グする場合、これらエミッタ素子を高密度化すると、隣
接素子どうしのクロスト―クを生じることがある。
In cutting such an optical disc master, the electron beam from the cold cathode emitter element 1 does not converge but diverges, resulting in a large electron spot on the master disc 10, making it impossible to obtain an optical disc with high recording density. When cutting is performed using a plurality of cold cathode emitter elements 1, if the density of these emitter elements is increased, crosstalk may occur between adjacent elements.

【0016】図3は、上記冷陰極エミッタ素子における
高密度化の弊害を鑑みて構成された第1の実施例を説明
するための図で、図2におけるアノ―ド6を換えたもの
である。図において、図2と同等部分には同一の符号が
付されている。本実施例におけるアノ―ド20は、磁界
レンズ21を包み込むような形状となっており、磁界レ
ンズ21は、その内部で巻回されたプリントコイル22
を有している。磁界レンズ21は、電子ビ―ムの指向性
を定める偏向手段であり、周知の偏向回路と原理的に大
きな違いはない。
FIG. 3 is a diagram for explaining a first embodiment constructed in view of the disadvantages of high density in the cold cathode emitter element, and the anode 6 in FIG. 2 is replaced. . In the figure, parts equivalent to those in FIG. 2 are given the same reference numerals. The anode 20 in this embodiment has a shape that wraps around a magnetic field lens 21, and the magnetic field lens 21 has a printed coil 22 wound therein.
have. The magnetic field lens 21 is a deflection means that determines the directivity of the electron beam, and there is no major difference in principle from a known deflection circuit.

【0017】このように構成される冷陰極エミッタ素子
1´においては、上記図2における電子ビ―ム11と異
なり、エミッタ3から放射された電子ビ―ムを磁界レン
ズ21のインダクタンス特性に応じて集束させることが
できる。そして、この集束された電子ビ―ム23は、原
盤10上に微小なスポットとして照射されることとなり
、記録密度の高い光ディスク原盤が得られるとともに、
冷陰極エミッタ素子を高密度化してもクロスト―クの生
じない微細な電子ビ―ムを得ることができる。
In the cold cathode emitter element 1' configured as described above, unlike the electron beam 11 shown in FIG. It can be focused. Then, this focused electron beam 23 is irradiated onto the master disc 10 as a minute spot, and an optical disc master disc with high recording density is obtained.
Even if the density of cold cathode emitter elements is increased, a fine electron beam without crosstalk can be obtained.

【0018】一方、いわゆる電子線リソグラフィ技術と
して、他に半導体集積回路を作製するための、EBES
(電子ビ―ム露光システム:ElectronBeam
 Exposure System )等の電子線露光
技術があるが、これを光ディスク原盤のマスタリングに
応用するには、電流量が小さく、情報記録速度(転送速
度)が遅い、という問題を有する。
On the other hand, as a so-called electron beam lithography technique, EBES is used for manufacturing semiconductor integrated circuits.
(Electron beam exposure system: ElectronBeam
There are electron beam exposure techniques such as the Exposure System, but when applied to mastering optical disk masters, the problem is that the amount of current is small and the information recording speed (transfer rate) is slow.

【0019】図4は、かかる問題を解消すべくなされた
第2の実施例を示すものであり、冷陰極エミッタ素子を
複数個用いて記録ヘッドを構成した概略図である。なお
、図1ないし図3と同等部分には同一の符号を付してい
る。図において、記録ヘッド30を形成するユニット内
に4つの冷陰極エミッタ素子1a,1b,1c,1dの
中心(エミッタの先端)が、それぞれ正方形の頂点とな
るように配置され形成されている。上述の如く、冷陰極
エミッタ素子から出射される電子ビ―ムは細くかつクロ
スト―クをなくすことが可能なので、該ユニットにおい
て冷陰極エミッタ素子どうしを近接して配置,形成する
ことができる。  また、これら冷陰極エミッタ素子の
各エミッタには共通して定電圧電源12より負の電位が
印加され、各ゲ―トは記録信号を供給するための入力端
子13a,13b,13c,13dに接続されている。 各冷陰極エミッタ素子はこのゲ―ト入力端子に供給され
る4つの記録信号により個別に制御される。
FIG. 4 shows a second embodiment designed to solve this problem, and is a schematic diagram in which a recording head is constructed using a plurality of cold cathode emitter elements. Note that parts equivalent to those in FIGS. 1 to 3 are given the same reference numerals. In the figure, four cold cathode emitter elements 1a, 1b, 1c, and 1d are arranged and formed in a unit forming a recording head 30 so that the centers (emitter tips) thereof are the vertices of a square. As described above, since the electron beam emitted from the cold cathode emitter element is narrow and crosstalk can be eliminated, the cold cathode emitter elements can be arranged and formed close to each other in the unit. Further, a negative potential is commonly applied to each emitter of these cold cathode emitter elements from a constant voltage power supply 12, and each gate is connected to input terminals 13a, 13b, 13c, and 13d for supplying recording signals. has been done. Each cold cathode emitter element is individually controlled by four recording signals applied to this gate input terminal.

【0020】従来の如く、タ―ンテ―ブル上に積載する
光ディスク原盤を回転させ、スピンドルサ―ボのシステ
ムによる回転制御とともに、この記録ヘッド30を当該
原盤のトラック32上にトレ―スさせることにより、一
度に4つのピットを記録できることは勿論のこと、各電
子ビ―ムによる電子スポットすなわち記録ピットの大き
さを十分小さくすることができる。よって、例えば特開
平2−267733号公報にも見られるような、1の読
取光スポット31(図4)の中に複数の記録ピットを包
含せしめて一度に4つの記録ピットを読取る方法に適し
た記録ピットの形成することができる。また、各記録ピ
ット及びエミッタ素子の配置や数も正方形状にするばか
りでなく、上記文献にも記載されているような、正三角
形状(図5に示す)にしたり、もしくはこうした正三角
形状となるべく2つの記録ピットの配置(図6に示す)
をなすことも容易に可能である。
As in the past, an optical disk master placed on a turntable is rotated, the rotation is controlled by a spindle servo system, and the recording head 30 is traced on the track 32 of the master. This not only makes it possible to record four pits at once, but also makes it possible to sufficiently reduce the size of the electron spot, that is, the recording pit, created by each electron beam. Therefore, it is suitable for the method of reading four recording pits at once by including a plurality of recording pits in one reading light spot 31 (FIG. 4), as also seen in, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-267733. Recording pits can be formed. In addition, the arrangement and number of recording pits and emitter elements are not only square, but also equilateral triangular (as shown in FIG. 5), as described in the above-mentioned literature, or Arrangement of two recording pits if possible (as shown in Figure 6)
It is also easily possible to do this.

【0021】さらに、記録トラック分だけの冷陰極エミ
ッタ素子を線状に配置して記録ヘッドを構成することも
容易である。図7及び図8は、その線状記録ヘッドアレ
イによる光ディスク原盤のマスタリングを説明するため
の図である。なお、図1ないし図3と同等部分には同一
の符号を付している。図7において、線状記録ヘッドア
レイ301は、少なくとも記録すべきトラックの数だけ
の冷陰極エミッタ素子Ei (i=0,1,2,……,
w:(w−1)はトラック数)を有し、これら冷陰極エ
ミッタ素子Ei は所定トラック間隔をもって線状に配
置されている。また、上記図4における記録ヘッドと同
様に、これら冷陰極エミッタ素子の各エミッタには、定
電圧源12より負の電圧が印加され、各ゲ―トは記録信
号を供給するための入力端子Ii に接続されている。 各エミッタ素子はこれら信号入力端子に供給される駆動
信号により個別に制御される。
Furthermore, it is also easy to construct a recording head by arranging cold cathode emitter elements in a line for each recording track. 7 and 8 are diagrams for explaining mastering of an optical disk master using the linear recording head array. Note that parts equivalent to those in FIGS. 1 to 3 are given the same reference numerals. In FIG. 7, the linear recording head array 301 has cold cathode emitter elements Ei (i=0, 1, 2, . . . , at least as many as the number of tracks to be recorded).
w: (w-1) is the number of tracks), and these cold cathode emitter elements Ei are arranged linearly with a predetermined track interval. Further, similarly to the recording head in FIG. 4, a negative voltage is applied to each emitter of these cold cathode emitter elements from a constant voltage source 12, and each gate is connected to an input terminal Ii for supplying a recording signal. It is connected to the. Each emitter element is individually controlled by drive signals supplied to these signal input terminals.

【0022】こうした線状記録ヘッドアレイ301を、
光ディスク原盤上、半径方向に固定し、図示の如く、矢
印方向に光ディスク原盤10を1回転させれば原盤1枚
のカッティングがなされることとなる。図8にはその全
体の構成が示されている。図において、光ディスク原盤
10はモ―タ302によって回転駆動されるタ―ンテ―
ブル303に載置される。光ディスク原盤10には定電
圧源14により正の電圧が印加されるよう施されており
、また、その主面上の半径位置には上記線状記録ヘッド
アレイ301が固定に配設されている。
[0022] Such a linear recording head array 301 is
If the optical disk master 10 is fixed in the radial direction on the optical disk master and rotated once in the direction of the arrow as shown in the figure, one master will be cut. FIG. 8 shows the overall configuration. In the figure, the optical disc master 10 is a turntable that is rotationally driven by a motor 302.
It is placed on the bull 303. A positive voltage is applied to the optical disc master 10 by a constant voltage source 14, and the linear recording head array 301 is fixedly disposed at a radial position on its main surface.

【0023】記録情報信号は、入力端子304を介して
走査制御回路305に供給される。走査制御回路305
は、マイクロコンピュ―タやシフトレジスタ、駆動回路
、タイミング生成回路、メモリ等からなり、記録情報信
号に応じて線状記録ヘッドアレイ301を駆動し光ディ
スク原盤10上を電子線走査すべく所定の処理がなされ
る。すなわち、線状記録ヘッドアレイ301に対しその
入力端子Ii を介する信号ラインのうち照射すべきト
ラックを指定する信号ラインを選択して駆動信号を供給
する一方、モ―タ301に対しその駆動信号に時間的に
対応しかつ照射すべきトラック方向における記録位置を
指定するいわゆる角度信号φを供給する。こうして、モ
―タ302は角度信号φに応じた角度分だけ回動して光
ディスク原盤10と線状記録ヘッド301との相対的な
半径位置を定めるとともに、記録ヘッド301は定めら
れた半径位置で駆動信号に応じた電子線ビ―ムの照射を
なすのである。従って光ディスク原盤を1回転させるこ
とにより1枚のカッティングがなされるので大幅にその
記録時間が短縮される。
The recording information signal is supplied to a scanning control circuit 305 via an input terminal 304. Scan control circuit 305
consists of a microcomputer, shift register, drive circuit, timing generation circuit, memory, etc., and performs predetermined processing to drive the linear recording head array 301 according to recording information signals and scan the optical disc master 10 with an electron beam. will be done. That is, the linear recording head array 301 selects a signal line specifying a track to be irradiated from among the signal lines via its input terminal Ii and supplies a drive signal to the motor 301. A so-called angle signal φ is supplied which corresponds in time and specifies the recording position in the track direction to be irradiated. In this way, the motor 302 rotates by an angle corresponding to the angle signal φ to determine the relative radial position between the optical disc master 10 and the linear recording head 301, and the recording head 301 is kept at the determined radial position. The electron beam is irradiated according to the drive signal. Therefore, one rotation of the optical disc master allows one disc to be cut, thereby significantly shortening the recording time.

【0024】以上、第2の実施例においては、電子ビ―
ムの微細な冷陰極エミッタ素子を複数個用いてこれを記
録ヘッドとすることにより、従来のマスタリング方法と
あまり変わらずに比較的簡単な構成で記録密度もしくは
記録容量を向上させることができるとともに、該記録ヘ
ッドからは大電流が得られ、転送速度の向上に寄与する
こととなる。
As described above, in the second embodiment, the electronic beam
By using a plurality of microscopic cold cathode emitter elements and using them as a recording head, recording density or recording capacity can be improved with a relatively simple configuration without much difference from conventional mastering methods, and A large current can be obtained from the recording head, which contributes to improving the transfer speed.

【0025】図9は、第3の実施例を示すためのもので
あり、さらに記録時間を短縮せんとする光ディスク原盤
作製の原理図である。図において、図1ないし図3と同
等部分は同一の符号が付されている。本実施例において
は、多数の冷陰極エミッタ素子を二次元的に配列または
分布させて形成したいわゆる電子線源パネルにて光ディ
スク原盤をカッティングする。
FIG. 9 is a diagram illustrating the principle of producing an optical disc master in order to further shorten the recording time, and is for showing the third embodiment. In the figures, parts equivalent to those in FIGS. 1 to 3 are given the same reference numerals. In this embodiment, an optical disk master is cut using a so-called electron beam source panel formed by two-dimensionally arranging or distributing a large number of cold cathode emitter elements.

【0026】かかる電子線源パネル40は、少なくとも
記録すべき光ディスクの記録容量を十分満たすだけの上
記冷陰極エミッタ素子が、例えばうず巻状もしくは同心
円状に配置されており、これらエミッタ素子の配線の一
例を図10に示す。図10において、冷陰極エミッタ素
子E rθ(r=0,1,2,……,n,θ=0,1,
2,……,m)は、電子線源パネル40の内層面上にお
いて同心円状に並んでいるものとし、これら素子の各エ
ミッタeは全て共通に負電位が定電圧源12より印加さ
れているものとする。各ゲ―トgは電子線源パネル40
の半径方向を同一とする冷陰極素子E0θ,E1θ,E
2θ, ……,Enθについて共通接続され、これら共
通接続線はそれぞれ入力端子g0,g1,g2,……,
gn  へ導出されている。また、各アノ―ドaは、同
一半径の円周となる冷陰極エミッタ素子Er0,Er1
,……,Ermについて共通接続され、これら共通接続
線は、入力端子a0,a1,……,am に導出されて
いる。但し、nは半径方向に並ぶ素子の数、mは円周方
向に並ぶ素子の数であり、かかる電子線源パネル40が
有する冷陰極エミッタ素子の数は(n−1)×(m−1
)である。
In the electron beam source panel 40, the cold cathode emitter elements, sufficient to at least satisfy the recording capacity of the optical disk to be recorded, are arranged, for example, in a spiral shape or concentrically, and the wiring of these emitter elements is An example is shown in FIG. In FIG. 10, the cold cathode emitter element E rθ (r=0, 1, 2,..., n, θ=0, 1,
2, . shall be taken as a thing. Each gate g is an electron beam source panel 40
Cold cathode elements E0θ, E1θ, E with the same radial direction
2θ, ..., Enθ are commonly connected, and these common connection lines are connected to input terminals g0, g1, g2, ..., respectively.
gn. Furthermore, each anode a has a cold cathode emitter element Er0, Er1 having a circumference of the same radius.
, ..., Erm are commonly connected, and these common connection lines are led out to input terminals a0, a1, ..., am. However, n is the number of elements arranged in the radial direction, m is the number of elements arranged in the circumferential direction, and the number of cold cathode emitter elements that the electron beam source panel 40 has is (n-1) x (m-1
).

【0027】一方、図9の如き走査制御回路42におい
ては、記録情報信号が入力端子41を経由して供給され
ると、順次その記録情報信号を処理して上述の如き、電
子線源パネル40において駆動すべき素子の半径情報及
び角度情報を電子線源パネル40へ供給する。すなわち
、走査制御回路42は、供給される記録情報信号に基づ
いて、上記半径情報を表わすrの値及び角度情報を表わ
すθの値を求めて、これに応じて電子線源パネル40の
入力端子gr及びaθに駆動信号を与える。 そして、
アノ―ド電圧供給端である入力端子aθに駆動信号が供
給され角度θを有する1の半径方向における冷陰極エミ
ッタ素子列が選択されて駆動可能となり、かつ、ゲ―ト
電圧供給端である入力端子gr には上記駆動信号に対
応する記録情報信号が供給され半径距離rを有する1の
円周方向における冷陰極エミッタ素子列が選択され電子
ビ―ムの放射を可能とする。
On the other hand, in the scan control circuit 42 as shown in FIG. 9, when recording information signals are supplied via the input terminal 41, the recording information signals are sequentially processed and sent to the electron beam source panel 40 as described above. The radius information and angle information of the element to be driven are supplied to the electron beam source panel 40. That is, the scan control circuit 42 determines the value of r representing the radius information and the value of θ representing the angle information based on the supplied recording information signal, and adjusts the input terminal of the electron beam source panel 40 accordingly. A drive signal is given to gr and aθ. and,
A drive signal is supplied to the input terminal aθ which is the anode voltage supply end, and one row of cold cathode emitter elements in the radial direction having an angle θ is selected and becomes driveable, and the input terminal which is the gate voltage supply end A recording information signal corresponding to the drive signal is supplied to the terminal gr, and one row of cold cathode emitter elements in the circumferential direction having a radial distance r is selected to enable emission of an electron beam.

【0028】こうして、半径方向及び円周方向の素子列
が定まると、中心から距離rを隔てかつ角度θを有する
1の冷陰極エミッタ素子Er θのみが駆動して電子ビ
―ムを出射することとなる。そして、これら入力端子g
r及びaθを指定する動作を直列的に行なうことにより
該記録情報信号を高速転送することが可能となり、また
、電子線源パネル40においても転送された記録情報信
号を即座に電子ビ―ムに変換することができる。こうす
ることにより、記録情報を電気的に記録することができ
るので、記録時間の短い記録ピットの形成をなし得る。
[0028] Once the element arrays in the radial and circumferential directions are determined in this way, only one cold cathode emitter element Er θ, which is spaced a distance r from the center and has an angle θ, is driven to emit an electron beam. becomes. And these input terminals g
By performing the operation of specifying r and aθ in series, it is possible to transfer the recorded information signal at high speed, and the transferred recorded information signal can also be immediately converted into an electron beam at the electron beam source panel 40. can be converted. By doing so, the recording information can be recorded electrically, so that recording pits can be formed in a short recording time.

【0029】なお、上記第3の実施例におけるが如き電
子線源パネルの駆動は、他の方法によってもなし得るこ
とは勿論である。また、本発明は光ディスクに限定され
ることなく光カ―ドにおけるマスタリング工程に適用し
ても良い。特に図7で説明した線状記録ヘッドアレイに
ついては有用である。
It goes without saying that the electron beam source panel in the third embodiment can be driven by other methods. Further, the present invention is not limited to optical discs, but may be applied to a mastering process for optical cards. This is particularly useful for the linear recording head array described with reference to FIG.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空中において、冷陰極エミッタ素子のエミッタとアノ
―ドとの間に所定電圧を印加してエミッタから電子を放
射せしめ、アノ―ドに設けられた偏向手段により電子を
集束し、電子線レジスト処理された記録面を有しかつ電
圧の印加された光ディスク原盤に偏向手段により集束さ
れた電子ビ―ムを照射する構成としたので、高記録密度
でかつ冷陰極エミッタ素子どうしのクロスト―クが生じ
ることのない光ディスク原盤への照射をすることができ
る。また、かかる偏向手段により集束電子ビ―ムを偏向
して光ディスク原盤上の任意点を照射することも可能で
ある。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
In a vacuum, a predetermined voltage is applied between the emitter and anode of the cold cathode emitter element to cause the emitter to emit electrons, and the electrons are focused by a deflection means provided on the anode to perform electron beam resist processing. Since the configuration is such that an electron beam focused by a deflection means is irradiated onto an optical disc master having a flat recording surface and a voltage applied, crosstalk between cold cathode emitter elements occurs at a high recording density. It is possible to irradiate the master optical disc without any problems. Further, it is also possible to deflect the focused electron beam using such a deflecting means to irradiate an arbitrary point on the master optical disc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】  本発明に適用される冷陰極エミッタ素子の
概念図
[Figure 1] Conceptual diagram of a cold cathode emitter element applied to the present invention

【図2】  冷陰極エミッタ素子を用いた場合の光ディ
スク原盤のマスタリングの原理図
[Figure 2] Principle diagram of optical disc mastering using cold cathode emitter elements

【図3】  第1の実施例による光ディスク原盤のマス
タリングの原理図
[Figure 3] Principle diagram of optical disc mastering according to the first embodiment

【図4】  第2の実施例による記録ヘッドの構成を説
明するための図
FIG. 4 Diagram for explaining the configuration of the recording head according to the second embodiment

【図5】  第2の実施例の変形例を説明するための図
[Figure 5] Diagram for explaining a modification of the second embodiment

【図6】  第2の実施例の変形例を説明するための図
[Fig. 6] Diagram for explaining a modification of the second embodiment

【図7】  第2の実施例による線状記録ヘッドアレイ
の構成を説明するための図
[Fig. 7] A diagram for explaining the configuration of a linear recording head array according to a second embodiment.

【図8】  図7の線状記録ヘッドアレイによる光ディ
スク原盤のマスタリングの原理図
[Figure 8] Principle diagram of mastering of an optical disc master using the linear recording head array in Figure 7

【図9】  第3の実施例による光ディスク原盤のマス
タリングの原理図
[Figure 9] Principle diagram of optical disc mastering according to the third embodiment

【図10】  第3の実施例の電子線源パネルにおける
素子配線を説明するための図
[Figure 10] Diagram for explaining element wiring in the electron beam source panel of the third embodiment

【主要部分の符号の説明】[Explanation of symbols of main parts]

1……冷陰極エミッタ素子 2……Si(100)基板 3……エミッタ 4……絶縁層 5……ゲ―ト 6……アノ―ド 10……光ディスク原盤 11……電子ビ―ム 12……定電圧源 13……入力端子 14……定電圧源 15……電極部 20……アノ―ド 21……磁界コイル 22……プリントコイル 23……電子ビ―ム 1´……冷陰極エミッタ素子 30……記録ヘッド 31……読取光スポット 32……トラックライン 1a,1b,1c,1d……冷陰極エミッタ素子13a
,13b,13c,13d……ゲ―ト電圧入力端子 301……線状記録ヘッドアレイ E0〜E8……冷陰極エミッタ素子 I0〜I6  ……信号入力端子 302……モ―タ 303……タ―ンテ―ブル 304……入力端子 305……走査制御回路 40……電子線源パネル 41……入力端子 42……走査制御回路 Erθ,E00〜E21  ……冷陰極エミッタ素子g
0〜g2……ゲ―ト電圧入力端子
1... Cold cathode emitter element 2... Si (100) substrate 3... Emitter 4... Insulating layer 5... Gate 6... Anode 10... Optical disk master 11... Electron beam 12... ... Constant voltage source 13 ... Input terminal 14 ... Constant voltage source 15 ... Electrode section 20 ... Anode 21 ... Magnetic field coil 22 ... Print coil 23 ... Electron beam 1' ... Cold cathode emitter Element 30... Recording head 31... Reading light spot 32... Track lines 1a, 1b, 1c, 1d... Cold cathode emitter element 13a
, 13b, 13c, 13d...Gate voltage input terminal 301...Linear recording head array E0-E8...Cold cathode emitter elements I0-I6...Signal input terminal 302...Motor 303...Tar Table 304...Input terminal 305...Scan control circuit 40...Electron beam source panel 41...Input terminal 42...Scan control circuit Erθ, E00 to E21...Cold cathode emitter element g
0~g2...Gate voltage input terminal

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  真空空間を形成する筐体と、前記筐体
内において電子線レジスト処理された記録面を有する光
ディスク原盤を保持する保持手段と、駆動されたとき前
記光ディスク原盤に向けて電子ビ―ムを照射する少なく
とも1の冷陰極エミッタ素子と、前記冷陰極エミッタ素
子と前記光ディスク原盤との間に配置され前記冷陰極エ
ミッタ素子から出射される電子ビ―ムを集束する磁界レ
ンズと、前記冷陰極エミッタ素子を駆動する駆動手段と
を有することを特徴とする光ディスク製造装置。
1. A housing for forming a vacuum space; a holding means for holding an optical disc master having a recording surface subjected to an electron beam resist treatment within the housing; at least one cold cathode emitter element that irradiates the electron beam; a magnetic field lens that is disposed between the cold cathode emitter element and the optical disk master and focuses the electron beam emitted from the cold cathode emitter element; What is claimed is: 1. An optical disc manufacturing apparatus comprising: a driving means for driving a cathode emitter element.
【請求項2】  真空空間を形成する筐体と、前記筐体
内において電子線レジスト処理された記録面を有する光
ディスク原盤を保持する保持手段と、駆動されたとき前
記光ディスク原盤に向けて電子ビ―ムを照射する少なく
とも1の冷陰極エミッタ素子と、前記光ディスク原盤に
電圧を印加する電圧印加手段と、前記冷陰極エミッタ素
子を駆動する駆動手段とを有することを特徴とする光デ
ィスク製造装置。
2. A housing for forming a vacuum space, a holding means for holding an optical disc master having a recording surface subjected to an electron beam resist treatment within the housing, and an electronic beam that, when driven, directs an electron beam toward the optical disc master. 1. An optical disk manufacturing apparatus comprising: at least one cold cathode emitter element that irradiates the optical disk; voltage application means that applies a voltage to the optical disk master; and drive means that drives the cold cathode emitter element.
【請求項3】  前記冷陰極エミッタ素子は、エミッタ
とアノ―ドとの間に所定電圧が印加され前記エミッタと
前記アノ―ドとの間にゲ―トを有し、前記駆動手段は、
前記ゲ―トに供給される信号によって前記エミッタから
放射される電子を制御することを特徴とする請求項1ま
たは2記載の光ディスク製造装置。
3. The cold cathode emitter element has a gate between the emitter and the anode, a predetermined voltage being applied between the emitter and the anode, and the driving means comprising:
3. The optical disc manufacturing apparatus according to claim 1, wherein electrons emitted from said emitter are controlled by a signal supplied to said gate.
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