JPH04313048A - Sprayed-flux monitoring apparatus - Google Patents
Sprayed-flux monitoring apparatusInfo
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 118
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 42
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 19
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 9
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 6
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、ハンダ付けされるべき
プリント回路基板にフラックスをスプレー状にして塗布
するためのフラックススプレー機構によって形成される
霧状フラックスの濃度状態を監視するためのスプレーフ
ラックス監視装置に関する。[Industrial Application Field] The present invention provides a spray flux for monitoring the concentration state of atomized flux formed by a flux spray mechanism for spraying flux onto a printed circuit board to be soldered. Regarding monitoring equipment.
【0002】0002
【従来の技術】一般にプリント回路基板のハンダ付け工
程においては、その前段として当該プリント回路基板に
フラックスを塗布することが必要であり、そのため、従
来においては、液状フラックスに空気を吹き込んで発泡
させてこれをプリント回路基板に接触させる方法、ある
いはフラックスをスプレーしてこれをプリント回路基板
に塗布する方法が利用されている。そして、実際に付着
するフラックスの量を制御するために、フラックスの比
重を監視することによって液状フラックスの濃度を調整
することが行われている。[Prior Art] Generally, in the process of soldering a printed circuit board, it is necessary to apply flux to the printed circuit board as a preliminary step. Therefore, in the past, air was blown into the liquid flux to make it foam. A method is used in which the flux is brought into contact with the printed circuit board, or a method in which flux is sprayed and applied to the printed circuit board. In order to control the amount of flux that actually adheres, the concentration of the liquid flux is adjusted by monitoring the specific gravity of the flux.
【0003】一方、液状フラックスは、通常、有効成分
としてロジン成分を10重量%程度含有するものである
が、ハンダ付け工程の完了後のプリント回路基板におい
ては、残留するロジン成分を除去することが必要であり
、そのための洗浄において、通常、フロンが洗浄液とし
て使用される。しかしながら、フロンの使用は、地球の
環境保全の点から抑止されなければならない。このよう
な事情から、液状フラックスにおけるロジン成分の濃度
を例えば2〜4重量%程度にまで低くし、ハンダ付け工
程の完了後のプリント回路基板に残留するロジン成分の
量を減少させることによって、洗浄工程を事実上不要と
することができる可能性がある。On the other hand, liquid flux usually contains about 10% by weight of rosin component as an active ingredient, but it is difficult to remove the remaining rosin component from the printed circuit board after the soldering process is completed. Freon is usually used as a cleaning liquid in cleaning for this purpose. However, the use of fluorocarbons must be discouraged from the standpoint of preserving the global environment. Under these circumstances, it is possible to reduce the concentration of the rosin component in the liquid flux to, for example, 2 to 4% by weight, thereby reducing the amount of rosin component remaining on the printed circuit board after the soldering process is completed. There is a possibility that the process can be made virtually unnecessary.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな低濃度の液状フラックスにおいては、濃度の変化に
対応する比重の変化が微小であるために、その比重を監
視することによって濃度を調整することは非常に困難で
あり、このためプリント回路基板に対する塗布量を十分
に制御することができない、という問題点がある。また
、スプレーによってフラックスを塗布する場合において
も、液状フラックスの温度、プリント回路基板の搬送速
度、スプレーの条件を変更することによって塗布量を変
化させることは可能であっても、形成される霧状フラッ
クスの濃度状態を十分に監視することができないため、
厳密に塗布の状態を高い忠実度で監視し、制御すること
ができない、という問題点がある。[Problem to be Solved by the Invention] However, in such a low-concentration liquid flux, the change in specific gravity corresponding to a change in concentration is minute, so it is difficult to adjust the concentration by monitoring the specific gravity. Therefore, there is a problem in that it is not possible to sufficiently control the amount of coating applied to the printed circuit board. Also, when applying flux by spraying, although it is possible to change the amount applied by changing the temperature of the liquid flux, the conveyance speed of the printed circuit board, and the spray conditions, the mist that is formed Because it is not possible to adequately monitor the flux concentration state,
There is a problem in that it is not possible to strictly monitor and control the coating state with high fidelity.
【0005】本発明は、以上のような問題点を解決し、
フラックスをスプレーによってプリント回路基板に塗布
する場合において、用いる液状フラックスの濃度の如何
によらずに常に高い精度で霧状フラックスの濃度状態を
監視することができ、従ってプリント回路基板に対する
フラックスの塗布量を厳密に監視することのできるスプ
レーフラックス監視装置を提供することを目的とする。[0005] The present invention solves the above problems,
When applying flux to a printed circuit board by spraying, the concentration state of the atomized flux can always be monitored with high accuracy regardless of the concentration of the liquid flux used, and therefore the amount of flux applied to the printed circuit board can be monitored with high accuracy. The purpose of the present invention is to provide a spray flux monitoring device that can strictly monitor spray flux.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明のスプレーフラッ
クス監視装置においては、ハンダ付けされるべきプリン
ト回路基板にスプレー空間を介して対向するよう設けら
れたフラックススプレー機構により、前記スプレー空間
に形成される霧状フラックスに光を投射する発光機構と
、この発光機構より投射されて前記霧状フラックスを透
過した光または霧状フラックスにより反射された光の強
度を検出する受光機構とを有してなることを特徴とする
。[Means for Solving the Problems] In the spray flux monitoring device of the present invention, a flux is formed in the spray space by a flux spray mechanism provided so as to face the printed circuit board to be soldered through the spray space. a light-emitting mechanism that projects light onto the mist-like flux; and a light-receiving mechanism that detects the intensity of the light projected by the light-emitting mechanism and transmitted through the mist-like flux or the light reflected by the mist-like flux. It is characterized by
【0007】[0007]
【作用】本発明のスプレーフラックス監視装置によれば
、液状フラックスがスプレー空間においてスプレーされ
て霧状フラックスが形成され、これがプリント回路基板
に接触してフラックスの塗布が達成されるが、このフラ
ックスの塗布状態は霧状フラックスの濃度状態に対応す
るところ、この霧状フラックスを透過する光または霧状
フラックスにより反射される光を検出するので、当該霧
状フラックスの濃度状態が高い精度で検出される。従っ
て、その検出結果に応じて霧状フラックスの濃度状態に
影響を与える要素または他の塗布条件を調整することに
より、プリント回路基板に対するフラックスの塗布量を
高い精度で所望の状態に制御することができ、これによ
り、例えばハンダ付け工程のために必要にして最少限度
またはそれに近い量でフラックス塗布を達成することが
できる。[Operation] According to the spray flux monitoring device of the present invention, liquid flux is sprayed in the spray space to form a mist flux, which contacts the printed circuit board to achieve flux application. The application state corresponds to the concentration state of the atomized flux, and since the light that passes through the atomized flux or the light that is reflected by the atomized flux is detected, the concentration state of the atomized flux can be detected with high accuracy. . Therefore, by adjusting the factors that affect the concentration state of the atomized flux or other application conditions according to the detection results, it is possible to control the amount of flux applied to the printed circuit board to a desired state with high precision. This allows flux application to be achieved at or near the minimum amount required for, for example, a soldering process.
【0008】[0008]
【実施例】図1は、本発明のスプレーフラックス監視装
置の基本的構成の一例を示す説明図である。この図1に
おいて、10はフラックスが塗布されるべきプリント回
路基板であって、例えばベルトコンベアなどの搬送機構
によって搬送路Pに沿って搬送される。12はフラック
ススプレー機構であって、これはプリント回路基板10
の下方において、外周がガイド板18によって区画され
たスプレー空間Sを介して設けられている。この例にお
けるフラックススプレー機構12はエアスプレー方式の
ものであって、上向きのノズルを有するスプレーガン1
3には、フラックス供給管14と空気供給管15とが接
続されており、上方のフラックススプレー機構12に向
かってフラックスがスプレーされてスプレー空間Sに霧
状フラックスFが形成される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of the basic configuration of a spray flux monitoring device according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a printed circuit board to which flux is to be applied, and is conveyed along a conveyance path P by a conveyance mechanism such as a belt conveyor. 12 is a flux spray mechanism, which is used to spray the printed circuit board 10;
A spray space S whose outer periphery is defined by a guide plate 18 is provided below the spray space S. The flux spray mechanism 12 in this example is of an air spray type, and the spray gun 1 has an upward nozzle.
3 is connected to a flux supply pipe 14 and an air supply pipe 15, and the flux is sprayed toward the flux spray mechanism 12 above to form a mist flux F in the spray space S.
【0009】而して、プリント回路基板10に作用され
る霧状フラックスFに向かって光L1を投射する投光器
20が設けられると共に、この投光器20より投射され
て霧状フラックスFを透過した透過光L2を受けてその
強度を検出する受光器22とが設けられる。ここに、前
記投光器20としては、例えば発光ダイオード、発光ラ
ンプ、レーザ発振器、その他のものを用いることができ
る。また受光器22としては、光電素子、電荷結合素子
、その他の受光機構を利用することができるが、特に受
光した光の強度に対応した電気信号を発するものが好ま
しい。[0009] A projector 20 is provided that projects light L1 toward the mist flux F acting on the printed circuit board 10, and transmitted light projected from the projector 20 and transmitted through the mist flux F is provided. A light receiver 22 is provided for receiving L2 and detecting its intensity. Here, as the light projector 20, for example, a light emitting diode, a light emitting lamp, a laser oscillator, or others can be used. Further, as the light receiver 22, a photoelectric element, a charge-coupled device, or other light receiving mechanism can be used, but one that emits an electric signal corresponding to the intensity of the received light is particularly preferable.
【0010】投光器20より霧状フラックスFに至る光
L1の光路上には、ハーフミラー25を介して光強度を
監視するモニター受光器26が設けられており、これに
よって常に霧状フラックスFに投射される光の強度がモ
ニターされる。また、投光器20の投光窓および受光器
22の受光窓に霧状フラックスFから飛散するフラック
スが付着するのを防止するために、適宜のフラックス付
着防止機構、例えばエア噴射器28が設けられている。
このフラックス付着防止機構は、図1では受光器22に
ついてのみ示されている。A monitor receiver 26 for monitoring the light intensity via a half mirror 25 is provided on the optical path of the light L1 from the projector 20 to the atomized flux F. The intensity of the light emitted is monitored. Further, in order to prevent the flux scattered from the atomized flux F from adhering to the light emitting window of the emitter 20 and the light receiving window of the light receiver 22, an appropriate flux adhesion prevention mechanism, such as an air injector 28, is provided. There is. This flux adhesion prevention mechanism is shown only for the light receiver 22 in FIG.
【0011】以上のような構成によれば、フラックスス
プレー機構12によりスプレー空間Sに霧状フラックス
Fが形成され、これがプリント回路基板10に接触する
ことによってプリント回路基板10の下面にフラックス
が塗布される。そして、投光器20からの光L1が霧状
フラックスFを透過して後の透過光L2が受光器22に
受光されてその光強度が検出され、これに応じた電気信
号が出力される。According to the above configuration, the flux spray mechanism 12 forms the atomized flux F in the spray space S, and when this comes into contact with the printed circuit board 10, the flux is applied to the lower surface of the printed circuit board 10. Ru. Then, the light L1 from the light projector 20 passes through the atomized flux F, and the transmitted light L2 is received by the light receiver 22, the light intensity is detected, and an electric signal corresponding to this is output.
【0012】然るに、霧状フラックスFに強度I0 の
光L1が入射され、受光器22によって強度It の透
過光L2が検出されたとき、この光の強度の減衰の程度
は当該霧状フラックスFの濃度状態に対応したものとな
る。しかも、霧状フラックスFの濃度状態は、特に当該
霧状フラックスFにおける液状フラックスの微小液滴(
スプレー粒子)の大きさや密度などに対応したものであ
るから、受光器22による透過光L2の強度を検出する
ことにより、当該霧状フラックスFの濃度状態を監視す
ることができる。However, when the light L1 with the intensity I0 is incident on the foggy flux F and the transmitted light L2 with the intensity It is detected by the light receiver 22, the degree of attenuation of the intensity of this light is determined by the degree of attenuation of the intensity of the foggy flux F. It corresponds to the concentration state. Moreover, the concentration state of the atomized flux F is particularly limited to minute droplets of the liquid flux in the atomized flux F (
Since it corresponds to the size and density of spray particles), the concentration state of the atomized flux F can be monitored by detecting the intensity of the transmitted light L2 by the light receiver 22.
【0013】そして、このように受光器22の検出結果
が霧状フラックスFの濃度状態に対応したものであるこ
とから、受光器22の検出結果を利用して、当該霧状フ
ラックスFの濃度状態に影響を与える要素、その他の塗
布条件を調整することにより、プリント回路基板に対す
るフラックスの塗布量を高い精度で所望の状態に制御す
ることができる。例えばフラックス供給管14による液
状フラックスの供給割合、空気供給管15による空気供
給割合、供給される液状フラックスの温度、濃度、その
他を調整することにより、フラックススプレー機構12
の作動状態を制御することが可能である。また、スプレ
ーガン13の位置あるいはプリント回路基板10の搬送
速度を制御することにより、塗布の条件を調整すること
ができる。As described above, since the detection result of the light receiver 22 corresponds to the concentration state of the mist flux F, the detection result of the light receiver 22 is used to determine the concentration state of the mist flux F. By adjusting factors that affect flux and other application conditions, the amount of flux applied to the printed circuit board can be controlled with high precision to a desired state. For example, by adjusting the supply ratio of liquid flux through the flux supply pipe 14, the air supply ratio through the air supply pipe 15, the temperature, concentration, etc. of the supplied liquid flux, the flux spray mechanism 12
It is possible to control the operating state of the Further, by controlling the position of the spray gun 13 or the conveyance speed of the printed circuit board 10, the conditions for coating can be adjusted.
【0014】以上のように、本発明によれば、プリント
回路基板に対する直接のフラックス源である霧状フラッ
クスについて、その濃度状態を透過光または反射光によ
って検出しており、しかも用いる液状フラックスの濃度
には直接無関係に当該検出を実行することができるため
、プリント回路基板に対するフラックスの塗布状態を厳
密に制御することが可能であり、濃度の低い液状フラッ
クスを用いる場合においても、ハンダ付け工程のために
必要にして最少限度またはそれに近い量でフラックス塗
布を達成することができる。従って、ハンダ付け工程が
完了した後に残留するロジン成分を非常に僅かな量とす
ることができ、実際上、その洗浄を不要とすることが可
能となる。As described above, according to the present invention, the concentration state of the mist flux, which is a direct flux source for the printed circuit board, is detected by transmitted light or reflected light, and the concentration state of the liquid flux used is detected. Since this detection can be carried out independently of the soldering process, it is possible to precisely control the state of flux application to the printed circuit board, and even when using a liquid flux with a low concentration, it is possible to Flux application can be achieved at or near the minimum amount required. Therefore, the amount of rosin component remaining after the soldering process is completed can be reduced to a very small amount, making cleaning of the component virtually unnecessary.
【0015】本発明に係るスプレーフラックス監視装置
が適用されるフラックススプレー機構は、特定のものに
限定されるものではなく、液状フラックスによって霧状
フラックスを形成することができ、プリント回路基板に
フラックスの塗布を行うことのできるものであればよい
。従って、液状フラックスに空気を作用させるエアスプ
レー方式以外の方式、例えばフラックスそれ自体の圧力
を大きくして微小孔から噴出させるスプレー方式、超音
波振動子による液状フラックスのキャビテーション効果
による霧化方式など、いずれのスプレー方式のフラック
ススプレー機構にも適用することができる。The flux spray mechanism to which the spray flux monitoring device according to the present invention is applied is not limited to a specific one, and can form a mist of flux using liquid flux, and can spray flux onto a printed circuit board. Any material that can be applied may be used. Therefore, methods other than the air spray method in which air is applied to the liquid flux, such as a spray method in which the pressure of the flux itself is increased and it is ejected from micropores, and an atomization method using the cavitation effect of the liquid flux using an ultrasonic vibrator, etc. It can be applied to any type of flux spray mechanism.
【0016】本発明においては、図2に示すように、受
光器22の代わりに、投光器20よりの光L1が霧状フ
ラックスFによって反射された反射光L3の強度を検出
する受光器30を設ける構成とすることもでき、この場
合にも、上記と同様の作用効果が得られる。しかしなが
ら、特に霧状フラックスFの状態に対応する忠実度の点
において検出結果の信頼性が大きいことから、霧状フラ
ックスFを透過した光を検出することが好ましい。In the present invention, as shown in FIG. 2, a light receiver 30 is provided in place of the light receiver 22 for detecting the intensity of the reflected light L3 obtained by reflecting the light L1 from the projector 20 by the atomized flux F. It is also possible to have a configuration, and in this case as well, the same effects as described above can be obtained. However, it is preferable to detect the light that has passed through the atomized flux F because the reliability of the detection result is high, especially in terms of the fidelity corresponding to the state of the atomized flux F.
【0017】[0017]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、簡単な
構成により、フラックスをスプレーによってプリント回
路基板に塗布する場合において、用いる液状フラックス
の濃度の如何によらずに常に高い精度で霧状フラックス
の状態を監視することができ、従ってプリント回路基板
に対するフラックスの塗布量を厳密に監視することので
きるスプレーフラックス監視装置を提供することができ
る。As described above, according to the present invention, with a simple configuration, when applying flux to a printed circuit board by spraying, it is possible to spray the flux with high precision regardless of the concentration of the liquid flux used. Accordingly, it is possible to provide a spray flux monitoring device that can monitor the state of the flux, and therefore can strictly monitor the amount of flux applied to a printed circuit board.
【図1】本発明のスプレーフラックス監視装置の一実施
例の構成の概略を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of an embodiment of a spray flux monitoring device of the present invention.
【図2】本発明のスプレーフラックス監視装置の他の例
の構成の概略を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of another example of the spray flux monitoring device of the present invention.
10 プリント回路基板 P 搬送路 12 フラックススプレー機構 18 ガイド板 S スプレー空間 13 スプレーガン 14 フラックス供給管 15 空気供給管 F 霧状フラックス 20 投光器 22 受光器 25 ハーフミラー 26 モニター受光器 28 エア噴射器 L1 投射光 L2 透過光 L3 反射光 10 Printed circuit board P Conveyance path 12 Flux spray mechanism 18 Guide plate S Spray space 13 Spray gun 14 Flux supply pipe 15 Air supply pipe F Atomized flux 20 Floodlight 22 Photo receiver 25 Half mirror 26 Monitor receiver 28 Air injector L1 Projection light L2 Transmitted light L3 Reflected light
Claims (1)
板にスプレー空間を介して対向するよう設けられたフラ
ックススプレー機構により、前記スプレー空間に形成さ
れる霧状フラックスに光を投射する発光機構と、この発
光機構より投射されて前記霧状フラックスを透過した光
または霧状フラックスにより反射された光の強度を検出
する受光機構とを有してなることを特徴とするスプレー
フラックス監視装置。1. A light-emitting mechanism for projecting light onto atomized flux formed in the spray space by a flux spray mechanism provided so as to face a printed circuit board to be soldered via a spray space; A spray flux monitoring device comprising: a light receiving mechanism that detects the intensity of light projected from a light emitting mechanism and transmitted through the atomized flux or light reflected by the atomized flux.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9607991A JPH04313048A (en) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | Sprayed-flux monitoring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9607991A JPH04313048A (en) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | Sprayed-flux monitoring apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04313048A true JPH04313048A (en) | 1992-11-05 |
Family
ID=14155392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9607991A Pending JPH04313048A (en) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | Sprayed-flux monitoring apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04313048A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019209335A (en) * | 2018-05-31 | 2019-12-12 | 株式会社デンソーテン | Coating device and coating method |
-
1991
- 1991-04-03 JP JP9607991A patent/JPH04313048A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019209335A (en) * | 2018-05-31 | 2019-12-12 | 株式会社デンソーテン | Coating device and coating method |
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Date | Code | Title | Description |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000627 |